JP4571393B2 - 有機高分子シロキサン及びその用途 - Google Patents
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- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 69
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 81
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 72
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 59
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 49
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 16
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 12
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 7
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 48
- -1 alkyl aromatic compounds Chemical class 0.000 description 45
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 38
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 37
- 125000005358 mercaptoalkyl group Chemical group 0.000 description 33
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 18
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 16
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000006277 sulfonation reaction Methods 0.000 description 8
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- VBAOEVKQBLGWTH-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-4-ylethanethiol Chemical group SCCC1=CC=NC=C1 VBAOEVKQBLGWTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HSAYSFNFCZEPCN-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propane-1-thiol Chemical compound CN(C)CCCS HSAYSFNFCZEPCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXSMNPPSEOLAGB-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-4-ylethanethiol;hydrochloride Chemical compound Cl.SCCC1=CC=NC=C1 AXSMNPPSEOLAGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDDJGMDHEDWWKH-UHFFFAOYSA-N CC(=O)[O-].C[N+](C)(C)CCCS Chemical compound CC(=O)[O-].C[N+](C)(C)CCCS SDDJGMDHEDWWKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 2
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000007046 ethoxylation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- MTYAXMYKCRHHIG-UHFFFAOYSA-O trimethyl(3-sulfanylpropyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CCCS MTYAXMYKCRHHIG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJUDGWVAKJCALG-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-2-ylethanethiol Chemical compound SCCC1=CC=CC=N1 NJUDGWVAKJCALG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGRWQZZLGODNQ-UHFFFAOYSA-N 3-(dibutylamino)propane-1-thiol Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCS JSGRWQZZLGODNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQFQYOHHVAEHPL-UHFFFAOYSA-N 3-(diethylamino)propane-1-thiol Chemical compound CCN(CC)CCCS XQFQYOHHVAEHPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCIQRAUWUUWZES-UHFFFAOYSA-N 3-(dipropylamino)propane-1-thiol Chemical compound CCCN(CCC)CCCS GCIQRAUWUUWZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBXKCLHOVPXMCJ-UHFFFAOYSA-N 3-(mercaptomethylene)pyridine Chemical compound SCC1=CC=CN=C1 MBXKCLHOVPXMCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLBIOIADVQMNJP-UHFFFAOYSA-N 3-(propylamino)propane-1-thiol Chemical compound CCCNCCCS YLBIOIADVQMNJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTJZEVPQOMSIJB-UHFFFAOYSA-N 3-pyridin-2-ylpropane-1-thiol Chemical compound SCCCC1=CC=CC=N1 OTJZEVPQOMSIJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLSFQTWZHNUXGY-UHFFFAOYSA-N 3-pyridin-4-ylpropane-1-thiol Chemical compound SCCCC1=CC=NC=C1 QLSFQTWZHNUXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- VZQGHOBWGDERTA-UHFFFAOYSA-N C1CN(CCC1CCS)CCCCCS Chemical compound C1CN(CCC1CCS)CCCCCS VZQGHOBWGDERTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMDDBHVDWLXXRS-UHFFFAOYSA-O CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCS Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCS ZMDDBHVDWLXXRS-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZNHSTVIXZWLCPZ-UHFFFAOYSA-N CCO.CCO[SiH3] Chemical compound CCO.CCO[SiH3] ZNHSTVIXZWLCPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100494773 Caenorhabditis elegans ctl-2 gene Proteins 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100112369 Fasciola hepatica Cat-1 gene Proteins 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100005271 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) cat-1 gene Proteins 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N [C].[Si] Chemical group [C].[Si] HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 229940023913 cation exchange resins Drugs 0.000 description 1
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- SJIIDWBFRZACDQ-UHFFFAOYSA-N pyridin-2-ylmethanethiol Chemical compound SCC1=CC=CC=N1 SJIIDWBFRZACDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUWAUUTYKFAJBH-UHFFFAOYSA-N pyridin-4-ylmethanethiol Chemical compound SCC1=CC=NC=C1 YUWAUUTYKFAJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Inorganic materials O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYKOSQYKBTVBFI-UHFFFAOYSA-O triethyl(3-sulfanylpropyl)azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CCCS NYKOSQYKBTVBFI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
本発明は、有機高分子シロキサンに関し、詳しくは固体酸触媒として有用な有機高分子シロキサン、それを用いた触媒及びその用途に関し、更に詳しくはスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン、それを用いた触媒及びその用途に関する。
スルホン酸基を有する強酸性イオン交換体は種々の化学合成において固体酸触媒として広く利用されている。具体的には、(1)アルコール類の分子内脱水によるオレフィンや環状エーテルの合成、アルコール類同士の分子間脱水によるエーテル類の合成、アルコール類とカルボン酸類の分子間脱水によるエステル類の合成、アルデヒド類もしくはケトン類と芳香族類との分子間脱水によるアルキル芳香族化合物の合成といった脱水縮合反応、(2)オレフィン類の水和によるアルコール類の合成といった水和反応、(3)芳香族類とオレフィン類との反応によるアルキル芳香族の合成といったアルキル化反応のように種々の反応において固体酸触媒として用いられている。ほとんどの場合使用されるカチオン交換体はポリスチレン骨格を有し、フェニルスルホン酸基を有する一般的に陽イオン交換樹脂と呼ばれるものである。陽イオン交換樹脂は耐熱性が低く、一般的に１００〜１３０℃が使用の上限とされている。また、著しい膨潤性による破壊、機械的強度の脆さ等の不利な点を有している。これに対して無機ポリマー系の場合、強固な構造、非膨潤性、高い温度に対する安定性を有しており、かかる欠点の大部分を避けることが可能である。無機ポリマー系イオン交換体の例としてスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンが挙げられる。スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンは特開昭５９−２０３２５号、特開昭６１−２７２２３７号、特開平６−２０７０２１号、特開平５−２７１２４３号、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａｌ．，４３，４１（１９８７）に、いずれも高い耐熱性、物理的強度の高さを有していることが記載されている。これらの有機高分子シロキサンはいずれも多孔質物質であり、高表面積を有し、５００Å以上のマクロポーラス部、２０〜５００Åのメソポーラス部、２０Å以下のミクロポーラス部を有しているが細孔の大部分はメソポーラス部に存在している。そのため上記特許記載の有機高分子シロキサンを固体酸触媒として用いた場合、メソポーラス部において反応にともなう副生成物が触媒上に堆積して、最終的には細孔が閉塞することによって触媒活性が失活するという問題を有している。
スルホン酸基を有する強酸性イオン交換体の用途の一つとして、固体酸触媒としてビスフェノールＡ［２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン］の合成に用いることが可能である。ビスフェノールＡは通常固体酸触媒にアセトンとモル比にして８〜１５倍の過剰のフェノールを通液する、いわゆる固定床流通反応の形態で連続的に製造されている。ビスフェノールＡ合成用触媒としてはスルホン酸点の一部を２−（４−ピリジル）エタンチオール（特開昭５７−０３５５３３号）、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム（特開平０８−０８９８１９号）Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム（特開平０８−１８７４３６号）、１−（５−メルカプトペンチル）−４−（２−メルカプトエチル）ピペリジン（特開平１０−２１１４３４号）等のメルカプトアルキル基を有する含窒素化合物により修飾した触媒が知られている。
また、特開平８−２０８５４５に記載のスルホン酸基含有炭化水素とメルカプトアルキル基含有炭化水素を共にケイ素骨格に固定化した有機高分子シロキサンは、高い触媒活性を有することが記載されている。しかしながら、この有機高分子シロキサンを固定床流通反応で用いた場合、特開２０００−２９７０５６、特開２０００−２９０２０８、特開２００１−２１２４６５に記載されているように、触媒活性が連続的に低下する。上記特許明細書には、原料であるアセトンとフェノールへの水の添加、スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基の合計量を有機高分子シロキサンの単位比表面積（１ｍ2／ｇ）あたり０．３〜２．０μｍｏｌ／ｍ2の範囲に限定するといった方法を用いることで劣化の抑制が可能であることが示されている。しかし、反応時間の経過による連続的な触媒活性の低下という問題は解決されていない。そのため、そのような触媒をそのまま固定床に充填すると、使用とともに触媒活性が低下し満足な生産性の維持が困難になる。また、媒触活性が低下すると触媒の入れ替え作業が必要となるが、連続的な触媒活性の低下が大きい触媒を用いると触媒の使用期間が短くなり、触媒コストが増大し経済的な損失が大きくなる。さらに、入れ替えのためには一定期間生産を停止しなければならない。以上のような問題のため触媒活性が連続的に低下する触媒を用いることは、工業的に不利である。
特開平６−２０７０２１号公報
特開平５−２７１２４３号公報
特開２００１−２１２４６５号公報
また、特開平８−２０８５４５に記載のスルホン酸基含有炭化水素とメルカプトアルキル基含有炭化水素を共にケイ素骨格に固定化した有機高分子シロキサンは、高い触媒活性を有することが記載されている。しかしながら、この有機高分子シロキサンを固定床流通反応で用いた場合、特開２０００−２９７０５６、特開２０００−２９０２０８、特開２００１−２１２４６５に記載されているように、触媒活性が連続的に低下する。上記特許明細書には、原料であるアセトンとフェノールへの水の添加、スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基の合計量を有機高分子シロキサンの単位比表面積（１ｍ2／ｇ）あたり０．３〜２．０μｍｏｌ／ｍ2の範囲に限定するといった方法を用いることで劣化の抑制が可能であることが示されている。しかし、反応時間の経過による連続的な触媒活性の低下という問題は解決されていない。そのため、そのような触媒をそのまま固定床に充填すると、使用とともに触媒活性が低下し満足な生産性の維持が困難になる。また、媒触活性が低下すると触媒の入れ替え作業が必要となるが、連続的な触媒活性の低下が大きい触媒を用いると触媒の使用期間が短くなり、触媒コストが増大し経済的な損失が大きくなる。さらに、入れ替えのためには一定期間生産を停止しなければならない。以上のような問題のため触媒活性が連続的に低下する触媒を用いることは、工業的に不利である。
本発明は、細孔径が２０〜５００Åであるメソポーラス部の細孔の存在割合が、特定の値以下である新規なスルホン酸基含有有機高分子シロキサンを提供とすることを目的としている。さらに本発明は、有機高分子シロキサンを固体酸触媒として用いた場合に、反応にともなう副生成物がメソポーラス部において堆積し、触媒活性が失活するという問題を解決することを課題としている。
本発明者らは、かかる問題点を解決するため鋭意研究を行い、有機高分子シロキサンに存在する細孔のうち、細孔径が２０〜５００Åであるものの存在比が特定の範囲にあると、触媒活性の失活を抑制できることを見出した。すなわち窒素ガス吸着法により測定される細孔径が９〜５００Åである細孔の全容積に対し、細孔径２０〜５００Åのメソポーラス細孔が占める割合が、容積比で０〜２０％であると触媒活性の失活を抑制できることを見出し、さらに、このような有機高分子シロキサンは、以下に詳述するように特定のスルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランまたは該アルコキシシランの加水分解物を用いて、特定の製造方法により得られることを見出して本発明を完成するに至った。さらにこの有機高分子シロキサンのスルホン酸の一部をメルカプト基を有する含窒素化合物により修飾しビスフェノールＡ合成反応に使用したところ、驚くべきことに触媒寿命が大幅に向上することを見出した。
本発明の方法により、細孔径９〜５００Åの細孔容積に対し、細孔径２０〜５００Åのメソポーラス部の細孔容積の存在割合が０〜２０％であるスルホン基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンを調製することで、触媒寿命が著しく向上し、さらに反応器の流路閉塞など生じることのない、プロセス上、安全かつ経済的な触媒として工業上重要であるビスフェノールＡ等種々の化合物の製造をプロセス上および経済上著しく優位に行うことができる。
本発明におけるスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンとは、特開昭５９−２０３２５号、特開昭６１−２７２２３７号、特開平６−２０７０２１号、特開平５−２７１２４３、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａ１．，４３，４１（１９８７）に記載されているシロキサン結合からなるシリカマトリックス中に、部分的にスルホン酸基含有炭化水素基が直接シリカマトリックス中のケイ素原子と炭素−ケイ素結合した構造を有する有機高分子シロキサンである。
本発明のスルホン酸基を有する有機高分子シロキサンは、種々の化学合成において固体酸触媒として用いることができるが、とりわけ次の反応に好適に用いられる。
(1)アルコール類の分子内脱水によるオレフィンや環状エーテルの合成、アルコール類同士の分子間脱水によるエーテル類の合成、アルコール類とカルボン酸類の分子間脱水によるエステル類の合成、アルデヒド類もしくはケトン類と芳香族類との分子間脱水によるアルキル芳香族化合物の合成といった脱水縮合反応；
(2)オレフィン類の水和によるアルコール類の合成といった水和反応；(3)芳香族類とオレフィン類との反応によるアルキル芳香族の合成といったアルキル化反応。
とりわけアルデヒド類もしくはケトン類と芳香族類との分子間脱水によるアルキル芳香族化合物の合成反応に好適に用いることができ、とりわけビスフェノール類の合成に好適に用いることが出来る。例えばアセトンとフェノールからビスフェノールＡを合成する反応、ホルムアルデヒドとフェノールからビスフェノールＦを合成する反応等が例示される。
本発明のスルホン酸基を有する有機高分子シロキサンは、種々の化学合成において固体酸触媒として用いることができるが、とりわけ次の反応に好適に用いられる。
(1)アルコール類の分子内脱水によるオレフィンや環状エーテルの合成、アルコール類同士の分子間脱水によるエーテル類の合成、アルコール類とカルボン酸類の分子間脱水によるエステル類の合成、アルデヒド類もしくはケトン類と芳香族類との分子間脱水によるアルキル芳香族化合物の合成といった脱水縮合反応；
(2)オレフィン類の水和によるアルコール類の合成といった水和反応；(3)芳香族類とオレフィン類との反応によるアルキル芳香族の合成といったアルキル化反応。
とりわけアルデヒド類もしくはケトン類と芳香族類との分子間脱水によるアルキル芳香族化合物の合成反応に好適に用いることができ、とりわけビスフェノール類の合成に好適に用いることが出来る。例えばアセトンとフェノールからビスフェノールＡを合成する反応、ホルムアルデヒドとフェノールからビスフェノールＦを合成する反応等が例示される。
スルホン酸基を有する炭化水素基は、少なくとも１個のスルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）を有する炭化水素基であれば、いかなる炭化水素基であっても本発明に使用することが可能である。スルホン酸基を有する炭化水素としては、好ましくはスルホン酸基含有炭化水素基を少なくとも１個有する、炭素数１以上２０以下の炭化水素基があげられる。より好ましくは炭素数６以上２０以下、更に好ましくは炭素数６以上１５以下の、少なくとも１個のスルホン酸基を有する置換ないしは無置換の芳香族炭化水素基（芳香族基に直接スルホン酸基が置換された基でも、芳香族基に置換された炭化水素基にスルホン酸基が置換された基でもよい）、また好ましくは少なくとも１個のスルホン酸基を有する炭素数１以上１５以下、更に好ましくは炭素数１以上１０以下の置換ないしは無置換の脂肪族および脂環式炭化水素基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の炭化水素基があげられる。
このようなスルホン酸基含有炭化水素基を有する炭化水素基の例としては、少なくとも１個のスルホン酸基により核置換されたフェニル基、トリル基、ナフチル基、メチルナフチル基等の芳香族基、ベンジル基、ナフチルメチル基等の芳香族置換アルキル基等、少なくとも１個のスルホン酸基で置換された、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、直鎖または分枝のペンチル基、直鎖または分枝のヘキシル基、直鎖または分枝のヘプチル基、直鎖または分枝のオクチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等があげられる。さらにこれらの芳香族炭化水素基、または飽和・不飽和の脂肪族炭化水素（脂環式化合物を含む）基は、スルホン酸基の他にハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基、ヒドロキシ基等の置換基を有する炭化水素基であってもよい。
このような有機高分子シロキサンの調製法としては以下に示す（１）〜（３）の方法で調製が可能である。実施しうる調製方法として、（１）スルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランとテトラアルコキシシランとを任意の割合で混合し、加水分解、共縮合する調製法、（２）水溶性のスルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランの加水分解物とテトラアルコキシシランとを任意の割合で混合し加水分解させて共縮合する調製法、といったいわゆるアルコキシシランのゾル−ゲル法による調製法や、（３）スルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランを有機高分子シロキサンに存在するシラノール基にシリル化しスルホン酸基を固定する、いわゆるシリル化による調製法が挙げられる。
上記（１）〜（３）のいずれかの調製法により得られるこれらの有機高分子シロキサンは多孔性物質であり、９〜５００Åの細孔の比表面積は５００〜１５００m2／ｇと非常に高く、一般に表面積の大部分はメソポーラス部（２０〜５００Å）が占めている。本発明で重要なのは、この多孔性物質である有機高分子シロキサンの細孔径９〜５００Åの細孔容積に対し、細孔径２０〜５００Å（メソポーラス部）の細孔容積の存在割合を０〜２０％とすることで、メルカプト基を有する含窒素化合物により修飾した有機高分子シロキサンの触媒寿命が大幅に向上することを見出したことである。細孔径２０〜５００Å（メソポーラス部）の細孔容積の存在割合を減少させる方法として以下の方法で調製することが可能である。
上記（１）〜（３）のいずれかの調製法により得られるこれらの有機高分子シロキサンは多孔性物質であり、９〜５００Åの細孔の比表面積は５００〜１５００m2／ｇと非常に高く、一般に表面積の大部分はメソポーラス部（２０〜５００Å）が占めている。本発明で重要なのは、この多孔性物質である有機高分子シロキサンの細孔径９〜５００Åの細孔容積に対し、細孔径２０〜５００Å（メソポーラス部）の細孔容積の存在割合を０〜２０％とすることで、メルカプト基を有する含窒素化合物により修飾した有機高分子シロキサンの触媒寿命が大幅に向上することを見出したことである。細孔径２０〜５００Å（メソポーラス部）の細孔容積の存在割合を減少させる方法として以下の方法で調製することが可能である。
実施しやすい調製法としては、スルホン酸基含有炭化水素基を調製する際のスルホン化の収率を向上させ、さらに「テトラエトキシシランのモル量」と「スルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランのモル量」との比を調整することにより調製が可能である。具体的に説明すると、フェニルスルホン酸を有するアルコキシシランの合成において、原料であるフェニルトリクロロシランに対し、スルホン化剤の無水硫酸を２．５当量と過剰に加え、反応温度を上げスルホン化する。さらにアルコールによりアルコキシ化したものをゾル−ゲル調製の原料として用いる。アルコールとしては特に限定されることがないが、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基を有する直鎖飽和炭素を有するアルコールがあげられる。有機高分子シロキサンのゾル−ゲル調製法としては、上記したスルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランとテトラエトキシシランを混合し、エタノール等を用い均一な混合溶媒とする。この際、「スルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランのモル量」：「テトラエトキシシランのモル量」が１：３〜７であることが重要である。これに加水分解基量に対して１当量の水を加えた後、加熱攪拌し、酸性条件下で濃縮する。
得られた高粘度の液体は一般にシリカゾルと呼ばれるものである。上記したシリカゾルに、加水分解基量に対して過剰の水とアンモニア水等を加え、塩基性条件下でゲル化させる。また、この時必要であるならば、加熱し長時間熟成させることもできる。得られたゲルは、溶媒を留去することにより単離できる。このゲルはスルホン酸がアンモニウム塩型であるため、固体酸触媒として用いるために酸処理により酸型に戻す必要がある。
本発明で使用するメルカプト基を有する含窒素化合物としては、下記一般式［１］で表されるメルカプトアルキル基を有するピリジン化合物、下記一般式［２］で表されるメルカプトアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウムカチオン、下記一般式［３］で表されるメルカプトアルキル基を有するトリアルキルアミン化合物等がある。
メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物とは、ピリジン環にメルカプトアルキル基が結合した含窒素化合物であり、下記一般式［１］で表される。
メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物とは、ピリジン環にメルカプトアルキル基が結合した含窒素化合物であり、下記一般式［１］で表される。
このような含窒素化合物としては、具体的には例えば、４-ピリジンメタンチオール、３-ピリジルメタンチオール、２-ピリジルメタンチオール、２-(４-ピリジル)エタンチオール、２-(３-ピリジル)エタンチオール、２-(２-ピリジル)エタンチオール、３-(４-ピリジル)プロパンチオール、３-(２-ピリジル)プロパンチオール等があげられる。
本発明で使用するメルカプトアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウムカチオンとは、アミンの窒素原子にメルカプトアルキル基以外に三つのアルキル基が結合した含窒素化合物（メルカプトアルキル基含有テトラアルキルアンモニウム化合物）から導かれるカチオンである。
このような含窒素化合物としては、下記一般式[２]で表されるものがある。
このような含窒素化合物としては、下記一般式[２]で表されるものがある。
Ｒ1の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、、ｎ−ヘプチル基等が挙げられる。これらの中では、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基等が好ましい。
上記式[２]のメルカプトアルキル基としては、メルカプトプロピル基が好ましい。このような含窒素化合物としては、具体的には例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリプロピル−３−メルカプトプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリブチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム等があげられる。また、通常これらアンモニウムカチオンは、カウンターアニオンにＣｌ-、Ｂｒ-等のハロゲンが用いられる。
本発明で使用するメルカプトアルキル基を有するトリアルキルアミン化合物とは、アミンの窒素原子にメルカプトアルキル基以外に二つのアルキル基が結合した含窒素化合物である。
このような含窒素化合物としては、下記一般式[３]で表されるものがある。
このような含窒素化合物としては、下記一般式[３]で表されるものがある。
［３］
（式中のＲ4・Ｒ5は、それぞれ独立に炭素数が１〜１０のアルキル基を表し、ｃは１〜６の整数である）
Ｒ1の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基等が挙げられる。これらの中では、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基等が好ましい。
メルカプトアルキル基としては、メルカプトプロピル基が好ましい。このような含窒素化合物としては、具体的には例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−３−メルカプトプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジブチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム等があげられる。
（式中のＲ4・Ｒ5は、それぞれ独立に炭素数が１〜１０のアルキル基を表し、ｃは１〜６の整数である）
Ｒ1の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基等が挙げられる。これらの中では、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基等が好ましい。
メルカプトアルキル基としては、メルカプトプロピル基が好ましい。このような含窒素化合物としては、具体的には例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−３−メルカプトプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジブチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム等があげられる。
メルカプト基を有する含窒素化合物による修飾は、スルホン酸基を有する有機高分子シロキサンとともに溶媒中で混合させることにより行うことができる。溶媒としては、メルカプト基を有する含窒素化合物を溶解させうるものであれば、特に限定されない。反応温度としては常温または加温が採用され、反応時間は特に長時間を必要とせず数分で十分であるが、均一に反応させるため反応混合物は攪拌されていることが好ましい。この反応においては、未修飾有機高分子シロキサン中に含まれるスルホン酸基の一部、４３〜９５％、好ましくは４３〜５０％がメルカプトアルキル基に変換されるように行うのがよい。
メルカプトアルキル基で修飾したスルホン酸基含有有機高分子シロキサンを充填した固定床流通式反応装置を用いてビスフェノールＡを製造する場合、原料であるアセトンとフェノールのモル比は通常１：３〜１５の範囲好ましくは１：５〜１０の範囲、また反応温度は通常７０℃〜１３０℃の範囲好ましくは７０℃〜１００℃の範囲で一般的な条件の下に実施される。固体触媒の酸量は、過剰の塩化ナトリウム水溶液でイオン交換し、遊離した塩酸を定量する事で求められる。またメルカプト量は、塩化ナトリウムで酸点をイオン交換したのち、濾別した触媒を硝酸銀水溶液を用いてメルカプト基と銀メルカプチドを生成させ、遊離した硝酸を定量することにより求めることが可能である。その他にも、ヨウ素による酸化還元滴定により定量可能である。
［実施例］
［実施例］
以下、本発明を実施例、および比較例により具体的に説明する。しかしながら、この実施例は単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。また、実施例において、触媒の寿命を３００時間後の劣化率（アセトン転化率において２０時間の値と３００時間の値との差を２０時間の値で除した値）で表わした。また、細孔径９〜５００Åの細孔容積に対し、細孔径２０〜５００Å（メソポーラス部）の細孔容積の存在割合をメソ孔存在割合（２０〜５００Åの細孔容積の値を、９〜５００Åの細孔容積の値で除した値）として表わした。
（１）スルホン酸基含有アルコキシシランの合成
スルホン酸基含有アルコキシシラン１
滴下ロートを取り付けた２口の３００ｍｌの丸底フラスコに塩化メチレンを１００ｍｌ入れ、これにフェニルトリクロロシラン３９．１ｇ（０．１９ｍｏｌ）を加え、氷冷した。これに無水硫酸３７．３ｇ（０．４７ｍｏｌ）の塩化メチレン溶液２０ｍｌを、１時間かけて滴下した。滴下後外温を６０℃にし、還流下２時間反応を行いスルホン化反応を行った。次に、外温６０℃でエタノール４６．０gを塩化水素を除きながら１時間かけて滴下し、ついで外温を１００℃にし、塩化メチレンを留去した。さらに、エタノール４６．０ｇを滴下し、外温１００℃で２時間還流してエトキシ化反応を行った。得られた不純物を含むスルホン酸基含有エトキシシランのエタノール溶液１６２．７ｇをスルホン酸基含有アルコキシシラン１とし、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンのゾル−ゲル調製におけるスルホン酸成分の原料として用いた。この際、スルホン酸基含有アルコキシシラン１とテトラエトキシシランを任意の割合で混合し、ゾル−ゲル調製によりスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンを調製し、その固体酸量を測定する。その求めた酸量から得られる、仕込時のスルホン酸基含有アルコキシシラン１の濃度から、スルホン化収率(仕込みフェニルトリクロロシランに対する、生成したスルホン酸基含有エトキシシランの収率)を求めた。スルホン酸基含有アルコキシシラン１でのスルホン化収率は７０％であった。
スルホン酸基含有アルコキシシラン１
滴下ロートを取り付けた２口の３００ｍｌの丸底フラスコに塩化メチレンを１００ｍｌ入れ、これにフェニルトリクロロシラン３９．１ｇ（０．１９ｍｏｌ）を加え、氷冷した。これに無水硫酸３７．３ｇ（０．４７ｍｏｌ）の塩化メチレン溶液２０ｍｌを、１時間かけて滴下した。滴下後外温を６０℃にし、還流下２時間反応を行いスルホン化反応を行った。次に、外温６０℃でエタノール４６．０gを塩化水素を除きながら１時間かけて滴下し、ついで外温を１００℃にし、塩化メチレンを留去した。さらに、エタノール４６．０ｇを滴下し、外温１００℃で２時間還流してエトキシ化反応を行った。得られた不純物を含むスルホン酸基含有エトキシシランのエタノール溶液１６２．７ｇをスルホン酸基含有アルコキシシラン１とし、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンのゾル−ゲル調製におけるスルホン酸成分の原料として用いた。この際、スルホン酸基含有アルコキシシラン１とテトラエトキシシランを任意の割合で混合し、ゾル−ゲル調製によりスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンを調製し、その固体酸量を測定する。その求めた酸量から得られる、仕込時のスルホン酸基含有アルコキシシラン１の濃度から、スルホン化収率(仕込みフェニルトリクロロシランに対する、生成したスルホン酸基含有エトキシシランの収率)を求めた。スルホン酸基含有アルコキシシラン１でのスルホン化収率は７０％であった。
スルホン酸基含有アルコキシシラン２
滴下ロートを取り付けた２口の３００ｍｌの丸底フラスコに塩化メチレンを１００ｍｌ入れ、これにフェニルトリクロロシラン１３０.０ｇ（０．６２ｍｏｌ）を加え、氷冷した。これに無水硫酸５０．０ｇ（０．６３ｍｏｌ）の塩化メチレン溶液２０ｍｌを、１時間かけて滴下した。滴下後、室温で１時間攪拌し、スルホン化反応を行った。次に、外温を１００℃にし塩化メチレンを留去した。ついで、外温１００℃で無水エタノール１１４gを塩化水素を除きながら、２時間かけて滴下しエトキシ化反応を行った。得られた不純物を含むフェニルスルホン酸基含有エトキシシランのエタノール溶液２１４．０ｇをスルホン酸基含有アルコキシシラン２とし、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンのゾル−ゲル調製におけるスルホン酸成分の原料として用いた。この際、スルホン酸基含有アルコキシシラン２とテトラエトキシシランを任意の割合で混合し、ゾル−ゲル調製によりスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンを調製し、その固体酸量を測定する。その求めた酸量から得られる、スルホン酸基含有アルコキシシラン２の濃度から、スルホン化収率(仕込みフェニルトリクロロシランに対する、生成したスルホン酸基含有エトキシシランの収率)を求めた。スルホン酸基含有アルコキシシラン２でのスルホン化収率は、４５％であった。
滴下ロートを取り付けた２口の３００ｍｌの丸底フラスコに塩化メチレンを１００ｍｌ入れ、これにフェニルトリクロロシラン１３０.０ｇ（０．６２ｍｏｌ）を加え、氷冷した。これに無水硫酸５０．０ｇ（０．６３ｍｏｌ）の塩化メチレン溶液２０ｍｌを、１時間かけて滴下した。滴下後、室温で１時間攪拌し、スルホン化反応を行った。次に、外温を１００℃にし塩化メチレンを留去した。ついで、外温１００℃で無水エタノール１１４gを塩化水素を除きながら、２時間かけて滴下しエトキシ化反応を行った。得られた不純物を含むフェニルスルホン酸基含有エトキシシランのエタノール溶液２１４．０ｇをスルホン酸基含有アルコキシシラン２とし、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンのゾル−ゲル調製におけるスルホン酸成分の原料として用いた。この際、スルホン酸基含有アルコキシシラン２とテトラエトキシシランを任意の割合で混合し、ゾル−ゲル調製によりスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンを調製し、その固体酸量を測定する。その求めた酸量から得られる、スルホン酸基含有アルコキシシラン２の濃度から、スルホン化収率(仕込みフェニルトリクロロシランに対する、生成したスルホン酸基含有エトキシシランの収率)を求めた。スルホン酸基含有アルコキシシラン２でのスルホン化収率は、４５％であった。
（２）有機高分子シロキサンの調製
触媒1
攪拌棒を取り付けた２口の１０００ｍｌの丸底フラスコに上記したスルホン酸基含有アルコキシシラン1を１３８．０ｇ（０．１１ｍｏｌ）、テトラエトキシシランを１１９．０ｇ（０．５７ｍｏｌ）、エタノール１００ｍｌを入れて混合した。これに水２４．０ｇを１５分かけて滴下し、６０℃で３時間攪拌した。放冷後、水１２０．０ｇを１分間かけて滴下し、さらに２８％アンモニア水３５ｍｌを滴下すると反応液は急速に固形化した。これを室温で４時間放置した後、６０℃で３日間熟成させた。熟成後１０ｍｍHgの減圧下１００℃で溶媒留去し、乾燥固体を得た。ついで２Ｎの塩酸３００ｍｌを加え、室温で３０分間攪拌する操作を２回繰り返し、スルホン酸基をＨ+型にもどした。酸処理後、イオン交換水５００ｍｌで洗浄し、これを１０ｍｍHgの減圧下１００℃で１０時間乾燥させた。以上の操作により、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン５５．１ｇを得、触媒１とした。この触媒１の固体酸量を測定したところ、１．４２ｍｅｑ／ｇであった。また、窒素ガス吸着法により測定した比表面積は４６４ｍ2／ｇ、細孔径９〜５００Åの細孔容積は０．２１ｃｃ／ｇ、細孔径２０〜５００Åでは細孔の存在は認められず、メソ孔存在割合は０％であった。結果を表１に示す。
触媒1
攪拌棒を取り付けた２口の１０００ｍｌの丸底フラスコに上記したスルホン酸基含有アルコキシシラン1を１３８．０ｇ（０．１１ｍｏｌ）、テトラエトキシシランを１１９．０ｇ（０．５７ｍｏｌ）、エタノール１００ｍｌを入れて混合した。これに水２４．０ｇを１５分かけて滴下し、６０℃で３時間攪拌した。放冷後、水１２０．０ｇを１分間かけて滴下し、さらに２８％アンモニア水３５ｍｌを滴下すると反応液は急速に固形化した。これを室温で４時間放置した後、６０℃で３日間熟成させた。熟成後１０ｍｍHgの減圧下１００℃で溶媒留去し、乾燥固体を得た。ついで２Ｎの塩酸３００ｍｌを加え、室温で３０分間攪拌する操作を２回繰り返し、スルホン酸基をＨ+型にもどした。酸処理後、イオン交換水５００ｍｌで洗浄し、これを１０ｍｍHgの減圧下１００℃で１０時間乾燥させた。以上の操作により、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン５５．１ｇを得、触媒１とした。この触媒１の固体酸量を測定したところ、１．４２ｍｅｑ／ｇであった。また、窒素ガス吸着法により測定した比表面積は４６４ｍ2／ｇ、細孔径９〜５００Åの細孔容積は０．２１ｃｃ／ｇ、細孔径２０〜５００Åでは細孔の存在は認められず、メソ孔存在割合は０％であった。結果を表１に示す。
触媒２
攪拌棒を取り付けた２口の１０００ｍｌの丸底フラスコに上記したスルホン酸基含有アルコキシシラン２を４２．０ｇ（０．０６ｍｏｌ）、テトラエトキシシラン１５０．０ｇ（０．７２ｍｏｌ）、エタノール１００ｍｌを入れて混合した。これに水２９．０ｇを１５分かけて滴下し、６０℃で３時間攪拌した。放冷後、水１４０．０ｇを１分間かけて滴下し、さらに２８％アンモニア水３５ｍｌを滴下すると反応液は急速に固形化した。これを室温で４時間放置した後、６０℃で３日間熟成させた。熟成後１０ｍｍHgの減圧下１００℃で溶媒留去し乾燥固体を得た。ついで２Ｎの塩酸３００ｍｌを加え、室温で３０分間攪拌する操作を２回繰り返し、スルホン酸基をＨ+型にもどした。酸処理後、イオン交換水５００ｍｌで洗浄し、これを１０ｍｍHgの減圧下１００℃で１０時間乾燥させスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン６２．０ｇを得、触媒２とした。この触媒２の固体酸量を測定したところ、０．８７ｍｅｑ／ｇであった。また、窒素ガス吸着法により測定した比表面積は７４１ｍ2／ｇであり、細孔径９〜５００Åの細孔容積は０．４９ｃｃ／ｇ、細孔径２０〜５００Åの細孔容積は０．１４ｃｃ／ｇでありメソ孔存在割合は３０％であった。結果を表１に示す。
攪拌棒を取り付けた２口の１０００ｍｌの丸底フラスコに上記したスルホン酸基含有アルコキシシラン２を４２．０ｇ（０．０６ｍｏｌ）、テトラエトキシシラン１５０．０ｇ（０．７２ｍｏｌ）、エタノール１００ｍｌを入れて混合した。これに水２９．０ｇを１５分かけて滴下し、６０℃で３時間攪拌した。放冷後、水１４０．０ｇを１分間かけて滴下し、さらに２８％アンモニア水３５ｍｌを滴下すると反応液は急速に固形化した。これを室温で４時間放置した後、６０℃で３日間熟成させた。熟成後１０ｍｍHgの減圧下１００℃で溶媒留去し乾燥固体を得た。ついで２Ｎの塩酸３００ｍｌを加え、室温で３０分間攪拌する操作を２回繰り返し、スルホン酸基をＨ+型にもどした。酸処理後、イオン交換水５００ｍｌで洗浄し、これを１０ｍｍHgの減圧下１００℃で１０時間乾燥させスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン６２．０ｇを得、触媒２とした。この触媒２の固体酸量を測定したところ、０．８７ｍｅｑ／ｇであった。また、窒素ガス吸着法により測定した比表面積は７４１ｍ2／ｇであり、細孔径９〜５００Åの細孔容積は０．４９ｃｃ／ｇ、細孔径２０〜５００Åの細孔容積は０．１４ｃｃ／ｇでありメソ孔存在割合は３０％であった。結果を表１に示す。
触媒３
Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａ１．，４３，４１（１９８７）記載の方法にしたがって、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンを調製した。攪拌棒を取り付けた２口の１０００ｍｌの丸底フラスコに、フェニルトリエトキシシラン７２．０ｇ（０．３０ｍｏｌ）、テトラエトキシシラン１４５．６ｇ（０．７０ｍｏｌ）、エタノール１２５ｍｌを入れて混合した。これに０．０１Ｎの塩酸３５ｍｌを滴下したのち、混合溶液の体積が１２０ｍｌとなるまで加熱攪拌した。放冷後、エタノール６０ｍｌとシクロヘキサン９０ｍｌを加え混合した。ついで、水２７０ｇを滴下し、さらにアンモニア水５０ｍｌを滴下した。これを室温で４時間攪拌した後、濾別した。ついで水洗し、これを減圧下１２０℃で乾燥させ、フェニル基を有する有機高分子シロキサン８０．０ｇを得た。
５００ｍｌの２口の丸底フラスコに、上記で得たフェニル基を有する有機高分子シロキサン１０．０ｇ、モル比でクロロスルホン酸：クロロホルム＝１：４の混合溶液２００ｍｌを混合し、還流下で３時間スルホン化を行いスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン８．５ｇを得、触媒３とした。この触媒３の固体酸量を測定したところ、１．１０ｍｅｑ／ｇであった。また、窒素ガス吸着法により測定した比表面積は７７２ｍ2／ｇであり、細孔径９〜５００Åの細孔容積は０．２１ｃｃ／ｇ、細孔径２０〜５００Åの細孔容積は０．０６ｃｃ／ｇでありメソ孔存在割合は３０％であった。結果を表１に示す。
Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａ１．，４３，４１（１９８７）記載の方法にしたがって、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンを調製した。攪拌棒を取り付けた２口の１０００ｍｌの丸底フラスコに、フェニルトリエトキシシラン７２．０ｇ（０．３０ｍｏｌ）、テトラエトキシシラン１４５．６ｇ（０．７０ｍｏｌ）、エタノール１２５ｍｌを入れて混合した。これに０．０１Ｎの塩酸３５ｍｌを滴下したのち、混合溶液の体積が１２０ｍｌとなるまで加熱攪拌した。放冷後、エタノール６０ｍｌとシクロヘキサン９０ｍｌを加え混合した。ついで、水２７０ｇを滴下し、さらにアンモニア水５０ｍｌを滴下した。これを室温で４時間攪拌した後、濾別した。ついで水洗し、これを減圧下１２０℃で乾燥させ、フェニル基を有する有機高分子シロキサン８０．０ｇを得た。
５００ｍｌの２口の丸底フラスコに、上記で得たフェニル基を有する有機高分子シロキサン１０．０ｇ、モル比でクロロスルホン酸：クロロホルム＝１：４の混合溶液２００ｍｌを混合し、還流下で３時間スルホン化を行いスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン８．５ｇを得、触媒３とした。この触媒３の固体酸量を測定したところ、１．１０ｍｅｑ／ｇであった。また、窒素ガス吸着法により測定した比表面積は７７２ｍ2／ｇであり、細孔径９〜５００Åの細孔容積は０．２１ｃｃ／ｇ、細孔径２０〜５００Åの細孔容積は０．０６ｃｃ／ｇでありメソ孔存在割合は３０％であった。結果を表１に示す。
触媒４
特開昭５９−２０３２５記載の方法にしたがって、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンを調製した。ボールミルで２時間粉砕した S2(CH2CH2CH2SiO2/3)2の単位からなるオルガノポリシロキサン８ｇを、イオン交換水５０ｍｌに懸濁させた。懸濁役に３５％の過酸化水素水水溶液１５４ｇを加え、室温で７時間攪拌した。引き続き固体を濾別し、水１０００ｍｌで洗浄し、減圧下１２０℃で８時間乾燥した。以上の操作によりスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン８．９ｇを得、触媒４とした。この触媒４の固体酸量を測定したところ、１．８２ｍｅｑ／ｇであった。また、窒素ガス吸着法により測定した比表面積は７４７ｍ2／ｇであり、細孔径９〜５００Åの細孔容積は０．４６ｃｃ／ｇ、細孔径２０〜５００Åの細孔容積は０．１１ｃｃ／ｇでありメソ孔存在割合は２４％であった。結果を表１に示す。
特開昭５９−２０３２５記載の方法にしたがって、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンを調製した。ボールミルで２時間粉砕した S2(CH2CH2CH2SiO2/3)2の単位からなるオルガノポリシロキサン８ｇを、イオン交換水５０ｍｌに懸濁させた。懸濁役に３５％の過酸化水素水水溶液１５４ｇを加え、室温で７時間攪拌した。引き続き固体を濾別し、水１０００ｍｌで洗浄し、減圧下１２０℃で８時間乾燥した。以上の操作によりスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン８．９ｇを得、触媒４とした。この触媒４の固体酸量を測定したところ、１．８２ｍｅｑ／ｇであった。また、窒素ガス吸着法により測定した比表面積は７４７ｍ2／ｇであり、細孔径９〜５００Åの細孔容積は０．４６ｃｃ／ｇ、細孔径２０〜５００Åの細孔容積は０．１１ｃｃ／ｇでありメソ孔存在割合は２４％であった。結果を表１に示す。
（１）メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒１を１５．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。２−（４−ピリジル）エタンチオール塩酸塩９．６ｍｍｏｌを２０ｍｌの水に溶解させた溶液を滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物で修飾した有機高分子シロキサン１５．８ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると、個体酸量は０．７３ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．７０ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の４９％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を、円筒形反応器（直径１．５０ｃｍ、長さ１５ｃｍ）に充填した。この反応器の下側から、モル比が５：１：０．４のフェノール／アセトン／水混合物を、１０．５ｇ／ｈｒの速度で触媒中を通過させた。反応温度は１００℃とし、２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は５８．５％であり、ビスフェノールＡの選択率は８８．２％であった。 反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は５８．５％であり、触媒の劣化はまったく認められなかった。表２に結果を示す。比較例1の触媒の劣化率４％と比較して、実施例１の触媒の劣化率は０％であり、活性低下が大きく抑制されていることがわかる。
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒１を１５．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。２−（４−ピリジル）エタンチオール塩酸塩９．６ｍｍｏｌを２０ｍｌの水に溶解させた溶液を滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物で修飾した有機高分子シロキサン１５．８ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると、個体酸量は０．７３ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．７０ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の４９％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を、円筒形反応器（直径１．５０ｃｍ、長さ１５ｃｍ）に充填した。この反応器の下側から、モル比が５：１：０．４のフェノール／アセトン／水混合物を、１０．５ｇ／ｈｒの速度で触媒中を通過させた。反応温度は１００℃とし、２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は５８．５％であり、ビスフェノールＡの選択率は８８．２％であった。 反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は５８．５％であり、触媒の劣化はまったく認められなかった。表２に結果を示す。比較例1の触媒の劣化率４％と比較して、実施例１の触媒の劣化率は０％であり、活性低下が大きく抑制されていることがわかる。
（１）メルカプトアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウムカチオンによる有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に、上記で得た触媒１を２０ｇ、水１００ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム酢酸塩１２．８ｍｍｏｌを、滴下ロートを用い３０分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し得られた触媒をガラス製カラムに充填した。触媒を充填したガラスカラムに、１，４ジオキサン／イオン交換水＝１／１の混合溶液を７００ｍｌ通液し、さらにイオン交換水１５００ｍｌをＬＨＳＶ１ｈｒ-1で通液し、溶媒を置換したのち濾別した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウムカチオンで修飾した有機高分子シロキサン２１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると、個体酸量は０．５８ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．４４ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の４３％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たテトラアンモニウムカチオン修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し、実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は４４．８％であり、ビスフェノールＡの選択率は８７．５％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は４４．８％であり、触媒の劣化率はまったく認められなかった。表２に結果を示す。比較例２の触媒２の劣化率１０％と比較して、実施例２の触媒の劣化率は０％であり、活性低下が大きく抑制されていることがわかる。
５００ｍｌビーカー中に、上記で得た触媒１を２０ｇ、水１００ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム酢酸塩１２．８ｍｍｏｌを、滴下ロートを用い３０分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し得られた触媒をガラス製カラムに充填した。触媒を充填したガラスカラムに、１，４ジオキサン／イオン交換水＝１／１の混合溶液を７００ｍｌ通液し、さらにイオン交換水１５００ｍｌをＬＨＳＶ１ｈｒ-1で通液し、溶媒を置換したのち濾別した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウムカチオンで修飾した有機高分子シロキサン２１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると、個体酸量は０．５８ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．４４ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の４３％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たテトラアンモニウムカチオン修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し、実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は４４．８％であり、ビスフェノールＡの選択率は８７．５％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は４４．８％であり、触媒の劣化率はまったく認められなかった。表２に結果を示す。比較例２の触媒２の劣化率１０％と比較して、実施例２の触媒の劣化率は０％であり、活性低下が大きく抑制されていることがわかる。
（１）メルカプトアルキル基を有するトリアルキルアミン化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒１を２０．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。３−メルカプトプロピルジメチルアミン１２．８ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を、滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するトリアルキルアミン化合物で修飾した有機高分子シロキサン２１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．７０ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．７１ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の５０％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たジメチルアミン修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は６９．６％であり、ビスフェノールＡの選択率は８７．５％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は６７．０％であり、触媒の劣化率は４％であった。表２に結果を示す。比較例３の触媒２の劣化率１５％と比較して、実施例３の触媒の劣化率は４％であり、活性低下が大きく抑制されていることがわかる。
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒１を２０．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。３−メルカプトプロピルジメチルアミン１２．８ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を、滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するトリアルキルアミン化合物で修飾した有機高分子シロキサン２１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．７０ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．７１ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の５０％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たジメチルアミン修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は６９．６％であり、ビスフェノールＡの選択率は８７．５％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は６７．０％であり、触媒の劣化率は４％であった。表２に結果を示す。比較例３の触媒２の劣化率１５％と比較して、実施例３の触媒の劣化率は４％であり、活性低下が大きく抑制されていることがわかる。
［比較例１］
(1)メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒２を１１．６ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。２−（４−ピリジル）エタンチオール４．５ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を、滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物で修飾した有機高分子シロキサン１１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．５３ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．４０ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の４３％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は５６．３％であり、ビスフェノールＡの選択率は８８．３％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は５４．１％であり、触媒の劣化率は４％であった。表２に結果を示す。
(1)メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒２を１１．６ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。２−（４−ピリジル）エタンチオール４．５ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を、滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物で修飾した有機高分子シロキサン１１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．５３ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．４０ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の４３％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は５６．３％であり、ビスフェノールＡの選択率は８８．３％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は５４．１％であり、触媒の劣化率は４％であった。表２に結果を示す。
［比較例２］
（１）メルカプトアルキルを有するテトラアルキルアンモニウムカチオンによる有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒２を１７．７ｇ、水２００ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム酢酸塩水溶液５．２ｍｍｏｌを、滴下ロートを用い３０分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し得られた触媒をガラス製カラムに充填した。触媒を充填したガラスカラムに１，４ジオキサン／イオン交換水＝１／１の混合溶液を７００ｍｌ通液し、さらにイオン交換水１５００ｍｌをＬＨＳＶ１ｈｒ-1で通液し、溶媒を置換したのち濾別した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウムカチオンで修飾した有機高分子シロキサン１７．８ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．５１ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．２６ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の３４％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たテトラアルキルアンモニウムカチオン修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は５６．３％であり、ビスフェノールＡの選択率は８８．４％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は５０．５％であり、触媒の劣化率は１０％であった。表２に結果を示す。
（１）メルカプトアルキルを有するテトラアルキルアンモニウムカチオンによる有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒２を１７．７ｇ、水２００ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−３−メルカプトプロピルアンモニウム酢酸塩水溶液５．２ｍｍｏｌを、滴下ロートを用い３０分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し得られた触媒をガラス製カラムに充填した。触媒を充填したガラスカラムに１，４ジオキサン／イオン交換水＝１／１の混合溶液を７００ｍｌ通液し、さらにイオン交換水１５００ｍｌをＬＨＳＶ１ｈｒ-1で通液し、溶媒を置換したのち濾別した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウムカチオンで修飾した有機高分子シロキサン１７．８ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．５１ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．２６ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の３４％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たテトラアルキルアンモニウムカチオン修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は５６．３％であり、ビスフェノールＡの選択率は８８．４％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は５０．５％であり、触媒の劣化率は１０％であった。表２に結果を示す。
［比較例３］
（１）メルカプトアルキル基を有するトリアルキルアンモニウム化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒２を２０．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。３−メルカプトプロピルジメチルアミン７．４ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を、滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するトリアルキルアンモニウム化合物で修飾した有機高分子シロキサン２１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．５１ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．３７ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の４２％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たジメチルアミン修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は５８．２％であり、ビスフェノールＡの選択率は８８．１％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は４９．３％であり、触媒の劣化率は１５％であった。表２に結果を示す。
（１）メルカプトアルキル基を有するトリアルキルアンモニウム化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒２を２０．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。３−メルカプトプロピルジメチルアミン７．４ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を、滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するトリアルキルアンモニウム化合物で修飾した有機高分子シロキサン２１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．５１ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．３７ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の４２％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たジメチルアミン修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は５８．２％であり、ビスフェノールＡの選択率は８８．１％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は４９．３％であり、触媒の劣化率は１５％であった。表２に結果を示す。
［比較例４］
(1)メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒３を１０．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。２−（４−ピリジル）エタンチオール４．９ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を、滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物で修飾した有機高分子シロキサン１０．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．５７ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．２２ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の２８％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は４７．９％であり、ビスフェノールＡの選択率は８２．７％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は４０．６％であり、触媒の劣化率は１５％であった。表２に結果を示す。
(1)メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒３を１０．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。２−（４−ピリジル）エタンチオール４．９ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を、滴下ロートを用い５分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物で修飾した有機高分子シロキサン１０．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は０．５７ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．２２ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の２８％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。２０時間後に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は４７．９％であり、ビスフェノールＡの選択率は８２．７％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は４０．６％であり、触媒の劣化率は１５％であった。表２に結果を示す。
［比較例５］
(1)メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒４を１０．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。２−（４−ピリジル）エタンチオール４．０ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を滴下ロートを用い２０分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物で修飾した有機高分子シロキサン１１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は１．２０ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．２６ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の１８％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は２４．１％であり、ビスフェノールＡの選択率は８２．６％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は２１．６％であり、触媒の劣化率は１０％であった。表２に結果を示す。
(1)メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物による有機高分子シロキサンの修飾
５００ｍｌビーカー中に上記で得た触媒４を１０．０ｇ、エタノール５０ｍｌを入れ、攪拌棒つき攪拌器で攪拌し懸濁させた。２−（４−ピリジル）エタンチオール４．０ｍｍｏｌを２０ｍｌのエタノールに溶解させた溶液を滴下ロートを用い２０分かけて滴下した。室温で３０分攪拌した後、濾別し水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、１００℃で４時間乾燥し、メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物で修飾した有機高分子シロキサン１１．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると個体酸量は１．２０ｍｍｏｌ／ｇ、固体メルカプト量は０．２６ｍｍｏｌ／ｇであった。すなわちスルホン酸基の１８％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾有機高分子シロキサン８．２ｇ（１１ｃｃ）を使用し実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は２４．１％であり、ビスフェノールＡの選択率は８２．６％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は２１．６％であり、触媒の劣化率は１０％であった。表２に結果を示す。
［比較例６］
(1)メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物によるイオン交換樹脂の修飾
ビーカー中に、イオン交換水１５０ｍｌに懸濁させたアンバーリスト３１（ローム＆ハース社製、交換容量５．０ｍｅｑ／ｇ）２１．０ｇに２−（４−ピリジル）エタンチオール塩酸塩２１．０ｍｍｏｌを２０ｍｌのイオン交換水に溶解させた溶液を、滴下ロートを用い３０分かけて滴下した。室温で６０分攪拌した後、濾別しイオン交換水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、８０℃で５時間乾燥し、メルカプトプロピル基含有ピリジン化合物で修飾したイオン交換樹脂２２．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると、３．９０ｍｅｑ／ｇ、固体メルカプト量は０．７７ｍｅｑ／ｇであった。すなわち、スルホン酸基の１７％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾イオン交換樹脂６．５ｇ（１１ｃｃ）を実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は７４．６％であり、ビスフェノールＡの選択率は８４．９％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は７１．２％であり、触媒の劣化率は５％であった。表２に結果を示す。
(1)メルカプトアルキル基を有するピリジン化合物によるイオン交換樹脂の修飾
ビーカー中に、イオン交換水１５０ｍｌに懸濁させたアンバーリスト３１（ローム＆ハース社製、交換容量５．０ｍｅｑ／ｇ）２１．０ｇに２−（４−ピリジル）エタンチオール塩酸塩２１．０ｍｍｏｌを２０ｍｌのイオン交換水に溶解させた溶液を、滴下ロートを用い３０分かけて滴下した。室温で６０分攪拌した後、濾別しイオン交換水５００ｍｌで洗浄した。さらに１０ｍｍＨｇの減圧下、８０℃で５時間乾燥し、メルカプトプロピル基含有ピリジン化合物で修飾したイオン交換樹脂２２．０ｇを得た。この固体酸量、固体メルカプト量を上記した方法により測定すると、３．９０ｍｅｑ／ｇ、固体メルカプト量は０．７７ｍｅｑ／ｇであった。すなわち、スルホン酸基の１７％がイオン交換された計算となる。
(２)ビスフェノールＡ合成反応
上記で得たピリジン化合物修飾イオン交換樹脂６．５ｇ（１１ｃｃ）を実施例１と同様にして、ビスフェノールＡ合成反応を行った。得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析した結果、アセトンの転化率は７４．６％であり、ビスフェノールＡの選択率は８４．９％であった。反応を継続し３００時間後に得られた反応生成物を同様に分析した結果、アセトンの転化率は７１．２％であり、触媒の劣化率は５％であった。表２に結果を示す。
Claims (5)
- 細孔径９〜５００Åの細孔容積に対し細孔径２０〜５００Åのメソポーラス部の細孔容積の存在割合が０〜２０％であるスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサンであって、該有機高分子シロキサンが下記（１）〜（３）に示す調製法のいずれかにより調製されたものであり、該スルホン酸基の４３〜９５％が下記一般式［１］〜一般式［３]で示されるメルカプト基を有する含窒素化合物から選択される１種以上により修飾されたスルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン。
（１）スルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランとテトラアルコキシシランとを任意の割合で混合し、加水分解、共縮合する調製法、
（２）水溶性のスルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランの加水分解物とテトラアルコキシシランとを任意の割合で混合し加水分解、共縮合する調製法、
（３）スルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランを有機高分子シロキサンに存在するシラノール基にシリル化しスルホン酸基を固定する調製法。
（一般式[１］中、ａは１〜６の整数である。）
（一般式［２］中、Ｒ １ 、Ｒ ２ 及びＲ ３ は、それぞれ独立に炭素数が１〜１０のアルキル基を表し、ｂは１〜６の整数である。）
（一般式［３］中、Ｒ ４ 及びＲ ５ は、それぞれ独立に炭素数が１〜１０のアルキル基を表し、ｃは１〜６の整数である。） - 前記スルホン酸基含有炭化水素基におけるスルホン酸基の４３〜５０％が前記一般式［１］〜一般式［３]で示されるメルカプト基を有する含窒素化合物から選択される１種以上により修飾されたスルホン酸基含有炭化水素基を有する請求項１記載の有機高分子シロキサン。
- 請求項１又は請求項２記載の有機高分子シロキサンからなる、脱水縮合反応、水和反応、または、アルキル化反応に用いる有機高分子シロキサン触媒。
- 請求項３に記載の有機高分子シロキサン触媒の存在下、アルデヒド類またはケトン類と、フェノール性水酸基を有する芳香属化合物を脱水縮合させ、アルキル化芳香族を製造する方法。
- 請求項３に記載の有機高分子シロキサン触媒の存在下、アセトンとフェノールよりビスフェノールＡを製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003397726A JP4571393B2 (ja) | 2002-11-27 | 2003-11-27 | 有機高分子シロキサン及びその用途 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002344072 | 2002-11-27 | ||
| JP2003397726A JP4571393B2 (ja) | 2002-11-27 | 2003-11-27 | 有機高分子シロキサン及びその用途 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004190021A JP2004190021A (ja) | 2004-07-08 |
| JP4571393B2 true JP4571393B2 (ja) | 2010-10-27 |
Family
ID=32774822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003397726A Expired - Fee Related JP4571393B2 (ja) | 2002-11-27 | 2003-11-27 | 有機高分子シロキサン及びその用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4571393B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006152263A (ja) * | 2004-10-27 | 2006-06-15 | Tokyo Institute Of Technology | 有機−無機ハイブリッド型メソポーラス材料、その製造方法及び固体触媒 |
| WO2015177756A1 (en) * | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Bridgestone Corporation | Rubber compound to produce tyres |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| Publication number | Publication date |
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| JPH0226607B2 (ja) | ||
| JP3927835B2 (ja) | ヨウ化芳香族化合物ジアセテートの製造方法 |
Legal Events
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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