JP3181796B2 - 電解水製造装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、殺菌、金属表面の酸化
防止、固体表面に付着した各種汚染物質の洗浄除去等に
適した電解水を製造する電解水製造装置に関する。
防止、固体表面に付着した各種汚染物質の洗浄除去等に
適した電解水を製造する電解水製造装置に関する。
【０００２】
【従来技術】本明細書における以下の説明においては、
水又は水溶液に直流電流を通電して電気分解を行う電気
分解装置において、正の電圧を印加する電極をアノー
ド、負の電圧を印加する電極をカソードと呼び、電気分
解を行った際にアノード付近より得られる水をアノード
水、カソード付近より得られる水をカソード水と呼ぶ。
また、電気分解を行った際に、電解槽より得られる水又
は水溶液を総称して電解水と呼ぶ。尚、本明細書におい
ては、電気分解とは単に水又は水溶液へ直流電圧を印加
することを意味しており、必ずしもその結果として直流
電流が通電され、水が酸素及び水素に分解される等の電
気分解反応が起こる場合のみを意味するものではない。
また電解槽内において、アノードとカソードが、セルロ
ースや合成高分子材料（ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエステル、ポリスチレン、フッ素樹脂等）やセ
ラミックス等の無機材料等よりなる隔膜によって区分さ
れている場合、隔膜によって区切られた電解槽の部分の
内、アノードを配する部分をアノード室と呼び、カソー
ドを配する部分をカソード室と呼ぶ。
水又は水溶液に直流電流を通電して電気分解を行う電気
分解装置において、正の電圧を印加する電極をアノー
ド、負の電圧を印加する電極をカソードと呼び、電気分
解を行った際にアノード付近より得られる水をアノード
水、カソード付近より得られる水をカソード水と呼ぶ。
また、電気分解を行った際に、電解槽より得られる水又
は水溶液を総称して電解水と呼ぶ。尚、本明細書におい
ては、電気分解とは単に水又は水溶液へ直流電圧を印加
することを意味しており、必ずしもその結果として直流
電流が通電され、水が酸素及び水素に分解される等の電
気分解反応が起こる場合のみを意味するものではない。
また電解槽内において、アノードとカソードが、セルロ
ースや合成高分子材料（ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエステル、ポリスチレン、フッ素樹脂等）やセ
ラミックス等の無機材料等よりなる隔膜によって区分さ
れている場合、隔膜によって区切られた電解槽の部分の
内、アノードを配する部分をアノード室と呼び、カソー
ドを配する部分をカソード室と呼ぶ。
【０００３】一般に、アノード水は酸化性を有するため
高い酸化還元電位を示し、カソード水は還元性を有する
ために低い酸化還元電位を示す。上記の酸化性あるいは
還元性に加えて、電解槽へ供給される原水が電解質を含
有している場合には、一般に、アノード水は酸性のｐＨ
を示し、カソード水はアルカリ性のｐＨを示す。アノー
ド水が酸化性を示すのは、アノード表面で発生する酸
素、オゾン、及びその他のアノード付近に存在した物質
がアノード表面で酸化されて生成する酸化性生成物のた
めであり、またカソード水が還元性を示すのは、カソー
ド表面で発生する水素、及びその他のカソード付近に存
在した物質がカソード表面で還元されて生成する還元性
生成物のためである。また、アノード水が酸性のｐＨを
示すのは、アノードの正の電荷に陰イオンが引き寄せら
れるのと同時に陽イオンが排除され、アノード付近にお
いて水素イオン濃度の上昇をもたらすためであり、カソ
ード水がアルカリ性のｐＨを示すのは、カソードの負の
電荷に陽イオンが引き寄せられるのと同時に陰イオンが
排除され、カソード付近において水酸化物イオン濃度の
上昇をもたらすためである。
高い酸化還元電位を示し、カソード水は還元性を有する
ために低い酸化還元電位を示す。上記の酸化性あるいは
還元性に加えて、電解槽へ供給される原水が電解質を含
有している場合には、一般に、アノード水は酸性のｐＨ
を示し、カソード水はアルカリ性のｐＨを示す。アノー
ド水が酸化性を示すのは、アノード表面で発生する酸
素、オゾン、及びその他のアノード付近に存在した物質
がアノード表面で酸化されて生成する酸化性生成物のた
めであり、またカソード水が還元性を示すのは、カソー
ド表面で発生する水素、及びその他のカソード付近に存
在した物質がカソード表面で還元されて生成する還元性
生成物のためである。また、アノード水が酸性のｐＨを
示すのは、アノードの正の電荷に陰イオンが引き寄せら
れるのと同時に陽イオンが排除され、アノード付近にお
いて水素イオン濃度の上昇をもたらすためであり、カソ
ード水がアルカリ性のｐＨを示すのは、カソードの負の
電荷に陽イオンが引き寄せられるのと同時に陰イオンが
排除され、カソード付近において水酸化物イオン濃度の
上昇をもたらすためである。
【０００４】上記の水又は水溶液を電気分解したときに
得られるアノード水は、酸化性を有するために強力な殺
菌作用を示し、病院や歯科医院、食堂や食品加工工場等
で殺菌力を有する水として広く利用されている。また、
カソード水は、還元性を有することから、金属部品製造
工程等で、金属表面等を大気中の酸素等による酸化から
保護する作用があることが知られている。更に、上記の
電解水は、固体表面に付着した各種汚染物質の洗浄にも
有効に利用できることが知られている。
得られるアノード水は、酸化性を有するために強力な殺
菌作用を示し、病院や歯科医院、食堂や食品加工工場等
で殺菌力を有する水として広く利用されている。また、
カソード水は、還元性を有することから、金属部品製造
工程等で、金属表面等を大気中の酸素等による酸化から
保護する作用があることが知られている。更に、上記の
電解水は、固体表面に付着した各種汚染物質の洗浄にも
有効に利用できることが知られている。
【０００５】固体表面に付着した各種汚染物質、例えば
金属、微粒子、油等の汚染物質は、これらを洗浄除去し
ようとする場合、洗浄液の酸化還元電位やｐＨを洗浄目
的に合わせて適宜調整することで効率よく除去できる。
例えば、酸性で且つ酸化性の洗浄液を用いれば、固体表
面に付着した金属不純物をイオン化して溶解除去するこ
とが可能であり、また油等の有機系汚染物質は、酸化性
の洗浄液で酸化分解除去することができる。
金属、微粒子、油等の汚染物質は、これらを洗浄除去し
ようとする場合、洗浄液の酸化還元電位やｐＨを洗浄目
的に合わせて適宜調整することで効率よく除去できる。
例えば、酸性で且つ酸化性の洗浄液を用いれば、固体表
面に付着した金属不純物をイオン化して溶解除去するこ
とが可能であり、また油等の有機系汚染物質は、酸化性
の洗浄液で酸化分解除去することができる。
【０００６】微粒子は、一般に固体表面と反対符号に帯
電することにより固体表面に静電気的に付着しているも
のが多いが、アルカリ性で且つ還元性の洗浄液を用いる
ことにより、多くの場合において、微粒子と固体表面の
静電気的引力を緩和し、微粒子を洗浄液中に懸濁浮遊さ
せて除去する事ができる。
電することにより固体表面に静電気的に付着しているも
のが多いが、アルカリ性で且つ還元性の洗浄液を用いる
ことにより、多くの場合において、微粒子と固体表面の
静電気的引力を緩和し、微粒子を洗浄液中に懸濁浮遊さ
せて除去する事ができる。
【０００７】上述のような効果を有する電解水を製造す
る装置として、従来は図２に示したような二槽式の電気
分解装置を有する電解水製造装置、あるいは図３に示し
たような三槽式の電気分解装置を有する電解水製造装置
が用いられていた。
る装置として、従来は図２に示したような二槽式の電気
分解装置を有する電解水製造装置、あるいは図３に示し
たような三槽式の電気分解装置を有する電解水製造装置
が用いられていた。
【０００８】上記した図２の二槽式の電気分解装置１０
１は、隔膜１０２により左右に分けられた一方がアノー
ド１０４の配置されているアノード室１０６、他方がカ
ソード１０５の配置されているカソード室１０８をな
し、これらの各室に原水供給管１０９から原水が供給さ
れる。そして電解された各室の処理水は排出管１１４，
１１６から排水される。なお１１８，１１９はアノード
１０４，カソード１０５に直流電圧を印加するための電
源電線である。
１は、隔膜１０２により左右に分けられた一方がアノー
ド１０４の配置されているアノード室１０６、他方がカ
ソード１０５の配置されているカソード室１０８をな
し、これらの各室に原水供給管１０９から原水が供給さ
れる。そして電解された各室の処理水は排出管１１４，
１１６から排水される。なお１１８，１１９はアノード
１０４，カソード１０５に直流電圧を印加するための電
源電線である。
【０００９】また図３の三槽式の電気分解装置２０１
は、中間室２０７の左右に、一対の隔膜２０２，２０３
により分けられたアノード２０４の配置されているアノ
ード室２０６、及びカソード２０５の配置されているカ
ソード室２０８を有し、これらの各室に原水供給管２０
９から純水等の原水が供給される。そして電解された各
室の処理水は排出管２１４，２１５，２１６から排水さ
れる。なお２１８，２１９はアノード２０４，カソード
２０５に直流電圧を印加するための電源電線である。
は、中間室２０７の左右に、一対の隔膜２０２，２０３
により分けられたアノード２０４の配置されているアノ
ード室２０６、及びカソード２０５の配置されているカ
ソード室２０８を有し、これらの各室に原水供給管２０
９から純水等の原水が供給される。そして電解された各
室の処理水は排出管２１４，２１５，２１６から排水さ
れる。なお２１８，２１９はアノード２０４，カソード
２０５に直流電圧を印加するための電源電線である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように殺菌、金属表面の酸化防止、固体表面の各種汚染
物質の洗浄除去等に有効な電解水を製造する目的で上記
図２，図３で示した従来の電解水製造装置を用いた場
合、以下のような問題があった。
ように殺菌、金属表面の酸化防止、固体表面の各種汚染
物質の洗浄除去等に有効な電解水を製造する目的で上記
図２，図３で示した従来の電解水製造装置を用いた場
合、以下のような問題があった。
【００１１】すなわち、前者の二槽式の電解水製造装置
は、アノード室１０６とカソード室１０８が例えば多孔
性高分子膜などの隔膜１０２によって区分されているの
みであるため、アノード表面で生成した酸化性物質やカ
ソード表面で生成した還元性物質の一部が、隔膜を透過
して反対側の電極室へ拡散することが避けられず、この
拡散のために、電解によって生成させた有用な酸化性、
又は還元性の生成物の一部をお互いの酸化還元反応によ
って消滅させてしまうことによる効率低下を招くという
可能性が大きい。さらに目的に応じた広い範囲での酸化
還元電位、ｐＨ等の電解水の性質の選択が困難である。
は、アノード室１０６とカソード室１０８が例えば多孔
性高分子膜などの隔膜１０２によって区分されているの
みであるため、アノード表面で生成した酸化性物質やカ
ソード表面で生成した還元性物質の一部が、隔膜を透過
して反対側の電極室へ拡散することが避けられず、この
拡散のために、電解によって生成させた有用な酸化性、
又は還元性の生成物の一部をお互いの酸化還元反応によ
って消滅させてしまうことによる効率低下を招くという
可能性が大きい。さらに目的に応じた広い範囲での酸化
還元電位、ｐＨ等の電解水の性質の選択が困難である。
【００１２】これに対し、後者の三槽式の電解水製造装
置によれば、アノード室とカソード室の間に位置する中
間室に通水することで、電解によって生成した有用な酸
化性又は還元性の生成物の一部、例えばアノード室の酸
化性物質がカソード室に拡散し酸化還元反応によって還
元性物質を消滅させてしまうことを回避でき、上記した
効率低下の問題を防止することは可能である。しかし、
この電解水製造装置においても、目的に応じた広い範囲
での酸化還元電位、ｐＨ等の電解水の性質の選択ができ
ないという難点がある。例えば純水を電解した場合に
は、得られる電解水の酸化還元電位、ｐＨ等の性質が狭
い範囲に限定される。また純水に電解質を添加した原水
を用いたとしても、得られるアノード水及びカソード水
の酸化還元電位やｐＨ等の性質を独立して自由に設定す
ることは非常に困難である。
置によれば、アノード室とカソード室の間に位置する中
間室に通水することで、電解によって生成した有用な酸
化性又は還元性の生成物の一部、例えばアノード室の酸
化性物質がカソード室に拡散し酸化還元反応によって還
元性物質を消滅させてしまうことを回避でき、上記した
効率低下の問題を防止することは可能である。しかし、
この電解水製造装置においても、目的に応じた広い範囲
での酸化還元電位、ｐＨ等の電解水の性質の選択ができ
ないという難点がある。例えば純水を電解した場合に
は、得られる電解水の酸化還元電位、ｐＨ等の性質が狭
い範囲に限定される。また純水に電解質を添加した原水
を用いたとしても、得られるアノード水及びカソード水
の酸化還元電位やｐＨ等の性質を独立して自由に設定す
ることは非常に困難である。
【００１３】この問題は、電解水を洗浄目的に適用する
場合に特に大きな問題となる。
場合に特に大きな問題となる。
【００１４】すなわち、工業的に有用な洗浄効果を得る
には、被洗浄物である固体表面の材質、表面処理の状
態、及び付着している不純物の種類や付着の状態を充分
に検討し、各々の洗浄目的に最適な酸化還元電位やｐＨ
等の性質を有する洗浄液を選定する必要があり、更に、
一般に固体表面の汚染は、金属、微粒子、油等が混在し
ている場合が多く、この場合には、性質の異なる複数の
洗浄液を順次組み合わせて用いることにより、初めて顕
著な洗浄効果を得ることが可能となる。このため、洗浄
に供されるアノード水とカソード水の酸化還元電位やｐ
Ｈ等の電解水の性質は、各々独立して広い範囲で自由に
設定できることが望ましいのに対し、上記図３に示した
三槽式の電解水製造装置では、各電解室から排出される
電解水の性質を独立して設定することは不可能である
し、仮に洗浄に供すべきアノード水の性質を基準とし
て、電解に供する原水の電解質の組成、濃度、添加量、
ｐＨ、電解電流等の運転条件を決めたとしても、同時に
製造されるカソード水の性質はこのアノード水製造のた
めの運転条件によりほとんど決まってしまい、洗浄に有
効なカソード水の性質を独立して選定することは非常に
困難である。同様に、カソード水の性質を基準として運
転条件を決めれば同時に製造されるアノード水の性質が
その運転条件でほとんど決まってしまう。このように、
上記いずれの場合にも、洗浄を目的として電解水を用い
る場合にいずれも有効なアノード水，カソード水を製造
するための装置運転条件が必ずしも同一でないという事
実からすれば、上述した図２，図３の一つの装置を用い
て有効なアノード水、カソード水を同時に製造すること
は非常に困難であり、工業的規模での実施においては大
きな障害となってしまう。
には、被洗浄物である固体表面の材質、表面処理の状
態、及び付着している不純物の種類や付着の状態を充分
に検討し、各々の洗浄目的に最適な酸化還元電位やｐＨ
等の性質を有する洗浄液を選定する必要があり、更に、
一般に固体表面の汚染は、金属、微粒子、油等が混在し
ている場合が多く、この場合には、性質の異なる複数の
洗浄液を順次組み合わせて用いることにより、初めて顕
著な洗浄効果を得ることが可能となる。このため、洗浄
に供されるアノード水とカソード水の酸化還元電位やｐ
Ｈ等の電解水の性質は、各々独立して広い範囲で自由に
設定できることが望ましいのに対し、上記図３に示した
三槽式の電解水製造装置では、各電解室から排出される
電解水の性質を独立して設定することは不可能である
し、仮に洗浄に供すべきアノード水の性質を基準とし
て、電解に供する原水の電解質の組成、濃度、添加量、
ｐＨ、電解電流等の運転条件を決めたとしても、同時に
製造されるカソード水の性質はこのアノード水製造のた
めの運転条件によりほとんど決まってしまい、洗浄に有
効なカソード水の性質を独立して選定することは非常に
困難である。同様に、カソード水の性質を基準として運
転条件を決めれば同時に製造されるアノード水の性質が
その運転条件でほとんど決まってしまう。このように、
上記いずれの場合にも、洗浄を目的として電解水を用い
る場合にいずれも有効なアノード水，カソード水を製造
するための装置運転条件が必ずしも同一でないという事
実からすれば、上述した図２，図３の一つの装置を用い
て有効なアノード水、カソード水を同時に製造すること
は非常に困難であり、工業的規模での実施においては大
きな障害となってしまう。
【００１５】以上のこととは別に、図２，図３で説明し
た従来の電解水製造装置により製造した電解水を用いて
洗浄を行う場合には、薬品が無駄になることが避けられ
ないという問題と、極めて清浄な表面を洗浄するために
はこれに適した洗浄用水が得られないという問題が指摘
される。
た従来の電解水製造装置により製造した電解水を用いて
洗浄を行う場合には、薬品が無駄になることが避けられ
ないという問題と、極めて清浄な表面を洗浄するために
はこれに適した洗浄用水が得られないという問題が指摘
される。
【００１６】このことは次ぎのように説明される。すな
わち、酸性で且つ酸化性のアノード水と、アルカリ性で
且つ還元性のカソード水とを一つの装置で同時に製造す
るためには、供給原水に、水素イオン以外の陽イオンと
水酸化物イオン以外の陰イオンよりなる塩の水溶液を用
い、電解槽内におけるこれらのイオンの泳動によってア
ノード水を酸性とし、カソード水をアルカリ性とする必
要がある。しかしこのような供給原水を使用すると、製
造されたアノード水中には供給原水中に存在している水
素イオン以外の陽イオンが相当量残留し、また同様に、
製造されたカソード水中には原水中に存在した水酸化物
イオン以外の陰イオンが相当量残留することが避けられ
ない。そこで、これらの各電解水のｐＨを目標値に設定
するためには、前者では残留する陽イオンを中和した上
で更に目標ｐＨ値とするための水酸化物イオン以外の陰
イオンが必要とされ、また後者では残留する陰イオンを
中和した上で更に目標ｐＨ値とするための水素イオン以
外の陽イオンが必要とされ、これらの中和のために相当
量の薬品が必要となって無駄が避けられない。
わち、酸性で且つ酸化性のアノード水と、アルカリ性で
且つ還元性のカソード水とを一つの装置で同時に製造す
るためには、供給原水に、水素イオン以外の陽イオンと
水酸化物イオン以外の陰イオンよりなる塩の水溶液を用
い、電解槽内におけるこれらのイオンの泳動によってア
ノード水を酸性とし、カソード水をアルカリ性とする必
要がある。しかしこのような供給原水を使用すると、製
造されたアノード水中には供給原水中に存在している水
素イオン以外の陽イオンが相当量残留し、また同様に、
製造されたカソード水中には原水中に存在した水酸化物
イオン以外の陰イオンが相当量残留することが避けられ
ない。そこで、これらの各電解水のｐＨを目標値に設定
するためには、前者では残留する陽イオンを中和した上
で更に目標ｐＨ値とするための水酸化物イオン以外の陰
イオンが必要とされ、また後者では残留する陰イオンを
中和した上で更に目標ｐＨ値とするための水素イオン以
外の陽イオンが必要とされ、これらの中和のために相当
量の薬品が必要となって無駄が避けられない。
【００１７】また、電子デバイスのような極めて清浄な
表面が要求される洗浄の場合、洗浄液中の不純物は製品
の性能や製品製造の歩留まりに多大な悪影響を与えるた
め、洗浄液は不純物濃度を極限まで低減させた純度の高
いものを用いなければならないが、上述のようにアノー
ド水中に原水由来の水素イオン以外の陽イオン、あるい
はカソード水中に原水由来の水酸化物イオン以外の陰イ
オンが相当量残留する場合には、これらのイオンが洗浄
液中の不純物となるばかりでなく、被洗浄物（電子デバ
イス等の製品）を乾燥させた場合にこれがイオン性の結
晶である固体の塩として製品表面に析出する可能性があ
って、このような塩の析出は製品性能や製品製造の歩留
まりに致命的な悪影響を及ぼす虞れとなる。
表面が要求される洗浄の場合、洗浄液中の不純物は製品
の性能や製品製造の歩留まりに多大な悪影響を与えるた
め、洗浄液は不純物濃度を極限まで低減させた純度の高
いものを用いなければならないが、上述のようにアノー
ド水中に原水由来の水素イオン以外の陽イオン、あるい
はカソード水中に原水由来の水酸化物イオン以外の陰イ
オンが相当量残留する場合には、これらのイオンが洗浄
液中の不純物となるばかりでなく、被洗浄物（電子デバ
イス等の製品）を乾燥させた場合にこれがイオン性の結
晶である固体の塩として製品表面に析出する可能性があ
って、このような塩の析出は製品性能や製品製造の歩留
まりに致命的な悪影響を及ぼす虞れとなる。
【００１８】現在一般には、電子デバイスのような極め
て清浄な表面を要求される被洗浄物の洗浄液としては、
アンモニア、塩酸、硫酸等のアルカリや酸と、過酸化水
素等とを目的に応じて所定の割合で混合したものを、超
純水等の高純度水で希釈して用いることで上述の製品乾
燥時のイオン性結晶の生成は回避されているが、このよ
うな洗浄液に代えて、原水として電解質水溶液を用いた
図２，図３の電解水製造装置で得られる電解水（アノー
ド水，カソード水）を用いる場合には、製品乾燥時のイ
オン性結晶の生成が製品の性能や製品製造の歩留まりに
致命的な悪影響を及ぼす可能性があるという上記問題が
解決されない。
て清浄な表面を要求される被洗浄物の洗浄液としては、
アンモニア、塩酸、硫酸等のアルカリや酸と、過酸化水
素等とを目的に応じて所定の割合で混合したものを、超
純水等の高純度水で希釈して用いることで上述の製品乾
燥時のイオン性結晶の生成は回避されているが、このよ
うな洗浄液に代えて、原水として電解質水溶液を用いた
図２，図３の電解水製造装置で得られる電解水（アノー
ド水，カソード水）を用いる場合には、製品乾燥時のイ
オン性結晶の生成が製品の性能や製品製造の歩留まりに
致命的な悪影響を及ぼす可能性があるという上記問題が
解決されない。
【００１９】更に以上のような問題がいずれも解決され
たとしても、電子デバイスのような極めて清浄な表面が
要求される被洗浄物洗浄のために、上記図２，図３の電
解水製造装置に供給する原水に電解質水溶液を用いる場
合には、原水を電解質水溶液とするための工程において
不純物の混入の虞があるために工業的な実施が容易でな
いという問題もある。
たとしても、電子デバイスのような極めて清浄な表面が
要求される被洗浄物洗浄のために、上記図２，図３の電
解水製造装置に供給する原水に電解質水溶液を用いる場
合には、原水を電解質水溶液とするための工程において
不純物の混入の虞があるために工業的な実施が容易でな
いという問題もある。
【００２０】すなわち、極めて清浄な表面が要求される
電子デバイスのような被洗浄物の洗浄のために上記の電
解質水溶液を原水としてアノード水等を製造する電解水
製造装置を用いる場合、原水としては、言うまでもなく
不純物の殆ど混入していない純粋な電解質水溶液が必要
とされる。このためには原水を調整する方法として、純
水あるいは超純水に高純度な電解質を添加する方法が考
えられるが、しかし、上記のような極めて清浄な表面が
要求される洗浄分野での使用が可能な純度を有し且つ工
業的に入手可能な薬品は、現在においては酸又は塩基の
水溶液がほとんどであり、図２又は図３で示した電解水
製造装置で酸性でかつ酸化性のアノード水と、アルカリ
性でかつ還元性のカソード水を同時に製造するために
は、供給原水中に、水素イオン以外の陽イオンと水酸化
物イオン以外の陰イオンが共存している必要があるの
で、入手した高純度の酸及び塩基の水溶液を一定の割合
で一旦混合して調整する必要がある。したがってこのよ
うな塩を電解水製造装置の原水供給口に供給するには、
酸又は塩基の水溶液混合のための手段が必要となる。こ
れでは、電解水製造の工程が煩雑になるだけでなく、混
合の過程において汚染による薬品純度の低下が危倶され
るという問題が避けられないのである。
電子デバイスのような被洗浄物の洗浄のために上記の電
解質水溶液を原水としてアノード水等を製造する電解水
製造装置を用いる場合、原水としては、言うまでもなく
不純物の殆ど混入していない純粋な電解質水溶液が必要
とされる。このためには原水を調整する方法として、純
水あるいは超純水に高純度な電解質を添加する方法が考
えられるが、しかし、上記のような極めて清浄な表面が
要求される洗浄分野での使用が可能な純度を有し且つ工
業的に入手可能な薬品は、現在においては酸又は塩基の
水溶液がほとんどであり、図２又は図３で示した電解水
製造装置で酸性でかつ酸化性のアノード水と、アルカリ
性でかつ還元性のカソード水を同時に製造するために
は、供給原水中に、水素イオン以外の陽イオンと水酸化
物イオン以外の陰イオンが共存している必要があるの
で、入手した高純度の酸及び塩基の水溶液を一定の割合
で一旦混合して調整する必要がある。したがってこのよ
うな塩を電解水製造装置の原水供給口に供給するには、
酸又は塩基の水溶液混合のための手段が必要となる。こ
れでは、電解水製造の工程が煩雑になるだけでなく、混
合の過程において汚染による薬品純度の低下が危倶され
るという問題が避けられないのである。
【００２１】本発明者は、以上のような従来の二槽式，
三槽式の電解水製造装置をそのまま用いたのでは上述し
た解決することができない種々の問題を検討し、本発明
をなすに至ったものである。
三槽式の電解水製造装置をそのまま用いたのでは上述し
た解決することができない種々の問題を検討し、本発明
をなすに至ったものである。
【００２２】すなわち本発明の目的の一つは、電解によ
って生成せしめた有用な酸化性又は還元性の生成物が、
電解槽内においてお互いの酸化還元反応によって消滅し
てしまうことを防止できると共に、製造されるアノード
水，カソード水の少なくともいずれかの酸化還元電位や
ｐＨ等の性質を、それぞれの有効な性質を各独立に調整
して製造することが可能かつ容易であるように工夫され
た構造を有する新規な電解水製造装置を提供するところ
にある。
って生成せしめた有用な酸化性又は還元性の生成物が、
電解槽内においてお互いの酸化還元反応によって消滅し
てしまうことを防止できると共に、製造されるアノード
水，カソード水の少なくともいずれかの酸化還元電位や
ｐＨ等の性質を、それぞれの有効な性質を各独立に調整
して製造することが可能かつ容易であるように工夫され
た構造を有する新規な電解水製造装置を提供するところ
にある。
【００２３】また本発明の別の目的は、上記のように、
酸性で且つ酸化性のアノード水及び／又はアルカリ性で
且つ還元性のカソード水を、薬品を無駄にすることなく
製造するができる新規な電解水製造装置を提供するとこ
ろにある。
酸性で且つ酸化性のアノード水及び／又はアルカリ性で
且つ還元性のカソード水を、薬品を無駄にすることなく
製造するができる新規な電解水製造装置を提供するとこ
ろにある。
【００２４】本発明の別の目的は、極めて清浄な表面が
求められる被洗浄物の洗浄に適した用水として、不必要
なイオンの存在を必要とせずしたがって製品乾燥時の結
晶の生成の心配がない用水を製造することができる新規
な電解水製造装置を提供するところにある。
求められる被洗浄物の洗浄に適した用水として、不必要
なイオンの存在を必要とせずしたがって製品乾燥時の結
晶の生成の心配がない用水を製造することができる新規
な電解水製造装置を提供するところにある。
【００２５】本発明の更に別の目的は、極めて清浄な表
面が求められる被洗浄物の洗浄に適した用水として、上
記電解水製造装置の供給原水として高純度の酸，塩基の
水溶液を混合した電解質水溶液を供給する場合の問題点
を解消することができて、高純度の酸，塩基の水溶液の
混合操作を経ずに使用することが可能な、殺菌、金属表
面の酸化防止、又は固体表面に付着した各種汚染物質の
洗浄等に適した電解水を供給する電解水製造装置を提供
することにある。
面が求められる被洗浄物の洗浄に適した用水として、上
記電解水製造装置の供給原水として高純度の酸，塩基の
水溶液を混合した電解質水溶液を供給する場合の問題点
を解消することができて、高純度の酸，塩基の水溶液の
混合操作を経ずに使用することが可能な、殺菌、金属表
面の酸化防止、又は固体表面に付着した各種汚染物質の
洗浄等に適した電解水を供給する電解水製造装置を提供
することにある。
【００２６】
【課題を解決するための手段及び作用】上述の目的を達
成する本発明の電解水製造装置の特徴の一つは、アノー
ド電極を配したアノード室、カソード電極を配したカソ
ード室、これらアノード室とカソード室の間に一対の隔
膜により区分して配置した中間室、の三室で構成された
水の電気分解装置と、これら三室に各々原水を供給する
供給配管と、これら三室の処理液を排出する排出配管
と、上記アノード室とカソード室からの排出配管にそれ
ぞれ設けられた電解質添加手段とを備え、これらの電解
質添加手段は、添加する電解質の組成、濃度、添加量、
ｐＨの内の少なくともいずれかが制御可能に設けられて
いるという構成をなすところにある。
成する本発明の電解水製造装置の特徴の一つは、アノー
ド電極を配したアノード室、カソード電極を配したカソ
ード室、これらアノード室とカソード室の間に一対の隔
膜により区分して配置した中間室、の三室で構成された
水の電気分解装置と、これら三室に各々原水を供給する
供給配管と、これら三室の処理液を排出する排出配管
と、上記アノード室とカソード室からの排出配管にそれ
ぞれ設けられた電解質添加手段とを備え、これらの電解
質添加手段は、添加する電解質の組成、濃度、添加量、
ｐＨの内の少なくともいずれかが制御可能に設けられて
いるという構成をなすところにある。
【００２７】なお上記構成において、アノード室及び／
又はカソード室からの排出配管を複数に分岐し、その全
部あるいは一部の配管に夫々独立した電解質添加手段を
設けることもでき、このようにすれば、多種類に設定し
た複数の電解水を得ることができる。
又はカソード室からの排出配管を複数に分岐し、その全
部あるいは一部の配管に夫々独立した電解質添加手段を
設けることもでき、このようにすれば、多種類に設定し
た複数の電解水を得ることができる。
【００２８】上記構成の電解水製造装置によれば、アノ
ードの表面で生成される酸化性物質の一部と、カソード
の表面で生成される還元性物質の一部は、隔膜を通過し
て中間室へ拡散するが、中間室供給配管より中間室へ導
入され排出配管で排出される水と共に外部に排出される
ため、これらの酸化性物質及び還元性物質が反対側の電
極室にまで拡散し、お互いの酸化還元反応によって消滅
してしまうことによる効率の低下を防止できる。
ードの表面で生成される酸化性物質の一部と、カソード
の表面で生成される還元性物質の一部は、隔膜を通過し
て中間室へ拡散するが、中間室供給配管より中間室へ導
入され排出配管で排出される水と共に外部に排出される
ため、これらの酸化性物質及び還元性物質が反対側の電
極室にまで拡散し、お互いの酸化還元反応によって消滅
してしまうことによる効率の低下を防止できる。
【００２９】また、電解質の組成、濃度、添加量、ｐＨ
の内の少なくともいずれかが制御可能な電解質添加手段
がアノード室，カソード室の排出配管に設けられている
ので、アノード水及び／又はカソード水中の電解質の種
類、組成、濃度、ｐＨ等を各々独立して設定することが
可能となり、目的とする有用なアノード水，カソード水
の酸化還元電位、ｐＨ等の性質を同時に独立して選択す
ることが容易になる。電解槽は、供給する原水や電解
質、及び生成する電解水に対して耐性を有するものであ
ればなんら限定されるものではないが、例えばポリ塩化
ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、アクリル
樹脂等の有機材料や、セラミックス、ガラス等の無機材
料、及び接液面にゴムライニングや酸化皮膜処理等の表
面処理を施した金属材料等を用いて構成することができ
る。
の内の少なくともいずれかが制御可能な電解質添加手段
がアノード室，カソード室の排出配管に設けられている
ので、アノード水及び／又はカソード水中の電解質の種
類、組成、濃度、ｐＨ等を各々独立して設定することが
可能となり、目的とする有用なアノード水，カソード水
の酸化還元電位、ｐＨ等の性質を同時に独立して選択す
ることが容易になる。電解槽は、供給する原水や電解
質、及び生成する電解水に対して耐性を有するものであ
ればなんら限定されるものではないが、例えばポリ塩化
ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、アクリル
樹脂等の有機材料や、セラミックス、ガラス等の無機材
料、及び接液面にゴムライニングや酸化皮膜処理等の表
面処理を施した金属材料等を用いて構成することができ
る。
【００３０】隔膜としては、例えばセルロース、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレ
ン、フッ素樹脂等の高分子材料や、セラミックス等の無
機材料等よりなるフィルタ又は有孔性フィルム、イオン
交換膜等を用いることができるが、特に、原水中の電解
質濃度が低い場合等には、イオン交換膜を用いれば、イ
オン交換膜の導電性によって電解電圧を低下させ、一定
の電解電流を流す場合の消費電力を節約できる。電極と
イオン交換膜を密着させるように配置すれば、更に電解
電圧を低下させ、消費電力を節約することも可能であ
る。また、アノード室と中間室を区分する隔膜にカチオ
ン交換膜を用い、カソード室と中間室を区分する隔膜に
アニオン交換膜を用いた場合には、各々の膜のイオン排
除効果により、アノード室及びカソード室より、中間室
へ拡散する酸化性及び還元性物質の量を低減することも
できる。カチオン交換膜としては、フッ素樹脂母体に−
ＳＯ3 -基を導入した強酸性カチオン交換膜、例えばＮａ
ｆｉｏｎ（商品名：デュポン社製）ｌ１７やＮａｆｉｏ
ｎ３５０等や、又はスチレン−ジビニルベンゼン共重合
体母体に−ＳＯ3 -基を導入した強酸性カチオン交換膜、
例えばネオセプタＣＭＸ（徳山曹達社製）等を用いるこ
とができ、アニオン交換膜としては、フッ素樹脂母体に
陰イオン交換基を導入したアニオン交換膜、例えばＴＯ
ＳＦＬＥＸ ＩＥ−ＳＡ，ＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ−Ｄ
Ｆ，ＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ−ＳＦ（東ソー社製）等や、
又はスチレン−ジビニルベンゼン共重合体を母体とする
アニオン交換膜、例えばネオセプタＡＭＨ（徳山曹達社
製）等を用いることができる。
チレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレ
ン、フッ素樹脂等の高分子材料や、セラミックス等の無
機材料等よりなるフィルタ又は有孔性フィルム、イオン
交換膜等を用いることができるが、特に、原水中の電解
質濃度が低い場合等には、イオン交換膜を用いれば、イ
オン交換膜の導電性によって電解電圧を低下させ、一定
の電解電流を流す場合の消費電力を節約できる。電極と
イオン交換膜を密着させるように配置すれば、更に電解
電圧を低下させ、消費電力を節約することも可能であ
る。また、アノード室と中間室を区分する隔膜にカチオ
ン交換膜を用い、カソード室と中間室を区分する隔膜に
アニオン交換膜を用いた場合には、各々の膜のイオン排
除効果により、アノード室及びカソード室より、中間室
へ拡散する酸化性及び還元性物質の量を低減することも
できる。カチオン交換膜としては、フッ素樹脂母体に−
ＳＯ3 -基を導入した強酸性カチオン交換膜、例えばＮａ
ｆｉｏｎ（商品名：デュポン社製）ｌ１７やＮａｆｉｏ
ｎ３５０等や、又はスチレン−ジビニルベンゼン共重合
体母体に−ＳＯ3 -基を導入した強酸性カチオン交換膜、
例えばネオセプタＣＭＸ（徳山曹達社製）等を用いるこ
とができ、アニオン交換膜としては、フッ素樹脂母体に
陰イオン交換基を導入したアニオン交換膜、例えばＴＯ
ＳＦＬＥＸ ＩＥ−ＳＡ，ＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ−Ｄ
Ｆ，ＴＯＳＦＬＥＸ ＩＥ−ＳＦ（東ソー社製）等や、
又はスチレン−ジビニルベンゼン共重合体を母体とする
アニオン交換膜、例えばネオセプタＡＭＨ（徳山曹達社
製）等を用いることができる。
【００３１】アノード，カソードの電極としては、金
属、合金、金属酸化物等、あるいはこれらの金属等の基
板に上記いずれかの金属等をメッキ又はコーティングし
たものや、焼結炭素等の導電性材料を用いることがで
き、その形状としては、板状、パンチングプレート、メ
ッシュ等のものを用いることができる。特に、アノード
の材質としては、耐酸性に優れ、酸化されにくいもので
あることが望ましく、例えばＰｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、β−Ｐ
ｂＯ2 、ＮｉＦｅ2 Ｏ4 等を好適に用いることができ、
カソードの材質としては、耐アルカリ性に優れたもので
あることが望ましく、例えばＰｔ、Ｐｄ、Ａｕ、炭素
鋼、ステンレス、Ａｇ、Ｃｕ、グラファイト、ガラス質
カーボン等の使用が望ましい。
属、合金、金属酸化物等、あるいはこれらの金属等の基
板に上記いずれかの金属等をメッキ又はコーティングし
たものや、焼結炭素等の導電性材料を用いることがで
き、その形状としては、板状、パンチングプレート、メ
ッシュ等のものを用いることができる。特に、アノード
の材質としては、耐酸性に優れ、酸化されにくいもので
あることが望ましく、例えばＰｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、β−Ｐ
ｂＯ2 、ＮｉＦｅ2 Ｏ4 等を好適に用いることができ、
カソードの材質としては、耐アルカリ性に優れたもので
あることが望ましく、例えばＰｔ、Ｐｄ、Ａｕ、炭素
鋼、ステンレス、Ａｇ、Ｃｕ、グラファイト、ガラス質
カーボン等の使用が望ましい。
【００３２】アノード室排出配管及び／又はカソード室
排出配管に添加される電解質としては、各種の酸、塩
基、塩、又はこれらの任意の割合の混合物の中から目的
に応じて選定することができ、その濃度も特に限定され
るものではないが、一般的には濃度０．００１ｍｇ／ｌ
〜１００ｇ／ｌ、好ましくは０．０１ｍｇ／ｌ〜１０ｇ
／ｌ程度の範囲から選択される。酸としては、例えば塩
酸、硫酸、炭酸、硝酸等の無機酸、あるいは酢酸、クエ
ン酸、蓚酸等の有機酸等が用いられ、塩基としては、ア
ンモニア、アミン系等の塩基を用いることができる。例
えばアノード室排出配管に添加する電解質としてハロゲ
ン化物を含有する電解質を用い、アノード水が有する酸
化性によってハロゲン酸を生成せしめる場合のように、
添加する電解質の一部を電解水中における反応により更
に有用な物質に変化させることもできる。
排出配管に添加される電解質としては、各種の酸、塩
基、塩、又はこれらの任意の割合の混合物の中から目的
に応じて選定することができ、その濃度も特に限定され
るものではないが、一般的には濃度０．００１ｍｇ／ｌ
〜１００ｇ／ｌ、好ましくは０．０１ｍｇ／ｌ〜１０ｇ
／ｌ程度の範囲から選択される。酸としては、例えば塩
酸、硫酸、炭酸、硝酸等の無機酸、あるいは酢酸、クエ
ン酸、蓚酸等の有機酸等が用いられ、塩基としては、ア
ンモニア、アミン系等の塩基を用いることができる。例
えばアノード室排出配管に添加する電解質としてハロゲ
ン化物を含有する電解質を用い、アノード水が有する酸
化性によってハロゲン酸を生成せしめる場合のように、
添加する電解質の一部を電解水中における反応により更
に有用な物質に変化させることもできる。
【００３３】電解質としては上記の他に、ｐＨ緩衝能の
ある塩、例えばアンモニウム塩、炭酸塩、蓚酸塩等、又
はこれらの塩と酸あるいは塩基の混合物を用いることも
でき、電解電流等の電解条件が電解水のｐＨへ与える影
響を少なくすることができ、アノード水及びカソード水
の性質を独立して設定することをより容易とすることが
できる。
ある塩、例えばアンモニウム塩、炭酸塩、蓚酸塩等、又
はこれらの塩と酸あるいは塩基の混合物を用いることも
でき、電解電流等の電解条件が電解水のｐＨへ与える影
響を少なくすることができ、アノード水及びカソード水
の性質を独立して設定することをより容易とすることが
できる。
【００３４】また電解質の添加は、アノード室排出配管
とカソード室排出配管の双方に行うこともできる他、い
ずれか一方についてだけ行うこともできる。例えば、殺
菌等を目的とする装置の場合には、主に酸性で且つ酸化
性のアノード水の製造が要求されるから、アノード室か
らの排出配管にのみ電解質の添加手段を設けて、カソー
ド室からの排出配管への電解質添加手段を不要とでき
る。逆に金属表面の酸化防止等を主たる目的とする装置
の場合には、アルカリ性で且つ還元性のカソード水を製
造すればよいから、電解質の添加手段をカソード室から
の排出配管のみに設けて、アノード室の排出配管への電
解質添加手段の設置を不要とできる。これらの場合に
は、電解質添加手段を削減することで、電解水製造装置
の構成を簡略化することができる。
とカソード室排出配管の双方に行うこともできる他、い
ずれか一方についてだけ行うこともできる。例えば、殺
菌等を目的とする装置の場合には、主に酸性で且つ酸化
性のアノード水の製造が要求されるから、アノード室か
らの排出配管にのみ電解質の添加手段を設けて、カソー
ド室からの排出配管への電解質添加手段を不要とでき
る。逆に金属表面の酸化防止等を主たる目的とする装置
の場合には、アルカリ性で且つ還元性のカソード水を製
造すればよいから、電解質の添加手段をカソード室から
の排出配管のみに設けて、アノード室の排出配管への電
解質添加手段の設置を不要とできる。これらの場合に
は、電解質添加手段を削減することで、電解水製造装置
の構成を簡略化することができる。
【００３５】
【００３６】
【００３７】これらの電解質添加手段としては、電解質
水溶液を添加する場合には、電解質水溶液を貯留する薬
品タンクと、電解質水溶液を該薬品タンクよりアノード
室又はカソード室からの排出配管に注入すべく設けられ
た電解質水溶液注入ポンプの組合せ等を用いることがで
きる。また、アンモニアや炭酸ガス等の気体を用いるこ
ともでき、これらを注入する場合には、注入する気体を
充満させたガスボンベ、及び該ボンベとアノード室又は
カソード室からの排出配管をつなぐ気体注入配管であっ
て、その途中に圧力調節機構及び注入量調節機構を設け
たもの等を用いることができる。電解質水溶液を添加す
る場合、薬品タンクの材質は、用いる電解質水溶液によ
り溶解あるいは変質する材質のものでなければ何ら制限
されるものではないが、例えば高密度ポリエチレン製の
タンク等を好適に用いることができる。また、電解質水
溶液注入ポンプの材質や型式も、用いる電解質水溶液に
対する充分な耐性があり、必要な添加量が確保される吐
出能力を備えたものであれば、何ら制限されるものでは
ないが、例えば往復動型定量ポンプ等を好適に用いるこ
とができる。
水溶液を添加する場合には、電解質水溶液を貯留する薬
品タンクと、電解質水溶液を該薬品タンクよりアノード
室又はカソード室からの排出配管に注入すべく設けられ
た電解質水溶液注入ポンプの組合せ等を用いることがで
きる。また、アンモニアや炭酸ガス等の気体を用いるこ
ともでき、これらを注入する場合には、注入する気体を
充満させたガスボンベ、及び該ボンベとアノード室又は
カソード室からの排出配管をつなぐ気体注入配管であっ
て、その途中に圧力調節機構及び注入量調節機構を設け
たもの等を用いることができる。電解質水溶液を添加す
る場合、薬品タンクの材質は、用いる電解質水溶液によ
り溶解あるいは変質する材質のものでなければ何ら制限
されるものではないが、例えば高密度ポリエチレン製の
タンク等を好適に用いることができる。また、電解質水
溶液注入ポンプの材質や型式も、用いる電解質水溶液に
対する充分な耐性があり、必要な添加量が確保される吐
出能力を備えたものであれば、何ら制限されるものでは
ないが、例えば往復動型定量ポンプ等を好適に用いるこ
とができる。
【００３８】電解水中の電解質の組成、濃度、添加量、
ｐＨの制御は、目的とする使用に有効な電解水の酸化還
元電位、ｐＨ等の性質の設定のために行われ、例えば、
組成は複数のイオンを添加する場合に、最適なイオンバ
ランスを調整するために、濃度及び添加量は、目的とす
る使用に有効な性質の電解水を製造するために必要な電
解質の濃度と量を確保するために、ｐＨは得られる電解
水のｐＨを最終的に調整すると共に、電解によって生成
する有効な酸化性及び還元性生成物を安定に保持し使用
に際してこれらを有効に作用せしめるために制御され
る。これらはその一つを制御できるものであってもよ
く、複数を制御できるようにしてもよい。
ｐＨの制御は、目的とする使用に有効な電解水の酸化還
元電位、ｐＨ等の性質の設定のために行われ、例えば、
組成は複数のイオンを添加する場合に、最適なイオンバ
ランスを調整するために、濃度及び添加量は、目的とす
る使用に有効な性質の電解水を製造するために必要な電
解質の濃度と量を確保するために、ｐＨは得られる電解
水のｐＨを最終的に調整すると共に、電解によって生成
する有効な酸化性及び還元性生成物を安定に保持し使用
に際してこれらを有効に作用せしめるために制御され
る。これらはその一つを制御できるものであってもよ
く、複数を制御できるようにしてもよい。
【００３９】これらの制御のためには、例えば予め所定
の濃度に調整した電解質水溶液を、所定の量定量ポンプ
によって添加するか、又は設定値を可変としたい場合に
は、添加する電解質の種類に応じた自動濃度計測器，ｐ
Ｈ計又は酸化還元電位計等を電解質添加点より下流の電
解水排出配管に設け、当該計測器，ｐＨ計，又は酸化還
元電位計等の指示値によって、電解質注入量を可変する
機構等を電解質添加手段に設けること等によって達成す
ることができる。なお、電解水の水質は、電解電流によ
っても変化し得るので、電解質添加量を可変するのに加
えて電解電流を可変としてもよい。
の濃度に調整した電解質水溶液を、所定の量定量ポンプ
によって添加するか、又は設定値を可変としたい場合に
は、添加する電解質の種類に応じた自動濃度計測器，ｐ
Ｈ計又は酸化還元電位計等を電解質添加点より下流の電
解水排出配管に設け、当該計測器，ｐＨ計，又は酸化還
元電位計等の指示値によって、電解質注入量を可変する
機構等を電解質添加手段に設けること等によって達成す
ることができる。なお、電解水の水質は、電解電流によ
っても変化し得るので、電解質添加量を可変するのに加
えて電解電流を可変としてもよい。
【００４０】電解水製造装置へ供給する原水は、目的に
応じてその水質を選択することができ、例えば水道水、
工業用水、地下水、純水、超純水等を挙げることができ
る。例えば、病院や歯科医院、食堂や食品加工工場等に
おける殺菌を目的とした使用や、金属部品製造工程等で
の金属表面等の酸化防止を目的とする場合等では、水道
水、工業用水、地下水等を原水としても、これらの分野
で通常要求される電解水の不純物濃度からして充分にそ
の目的を達成することができるし、原水に含まれる各種
のイオンを電解処理することでｐＨの調整剤として利用
したり、電解によって生成される酸化性生成物や還元性
生成物の原料として利用することができるといった利点
もある。
応じてその水質を選択することができ、例えば水道水、
工業用水、地下水、純水、超純水等を挙げることができ
る。例えば、病院や歯科医院、食堂や食品加工工場等に
おける殺菌を目的とした使用や、金属部品製造工程等で
の金属表面等の酸化防止を目的とする場合等では、水道
水、工業用水、地下水等を原水としても、これらの分野
で通常要求される電解水の不純物濃度からして充分にそ
の目的を達成することができるし、原水に含まれる各種
のイオンを電解処理することでｐＨの調整剤として利用
したり、電解によって生成される酸化性生成物や還元性
生成物の原料として利用することができるといった利点
もある。
【００４１】極めて清浄な表面が要求される電子デバイ
ス等を洗浄する場合等にあっては、洗浄液は不純物濃度
を低減させた純度の高いものを用いることが要求される
ので、原水として純水又は超純水を使用することが望ま
しい。
ス等を洗浄する場合等にあっては、洗浄液は不純物濃度
を低減させた純度の高いものを用いることが要求される
ので、原水として純水又は超純水を使用することが望ま
しい。
【００４２】純水としては、例えば水道水、工業用水、
地下水等をイオン交換樹脂に通水するか、又は逆浸透膜
で脱塩処理し、その導電率をｌ０μＳ／ｃｍ以下とした
ものを好適に用いることができる。更に低い不純物濃度
が要求される場合には、上記の純水をイオン交換、膜処
理、紫外線照射、脱気等の各装置を組み合わせた超純水
製造システムによって精製し、微量イオン、細菌、有機
物、微粒子、溶存気体を除去したいわゆる超純水を用い
ることができる。この場合には、電解質添加点より下流
の電解水排出配管中においては、添加した電解質のみが
水中に存在するので、電解水の性質をより正確に設定す
ることができる。尚この場合、電解水排出配管に、精密
濾過膜、限外濾過膜等によるろ過器を設置し、電解水を
ろ過した後、目的の使用に供するようにすれば、微粒子
等の不純物を除去した更に純度の高い電解水を供給する
ことが可能となる。
地下水等をイオン交換樹脂に通水するか、又は逆浸透膜
で脱塩処理し、その導電率をｌ０μＳ／ｃｍ以下とした
ものを好適に用いることができる。更に低い不純物濃度
が要求される場合には、上記の純水をイオン交換、膜処
理、紫外線照射、脱気等の各装置を組み合わせた超純水
製造システムによって精製し、微量イオン、細菌、有機
物、微粒子、溶存気体を除去したいわゆる超純水を用い
ることができる。この場合には、電解質添加点より下流
の電解水排出配管中においては、添加した電解質のみが
水中に存在するので、電解水の性質をより正確に設定す
ることができる。尚この場合、電解水排出配管に、精密
濾過膜、限外濾過膜等によるろ過器を設置し、電解水を
ろ過した後、目的の使用に供するようにすれば、微粒子
等の不純物を除去した更に純度の高い電解水を供給する
ことが可能となる。
【００４３】超純水を原水として電解を行う場合には、
電解に高電圧を要する。かかる場合には（この場合に限
定されるものではないが）、中間室に固体電解質を充填
して固体電解質の導電性によって電解電圧を低下させて
低電圧で電解を行うようにすることが望ましい。
電解に高電圧を要する。かかる場合には（この場合に限
定されるものではないが）、中間室に固体電解質を充填
して固体電解質の導電性によって電解電圧を低下させて
低電圧で電解を行うようにすることが望ましい。
【００４４】中間室に充填する固体電解質としては、イ
オン交換樹脂やイオン交換繊維等を用いることができ、
イオン交換樹脂としては、フッ素樹脂母体のイオン交換
樹脂が適しており、特にフッ素樹脂母体に−ＳＯ3 -基を
導入した強酸性カチオン交換樹脂、具体的にはデュポン
社製のＮａｆｉｏｎ（前出） ＮＲ５０等を代表的なも
のとして挙げることができるがこれに限定されるもので
はない。イオン交換樹脂の他のものとしては、例えばス
チレン−ジビニルベンゼン共重合体母体に−ＳＯ3 -基を
導入した強酸性カチオン交換樹脂、具体的にはアンバー
ライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ，ＩＲ−１２４，２
００や、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体母体に第
四級アンモニウム塩基を導入した強塩基性アニオン交換
樹脂、具体的にはアンバーライトＩＲＡ−４００，ＩＲ
Ａ−４０２ＢＬ，ＩＲＡ−９００等を挙げることができ
る。
オン交換樹脂やイオン交換繊維等を用いることができ、
イオン交換樹脂としては、フッ素樹脂母体のイオン交換
樹脂が適しており、特にフッ素樹脂母体に−ＳＯ3 -基を
導入した強酸性カチオン交換樹脂、具体的にはデュポン
社製のＮａｆｉｏｎ（前出） ＮＲ５０等を代表的なも
のとして挙げることができるがこれに限定されるもので
はない。イオン交換樹脂の他のものとしては、例えばス
チレン−ジビニルベンゼン共重合体母体に−ＳＯ3 -基を
導入した強酸性カチオン交換樹脂、具体的にはアンバー
ライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ，ＩＲ−１２４，２
００や、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体母体に第
四級アンモニウム塩基を導入した強塩基性アニオン交換
樹脂、具体的にはアンバーライトＩＲＡ−４００，ＩＲ
Ａ−４０２ＢＬ，ＩＲＡ−９００等を挙げることができ
る。
【００４５】本発明の電解水製造装置は、上記電子デバ
イスのような極めて清浄な表面を要求される被洗浄物の
洗浄用水の製造には極めて有利である。すなわちこのよ
うな用途では、酸性で酸化性のアノード水とアルカリ性
で還元性のカソード水が同時に要求されるが、本発明の
装置では、電解処理されたアノード水とカソード水に、
高純度の酸，塩基の水溶液をそのままあるいは任意の濃
度に希釈して添加するだけで目的とする性質を有する洗
浄用の用水が製造できるからである。かかる極めて清浄
な表面の洗浄の用途用としては、製品乾燥時の結晶の生
成の心配がないように、添加する電解質としては、カソ
ード水にはアンモニア、アミン系等の塩基、アノード水
には塩酸、硫酸、硝酸、炭酸等の酸を添加することが好
ましい。
イスのような極めて清浄な表面を要求される被洗浄物の
洗浄用水の製造には極めて有利である。すなわちこのよ
うな用途では、酸性で酸化性のアノード水とアルカリ性
で還元性のカソード水が同時に要求されるが、本発明の
装置では、電解処理されたアノード水とカソード水に、
高純度の酸，塩基の水溶液をそのままあるいは任意の濃
度に希釈して添加するだけで目的とする性質を有する洗
浄用の用水が製造できるからである。かかる極めて清浄
な表面の洗浄の用途用としては、製品乾燥時の結晶の生
成の心配がないように、添加する電解質としては、カソ
ード水にはアンモニア、アミン系等の塩基、アノード水
には塩酸、硫酸、硝酸、炭酸等の酸を添加することが好
ましい。
【００４６】
【実施例】以下本発明を、アノード水及びカソード水に
それぞれ電解質を添加するように設けた一実施例の電解
水製造装置により更に説明する。
それぞれ電解質を添加するように設けた一実施例の電解
水製造装置により更に説明する。
【００４７】図１は、本実施例の電解水製造装置の構成
概要を示したものであり、１は三槽式の電気分解装置で
あり、アノード４が配置されたアノード室６、中間室
７、カソード５が配置されたカソード室８の三室からな
り、これら併設された各室は隔膜２，３により区分され
ている。なお１８，１９はアノード４，カソード５に直
流電圧を印加するための電源電線である。
概要を示したものであり、１は三槽式の電気分解装置で
あり、アノード４が配置されたアノード室６、中間室
７、カソード５が配置されたカソード室８の三室からな
り、これら併設された各室は隔膜２，３により区分され
ている。なお１８，１９はアノード４，カソード５に直
流電圧を印加するための電源電線である。
【００４８】９，１０，１１は、上記の三室に原水を供
給するための供給配管であり、共通の原水配管から、ア
ノード室への原水供給配管９、中間室への原水供給配管
１０、カソード室への原水供給配管１１に分岐されてい
る。
給するための供給配管であり、共通の原水配管から、ア
ノード室への原水供給配管９、中間室への原水供給配管
１０、カソード室への原水供給配管１１に分岐されてい
る。
【００４９】また１４，１５，１６は上記三室の処理水
を排出するための排出配管であり、１４はアノード室か
らの処理水排出配管、１５は中間室からの処理水排出配
管、１６はカソード室からの処理水排出配管である。
を排出するための排出配管であり、１４はアノード室か
らの処理水排出配管、１５は中間室からの処理水排出配
管、１６はカソード室からの処理水排出配管である。
【００５０】２０，２１は、アノード水排出配管１４と
カソード水排出配管２１に設けられたろ過用フィルター
であり、例えば精密濾過膜等の膜処理装置を用いて、こ
れらのアノード水，カソード水に含まれる微粒子等を除
去するために設けられている。このような膜処理装置
は、本例装置を電子デバイス等の極めて清浄な表面を要
求される場合の洗浄水の製造に用いる場合には好ましく
採用される場合が多い。そして本例の特徴は、アノード
室６からの排出配管１４のろ過用フィルター２０の前段
に、電解質添加手段１２から電解質が添加されるように
設けられ、また同様に、カソード室８からの排出配管１
６のろ過用フィルター２１の前段に、電解質添加手段１
３から電解質が添加されるように設けられているところ
にある。以上のように設けられた本例装置によれば、電
気分解装置１が中間室７を有する三槽式に設けられてい
ることにより、アノード４の表面で生成される酸化性物
質の一部と、カソード５の表面で生成される還元性物質
の一部は、隔膜２又は隔膜３を通過して中間室７へ拡散
するが、中間室供給配管１０より該中間室７へ導入され
中間室排出配管１５より排出される水によって電気分解
装置１の外部へ排出されるため、これら酸化性物質及び
還元性物質が極性が反対の電極室にまで拡散してお互い
の酸化還元反応により消滅してしまうような効率低下の
問題が防止されるという利点が得られる。
カソード水排出配管２１に設けられたろ過用フィルター
であり、例えば精密濾過膜等の膜処理装置を用いて、こ
れらのアノード水，カソード水に含まれる微粒子等を除
去するために設けられている。このような膜処理装置
は、本例装置を電子デバイス等の極めて清浄な表面を要
求される場合の洗浄水の製造に用いる場合には好ましく
採用される場合が多い。そして本例の特徴は、アノード
室６からの排出配管１４のろ過用フィルター２０の前段
に、電解質添加手段１２から電解質が添加されるように
設けられ、また同様に、カソード室８からの排出配管１
６のろ過用フィルター２１の前段に、電解質添加手段１
３から電解質が添加されるように設けられているところ
にある。以上のように設けられた本例装置によれば、電
気分解装置１が中間室７を有する三槽式に設けられてい
ることにより、アノード４の表面で生成される酸化性物
質の一部と、カソード５の表面で生成される還元性物質
の一部は、隔膜２又は隔膜３を通過して中間室７へ拡散
するが、中間室供給配管１０より該中間室７へ導入され
中間室排出配管１５より排出される水によって電気分解
装置１の外部へ排出されるため、これら酸化性物質及び
還元性物質が極性が反対の電極室にまで拡散してお互い
の酸化還元反応により消滅してしまうような効率低下の
問題が防止されるという利点が得られる。
【００５１】また、電解質の組成、濃度、添加量、ｐＨ
の内の少なくともいずれかが制御可能な電解質添加手段
１２，１３がアノード室６及びカソード室８の排出配管
１４，１６に設けられているので、アノード水及びカソ
ード水中の電解質の種類、組成、濃度、ｐＨ等を各々独
立して設定することが可能となり、目的とする有用なア
ノード水、カソード水の酸化還元電位、ｐＨ等の性質を
同時に独立して選択することが容易になる。
の内の少なくともいずれかが制御可能な電解質添加手段
１２，１３がアノード室６及びカソード室８の排出配管
１４，１６に設けられているので、アノード水及びカソ
ード水中の電解質の種類、組成、濃度、ｐＨ等を各々独
立して設定することが可能となり、目的とする有用なア
ノード水、カソード水の酸化還元電位、ｐＨ等の性質を
同時に独立して選択することが容易になる。
【００５２】参考例１ 図１の構成を有する装置を用いて、電解槽、電解電流、
電解質などの電解条件を以下のように設定して電解水を
製造した。
電解質などの電解条件を以下のように設定して電解水を
製造した。
【００５３】すなわち、電解槽１をポリプロピレン製の
材料を用いて構成し、隔膜２，３にカチオン交換膜（Ｎ
ａｆｉｏｎ ３５０（デュポン社製））を用いた。電極
４，５は１８０×２４０ｍｍの８０メッシュの網状の白
金製電極を用い、また中間室７にカチオン交換樹脂（Ｎ
ａｆｉｏｎ ＮＲ５０）を充填した。
材料を用いて構成し、隔膜２，３にカチオン交換膜（Ｎ
ａｆｉｏｎ ３５０（デュポン社製））を用いた。電極
４，５は１８０×２４０ｍｍの８０メッシュの網状の白
金製電極を用い、また中間室７にカチオン交換樹脂（Ｎ
ａｆｉｏｎ ＮＲ５０）を充填した。
【００５４】またアノード室６からの排出配管１４に電
解質として塩酸を添加し、カソード室８からの排出配管
１６に電解質としてアンモニア水を添加するものとし
た。これらの電解質の添加手段１２，１３としては、ポ
リエチレン製の薬品タンクに塩酸あるいはアンモニア水
を所定の濃度に希釈して貯留し、往復動型定量ポンプ
（図示せず）により各排出配管１４，１６に注入させる
構成とした。なお原水としては超純水（１８ＭΩ・ｃ
ｍ）を用いた。
解質として塩酸を添加し、カソード室８からの排出配管
１６に電解質としてアンモニア水を添加するものとし
た。これらの電解質の添加手段１２，１３としては、ポ
リエチレン製の薬品タンクに塩酸あるいはアンモニア水
を所定の濃度に希釈して貯留し、往復動型定量ポンプ
（図示せず）により各排出配管１４，１６に注入させる
構成とした。なお原水としては超純水（１８ＭΩ・ｃ
ｍ）を用いた。
【００５５】電解条件 電解電流・・・１０Ａ（電解電流密度 ２．３Ａ／ｄｍ
2 ） 通水流量・・・各室５０リットル／ｈ 通水温度・・・室温 なお、電解水中の電解質（塩酸，アンモニア）の濃度
は、定量ポンプによる注入量を変化させることで下記表
１のように変化させた。
2 ） 通水流量・・・各室５０リットル／ｈ 通水温度・・・室温 なお、電解水中の電解質（塩酸，アンモニア）の濃度
は、定量ポンプによる注入量を変化させることで下記表
１のように変化させた。
【００５６】以上のようにして電解水（アノード水，カ
ソード水）を製造した結果を下記表１に示す。
ソード水）を製造した結果を下記表１に示す。
【００５７】
【表１】
【００５８】なお、表中において酸化還元電位は標準水
素電極（ＮＨＥ）に対する電位で示した。また電解質濃
度０ｍｇ／ｌ（すなわち電解質非添加）の場合は、１８
ＭΩ・ｃｍの超純水のｐＨは測定できないので、参考値
として（ｐＨ７）を記載した。
素電極（ＮＨＥ）に対する電位で示した。また電解質濃
度０ｍｇ／ｌ（すなわち電解質非添加）の場合は、１８
ＭΩ・ｃｍの超純水のｐＨは測定できないので、参考値
として（ｐＨ７）を記載した。
【００５９】上記の表１の結果から分かるように、アノ
ード室６からの排出配管１４に添加する塩酸の添加量を
調整（０〜１４６０ｍｇ・ＨＣｌ／ｌ）したときに現れ
るアノード水のｐＨ変化は１．４〜７の範囲であり、塩
酸の添加量を調整することでこの範囲でｐＨを調整でき
る。また、酸化還元電位は１０５０〜１３３０ｍＶ（対
ＮＨＥ）の範囲で調整可能であった。また同時に製造し
たカソード水の水質は、カソード室８からの排出配管１
６に添加するアンモニアの添加量を調整（水中アンモニ
ア濃度を０〜６８０ｍｇＮＨ3 ／ｌに変化）すること
で、ｐＨ７〜１０．７、酸化還元電位−６３０〜−５０
０ｍＶ（対ＮＨＥ）の範囲で調整可能であった。そして
本例においては、塩酸はアノード室６からの排出配管１
４、アンモニアはカソード室８からの排出配管１６にそ
れぞれ独立に添加されるので、これらの水質を全く独立
に設定することができ、アノード水中へのアンモニウム
イオンの混入や、カソード水中への塩化物イオンの混入
の虞れは全くない。
ード室６からの排出配管１４に添加する塩酸の添加量を
調整（０〜１４６０ｍｇ・ＨＣｌ／ｌ）したときに現れ
るアノード水のｐＨ変化は１．４〜７の範囲であり、塩
酸の添加量を調整することでこの範囲でｐＨを調整でき
る。また、酸化還元電位は１０５０〜１３３０ｍＶ（対
ＮＨＥ）の範囲で調整可能であった。また同時に製造し
たカソード水の水質は、カソード室８からの排出配管１
６に添加するアンモニアの添加量を調整（水中アンモニ
ア濃度を０〜６８０ｍｇＮＨ3 ／ｌに変化）すること
で、ｐＨ７〜１０．７、酸化還元電位−６３０〜−５０
０ｍＶ（対ＮＨＥ）の範囲で調整可能であった。そして
本例においては、塩酸はアノード室６からの排出配管１
４、アンモニアはカソード室８からの排出配管１６にそ
れぞれ独立に添加されるので、これらの水質を全く独立
に設定することができ、アノード水中へのアンモニウム
イオンの混入や、カソード水中への塩化物イオンの混入
の虞れは全くない。
【００６０】比較例１ 比較のために、参考例１における電解質の添加を行わず
に、参考例１の超純水に塩化アンモニウム水溶液を添加
したものを原水として各室１００リットル／ｈの通水流
量で電解槽１に供給し、かつこの添加する塩化アンモニ
ウム水溶液の濃度を下記表２にように変化させた以外は
参考例１と同じ条件で電解水を製造した。
に、参考例１の超純水に塩化アンモニウム水溶液を添加
したものを原水として各室１００リットル／ｈの通水流
量で電解槽１に供給し、かつこの添加する塩化アンモニ
ウム水溶液の濃度を下記表２にように変化させた以外は
参考例１と同じ条件で電解水を製造した。
【００６１】
【表２】
【００６２】この表２に示したように、原水の塩化アン
モニウム濃度を変化させることにより、製造された電解
水のｐＨや酸化還元電位を変化させることは可能である
が、アノード水とカソード水の水質を独立して調整する
ことはできない。
モニウム濃度を変化させることにより、製造された電解
水のｐＨや酸化還元電位を変化させることは可能である
が、アノード水とカソード水の水質を独立して調整する
ことはできない。
【００６３】また表２に示したように、アノード水中に
は相当量のアンモニウムが混入し、カソード水中には相
当量の塩化物イオンが混入していた。
は相当量のアンモニウムが混入し、カソード水中には相
当量の塩化物イオンが混入していた。
【００６４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の電解水製
造装置によれば、製造されるアノード水，カソード水の
双方の酸化還元電位やｐＨ等の性質を、電気分解装置の
後段に設けた電解質添加手段により、それぞれの水とし
て求められる有効な性質に各独立に調整して製造するこ
とが可能かつ容易となり、工業的規模での実施に極めて
有利となる効果が得られる。
造装置によれば、製造されるアノード水，カソード水の
双方の酸化還元電位やｐＨ等の性質を、電気分解装置の
後段に設けた電解質添加手段により、それぞれの水とし
て求められる有効な性質に各独立に調整して製造するこ
とが可能かつ容易となり、工業的規模での実施に極めて
有利となる効果が得られる。
【００６５】また、電気分解装置を三槽式に設けること
により電解によって生成された酸化性又は還元性の生成
物が電解槽内においてお互いの酸化還元反応によって消
滅してしまう不具合がなく、しかも、製造されたアノー
ド水やカソード水に残留する不要なイオンがないので、
薬品を無駄にすることなく所望の電解水を製造できると
いう効果が得られる。
により電解によって生成された酸化性又は還元性の生成
物が電解槽内においてお互いの酸化還元反応によって消
滅してしまう不具合がなく、しかも、製造されたアノー
ド水やカソード水に残留する不要なイオンがないので、
薬品を無駄にすることなく所望の電解水を製造できると
いう効果が得られる。
【００６６】また更に、特に極めて清浄な表面が求めら
れる被洗浄物の洗浄に適した用水として、不必要なイオ
ンの存在がなくしたがって製品乾燥時の結晶の生成の心
配がない電解水を容易に製造できるという効果も得られ
る。
れる被洗浄物の洗浄に適した用水として、不必要なイオ
ンの存在がなくしたがって製品乾燥時の結晶の生成の心
配がない電解水を容易に製造できるという効果も得られ
る。
【００６７】以上のことに加えて以下の効果も奏され
る。
る。
【００６８】： 電解水の使用目的に応じて、アノー
ド室又はカソード室からの排出配管のいずれか一方にの
み電解質添加手段を設けることもでき、この場合には、
電解水製造装置の構成を簡略化することができる。
ド室又はカソード室からの排出配管のいずれか一方にの
み電解質添加手段を設けることもでき、この場合には、
電解水製造装置の構成を簡略化することができる。
【００６９】： アノード室、カソード室及び中間室
に供給する原水を純水又は超純水とすれば、不純物の少
ない電解水を供給できる上に、電解水の性質をより正確
に設定することができる。
に供給する原水を純水又は超純水とすれば、不純物の少
ない電解水を供給できる上に、電解水の性質をより正確
に設定することができる。
【００７０】： アノード室，カソード室と中間室と
を区分する隔膜をイオン交換膜とした場合には、イオン
交換膜の導電性によって電解電圧を低下させ消費電力を
節約することができる。
を区分する隔膜をイオン交換膜とした場合には、イオン
交換膜の導電性によって電解電圧を低下させ消費電力を
節約することができる。
【００７１】： 中問室に固体電解質を充填した場合
には、純水あるいは超純水を原水として用いる場合であ
っても高電圧を要することなく電解を行うことができ
る。
には、純水あるいは超純水を原水として用いる場合であ
っても高電圧を要することなく電解を行うことができ
る。
【図１】本発明に係わる電解水製造装置の構造概要を示
した図である。
した図である。
【図２】従来の二槽式電解水製造装置の構造概要を示し
た図である。
た図である。
【図３】従来の三槽式電解水製造装置の構造概要を示し
た図である。
た図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今岡 孝之 埼玉県戸田市川岸１丁目４番９号 オル ガノ株式会社総合研究所内 (72)発明者 二ツ木 高志 埼玉県戸田市川岸１丁目４番９号 オル ガノ株式会社総合研究所内 (72)発明者 山下 幸福 埼玉県戸田市川岸１丁目４番９号 オル ガノ株式会社総合研究所内 (56)参考文献 特開 平８−127886（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25B 1/00 - 15/08
Claims (6)
- 【請求項１】 アノード電極を配したアノード室、カソ
ード電極を配したカソード室、これらアノード室とカソ
ード室の間に一対の隔膜により区分された中間室の三室
で構成された水の電気分解装置と、この電気分解装置の
各三室に各々原水を供給する供給配管と、これら三室か
ら各々処理液を排出する排出配管と、上記アノード室及
び／又はカソード室からの排出配管に設けられた電解質
添加手段とを備え、該電解質添加手段は、添加する電解
質の組成、濃度、添加量、ｐＨのうちの少なくともいず
れかが制御可能に設けられていることを特徴とする電解
水製造装置。 - 【請求項２】 請求項ｌにおいて、アノード室、カソー
ド室及び中間室に供給する原水が純水または超純水であ
ることを特徴とする電解水製造装置。 - 【請求項３】 請求項ｌ又は２において、アノード室及
び／又はカソード室と中間室とを区分する隔膜が、イオ
ン交換膜であることを特徴とする電解水製造装置。 - 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれかにおいて、中
間室には固体電解質が充填されていることを特徴とする
電解水製造装置。 - 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれかにおいて、ア
ノード室からの排出配管に酸の添加手段を設けたことを
特徴とする電解水製造装置。 - 【請求項６】 請求項ｌ乃至４のいずれかにおいて、カ
ソード室からの排出配管にアルカリの添加手段を設けた
ことを特徴とする電解水製造装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26581294A JP3181796B2 (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 電解水製造装置 |
| TW084111331A TW386068B (en) | 1994-10-28 | 1995-10-27 | Electrolytic ionized water producing apparatus |
| US08/549,570 US5616221A (en) | 1994-10-28 | 1995-10-27 | Electrolytic ionized water producing apparatus |
| CN95118325A CN1053166C (zh) | 1994-10-28 | 1995-10-27 | 电解水制造装置 |
| GB9522012A GB2294473B (en) | 1994-10-28 | 1995-10-27 | Electrolytic ionized water producing apparatus |
| KR1019950039269A KR100223694B1 (ko) | 1994-10-28 | 1995-10-28 | 전해수 제조장치 |
| SG1995001673A SG38884A1 (en) | 1994-10-28 | 1995-10-28 | Electrolytic ionized water producing apparatus |
| DE19540469A DE19540469B4 (de) | 1994-10-28 | 1995-10-30 | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von elektrolytisch ionisiertem Wasser |
Applications Claiming Priority (1)
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