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KR850000496A - 굴곡성 광중합성 조성물 - Google Patents

굴곡성 광중합성 조성물 Download PDF

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KR850000496A
KR850000496A KR1019840003143A KR840003143A KR850000496A KR 850000496 A KR850000496 A KR 850000496A KR 1019840003143 A KR1019840003143 A KR 1019840003143A KR 840003143 A KR840003143 A KR 840003143A KR 850000496 A KR850000496 A KR 850000496A
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alkyl
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에이.립슨 멜빈
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제이.알.스탠리
다이나 켐 코오포레이숀
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Publication date
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Abstract

내용 없음.

Description

굴곡성 광중합성 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (34)

  1. 하기식(1)의 아크릴레이트 약 10-60중량부와 최소한 2개의 에틸렌종단기를 함유하며 비점이 100℃이상인 1개 또는 그 이상의 비-기체성 화합물 약 5-50중량부로 구성된 약 10-60중량부의 중합성물질, 부가적 중합 개시반응을 일으키는 광개시된 유리라디칼 약 0.001-20중량부, 종단-부가 중합개시제 약 0.001-5중량부, 하기식(2)와 (3)의 비-산성 화합물인 첫번째 단량체 하나 또는 그 이상과 3-15의 탄소 원자를 함유하며 하나 또는 그 이상의 알파, 베타 에틸렌 불포화 카르복실산 또는 무수물을 함유하는 두 번째 단량체를 약 2중량%의 탄산나트륨을 함유하는 수용액에 완전히 용해될 수 있는 비율로 함유하는 중 합체인 고분자 중합성 결합제 약 40-30중량부로 구성된 광중합성 조성물.
    상기 식(1)에서, m은 1-4, n은 1-12, R1은 H, CH3또는 이들의 혼합물, R2는 비치환된 페닐, 치환된 페닐, 비치환된 나프테닐, 치환된 나프테닐, 직쇄 또는 측쇄, 치환 또는 비치환된 1-2 탄소원자의 알킬, 치환 또는 비치환이며 고리에 5-6 탄소원자를 함유하는 시클로알킬 또는 이들의 혼합물. 식(2)에서, R은 수소, 1-6 탄소원자의 알킬, 할로겐, i) X가 수소이면, Y는 OOCR1, OR1, OCR1, COOR1, CN, CH=CH2 또는 Cl; ii) X가 메틸이면, Y는 COOR1, CN, CH=CH2또는iii) X가 염소이면 Y는 염소; R1은 1-12 탄소원자의 알킬, 페닐 또는 벤질, R3과 R3는 수소, 탄소수 1-12의 알킬 또는 벤질.
  2. 제1항에 있어서 n이 2-8이고 R2가 비치환 또는 치환된 페닐인 광중합성 조성물.
  3. 제2항에 있어서 m이 2 또는 3, n이 2 또는 3식(1)에서의 R1이 수소, R2가 비치환된 페닐인 광중합성 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 최소한 2개의 종단 에틸렌기를 함유하고 비점이 약 100℃ 이상인 비-기체성 화합물이 폴리올의 불포화에스테르, 불포화아미드, 비닐에스테트 또는 이들의 혼합물인 광중합성 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 비-기체성 화합물이 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜티아크릴레이트 또는 이들의 혼합물인 광중합성 조성물.
  6. 제4항에 있어서, 비-기체성 화합물이 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트인 광중합성 조성물.
  7. 제4항에 있어서, 비-기체성 화합물이 펜타에리트리톨아크릴레이트인 광중합성 조성물.
  8. 제4항에 있어서, 결합제의 첫번째 단량체가인 광중합성 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 결합제가 약 35 : 60-70 : 30 비율의 스티렌과 모노부틸말리에이트로 구성된 공중합체인 광중합 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 결합제가 약 70 : 30-95 : 5 비율의 비닐아세테이트와 크로톤산으로 구성된 공중합체인 광중합성 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 결합제가 약 35 : 60-70 : 30 비율의 스티렌과 모노부틸말리에이트로 구성된 공중합체와 약 70 : 30-95 : 5 비율의 비닐아세테이트와 크로톤산으로 구성된 공중합체의 혼합물인 광중합성 조성물.
  12. 제1항에 있어서, 결합제가 아크릴레이트-형 단량체와 3-15 탄소원자를 함유하며 하나 또는 그 이상의 알파, 베타-에틸렌성 불포화 카르복실산- 또는 무수물 함유 단량체의 공중합체인 광중합성 조성물.
  13. 제13항에 있어서, 결합제가아크릴레이트-형 단량체 그리고 3-15 탄소원자를 함유하며 하나 또는 그 이상의 알파, 베타-메틸렌성 불포화 카르복실산-또는 무수물-함유 단량체의 공중합체인 광중합성 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 아크릴레이트형 단량체가 알킬아크릴레이트, 알킬메타크릴레이트, 하이드록실알킬 아크레이트, 하이드록시알킬 메타크릴레이트 또는 이들의 혼합물로서 알킬기의 탄소원자는 1-12이고 하이드록시알킬기의 탄소원자가 2-12인 광중합성 조성물.
  15. 하기식(1)의 아크릴레이트 약 10-60중량부와 최소한 2개의 에틸렌종단기를 함유하며 비점이 100℃이상인 1개 또는 그 이상의 비-기체성 화합물 약 5-50중량부로 구성된 약 10-60중량부의 중합성물질, 부가적 중합개시반응을 일으키는 광개시된 유리라디칼 약 0.001-20중량부, 종단-부가 중합개시제 약 0.001-5중량부, 하기식 (2)와 (3)의 비-산성 화합물인 첫번째 단량체 하나 또는 그 이상과 3-15의 탄소원자를 함유하며 하나 또는 그 이상의 알파, 베타 에틸렌불포화 카르복실산 또는 무수물을 함유하는 두 번째 단량체를 약 2중량%의 탄산나트륨을 함유하는 수용액에 완전히 용해될 수 있는 비율로 함유하는 중합제인 고분자 중합성 결합제 약40-90중량부로 구성된 광중합성 조성물이 굴곡성필름 지지물상에 피복된 광중합성 조성물의 시이트 또는 롤.
    상기 식(1)에서, m은 1-4, n은 1-12, R1은 H, CH3또는 이들의 혼합물, R2는 비치환된 페닐, 치환된 페닐, 비치환된 나프테닐, 치환된 나프테닐, 직쇄 또는 측쇄, 치환 또는 비치환된 1-2 탄소원자의 알킬, 치환 또는 비치환이며 고리에 5-6 탄소원자를 함유하는 시클로알킬 또는 이들의 혼합물, 식(2)에서, R은 수소, 1-6 탄소원자의 알킬, 할로겐, i) X가 수소이면, Y는 OOCR1, OR1, OCR1, COOR1, CN, CH=CH2,또는 Cl; ii) X가 메틸이면, Y는 COOR1, CN, CH=CH2또는iii) X가 염소이면, Y는 염소; R1은 1-12 탄소원자의 알킬, 페닐 또는, 벤질, R3과 R4는 수소, 탄소수 1-12의 알킬 또는 벤질.
  16. 제15항에 있어서, 아크릴레이트가 치환 또는 비치환된 페녹시폴리에톡시에틸아크릴레이트, 치환 또는 비치환된 페녹시폴리프로폭시프로필아크릴레이트 또는 이들의 혼합물인 사이트 또는 롤.
  17. 제16항에 있어서, 아크릴레이트가 비치환 또는 치환된 페녹시폴리에톡시에틸아크릴레이트인 시이트 또는 롤.
  18. 제1항에 있어서, 결합제가아크릴레이트형 단량체 그리고 3-15 탄소원자를 함유하며 하나 또는 그 이상의 알파, 베타 에틸렌성 불포화 카르복실산- 또는 무수물-함유 단량체의 광중합체인 시이트 또는 롤.
  19. 제16항에 있어서, 결합제가 약 35 : 60-70 : 30 비율의 스티렌과 모노부틸말리에이트로 구성된 공중합체와 약 70 : 30-95 : 5 비율의 비닐아세테이트와 크로톤산으로 구성된 공중합체의 혼합물인 시이트 또는 롤.
  20. 하기식(1)의 아크릴레이트 약 10-60중량부와 최소한 2개의 에틸렌종단기를 함유하며 비점이 100℃이상인 1개 또는 그 이상의 비-기체성 화합물 약 5-50중량부로 구성된 약 10-60중량부의 중합성물질, 부가적 중합개시반응을 일으키는 광개시된 유리 라디칼 약 0.001-20중량부, 종단-부가 중합개시제 약 0.001-5중량부, 하기식 (2)와 (3)의 비-산성 화합물일 첫번째 단량체 하나 또는 그 이상과 3-15의 탄소원자를 함유하며 하나 또는 그 이상의 알파, 베타 에틸렌 불포화카르복실산 또는 무수물을 함유하는 두번째 단량체를 약 2중량%의 탄산나트륨을 함유하는 수용액에 완전히 용해될 수 있는 비율로 함유하는 중합제인 고분자 중합성결합제 약 40-50중량부로 구성된 광중합성 조성물이 기판상에 피복된 광중합성 조성물의 피복 조성물.
    상기 식(1)에서, m은 1-4, n은 1-12, R1은 H, CH3또는 이들의 혼합물, R2는 비치환된 페닐, 치환된 페닐, 비치환 나프테닐, 치환된 나프테닐, 직쇄 또는 측쇄, 치환 또는 비치환된 1-2 탄소원자의 알킬, 치환 또는 비치환이며 고리에 5-6 탄소원자를 함유하는 시클로알킬 또는 이들의 혼합물, 식(2)에서, R은 수소, 1-6 탄소원자의 알킬, 할로겐, i) X가 수소이면, Y는 OOCR1, OR1, OCR1, COOR1, CN, CH=CH2,또는 Cl; ii) X가 메틸이면, Y는 COOR1, CN, CH=CH2또는iii) X가 염소이면, Y는 염소; R1은 1-12 탄소원자의 알킬, 페닐 또는 벤질, R3과 R4는 수소, 탄소수 1-12의 알킬 또는 벤질.
  21. 제20항에 있어서, 기판이 금속으로 구성된 피복조성물.
  22. 제21항에 있어서, 금속이 강철, 알루미늄, 구리, 아연 또는 마그네슘인 피복조성물.
  23. 제20항에 있어서, 기판이 열가소성물질인 피복조성물.
  24. 제20항에 있어서, 기판이 구리박 적충판인 피복조성물.
  25. 제24항에 있어서, 기판이 구리 박, 에폭시-유리섬유 적충판인 피복조성물.
  26. 하기식(1)의 아크릴레이트 약 10-60중량부와 최소한 2개의 에틸렌종단기를 함유하며 비점이 100℃이상인 1개 또는 그 이상의 비-기체성 화합물 약 5-50중량부로 구성된 약 10-60중량부의 중합성물질, 부가적 중합 개시반응을 일으키는 광개시된 유리 라디칼 약 0.001-20중량부, 종단-부가 중합개시제 약 0.001-5중량부, 하기식 (2)와 (3)의 비-갖성 화합물인 첫번째 단량체 하나 또는 그 이상과 3-l5의 탄소원자를 함유하며 하나 또는 그 이상의 알파, 베타 에틸렌불포화 카르복실산 또는 무수물을 함유하는 두 번째 단량체를 약 2중량%의 탄산나트륨을 함유하는 수용액에 완전히 용해될 수 있는 비율로 함유하는 중합체인 고분자 중합성 결합제 약 40-90중량부로 구성된 광중합성 조성물을 인쇄된 회로기판 전구체상에 적층시키고 광중합성 조성물의 선택적 부분을 충분한 화학방사선으로 노출시키고, 비노출부분을 최소한 2중량% 탄산나트륨용액 이상의 알칼리성을 갖는 용액과 충분히 접촉시켜 제거하여 회로기판 전구체의 비피복부분으로 산출한뒤 회로기판 전구체의 비피복부분을 수정하여 선택적 전기전도체형을 형성하고, 회로기판을 최소한 3중량% 수산화 나트륨용액 이상의 알칼리성을 갖는 용액과 충분히 접촉시켜 선택적으로 노출된 부분을 제거하는 것으로 구성된 인쇄회로기판의 제조방법.
    상기 식(1)에서, m은 1-4, n은 1-12, R1은 H, CH3또는 이들의 혼합물, R2는 비치환된 페닐, 치환된 페닐, 비치환된 나프테닐, 치환된 나프테닐, 직쇄 또는 측쇄, 치환 또는 비치환된 1-2 탄소원자의 알킬, 치환 또는 비치환이며 고리에 5-6 탄소원자를 함유하는 시클로알킬 또는 이들의 혼합물. 식(2)에서, R은 수소, 1-6 탄소원자의 알킬, 할로겐, i) X가 수소이면, Y는 OOCR1, OR1, OCR1, COOR1, CN, CH=CH2, 또는Cl; ii) X가 메틸이면, Y는 COOR1, CN, CH=CH2또는iii) X가 염소이면, Y는 염소; R1은 1-12 탄소원자의 알킬, 페닐 또는 벤질, R3과 R4는 수소, 탄소수 1-12의 알킬 또는 벤질.
  27. 제26항에 있어서, 인쇄회로기판 전구체가 구리박, 에폭시유리섬유 적층판인 인쇄회로기판의 제조방법.
  28. 제26항에 있어서, 인쇄회로기판 전구체가 굴곡성, 구리박 적층판인 인체회로기판의 제조방법.
  29. 제26항에 있어서, 인쇄회로기판 전구체의 양면이 금속성 물질이고, 광중합성 조성물을 상기 금속성 물질의 양면 모두에 적층판되어 있는 인쇄회로기판 전구체의 제조방법.
  30. 제26항에 있어서, 광중합성 조성물을 인쇄회로기판 전구체에 적층시켜 필름 지지물상의 롤의 일부 또는 시이트를 형성하는 인쇄회로기판의 제조방법.
  31. 제26항에 있어서, 회로기판 전구체의 비피복부분을 엣칭으로 수정하는 인쇄희로기관의 제조방법.
  32. 제26항에 있어서, 회로기판 전구체의 비피복부분을 플레이팅으로 수정하는 인쇄회로기판의 제조방법.
  33. 제26항에 있어서, 종성물의 선택적으로 노출된 부분을 제거하는데 필요한 시간이 부가적 광합물질 내에 아크릴레이트가 부재하는 조성물과 비교하였을때 똑같은 상황에서 약 10-80% 감소되는 인쇄회로기판의 제조방법.
  34. 하기식(1)의 아크릴레이트 약 10-60중량부와 최소한 2개의 에틸렌종단기를 함유하며 비점이 100℃이상인 1개 또는 그 이상의 비-기체성 화합물 약 5-50중량부로 구성된 약 10-60중량부의 중합성물질, 부가적 중합 개시반응을 일으키는 광개시된 유리 라디칼 약 0.001-20중량부, 종단-부가 중합개시제 약 0.001-5중량부, 하기식(2)와 (3)의 비-산성 화합물인 첫번째 단량치 하나 또는 그 이상과 3-15의 탄소 원자를 함유하며 하나 또는 그 이상의 알파, 베타 에틸렌 불포화 카르복실산 또는 무수물을 함유하는 두 번째 단량체를 약 2중량%의 탄산나트륨을 함유하는 수용액에 완전히 용해될 수 있는 비율로 함유하는 중합제인 고분자 중합성 결합제 약 40-9O중량부로 구성된 광중합성 조성물을 금속성 시이트나 포일의 양면상에 적층시키고 광중합성 조성물의 선택적 부분을 충분한 화학방사선으로 노출시키고, 비노출부분을 최소한 2중량% 탄산나트륨용액 이상의 알칼리성을 갖는 용액과 충분히 접촉시켜 제거하여 시이트나 포일의 비피복부분으로 산출한뒤 시이트나 포일의 비피복부분을 수정하여 선택적형을 형성하고, 시이트나 포일을 최소한 3중량% 수산화나트륨용액 이상의 알칼리성을 갖는 용액과 충분히 접촉시켜 선택적으로 노출된 부분을 제거하는 것으로 구성된 화학적 기계공정.
    상기 식(1)에서, m 은 1-4, n은 1-12, R1은 H, CH3또는 이들의 혼합물, R2는 비치환된 페닐, 치환된 페닐, 비치환된 나프테닐, 치환된 나프테닐, 직쇄 또는 측쇄, 치환 또는 비치환된 1-2 탄소원자의 알킬, 치환 또는 비치환이며 고리에 5-6 탄소원자를 함유하는 시클로알킬 또는 이들의 혼합물. 식(2)에서, R은 수소, 1-6 탄소원자의 알킬, 할로겐, i) X가 수소이면, Y는 OOCR1, OR1, OCR1, COOR1, CN, CH=CH2,또는 Cl; ii) X가 메틸이면, Y는 COOR1, CN, CH=CH2또는iii) X가 염소이면 Y는 염소; R1은 1-12 탄소원자의 알킬, 페닐 또는 벤질, R3과 R4는 수소, 탄소수 1-12의 알킬 또는 벤질.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019840003143A 1983-06-06 1984-06-05 광중합성 조성물 KR870000750B1 (ko)

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