DE4124427C2 - Schaltung zum Erzeugen einer inneren temperaturstabilisierten Versorgungsspannung - Google Patents
Schaltung zum Erzeugen einer inneren temperaturstabilisierten VersorgungsspannungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Schaltung der im Oberbegriff
des Patentanspruchs 1 genannten Art.
Eine derartige Schaltung zur temperaturstabilisierten Spannungsversorgung
von logischen Schaltungen mit einem Bezugsspannungsgenerator
der angegebenen Art ist aus IBM Technical
Disclosure Bulletin, Vol. 31, No. 11, April 1989, Seiten 361
bis 364 bekannt.
Eine Halbleiterspeichervorrichtung mit hoher Speicherkapazität
muß mit einer Versorgungsspannung versorgt werden, die
kleiner ist als die äußere Versorgungsspannung von 5 V, die
gewöhnlich in Computersystemen zugeführt wird. Zu diesem
Zweck muß ein innerer Versorgungsspannungsgenerator zusätzlich
zu der Speicherschaltung vorgesehen werden, um die
niedrige innere Versorgungsspannung abzugeben. Beispielsweise
enthält eine Halbleiter-DRAM-Vorrichtung mit 16 Mbit notwendigerweise
den inneren Versorgungsspannungsgenerator, um
eine hohe Zuverlässigkeit der Speichervorrichtung zu erzielen.
Aus EP 04 14 434 A2 ist beispielsweise ein herkömmlicher
Versorgungsspannungsgenerator bekannt, bei dem eine Temperaturstabilisierung
verwirklicht ist.
Ein weiterer herkömmlicher innerer
Versorgungsspannungsgenerator und seine Eigenschaften werden
unter Bezugnahme auf die Fig. 1 bis 3 erläutert.
Gemäß Fig. 1 enthält der innere
Versorgungsspannungsgenerator 100 den
Bezugsspannungsgenerator 50 und die Ausgangsschaltung 70,
die aus einem PMOS-Transistor 10 besteht, der als variabler
Widerstand dient. Die Spannungsausgänge vom
Bezugsspannungsgenerator 50 und von der Ausgangsschaltung 70
werden dann am Komparator 60 miteinander verglichen, der ein
Differenzverstärker ist, um die Spannung zu steuern, die dem
Gate des PMOS-Transistors 10 zugeführt wird. Der
Bezugsspannungsgenerator 50 hat erste und zweite Widerstände
R1, R2, die in Serie zwischen die äußere Versorgungsspannung
und Massepegel geschaltet sind, um an einem Verbindungspunkt
3 eine Bezugsspannung Vref zu erzeugen. Der Komparator 60
hat erste und zweite NMOS-Transistoren 6, 7, die einen
Differenzverstärker bilden, einen dritten NMOS-Transistor 8,
der als Konstantstromquelle dient, und erste und zweite
PMOS-Transistoren 4, 5, die eine Stromspiegellaststufe
bilden. Darüber hinaus ist der PMOS-Transistor 10 an seiner
Source mit der äußeren Versorgungsspannung Vccext verbunden,
während sein Drain mit der inneren Versorgungsspannung
Vccint an einem Ausgangsknoten 11 verbunden ist. In der
Zeichnung wird die Bezugsspannung Vref dem Gate des ersten
NMOS-Transistors 6 des Komparators 60 zugeführt. Im Falle,
daß der Laststrom vom Ausgangsknoten 11 zur
Speicherschaltung (nicht dargestellt) fließt, tritt ein
Spannungsabfall am PMOS-Transistor 10 der Ausgangsschaltung
70 auf. Als Folge davon wird die innere Versorgungsspannung
auf einen Spannungspegel gesetzt, der niedriger als die
äußere Versorgungsspannung ist. Gleichzeitig steuert der
Komparator 60 die Gatespannung des PMOS-Transistors 10
derart, daß der Pegel der inneren Versorgungsspannung
identisch auf dem Bezugsspannungspegel Vref gehalten wird.
Der innere Versorgungsspannungsgenerator muß an seinem Arbeitspunkt eine innere
Versorgungsspannung konstant halten ohne Rücksicht auf
Änderungen der äußeren Versorgungsspannung, damit die
Halbleiterspeichervorrichtung in hohem Maße zuverlässig
bleibt. Unerwünschterweise weist der bekannte innere
Versorgungsspannungsgenerator 100 von Fig. 1 die
Spannungsdifferenz ΔV gemäß Fig. 2 in Abhängigkeit von
einer Steigerung der äußeren Versorgungsspannung auf. Dieses
Problem wird durch die Tatsache verursacht, daß die
Bezugsspannung Vref vom Bezugsspannungsgenerator 50 der
Gleichung Vref = Vccext·R2/(R1+R2) gehorcht. Die
Bezugsspannung Vref nimmt daher zu, wenn die äußere
Versorgungsspannung zunimmt, wodurch die innere
Versorgungsspannung steigt. Dementsprechend kann die
Zuverlässigkeit der Halbleitervorrichtung leiden.
Bezugnehmend auf Fig. 3 besteht ein anderer
Bezugsspannungsgenerator 50 aus ersten bis dritten
PMOS-Transistoren 12, 13, 14, die in Serie miteinander
geschaltet sind, und vierten und fünften PMOS-Transistoren
15, 16, die in Serie miteinander geschaltet sind, wobei die
ersten bis dritten PMOS-Transistoren parallel zu den vierten
und fünften PMOS-Transistoren geschaltet sind. Die Gates und
Drains der ersten bis fünften PMOS-Transistoren 12 bis 16
sind jeweils in Diodenschaltung verschaltet, und weiterhin
ist das Gate des vierten PMOS-Transistors 15 mit der Source
des dritten PMOS-Transistors 14 verbunden. Die Source des
dritten PMOS-Transistors 14 ist außerdem so angeschlossen,
daß der Gatespannungspegel des vierten PMOS-Transistors 15
auf Vccext/3 eingestellt wird, die Source des vierten
PMOS-Transistors 15 dient als Ausgangsknoten 17, wodurch der
Bezugsspannungsgenerator 50 die Bezugsspannung Vref über den
Ausgangsknoten 17 erzeugt. Wenn die Temperatur zunimmt,
nimmt jedoch die Schwellenspannung Vth des betreffenden
PMOS-Transistors in diesem Bezugsspannungsgenerator 50
ab. Die Bezugsspannung Vref wird damit vermindert. Wenn der
Bezugsspannungspegel sinkt, nimmt aber auch die innere
Versorgungsspannung ab, was dazu führt, daß die
Halbleiterspeichervorrichtung mit geringerer Geschwindigkeit
arbeitet.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Schaltung der eingangs
genannten Art hinsichtlich der Temperaturstabilisierung
weiter so zu verbessern, daß eine von ihr versorgte
Halbleiterspeichervorrichtung mit stabiler, konstanter Geschwindigkeit
ohne Rücksicht auf Temperaturänderungen arbeitet.
Diese Aufgabe ist durch die im kennzeichnenden Teil des
Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst.
Die Erfindung wird anhand der Figuren erläutert. Dabei
zeigt
Fig. 1 einen konventionellen inneren Versorgungsspannungs
generator,
Fig. 2 die Ausgangscharakteristik des Generators gemäß
Fig. 1,
Fig. 3 eine alternative Ausführungsform des Bezugsspannungsgenerators
gemäß Fig. 1,
Fig. 4 ein Beispiel eines Vrsorgungsspannungsgenerators
gemäß dem Stand der Technik im Blockschaltbild,
Fig. 5 die Ausgangscharakteristik des inneren Versorgungs
spannungsgenerators gemäß Fig. 4 (ohne zusätzliche
Temperaturkompensation der Spannungsteilerschaltung),
Fig. 6 eine Ausführungsform der Erfindung, bei der die
temperaturabhängigen Widerstandseinrichtungen als
MOS-Transistoren verwirklicht sind,
Fig. 7 eine Tabelle zur Darstellung des Zunahmeverhältnisses
der Stromtreiberleistung eines MOS-Transistors
in Abhängigkeit von Temperaturänderungen.
Bezugnehmend auf Fig. 4 wird erläutert, wie eine Spannungsteilerschaltung
80 mit einem Komparator 60 und einer Ausgangsschaltung
70 verbunden ist. Ein Bezugsspannungsgenerator
50, an dem eine äußere Versorgungsspannung liegt, erzeugt
eine Bezugsspannung Vref. Der Komparator 60, der mit
dem Ausgang des Bezugsspannungsgenerators 50 verbunden ist,
vergleicht eine erste Eingangsspannung, die die Bezugsspannung
Vref ist, mit einer zweiten Eingangsspannung. Der Ausgang
des Komparators 60 wird einem Eingangsanschluß der Ausgangsschaltung
70 zur Erzeugung der inneren Versorgungsspannung
zugeführt. Die Spannungsteilerschaltung 80, die mit der
Ausgangsschaltung 70 verbunden ist, erzeugt die zweite Eingangsspannung
an einem Ausgangsknoten derselben, was es erlaubt,
daß der Ausgangsspannungspegel der Ausgangsschaltung
70 in Abhängigkeit von einer Temperatursteigerung zunimmt.
Es sei weiterhin angemerkt, daß die Spannungsteilerschaltung
80 erste und zweite variable Lastwiderstände R′₁, R′₂ hat,
von denen die Widerstände in Abhängigkeit von Temperatursteigerungen
zunehmen, wobei der Widerstand des ersten variablen
Lastwiderstandes R′₁ größer als der des zweiten variablen
Lastwiderstandes R′₂ ist. Weiterhin ist das Verhältnis
der Widerstandssteigerung zur Temperatursteigerung beim
ersten variablen Lastwiderstand R′₁ größer als das beim
zweiten variablen Lastwiderstand R′₂.
Die Ausgangsspannung Vccint des inneren
Versorgungsspannungsgenerators 100 von Fig. 4 kann
geschrieben werden als
wobei das Verhältnis der Widerstandsvariation zur Temperaturänderung
R′₁ < R′₂ ist. Aus Vorangehendem ergibt sich,
daß mit Zunahme der Temperatur das
Widerstandszunahmeverhältnis des ersten variablen Lastwiderstandes
R′₁ größer als das des zweiten variablen Lastwiderstandes
R′₂ wird, wodurch die innere Versorgungsspannung
Vccint zunimmt.
Wie in Fig. 5 dargestellt ist, steigt die innere Versorgungsspannung
mit zunehmender Temperatur und es bestand das
Problem der konventionellen Schaltung darin, daß, wenn die
Temperatur zunimmt, die Bezugsspannung Vref des
Bezugsspannungsgenerators abnimmt, was zu einer unerwünschten
niedrigen inneren Versorgungsspannung führte sowie zu
dem Problem, daß, wenn die äußere Versorgungsspannung zunimmt,
die Bezugsspannung ebenfalls zunimmt, was zu der instabilen
inneren Versorgungsspannung führt.
Beide Probleme werden von der Erfindung überwunden.
Eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltung im
Detail wird nun unter Bezugnahme auf Fig. 6 erläutert. Der
Bezugsspannungsgenerator 50 hat eine Konstantstromquelle 31,
von der ein Eingang mit der äußeren
Versorgungsspannung Vccext verbunden ist. Ein Ausgangsknoten
38 ist mit dem Ausgang der Konstantstromquelle 31 verbunden,
und eine Schaltung ist zwischen den Ausgangsanschluß und
Massepegel geschaltet, um den Spannungspegel am
Ausgangsanschluß 38 auf einen vorbestimmten Pegel
abzusenken.
Die Pegelabsenkschaltung hat einen ersten Widerstand 35, der
mit dem Ausgangsanschluß 38 verbunden ist, wobei das andere
Ende des ersten Widerstandes 35 mit dem Kollektor und der
Basis eines ersten bipolaren Transistors 32 verbunden ist,
dessen Emitter mit Massepegel verbunden ist. Ein zweiter
Widerstand 36 ist am einen Ende mit dem Ausgangsanschluß 38
verbunden und ist mit dem Kollektor eines zweiten bipolaren
Transistors 33 verbunden, dessen Basis mit dem Kollektor des
ersten bipolaren Transistors 32 verbunden ist und dessen
Emitter mit Massepegel über einen dritten Widerstand 37
verbunden ist. Darüber hinaus ist der Ausgangsanschluß 38
mit dem Kollektor eines dritten bipolaren Transistors 34
verbunden, dessen Basis mit dem Kollektor des zweiten
bipolaren Transistors 33 und dessen Emitter mit Massepegel
verbunden sind.
Der Komparator 60 hat einen ersten PMOS-Transistor 39, von
dem die Source mit der äußeren Versorgungsspannung verbunden
ist, und einen zweiten PMOS-Transistor 40, von dem die
Source mit der äußeren Versorgungsspannung verbunden ist.
Das Gate des ersten PMOS-Transistors 39 ist mit dem Gate und
dem Drain des zweiten PMOS-Transistors 40 verbunden. Das
Gate eines ersten NMOS-Transistors 41 ist mit einer ersten
Eingangsspannung, d. h. der Bezugsspannung Vref verbunden.
Darüber hinaus ist der erste NMOS-Transistor 41 mit seinem
Drain mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors 39
verbunden, und seine Source ist mit der Source eines zweiten
NMOS-Transistors 43 verbunden, von dem das Drain mit dem
Drain des zweiten PMOS-Transistors 40 und das Gate mit der
zweiten Eingangsspannung verbunden ist. Die Sources der
ersten und zweiten NMOS-Transistoren 41 und 43 sind mit dem
Drain eines dritten NMOS-Transistors 42 verbunden, von dem
die Source mit Massepegel und das Gate mit der ersten
Eingangsspannung verbunden sind. Der Verbindungspunkt 44 der
Drains des ersten PMOS-Transistors 39 und des ersten
NMOS-Transistors 41 dient als Ausgangsanschluß des
Komparators 60.
Die Ausgangsschaltung 70 besteht aus einem PMOS-Transistor,
dessen Source mit der äußeren Versorgungsspannung Vccext und
dessen Gate mit dem Ausgangsanschluß 44 des Komparators 60
verbunden sind. Das Drain des PMOS-Transistors 45 ist mit
einem Ausgangsanschluß 49 verbunden, über den die innere
Versorgungsspannung Vccint erzeugt wird.
Die Spannungsteilerschaltung 80 besteht aus einem ersten
PMOS-Transistor 46, dessen Source mit dem Ausgangsanschluß
49 der Ausgangsschaltung 70 verbunden ist und dessen Gate
und Drain in Diodenschaltung verschaltet sind. Ein zweiter
PMOS-Transistor 47 ist an seiner Source mit dem Drain des
ersten PMOS-Transistors 46 verbunden, und sein Gate und sein
Drain sind in Diodenschaltung mit Massepegel verbunden.
Darüber hinaus ist ein Ausgangsanschluß 48, an den Drain und
Source der ersten und zweiten PMOS-Transistoren
angeschlossen sind, mit der zweiten Eingangsspannung
verbunden.
Um eine konstante Bezugsspannung Vref ohne Rücksicht auf
Temperaturänderungen zu erzeugen, besteht der
Bezugsspannungsgenerator 50 aus bipolaren Transistoren,
wie dies beim bekannten Stand der Technik schon der Fall ist.
Beispielsweise ist die Ausgangsspannung des
erfindungsgemäßen Bezugsspannungsgenerators 50 gleich
wobei VBE die Basis-Emitter-Spannung des dritten bipolaren
Transistors 34, Vt die thermoelektrische Spannung, Rb und Rc
die zweiten und dritten Widerstände 36 bzw. 37 und IS1 und
IS2 die Kollektorsättigungsströme der ersten und zweiten
bipolaren Transistoren 32 und 33 sind. Der
Bezugsspannungsgenerator 50 ist derart aufgebaut, daß die
Basis-Emitterspannung VBE mit einem negativen
Temperaturkoeffizienten von -2,2 mV/°C und die
thermoelektrische Spannung Vt mit einem positiven
Temperaturkoeffizienten von 0,085 mV/°C in Kombination
miteinander einen Temperaturkoeffizienten von Null ergeben.
Anders als beim konventionellen Bezugsspannungsgenerator,
der PMOS-Transistoren mit negativen Temperaturkoeffizienten
von -3 mV/°C verwendet, kann der
Bezugsspannungsgenerator 50 eine stabile, konstante
Bezugsspannung Vref ohne Rücksicht auf Temperaturänderungen
erzeugen.
Bei dieser Schaltung ist erfindungsgemäß die Spannungsteilerschaltung 80 so
angeschlossen, daß sie die Bezugsspannung Vref und dadurch
die innere Versorgungsspannung Vccint anhebt, wenn die
Temperatur zunimmt. Zu diesem Zweck ist die
Kanalleitfähigkeit g1(= ∂IDS/∂VDS) des ersten
PMOS-Transistors 46 kleiner als die Kanalleitfähigkeit g2
des zweiten PMOS-Transistors 47. Der Kanalwiderstand des
ersten PMOS-Transistors ist daher größer als der des zweiten
PMOS-Transistors. Es ist bekannt, daß die Leitfähigkeit
reziprok zum Widerstand ist. Aus Vorangehendem ergibt sich,
daß die Stromtreiberleistung für einen MOS-Transistor mit
hohem Kanalwiderstand vermindert wird. Im allgemeinen ist
ein MOS-Transistor mit einem langen Kanal
temperaturabhängiger als ein MOS-Transistor mit kurzen
Kanal. Die Variation des Kanalwiderstandes ist mit Hilfe
des MOS-Widerstands mit großer Kanallänge
daher vergleichsweise beachtlich.
Der innere Versorgungsspannungsgenerator von Fig. 6 im
Betrieb bei normaler Temperatur von 25°C wird nachfolgend
erläutert. Die Bezugsspannung Vref vom
Bezugsspannungsgenerator 50 wird in Gates der ersten und
dritten NMOS-Transistoren 41, 42 zugeführt. Wenn in diesem
Augenblick diese Spannung größer als die am Gate des zweiten
NMOS-Transistors 43 des Komparators 60 liegende Spannung
ist, wird eine gegebene Spannung an den Ausgangsanschluß 49
der Ausgangsschaltung 70 geladen. Im Falle, daß die
Bezugsspannung Vref auf dem gleichen Pegel wie die
Ausgangsspannung der Spannungsteilerschaltung 80 ist, wird
die innere Versorgungsspannung Vccint durch die
Spannungsteilerschaltung 80 konstant gehalten. Wenn kurze
Zeit später die Temperatur auf über 83°C ansteigt, wird der
Stromfluß im ersten PMOS-Transistor 46 der
Spannungsteilerschaltung 80 vermindert. Daher wird eine
Spannung, die geringer als die während der normalen
Temperatur ist, dem Gate des zweiten NMOS-Transistors 43 des
Komparators 60 zugeführt. Daher wird an den Ausgangsanschluß
44 des Komparators 60 eine Spannung angelegt, die niedriger
als die während der normalen Temperatur ist, und daher wird
die Spannung am Ausgangsanschluß 49, d. h. die innere
Versorgungsspannung Vccint der Ausgangsschaltung 70 erhöht.
Wenn die Temperatur mehr und mehr ansteigt, wird der
Stromfluß, der sich im Kanal des ersten PMOS-Transistors 46
der Spannungsteilerschaltung 80 ausbildet, mehr und mehr
vermindert, so daß die innere Versorgungsspannung am
Ausgangsanschluß 49 der Ausgangsschaltung 70 mit steigender
Temperatur zunimmt. Als Folge wird die Zerstörung des
MOS-Transistors aufgrund der Temperaturänderung vermieden,
und es kann erreicht werden, daß die
Halbleiterspeichervorrichtung stabil arbeitet.
Zum besseren Verständnis der Spannungsteilerschaltung 80
gemäß der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend eine
Tabelle gemäß Fig. 7 erläutert, bei der das Abfallverhältnis
der Stromtreiberleistung im Detail für MOS-Transistoren
dargestellt ist, deren Gateoxidschicht 160 Å dick ist.
Nachfolgend wird der Einfachheit halber der PMOS-Transistor
zusammen mit dem NMOS-Transistor beschrieben. Die sich auf
den PMOS-Transistor beziehenden Tatsachen sind in Klammern
hinzugesetzt. Der Tabelle wird die Stromtreiberleistung für
den NMOS(PMOS)-Transistor unter der Bedingung gemessen, daß
die zugeführten Gate- und Drainspannungen bei +4,0 V (-4,0 V)
sind und die Substrat-Source-Spannung -2,0 V (0 V) ist. Das
Abnahmeverhältnis der Stromtreiberleistung bei 85°C ist im
Vergleich zu dem Verhältnis bei 25°C dargestellt. Der
Fachmann erkennt, daß das hohe Abnahmeverhältnis der
Stromtreiberleistung ein hohes Steigerungsverhältnis des
Kanalwiderstandes in Abhängigkeit von der Temperaturzunahme
beim MOS-Transistor bedeutet. Da die Kanalleitfähigkeit des
MOS-Transistors niedrig gemacht ist, ist sein
Kanalwiderstand hoch und daher das
Widerstandssteigerungsverhältnis ebenfalls hoch.
Claims (5)
1. Schaltung für die temperaturstabilisierte
Spannungsversorgung einer Halbleiterspeichervorrichtung,
die aus einer externen Versorgungsspannung (VCCext) eine
herabgesetzte interne Versorgungsspannung (VCCint)
erzeugt, mit
- (a) einem Bezugsspannungsgenerator (50), der einen ersten Widerstand (35), von dem ein Anschluß mit dem sie Bezugsspannung (Vref) abgebenden Ausgang (38) und von dem der andere Anschluß mit dem Kollektor und der Basis eines ersten bipolaren Transistors (32) verbunden ist, einen zweiten Widerstand (36), von dem ein Anschluß mit dem Ausgang (38) und von dem der andere Anschluß mit dem Kollektor eines zweiten bipolaren Transistors (33) und der Basis eines dritten bipolaren Transistors (34) verbunden ist, und der einen dritten Widerstand (37) aufweist, von dem ein Anschluß eines mit dem Emitter des zweiten bipolaren Transistors (33) und von dem der andere Anschluß mit Masse verbunden ist, wobei die Basis des zweiten bipolaren Transistors (32) und die Emitter des ersten und dritten bipolaren Transistors (32, 34) mit Masse mit dem Ausgang (38) verbunden sind;
- (b) einem Komparator (60), dessen Eingängen die Bezugsspannung (Vref) und eine von der internen Versorgungsspannung (VCCint) abgeleitete Spannung zugeführt sind, und
- (c) einer die interne Versorgungsspannung (VCCint) abgebenden
steuerbaren Halbleiterschaltung (70), deren Steueranschluß
mit dem Ausgang (44) des Komparator (60) verbunden
ist,
gekennzeichnet durch - (d) eine Spannungsteilerschaltung (80) mit ersten und zweiten
temperaturabhängigen änderbaren Widerstandseinrichtungen
(46, 47) die zwischen einem die interne Versorgungsspannung
(VCCint) führenden Anschluß (49) und Masse miteinander in
Reihe geschaltet sind und zwischen sich einen Ausgangsanschluß
(48) bilden, wobei
die interne Versorgungsspannung (VCCint) im Ansprechen auf eine Temperaturerhöhung der Halbleiterspeichervorrichtung durch Vergrößern des Widerstandes der beiden Widerstandseinrichtungen (46, 47) erhöht wird, um damit die Größe einer an ihrem Ausgangsanschluß (48) abgegebenen Rückkopplungsspannung für den Komparator (60) zu verringern, und
die ersten und zweiten temperaturabhängigen Widerstandseinrichtungen (46, 47) ein Kanalwiderstandsverhältnis haben, das sich im Ansprechen auf eine Temperaturerhöhung der Halbleiterspeichervorrichtung vergrößert, wobei die erste temperaturabhängige Widerstandseinrichtung (46) einen größeren Kanalwiderstand als die zweite temperaturabhängige Widerstandseinrichtung (47) hat.
2. Schaltung nach Anspruch 1, bei der die ersten und zweiten
temperaturabhängigen Widerstandseinrichtungen aufweisen:
einen ersten MOS-Transistor (46), von dem ein Kanalende mit dem Ausgangsanschluß (48) und das andere Kanalende und das Gate in Diodenschaltung mit dem die interne Versorgungsspannung (VCCint) führenden Anschluß (49) verbunden sind, sowie
einen zweiten MOS-Transistor (47), von dem ein Kanalende mit dem Ausgangsanschluß (48) und das andere Kanalende und das Gate in Diodenschaltung mit Masse verbunden sind, wobei der erste MOS-Transistor (46) einen Kanal aufweist, der länger ist als der des zweiten MOS-Transistors (47).
einen ersten MOS-Transistor (46), von dem ein Kanalende mit dem Ausgangsanschluß (48) und das andere Kanalende und das Gate in Diodenschaltung mit dem die interne Versorgungsspannung (VCCint) führenden Anschluß (49) verbunden sind, sowie
einen zweiten MOS-Transistor (47), von dem ein Kanalende mit dem Ausgangsanschluß (48) und das andere Kanalende und das Gate in Diodenschaltung mit Masse verbunden sind, wobei der erste MOS-Transistor (46) einen Kanal aufweist, der länger ist als der des zweiten MOS-Transistors (47).
3. Schaltung nach Anspruch 1 oder 2, bei der der Komparator
(60) enthält:
einen ersten PMOS-Transistor (39), von dem die Source mit der externen Versorgungsspannung (VCCext) verbunden ist,
einen zweiten PMOS-Transistor (40), von dem die Source mit der externen Versorgungsspannung (VCCext) verbunden ist, das Gate und das Drain zusammen mit dem Gate des ersten PMOS-Transistors (39) verbunden sind,
einen ersten NMOS-Transistor (41), von dem das Gate mit dem ersten Eingang und das Drain mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors (39) verbunden sind,
einen zweiten NMOS-Transistor (43), von dem das Gate mit dem zweiten Eingang und das Drain mit dem Drain des zweiten PMOS-Transistors (40) verbunden sind,
einen dritten NMOS-Transistor (42), von dem das Gate mit dem ersten Eingang, die Source mit Masse und das Drain mit den Sources der ersten und zweiten NMOS-Transistoren (41, 43) verbunden sind, und
einen Ausgang (44), der an der Verbindung der Drains von erstem PMOS-Transistor (39) und erstem NMOS-Transistor (41) ausgebildet ist.
einen ersten PMOS-Transistor (39), von dem die Source mit der externen Versorgungsspannung (VCCext) verbunden ist,
einen zweiten PMOS-Transistor (40), von dem die Source mit der externen Versorgungsspannung (VCCext) verbunden ist, das Gate und das Drain zusammen mit dem Gate des ersten PMOS-Transistors (39) verbunden sind,
einen ersten NMOS-Transistor (41), von dem das Gate mit dem ersten Eingang und das Drain mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors (39) verbunden sind,
einen zweiten NMOS-Transistor (43), von dem das Gate mit dem zweiten Eingang und das Drain mit dem Drain des zweiten PMOS-Transistors (40) verbunden sind,
einen dritten NMOS-Transistor (42), von dem das Gate mit dem ersten Eingang, die Source mit Masse und das Drain mit den Sources der ersten und zweiten NMOS-Transistoren (41, 43) verbunden sind, und
einen Ausgang (44), der an der Verbindung der Drains von erstem PMOS-Transistor (39) und erstem NMOS-Transistor (41) ausgebildet ist.
4. Schaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei der
die steuerbare Halbleiterschaltung (70) enthält:
einen PMOS-Transistor (45), von dem die Source mit der externen Versorgungsspannung (VCCext) und das Gate mit dem Ausgang (44) des Komparators (60) verbunden sind, und
den Ausgangsanschluß (49), der mit dem Drain des PMOS-Transistors (45) verbunden ist.
einen PMOS-Transistor (45), von dem die Source mit der externen Versorgungsspannung (VCCext) und das Gate mit dem Ausgang (44) des Komparators (60) verbunden sind, und
den Ausgangsanschluß (49), der mit dem Drain des PMOS-Transistors (45) verbunden ist.
5. Schaltung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, bei der die
ersten und zweiten MOS-Transistoren (46, 47) der Spannungsteilerschaltung
(80) PMOS-Transistoren sind.
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