KR850001789A - 방사- 중합성 혼합물 및 그로부터 제조된 복물 - Google Patents
방사- 중합성 혼합물 및 그로부터 제조된 복물 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (11)
- 적어도 2개의 말단 에틸렌게 불포화그룹을 가지고 자유라디칼로 시작되는 부가에 의한 쇄중합으로 가교결합된 중합체를 생성할 수 있는 화합물, 일반식 -CH2OR(R은 수소원자, 저급알킬기, 아실기 혹은 히드록시 알킬기)의 측면에서 가교결합되는 기를 가진 중합체인 중합체결합제, 및 방사에 의해 활성화될 수 있는 중합개시제를 함유하는 방사-중합성 혼합물.
- 제1항에 있어서, 상기의 중합체가 하기 일반식(Ⅰ)의 단위를 가지는 공중합체인 방사-중합성 혼합물.상기 일반식(Ⅰ)에서 R'는 수소원자 혹은 메틸기를 나타내고 R은 상기에서와 같은 의미를 가진다.
- 제2항에 있어서, 공중합체가 또한 측면의 카르복실기를 가지는 단위를 포함하는 방사-중합성 혼합물.
- 제3항에 있어서, 공중합체가 메트 아크릴산 혹은 아크릴산, 질소에 ROCH2-기를 가지는 아크릴-혹은 메트아크릴아미드 및 알킬아크릴레이트 혹은 메트아크릴레이트의 3원 공중합체인 방사-중합성 혼합물.
- 제4항에 있어서, a) 3원 공중합체가 아크릴 혹은 메트아크릴산에 의해 생성된 단위 10 내지 35중량%, b) 치환된 아크릴 혹은 메트아크릴아미드로 생성된 단위 15 내지 60중량% 및 c) 알킬 아크릴레이트 혹은 알킬 메트아크릴레이트로 생성된 단위 25 내지 75중량%로 이루어진 방사-중합성 혼합물.
- 제4항에 있어서, 조성 c)가 알킬기의 탄소수가 4 내지 12의 알킬메트아크릴레이트인 방사-중합성 혼합물.
- 제1항에 있어서, 결합제 40 내지 90중량%, 중합가능화합물 10 내지 60중량% 및 개시제 0.01 내지 10중량%를 함유하는 방사-중합성 혼합물.
- 제1항에 있어서, 그 외에 상승한 온도에서 결합제 혹은 중합가능화합물과 가교결합하는 저분자량 화합물을 함유하는 방사-중합성 혼합물.
- 제6항에 있어서, 3원 공중합체가 메트아크릴산, N-부톡시메틸메트아크릴아미드 및 헥실메트아크릴레이트의 중합체인 방사-중합성 혼합물.
- 적어도 2개의 말단 에틸렌계 불포화 그룹을 가지고 자유라디칼로 시작되는 부가에 의한 쇄중합으로 가교결합중합체를 생성할 수 있는 화합물, 일반식 -CH2OR(R은 수소원자, 저급알킬기, 아실기 혹은 히드록시 알킬기를 나타낸다)의 측면에서 가교결합하는 기를 가지는 중합체인 중합체 결합제 및 방사에 의해 활성화될 수 있는 중합개시제를 함유하는 이동할 수 있는 열가소성 방사-중합층과 유연하고, 투명한 일시적 층 지지물로 이루어진 방사-중합성 복제 물질.
- 기본 성분으로서, 적어도 2개의 말단 에틸렌계 불포화 그룹을 가지고 자유라디칼로 시작되는 부가에 의한 쇄중합으로 가교결합중합체를 생성할 수 있는 화합물, 결합제로서, 일반식 -CH2OR(R은 수소원자, 저급알킬기, 아실기 혹은 히드록시 알킬기를 나타낸다)의 측면으로 가교결합하는 기를 가진 중합체결합제, 및 방사에 의해 활성화될 수 있는 중합개시제를 함유하고 투명한 임시층지지물 상에 존재하는 건조 고형 광중합성 광내식막층을 압력 및 열을 사용해서 프린트 배선의 표면상에 입히고 납땜 패드(pads)를 제외하고는 영상(imagewise)형으로 노출시키고, 임시층 지지물을 벗기고, 노출시키지 않은 층 부분을 현상액으로 세척하고 생성된 납땜 마스크를 상승된 온도로, 80 내지 150℃의 온도로 10 내지 60분동안 가열시키는 납땜용 마스크의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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JPS5911096B2 (ja) * | 1974-03-06 | 1984-03-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 樹脂凸版用感光性組成物 |
JPS592018B2 (ja) * | 1975-03-26 | 1984-01-17 | 住友化学工業株式会社 | カイリヨウサレタカンコウセイジユシソセイブツカラナルゲンケイ |
JPS5243090A (en) * | 1975-10-03 | 1977-04-04 | Hitachi Ltd | Remote supervisory control system |
DE2652304C2 (de) * | 1976-11-17 | 1987-04-23 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Negativ arbeitendes lichtempfindliches Gemisch und damit hergestellte lichtempfindliche Flachdruckplatte |
DE2861486D1 (en) * | 1977-11-21 | 1982-02-18 | Ciba Geigy Ag | Process for the application of soldering masks to printed circuits with through holes for contacting |
JPS54152091A (en) * | 1978-05-22 | 1979-11-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
US4278752A (en) * | 1978-09-07 | 1981-07-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flame retardant radiation sensitive element |
BR8001021A (pt) * | 1979-02-26 | 1980-10-29 | Du Pont | Material resistente de pelicula seca, rolo ajustado, mascara de solda e processo para a modificacao seletiva de uma superficie |
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