JPH06122765A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents
半導体封止用樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH06122765A JPH06122765A JP23469892A JP23469892A JPH06122765A JP H06122765 A JPH06122765 A JP H06122765A JP 23469892 A JP23469892 A JP 23469892A JP 23469892 A JP23469892 A JP 23469892A JP H06122765 A JPH06122765 A JP H06122765A
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- JP
- Japan
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- silica
- resin composition
- polymaleimide
- bis
- allyl
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- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 エポキシ樹脂よりも耐熱性の優れるポリマレ
イミド樹脂は、一般に、成形加工性が悪く、硬化物の強
度も低い。このポリマレイミド樹脂の半導体封止材とし
ての特性を向上させることを目的とする。 【構成】 本発明の樹脂組成物は、A.ポリマレイミ
ド、B.分子内に2個以上のアリル基を有するアリルフ
ェノール化合物、C.特定構造を有するポリアミノシロ
キサン、D.シリカ、E.アミノ基を有するオルガノア
ルコキシシラン化合物の5成分を必須成分とすることを
特徴とする。 【効果】 上述したA〜Eの5成分を必須成分とする樹
脂組成物によれば、成形加工性、特に流動性に優れてお
り、機械的強度の大きい硬化物を得ることができる。ま
た、耐熱性を下げることなく、シリカの添加による弾性
率低下効果が十分に発揮され、半導体封止用の樹脂組成
物として極めて有用である。
イミド樹脂は、一般に、成形加工性が悪く、硬化物の強
度も低い。このポリマレイミド樹脂の半導体封止材とし
ての特性を向上させることを目的とする。 【構成】 本発明の樹脂組成物は、A.ポリマレイミ
ド、B.分子内に2個以上のアリル基を有するアリルフ
ェノール化合物、C.特定構造を有するポリアミノシロ
キサン、D.シリカ、E.アミノ基を有するオルガノア
ルコキシシラン化合物の5成分を必須成分とすることを
特徴とする。 【効果】 上述したA〜Eの5成分を必須成分とする樹
脂組成物によれば、成形加工性、特に流動性に優れてお
り、機械的強度の大きい硬化物を得ることができる。ま
た、耐熱性を下げることなく、シリカの添加による弾性
率低下効果が十分に発揮され、半導体封止用の樹脂組成
物として極めて有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体封止用樹脂組成物
に関するものであり、成形時の流動性と硬化特性に優
れ、かつ曲げ強度の高い硬化物を与える、耐熱性の高い
ポリマレイミド樹脂組成物に関するものである。
に関するものであり、成形時の流動性と硬化特性に優
れ、かつ曲げ強度の高い硬化物を与える、耐熱性の高い
ポリマレイミド樹脂組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、熱硬化性樹脂としてはエポキシ樹
脂が数多く用いられてきた。しかし、近年、成形品に対
する使用条件がますます苛酷となり、その結果、すべて
の特性を満足することがエポキシ樹脂では次第に困難に
なってきている。エポキシ樹脂よりも更に耐熱性の高い
熱硬化性樹脂としてはポリマレイミド樹脂がよく知られ
ているが、一般にポリマレイミド樹脂は融点または軟化
温度が高く、成形加工性が必ずしも良好とは言い難かっ
た。さらに、得られた硬化物は弾性率が高く、破断伸び
が小さいため、強度が低くなり、その結果脆いものしか
得られなかった。
脂が数多く用いられてきた。しかし、近年、成形品に対
する使用条件がますます苛酷となり、その結果、すべて
の特性を満足することがエポキシ樹脂では次第に困難に
なってきている。エポキシ樹脂よりも更に耐熱性の高い
熱硬化性樹脂としてはポリマレイミド樹脂がよく知られ
ているが、一般にポリマレイミド樹脂は融点または軟化
温度が高く、成形加工性が必ずしも良好とは言い難かっ
た。さらに、得られた硬化物は弾性率が高く、破断伸び
が小さいため、強度が低くなり、その結果脆いものしか
得られなかった。
【0003】マレイミド樹脂とアリルフェノール系化合
物等を混合することで、樹脂硬化物の特性を向上させた
例としては、熱硬化性のポリマレイミド樹脂とo,o′
−ジアリルビスフェノールAとの樹脂組成物については
公告特許公報昭55−39242号、ビスマレイミド化
合物とビスフェノールSのジアリルエーテル化物との組
成物については公開特許公報昭53−134099号、
ビスマレイミド化合物とフェノールノボラックのアリル
エーテル化物との組成物については公開特許公報昭62
−11716号などが知られている。さらに、IC、L
SIの表面での熱ストレスを軽減するため、プラスチッ
ク封止用として熱膨張係数の低いシリカを加えることが
知られており、ビスマレイミド化合物にシリカを加え半
導体封止用に開発された樹脂組成物については公開特許
公報昭63−230728号などの例が知られている。
物等を混合することで、樹脂硬化物の特性を向上させた
例としては、熱硬化性のポリマレイミド樹脂とo,o′
−ジアリルビスフェノールAとの樹脂組成物については
公告特許公報昭55−39242号、ビスマレイミド化
合物とビスフェノールSのジアリルエーテル化物との組
成物については公開特許公報昭53−134099号、
ビスマレイミド化合物とフェノールノボラックのアリル
エーテル化物との組成物については公開特許公報昭62
−11716号などが知られている。さらに、IC、L
SIの表面での熱ストレスを軽減するため、プラスチッ
ク封止用として熱膨張係数の低いシリカを加えることが
知られており、ビスマレイミド化合物にシリカを加え半
導体封止用に開発された樹脂組成物については公開特許
公報昭63−230728号などの例が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述した特開
昭63−230728においては、どの様な表面処理剤
が適しているかについては、具体的に実施例に示されて
いない。また、ポリマレイミドとアミノポリシロキサン
との組成物においては公開特許公報平2−222419
号の例が知られているが、ポリマレイミドとアミノポリ
シロキサンとの直接的な反応についての記述に留まって
おり、更に添加剤を加えることについては記述がない。
昭63−230728においては、どの様な表面処理剤
が適しているかについては、具体的に実施例に示されて
いない。また、ポリマレイミドとアミノポリシロキサン
との組成物においては公開特許公報平2−222419
号の例が知られているが、ポリマレイミドとアミノポリ
シロキサンとの直接的な反応についての記述に留まって
おり、更に添加剤を加えることについては記述がない。
【0005】前述の如く、半導体用のプラスチック封止
材においては、熱ストレスの軽減のために、熱膨張係数
の低いシリカを配合することが必要であるが、シリカを
単純にふやしていくと得られる樹脂組成物の成形時の流
動性が低下し、望みの成形が充分に行えないことが予想
される。また樹脂成分が相対して減少するため機械的強
度が低下する可能性がある。
材においては、熱ストレスの軽減のために、熱膨張係数
の低いシリカを配合することが必要であるが、シリカを
単純にふやしていくと得られる樹脂組成物の成形時の流
動性が低下し、望みの成形が充分に行えないことが予想
される。また樹脂成分が相対して減少するため機械的強
度が低下する可能性がある。
【0006】従って、シリカを含む半導体封止用樹脂組
成物の製造にあたっては、組成物の流動性や硬化特性を
損なうことなく、十分なシリカ配合のもとに、封止材と
しての特性に優れた樹脂組成物を得ることが必要とされ
るが、従来において、このような検討はなされておら
ず、その改良が望まれているのが実情である。本発明は
上記従来の実情に鑑みてなされたものであって、流動
性、硬化特性に優れ、弾性率の低い硬化物を得ることが
できる、半導体封止材として有用なポリマレイミド系樹
脂組成物を提供することを目的とする。
成物の製造にあたっては、組成物の流動性や硬化特性を
損なうことなく、十分なシリカ配合のもとに、封止材と
しての特性に優れた樹脂組成物を得ることが必要とされ
るが、従来において、このような検討はなされておら
ず、その改良が望まれているのが実情である。本発明は
上記従来の実情に鑑みてなされたものであって、流動
性、硬化特性に優れ、弾性率の低い硬化物を得ることが
できる、半導体封止材として有用なポリマレイミド系樹
脂組成物を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、ポリマレイミド化合物、
分子内に2個以上のアリル基を有するアリル−フェノー
ル化合物、ポリアミノシロキサン、シリカ、アミノ基を
有するオルガノアルコキシシラン化合物を必須成分と
し、これらを特定量混合することにより、流動性に富
み、硬化特性に優れ、強度の高い硬化物を与える樹脂組
成物を見いだし本発明に到達した。
解決すべく鋭意検討した結果、ポリマレイミド化合物、
分子内に2個以上のアリル基を有するアリル−フェノー
ル化合物、ポリアミノシロキサン、シリカ、アミノ基を
有するオルガノアルコキシシラン化合物を必須成分と
し、これらを特定量混合することにより、流動性に富
み、硬化特性に優れ、強度の高い硬化物を与える樹脂組
成物を見いだし本発明に到達した。
【0008】すなわち、本発明の要旨は、下記のA,
B,C,D,E成分を必須成分とする半導体封止用樹脂
組成物に存する。 A.ポリマレイミド B.分子内に2個以上のアリル基を有するアリルフェノ
ール化合物 C.下記一般式(1)で表されるポリアミノシロキサン
B,C,D,E成分を必須成分とする半導体封止用樹脂
組成物に存する。 A.ポリマレイミド B.分子内に2個以上のアリル基を有するアリルフェノ
ール化合物 C.下記一般式(1)で表されるポリアミノシロキサン
【0009】
【化2】
【0010】((式1)中R1 はCH3 、C6 H5 、R
4 NH2 (R4 はアルキレン基)のいずれかであり、R
2 はR5 NH2 、R5 NHR6 NH2 、CH3 、C6 H
5 (R 5 、R6 はアルキレン基)のいずれかであってR
1 又はR2 の少なくとも一方はアミノ基を有し、R3 は
CH3 、C6 H5 のいずれかであり、mは1以上の整数
であり、nは0以上の整数を示す) D.シリカ 並びに E.アミノ基を有するオルガノアルコキシシラン化合物 以下に本発明の詳細を説明する。
4 NH2 (R4 はアルキレン基)のいずれかであり、R
2 はR5 NH2 、R5 NHR6 NH2 、CH3 、C6 H
5 (R 5 、R6 はアルキレン基)のいずれかであってR
1 又はR2 の少なくとも一方はアミノ基を有し、R3 は
CH3 、C6 H5 のいずれかであり、mは1以上の整数
であり、nは0以上の整数を示す) D.シリカ 並びに E.アミノ基を有するオルガノアルコキシシラン化合物 以下に本発明の詳細を説明する。
【0011】本発明で用いられるA成分であるポリマレ
イミドとしては、下記一般式(2)で表わされる、分子
内に2個以上のマレイミド基を有するポリマレイミド化
合物である。下記一般式(2)においてnは2以上の整
数、Yは2価以上の多価残基を表わす。Yは2価以上の
多価残基であれば脂肪族、芳香族、脂環式、複素環式の
いずれでもよいが、芳香族であることが好ましい。
イミドとしては、下記一般式(2)で表わされる、分子
内に2個以上のマレイミド基を有するポリマレイミド化
合物である。下記一般式(2)においてnは2以上の整
数、Yは2価以上の多価残基を表わす。Yは2価以上の
多価残基であれば脂肪族、芳香族、脂環式、複素環式の
いずれでもよいが、芳香族であることが好ましい。
【0012】
【化3】
【0013】本発明で用いるA成分は、ジアミンもしく
はポリアミンと無水マレイン酸との反応で容易に得られ
る。ここでジアミンとしては一般式(H2 N)2 Y(Y
は一般式(2)のYに同じで2価の残基を表わす)で表
わされる化合物である。このようなジアミンと無水マレ
イン酸との反応で得られるビスマレイミド化合物として
具体的には、1,2−ジマレイミドエタン、1,3−ジ
マレイミドプロパンなどのような脂肪族ビスマレイミ
ド、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3
−エチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3
−エチル−4−マレイミド−5−メチルフェニル)メタ
ン、2,7−ジマレイミドフルオレン、1,3−ジマレ
イミドベンゼン、1,4−ジマレイミドベンゼン、2,
4−ジマレイミドトルエン、ビス(マレイミドフェニ
ル)スルホン、ビス(マレイミドフェニル)エーテル、
2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル)プロパン、ビス(4−(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル)スルホン、1,3−ビス(2−(3−マ
レイミドフェニル)プロピル)ベンゼン(各々異性体を
含む)などのような芳香族ビスマレイミド、1,4−ジ
マレイミドシクロヘキサンなどのような脂環式ビスマレ
イミド、ビス(マレイミドフェニル)チオフェン(異性
体を含む)などのような複素環式ビスマレイミドなどが
例示できる。本発明において用いられるビスマレイミド
化合物は、耐熱性の点から芳香族ビスマレイミドが好ま
しい。一方、ポリアミンとしては一般式(H2 N)n Y
(nは3以上の整数であり、Yは一般式(2)のYに同
じで3価以上の残基を表わす)で表わされる化合物であ
る。また、ポリアミンと無水マレイン酸との反応で得ら
れるポリマレイミド化合物として具体的には、アニリン
またはその誘導体とホルマリンとの重縮合物のマレイミ
ド化物などが例示できる。
はポリアミンと無水マレイン酸との反応で容易に得られ
る。ここでジアミンとしては一般式(H2 N)2 Y(Y
は一般式(2)のYに同じで2価の残基を表わす)で表
わされる化合物である。このようなジアミンと無水マレ
イン酸との反応で得られるビスマレイミド化合物として
具体的には、1,2−ジマレイミドエタン、1,3−ジ
マレイミドプロパンなどのような脂肪族ビスマレイミ
ド、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3
−エチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3
−エチル−4−マレイミド−5−メチルフェニル)メタ
ン、2,7−ジマレイミドフルオレン、1,3−ジマレ
イミドベンゼン、1,4−ジマレイミドベンゼン、2,
4−ジマレイミドトルエン、ビス(マレイミドフェニ
ル)スルホン、ビス(マレイミドフェニル)エーテル、
2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル)プロパン、ビス(4−(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル)スルホン、1,3−ビス(2−(3−マ
レイミドフェニル)プロピル)ベンゼン(各々異性体を
含む)などのような芳香族ビスマレイミド、1,4−ジ
マレイミドシクロヘキサンなどのような脂環式ビスマレ
イミド、ビス(マレイミドフェニル)チオフェン(異性
体を含む)などのような複素環式ビスマレイミドなどが
例示できる。本発明において用いられるビスマレイミド
化合物は、耐熱性の点から芳香族ビスマレイミドが好ま
しい。一方、ポリアミンとしては一般式(H2 N)n Y
(nは3以上の整数であり、Yは一般式(2)のYに同
じで3価以上の残基を表わす)で表わされる化合物であ
る。また、ポリアミンと無水マレイン酸との反応で得ら
れるポリマレイミド化合物として具体的には、アニリン
またはその誘導体とホルマリンとの重縮合物のマレイミ
ド化物などが例示できる。
【0014】また以上のように得られる各種ポリマレイ
ミド化合物と芳香族ジアミンや脂肪族ジアミン等を、マ
レイミド官能基が残るように反応させて得られた付加物
などが例としてあげられる。さらに、これらのポリマレ
イミド化合物を2種類あるいはそれ以上を組み合わせて
使用することや、上記ジアミンもしくはポリアミンを混
ぜ合わせてマレイミド化し、ポリマレイミド化合物の混
合物として使用することも可能である。流動性や成形加
工性を損なわない範囲においてモノマレイミドを加える
ことができる。
ミド化合物と芳香族ジアミンや脂肪族ジアミン等を、マ
レイミド官能基が残るように反応させて得られた付加物
などが例としてあげられる。さらに、これらのポリマレ
イミド化合物を2種類あるいはそれ以上を組み合わせて
使用することや、上記ジアミンもしくはポリアミンを混
ぜ合わせてマレイミド化し、ポリマレイミド化合物の混
合物として使用することも可能である。流動性や成形加
工性を損なわない範囲においてモノマレイミドを加える
ことができる。
【0015】本発明のB成分は、分子内に2個以上のア
リル基を有するアリルフェノール化合物である。C成分
であるポリアミノシロキサンとの混合を円滑に行うには
B成分は液状であることが好ましい。常温で固体であっ
ても加熱することにより液状になればよい。具体的に
は、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオ
ロ−2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホン、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフ
ェニル)スルフィド、ビス(3−アリル−4−ヒドロキ
シフェニル)エーテルなどが例示できる。さらに、これ
らを2種類あるいはそれ以上を組み合わせて使用するこ
とも可能である。
リル基を有するアリルフェノール化合物である。C成分
であるポリアミノシロキサンとの混合を円滑に行うには
B成分は液状であることが好ましい。常温で固体であっ
ても加熱することにより液状になればよい。具体的に
は、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオ
ロ−2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホン、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフ
ェニル)スルフィド、ビス(3−アリル−4−ヒドロキ
シフェニル)エーテルなどが例示できる。さらに、これ
らを2種類あるいはそれ以上を組み合わせて使用するこ
とも可能である。
【0016】本発明においては、分子内に2個以上のマ
レイミド基を有するポリマレイミド化合物(A成分)の
マレイミド官能基1当量に対して、該アリルフェノール
化合物のアリル基が0.5から1.5当量の範囲にある
ことが好ましい。アリル基が0.5当量より少ない場合
は得られる成形物が脆くなり、1.5当量より多い場合
は耐熱性が低下する。
レイミド基を有するポリマレイミド化合物(A成分)の
マレイミド官能基1当量に対して、該アリルフェノール
化合物のアリル基が0.5から1.5当量の範囲にある
ことが好ましい。アリル基が0.5当量より少ない場合
は得られる成形物が脆くなり、1.5当量より多い場合
は耐熱性が低下する。
【0017】本発明で用いるC成分は、分子両末端にア
ミノ基を有するか、あるいはシロキサン主鎖の一部にア
ミノシロキサンを有するポリアミノシロキサンでありそ
の構造は前記一般式(1)で表わされる。このようなC
成分の平均分子量は、得られる組成物の特性に影響を与
える因子ではないが、好ましい範囲としては500以上
5000以下である。また、分子中にアミノ基を有する
ことが必要であり、アミノ基をもたないポリシロキサン
をC成分として用いた場合には、硬化物の弾性率は高
く、熱収縮に対する応力緩和の効果はみられない。
ミノ基を有するか、あるいはシロキサン主鎖の一部にア
ミノシロキサンを有するポリアミノシロキサンでありそ
の構造は前記一般式(1)で表わされる。このようなC
成分の平均分子量は、得られる組成物の特性に影響を与
える因子ではないが、好ましい範囲としては500以上
5000以下である。また、分子中にアミノ基を有する
ことが必要であり、アミノ基をもたないポリシロキサン
をC成分として用いた場合には、硬化物の弾性率は高
く、熱収縮に対する応力緩和の効果はみられない。
【0018】このC成分は組成比として、A成分である
ポリマレイミド100重量部に対して10重量部以上5
0重量部以下が好ましい。このC成分が10重量部に満
たない場合は、硬化物の弾性率が高く、その結果成形し
た製品を取り出す際の冷却時に発生する熱収縮に対する
応力が大きくなり、金属製のリードフレームやシリコン
チップとの界面で剥離したり、チップそのものに不良が
発生する原因となる。また、C成分が50重量部を越え
た場合は、硬化物の強度の低下が著しく満足な製品を与
えない。
ポリマレイミド100重量部に対して10重量部以上5
0重量部以下が好ましい。このC成分が10重量部に満
たない場合は、硬化物の弾性率が高く、その結果成形し
た製品を取り出す際の冷却時に発生する熱収縮に対する
応力が大きくなり、金属製のリードフレームやシリコン
チップとの界面で剥離したり、チップそのものに不良が
発生する原因となる。また、C成分が50重量部を越え
た場合は、硬化物の強度の低下が著しく満足な製品を与
えない。
【0019】本発明のD成分はシリカであれば特に限定
されるわけではない。シリカとしては形状から角形、球
形、製法から破砕状、合成、気相製造等といった分類が
なされるが、平均粒径の異る複数の群のシリカを使用す
るにあたっては、他の材料と混合する前に予めシリカ同
士だけを混合してもよい。その際、平均粒径としては
0.01μ〜150μのシリカを用いることができる。
シリカは得られる樹脂組成物全体の20から95体積%
を占めていることが望ましく、好ましくは60から90
体積%である。シリカ充填率が20体積%に満たない場
合は熱膨張係数の低下の効果が不十分であり、また充填
率が95体積%を越す場合は成形に必要な流動性を確保
できなくなる。
されるわけではない。シリカとしては形状から角形、球
形、製法から破砕状、合成、気相製造等といった分類が
なされるが、平均粒径の異る複数の群のシリカを使用す
るにあたっては、他の材料と混合する前に予めシリカ同
士だけを混合してもよい。その際、平均粒径としては
0.01μ〜150μのシリカを用いることができる。
シリカは得られる樹脂組成物全体の20から95体積%
を占めていることが望ましく、好ましくは60から90
体積%である。シリカ充填率が20体積%に満たない場
合は熱膨張係数の低下の効果が不十分であり、また充填
率が95体積%を越す場合は成形に必要な流動性を確保
できなくなる。
【0020】また、シリカ以外の充填材として、その他
の無機充填剤や強化繊維などを加えることもできる。そ
の具体例としては、アルミナ粉、マイカ、チタニア、ジ
ルコニアあるいはガラス繊維、炭素繊維、アラミド繊
維、ホロン繊維などがあげられる。本発明のE成分はア
ミノ基を有するオルガノアルコキシシラン化合物であれ
ばよい。一般的には、ケイ素の置換基として、アミノ基
を有する有機基を1つ又は2つ有し、アルコキシ基を2
つ又は3つ有するシラン化合物である。分子中のケイ素
原子はこれらの置換基を必須として有していればよく、
数には問題ない。
の無機充填剤や強化繊維などを加えることもできる。そ
の具体例としては、アルミナ粉、マイカ、チタニア、ジ
ルコニアあるいはガラス繊維、炭素繊維、アラミド繊
維、ホロン繊維などがあげられる。本発明のE成分はア
ミノ基を有するオルガノアルコキシシラン化合物であれ
ばよい。一般的には、ケイ素の置換基として、アミノ基
を有する有機基を1つ又は2つ有し、アルコキシ基を2
つ又は3つ有するシラン化合物である。分子中のケイ素
原子はこれらの置換基を必須として有していればよく、
数には問題ない。
【0021】アルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基を用いるのが好ましい。具体的には、3−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、3−(N−アリル−N−
(2−アミノエチル))アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル
−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、等が例示さ
れる。添加量としては用いるシリカの表面性状に応じて
決められることが多いが、概ねシリカ100グラムに対
して0.1グラムから5グラムの範囲で使用され、好ま
しくは0.5グラムから3グラムの範囲で用いられる。
添加方法はシリカに予め添加してもよいし、また、樹脂
成分としシリカを混合する際に添加してもよい。
キシ基を用いるのが好ましい。具体的には、3−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、3−(N−アリル−N−
(2−アミノエチル))アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル
−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、等が例示さ
れる。添加量としては用いるシリカの表面性状に応じて
決められることが多いが、概ねシリカ100グラムに対
して0.1グラムから5グラムの範囲で使用され、好ま
しくは0.5グラムから3グラムの範囲で用いられる。
添加方法はシリカに予め添加してもよいし、また、樹脂
成分としシリカを混合する際に添加してもよい。
【0022】各成分の混合方法は特に限定されるもので
はないが、混合温度は90℃を超えないことが好まし
い。また混合機としては具体的には熱ロール、押出機、
ニーダー、ミキサー等が一般的に挙げられる。せっかく
半導体を封止しても、封止材中の不純物によりかえって
メモリを破壊し誤動作を引き起こす場合があると指摘さ
れている。この原因は、封止材に含まれるα線源である
ウラン、トリウムなどの放射性元素によって起こるとい
われているのでこうした元素が少ないことが望ましい。
はないが、混合温度は90℃を超えないことが好まし
い。また混合機としては具体的には熱ロール、押出機、
ニーダー、ミキサー等が一般的に挙げられる。せっかく
半導体を封止しても、封止材中の不純物によりかえって
メモリを破壊し誤動作を引き起こす場合があると指摘さ
れている。この原因は、封止材に含まれるα線源である
ウラン、トリウムなどの放射性元素によって起こるとい
われているのでこうした元素が少ないことが望ましい。
【0023】さらに、必要に応じてジクミルパーオキシ
ド、レブリン酸ブチル tertブチルパーオキシケタ
ール、1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチルパ
ーオキシ)プロピル))ベンゼンなどの通常この分野に
用いられる有機過酸化物、アミン化合物、イミダゾール
化合物やホスフィン化合物等の硬化促進剤、天然ワック
ス、合成ワックス、有機脂肪酸やそのエステルまたは金
属塩などの内部離型剤、臭素化エポキシ化合物や臭素化
フェノール化合物などのハロゲン化合物や酸化アンチモ
ンなどの難燃化剤、カーボンブラックなどの着色剤、ニ
トリルゴムやポリアミノシロキサン以外のシリコーン化
合物などの可撓性付与剤などの機能性改善剤を加えるこ
とができる。
ド、レブリン酸ブチル tertブチルパーオキシケタ
ール、1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチルパ
ーオキシ)プロピル))ベンゼンなどの通常この分野に
用いられる有機過酸化物、アミン化合物、イミダゾール
化合物やホスフィン化合物等の硬化促進剤、天然ワック
ス、合成ワックス、有機脂肪酸やそのエステルまたは金
属塩などの内部離型剤、臭素化エポキシ化合物や臭素化
フェノール化合物などのハロゲン化合物や酸化アンチモ
ンなどの難燃化剤、カーボンブラックなどの着色剤、ニ
トリルゴムやポリアミノシロキサン以外のシリコーン化
合物などの可撓性付与剤などの機能性改善剤を加えるこ
とができる。
【0024】以上のこうして得られた樹脂組成物は、耐
熱性を下げることなく熱膨張率が低くかつ金属との接着
性が良好であり、また、良好な流動性を有しかつ硬化物
の機械的強度が大きく、半導体封止用樹脂に好適であ
る。
熱性を下げることなく熱膨張率が低くかつ金属との接着
性が良好であり、また、良好な流動性を有しかつ硬化物
の機械的強度が大きく、半導体封止用樹脂に好適であ
る。
【0025】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。合成例 :ビス(4−マレイミドフェニル)メタン100
グラム、ビス(4−アミノフェニル)メタン27.7グ
ラムを200mlのジメチルホルムアミド(DMF)中
で120℃に30分間加熱し、これを水にあけ得られた
沈澱物をろ過、乾燥し付加物Aを120.2グラム得
た。核磁気共鳴法によりマレイミドのビニルプロトンを
確認した。
する。合成例 :ビス(4−マレイミドフェニル)メタン100
グラム、ビス(4−アミノフェニル)メタン27.7グ
ラムを200mlのジメチルホルムアミド(DMF)中
で120℃に30分間加熱し、これを水にあけ得られた
沈澱物をろ過、乾燥し付加物Aを120.2グラム得
た。核磁気共鳴法によりマレイミドのビニルプロトンを
確認した。
【0026】実施例1:ビス(4−マレイミドフェニ
ル)メタン31.0グラム、2,2−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン25.8グラム
と、これに付加物A7.7グラムを加え、150℃にて
20分間加熱、撹拌し、冷却後、平均粒径18μの球状
シリカ336グラム、平均粒径7μの破砕シリカ84グ
ラム、3−アミノプロピルトリエトキシシラン4.2グ
ラム、平均分子量3000でアミノ基を末端に有するポ
リジメチルシロキサン(明細書中の式(1)においてR
1 =(CH2 )3 NH2 、R2 =R3 =CH3 、m+n
=38(平均分子量から算出))6.5グラム、レブリ
ン酸ブチル tertブチルパーオキシケタール1.3
グラム、1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチル
パーオキシ)プロピル))ベンゼン0.3グラム、カル
ナウバワックス0.7グラム、一次粒径が20μのカー
ボンブラック0.6グラム、三酸化アンチモン0.3グ
ラム、およびエポキシ当量340、臭素含有率47%テ
トラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂1.6グラ
ムを2本ロールで75℃、30分間混合することで樹脂
組成物を得た。この組成物の温度180℃、成形時間3
分の条件でトランスファー成形し樹脂硬化物を得た。得
られた樹脂組成物の流動性、および硬化物の曲げ強度を
測定した。
ル)メタン31.0グラム、2,2−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン25.8グラム
と、これに付加物A7.7グラムを加え、150℃にて
20分間加熱、撹拌し、冷却後、平均粒径18μの球状
シリカ336グラム、平均粒径7μの破砕シリカ84グ
ラム、3−アミノプロピルトリエトキシシラン4.2グ
ラム、平均分子量3000でアミノ基を末端に有するポ
リジメチルシロキサン(明細書中の式(1)においてR
1 =(CH2 )3 NH2 、R2 =R3 =CH3 、m+n
=38(平均分子量から算出))6.5グラム、レブリ
ン酸ブチル tertブチルパーオキシケタール1.3
グラム、1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチル
パーオキシ)プロピル))ベンゼン0.3グラム、カル
ナウバワックス0.7グラム、一次粒径が20μのカー
ボンブラック0.6グラム、三酸化アンチモン0.3グ
ラム、およびエポキシ当量340、臭素含有率47%テ
トラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂1.6グラ
ムを2本ロールで75℃、30分間混合することで樹脂
組成物を得た。この組成物の温度180℃、成形時間3
分の条件でトランスファー成形し樹脂硬化物を得た。得
られた樹脂組成物の流動性、および硬化物の曲げ強度を
測定した。
【0027】実施例2:ビス(4−マレイミドフェニ
ル)メタン29.7グラム、2,2−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン24.7グラム
と、これに付加物A7.4グラムを加え、150℃にて
20分間加熱、撹拌し、冷却後、平均粒径18μの球状
シリカ336グラム、平均粒径7μの破砕シリカ84グ
ラム、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン4.2グ
ラム、平均分子量3000でアミノ基を末端に有するポ
リジメチルシロキサン9.3グラム、レブリン酸ブチル
tertブチルパーオキシケタール1.2グラム、
1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチルパーオキ
シ)プロピル))ベンゼン0.3グラム、カルナウバワ
ックス0.6グラム、一次粒径が20μのカーボンブラ
ック0.6グラム、三酸化アンチモン0.3グラム、お
よびエポキシ当量340、臭素含有率47%テトラブロ
モビスフェノールA型エポキシ樹脂1.6グラムを2本
ロールで75℃で30分間混合することで樹脂組成物を
得た。実施例1と同様に成形して物性を測定した。
ル)メタン29.7グラム、2,2−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン24.7グラム
と、これに付加物A7.4グラムを加え、150℃にて
20分間加熱、撹拌し、冷却後、平均粒径18μの球状
シリカ336グラム、平均粒径7μの破砕シリカ84グ
ラム、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン4.2グ
ラム、平均分子量3000でアミノ基を末端に有するポ
リジメチルシロキサン9.3グラム、レブリン酸ブチル
tertブチルパーオキシケタール1.2グラム、
1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチルパーオキ
シ)プロピル))ベンゼン0.3グラム、カルナウバワ
ックス0.6グラム、一次粒径が20μのカーボンブラ
ック0.6グラム、三酸化アンチモン0.3グラム、お
よびエポキシ当量340、臭素含有率47%テトラブロ
モビスフェノールA型エポキシ樹脂1.6グラムを2本
ロールで75℃で30分間混合することで樹脂組成物を
得た。実施例1と同様に成形して物性を測定した。
【0028】実施例3:実施例2中の平均粒径18μの
球状シリカを378グラム、平均粒径7μの破砕シリカ
の代わりに平均粒径1μの球状シリカを42グラム使用
した以外は、実施例2と同様に樹脂組成物を得た。実施
例1と同様に成形し物性を測定した。
球状シリカを378グラム、平均粒径7μの破砕シリカ
の代わりに平均粒径1μの球状シリカを42グラム使用
した以外は、実施例2と同様に樹脂組成物を得た。実施
例1と同様に成形し物性を測定した。
【0029】実施例4:実施例1中の3−アミノプロピ
ルトリエトキシシランの代わりに、3−(N−アリル−
N−(2−アミノエチル))アミノプロピルトリメトキ
シシランを使用した以外は、実施例1と同様に樹脂組成
物を得た。実施例1と同様に成形し物性を測定した。
ルトリエトキシシランの代わりに、3−(N−アリル−
N−(2−アミノエチル))アミノプロピルトリメトキ
シシランを使用した以外は、実施例1と同様に樹脂組成
物を得た。実施例1と同様に成形し物性を測定した。
【0030】比較例1:実施例1中の3−アミノプロピ
ルトリエトキシシランの代わりに、3−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシランを使用した以外は、実施例1
と同様に樹脂組成物を得、物性を測定した。 実施例1〜4および比較例1の組成物の内容を表1に、
また、得られた樹脂組成物および硬化物の物性を表2に
示す。表2より明らかなように本発明による樹脂組成物
は、成形時の流動性およびそれより得られる硬化物の特
性に優れていることがわかる。
ルトリエトキシシランの代わりに、3−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシランを使用した以外は、実施例1
と同様に樹脂組成物を得、物性を測定した。 実施例1〜4および比較例1の組成物の内容を表1に、
また、得られた樹脂組成物および硬化物の物性を表2に
示す。表2より明らかなように本発明による樹脂組成物
は、成形時の流動性およびそれより得られる硬化物の特
性に優れていることがわかる。
【0031】
【表1】
【0032】
【表2】
【0033】
【発明の効果】本発明のA〜Eの成分を必須成分とする
樹脂組成物によれば、成形加工性、特に流動性に優れて
おり、機械的強度の大きい硬化物を得ることができる。
また、耐熱性を下げることなく、シリカの添加による弾
性率低下効果が十分に発揮され、半導体封止用の樹脂組
成物として極めて有用である。
樹脂組成物によれば、成形加工性、特に流動性に優れて
おり、機械的強度の大きい硬化物を得ることができる。
また、耐熱性を下げることなく、シリカの添加による弾
性率低下効果が十分に発揮され、半導体封止用の樹脂組
成物として極めて有用である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年11月20日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】実施例1:ビス(4−マレイミドフェニ
ル)メタン31.0グラム、2,2−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン25.8グラム
と、これに付加物A7.7グラムを加え、150℃にて
20分間加熱、撹拌し、冷却後、平均粒径18μの球状
シリカ336グラム、平均粒径7μの破砕シリカ84グ
ラム、3−アミノプロピルトリエトキシシラン4.2グ
ラム、平均分子量3000でアミノ基を末端に有するポ
リジメチルシロキサン(明細書中の式(1)においてR
1 =(CH2 )3 NH2 、R2 =R3 =CH3 、m+n
=38(平均分子量から算出))6.5グラム、レブリ
ン酸ブチル tertブチルパーオキシケタール1.3
グラム、1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチル
パーオキシ)プロピル))ベンゼン0.3グラム、カル
ナウバワックス0.7グラム、一次粒径が20nmのカ
ーボンブラック0.6グラム、三酸化アンチモン0.3
グラム、およびエポキシ当量340、臭素含有率47%
テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂1.6グ
ラムを2本ロールで75℃、30分間混合することで樹
脂組成物を得た。この組成物の温度180℃、成形時間
3分の条件でトランスファー成形し樹脂硬化物を得た。
得られた樹脂組成物の流動性、および硬化物の曲げ強度
を測定した。
ル)メタン31.0グラム、2,2−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン25.8グラム
と、これに付加物A7.7グラムを加え、150℃にて
20分間加熱、撹拌し、冷却後、平均粒径18μの球状
シリカ336グラム、平均粒径7μの破砕シリカ84グ
ラム、3−アミノプロピルトリエトキシシラン4.2グ
ラム、平均分子量3000でアミノ基を末端に有するポ
リジメチルシロキサン(明細書中の式(1)においてR
1 =(CH2 )3 NH2 、R2 =R3 =CH3 、m+n
=38(平均分子量から算出))6.5グラム、レブリ
ン酸ブチル tertブチルパーオキシケタール1.3
グラム、1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチル
パーオキシ)プロピル))ベンゼン0.3グラム、カル
ナウバワックス0.7グラム、一次粒径が20nmのカ
ーボンブラック0.6グラム、三酸化アンチモン0.3
グラム、およびエポキシ当量340、臭素含有率47%
テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂1.6グ
ラムを2本ロールで75℃、30分間混合することで樹
脂組成物を得た。この組成物の温度180℃、成形時間
3分の条件でトランスファー成形し樹脂硬化物を得た。
得られた樹脂組成物の流動性、および硬化物の曲げ強度
を測定した。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】実施例2:ビス(4−マレイミドフェニ
ル)メタン29.7グラム、2,2−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン24.7グラム
と、これに付加物A7.4グラムを加え、150℃にて
20分間加熱、撹拌し、冷却後、平均粒径18μの球状
シリカ336グラム、平均粒径7μの破砕シリカ84グ
ラム、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン4.2グ
ラム、平均分子量3000でアミノ基を末端に有するポ
リジメチルシロキサン9.3グラム、レブリン酸ブチル
tertブチルパーオキシケタール1.2グラム、
1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチルパーオキ
シ)プロピル))ベンゼン0.3グラム、カルナウバワ
ックス0.6グラム、一次粒径が20nmのカーボンブ
ラック0.6グラム、三酸化アンチモン0.3グラム、
およびエポキシ当量340、臭素含有率47%テトラブ
ロモビスフェノールA型エポキシ樹脂1.6グラムを2
本ロールで75℃で30分間混合することで樹脂組成物
を得た。実施例1と同様に成形して物性を測定した。
ル)メタン29.7グラム、2,2−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン24.7グラム
と、これに付加物A7.4グラムを加え、150℃にて
20分間加熱、撹拌し、冷却後、平均粒径18μの球状
シリカ336グラム、平均粒径7μの破砕シリカ84グ
ラム、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン4.2グ
ラム、平均分子量3000でアミノ基を末端に有するポ
リジメチルシロキサン9.3グラム、レブリン酸ブチル
tertブチルパーオキシケタール1.2グラム、
1,4−ビス(2−(2−(tert−ブチルパーオキ
シ)プロピル))ベンゼン0.3グラム、カルナウバワ
ックス0.6グラム、一次粒径が20nmのカーボンブ
ラック0.6グラム、三酸化アンチモン0.3グラム、
およびエポキシ当量340、臭素含有率47%テトラブ
ロモビスフェノールA型エポキシ樹脂1.6グラムを2
本ロールで75℃で30分間混合することで樹脂組成物
を得た。実施例1と同様に成形して物性を測定した。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】
【表1】
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 29/10 LGZ 6904−4J 83/08 LRY 8319−4J H01L 23/29 23/31
Claims (1)
- 【請求項1】 A.ポリマレイミド B.分子内に2個以上のアリル基を有するアリルフェノ
ール化合物 C.下記一般式(1)で表されるポリアミノシロキサン 【化1】 ((式1)中R1 はCH3 、C6 H5 、R4 NH2 (R
4 はアルキレン基)のいずれかであり、R2 はR5 NH
2 、R5 NHR6 NH2 、CH3 、C6 H5 (R 5 、R
6 はアルキレン基)のいずれかであってR1 又はR2 の
少なくとも一方はアミノ基を有し、R3 はCH3 、C6
H5 のいずれかであり、mは1以上の整数であり、nは
0以上の整数を示す) D.シリカ E.アミノ基を有するオルガノアルコキシシラン化合物 を必須成分とする半導体封止用樹脂組成物
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23469892A JPH06122765A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23469892A JPH06122765A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06122765A true JPH06122765A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=16975010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23469892A Pending JPH06122765A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06122765A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012099134A1 (ja) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | 日立化成工業株式会社 | 樹脂組成物、これを用いたプリプレグ、積層板及びプリント配線板 |
WO2012099132A1 (ja) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | 日立化成工業株式会社 | 樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
JP2014012751A (ja) * | 2012-07-03 | 2014-01-23 | Hitachi Chemical Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
JP2017071794A (ja) * | 2016-12-13 | 2017-04-13 | 日立化成株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
WO2021132495A1 (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板、プリント配線板及び半導体パッケージ |
WO2023243676A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 株式会社レゾナック | 樹脂組成物、プリプレグ、積層板、樹脂フィルム、プリント配線板及び半導体パッケージ |
-
1992
- 1992-09-02 JP JP23469892A patent/JPH06122765A/ja active Pending
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016026261A (ja) * | 2011-01-18 | 2016-02-12 | 日立化成株式会社 | 樹脂組成物、これを用いたプリプレグ、積層板及びプリント配線板 |
CN105602197A (zh) * | 2011-01-18 | 2016-05-25 | 日立化成株式会社 | 树脂组合物以及使用其的预浸料坯、层叠板、印刷布线板 |
CN103328578A (zh) * | 2011-01-18 | 2013-09-25 | 日立化成株式会社 | 树脂组合物、使用其的预浸料坯、层叠板及印刷布线板 |
JP2016028164A (ja) * | 2011-01-18 | 2016-02-25 | 日立化成株式会社 | 樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
EP2666826A1 (en) * | 2011-01-18 | 2013-11-27 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Resin composition, and printed wiring board, laminated sheet, and prepreg using same |
JP2017106019A (ja) * | 2011-01-18 | 2017-06-15 | 日立化成株式会社 | 樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
EP2666826A4 (en) * | 2011-01-18 | 2014-07-02 | Hitachi Chemical Co Ltd | RESIN COMPOSITION AND FITTED PCB, COMPOSITE FILM AND PREPREG WITH THIS |
US9133308B2 (en) | 2011-01-18 | 2015-09-15 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Resin composition, and printed wiring board, laminated sheet, and prepreg using same |
WO2012099132A1 (ja) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | 日立化成工業株式会社 | 樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
JP2016028163A (ja) * | 2011-01-18 | 2016-02-25 | 日立化成株式会社 | 樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
CN103328577A (zh) * | 2011-01-18 | 2013-09-25 | 日立化成株式会社 | 树脂组合物以及使用其的预浸料坯、层叠板、印刷布线板 |
CN105462253A (zh) * | 2011-01-18 | 2016-04-06 | 日立化成株式会社 | 树脂组合物以及使用其的预浸料坯、层叠板、印刷布线板 |
CN105504809A (zh) * | 2011-01-18 | 2016-04-20 | 日立化成株式会社 | 树脂组合物以及使用其的预浸料坯、层叠板、印刷布线板 |
WO2012099134A1 (ja) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | 日立化成工業株式会社 | 樹脂組成物、これを用いたプリプレグ、積層板及びプリント配線板 |
CN105647118A (zh) * | 2011-01-18 | 2016-06-08 | 日立化成株式会社 | 树脂组合物以及使用其的预浸料坯、层叠板、印刷布线板 |
JP2014012751A (ja) * | 2012-07-03 | 2014-01-23 | Hitachi Chemical Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
JP2017071794A (ja) * | 2016-12-13 | 2017-04-13 | 日立化成株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
WO2021132495A1 (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板、プリント配線板及び半導体パッケージ |
WO2023243676A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 株式会社レゾナック | 樹脂組成物、プリプレグ、積層板、樹脂フィルム、プリント配線板及び半導体パッケージ |
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