JPS6090043A - 窒素酸化物浄化用触媒 - Google Patents
窒素酸化物浄化用触媒Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はボイラー、火力発電所、製鉄所などをはじめ各
種工場の固定燃焼装置から排出される排ガス中に含有さ
れる窒素酸化物(以下NOxとする)の浄化用触媒に関
する。特にN Oxおよび硫黄酸化物(主として二酸化
硫黄、以下SOxとする)を同時に含有する排ガスにア
ンモニアを還元剤として加え、接触的に反応させること
によシ効率よ(N Oxを無害な窒素と水とに分解し、
NOx還元除去反応と同時に生じる二酸化硫黄(SO2
)の二酸化硫黄(SO3)への酸化反応を実質的に抑制
し、かつ、耐久性にすぐれた性能を有する触媒を提供す
るものである。
種工場の固定燃焼装置から排出される排ガス中に含有さ
れる窒素酸化物(以下NOxとする)の浄化用触媒に関
する。特にN Oxおよび硫黄酸化物(主として二酸化
硫黄、以下SOxとする)を同時に含有する排ガスにア
ンモニアを還元剤として加え、接触的に反応させること
によシ効率よ(N Oxを無害な窒素と水とに分解し、
NOx還元除去反応と同時に生じる二酸化硫黄(SO2
)の二酸化硫黄(SO3)への酸化反応を実質的に抑制
し、かつ、耐久性にすぐれた性能を有する触媒を提供す
るものである。
排ガス中のNOx除去法としては、大別して吸着法、吸
収法及び接触還元法などがあるが、接触還元法が排ガス
処理量が大きく、かつ、廃水処理も不用であり、技術的
、経済的にも有利である。
収法及び接触還元法などがあるが、接触還元法が排ガス
処理量が大きく、かつ、廃水処理も不用であり、技術的
、経済的にも有利である。
接触還元法には還元剤としてメタン、LPG等の炭化水
素、水素あるいは一酸化炭素を用いる非選択的還元法と
還元剤としてアンモニアを用いる選択的蛋元法とがある
。後者の場合高礎度の酸素を含む排ガスでもNOxを選
択的に除去でき、又使用する還元剤も少量ですむため経
済的でもあり極めて有利な方法である。
素、水素あるいは一酸化炭素を用いる非選択的還元法と
還元剤としてアンモニアを用いる選択的蛋元法とがある
。後者の場合高礎度の酸素を含む排ガスでもNOxを選
択的に除去でき、又使用する還元剤も少量ですむため経
済的でもあり極めて有利な方法である。
アンモニアを還元剤とする選択的接触還元法における触
媒の備えるべき特質としては、第一に、排ガス中には酸
素、5OX1炭酸ガス、水蒸気、ハロゲン化合物、炭化
水素類等が含まれているがそれ等の共存ガスの影響を受
けないこと、第二に、広範囲の温度領域でしかも高空間
速度で十分な高性能を示すこと、第三に、排ガス中に存
在している煤塵にはバナジウム、ニッケル、鉄等の重金
属や、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属が含まれ
ているが、これ等の煤塵が付着しても触媒が被毒されな
いこと、第四に、排ガス中の二酸化硫黄(Sow)を三
酸化硫黄(Sow)に酸化する能力が実質的にないこと
、すなわち排ガス中に含まれているS02は触媒上で酸
化されてS Oaとなり触媒上に蓄積し脱硝活性が低下
したシ、又還元剤として添加しているアンモニアと反応
して、硫安、酸性硫安を生成し、これが煙道や熱交換器
等の諸設備に蓄積し、それと閉塞して円滑な操業を妨げ
る等の欠点がある。従って、極力SOxかG) S O
sへの酸化を抑制する触媒が望まれる。
媒の備えるべき特質としては、第一に、排ガス中には酸
素、5OX1炭酸ガス、水蒸気、ハロゲン化合物、炭化
水素類等が含まれているがそれ等の共存ガスの影響を受
けないこと、第二に、広範囲の温度領域でしかも高空間
速度で十分な高性能を示すこと、第三に、排ガス中に存
在している煤塵にはバナジウム、ニッケル、鉄等の重金
属や、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属が含まれ
ているが、これ等の煤塵が付着しても触媒が被毒されな
いこと、第四に、排ガス中の二酸化硫黄(Sow)を三
酸化硫黄(Sow)に酸化する能力が実質的にないこと
、すなわち排ガス中に含まれているS02は触媒上で酸
化されてS Oaとなり触媒上に蓄積し脱硝活性が低下
したシ、又還元剤として添加しているアンモニアと反応
して、硫安、酸性硫安を生成し、これが煙道や熱交換器
等の諸設備に蓄積し、それと閉塞して円滑な操業を妨げ
る等の欠点がある。従って、極力SOxかG) S O
sへの酸化を抑制する触媒が望まれる。
上記四点が触媒の備えるべき重要な特質である。
本発明者らは、脱硝活性が高く、耐久性も良好で、かつ
、S02酸化活性の低い触媒(たとえば特開昭52−1
22293号公報参照)を既に開示しているが石炭焚ボ
イラー排ガスやC重油焚ボイラー排ガスのようなSO□
含有量の多い排カスを対象とする場合更1/CS O*
酸化活性が低く、かつ脱硝活性の高い触媒が必要とされ
ることを知った。
、S02酸化活性の低い触媒(たとえば特開昭52−1
22293号公報参照)を既に開示しているが石炭焚ボ
イラー排ガスやC重油焚ボイラー排ガスのようなSO□
含有量の多い排カスを対象とする場合更1/CS O*
酸化活性が低く、かつ脱硝活性の高い触媒が必要とされ
ることを知った。
本発明者らが検討したところによると触媒中の酸化バナ
ジウムは優れた脱硝活性をもたらす一方8、0 * &
比活性を高める太き表原因となってする。
ジウムは優れた脱硝活性をもたらす一方8、0 * &
比活性を高める太き表原因となってする。
従って、酸化バナジウム含量を減少させることによps
o2酸化能を抑制することが可能であるが同時に脱硝活
性も低下せざるをえない。ここに触媒中の酸化バナジウ
ム含有量を減少させても脱硝活性を低下させない種々の
触媒組成物を検討する必要が生じる。
o2酸化能を抑制することが可能であるが同時に脱硝活
性も低下せざるをえない。ここに触媒中の酸化バナジウ
ム含有量を減少させても脱硝活性を低下させない種々の
触媒組成物を検討する必要が生じる。
本発明者らは上記の点に鑑み排ガス中にアンモニアを加
え、共存するSOX、ハロゲン化合物、煤塵などの影響
を受けることなく、高空間速度で効率よ(NOxを無害
な窯素に還元除去し、同時にSO□からSOsへの酸化
能力が極めて小さく、かつ耐久性のある触媒を得んと鋭
意研究した結果、触媒成分としてチタンおよびケイ素か
らなる二元系含水酸化物、チタンおよびジルコニウムか
らなる二元系含水酸化物ならびに、チタン、ケイ素およ
びジルコニウムからなる三元系含水酸化物中に硫酸およ
び/または硫安化合物を存在せしめて熱処理することに
より得られた複合金イオウ酸化物を用いて、これらにバ
ナジウム、さらにタングステン、スズ、モリブデン、セ
リウムなどを高分散状態で担持させることにより、得ら
れた触媒が上記の欠点を克服して長期にわたシ優れたN
Ox除去能力を持続し、かつ、運転上トラブルの少ない
ことを見い出し本発明を完成した。
え、共存するSOX、ハロゲン化合物、煤塵などの影響
を受けることなく、高空間速度で効率よ(NOxを無害
な窯素に還元除去し、同時にSO□からSOsへの酸化
能力が極めて小さく、かつ耐久性のある触媒を得んと鋭
意研究した結果、触媒成分としてチタンおよびケイ素か
らなる二元系含水酸化物、チタンおよびジルコニウムか
らなる二元系含水酸化物ならびに、チタン、ケイ素およ
びジルコニウムからなる三元系含水酸化物中に硫酸およ
び/または硫安化合物を存在せしめて熱処理することに
より得られた複合金イオウ酸化物を用いて、これらにバ
ナジウム、さらにタングステン、スズ、モリブデン、セ
リウムなどを高分散状態で担持させることにより、得ら
れた触媒が上記の欠点を克服して長期にわたシ優れたN
Ox除去能力を持続し、かつ、運転上トラブルの少ない
ことを見い出し本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下の如く特定しうるものである。
(1) 排ガス中の穿索酸化物をアンモニアと共に接触
的に反応せしめて選択還元する触媒として、チタンおよ
びケイ素からなる二元系含水酸化物、チタンおよびジル
コニウムからなる二元系含水酸化物またはチタン、ケイ
素およびジルコニウムからなる三元系含水酸化物中に硫
酸および/または硫安化合物を存在せしめて熱処理する
ことにより得られた含イオウ複合酸化物を触媒A成分と
し、バナジウム酸化物を触媒B成分とし、タングステン
、モリブデン、スズおよびセリウムよシなる群から選ば
れた少なくとも一種の元素の酸化物を触媒C成分として
なり、その組成がそれぞれAは80〜95重量%、Bは
0〜5重片係、Cは1〜15重量係の範囲に調整してな
ることを特徴とする窒素酸化物浄化用触媒。
的に反応せしめて選択還元する触媒として、チタンおよ
びケイ素からなる二元系含水酸化物、チタンおよびジル
コニウムからなる二元系含水酸化物またはチタン、ケイ
素およびジルコニウムからなる三元系含水酸化物中に硫
酸および/または硫安化合物を存在せしめて熱処理する
ことにより得られた含イオウ複合酸化物を触媒A成分と
し、バナジウム酸化物を触媒B成分とし、タングステン
、モリブデン、スズおよびセリウムよシなる群から選ば
れた少なくとも一種の元素の酸化物を触媒C成分として
なり、その組成がそれぞれAは80〜95重量%、Bは
0〜5重片係、Cは1〜15重量係の範囲に調整してな
ることを特徴とする窒素酸化物浄化用触媒。
(21触媒A成分の組成が原子百分率でチタン40〜9
5重量係、ケイ素および/またはジルコニウム5〜60
重量係、イオウ1.2〜7重量重量節囲よりなる、こと
を特徴とする上記(1)記載の触媒。
5重量係、ケイ素および/またはジルコニウム5〜60
重量係、イオウ1.2〜7重量重量節囲よりなる、こと
を特徴とする上記(1)記載の触媒。
(31含水酸化物の熱処理温度が450〜700℃の範
囲にあることを特徴とする上記(1)又はC21記載の
触媒。
囲にあることを特徴とする上記(1)又はC21記載の
触媒。
一般に、チタンおよびケイ素からなる二元系複合酸化物
(以下、Tie、−・S to、と略記)は例えば田部
浩三(触媒、第17巻、Na3+72頁(1975年)
によっても周知のように1固体酸として知られ、構成す
るおのおの単独の酸化物には見られない顕著な酸性を示
し、また高表面積を有する。
(以下、Tie、−・S to、と略記)は例えば田部
浩三(触媒、第17巻、Na3+72頁(1975年)
によっても周知のように1固体酸として知られ、構成す
るおのおの単独の酸化物には見られない顕著な酸性を示
し、また高表面積を有する。
すなわち、TiO□−8tO□は酸化チタンおよび酸化
ケイ素を単に混合したものではなく、チタンおよびケイ
素がいわゆる二元系酸化物を形成することによりその特
異な物性が発現するものと認めることのできるものであ
る。また、チタン、ジルコニウムからなる二元系複合酸
化物(以下、TtO。
ケイ素を単に混合したものではなく、チタンおよびケイ
素がいわゆる二元系酸化物を形成することによりその特
異な物性が発現するものと認めることのできるものであ
る。また、チタン、ジルコニウムからなる二元系複合酸
化物(以下、TtO。
−Z r Ozと略記)およびチタン、ジルコニウムお
よびケイ素からなる三元系複合酸化物(以下、Tie、
−ZrOz−8tewと略記)もTtOz 5iOzと
同じ様な性質を有する複合酸化物として特定される。
よびケイ素からなる三元系複合酸化物(以下、Tie、
−ZrOz−8tewと略記)もTtOz 5iOzと
同じ様な性質を有する複合酸化物として特定される。
上記複合酸化物を触媒成分に用いた場合、脱硝活性が高
くS02酸化性能が低く、かつ耐久性に優れた触媒が得
られることは特開昭52−122293号公報に既に開
示した。
くS02酸化性能が低く、かつ耐久性に優れた触媒が得
られることは特開昭52−122293号公報に既に開
示した。
本発明者等は上記の’f’ t Ox S t O2、
TtOz−Zr02、およびTi0z−ZrO,−8i
ozの前駆体でおる含水酸化物中に硝酸および/または
硫安化合物を存在せしめて450〜700℃で熱処理す
ることにより得られた含イオウ複合酸化物(以下、それ
ぞれTi02−8%02−8. Ti02−ZrO,−
8STie、 −ZrO,−8t02−8と略記)を触
媒成分として使用することにより極めて脱硝活性が高く
、かつSO2酸化能が低く、而・1久性に優れた触媒が
得られることを見い出した。
TtOz−Zr02、およびTi0z−ZrO,−8i
ozの前駆体でおる含水酸化物中に硝酸および/または
硫安化合物を存在せしめて450〜700℃で熱処理す
ることにより得られた含イオウ複合酸化物(以下、それ
ぞれTi02−8%02−8. Ti02−ZrO,−
8STie、 −ZrO,−8t02−8と略記)を触
媒成分として使用することにより極めて脱硝活性が高く
、かつSO2酸化能が低く、而・1久性に優れた触媒が
得られることを見い出した。
本発明を構成する触媒A成分であるTtO2−8+02
s、 Tto、、Zr0g SNおよびT i 02
−ZrO2−8iO2−8ti’riOz−8iC)2
.1” i 02−ZrOa、’I”io、−ZrO□
−8i02と同様に固体酸としての性質を有し、高表面
積であり、X線回折による分析の結果、非晶質もしくは
、ナ1は非晶質に近い結晶構造を有している。
s、 Tto、、Zr0g SNおよびT i 02
−ZrO2−8iO2−8ti’riOz−8iC)2
.1” i 02−ZrOa、’I”io、−ZrO□
−8i02と同様に固体酸としての性質を有し、高表面
積であり、X線回折による分析の結果、非晶質もしくは
、ナ1は非晶質に近い結晶構造を有している。
特に、TiO2−8i02、TiO2Zr0z、および
1’ t Ox Z r Oz S i 02と比較す
ると、強い酸強度を冶する酸点が減少し、比較的弱い酸
強度を有する酸点が増加する傾向の固体酸分布が認めら
れた。
1’ t Ox Z r Oz S i 02と比較す
ると、強い酸強度を冶する酸点が減少し、比較的弱い酸
強度を有する酸点が増加する傾向の固体酸分布が認めら
れた。
触媒中に強い酸強度を持った酸点が存在すると酸点にN
H,が強く吸着されすぎるためにかえって脱硝反応が阻
害されると考えられ、それ故好ましい固体酸分布を有す
る複合酸化物を触媒成分として使用することによりNH
sの触媒表面への吸着が適度にコントロールされ、選択
的に脱硝活性が向上するものと考えられる。
H,が強く吸着されすぎるためにかえって脱硝反応が阻
害されると考えられ、それ故好ましい固体酸分布を有す
る複合酸化物を触媒成分として使用することによりNH
sの触媒表面への吸着が適度にコントロールされ、選択
的に脱硝活性が向上するものと考えられる。
以上の結果、TtOz 5i02、T t 02−Z
r Oz、Tie2−ZrOa−s iO*の前駆体で
ある含水酸化物を硫酸および/またれ倣安化合物の存在
下で熱処理することにより生じた上記含イオウ複合酸化
物の特異的性質が完成触媒に対して極めて好ましい性能
を与えるものと考えられる・ さらに1上記TtO2−810,−8,Tie2−Zr
O。
r Oz、Tie2−ZrOa−s iO*の前駆体で
ある含水酸化物を硫酸および/またれ倣安化合物の存在
下で熱処理することにより生じた上記含イオウ複合酸化
物の特異的性質が完成触媒に対して極めて好ましい性能
を与えるものと考えられる・ さらに1上記TtO2−810,−8,Tie2−Zr
O。
−81およびTtO2−Zr02 5tyx−8を触媒
A成分として使用する有利な点は、本発明の触媒が耐酸
性を示し、SOxやハロゲン化合物の影響を受けないで
、長期にわたって安定したNOx浄化能を示し、又排ガ
ス中に存在するSO2を803へ酸化する能力が極めて
低い点にある。触媒A成分の組成は原子百分率でチタン
40〜95重量係、ケイ素および/またはジルコニウム
5〜60重量%、イオウ1.2〜7重量幅の範囲にある
ことが好ましい。この範囲以外、例は原子百分率でチタ
ンが40重i%未$νでかつケイ素および/またはジル
コニウムが60爪匍帖以上の場合、脱硝活性が悪くなる
。まだ、チタンが95重電係以上でかつケイ素および/
またはジルコニウムが5重量%未満の場合、SO2酸化
活性が増大するために好ましくない。
A成分として使用する有利な点は、本発明の触媒が耐酸
性を示し、SOxやハロゲン化合物の影響を受けないで
、長期にわたって安定したNOx浄化能を示し、又排ガ
ス中に存在するSO2を803へ酸化する能力が極めて
低い点にある。触媒A成分の組成は原子百分率でチタン
40〜95重量係、ケイ素および/またはジルコニウム
5〜60重量%、イオウ1.2〜7重量幅の範囲にある
ことが好ましい。この範囲以外、例は原子百分率でチタ
ンが40重i%未$νでかつケイ素および/またはジル
コニウムが60爪匍帖以上の場合、脱硝活性が悪くなる
。まだ、チタンが95重電係以上でかつケイ素および/
またはジルコニウムが5重量%未満の場合、SO2酸化
活性が増大するために好ましくない。
また、イオウが原子巨分率で1.2重量%未満の場合、
最適な固体酸分布が得られず本発明触媒の有する選択的
活性が薄れるために好ましくなく、イオウが7M景%を
越えると300℃以下の低温における脱硝活性が低く、
そのうえ成型性も悪くなるため釦、イオウ含有量は原子
百分率で1.2〜7M量係の範囲が最も好ましい。
最適な固体酸分布が得られず本発明触媒の有する選択的
活性が薄れるために好ましくなく、イオウが7M景%を
越えると300℃以下の低温における脱硝活性が低く、
そのうえ成型性も悪くなるため釦、イオウ含有量は原子
百分率で1.2〜7M量係の範囲が最も好ましい。
(jtt 酸および/葦たは硫安化合物存在下における
熱処理温度は450℃以下の場合、本発明の触媒の耐熱
性が悪くなシ、又、700℃を越えると固体酸性度か低
下し、S02酸化能が増加し好ましくない。従って、熱
処理温度は450〜700℃の範囲が好ましく、特に5
00〜650℃の範囲が更に好ましい。
熱処理温度は450℃以下の場合、本発明の触媒の耐熱
性が悪くなシ、又、700℃を越えると固体酸性度か低
下し、S02酸化能が増加し好ましくない。従って、熱
処理温度は450〜700℃の範囲が好ましく、特に5
00〜650℃の範囲が更に好ましい。
本発明の触媒において用いる前記含イオウ複合酸化物は
いずれもX線回折では非晶質であることが好ましく、そ
のBET表面積として80m27f以上であることが好
ましい。
いずれもX線回折では非晶質であることが好ましく、そ
のBET表面積として80m27f以上であることが好
ましい。
本発明において用いられる前記含イオウ複合酸化物を調
製するには、まず、チタノ源として、塩化チタン類、硫
酸チタン、水酸化チタン類などの無機性チタン化合物お
よび蓚酸チタン、テトライソプロピルチタネートなどの
有機性チタン化合物などから選ぶことができ、ケイ素源
として、コロイド状シリカ、水ガラス、四塩化ケイ素な
ど無機性のケイ素化合物およびエチルシリケート類など
の有機ケイ素化合物などから選ぶことができ、ジルコニ
ウム源として、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニ
ウム、8cmジルコニウム、オキシ硫酸ジルコニウム、
硝酸ジルコニウムなどの無機性ジルコニウム化合物およ
び蓚酸ジルコニウム、テトライソプロピルジルコネート
などの有機性ジルコニウム化合物などから選ぶことがで
き、佛安化合物としては硫酸アンモニウム、酸性硫酸ア
ンモニウム、亜@r酸アンモニウムなどから選ぶことが
できる。
製するには、まず、チタノ源として、塩化チタン類、硫
酸チタン、水酸化チタン類などの無機性チタン化合物お
よび蓚酸チタン、テトライソプロピルチタネートなどの
有機性チタン化合物などから選ぶことができ、ケイ素源
として、コロイド状シリカ、水ガラス、四塩化ケイ素な
ど無機性のケイ素化合物およびエチルシリケート類など
の有機ケイ素化合物などから選ぶことができ、ジルコニ
ウム源として、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニ
ウム、8cmジルコニウム、オキシ硫酸ジルコニウム、
硝酸ジルコニウムなどの無機性ジルコニウム化合物およ
び蓚酸ジルコニウム、テトライソプロピルジルコネート
などの有機性ジルコニウム化合物などから選ぶことがで
き、佛安化合物としては硫酸アンモニウム、酸性硫酸ア
ンモニウム、亜@r酸アンモニウムなどから選ぶことが
できる。
好ましいTiO□−8i02−8の調製法としては、シ
リカゾルのアンモニア水溶液に硫酸チタニルの硫酸溶液
または四塩化チタンの水溶液を中和混合して沈殿を生成
せしめ、この沈殿を洗浄、100〜250℃で乾燥して
得られたTiO2−8i02含水酸化物粉体を坊定量の
硫酸アンモニウム水溶液または硫酸水溶液の中に添加し
、よく混合した後そのまま濃縮、乾燥し、次いで、45
0〜700℃で焼成せしめる方法が挙げられる。
リカゾルのアンモニア水溶液に硫酸チタニルの硫酸溶液
または四塩化チタンの水溶液を中和混合して沈殿を生成
せしめ、この沈殿を洗浄、100〜250℃で乾燥して
得られたTiO2−8i02含水酸化物粉体を坊定量の
硫酸アンモニウム水溶液または硫酸水溶液の中に添加し
、よく混合した後そのまま濃縮、乾燥し、次いで、45
0〜700℃で焼成せしめる方法が挙げられる。
この方法は以下のごと〈実施される。すなわち所定量の
チタンを含む#L酸チタニルの硫酸水溶液または四塩化
チタン水溶液をチタンの酸化物換算で1〜100f/l
の濃度として準備する。また一方、所定量のシリカを含
むシリカゾルの水溶液に中和に必要な量のアンモニアを
加えシリカの酸化物換算で1〜100 f/lの濃度と
した後、攪拌下、前記の曾酸チタニル水溶液または四塩
化チタン水溶液を徐々に中和熱を除熱しながら添加し、
チタンおよびケイ素からなる共沈化合物を生成せしめ、
戸別し洗浄したのち100〜250℃で1−10時間乾
燥し粉砕する。得られたTiO2・SjO,乾燥粉体中
には出発原料として、硫酸チタニルのi酸溶液を用いた
場合、通常5042−として0.1〜8重量幅の倣黄酸
化物が含まれ、又水分量はlO〜30重量係含まれてい
る。しかし、とのイオウ分は十分に安定な状態では存在
しないので新たに硫酸もしくは、硫安化合物を所定量加
える必要がある。とくに5042−として5〜20重量
係、とくに好ましくは9〜15重量係の範囲となるよう
にする仁とが良好な結果を与える。
チタンを含む#L酸チタニルの硫酸水溶液または四塩化
チタン水溶液をチタンの酸化物換算で1〜100f/l
の濃度として準備する。また一方、所定量のシリカを含
むシリカゾルの水溶液に中和に必要な量のアンモニアを
加えシリカの酸化物換算で1〜100 f/lの濃度と
した後、攪拌下、前記の曾酸チタニル水溶液または四塩
化チタン水溶液を徐々に中和熱を除熱しながら添加し、
チタンおよびケイ素からなる共沈化合物を生成せしめ、
戸別し洗浄したのち100〜250℃で1−10時間乾
燥し粉砕する。得られたTiO2・SjO,乾燥粉体中
には出発原料として、硫酸チタニルのi酸溶液を用いた
場合、通常5042−として0.1〜8重量幅の倣黄酸
化物が含まれ、又水分量はlO〜30重量係含まれてい
る。しかし、とのイオウ分は十分に安定な状態では存在
しないので新たに硫酸もしくは、硫安化合物を所定量加
える必要がある。とくに5042−として5〜20重量
係、とくに好ましくは9〜15重量係の範囲となるよう
にする仁とが良好な結果を与える。
次いで、450〜700℃で5〜lO時間焼成して所定
量のイオウ含有1ゝfo2’−8ta2−8粉体を得る
ことができる。また、TiO2−ZrO□−8およびT
i0z−Zr02−stOz−8もTiO2−8i02
−8と同様にして調製することができる。
量のイオウ含有1ゝfo2’−8ta2−8粉体を得る
ことができる。また、TiO2−ZrO□−8およびT
i0z−Zr02−stOz−8もTiO2−8i02
−8と同様にして調製することができる。
次にTiO25t02−8などの含イオウ複合酸化物と
共に用いる他の触媒成分B、C成分としては、B成分は
バナジウム酸化物であり、C成分はタングステン、モリ
ブデン、スズおよびセリウムよりなる群から選はれた少
くとも1種の元素の酸化物であり、出発原料としては、
酸化物、水酸化物、無機酸塩、有機酸塩など、とくにア
ンモニウム塩、蓚酸塩、旬ζ酸塩、盈酸塩またはハロゲ
ン化物などから適宜選ばれる。
共に用いる他の触媒成分B、C成分としては、B成分は
バナジウム酸化物であり、C成分はタングステン、モリ
ブデン、スズおよびセリウムよりなる群から選はれた少
くとも1種の元素の酸化物であり、出発原料としては、
酸化物、水酸化物、無機酸塩、有機酸塩など、とくにア
ンモニウム塩、蓚酸塩、旬ζ酸塩、盈酸塩またはハロゲ
ン化物などから適宜選ばれる。
本発明の触媒の組成は酸化物としての重量百分率でA成
分が80〜95%、B成分0〜5%、C成分1〜15%
の範囲よりなっていることが好ましい。B成分が5係を
越えた範囲ではSO2酸化率が高くガリ、SO2を多く
含む排ガスを対象とする脱硝触媒としては好ましくない
。またC成分が上記範囲外では脱硝活性が低下したり、
触媒の原料コストが高くなるために1〜15%の範囲が
好ましい。
分が80〜95%、B成分0〜5%、C成分1〜15%
の範囲よりなっていることが好ましい。B成分が5係を
越えた範囲ではSO2酸化率が高くガリ、SO2を多く
含む排ガスを対象とする脱硝触媒としては好ましくない
。またC成分が上記範囲外では脱硝活性が低下したり、
触媒の原料コストが高くなるために1〜15%の範囲が
好ましい。
本発明にかかる触媒調製法として一例を示せば、TjO
2SiO□−8とバナジウムおよびタングステンtlt
r−1合、モノエタノールアミンもしくは蓚C・の水溶
液に所定量のメタバナジン酸アンモニウムおよびパラタ
ングステン酸アンモニウムヲ溶解させ、得られたバナジ
ウム、タングステンを含む水溶液に前記の方法で予め調
製されたTjO2−8t02−8の粉体を成型助剤とと
もに加え、混合、混練し、押し出し成型機でノーニカム
状に成型する。
2SiO□−8とバナジウムおよびタングステンtlt
r−1合、モノエタノールアミンもしくは蓚C・の水溶
液に所定量のメタバナジン酸アンモニウムおよびパラタ
ングステン酸アンモニウムヲ溶解させ、得られたバナジ
ウム、タングステンを含む水溶液に前記の方法で予め調
製されたTjO2−8t02−8の粉体を成型助剤とと
もに加え、混合、混練し、押し出し成型機でノーニカム
状に成型する。
成型物を50〜120℃で乾燥後、300〜650℃、
好ましくは350〜550℃で1〜10時間、好ましく
は2〜6時間空気流通下で焼成して触媒を得ることがで
きる。また別法としてTjO,−8i02−8の粉体を
予めノ・ニカム状に成型、焼成シタ後に、バナジウム、
タングステンを含む水溶液を含浸担持させる方法も採用
できる。また、さらに担体を使用することもh」能であ
る。担体としては、例えば、アルミナ、シリカ、シリカ
アルミナ、ベントナイト、ケイソウ土、シリコンカーバ
イド、チタニγ、ジルコニア、マグネシア、コープイラ
イト、ムライト、軽石、活性炭、無機繊維などを、混練
法、担持法等によシ用いることができる。もちろん触媒
調製法はこれらの方法に限定されるものでない。
好ましくは350〜550℃で1〜10時間、好ましく
は2〜6時間空気流通下で焼成して触媒を得ることがで
きる。また別法としてTjO,−8i02−8の粉体を
予めノ・ニカム状に成型、焼成シタ後に、バナジウム、
タングステンを含む水溶液を含浸担持させる方法も採用
できる。また、さらに担体を使用することもh」能であ
る。担体としては、例えば、アルミナ、シリカ、シリカ
アルミナ、ベントナイト、ケイソウ土、シリコンカーバ
イド、チタニγ、ジルコニア、マグネシア、コープイラ
イト、ムライト、軽石、活性炭、無機繊維などを、混練
法、担持法等によシ用いることができる。もちろん触媒
調製法はこれらの方法に限定されるものでない。
触媒形状としては上記のノ・ニカム状にとどまらず、円
柱状、円筒状、板状、リボン状、波板状、パイプ状、ド
ーナツ状、格子状、そのイ山一体イし成型されたものが
適宜選ばれる。
柱状、円筒状、板状、リボン状、波板状、パイプ状、ド
ーナツ状、格子状、そのイ山一体イし成型されたものが
適宜選ばれる。
本発明の触媒が使用される処理の対象となる杉トカスノ
組成トシテは、通常SOx l O〜1,500 pp
m。
組成トシテは、通常SOx l O〜1,500 pp
m。
酸素1〜20容量係、炭酸ガスト15容量幅、水蒸気5
〜15容量係、煤塵lO〜100TIv′Nrn3およ
びN0x(主にNO) 100〜1,000 ppmの
程度に含有するものである。通常のづζイラーupガス
はこの範囲に入るが、・特にガス組成を限定しない。
〜15容量係、煤塵lO〜100TIv′Nrn3およ
びN0x(主にNO) 100〜1,000 ppmの
程度に含有するものである。通常のづζイラーupガス
はこの範囲に入るが、・特にガス組成を限定しない。
本発明の触媒は、例えばSOxを含まない含NOx排ガ
ス、およびノ・ロゲン化合物を含な含N Ox 打Fガ
ス等の特殊な排ガスをも処理すること力;できるからで
ある。
ス、およびノ・ロゲン化合物を含な含N Ox 打Fガ
ス等の特殊な排ガスをも処理すること力;できるからで
ある。
また、処理条件としては排ガスの種類、性状によって異
なるが、まずアンモニア(NH3)の添カロ量は、No
XI部に対して0.5〜3部が好ましい。
なるが、まずアンモニア(NH3)の添カロ量は、No
XI部に対して0.5〜3部が好ましい。
例えばボイラーの排ガス組成ではNOxのうちの大部分
がNOであるので、NOとNHsのそル比l:1の近辺
が特に好ましい。過剰のN Hsは未反応分として排出
されないよう留意しなければならないからである。さら
に未反応NH3を極力抑える必要ある場合は、NH3/
NOのモル比を1以下として使用することが好ましい。
がNOであるので、NOとNHsのそル比l:1の近辺
が特に好ましい。過剰のN Hsは未反応分として排出
されないよう留意しなければならないからである。さら
に未反応NH3を極力抑える必要ある場合は、NH3/
NOのモル比を1以下として使用することが好ましい。
次に、反応温度は150〜500℃、特に200〜40
0℃が好ましく、空間速度は1,000〜100,00
0hr−”、特に3.000〜30.000hr ’の
範囲が好適である。圧力は特に限定はないが0 、01
= l OKV/crn2の範囲が好ましい。
0℃が好ましく、空間速度は1,000〜100,00
0hr−”、特に3.000〜30.000hr ’の
範囲が好適である。圧力は特に限定はないが0 、01
= l OKV/crn2の範囲が好ましい。
反応器の形式としては特に限定はないが、通常の固定床
、移動床、流動床等の反応器が適用できる。
、移動床、流動床等の反応器が適用できる。
以下に実施例および比較例を用いて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
実施例 1
TtOz Sing−8を以下に述べる方法で調製した
。
。
チタン源として以下の組成を有する硫酸チタニルの硫酸
水溶液を用いた。
水溶液を用いた。
1”10sO4(TiO□換算) 2501/を全)1
2SQ411009/L 別に水400tにアンモニア水(NH,,25係)28
6tを添加しこれにスノーテックス−NC8(8産化学
製シリカゾル5i02として約30重量係含有) 24
x、+を加えた。得られた溶液中に、上記(pN@チ
クニルの硫酸水溶液153tを水300tに添加して稀
釈したチタン含if fiJ、水溶液を攪拌下栓々に滴
下し、共沈ゲルを生成した。さらにそのま\15時間放
置して静置した。かくして得られたTie、−8ing
ゲルをp過、水洗後200℃で10時間乾燥した。この
TiO2−8i02 S含水酸化物中KSO42−とし
てイオウが3.0重量係官まれ、又水分含量線16重量
嗟であった。次いで得られたTtOz−8io2含水酸
化物に硫酸アンモニウム5.4に9を含む@eatアン
モニウム水溶液100tを加え、よく混合した後、濃縮
、乾固し、さらに550℃で6時間空気雰囲気下で焼成
した。
2SQ411009/L 別に水400tにアンモニア水(NH,,25係)28
6tを添加しこれにスノーテックス−NC8(8産化学
製シリカゾル5i02として約30重量係含有) 24
x、+を加えた。得られた溶液中に、上記(pN@チ
クニルの硫酸水溶液153tを水300tに添加して稀
釈したチタン含if fiJ、水溶液を攪拌下栓々に滴
下し、共沈ゲルを生成した。さらにそのま\15時間放
置して静置した。かくして得られたTie、−8ing
ゲルをp過、水洗後200℃で10時間乾燥した。この
TiO2−8i02 S含水酸化物中KSO42−とし
てイオウが3.0重量係官まれ、又水分含量線16重量
嗟であった。次いで得られたTtOz−8io2含水酸
化物に硫酸アンモニウム5.4に9を含む@eatアン
モニウム水溶液100tを加え、よく混合した後、濃縮
、乾固し、さらに550℃で6時間空気雰囲気下で焼成
した。
得られた粉体の組成はTj:St:5=78.5:18
.4:3.1(原子比)でBET表面積は180 m”
/lでおった。ここで得られた粉体を以降TSS−1と
呼ぶ。
.4:3.1(原子比)でBET表面積は180 m”
/lでおった。ここで得られた粉体を以降TSS−1と
呼ぶ。
モノエタノールアミン0.7Lを水7tと混合し、これ
にパラタングステン酸アンモニウム2.12Kgを加え
溶解させ、ついでメタノくナジン酸アンモニウム0.4
68に9を溶解させ均一な溶液とする。さらにこの溶液
を上記の1’5S−1tgKvK加えニーダ−で適量の
水を添加しつつよく混合、混練した後、押し出し成型機
で外形80m+角、目開き4.0鼎、肉厚1.0m、長
さ500簡の格子状に成型した。次いで60℃で乾燥後
400℃で5時間空気流通下で焼成した。得られた完成
触媒の組成は酸化物としての重量比でTSS−1:V、
0.:WO。
にパラタングステン酸アンモニウム2.12Kgを加え
溶解させ、ついでメタノくナジン酸アンモニウム0.4
68に9を溶解させ均一な溶液とする。さらにこの溶液
を上記の1’5S−1tgKvK加えニーダ−で適量の
水を添加しつつよく混合、混練した後、押し出し成型機
で外形80m+角、目開き4.0鼎、肉厚1.0m、長
さ500簡の格子状に成型した。次いで60℃で乾燥後
400℃で5時間空気流通下で焼成した。得られた完成
触媒の組成は酸化物としての重量比でTSS−1:V、
0.:WO。
=88:2:10であった。
実施例 2
チタン源として四塩化チタン(TiC14)90.83
初を含む四塩化チタン水溶液400tを用いる以外は実
施例1の記載方法に準じてT i 02− S i O
*含水酸化物(水分量19重量%)を得た。得られたT
ie、−8i[、含水酸化物を5.3重IIk係硫酸水
、溶液100tに加え、攪拌後そのまま濃縮乾固し、次
いで空気雰囲気下で550℃6時間焼成した。
初を含む四塩化チタン水溶液400tを用いる以外は実
施例1の記載方法に準じてT i 02− S i O
*含水酸化物(水分量19重量%)を得た。得られたT
ie、−8i[、含水酸化物を5.3重IIk係硫酸水
、溶液100tに加え、攪拌後そのまま濃縮乾固し、次
いで空気雰囲気下で550℃6時間焼成した。
得られた粉体め□組成はTt:Si:5=78.4 :
1B、8:2.8(原子比)でBET表面積は170
m”/fであった。ここで得られた粉体を以降1”
S S −2と呼ひ、このTSS−2を用いて実施例1
と同様の方法で格子状触媒を調製した。得られた冗成触
媒の組成は酸化物としての重量比でTSS−2:VzO
s:W()s =88 : 2 : 10でめった。
1B、8:2.8(原子比)でBET表面積は170
m”/fであった。ここで得られた粉体を以降1”
S S −2と呼ひ、このTSS−2を用いて実施例1
と同様の方法で格子状触媒を調製した。得られた冗成触
媒の組成は酸化物としての重量比でTSS−2:VzO
s:W()s =88 : 2 : 10でめった。
実施例 3
TtO,−ZrO2−8を以下に述べる方法で調製した
。水1000tにオキシ塩化ジルコニウム[Zr0C1
2@8H2(J) 19.3 K9を溶解させ、実施例
1で用いたのと同じ組成の硫酸チタニルの硫酸水溶液1
’12tを添加しよく混合する。これを温度約30℃に
維持しつつよく撹拌しながらアンモニア水を徐々に滴下
し、PHが7になるまで加え、さらにそのまま放置して
15時間靜静置た。かくして得られたT L 02−
Z r O* −8ゲルをか遇し水洗後200℃で10
時間乾燥した。得られたT i O2−ZrO,含水酸
化物中KSO42−としてイオウが2.5重量幅、水分
は15重量係含まれていた。得られたTi02−ZrO
*含水酸化物に(j[アンモニウム4.5 Kgを含む
硫酸アンモニウム水溶液100tを加えよく混合した後
、濃縮乾固し、次いで空気雰囲気下で500℃6時間焼
成した。得られた粉体の組成はTi: Zr : S=
78.3 : 19.2 : 2.5(原子比)で、B
ET表面積は140m”/fであった。ここで得られた
粉体を以降’rzs−1と呼ぶ。
。水1000tにオキシ塩化ジルコニウム[Zr0C1
2@8H2(J) 19.3 K9を溶解させ、実施例
1で用いたのと同じ組成の硫酸チタニルの硫酸水溶液1
’12tを添加しよく混合する。これを温度約30℃に
維持しつつよく撹拌しながらアンモニア水を徐々に滴下
し、PHが7になるまで加え、さらにそのまま放置して
15時間靜静置た。かくして得られたT L 02−
Z r O* −8ゲルをか遇し水洗後200℃で10
時間乾燥した。得られたT i O2−ZrO,含水酸
化物中KSO42−としてイオウが2.5重量幅、水分
は15重量係含まれていた。得られたTi02−ZrO
*含水酸化物に(j[アンモニウム4.5 Kgを含む
硫酸アンモニウム水溶液100tを加えよく混合した後
、濃縮乾固し、次いで空気雰囲気下で500℃6時間焼
成した。得られた粉体の組成はTi: Zr : S=
78.3 : 19.2 : 2.5(原子比)で、B
ET表面積は140m”/fであった。ここで得られた
粉体を以降’rzs−1と呼ぶ。
TZS−1を用いて実施例1の記載の方法に準じて格子
状触媒を調製した。得られた完成触媒の組成は酸化物と
しての重量比でTZS−1:V’2os :WOs=8
8 : 2 : I Oであった0実施例 4 実施例1及び3の方法に準じてTtOx Zr0x−8
in2 S粉体を調製した。得られた粉体の組成はTt
:Zr :st :5=78.4 : 4.0 :
14.0 : 3.2(原子比)で、BIT表面積は1
70 m”/lであった。ここで得られた粉体を以降T
ZSS−1と呼ぶ。
状触媒を調製した。得られた完成触媒の組成は酸化物と
しての重量比でTZS−1:V’2os :WOs=8
8 : 2 : I Oであった0実施例 4 実施例1及び3の方法に準じてTtOx Zr0x−8
in2 S粉体を調製した。得られた粉体の組成はTt
:Zr :st :5=78.4 : 4.0 :
14.0 : 3.2(原子比)で、BIT表面積は1
70 m”/lであった。ここで得られた粉体を以降T
ZSS−1と呼ぶ。
TZSS−1を用いて実施例1の記載の方法に準゛じて
格子状触媒を調製した。得られた完成触媒の組成は酸化
物としての重量比でTZSS−1:VzOs:WOs
=88 : 2 : 10であった。
格子状触媒を調製した。得られた完成触媒の組成は酸化
物としての重量比でTZSS−1:VzOs:WOs
=88 : 2 : 10であった。
実施例 5を
実施例1〜4でえられた各触媒につき、次のような方法
で脱硝率およびS02酸化率をめた。
で脱硝率およびS02酸化率をめた。
格子状触媒(目開き4.0tmn、肉厚1.0m)を3
セル角(16−nm角)、長さ500咽にそれぞれ切り
出し、溶融塩浴に浸漬された内径38論のステンレス製
反応管に触媒を充填し、触媒の空孔のみにボイラー排ガ
スに近似した下記組成の合成ガスvcNH、を下記の通
り添加しつつ、0.894Nm”/Hrの流速(を開速
度7,000)Lr ’)テ触媒層に導入し、反応温度
300〜380℃における脱硝率および反応温度350
cにおける5ozR化率をめた。
セル角(16−nm角)、長さ500咽にそれぞれ切り
出し、溶融塩浴に浸漬された内径38論のステンレス製
反応管に触媒を充填し、触媒の空孔のみにボイラー排ガ
スに近似した下記組成の合成ガスvcNH、を下記の通
り添加しつつ、0.894Nm”/Hrの流速(を開速
度7,000)Lr ’)テ触媒層に導入し、反応温度
300〜380℃における脱硝率および反応温度350
cにおける5ozR化率をめた。
ガ ス 組 成
NO200ppm
802 800ppm
O□ 4容量係
CO□ lO容量係
N20 約lO容量係
N2残
NHI 200 ppm
脱硝率は触媒層入口および出口のNOx濃度をNOx計
(化学発光式、柳本製作所製ECL−7S)Kより測定
し、次式に従いめた。
(化学発光式、柳本製作所製ECL−7S)Kより測定
し、次式に従いめた。
SO□酸化率はまず触媒層出口の排ガス中の全SOxを
5%の過酸化水素水に一定時間吸収せしめ硫酸水溶液と
して捕集し、その一部を秤量しイソプロピルアルコール
と混合し、指示薬としてアルセナゾlを用いて、所定の
濃度に調整した酢酸バリウム水溶液で滴定することで、
全SOxの濃度をめておき、次に排ガス中の303をゴ
クソイヤーらの方法(H,GOKSφYR,他、J−I
ns、Fuel。
5%の過酸化水素水に一定時間吸収せしめ硫酸水溶液と
して捕集し、その一部を秤量しイソプロピルアルコール
と混合し、指示薬としてアルセナゾlを用いて、所定の
濃度に調整した酢酸バリウム水溶液で滴定することで、
全SOxの濃度をめておき、次に排ガス中の303をゴ
クソイヤーらの方法(H,GOKSφYR,他、J−I
ns、Fuel。
35巻、177頁、1961年)Kより硫酸として捕集
し、前記方法によりS Os濃度をめ、次式に従いS
02酸化率をめた。
し、前記方法によりS Os濃度をめ、次式に従いS
02酸化率をめた。
得られた結果を表−1に示す。
表 −1
以上の結果よシこれらの触媒は高い脱硝性能であシ、か
つSO2酸化性能が低く、本発明にかかる触媒の性能が
すぐれていることがわかる。
つSO2酸化性能が低く、本発明にかかる触媒の性能が
すぐれていることがわかる。
実施例6〜9、比較例1〜2
触媒A成分の組成を変えて、表−2に示すTie。
−8tO,−8粉体を調製し、(Tie2−8iOz−
8):VzOs:WOs=88 :2 :10 (1E
i比)(D組成を有する触媒を実施例1及び2の記載方
法に準じて調製し、実施例5記載の方法に従って触媒性
能を測定した@ 測定結果を表−2に示す。
8):VzOs:WOs=88 :2 :10 (1E
i比)(D組成を有する触媒を実施例1及び2の記載方
法に準じて調製し、実施例5記載の方法に従って触媒性
能を測定した@ 測定結果を表−2に示す。
表−2の結果によシ実施例の触媒が比較例の触媒に比べ
て脱硝活性が高く、又、S02酸化活性も低いことがわ
かる。
て脱硝活性が高く、又、S02酸化活性も低いことがわ
かる。
実施例 10〜13
実施例1で用いたのと同じTSS−1粉体とを使用して
実施例1の調製法に準じ触媒A成分に添加する触媒成分
を変えて、触媒を調製した。
実施例1の調製法に準じ触媒A成分に添加する触媒成分
を変えて、触媒を調製した。
触媒源としてはバナジウム、タングステン、モリブデン
についてはアンモニウム塩、スズについては塩化物、セ
リウムについては硝酸塩を用いた。
についてはアンモニウム塩、スズについては塩化物、セ
リウムについては硝酸塩を用いた。
反応は実施例5記載の方法に準じて行なった。
触媒成分および得られた結果を表−3に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 fll 排ガス中の窒素酸化物をアンモニアと共に接触
的に反応せしめて、選択的に還元する触媒として、チタ
ンおよびケイ素からなる二元系含水酸化物、チタンおよ
びジルコニウムからなる二元系含水酸化物およびチタン
、ジルコニウムおよびケイ素からなる三元系含水酸化物
よりなる群から選ばれた少なくとも一種の含水酸化物中
に硫酸および/または嶺安化合物を存在せしめて熱処理
することによシ得られた含イオウ複合酸化物を触媒A成
分としバナジウム酸化物を触媒B成分とし、タングステ
ン、モリブデン、スズおよびセリウムよりなる群から選
ばれた少なくとも一種の元素の酸化物を触媒C成分とし
てなシ、Aは80〜95重量係、Bはθ〜5重量係、C
は1〜15重量係の範囲に調整してなることを特徴とす
る窒素酸化物浄化用触媒 (2)触媒A成分の組成が原子百分率でチタン重量−9
5重量係、ケイ素および/またはジルコニウム5〜60
重量係、イオウ1.2〜7重量係の範囲よシなることを
特徴とする特許請求の範囲口)記載の触媒 (3) 含水酸化物の熱処理温度が450〜7oo℃の
範囲にあることを特徴とする特許請求の範題(11また
は(21記載の触媒
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