DE69424031T2 - Ein Tetrazol enthaltender Verfärbungsinhibitor für photopolymerisierbare Zusammensetzungen - Google Patents
Ein Tetrazol enthaltender Verfärbungsinhibitor für photopolymerisierbare ZusammensetzungenInfo
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 38
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 title claims description 16
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 title claims description 8
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 title description 7
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 25
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 18
- -1 hydroxy-substituted tetrazoles Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 11
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 7
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 4
- 238000010186 staining Methods 0.000 claims description 4
- INOGLHRUEYDAHX-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(Cl)N=NC2=C1 INOGLHRUEYDAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JMTMSDXUXJISAY-UHFFFAOYSA-N 2H-benzotriazol-4-ol Chemical compound OC1=CC=CC2=C1N=NN2 JMTMSDXUXJISAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YTZPUTADNGREHA-UHFFFAOYSA-N 2h-benzo[e]benzotriazole Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=NNN=C21 YTZPUTADNGREHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LSONXNMNZYBRDE-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC=C2NN=NC2=C1 LSONXNMNZYBRDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JVSMPWHQUPKRNV-UHFFFAOYSA-N 2h-tetrazol-5-amine;hydrate Chemical compound O.NC=1N=NNN=1 JVSMPWHQUPKRNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-benzotriazole Chemical compound CC1=CC=CC2=NNN=C12 CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N hydroxybenzotriazole Substances O=C1C=CC=C2NNN=C12 NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 claims description 2
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 claims 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- BATOPAZDIZEVQF-MQQKCMAXSA-N (E,E)-2,4-hexadienal Chemical compound C\C=C\C=C\C=O BATOPAZDIZEVQF-MQQKCMAXSA-N 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical class [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004322 Butylated hydroxytoluene Substances 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical group OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- FTZLWXQKVFFWLY-UHFFFAOYSA-L disodium;2,5-dichloro-4-[3-methyl-5-oxo-4-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]-4h-pyrazol-1-yl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].CC1=NN(C=2C(=CC(=C(Cl)C=2)S([O-])(=O)=O)Cl)C(=O)C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FTZLWXQKVFFWLY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical class CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 239000012949 free radical photoinitiator Substances 0.000 description 2
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical class OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- BATOPAZDIZEVQF-UHFFFAOYSA-N sorbic aldehyde Natural products CC=CC=CC=O BATOPAZDIZEVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012756 tartrazine Nutrition 0.000 description 2
- 239000004149 tartrazine Substances 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- CZIRZNRQHFVCDZ-UHFFFAOYSA-L titan yellow Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(C)C(S([O-])(=O)=O)=C2SC(C3=CC=C(C=C3)/N=N/NC3=CC=C(C=C3)C3=NC4=CC=C(C(=C4S3)S([O-])(=O)=O)C)=NC2=C1 CZIRZNRQHFVCDZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019235 yellow 2G Nutrition 0.000 description 2
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSKCCZIUZNTICH-ZPYUXNTASA-N (e)-but-2-enoic acid;ethenyl acetate Chemical compound C\C=C\C(O)=O.CC(=O)OC=C VSKCCZIUZNTICH-ZPYUXNTASA-N 0.000 description 1
- AAFCVNRTKWSHAI-MKWAYWHRSA-N (z)-4-butoxy-4-oxobut-2-enoic acid;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O AAFCVNRTKWSHAI-MKWAYWHRSA-N 0.000 description 1
- XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethylanthracene-9,10-dione Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C(=O)C2=C1C XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZESNEXPGASJRZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrobenzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1CCCC2=CC=C3C(=O)C4=CC=CC=C4C(=O)C3=C21 AZESNEXPGASJRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C)=CC=C2C DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-(4-methoxyphenoxy)propan-2-ol Chemical compound COC1=CC=C(OCC(O)CN)C=C1 KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical class CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical compound SC=1N=CNN=1 AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(C)=C2 KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical group O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(Cl)=C2 YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpent-4-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC=C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound CC1=CC(=O)C=CC1=O VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical class CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,2,5,5-tetramethylhexan-3-one Chemical compound CC(C)(C)C(O)C(=O)C(C)(C)C YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 7,8,9,10-tetrahydrotetracene-1,2-dione Chemical compound C1CCCC2=C1C=C1C=C3C=CC(=O)C(=O)C3=CC1=C2 RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N CI Basic red 9 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[NH2+])C=C1 JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100027898 Homo sapiens OCR1 gene Proteins 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical group COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical group CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100026725 Ovarian cancer-related protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical group CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical group ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000008043 acidic salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical compound [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- FWXDJLWIMSYZNW-UHFFFAOYSA-M benzyl(dimethyl)sulfanium;hydroxide Chemical class [OH-].C[S+](C)CC1=CC=CC=C1 FWXDJLWIMSYZNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FAJDWNKDRFAWLS-UHFFFAOYSA-N benzyl-[9-(diethylamino)benzo[a]phenoxazin-5-ylidene]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].O1C2=CC(N(CC)CC)=CC=C2N=C(C2=CC=CC=C22)C1=CC2=[NH+]CC1=CC=CC=C1 FAJDWNKDRFAWLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,3-disulfonate Chemical compound C=COS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)OC=C)=C1 FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC=C)C=C1 IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZARYXGAVDEJAY-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butane-1,4-disulfonate Chemical compound C=COS(=O)(=O)CCCCS(=O)(=O)OC=C SZARYXGAVDEJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229940095259 butylated hydroxytoluene Drugs 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- FPVGTPBMTFTMRT-UHFFFAOYSA-L disodium;2-amino-5-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C(N)=CC=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FPVGTPBMTFTMRT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MQRJBSHKWOFOGF-UHFFFAOYSA-L disodium;carbonate;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O MQRJBSHKWOFOGF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical group CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- SQHOAFZGYFNDQX-UHFFFAOYSA-N ethyl-[7-(ethylamino)-2,8-dimethylphenothiazin-3-ylidene]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].S1C2=CC(=[NH+]CC)C(C)=CC2=NC2=C1C=C(NCC)C(C)=C2 SQHOAFZGYFNDQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 235000019233 fast yellow AB Nutrition 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- WDPIZEKLJKBSOZ-UHFFFAOYSA-M green s Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C2=CC=C(C=C2C=C(C=1O)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 WDPIZEKLJKBSOZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical class C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical class CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical group CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical class 0.000 description 1
- DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L methyl green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYJPRUDFDZPCBH-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethoxy)ethyl]prop-2-enamide Chemical compound OCCOCCNC(=O)C=C BYJPRUDFDZPCBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005002 naphthylamines Chemical class 0.000 description 1
- IPSIPYMEZZPCPY-UHFFFAOYSA-N new fuchsin Chemical compound [Cl-].C1=CC(=[NH2+])C(C)=CC1=C(C=1C=C(C)C(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C(C)=C1 IPSIPYMEZZPCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical group COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N propynoic acid Chemical compound OC(=O)C#C UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229940076133 sodium carbonate monohydrate Drugs 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- AXMCIYLNKNGNOT-UHFFFAOYSA-N sodium;3-[[4-[(4-dimethylazaniumylidenecyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)-[4-[ethyl-[(3-sulfophenyl)methyl]amino]phenyl]methyl]-n-ethylanilino]methyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].C=1C=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[N+](C)C)C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC=2C=C(C=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 AXMCIYLNKNGNOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- LPSWFOCTMJQJIS-UHFFFAOYSA-N sulfanium;hydroxide Chemical class [OH-].[SH3+] LPSWFOCTMJQJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJMBCXLDXJUMFB-GLCFPVLVSA-K tartrazine Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=NN(C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 UJMBCXLDXJUMFB-GLCFPVLVSA-K 0.000 description 1
- 229960000943 tartrazine Drugs 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CRUVUWATNULHFA-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[P+](C)(C)C CRUVUWATNULHFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical class [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical class [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UJMBCXLDXJUMFB-UHFFFAOYSA-K trisodium;5-oxo-1-(4-sulfonatophenyl)-4-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]-4h-pyrazole-3-carboxylate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=NN(C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 UJMBCXLDXJUMFB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical group C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Chemical class CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/085—Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/12—Using specific substances
- H05K2203/122—Organic non-polymeric compounds, e.g. oil, wax or thiol
- H05K2203/124—Heterocyclic organic compounds, e.g. azole, furan
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/064—Photoresists
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/108—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by semi-additive methods; masks therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/389—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of a coupling agent, e.g. silane
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Description
- Diese Erfindung betrifft eine verbesserte photopolymerisierbare Zusammensetzung zur Verwendung in Beschichtungs- und Ätzvorgängen, die bei der Herstellung von gedruckten Leiterplatten und in chemischen Mahlvorgängen zum Einsatz kommen.
- Aus dem Stand der Technik sind viele Beispiele für photopolymerisierbare Zusammensetzungen bekannt, die einen Haftvermittler verwenden. Diese Haftvermittler können den Zusammensetzungen oder auch einem Substrat vor dem Laminieren des Substrats mit einer lichtunempfindlichen Deckschicht zugesetzt werden. Diese Haftvermittler arbeiten vergleichsweise gut, allerdings weisen Zusammensetzungen, die diese Haftvermittler einschließen, ein kleines Prozeßfenster bezüglich der Haltezeit nach dem Laminieren auf.
- Wenn ein kupferbedecktes Laminat mit Zusammensetzungen beschichtet wird, die Mercaptotriazol, Imidazol, etc. enthalten, ist es ein allgemeines Problem, daß bereits bei Haltezeiten von nur einem Tag eine Verfärbung der Kupferschicht auftritt. Die Verfärbung der Kupferschicht führt zu einer Hemmung des Ätzens, das den Druck- und Ätzvorgang behindert. Bei Beschichtungsvorgängen kann eine Verfärbung unter Verwendung herkömmlicher Reinigungsmittel schwer zu entfernen sein und führt zu unbeschichteten Stellen, die beim daraus hergestellten Endprodukt offene Leitungen verursachen.
- Die JP-A- 59048752 beschreibt photopolymerisierbare Zusammensetzungen, die ein Monomer, ein Harz und wenigstens einen Bestandteil ausgewählt aus der Gruppe von Imidazol, Thiazol, Tetrazol und deren Derivaten aufweisen.
- Die vorliegende Erfindung gemäß Anspruch 1 bezieht sich auf eine verfärbungsresistente photopolymerisierbare Zusammensetzung, die ein Haftvermittlersystem unter Verwendung eines Tetrazols in Kombination mit einem verfärbenden Haftvermittler auf Basis von Benzotriazol aufweist. Die verfärbungsresistente photopolymerisierbare Zusammensetzung weist weiter einen polymeren Binder, ein multifunktionales Monomer, einen Photoinitiator in Form eines freien Radikals und wahlweise einen zugesetzten thermischen Hemmstoff auf.
- Diese Erfindung stellt insbesondere eine photopolymerisierbare Zusammensetzung als System zur Haftvermittlung bereit, die Tetrazole in Verbindung mit verfärbenden Haftvermittlern verwendet, ausgewählt von Benzotriazolen. Die Zusammensetzung enthält zusätzlich einen polymeren Binder, ein multifunktionales Monomer, ein freies Radikal als Photoinitiator und optional einen zugesetzten thermischen Hemmstoff. Zusätzlich kann die photopolymerisierbare Zusammensetzung Farbstoffe, Weichmacher und andere Zusätze enthalten, um die physikalischen und chemischen Eigenschaften der Zusammensetzung zu verbessern.
- Unter den für diese Erfindung nützlichen Tetrazolen befinden sich substituierte Tetrazole, wobei das Tetrazol substituiert ist mit einer Gruppe die ausgewählt ist aus der Gruppe von Aryl, Mercapto, Alkyl, Amin, substituiertem Amin und Hydroxygruppen. Unter den substituierten Tetrazolen gemäß dieser Erfindung befinden sich 5-Aminotetrazolmonohydrat und 5-Phenyltetrazol.
- Die substituierten Tetrazole liegen in der photopolymerisierbaren Zusammensetzung von etwa 0,001 bis 1 Gew.-%, bevorzugt von etwa 0,01 bis 0,5 Gew.-% und mehr bevorzugt von etwa 0,01 bis 0,1 Gew.-% vor.
- Verfärbende Haftvermittler sind dem Fachmann bekannt und allgemein bekannt als die Bestandteile, die verwendet werden, um die Haftung von photopolymerisierbarem Material an leitfähigen Substraten zu verbessern, während sie die Tendenz aufweisen, Flecken zu bilden, die das Ätzen in nachfolgenden Verarbeitungsschritten verlangsamen können. Im allgemeinen ist der verfärbende Haftvermittler wenigstens eine Komponente ausgewählt aus der Gruppe von Benzotriazol, Derivaten davon und Salzen davon. Die Bezeichnung "Derivate davon" wie hierin verwendet meint die Bestandteile, in denen eines oder mehrere Wasserstoffatome substituiert werden mit wenigstens einer Alkylgruppe, Arylgruppe, Nitrogruppe, Halogen, Aminogruppe, Hydroxylgruppe, Carboxylgruppe oder dergleichen, oder diejenigen, in denen der Benzolring durch einen Naphthalinring substituiert worden ist. Die Bezeichnung "Salze davon" bedeutet saure Salze, wie Hydrochloride, Acetate, etc. dieser Bestandteile, Aminsalze, etc.
- Bevorzugte Beispiele dieser Komponenten sind Benzotriazol, Benzotriazolhydrochlorid, 1-Chlorbenzotriazol, Hydroxybenzotriazol, Naphthotriazol, Methylbenzotriazol und Aminsalze, etc. davon. Unter den Salzen werden Hydrochloride wegen ihrer leichten Herstellbarkeit bevorzugt. Ein erkennbarer Effekt der Zugabe dieser Komponenten kann erreicht werden durch einen Komponentengehalt von etwa 0,001 Gew.-% oder mehr in der photoempfindlichen Harzzusammensetzung, aber bevorzugt wird diese Komponente der photoempfindlichen Harzzusammensetzung in einer Menge von etwa 0,01 bis 3 Gew.-% zugegeben. Haftvermittler auf der Basis von Benzotriazol, die zu Verfärbungen führen, sind in dem US- Patent 4,438,190 beschrieben, das durch Bezugnahme in die vorliegende Beschreibung übernommen wird.
- Die anderen Bestandteile sind identisch mit den in der Patentliteratur beschriebenen, nämlich dem US-Patent 3,953,309 und dem US-Patent 3,887,450.
- Die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen dieser Erfindung bestehen aus (1) etwa 10 bis 60 Gewichtsteilen eines multifunktionalen Monomers, (2) etwa 40 bis 90 Gewichtsteilen des oben genannten Bindemittels, (3) etwa 0,001 bis 10 Gewichtsteilen eines konventionellen Initiators in Form eines freien Radikals, und (4) etwa 0,001 bis 5 Gewichtsteilen eines konventionellen zugesetzten thermischen Polymerisationshemmstoffs. Zusätzlich können die Zusammensetzungen geeignete Farbstoffe und Pigmente und andere Zusätze enthalten, wie Weichmacher und Haftvermittler, die erforderlich sein können, um die physikalischen und chemischen Eigenschäften der photopolymerisierbaren Zusammensetzung zu verbessern.
- Das multifunktionale Monomer ist typischerweise eine konventionelle, zugesetzte, polymerisierbare und ethylenisch ungesättigte Komponente. Die ethylenisch ungesättigte Komponente muß wenigstens eine Endethylengruppe (CH&sub2; = C < ) aufweisen, die einen Siedepunkt von etwa 100ºC bei Atmosphärendruck hat und in der Lage ist, ein hohes Polymer durch eine photoerregte kettenbildende Polymerisation auf Grund freier Radikale zu bilden. Derartige Komponenten sind in dem US-Patent 2,760,863 beschrieben.
- Bevorzugt liegen die Komponenten bei 20ºC und Atmosphärendruck in nichtgasförmigem Zustand vor, haben 1 bis 4 oder mehr Ethylenendgruppen, bevorzugt 2 bis 3 oder mehr, und weisen eine Weichmacherfunktion des thermoplastischen polymeren Binders auf. Geeignete Komponenten, die alleine oder in Kombination benutzt werden können, umfassen eine Alkylen- oder Polyalkylenglykoldiacrylat, zubereitet aus den Alkylenglykolen, die 2 bis 15 Kohlenstoffatome oder Polyalkylenetherglykolen mit 1 bis 10 Etherbindungen.
- Wegen ihrer im allgemeinen raschen Rate von Unlöslichkeit bei Belichtung, die vermutlich auf eine vergleichsweise rasche Bildung einer netzwerkartigen Polymerstruktur zurückzuführen ist, ist eine herausragende Klasse der zugesetzten polymerisierbaren Komponenten mit geringem Molekulargewicht diejenige, die eine Vielzahl von zugesetzten polymerisierbaren Ethylenbindungen aufweist, insbesondere, wenn diese als Endbindungen vorliegen und besonders diejenigen, bei denen wenigstens eine und bevorzugt die meisten dieser Bindungen konjugiert sind mit einem doppelt gebundenen Kohlenstoffatom, darunter auch eine Doppelbindung zwischen zwei Kohlenstoffatomen und zu derartigen heterogenen Atomen wie Stickstoff, Sauerstoff und Schwefel. Bevorzugt sind die zugesetzten polymerisierbaren Komponenten mit geringem Molekulargewicht derartige Materialien, in denen die ethylenisch ungesättigten Gruppen, insbesondere die Vinylidengruppen, mit Ester oder Amidstrukturen konjugiert sind. Die folgenden besonderen Komponenten erläutern diese Klasse weiter: ungesättigte Ester von Polyolen, besonders solche Ester der Methylencarbonsäuren, beispielsweise Ethylendiacrylat; Diethylenglykoldiacrylat; Glycerindiacrylat; Glycerintriacrylat; Ethylendimethacrylat; 1,3-Popylendimethacrylat; 1,2,4-Butantrioltrimethacrylat; 1,4-Benzoldioldimethacrylat; Pentaerythritoltetramethacrylat; 1,3-Propandioldiacrylat; 1,5-Pentandioldimethacrylat; die Bisacrylate und Methacrylate des Polyethylenglykols mit einem Molekulargewicht von 200 bis 500, und dergleichen; ungesättigte Amide, insbesondere solche der Methylencarbonsäuren, und besonders bevorzugt solche der alpha, omega-Diamine und sauerstoffunterbrochenen omega- Diamine, solche wie Methylenbisacrylamid; Methylenbismethacrylamid; 1,6- Hexamethylenbisacrylamid; Diethylentriamintrismethacrylamid; Bis(methacrylamidpropoxy)ethan; Beta-methacrylamidethylmethacrylat; N-[(betahydroxyethyloxy)ethyl]acrylamid; Vinylestern, solche wie Divinylsuccinat, Divinyladipat, Divinylphthalat, Divinylterephthalat, Divinylbenzol-1,3-disulfonat, und Divinylbutan-1,4-disulfonat; und ungesättigte Aldehyde, solche wie Sorbaldehyd (hexadienal).
- Die bevorzugten monomeren Komponenten sind di- oder polyfunktional. Monofunktionale Monomere können auch zusammen mit multifunktionalen Monomeren verwendet werden, bei denen die Gesamtfunktionalität der verwendeten Monomere 2 oder größer ist. Die Menge des zugesetzten Monomers hängt von dem jeweiligen thermoplastischen Polymer ab.
- Der styrolartige Anteil des polymeren Binders kann die allgemeine Formel haben:
- wobei R ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder eine Halogruppe ist. Der Benzolring kann ringförmig substituiert werden mit funktionellen Gruppen, wie Nitro, Alkoxy, Acyl, Carboxyl, Sulpho, Hydroxyl oder Halo. Es können 1 bis 5 Benzol Substituenten vorliegen, wobei die Substituenten bevorzugt eine einzige Alkylgruppe wie eine Methyl- oder t-Butyl- Gruppe sind. Die am meisten bevorzugten dieser Komponenten sind Styrol, alpha-Methylstyrol, para-Methylstyrol und parat-Butylstyrol.
- Der Vinylmonomeranteil des polymeren Binders ist nicht sauer und hat die allgemeine Formel:
- wobei X ein Wasserstoffatom ist, Y ist OOCR&sub1;, OR&sub1;, OCR&sub1;, COOR&sub1;, CN, CH&sub2;=CH, CONR&sub3;R&sub4; oder Cl; wenn X Methyl ist, Y ist COOR&sub1;, CN, CH&sub2;=CH oder CONR&sub3;R&sub4;; und wenn X ist Cl, Y ist Cl; und R, und R&sub2; eine Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen ist, ein Phenyl auf einer Benzylgruppe und R&sub3; und R&sub4; Wasserstoffatome sind, eine Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen oder einer Benzylgruppe.
- Beispiele dieser Vinylmonomere sind Vinylacetat, Vinylbutyrat, Vinylbenzoat, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Methylmethacrylat und Methacrylat, Acrylnitril und Methacrylnitril, Methacrylamid, und alkylsubstituierte Acrylamide, Vinylmethylketon, Vinylpropylketon, Vinylmethylethyl, Vinylethylether und Vinylhexylether.
- Das zweite Comonomer kann ein oder mehrere Monomere eines ungesättigten Carboxyls von 3 bis 15, vorzugsweise von 3 bis 6 Kohlenstoffatomen enthalten. Am meisten bevorzugte Komponenten sind Acrylsäure und Methacrylsäure. Andere Säuren, die angewendet werden können, sind Cinnamylsäure, Crotonsäure, Sorbinsäure, Propiolsäure, Maleinsäure, Fumarsäure und entsprechende Halbester oder wo möglich das entsprechende Anhydrid. Die Erfindung ist besonders nützlich, wenn Alkylstyrolmaleatcopolymere als Bindungsmittel verwendet werden.
- Das Verhältnis von Styrol oder der Vinylkomponente zu den saueren Comonomeren ist so ausgewählt, daß das Copolymer in dem wäßrigen Alkalimedium löslich ist. Falls die Menge des Stryols oder Vinylmonomers zu groß ist, wird der unbelichtete Anteil nicht genügend löslich sein; das heißt, falls die Menge von Styrol oder Vinylmonomer zu niedrig ist, wird der belichtete Bereich klebrig, aufgequollen oder aufgelöst in dem wäßrigen Alkali.
- Vorteilhafte Comonomer-Verhältnisse für Styrolsäuren oder Methacrylsäuren sind 70 : 30 bis 85 : 15; für Styrolmonobutylmaleat 35 : 65 bis 75 : 30; und für Vinylacetatcrotonsäure 70 : 30 bis 95 : 5. Der Polymerisationsgrad des Bindungscopolymers ist derart, daß solche Binder einen nichtklebrigen Film nach Belichtung und Entwicklung bilden. Im weitesten Sinne liegt das Molekulargewicht zwischen etwa 1.000 und etwa 500.000. Die Verhältnisbereiche für die Copolymere und der Polymerisationsgrad für die besonderen Binder können leicht durch Prüfen der Löslichkeit in der verdünnten Alkalilösung des vorliegenden Polymers bestimmt werden. Dieses zeigt ein Molekulargewicht von etwa 1.000 bis etwa 500.000. Als brauchbares Kennzeichen sollte das Bindercopolymer eine Viskosität von 100 bis 50.000 centipoise in einer 40%igen Lösung in Ketonen oder Alkohol aufweisen.
- Die Photoinitiatoren, die in den Zusammensetzungen angewandt werden, sind vorzugsweise diejenigen, die durch aktinisches Licht aktivierbar und thermisch in aktiv bei 185ºC oder niedriger sind. Diese schließen die substituierten und unsubstituierten polynuklearen Chinone ein, solche wie 9,10-Anthrachinon; 1-Chloranthrachinon, 2-Chloranthrachinon, 2-Methylanthrachinon; 2-Ethylanthrachinon; 2-t-Butylanthrachinon; Octamethylanthrachinon; 1,4-Naphthachinon; 9,10-Phenoanthrachinon; 1,2-Benzanthrachinon; 2,3-benzanthrachinon; 2-Methyl-1,4-naphthachinon; 2,3-Dichlornaphthachinon 1,4-dimethylanthrachinon; 2,3-Dimethylanthrachinon; 2-Phenylanthrachinon; 2,3-Diphenylanthrachinon; Natriumsalz von Anthrachinon-alpha-sulfonsäure; 3-Chlor-2-methylanthrachinon; Rectenchinon; 7,8,9,10-Tetrahydronaphthacenchinon; 1,2,3,4-Tetrahydrobenz(a)anthracen- 7,12-dion.
- Nachfolgende Photoinitiatoren, beschrieben in dem US-Patent 2,760,863, sind ebenfalls anwendbar, wovon einige bei Temperaturen von weniger als 85ºC thermisch aktiv sein können, sind: benachbarte Ketaldonyl-Komponenten, solche wie Diacetyl und Benzil; alpha-Ketaldonyl-Alkohole; solche wie Benzoin und Pivaloin, Acyloinether, beispielsweise Benzoinmethyl und Ethylether; alpha- Kohlenwasserstoff-substituierte aromatische Acyloine; alpha-Methylbenzoin, alpha-Allylbenzoin; und alpha-Phenylbenzoin.
- Silberpersulfat ist ebenfalls als freie Radikale erzeugender Initiator nützlich und durch aktinische Bestrahlung aktivierbar. Bestimmte aromatische Ketone, beispielsweise Benzophenon und 4,4'-bis-Dialkylaminbenzophenon, sind ebenfalls anwendbar.
- Thermische Polymerisationshemmstoffe liegen ebenfalls in den bevorzugten Komponenten vor. Diese schließen ein p-Methoxyphenol, Hydrochinon, und Alkyl und Aryl-substituierte Hydrochinone und Chinone, tert-Butylcatechin, Pyrogallol, Kupferresinat, Naphthylamine, Betanaphthol, Cuprochlorid, 2,6-Di-tert-butyl-p- cresol, Methylen-bis-(4-ethyl-6-t-butylphenol), Phenothiazin, Pyridin, Nitrobenzol, Dinitrobenzol, p-Toluchinon, Chloranil, Arylphosphite, und Arylalkylphosphite.
- Falls erwünscht können die Komponente Farbstoffe und Pigmente enthalten. Geeignete Farbgebungen können mit den photoempfindlichen Komponenten vereinbar sein und beeinträchtigen die Photosensitivität der Zusammensetzung kaum. Die folgenden spezifischen Zusammensetzungen werden erläutert in: Fuchsine (C. I. 42510); Auramine Base (C. I. 4100B); Calcocid Green S (C. I. 44090); Para Magenta (C. I. 42500); Tryparosan (C. I. 42505); New Magenta (C. I. 42520); Acid Violet RRH (C. I. 42425); Red Violet SRS (C. I. 42690); Nile Blue 2B (C. I. 51 185); New Methylene Blue GG (C. I. 51195); Cl. Basic Blue 20 (C. I. 42585); Iodone Green (C. I. 42556); Night Green B (C. I. 421 15); C. I. Direct Yellow 9 (C. I. 19540); C. I. Acid Yellow 17 (C. I. 18965); C. I. Acid Yellow 29 (C. I. 18900); Tartrazine (C. I. 19140); Supramine Yellow G (C. I. 19300); Buffalo Black 10B (C. I. 27790); Naphthalene Black 12R (C. I. 20350); Fast Black L (C. I. 51215); Ethyl Violet (C. I. 42600); Pontacyl Wool Blue BL (C. I. 50315); Pontacyl Wood Blue GL (C. I. 52320). (Die Nummern wurde der zweiten Ausgabe des Color Index entnommen).
- Die photopolymerisierbaren Elemente werden einer aktinischen Strahlung ausgesetzt. Dies kann durch ein Halbschattenbild oder ein Transparenzverfahren, beispielsweise ein Negativ- oder Positivverfahren, Schablone oder eine Maske erfolgen. Die Belichtung kann auch durch einen fortwährenden Ton, Negativ- oder Positivbild erfolgen. Die Belichtung kann erfolgen durch Kontakt- oder Projektionsmethoden, mit oder ohne ein Deckblatt über der polymerisierbaren Schicht oder durch Projektion unter Verwendung eines Deckblatts.
- Da freie Radikale erzeugende Additionspolymerisationsinitiatoren, die durch aktinische Strahlung aktivierbar sind, ihre maximale Sensitivität im ultravioletten Bereich zeigen, sollte die Strahlungsquelle eine wirksame Menge dieser Strahlung liefern. Es sind sowohl Punkt- als auch Weitstrahlenquellen wirksam. Solche Quellen schließen ein Lichtbogen, Quecksilberlichtbogen, Fluorescenzlampen mit ultraviolettem strahlendem Phosphor, Argonglühlampen, elektronische Blitzeinheiten und Photoblitzeinheiten, beispielsweise Carbonate und Biscarbonate der oben genannten Amine; Ammoniumhydroxid und tetrasubstituiertes Ammoniumhydroxide, beispielsweise Tetramethyl-, Tetraethyl-, Trimethylbenzyl-, und Trimethylphenylammoniumhydroxide, Sulfoniumhydroxide, beispielsweise Trimethyl-, Dimethyl-, Dimethylbenzylsulfoniumhydroxide, und die basisch löslichen Salze davon, beispielsweise Carbonate, Biscarbonate und Sulfide, Alkalimetallphosphate und Pyrophosphate, beispielsweise Natrium und Kaliumpyrophosphate, tetrasubstituiertes (vorzugsweise Whollyalkyl) Phosponium, Arsonium und Stibonhydroxide, beispielsweise, Tetramethylphosphoniumhydroxid.
- Im allgemeinen können die photopolymerisierten Bestandteile durch Eintauchen in erhitze wäßrige Lösungen eines starken Alkalis entfernt werden oder, falls erforderlich, in aus dem Stand dar Technik bekannten Strippingformeln.
- Die Zusammensetzung ist sehr nützlich bei alkalischen Ätzverfahren, besonders für feine Ätzlinien, wo eine übermäßige Haftfestigkeit gefordert ist, um ein Abheben der Beschichtung zu verhindern.
- Die vorliegende Erfindung findet weiterhin Beachtung durch die Bezugnahme auf die folgenden Beispiele, die natürlich beispielhaft für nur die vorliegende Erfindung sind und auf keinen Fall die beschriebenen Einzelheiten der vorliegende Erfindung in irgendeiner Weise beschränken. Somit sind im folgenden ausschließlich Beispiele als uneingeschränkt angegeben, um die vorliegende Erfindung weiter zu erläutern. Alle Mengen und Prozente sind Gewichtsangaben, wenn nicht anders angegeben.
- Die folgenden Beispiele zeigen die nützliche Verbindung von 5-Aminotetrazolmonohydrat und Benzotriazol, um die Haftfestigkeit bei einem Alkali-Ätzverfahren zu unterstützen. Alle Formeln sind vermischt, aufgetragen und getrocknet auf ein Polyestersubstrat, auf ein kupferbeschichtetes Substrat laminiert, für 5 Tage gehalten, belichtet durch aktinische Bestrahlung, entwickelt in 1 Gew.-% Natriumcarbonatmonohydrat und geätzt in einem ammoniakalischen Ätzer bei einem Ätz- pH von 8.2 bis 8.8 und einem Nachfüll-pH von 9.0 bis 10.2. Die Ätzgeschwindigkeit war auf das saubere Ätzen einer 2 Unzen Kupferplatte ohne Kupferrückstände eingestellt. Die Leistung der Beschichtung wurde durch Prüfen des Prozentsatzes der verbleibenden Linien und der kleinsten auf der Platte verbleibenden Linien der Beschichtung und das Vorhandensein von überschüssigem Kupfer, welches auf der Platte verblieb und zu Abstandsverletzungen oder Kurzschlüssen führt. Beispiel 1
- Bemerkung:
- SMA550 ist ein Alkylmaleatstyrol-Copolymer, lieferbar von der Monsanto Company, St. Louis, MO.
- Reomet 42 ist ein Polytriazol-Derivat, lieferbar von Ciba-Geigy Corporation, Hawthrone, NY.
- TMPTA ist Trimethylolpropantriacrylat, lieferbar von Sartomer Company, Exton, PA.
- Die Haftfestigkeit ist bestimmt als Prozentsatz der Widerstandslinien, die nach dem Ätzen auf dem Feld verbleiben.
- Die erhaltene feinste Linie ist bestimmt als die kleine Linie, die nach dem Ätzen auf dem Feld verbleibt.
- Tabelle II zeigt ein Experiment die Auswirkung der Benzotriazol-Konzentration bei Ätzresultaten. Die Beispiele werden vorbereitet und durchgeführt wie in Beispiel 1.
- Bemerkung:
- SMA640 - Butylmaleatstyrol-Copolymer, lieferbar durch Monsanto Company, St. Louis, MO.
- SR454 - Trimethylpropanpolyoxyethylentriacrylat, lieferbar durch Sartomer Company, Exton, PA.
- BHT - butyliertes Hydroxytoluol, lieferbar durch Shell Company, Houston, TX.
- DMPAP -Dimethoxyphenylacetophenon, lieferbar durch Ciba Geigy Corporation, Hawthrone, NY.
- EDB - Ethyldimethylactetophenon, lieferbar durch Aceto Corporation, Flushing, NY.
- ITX - Isopropylthioxyanthon, lieferbar durch Aceto Corporation, Flushing, N. Y.
- Obwohl die Erfindung unter Bezugnahme auf bestimmte Mittel, Materialien und Anwendungen beschrieben wurde, kann ein Fachmann die wesentlichen Merkmale der Erfindung einfach bestimmen.
Claims (15)
1. Photopolymerisierbare Zusammensetzung, die ein Tetrazol und ein
Benzotriazol als verfärbenden Haftvermittler, einen polymeren Binder,
ein multifunktionales Monomer und ein freies Radikal als Photoinitiator
aufweist.
2. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, die weiter
einen zugesetzten thermischen Hemmstoff, einen Farbstoff und einen
Weichmacher aufweist.
3. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1 oder 2,
wobei das Tetrazol in der photopolymerisierbaren Zusammensetzung
in einer Menge von etwa 0,001 bis 1 Gewichtsprozent vorliegt.
4. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, 2 oder 3,
wobei die Zusammensetzung etwa 0,01 bis 3 Gewichtsprozent des
Benzotriazols als verfärbenden Haftvermittler, etwa 10 bis 60
Gewichtsteile des multifunktionalen Monomers, etwa 40 bis 90
Gewichtsteile des Bindemittels, etwa 0,001 bis 10 Gewichtsteile des
freien Radikals als Initiator und etwa 0,001 bis 5 Gewichtsteile des
zugesetzten thermischen Polymerisationshemmstoffs aufweist.
5. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach einem der Ansprüche
1 bis 4, wobei das Tetrazol aus der Gruppe von Aryl, Mercapto, Alkyl,
Amin oder substituierten Amin-substituierten Tetrazolen und
Hydroxysubstituierten Tetrazolen ausgewählt ist.
6. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach einem der Ansprüche
1 bis 4, wobei das Tetrazol 5-Aminotetrazol Monohydrat aufweist.
7. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, wobei das Benzotriazol als verfärbender
Haftvermittler aus der Gruppe von Benzotriazolen und Derivaten davon und
Salzen von Benzotriazolen und Benzotriazolderivaten ausgewählt ist.
8. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach einem der Ansprüche
1 bis 6, wobei das Benzotriazol als verfärbender Haftvermittler aus
Benzotriazol; Benzotriazol, in dem wenigstens ein Wasserstoffatom
ersetzt ist durch eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Nitrogruppe,
ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Hydroxylgruppe oder eine
Carboxylgruppe oder in dem der Benzenering durch einen
Naphtalenring substituiert worden ist; Salzen von Benzotriazol und den oben
genannten substituierten Benzotriazolen; und Aminsalzen von
Benzotriazol und den oben genannten substituierten Benzotriazolen ausgewählt
ist.
9. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach einem der Ansprüche
1 bis 6, wobei das Benzotriazol als verfärbender Haftvermittler aus
Benzotriazol, Benzotriazolhydrochlorid, 1-Chlorobenzotriazol,
Hydroxybenzotriazol, Naphtotriazol, Methylbenzotriazol und Aminsalzen davon
ausgewählt ist.
10. Verfahren zum Herstellen einer gedruckten Leiterplatte, das die
Schritte von
a) Auftragen einer Schicht der photopolymerisierbaren
Zusammensetzung nach einem der vorhergehenden Ansprüche auf ein mit
Kupfer plattiertes Laminat;
b) Aussetzen der Schicht einer Quelle chemisch wirksamer
Strahlung, um photopolymerisierte Zusammensetzungen zu bilden; und
c) Entfernen der photopolymerisierten Zusammensetzung von dem
mit Kupfer plattierten Laminat
aufweist.
11. Verwendung eines Tetrazols, um die Fleckenbildung auf plattiertem
Kupfer durch eine photopolymerisierbare Zusammensetzung zu
verringern, die ein Benzotriazol als verfärbenden Haftvermittler, einen
polymerischen Binder, ein multifunktionales Monomer und ein freies
Radikal als Photoinitiator aufweist, wobei dieses Tetrazol in dieser
photopolymerisierbaren Zusammensetzung aufgenommen ist.
12. Verwendung nach Anspruch 1, wobei die photopolymerisierbare
Zusammensetzung auch einen zugesetzten thermischem Hemmstoff
aufweist.
13. Verwendung nach Anspruch 11 oder 12, wobei das Benzotriazol als
verfärbender Haftvermittler aus der Gruppe von Benzotriazolen,
Deri
vaten davon, und Salzen von Benzotriazolen und Benzotriazolderivaten
ausgewählt ist.
14. Verwendung nach Anspruch 11 oder 12, wobei das Benzotriazol als
verfärbender Haftvermittler aus Benzotriazol; Benzotriazol, in dem
wenigstens ein Wasserstoffatom ersetzt ist durch eine Alkylgruppe,
eine Arylgruppe, eine Nitrogruppe, ein Halogenatom, eine
Aminogruppe, eine Hydroxylgruppe oder eine Carboxylgruppe oder in dem der
Benzenering durch einen Naphtalenring substituiert worden ist; Salzen
von Benzotriazol und den oben genannten substituierten
Benzotriazolen; und Aminsalzen von Benzotriazol und den oben genannten
substituierten Benzotriazolen ausgewählt ist.
15. Verwendung nach Anspruch 11 oder 12, wobei das Benzotriazol als
verfärbender Haftvermittler aus Benzotriazol, Benzotriazolhydrochlorid,
1-Chlorobenzotriazol, Hydroxybenzotriazol, Naphtotriazol,
Methylbenzotriazol und Aminsalzen davon ausgewählt ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB9326553A GB9326553D0 (en) | 1993-12-30 | 1993-12-30 | Staining inhibitor for photopolymerizable compositions |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69424031D1 DE69424031D1 (de) | 2000-05-25 |
DE69424031T2 true DE69424031T2 (de) | 2000-09-14 |
Family
ID=10747299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1994624031 Expired - Lifetime DE69424031T2 (de) | 1993-12-30 | 1994-12-29 | Ein Tetrazol enthaltender Verfärbungsinhibitor für photopolymerisierbare Zusammensetzungen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0665468B1 (de) |
JP (1) | JPH07209873A (de) |
CA (1) | CA2139278A1 (de) |
DE (1) | DE69424031T2 (de) |
GB (1) | GB9326553D0 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101747259B1 (ko) | 2012-12-28 | 2017-06-14 | 삼성전기주식회사 | 알킬 설폰화된 테트라졸 화합물로 표면 개질된 실리카, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 수지조성물 |
KR101956281B1 (ko) | 2013-08-13 | 2019-03-08 | 삼성전기주식회사 | 수지 조성물, 이를 이용한 인쇄회로기판 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5948752A (ja) * | 1982-09-13 | 1984-03-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPS59125726A (ja) * | 1983-01-06 | 1984-07-20 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光重合性樹脂組成物 |
JPS61166541A (ja) * | 1985-01-19 | 1986-07-28 | Fuotopori Ouka Kk | 光重合性組成物 |
US4629679A (en) * | 1985-02-12 | 1986-12-16 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Tetrazole compound-containing photopolymerizable resin composition |
JP2606259B2 (ja) * | 1988-03-02 | 1997-04-30 | 東洋紡績株式会社 | 光重合性組成物 |
-
1993
- 1993-12-30 GB GB9326553A patent/GB9326553D0/en active Pending
-
1994
- 1994-12-29 EP EP19940309909 patent/EP0665468B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-29 DE DE1994624031 patent/DE69424031T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-29 CA CA 2139278 patent/CA2139278A1/en not_active Abandoned
-
1995
- 1995-01-04 JP JP7795A patent/JPH07209873A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB9326553D0 (en) | 1994-03-02 |
EP0665468B1 (de) | 2000-04-19 |
CA2139278A1 (en) | 1995-07-01 |
EP0665468A1 (de) | 1995-08-02 |
DE69424031D1 (de) | 2000-05-25 |
JPH07209873A (ja) | 1995-08-11 |
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