JP6465823B2 - 磁気テープおよびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、磁気テープおよびその製造方法に関する。

磁気記録媒体にはテープ状のものとディスク状のものがあり、データバックアップ等のストレージ用途には、テープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープが主に用いられている。

磁気テープとして、特許文献１には、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層（特許文献１には、「バック層」と記載されている。）を有する磁気テープが開示されている。

特開２００４−５８２０号公報

磁気テープに求められる特性としては、電磁変換特性が高いこと、ドロップアウトの発生が少ないことが挙げられる。

電磁変換特性を高めるためには、磁気テープ表面（磁性層側の表面）の平滑性を高めることが有効である。

一方、ドロップアウトとは、信号の読み取り不良であり、ドロップアウトの発生はエラーレートを増加させてしまうため低減することが望まれる。このドロップアウトは、特許文献１の段落０００２等に記載されている、いわゆる「写り」（「裏写り」とも呼ばれる。）が発生原因となる。この点に関し、特許文献１では、バックコート層側の表面（特許文献１には、「バック層表面」と記載されている。）の突起の存在状態を制御することが検討されている。裏写りは、粗いバックコート層に存在する突起が、磁性層側の表面に食い込み磁性層側の表面に凹みが形成される現象であるため、磁気テープのバックコート層の側表面の平滑性を高めることにより、その発生を抑制することができるからである。

しかし、バックコート層側の表面の平滑性を高めると、磁気テープをドライブにおいて走行させた後に、磁気テープのエッジ部分にダメージ（以下、「エッジダメージ」と記載する。）が発生しやすくなる傾向がある。この点について更に説明すると、磁気テープへの信号の記録および再生は、磁気テープを収容した磁気テープカートリッジをドライブにセットし、磁気テープカートリッジ内の磁気テープを走行させて行われる。磁気テープは磁気テープカートリッジ内にリールに巻き取られた状態で収容されているため、走行中には、リールからの磁気テープの送り出しおよび巻き取りが行われる。この巻き取り時に巻きずれが生じると、リールのフランジ等に磁気テープのエッジが当たり、エッジダメージが発生してしまう。このエッジダメージは、記録時のエラー増加および走行安定性の低下を引き起こし得る。したがって、電磁変換特性の向上、ドロップアウトの低減に加えて、巻きずれを抑制してエッジダメージの発生を抑制できることが望ましい。

そこで本発明の目的は、優れた電磁変換特性を示すことができ、かつドロップアウトおよびエッジダメージの発生の抑制が可能な磁気テープを提供することにある。

本発明者らは上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、以下の磁気テープ：
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．８ｎｍ以下であり、
磁気テープの磁性層側の表面の素地部分において測定される摩擦係数は、０．３５以下であり、
磁気テープのバックコート層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、５．０ｎｍ以下であり、
磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}と、磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ｂｅｆｏｒｅ}との差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ、
を見出すに至った。上記磁気テープは、優れた電磁変換特性を示すことができ、低ドロップアウトで信号の読み取りが可能であり、かつエッジダメージが少なく走行させることができる。この点に関する本発明者らによる推察は、後述する。

本発明および本明細書において、磁気テープの磁性層側の表面またはバックコート層側の表面で測定される中心線平均表面粗さＲａとは、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）により面積４０μｍ×４０μｍの領域で測定される値とする。測定条件の一例としては、下記の測定条件を挙げることができる。後述の実施例に示す中心線平均表面粗さＲａは、下記測定条件下での測定によって求めた値である。
ＡＦＭ（Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）で磁気テープの磁性層側の表面の面積４０μｍ×４０μｍの領域を測定する。スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／ｓｅｃ、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとする。

本発明および本明細書における素地部分とは、磁気テープの磁性層側の表面において、以下の方法により特定される部分をいうものとする。
原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＡＦＭ）によって測定された、視野中の凸成分と凹成分の体積が等しくなる面を基準面として定め、その基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起を、突起と定義する。そして、かかる突起の数がゼロ個である部分、即ち磁気テープの磁性層側の表面において基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起が検出されない部分を、素地部分と特定する。
また、素地部分において測定される摩擦係数とは、以下の方法により測定される値とする。
素地部分において（測定箇所：磁気テープ長手方向１０μｍ長）、半径１μｍのダイヤモンド製球状圧子を荷重１００μＮおよび速度１μｍ／ｓｅｃ．で１回往復させて摩擦力（水平力）および垂直抗力を測定する。ここで測定される摩擦力および垂直抗力は、上記１回の往復中に摩擦力および垂直抗力を常時測定して得られる算術平均である。以上の測定は、例えばＨｙｓｉｔｒｏｎ社ＴＩ−９５０型トライボインデンターにて行うことができる。そして、測定された摩擦力の算術平均および垂直抗力の算術平均から、摩擦係数μ値を算出する。なお摩擦係数は、摩擦力（水平力）Ｆ（単位：ニュートン（Ｎ））と垂直抗力Ｎ（単位：ニュートン（Ｎ））から、次式：Ｆ＝μＮ、により求められる値である。上記の測定および摩擦係数μ値の算出を、磁気テープの磁性層側の表面で無作為に決定した素地部分の３箇所において行い得られた３つの測定値の算術平均を、素地部分において測定される摩擦係数とする。以下において、素地部分において測定される摩擦係数を、「素地摩擦」ともいう。

本発明および本明細書において、磁気テープの「真空加熱」とは、磁気テープを２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の圧力かつ７０〜９０℃の雰囲気温度の環境下に２４時間保持することにより行われる。

本発明および本明細書において、磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングとは、以下の方法により測定される値とする。
磁気テープと透明な板状部材（例えばガラス板等）を、磁気テープのバックコート層側の表面が透明な板状部材と対向するように重ね合わせた状態で、磁気テープのバックコート層側とは反対側から５．０５×１０^４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押圧部材を押しつける。この状態で、透明な板状部材を介して磁気テープのバックコート層側の表面に光を照射し（照射領域：１５００００〜２０００００μｍ^２）、磁気テープのバックコート層側の表面からの反射光と透明な板状部材の磁気テープ側表面からの反射光との光路差によって発生する干渉光の強度（例えば干渉縞画像のコントラスト）に基づき、磁気テープのバックコート層側の表面と透明な板状部材表面との間のスペーシング（距離）を求める。ここで照射される光は特に限定されるものではない。照射される光が、複数波長の光を含む白色光のように、比較的広範な波長範囲にわたり発光波長を有する光の場合には、透明な板状部材と反射光を受光する受光部との間に、干渉フィルタ等の特定波長または特定波長域以外の光を選択的にカットする機能を有する部材を配置し、反射光の中の一部の波長または一部の波長域の光を選択的に受光部に入射させる。照射させる光が単一の発光ピークを有する光（いわゆる単色光）の場合には、上記の部材は用いなくてもよい。受光部に入射させる光の波長は、一例として、例えば５００〜７００ｎｍの範囲にあることができるが、特に限定されるものではない。また、透明な板状部材は、この部材を介して磁気テープに光を照射し干渉光が得られる程度に、照射される光を透過する透明性を有する部材であればよい。
以上の測定は、例えばＭｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ等の市販のテープスペーシングアナライザー（ＴＳＡ；Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて行うことができる。実施例におけるスペーシング測定は、Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて実施した。
また、本発明および本明細書におけるスペーシング分布の半値全幅とは、上記スペーシングの測定により得られる干渉縞画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのスペーシング（磁気テープのバックコート層側の表面と透明な板状部材の磁気テープ側表面との間の距離）を求め、これをヒストグラムとし、このヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅（Ｆｕｌｌ Ｗｉｄｔｈ ａｔ Ｈａｌｆ Ｍａｘｉｍｕｍ；ＦＷＨＭ）である。
また、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、上記３０００００ポイントにおける真空加熱後の最頻値から真空加熱前の最頻値を差し引いた値をいうものとする。

一態様では、上記磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．２ｎｍ以上１．８ｎｍ以下である。

一態様では、上記バックコート層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．５ｎｍ以上５．０ｎｍ以下である。

一態様では、磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、１．０〜８．０ｎｍの範囲である。

一態様では、磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、１．０〜８．０ｎｍの範囲である。

一態様では、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、１．０〜７．０ｎｍの範囲である。

一態様では、上記素地摩擦は、０．１５〜０．３０の範囲である。

一態様では、上記バックコート層に含まれる非磁性粉末は、無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である。

一態様では、上記バックコート層に含まれる非磁性粉末全量１００．０質量部に対して無機粉末の占める割合は、５０．０質量部超〜１００．０質量部の範囲である。

本発明の更なる態様は、上記の磁気テープの製造方法であって、
上記バックコート層を、
非磁性支持体の一方の表面側に、非磁性粉末、結合剤および脂肪酸エステルを含むバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させることにより塗布層を形成すること、および、
形成した塗布層に振動を加えること、
により形成することを含む磁気テープの製造方法、
に関する。

一態様では、上記振動は、超音波振動である。

本発明の一態様によれば、優れた電磁変換特性を示すことができ、かつドロップアウトおよびエッジダメージの発生が抑制された磁気テープを提供することができる。

実施例で用いた振動付与装置の概略構成図である。

本発明の一態様にかかる磁気テープは、
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（以下、「磁性層側Ｒａ」とも記載する。）は、１．８ｎｍ以下であり、
磁気テープの磁性層側の表面の素地部分において測定される摩擦係数（素地摩擦）は、０．３５以下であり、
磁気テープのバックコート層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（以下、「バックコート層側Ｒａ」とも記載する。）は、５．０ｎｍ以下であり、
磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（以下、「ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}」とも記載する。）は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（以下、「ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}」とも記載する。）は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}と、磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ｂｅｆｏｒｅ}との差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ、
である。以下において、磁気テープの磁性層側の表面を、磁性層側表面とも記載する。また、磁気テープのバックコート層側の表面を、バックコート層側表面とも記載する。

上記磁気テープについて、本発明者らは下記（１）〜（３）のように推察している。

（１）上記磁気テープは、磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａが、１．８ｎｍ以下である。このように磁性層側表面の平滑性が高いことにより、上記磁気テープは、優れた電磁変換特性を示すことができる。

（２）更に、上記磁気テープは、バックコート層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａが、５．０ｎｍ以下である。このようにバックコート層側表面の平滑性が高いことにより、ドロップアウトの発生を抑制することができる。これは、バックコート層側表面の平滑性が高いことにより、裏写りの発生を抑制できるからと推察される。

（３）ただし、バックコート層側表面の平滑性を高めると、磁気テープの巻き取り時に巻きずれが生じてエッジダメージが発生しやすくなる。詳細は先に記載した通りである。これに対し、上記磁気テープは、バックコート層側表面の平滑性が高い（具体的にはバックコート層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａが５．０ｎｍ以下）にもかかわらず、エッジダメージの発生を抑制することができる。この点については、本発明者らは、上記の素地摩擦、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}、および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）が、それぞれ上記範囲であることがエッジダメージの発生抑制に寄与すると考えている。詳しくは、次の通りである。

上記磁気テープのバックコート層は、脂肪酸エステルを含む。脂肪酸エステルは、磁気テープにおいて潤滑剤として機能し得る成分である。潤滑剤は、一般に流体潤滑剤と境界潤滑剤とに大別される。流体潤滑剤は、磁気テープ表面に液膜を形成することにより、潤滑剤として機能し得る成分と言われており、脂肪酸エステルは、一般に流体潤滑剤に分類される。したがって、上記磁気テープでは、バックコート層側表面に脂肪酸エステルの液膜が存在すると推察される。
一方、本発明者らは、巻きずれに関しては、磁気テープがリールに巻き取られてバックコート層側表面と磁性層側表面とが接触する際に、両表面の間に両表面を引き寄せる力が働くことが巻きずれの抑制に寄与すると考えている。そして、上記磁気テープでは、バックコート層側表面の脂肪酸エステルの液膜のメニスカス（液架橋）によりもたらされる力（メニスカス力）が両表面を引き寄せる力として働くと推察される。このメニスカス力の制御に関して、上記の素地摩擦、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}、および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、それぞれ以下のように関与すると、本発明者らは考えている。

素地摩擦については、先に素地摩擦の測定方法に関して、基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起を突起と定義した理由は、通常、磁性層側表面に存在する突起と認識される突起が、主に基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起だからである。かかる突起は、例えば研磨剤等の非磁性粉末により磁性層側表面に形成されている。これに対し、本発明者らは、磁性層側表面には、かかる突起により形成された凹凸よりも微視的な凹凸が存在すると考えている。この微視的な凹凸の形状制御によって素地摩擦を調整することができると、本発明者らは推察している。例えば、この微視的な凹凸の凸部の存在率を高めることにより、素地摩擦の値は小さくなると考えられるが、凸部の存在率を高めると、素地部分の比表面積は大きくなる。素地摩擦が０．３５以下である磁性層側表面では、素地摩擦がこの範囲を超える表面と比べて素地部分の比表面積が大きいことが、バックコート層側表面と磁性層側表面とが接触した際にバックコート層側表面に存在する脂肪酸エステルを磁性層側表面に物理的に吸着しやすくさせると考えられる。このことがメニスカス力を高めることに寄与すると、本発明者らは推察している。

一方、脂肪酸エステルは、真空加熱により揮発する性質を有する成分である。本発明者らはこの点に着目し、磁気テープのバックコート層側表面において、真空加熱後（脂肪酸エステルにより形成された液膜が揮発し除去された状態）と真空加熱前（脂肪酸エステルにより形成された液膜が存在している状態）のスペーシングの差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、バックコート層側表面の脂肪酸エステルの液膜の厚みの指標になる値と考えている。この値が０ｎｍ超であること、即ちバックコート層側表面に脂肪酸エステルの液膜が存在することが、メニスカス力を働かせることに寄与すると推察される。ただし、脂肪酸エステルがバックコート層側表面に過剰に存在すると、メニスカス力が強く働き、バックコート層側表面と磁性層側表面との貼り付きの原因になると考えられる。これに対し、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）を、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下となるようにバックコート層側表面に脂肪酸エステルの液膜を存在させることが、貼り付きの発生を抑制しつつバックコート層側表面と磁性層側表面とを引き寄せる力を両表面の間で働かせることに寄与すると、本発明者らは推察している。

更に、上記磁気テープを真空加熱する前および後にバックコート層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}が、それぞれ０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であることも、エッジダメージの発生抑制に寄与すると本発明者らは考えている。上記のバックコート層側表面において測定されるスペーシング分布の半値全幅は、この値が小さいほど、磁気テープのバックコート層側表面の各部において測定されるスペーシングの値にばらつきが少ないことを意味する。この点に関し、バックコート層側表面において測定されるスペーシングの値がばらつく要因は、磁気テープのバックコート層自体の表面形状のばらつき（例えば、バックコート層に含まれる非磁性粉末の分散状態に起因するばらつき）と、脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきにあると考えられる。真空加熱前、即ち磁気テープのバックコート層側表面に脂肪酸エステルの液膜が存在する状態で測定されるスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}は、脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきおよびバックコート層自体の表面形状のばらつきが大きいほど大きくなり、中でも脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きく影響すると、本発明者らは推察している。これに対し、真空加熱後、即ち磁気テープのバックコート層側表面から脂肪酸エステルの液膜が除去された状態で測定されるスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、バックコート層自体の表面形状のばらつきが大きいほど大きくなると本発明者らは考えている。差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）が上記範囲であるバックコート層側表面が、更に真空加熱前および後のスペーシング分布の半値全幅が上記範囲であることが、バックコート層側表面と磁性層側表面との間に、巻きずれを抑制するに足るメニスカス力を働かせることに寄与すると、本発明者らは推察している。

ただし以上は本発明者らによる推察であって、本発明を何ら限定するものではない。

以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。

［磁性層側Ｒａ］
上記磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（磁性層側Ｒａ）は、１．８ｎｍ以下である。これにより、上記磁気テープは、優れた電磁変換特性を示すことができる。電磁変換特性の更なる向上の観点からは、磁性層側Ｒａは、１．７ｎｍ以下であることが好ましく、１．６ｎｍ以下であることが更に好ましく、１．５ｎｍ以下であることが一層好ましい。また、磁性層側Ｒａは、例えば１．２ｎｍ以上であることができる。ただし電磁変換特性向上の観点からは磁性層側Ｒａが低いほど好ましいため、上記例示した値を下回ってもよい。

磁性層側Ｒａは、公知の方法により制御することができる。例えば、磁性層に含まれる各種粉末（例えば、強磁性粉末、磁性層に任意に含まれ得る非磁性粉末）のサイズ、磁気テープの製造条件等により磁性層側Ｒａは変わり得るため、これらを調整することにより、磁性層側Ｒａが１．８ｎｍ以下の磁気テープを得ることができる。

［素地摩擦］
上記磁気テープの磁性層側の表面の素地部分において測定される摩擦係数（素地摩擦）は、０．３５以下である。先に記載したように、素地摩擦が０．３５以下であることが、エッジダメージの発生抑制に寄与すると、本発明者らは推察している。エッジダメージの発生を更に抑制する観点から、素地摩擦は０．３３以下であることが好ましく、０．３０以下であることがより好ましい。また、素地摩擦は、例えば０．１０以上、０．１５以上または０．２０以上であるが、エッジダメージを低減する観点からは、低いほど好ましいため、上記例示した値を下回ってもよい。

先に素地摩擦の測定方法に関して、基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起を突起と定義した理由は、通常、磁性層側表面に存在する突起と認識される突起が、主に基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起だからである。かかる突起は、例えば研磨剤等の非磁性粉末により磁性層側表面に形成されている。これに対し、本発明者らは、磁性層側表面には、かかる突起により形成された凹凸よりも微視的な凹凸が存在すると考えている。そして、この微視的な凹凸の形状制御によって素地摩擦を調整することができると、本発明者らは推察している。この推察に基づき、本発明者らが、素地部分の凹凸の形状を制御すべく平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いて磁性層を形成したところ、素地摩擦を様々な値に制御することが可能であった。したがって、素地摩擦を調整するための手段の１つとしては、強磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いることが挙げられる。より詳しくは、平均粒子サイズがより大きな強磁性粉末が凸部となることで素地部分に上記の微視的な凹凸を形成することができ、平均粒子サイズがより大きな強磁性粉末の混合比を高めることにより素地部分における凸部の存在率を高めることができる（または逆に混合比を下げることにより素地部分における凸部の存在率を低下させることができる）と、本発明者らは考えている。詳細は更には後述する。
また他の手段として、本発明者らは、素地部分の凹凸の形状を制御すべく、磁性層側表面に基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起を形成可能な研磨剤等の非磁性粉末に加えて、強磁性粉末より平均粒子サイズの大きな他の非磁性粉末を用いて磁性層を形成したところ、素地摩擦を様々な値に制御することが可能であった。したがって、素地摩擦を調整するための手段の１つとしては、磁性層形成時に上記の他の非磁性粉末を用いることが挙げられる。より詳しくは、上記の他の非磁性粉末が凸部となることで素地部分に上記の微視的な凹凸を形成することができ、かかる非磁性粉末の混合比を高めることにより素地部分における凸部の存在率を高めることができる（または逆に混合比を下げることにより素地部分における凸部の存在率を低下させることができる）と、本発明者は考えている。詳細は更には後述する。
加えて、上記二種の手段を組み合わせることにより、素地摩擦を調整することも可能である。
ただし上記の調整手段は例示であって、素地摩擦を調整可能な任意の手段によって、０．３５以下の素地摩擦を実現することができ、そのような態様も本発明に包含される。

［バックコート層側Ｒａ］
上記磁気テープのバックコート層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（バックコート層側Ｒａ）は、５．０ｎｍ以下である。これにより、ドロップアウトの発生を抑制することができる。ドロップアウトの発生をより一層抑制する観点から、バックコート層側Ｒａは、４．５ｎｍ以下であることが好ましく、４．０ｎｍ以下であることがより好ましく、３．５ｎｍ以下であることが更に好ましく、３．０ｎｍ以下であることが一層好ましい。また、バックコート層側Ｒａは、例えば１．５ｎｍ以上であることができ、または１．８ｎｍ以上であることもできる。ただしドロップアウトの発生抑制のため裏写りを低減する観点からは、バックコート層側Ｒａは低いほど好ましいため、バックコート層側Ｒａは、上記例示した値を下回ってもよい。

バックコート層側Ｒａは、公知の方法により制御することができる。例えば、バックコート層に含まれる各種粉末（例えば、無機粉末、カーボンブラック等）のサイズ、含有量、磁気テープの製造条件等によりバックコート層側Ｒａは変わり得るため、これらを調整することにより、バックコート層側Ｒａが５．０ｎｍ以下の磁気テープを得ることができる。

［スペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}］
上記磁気テープのバックコート層側の表面において測定される真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、および真空加熱後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、ともに０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下である。先に記載したように、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}が上記範囲であることが、エッジダメージの発生抑制に寄与すると、本発明者らは推察している。エッジダメージの発生を更に抑制する観点からは、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、９．０ｎｍ以下であることが好ましく、８．０ｎｍ以下であることがより好ましく、７．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、６．０ｎｍ以下であることが一層好ましい。ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、例えば１．０ｎｍ以上であることができるが、値が小さいほど好ましいため、上記例示した値を下回ってもよい。
真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}は、主に脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきを低減することにより小さくすることができる。具体的な手段の一例は後述する。一方、真空加熱後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、バックコート層側表面の形状のばらつきを低減することにより小さくすることができる。そのためには、バックコート層形成用組成物における非磁性粉末の分散性を向上することが好ましい。分散性は、例えば、バックコート層形成に用いる非磁性粉末の種類および二種以上の非磁性粉末を含む場合にはそれらの混合比等によって調整することができる。具体的な手段の一例は後述する。

［差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）］
上記磁気テープのバックコート層側表面において測定される真空加熱前後のスペーシングの差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。これにより、バックコート層側表面と磁性層側表面との貼り付きの発生を抑制しつつ、エッジダメージの発生を抑制することができる。エッジダメージの発生を更に抑制する観点から、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、１．０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、同様の観点から、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、７．０ｎｍ以下であることが好ましく、６．０ｎｍ以下であることがより好ましく、５．０ｎｍ以下であることが更に好ましい。差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、バックコート層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によって制御することができる。バックコート層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量を増量するほど差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は大きくなる傾向がある。

次に、上記磁気テープの磁性層、バックコート層、非磁性支持体、および任意に含まれ得る非磁性層について更に説明する。

［磁性層］
＜強磁性粉末＞
上記の通り、素地摩擦の調整手段の１つとしては、強磁性粉末によって調整することが挙げられる。上記磁気テープの磁性層に含有される強磁性粉末としては、磁気テープの磁性層において強磁性粉末として通常用いられる各種粉末を使用することができる。

上記強磁性粉末によって調整する具体的態様は、強磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いて磁性層を形成することである。この場合、二種以上の強磁性粉末の中で、最も多くの割合で用いる強磁性粉末として、平均粒子サイズの小さいものを使用することが、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を磁性層の強磁性粉末として用いる場合には、最も多くの割合で用いる強磁性粉末として、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、最も多くの割合で用いる強磁性粉末の平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましい。なお平均粒子サイズが異なる二種以上の強磁性粉末を用いずに一種の強磁性粉末を用いる場合には、用いる強磁性粉末の平均粒子サイズは、上記の理由から、５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることが好ましい。

これに対し、最も多くの割合で用いる強磁性粉末とともに用いる強磁性粉末は、最も多くの割合で用いる強磁性粉末より平均粒子サイズが大きなものであることが好ましい。平均粒子サイズが大きな強磁性粉末により素地部分に形成される凸部によって、素地摩擦を低減することができると考えられるからである。この点から、最も多くの割合で用いる強磁性粉末の平均粒子サイズと、これとともに用いる強磁性粉末の平均粒子サイズは、「（後者の平均粒子サイズ）−（前者の平均粒子サイズ）」として求められる差が、１０〜８０ｎｍの範囲であることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０〜４０ｎｍの範囲であることが更に好ましく、１２〜３５ｎｍの範囲であることが一層好ましい。なお最も多くの割合で用いる強磁性粉末とともに用いる強磁性粉末として、平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いることも、もちろん可能である。この場合には、最も多くの割合で用いる強磁性粉末の平均粒子サイズに対して、上記二種以上の強磁性粉末の少なくとも一種の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが好ましく、より多くの種類の強磁性粉末の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが好ましく、すべての強磁性粉末の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが更に好ましい。

また、平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末については、素地摩擦の制御の観点から、最も多くの割合で用いる強磁性粉末と、他の強磁性粉末（他の強磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上を用いる場合にはそれらの合計）との混合比は、質量基準で、前者：後者＝９０．０：１０．０〜９９．９：０．１の範囲とすることが好ましく、９５．０：５．０〜９９．５：０．５の範囲とすることがより好ましい。

ここで平均粒子サイズの異なる強磁性粉末とは、平均粒子サイズが異なる強磁性粉末ロット全体またはその一部をいう。このように平均粒子サイズの異なる強磁性粉末を用いて形成された磁気テープの磁性層に含まれる強磁性粉末の個数基準または体積基準の粒度分布を、動的光散乱法、レーザー回折法等の公知の測定方法により測定すると、測定により得られる粒度分布曲線に、通常、最も多くの割合で用いた強磁性粉末の平均粒子サイズまたはその近傍に極大ピークを確認することができる。また、各強磁性粉末の平均粒子サイズまたはその近傍にピークを確認することができる場合もある。したがって、例えば平均粒子サイズが１０〜５０ｎｍの強磁性粉末を最も多くの割合で用いて形成された磁気テープの磁性層に含まれる強磁性粉末の粒度分布を測定すると、通常、粒度分布曲線において、粒子サイズ１０〜５０ｎｍの範囲に極大ピークを確認することができる。

なお上記の他の強磁性粉末の一部を、後述する他の非磁性粉末に置き換えてもよい。

本発明および本明細書における強磁性粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定する値とする。
強磁性粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして強磁性粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、強磁性粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。
本発明および本明細書において、強磁性粉末、およびその他の粉末についての平均粒子サイズとは、特記しない限り、上記方法により求められる平均粒子サイズをいうものとする。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて測定された値である。なお本発明および本明細書において、粉末とは、複数の粒子の集合を意味する。例えば、強磁性粉末とは、複数の強磁性粒子の集合を意味する。また、複数の粒子の集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤や添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。粒子との語を、粉末を表すために用いることもある。

なお、粒子サイズ測定のために磁性層から強磁性粉末等の試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。

本発明および本明細書において、強磁性粉末等の粉末を構成する粒子のサイズ（以下、「粒子サイズ」と言う）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚さまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。

また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚さまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚さまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。

強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。最も多くの割合で用いる強磁性粉末が強磁性六方晶フェライト粉末である場合、その平均粒子サイズ（平均板径）は、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１−２２５４１７号公報段落００１２〜００３０、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６、特開２０１２−２０４７２６号公報段落００１３〜００３０を参照できる。

強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。最も多くの割合で用いる強磁性粉末が強磁性金属粉末である場合、その平均粒子サイズ（平均長軸長）は、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１、特開２００５−２５１３５１号公報段落０００９〜００２３を参照できる。

なお上記磁気テープは、強磁性粉末として、強磁性六方晶フェライト粉末、強磁性金属粉末の一方のみを含んでもよく、両方を含んでもよく、これらの一方または両方とともに他の種類の強磁性粉末を含んでもよい。

磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。上記充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。

＜結合剤、硬化剤＞
上記磁気テープは塗布型磁気テープであって、磁性層に、強磁性粉末とともに結合剤を含む。結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル系樹脂である。これらの樹脂は、後述する非磁性層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報段落００２８〜００３１を参照できる。また、上記結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤としては、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用の塗料組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、塗膜強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で添加し使用することができる。

＜添加剤＞
磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、非磁性粉末、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラックなどを挙げることができる。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して使用することができる。

磁性層には、一種または二種以上の非磁性粉末が含まれることが好ましい。非磁性粉末としては、磁性層側表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性粉末（以下、「突起形成剤」と記載する。）を挙げることができる。突起形成剤は、磁気テープの磁性層側表面の摩擦特性制御に寄与し得る成分である。また、磁性層には、研磨剤として機能することができる非磁性粉末（以下、「研磨剤」と記載する。）が含まれてもよい。上記磁気テープの磁性層には、突起形成剤および研磨剤の少なくとも一方が含まれることが好ましく、両方が含まれることが好ましい。

突起形成剤としては、一般に突起形成剤として使用される各種非磁性粉末を用いることができる。これらは、無機物質であっても有機物質であってもよい。一態様では、摩擦特性の均一化の観点からは、突起形成剤の粒度分布は、分布中に複数のピークを有する多分散ではなく、単一ピークを示す単分散であることが好ましい。単分散粒子の入手容易性の点からは、磁性層に含まれる非磁性粉末は無機物質の粉末（無機粉末）であることが好ましい。無機粉末としては、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物の各粉末を挙げることができ、無機酸化物の粉末であることが好ましい。突起形成剤は、より好ましくはコロイド粒子であり、更に好ましくは無機酸化物コロイド粒子である。また、単分散粒子の入手容易性の観点からは、無機酸化物コロイド粒子を構成する無機酸化物は二酸化ケイ素（シリカ）であることが好ましく、無機酸化物コロイド粒子は、コロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）であることがより好ましい。本発明および本明細書において、「コロイド粒子」とは、少なくとも、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエンもしくは酢酸エチル、または上記溶媒の二種以上を任意の混合比で含む混合溶媒の少なくとも１つの有機溶媒１００ｍＬあたり１ｇ添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいうものとする。コロイド粒子については、平均粒子サイズは、特開２０１１−０４８８７８号公報段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められる値とする。また、他の一態様では、突起形成剤は、カーボンブラックであることも好ましい。

突起形成剤の平均粒子サイズは、例えば３０〜３００ｎｍであり、好ましくは４０〜２００ｎｍである。

一方、研磨剤としては、磁性層の研磨剤として通常使用される物質であるアルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、炭化ケイ素、ボロンカーバイド（Ｂ_４Ｃ）、ＳｉＯ_２、ＴｉＣ、酸化クロム（Ｃｒ_２Ｏ_３）、酸化セリウム、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化鉄、ダイヤモンドの各粉末を挙げることができ、中でもα−アルミナ等のアルミナ粉末および炭化ケイ素粉末が好ましい。また、研磨剤の粒子サイズに関しては、粒子サイズの指標である比表面積として、例えば１４ｍ^２／ｇ以上、好ましくは１６ｍ^２／ｇ以上、より好ましくは１８ｍ^２／ｇ以上である。また、研磨剤の比表面積は、例えば４０ｍ^２／ｇ以下であることができる。なお比表面積とは、窒素吸着法（ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）１点法とも呼ばれる。）により求められる値であって、一次粒子について測定する値とする。以下において、かかる方法により求められる比表面積を、ＢＥＴ比表面積とも記載する。

また、突起形成剤、研磨剤が、各機能をより良好に発揮することができるという観点から、磁性層における突起形成剤の含有量は、好ましくは強磁性粉末１００．０質量部に対して、１．０〜４．０質量部であり、より好ましくは１．５〜３．５質量部である。一方、研磨剤については、磁性層における含有量は、好ましくは強磁性粉末１００．０質量部に対して１．０〜２０．０質量部であり、より好ましくは３．０〜１５．０質量部であり、更に好ましくは４．０〜１０．０質量部である。

なお、研磨剤を含む磁性層に使用され得る添加剤の一例としては、特開２０１３−１３１２８５号公報段落００１２〜００２２に記載の分散剤を、磁性層形成用組成物における研磨剤の分散性を向上するための分散剤として挙げることができる。研磨剤等の非磁性粉末の磁性層形成用組成物における分散性を向上することは、磁性層側Ｒａを小さくするうえで好ましい。

更に先に記載したように、素地摩擦を０．３５以下に制御するために、以上説明した非磁性粉末以外の他の非磁性粉末を用いることもできる。そのような非磁性粉末は、モース硬度８以下であることが好ましく、非磁性層に通常使用される各種の非磁性粉末を用いることができる。詳細については、非磁性層について後述する通りである。より好ましい非磁性粉末としては、ベンガラを挙げることができる。なおベンガラのモース硬度は、約６である。

上記の他の非磁性粉末は、先に記載した、最も多くの割合で用いる強磁性粉末とともに用いる強磁性粉末と同様に、強磁性粉末より平均粒子サイズが大きなものであることが好ましい。上記の他の非磁性粉末により素地部分に形成される凸部によって、素地摩擦を低減することができると考えられるからである。この点から、強磁性粉末の平均粒子サイズと、これとともに用いる上記の他の非磁性粉末の平均粒子サイズは、「（後者の平均粒子サイズ）−（前者の平均粒子サイズ）」として求められる差が、１０〜８０ｎｍの範囲であることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。なお強磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いる場合には、上記の他の非磁性粉末の平均粒子サイズとの差を算出する強磁性粉末は、二種以上の強磁性粉末の中で、最も多くの割合で用いる強磁性粉末とする。また、上記の他の非磁性粉末として、平均粒子サイズの異なる二種以上の非磁性粉末を用いることも、もちろん可能である。この場合には、強磁性粉末の平均粒子サイズに対して、上記の他の非磁性粉末の二種以上の少なくとも一種の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが好ましく、より多くの種類の非磁性粉末の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが好ましく、上記の他の非磁性粉末のすべての平均粒子サイズが上記の差を満たすことが更に好ましい。

また、素地摩擦の制御の観点から、強磁性粉末と、上記の他の非磁性粉末（上記の他の非磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上を用いる場合にはそれらの合計）との混合比は、質量基準で、前者：後者＝９０．０：１０．０〜９９．９：０．１の範囲とすることが好ましく、９５．０：５．０〜９９．５：０．５の範囲とすることがより好ましい。

［非磁性層］
次に非磁性層について説明する。上記磁気テープは、非磁性支持体表面に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を有することもできる。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報段落０１４６〜０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０−２４１１３号公報段落００４０〜００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。

非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤量および種類、添加剤量および種類に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。

なお、上記磁気テープの非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい

［バックコート層］
＜脂肪酸エステル＞
上記磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する表面とは反対の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する。バックコート層は、脂肪酸エステルを含む。先に記載した通り、本発明者らは、バックコート層側表面の脂肪酸エステルの液膜によりもたらされるメニスカス力が巻きずれを防ぎ、これによりエッジダメージの発生を抑制することが可能になると推察している。

バックコート層には、脂肪酸エステルが一種のみ含まれていてもよく、二種以上が含まれていてもよい。脂肪酸エステルとしては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等のエステルを挙げることができ、具体例としては、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル（ブチルステアレート）、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
バックコート層の脂肪酸エステル含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜５．０質量部である。脂肪酸エステルとして二種以上の異なる脂肪酸エステルを使用する場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。なお本発明および本明細書において、特記しない限り、ある成分は一種のみ用いても二種以上を用いてもよい。ある成分を二種以上用いる場合、この成分の含有量とは、特記しない限り、これら二種以上の成分の合計含有量をいうものとする。

＜その他潤滑剤＞
上記磁気テープは、バックコート層に潤滑剤の一種である脂肪酸エステルを含むが、脂肪酸エステル以外の潤滑剤をバックコート層に含んでもよく、含まなくてもよい。脂肪酸エステル以外の潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸アミド等を挙げることができる。脂肪酸および脂肪酸アミドは、一般に境界潤滑剤として機能し得る成分と言われている。
脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。なお脂肪酸は、金属塩等の塩の形態でバックコート層に含まれていてもよい。
脂肪酸アミドとしては、上記の各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
脂肪酸と脂肪酸誘導体（エステル、アミド等）を併用する場合、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合にステアリン酸エステルおよび／またはステアリン酸アミドを使用することは好ましい。
バックコート層の脂肪酸含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜１０．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。バックコート層の脂肪酸アミド含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部である。

以上記載した脂肪酸エステル、脂肪酸および脂肪酸アミド等の潤滑剤の一種以上は、磁性層および／または非磁性層に含まれていてもよい。磁性層の脂肪酸エステル含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。磁性層の脂肪酸含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜１０．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。磁性層の脂肪酸アミド含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部である。非磁性層の脂肪酸エステル含有量、脂肪酸含有量、脂肪酸アミド含有量については、上記の磁性層の含有量に関する記載の強磁性粉末を非磁性粉末に置き換えて適用することができる。

＜非磁性粉末＞
バックコート層に含まれる非磁性粉末の種類については、非磁性層に含まれる非磁性粉末に関する上記記載を参照することができる。バックコート層に含まれる非磁性粉末は、好ましくは無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末であることができる。一般に、無機粉末はカーボンブラックに比べてバックコート層形成用組成物における分散性が良好な傾向がある。バックコート層形成用組成物の分散性を高めることは、バックコート層側表面の形状のばらつきを低減することに寄与し得る。したがって、バックコート層側表面の形状のばらつきを低減するほど小さな値になると考えられる真空加熱後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}の調整方法としては、バックコート層に含まれる非磁性粉末の種類および二種以上の非磁性粉末を含む場合にはそれらの混合比を調整することを挙げることができる。例えば、バックコート層の非磁性粉末の主粉末（非磁性粉末の中で質量基準で最も多く含まれる非磁性粉末）として、無機粉末を用いることは好ましい。バックコート層に含まれる非磁性粉末が無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である場合、非磁性粉末全量１００．０質量部に対して無機粉末の占める割合は、５０．０質量部超〜１００．０質量部の範囲であることが好ましく、６０．０質量部〜１００．０質量部の範囲であることがより好ましく、７０．０質量部〜１００．０質量部の範囲であることが更に好ましく、８０．０質量部〜１００．０質量部の範囲であることが一層好ましい。

非磁性粉末の平均粒子サイズは、例えば１０〜２００ｎｍの範囲であることができる。無機粉末の平均粒子サイズは、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲であり、より好ましくは８０〜１５０ｎｍの範囲である。一方、カーボンブラックの平均粒子サイズは、好ましくは１０〜５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは１５〜３０ｎｍの範囲である。

また、バックコート層形成用組成物における非磁性粉末の分散性は、公知の分散剤の使用、分散条件の強化等によっても高めることができる。

バックコート層形成用組成物における非磁性粉末の分散性を高めることは、バックコート層側Ｒａを小さくするうえでも好ましい。

真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}の調整方法の好ましい態様については、後述する。

バックコート層に含まれる結合剤、任意に含まれ得る各種添加剤については、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することができる。

［非磁性支持体］
次に、非磁性支持体について説明する。非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。

［非磁性支持体および各層の厚み］
上記磁気テープにおける非磁性支持体および各層の厚みについては、非磁性支持体の厚みは、例えば３．００〜８０．００μｍの範囲であり、好ましくは３．００〜５０．００μｍの範囲であり、より好ましくは３．００〜１０．００μｍの範囲である。

磁性層の厚みについては、近年求められている高密度記録化の観点からは、磁性層の厚みは１００ｎｍ以下であることが好ましい。磁性層の厚みは、より好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であり、更に好ましくは２０〜９０ｎｍの範囲である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。

非磁性層の厚みは、例えば０．１０〜１．５０μｍであり、０．１０〜１．００μｍであることが好ましい。

バックコート層の厚みは、０．９０μｍ以下であることが好ましく、０．１０〜０．７０μｍの範囲であることが更に好ましい。

なお磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。

［製造方法］
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層、バックコート層、または任意に設けられる非磁性層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、一般に塗布型磁気記録媒体製造のために使用される各種有機溶媒を挙げることができる。具体的には、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。

磁性層、バックコート層、または任意に設けられる非磁性層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる強磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、脂肪酸エステル、各種添加剤、溶媒などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、結合剤を混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。磁気テープの製造工程では、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については、特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報を参照できる。また、各層形成用組成物を分散させるには、ガラスビーズおよび／またはその他のビーズを用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散ビーズは、粒径（ビーズ径）と充填率を最適化して用いることが好ましい。分散機は公知のものを使用することができる。

素地摩擦の制御に関しては、先に説明した通り、一態様では、平均粒子サイズが異なる二種以上の強磁性粉末を用いて磁気テープを製造することができる。即ち、磁性層を、強磁性粉末として、第一の強磁性粉末と、第一の強磁性粉末より平均粒子サイズの大きい強磁性粉末の一種以上と、を用いて形成することができる。かかる磁性層の形成方法の好ましい態様としては、以下の態様を挙げることができる。下記態様の２つ以上の組み合わせは、上記磁性層の形成方法のより好ましい態様である。なお第一の強磁性粉末とは、二種以上用いられる強磁性粉末の中の一種の強磁性粉末をいい、先に記載した、最も多くの割合で用いる強磁性粉末であることが好ましい。その他の上記磁性層の形成方法の詳細は、先に記載した通りである。
・第一の強磁性粉末の平均粒子サイズは、１０〜８０ｎｍの範囲である。
・第一の強磁性粉末より平均粒子サイズの大きい強磁性粉末の平均粒子サイズと第一の強磁性粉末の平均粒子サイズとの差は、１０〜５０ｎｍの範囲である。
・第一の強磁性粉末と第一の強磁性粉末より平均粒子サイズの大きい強磁性粉末との混合比は、質量基準で、前者：後者＝９０．０：１０．０〜９９．９：０．１の範囲である。

また他の一態様では、磁性層の非磁性粉末として、研磨剤および突起形成剤以外の他の非磁性粉末を用いて磁気テープを製造することもできる。即ち、磁性層を、上記の他の非磁性粉末を用いて形成することができる。かかる磁性層の形成方法の好ましい態様としては、以下の態様を挙げることができる。下記態様の２つ以上の組み合わせは、上記磁性層の形成方法のより好ましい態様である。その他の上記磁性層の形成方法の詳細は、先に記載した通りである。
・上記の他の非磁性粉末の平均粒子サイズは、強磁性粉末の平均粒子サイズより大きい。
・強磁性粉末の平均粒子サイズと上記の他の非磁性粉末の平均粒子サイズとの差は、１０〜８０ｎｍの範囲である。
・強磁性粉末と上記の他の非磁性粉末との混合比は、質量基準で、前者：後者＝９０．０：１０．０〜９９．９：０．１の範囲である。

＜塗布工程＞
磁性層は、磁性層形成用組成物を非磁性支持体表面に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。バックコート層は、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の磁性層を有する（または磁性層が追って設けられる）側とは反対側の表面に塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６６を参照できる。

＜その他工程＞
磁気テープ製造のためのその他の各種工程については、特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６７〜００７０を参照できる。

＜好ましい製造方法の一態様＞
好ましい製造方法としては、磁気テープのバックコート層側表面における脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性向上のために、バックコート層形成用組成物の塗布層に振動を加える製造方法を挙げることができる。振動を加えることにより、上記塗布層表面の脂肪酸エステルの液膜が流動し、形成されるバックコート層側の表面において脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性が向上すると、本発明者らは推察している。この液膜の厚みの均一性向上は、真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}を０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下の範囲に制御するために好ましいと本発明者らは考えている。
即ち、本発明の一態様は、上記磁気テープの製造方法であって、
上記バックコート層を、
非磁性支持体の一方の表面側に、非磁性粉末、結合剤および脂肪酸エステルを含むバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させることにより塗布層を形成すること、および、
形成した塗布層に振動を加えること、
により形成することを含む磁気テープの製造方法、
に関する。バックコート層形成用組成物の塗布層に振動を加える点以外は、通常の磁気テープの製造工程と同様であり、その詳細は先に記載した通りである。

上記振動を加える手段は特に限定されるものではない。例えば、バックコート層形成用組成物の塗布層が形成された非磁性支持体の上記塗布層とは反対側の面を、振動付与ユニットと接触させることにより、上記塗布層に振動を加えることができる。上記塗布層を形成した非磁性支持体を振動付与ユニットと接触させながら走行させてもよい。上記振動は、例えば超音波振動であることができる。例えば、振動付与ユニットが内部に超音波振動子を備えることにより、このユニットと接触した物品に超音波振動を加えることができる。超音波振動子の振動周波数や強度、振動付与ユニットとの接触時間によって、上記塗布層に加える振動を調整することができる。例えば接触時間は、上記塗布層を形成した非磁性支持体の振動付与ユニットとの接触中の走行速度によって調整することができる。これらの振動付与条件は特に限定されるものではなく、先に記載した真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}を制御できるように設定すればよい。振動付与条件の設定のために実製造前に予備実験を行い、条件を最適化することもできる。

より好ましい製造方法としては、
上記のようにバックコート層を形成した後、非磁性支持体のバックコート層を形成した表面側とは反対の表面に直接磁性層形成用組成物を塗布すること、または、
上記のようにバックコート層を形成した後、非磁性支持体のバックコート層を形成した表面とは反対の表面側に磁性層形成用組成物を非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布すること、
を含む製造方法を挙げることができる。

以上、好ましい製造方法の一態様を説明したが、本発明の一態様にかかる磁気テープは、上記製造方法によって製造されたものに限定されるものではない。

上記磁気テープは、磁気テープカートリッジ内に、この磁気テープカートリッジ内部に回転可能に備えられたリールに巻き取り収容することができる。上記磁気テープを収容した磁気テープカートリッジをドライブにセットし、ドライブ内で磁気テープを走行させて磁気テープへの信号の記録および／または記録された信号の再生（読み取り）を行うことができる。上記磁気テープは、記録された信号を再生する際、優れた電磁変換特性を示すことができ、低ドロップアウトでの再生が可能であり、かつヘッドダメージを低減することができる。

以下に、本発明を実施例に基づき説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。なお、以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。

以下に記載の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記測定条件により測定されるポリスチレン換算の値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー製、７．８ｍｍＩＤ（内径）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）

［実施例１］
１．アルミナ分散物の調製
アルファ化率約６５％、ＢＥＴ比表面積３０ｍ^２／ｇのアルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ−７０）１００．０部に対し、３．０部の２，３−ジヒドロキシナフタレン（東京化成製）、極性基としてＳＯ_３Ｎａ基を有するポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡（登録商標）製ＵＲ−４８００（極性基量：８０ｍｅｑ／ｋｇ））の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒）を３１．３部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（質量比）の混合溶液５７０．０部を混合し、ジルコニアビーズ存在下で、ペイントシェーカーにより５時間分散させた。分散後、メッシュにより分散液とビーズとを分け、アルミナ分散物を得た。

２．磁性層形成用組成物処方
（磁性液）
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末（１）（表１参照） 表１参照
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末（２）（表１参照） 表１参照
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 １４．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン １５０．０部
メチルエチルケトン １５０．０部
（研磨剤液）
上記１．で調製したアルミナ分散物 ６．０部
（シリカゾル）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ１００ｎｍ） ２．０部
メチルエチルケトン １．４部
（その他成分）
ステアリン酸 ２．０部
ブチルステアレート ６．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート（登録商標））２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン ２００．０部
メチルエチルケトン ２００．０部

３．非磁性層形成用組成物処方
無機粉末：α−酸化鉄 １００．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：１０ｎｍ
平均針状比：１．９
ＢＥＴ比表面積：７５ｍ^２／ｇ
カーボンブラック ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 １８．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
ステアリン酸 １．０部
シクロヘキサノン ３００．０部
メチルエチルケトン ３００．０部

４．バックコート層形成用組成物処方
無機粉末：α−酸化鉄 表１参照
平均粒子サイズ（平均長軸長）：１５０ｎｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ
カーボンブラック 表１参照
平均粒子サイズ２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体 １３．０部
スルホン酸塩基含有ポリウレタン樹脂 ６．０部
フェニルホスホン酸 ３．０部
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ１５０ｎｍ） 表１参照
シクロヘキサノン １５５．０部
メチルエチルケトン １５５．０部
ステアリン酸 表１参照
ブチルステアレート 表１参照
ポリイソシアネート ５．０部
シクロヘキサノン ２００．０部

５．各層形成用組成物の調製
磁性層形成用組成物を、以下の方法により作製した。上記磁性液を、各成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散（ビーズ分散）することにより調製した。分散ビーズとしては、ビーズ径０．５ｍｍΦのジルコニアビーズを使用した。上記サンドミルを用いて、調製した磁性液および上記研磨剤液を他の成分（シリカゾル、その他成分および仕上げ添加溶媒）と混合し５分間ビーズ分散した後、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ、３００Ｗ）で０．５分間処理（超音波分散）を行った。その後、０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過を行い磁性層形成用組成物を作製した。
非磁性層形成用組成物を、以下の方法により作製した。ステアリン酸、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンを除いた各成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散して分散液を得た。分散ビーズとしては、ビーズ径０．１ｍｍΦのジルコニアビーズを使用した。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。こうして得られた分散液を０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過し非磁性層形成用組成物を作製した。
バックコート層形成用組成物を、以下の方法により作製した。潤滑剤（ステアリン酸およびブチルステアレート）とポリイソシアネート、シクロヘキサノンを除いた各成分をオープンニーダにより混練および希釈した後、横型ビーズミル分散機により、ビーズ径１ｍｍΦのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パス滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。こうして得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過しバックコート層形成用組成物を作製した。

６．磁気テープの作製
厚み４．５０μｍのポリエチレンナフタレート製支持体の一方の表面上に、乾燥後の厚みが０．６０μｍになるように上記５．で調製したバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させ塗布層を形成した。その後、上記塗布層を形成した支持体を、図１に示す振動付与装置に、上記塗布層を形成した表面とは反対側の表面が振動付与ユニットと接するように設置し、上記塗布層を形成した支持体（図１中、符号１）を搬送速度０．５ｍ／ｓで搬送させて上記塗布層に振動を付与した。図１中、符号２はガイドローラ（符号２は２つのガイドローラの一方に付した）、符号３は振動付与装置（超音波振動子を含む振動付与ユニット）、矢印は搬送方向を示す。上記塗布層を形成した支持体の任意の箇所が振動付与ユニットとの接触を開始してから接触が終了するまでの時間を振動付与時間として、表１に示す。使用した振動付与ユニットは内部に超音波振動子を備えている。超音波振動子の振動周波数は３０ｋＨｚ、強度は１００Ｗで振動付与を行った。その後、こうしてバックコート層を形成した上記支持体の、バックコート層を形成した表面とは反対側の表面上に、乾燥後の厚みが０．４０μｍになるように上記５．で調製した非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥した後、その上に乾燥後の厚みが６０ｎｍになるように上記５．で調製した磁性層形成用組成物を塗布（逐次重層塗布）した。この磁性層形成用組成物が未乾燥状態にあるうちに磁場強度０．３Ｔの磁場を、磁性層形成用組成物の塗布面に対し垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、乾燥させた。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダで、速度１００ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、カレンダロールの表面温度１００℃で表面平滑化処理（カレンダ処理）を行った。その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間熱処理を行った。熱処理後１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、磁気テープを得た。なおカレンダ処理条件を強化するほど（例えばカレンダロールの表面温度を高くするほど）、磁性層側Ｒａは小さくなる傾向がある。

［実施例２〜１３、比較例１〜１１］
表１に示すように各層形成用組成物の処方および／または製造条件を変更した点以外、実施例１と同様の方法で磁気テープを作製した。振動付与時間は、上記塗布層を形成した支持体の搬送速度を変えることにより調整した。
表１に記載のバックコート層の無機粉末／カーボンブラックの処方率とは、無機粉末とカーボンブラックとの合計含有量１００．０質量部に対する各粉末の質量基準の含有率である。
表１に記載の強磁性六方晶バリウムフェライト粉末の処方率とは、強磁性粉末全量１００．０質量部に対する各強磁性六方晶バリウムフェライト粉末の質量基準の含有率である。表１に示す強磁性六方晶バリウムフェライト粉末の平均粒子サイズは、磁気テープの作製に用いる粉末ロットから必要量を採取し、先に記載した方法によって平均粒子サイズを測定した値である。測定後の強磁性六方晶バリウムフェライト粉末を、磁気テープの作製のための磁性液の調製に用いた。

磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みを以下の方法により求め、上記値であることを確認した。
磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビームにより露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の２箇所において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めた。

７．評価方法
（１）磁性層側表面の素地部分において測定される摩擦係数（素地摩擦）
まず、測定面に予めレーザーマーカーで罫書きをいれ、そこから一定距離（約１００μｍ）離れた部分の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）像を測定した。視野面積は７μｍ×７μｍで行った。このとき、後述するように同一箇所の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ））画像を撮りやすいように、カンチレバーを硬いもの（単結晶シリコン）に変えて、ＡＦＭ上で罫書きを入れた。こうして測定したＡＦＭ画像から、基準面から１５ｎｍ以上の高さにある突起を全て抽出した。そして突起が存在しないと判定された箇所を素地部分と特定し、Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社ＴＩ−９５０型トライボインデンターを用いて先に記載した方法により素地摩擦を測定した。
更に、ＡＦＭを測定したところと同一箇所のＳＥＭ画像を測定して成分マップを取得し、抽出した基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起がアルミナまたはコロイダルシリカにより形成された突起であることを確認した。また、実施例１〜１１では、上記ＳＥＭを用いた成分マップにおいて、素地部分にアルミナおよびコロイダルシリカは確認されなかった。なお、ここではＳＥＭにより成分分析を行ったが、成分分析は、ＳＥＭに限らず、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＳ：Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ−ｒａｙ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）、オージェ電子分光法（ＡＥＳ：Ａｕｇｅｒ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）等の公知の方法により行うことができる。
測定結果を、表１に示す。

（２）磁性層側表面およびバックコート層側表面で測定される中心線平均表面粗さＲａ
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ、Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）を用い、測定面積４０μｍ×４０μｍの範囲を測定し、磁気テープの磁性層側表面およびバックコート層側表面において、それぞれ中心線平均表面粗さＲａを求めた。スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／ｓｅｃ、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとした。

（３）真空加熱前後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}
ＴＳＡ（Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製））を用いて、以下の方法により、磁気テープのバックコート層側表面において、真空加熱前後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}を求めた。
磁気テープのバックコート層側表面上に、ＴＳＡに備えられたガラス板を配置した状態で、押圧部材としてＴＳＡに備えられているウレタン製の半球を用いて、この半球を磁気テープの磁性層側表面に、５．０５×１０^４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押しつけた。この状態で、ＴＳＡに備えられているストロボスコープから白色光を、ガラス板を通して磁気テープのバックコート層側表面の一定領域（１５００００〜２０００００μｍ^２）に照射し、得られる反射光を、干渉フィルタ（波長６３３ｎｍの光を選択的に透過するフィルタ） を通してＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ−Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）で受光することで、この領域の凹凸で生じた干渉縞画像を得た。
この画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのガラス板の磁気テープ側の表面から磁気テープのバックコート層側表面までの距離（スペーシング）を求めこれをヒストグラムとし、ヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅をスペーシング分布の半値全幅とした。
真空加熱は、磁気テープを、２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の真空度の内部雰囲気温度７０〜９０℃の真空定温乾燥機に２４時間保存することにより行った。

（４）差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）
上記（３）で得た真空加熱後のヒストグラムの最頻値から、真空加熱前のヒストグラムの最頻値を差し引いて、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）とした。

（５）電磁変換特性（Ｓ／Ｎ比（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ））
ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）リールテスターを用いて、以下の方法により電磁変換特性（Ｓ／Ｎ比（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ））を求めた。
ヘッド／テープ相対速度を５．５ｍ／ｓｅｃとし、記録ヘッドとしてＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎ−Ｇａｐ）ヘッド（ギャップ長０．１５μｍ、トラック幅１．０μｍ）を用い、記録電流は各テープの最適記録電流に設定した。再生ヘッドとしては素子厚み１５ｎｍ、シールド間隔０．１μｍ、リード幅０．５μｍのＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ−Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドを用いた。線記録密度３００ｋｆｃｉの信号を記録し、再生信号をシバソク社製のスペクトラムアナライザーで測定し、キャリア信号の出力と、スペクトル全帯域の積分ノイズとの比をＳ／Ｎ比とした。信号は、磁気テープ走行開始後に信号が十分に安定した部分を使用した。比較例１の値を０ｄＢとし、その相対値としてＳ／Ｎ比を求めた。Ｓ／Ｎ比が１．０ｄＢ以上であれば、優れた電磁変換特性が示されたと判断することができる。

（６）ドロップアウト
ドロップアウトの測定は、ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）リールテスターを用いて行った。記録ヘッドを用いて線記録密度３００ｋｆｃｉの信号を記録し、トラック幅１μｍのＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ−Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドで再生した。平均の出力に対して４０％以上の出力落ちで長さが０．４μｍ以上の信号抜けの個数を検出し、テープ長１ｍ当たり（測定面積１ｍｍ^２（＝トラック幅（１μｍ）×テープ長（１ｍ））当たり）の個数をドロップアウトとした。エラーレート低減の観点からは、ドロップアウトが８００個／ｍｍ^２以下であることが好ましく、６００個／ｍｍ^２以下であることが更に好ましい。

（７）エッジダメージ
エッジダメージは、以下の方法により評価した。
実施例、比較例の各磁気テープ（磁気テープ全長５００ｍ）を収容した磁気テープカートリッジを、ＩＢＭ社製ＬＴＯ−Ｇ５（Ｌｉｎｅａｒ Ｔａｐｅ−Ｏｐｅｎ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ ５）ドライブにセットし、磁気テープを、テンション０．６Ｎ、走行速度５ｍ／秒で１５００往復走行させた。
上記走行後の磁気テープカートリッジを、リファレンスドライブ（ＩＢＭ社製ＬＴＯ−Ｇ５ドライブ）にセットし、磁気テープを走行させて記録再生を行った。走行中の再生信号を外部ＡＤ（Ａｎａｌｏｇ／Ｄｉｇｉｔａｌ）変換装置に取り込み、磁気テープの一方のエッジに最も近いトラックおよび他方のエッジに最も近いトラックでそれぞれ、再生信号振幅が平均（各トラックでの測定値の平均）に対して７０％以上低下した信号をミッシングパルスとして、その発生頻度（発生回数）を磁気テープ全長で除して、磁気テープの単位長さ当たり（１ｍ当たり）のミッシングパルス発生頻度（以下、「ミッシングパルス個数」と記載する。）として求めた。
エッジダメージが重度に発生しているほど、上記方法で求められるミッシングパルス個数は増加する。したがって、上記方法で求められるミッシングパルス個数は、エッジダメージの指標となる。ミッシングパルス個数が１０．０個／ｍ以下であれば、エッジダメージの発生が実用上十分なレベルまで抑制されていると判断することができる。なおエッジダメージが発生する位置は一定ではないため、本評価では、一方のエッジに最も近いトラックでの測定結果と、他方のエッジに最も近いトラックでの測定結果の中で、より大きい測定結果をミッシングパルス個数として採用し、表１に示した。

以上の結果を、表１に示す。比較例１１の磁気テープは、上記（５）〜（７）の評価を行おうとしたところ、バックコート層側表面と磁性層側表面とが粘着により貼り付いてしまったため磁気テープを走行させることができず、評価を行うことができなかった。

表１に示す結果から、実施例の磁気テープは、高いＳ／Ｎ比を示し、かつドロップアウトおよびエッジダメージの発生が抑制されていることが確認できる。

本発明は、バックアップテープ等の磁気テープの技術分野において有用である。

Claims (11)

1. 非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
   前記磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．８ｎｍ以下であり、
   前記磁気テープの磁性層側の表面の素地部分において測定される摩擦係数は、０．３５以下であり、
   前記磁気テープのバックコート層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、５．０ｎｍ以下であり、
   前記バックコート層は脂肪酸エステルを含み、
   前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、
   前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ
   前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_afterと、前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁気テープのバックコート層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_beforeとの差分、Ｓ_after−Ｓ_before、は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ。
2. 前記磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．２ｎｍ以上１．８ｎｍ以下である請求項１に記載の磁気テープ。
3. 前記バックコート層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．５ｎｍ以上５．０ｎｍ以下である請求項１または２に記載の磁気テープ。
4. 前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、１．０〜８．０ｎｍの範囲である請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気テープ。
5. 前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、１．０〜８．０ｎｍの範囲である請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気テープ。
6. 前記差分、Ｓ_after−Ｓ_before、は、１．０〜７．０ｎｍの範囲である請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気テープ。
7. 前記磁気テープの磁性層側の表面の素地部分において測定される摩擦係数は、０．１５〜０．３０の範囲である請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気テープ。
8. 前記バックコート層に含まれる非磁性粉末は、無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気テープ。
9. 前記バックコート層に含まれる非磁性粉末全量１００．０質量部に対して無機粉末の占める割合は、５０．０質量部超〜１００．０質量部の範囲である請求項８に記載の磁気テープ。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の磁気テープの製造方法であって、
    前記バックコート層を、
    非磁性支持体の一方の表面側に、非磁性粉末、結合剤および脂肪酸エステルを含むバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させることにより塗布層を形成すること、および、
    形成した塗布層に振動を加えること、
    により形成することを含む、前記磁気テープの製造方法。
11. 前記振動は、超音波振動である請求項１０に記載の磁気テープの製造方法。