JPH101794A

JPH101794A - 電解槽及び電解方法

Info

Publication number: JPH101794A
Application number: JP8174163A
Authority: JP
Inventors: Isao Sawamoto; 勲澤本; Kuniaki Yamada; 邦晃山田; Naoaki Sakurai; 直明桜井; Naoya Hayamizu; 直哉速水
Original assignee: Permelec Electrode Ltd; Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp; De Nora Permelec Ltd
Priority date: 1996-06-13
Filing date: 1996-06-13
Publication date: 1998-01-06

Abstract

(57)【要約】【目的】従来の電解洗浄水よりも不純物含有量の少な
い洗浄水の製造用電解槽及び製造方法を提供する。【構成】隔膜としてパーフルオロカーボン系陽イオン
交換膜２を使用し、電極室枠５、６をフッ素樹脂で成型
し、電極７、８用物質として溶出の殆どない白金族金属
やその酸化物を使用した電解槽。このような構成から成
る電解槽に電解液を供給しながら電解を行なうと、電極
物質や室枠の溶出による生成する洗浄水の汚染が防止さ
れ、超高純度が要求される電子機器洗浄用として効果的
に使用できる洗浄水が提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体や液晶等の電子
機器の洗浄に使用する金属汚染のない高純度の酸性水及
び／又はアルカリ水を製造するための電解槽及び電解方
法に関する。

【０００２】

【従来技術とその問題点】電子部品の製造や洗浄には、
従来から該用途のために特別に調製された硫酸、フッ
酸、過酸化水素、塩酸等が使用されてきた。これらは今
後も用途に応じて使用されるが、それぞれに応じた化学
プロセスで製造された製品を特別に精製して得られたも
のであり、製造過程の触媒等から混入してくる金属成分
の除去等を行なうために操作が煩雑で結果的に高価な製
品となっている。又精製操作を丁寧に行なっても電子デ
バイスの高度化に伴う許容不純物量の低下に対しては必
ずしも十分に対応できるものではなく、新たな代替手法
が要請されている。

【０００３】その代替手法の１つとしてオゾン水の使用
があり、特に電気分解により製造した高濃度オゾン水
は、電子デバイスの洗浄用等として極めて有効であるこ
とが知られている。しかしオゾン水単独の使用のみでは
不十分なことがあり、オゾン水の有しない他の機能例え
ば酸化作用及び還元作用を有しかつ金属成分を全く含有
しない処理液の必要性が高まっている。該処理液とし
て、いわゆる酸性水あるいは超酸性水があり、該酸性水
は通常ｐＨが３以下で酸化還元電位（ＯＲＰ）が1.2 Ｖ
以上であり、酸化力を有するため、有機物分解を行なっ
たり金属析出物を溶解して除去する等の効果を有し、電
子デバイスの洗浄用等として僅かではあるが使用されて
いる。この酸性水製造と同時に前記電解槽の陰極室では
ｐＨが10以上でＯＲＰが０Ｖ以下のアルカリ水が副生
し、該アルカリ水の洗浄等の用途への使用の検討も開始
されている。

【０００４】これらの改質された酸性水やアルカリ水
（洗浄水）の電解製造時には、隔膜であるイオン交換膜
により陽極室と陰極室に区画された２室型電解槽が使用
される。そしてこの電解槽を使用して電解を行なうため
には、電解液にイオン伝導性を与えるために適切な支持
電解質を添加する。多くの場合この支持電解質が製造さ
れる洗浄水に残ったり、あるいは電解槽本体の内壁構成
材料が電解液に溶解して、金属イオンやパーティクルが
発生して洗浄水を汚染し、該洗浄水を半導体や液晶等の
電子機器の洗浄に使用すると、前記洗浄水中の金属イオ
ン等が不純物として半導体表面に付着して絶縁不良を招
くといった不都合が生じる。陽極室と陰極室を区画する
隔膜として中性隔膜を使用する場合には、電解電圧低減
のために隔膜を挟んだ両極を接近させて配置する。この
配置でも隔膜の気液透過性が高いため各極室で発生する
種々の生成物が対極室に移行して再酸化又は還元を起こ
すため効率が低下し、陽極液及び陰極液の酸化還元電位
を低下させるという問題点がある。

【０００７】

【発明の目的】本発明は、前述の従来技術の問題点、つ
まり電解により生ずる洗浄水中に金属イオンやパーティ
クルなどの不純物が混入しやすく、酸化還元電位を低下
させやすい欠点を解消し、得られる洗浄水を半導体や液
晶等の洗浄に使用することを可能にする電子機器用洗浄
水製造用電解槽及び該洗浄水の製造方法を提供すること
を目的とする。

【０００８】

【問題点を解決するための手段】酸性水製造用電解槽に
係わる本発明は、その両面に陽極触媒及び陰極触媒を配
した陽イオン交換膜により陽極室及び陰極室に区画され
た電子機器洗浄用酸性水製造用電解槽において、前記陽
イオン交換膜がパーフルオロカーボン系陽イオン交換膜
であり、陽極室枠をフッ素樹脂で形成し、前記陽極触媒
として白金族金属及びその酸化物から選択される１又は
２以上の金属又は金属酸化物を使用し、前記陰極触媒と
して白金及び／又はカーボン製の多孔性シートを使用
し、前記陽極室に純水及び／又は塩酸を供給し、陽極及
び陰極間に通電することにより陽極室で酸性水を製造す
ることを特徴とする電子機器洗浄用酸性水製造用電解槽
であり、その際に製造された酸性水を槽外に取り出し、
カチオン樹脂充填塔を通して更に不純物除去を行なって
も良い。

【０００９】又アルカリ水製造用電解槽に係わる本発明
は、その両面に陽極触媒及び陰極触媒を配した陽イオン
交換膜により陽極室及び陰極室に区画された電子機器洗
浄用アルカリ水製造用電解槽において、前記陽イオン交
換膜がパーフルオロカーボン系陽イオン交換膜であり、
陰極室枠をフッ素樹脂で形成し、前記陰極触媒として白
金及び／又は酸化ルテニウムを使用し、該陰極触媒へ通
電するための陰極集電体をジルコニウムで形成し、前記
陰極室に純水及び／又は水酸化アンモニウムを供給し、
陽極及び陰極間に通電することにより陰極室でアルカリ
水を製造することを特徴とする電子機器洗浄用アルカリ
水製造用電解槽であり、その際に製造されたアルカリ水
を槽外に取り出し、アニオン樹脂充填塔を通して更に不
純物除去を行なっても良い。

【００１０】以下本発明を詳細に説明する。本発明の特
徴は、隔膜、電解室枠、電極触媒の材質を電解液に完璧
に又はほぼ完璧に溶解しない材質とし、これにより半導
体等の洗浄においては不可欠である不純物を含まない電
子機器洗浄水を提供する点にある。電解により製造され
る電子機器洗浄水としては電解槽の陽極室で生成する酸
性水と陰極室で生成するアルカリ水とがあり、本発明は
これらのそれぞれの洗浄水の製造用電解槽と製造方法を
含む。本発明では電解槽の隔膜としてパーフルオロカー
ボン系陽イオン交換膜を固体電解質として使用し、この
陽イオン交換膜により電解槽を陽極室と陰極室に区画す
る。該陽イオン交換膜は従来の中性隔膜と異なり、液透
過性がほぼ零であるため陽極液と陰極液が混合すること
が殆どなく、従って生成した陽極液（酸性水）と陰極液
（アルカリ水）の一部混合に起因する効率低下を回避で
き、かつ高電流密度下での運転が可能になり、短時間で
所望量の洗浄水を得ることができる。

【００１１】更に詳細な理由は明らかでないが、前記陽
イオン交換膜の使用により電極物質の消耗が少なくな
り、従って電極物質の混入による洗浄水の汚染が回避で
きる。これは電解質（陽イオン交換膜）の導電性が良い
ため、電流偏在がなくなり、部分的にせよ電気抵抗が低
下し、これにより温度上昇が抑止されること、及び膜に
接触している部分が三次元的に機能することにより電極
への二巻が実質的に低減されることに起因すると推測で
きる。経験的には電解物質が白金であり隔膜を非固体電
解質型とする場合、塩化ナトリウム濃度が1000ppm 程度
の塩水電解での消耗度が10〜30mg/KAHであるのに対し、
本発明のような固体電解質型の場合には0.5 〜３mg/KAH
と1/10〜1/20に抑えることができる。本発明では該陽イ
オン交換膜として、各種耐性に優れたパーフルオロカー
ボン系陽イオン交換膜を使用する。パーフルオロカーボ
ン系陽イオン交換膜としてパーフルオロカーボンスルホ
ン酸型陽イオン交換膜とパーフルオロカーボンカルボン
酸型陽イオン交換膜の２種類があり、特に前者のパーフ
ルオロカーボンスルホン酸型陽イオン交換膜は、陽極側
で酸化性の高い次亜塩素酸イオン(ClO^-) や過硫酸イオ
ン (S₂O₈ ^2-) が生成してもそれらに対する耐性が極めて
高く安定した運転ができる。

【００１２】又前記陽イオン交換膜は希釈電解液や純水
中でも電解に対して安定で、更に酸化性の高い生成物に
加えて多くの薬品に対して極めて高い耐性を示す。次に
電極室枠としてフッ素樹脂を使用する。ここで電極室枠
とは、陽イオン交換膜、電極、集電体以外の電解槽構成
部分を意味し、特にこれらのうち電解液に接触する箇所
を示し、電解槽の内壁板、底板等が含まれる。本発明で
は少なくとも電解操作の間に常に電解液に接触して部分
をフッ素樹脂で形成する。両極室枠ともフッ素樹脂で形
成することが望ましいが、少なくとも酸性水製造を目的
とする際には陽極室枠を、又アルカリ水製造を目的とす
る際には陰極室枠をフッ素樹脂で形成する。つまり酸性
水／アルカリ水のみを得ることを目的とする場合にはア
ルカリ水／酸性水に室枠構成物質が溶出しても問題にな
らないからである。フッ素樹脂は末端基がフッ素（Ｆ）
で終わっておりその耐食性は極めて高い。このフッ素樹
脂は超純水や塩酸に対する耐性が高いことに加え、超純
水を電解する際に発生するオゾン等のラジカルにも非常
に高い耐性を示し、室枠からのパーティクル及び金属の
溶出を最小限に抑え、得られる洗浄水を半導体等の電子
機器の洗浄に使用可能にする役割を有する。

【００１３】次に酸性水製造の場合に、陽極物質として
酸性水製造の際の溶出に対して耐性のある物質、具体的
には白金、ルテニウム、イリジウム、ロジウム、パラジ
ウム、オスミウム等の白金族金属又は酸化ルテニウムや
酸化イリジウム等の白金族金属酸化物を使用する。該金
属又は酸化物は電解による消耗が極めて小さく、従って
洗浄水への溶出が殆どなく、得られる洗浄水の汚染を零
又は殆ど零にできる。例えば他の電極物質である炭素の
陽極物質として使用すると、陽極反応により炭素が酸化
されて二酸化炭素が生成し陽極が脆弱化するという問題
点が生ずる。又この白金族金属又はその酸化物の使用に
より、得られる酸性水の物性をコントロールできる。例
えば白金を陽極物質とする電解の際に電解液中に塩素イ
オンが存在すると、該塩素イオンを次亜塩素酸イオンま
で酸化し、酸化還元電位を更に高めることができ、更に
生成する水素イオンによりｐＨを十分低くすることがで
きる。いずれの場合にも陽極反応は酸素発生反応となる
が、前述の炭素電極の場合のような電極の消耗は生じな
い。

【００１４】陰極物質の選択は酸性水中への陰極物質の
混入には影響しないが、電解電圧の低減には影響がある
ため、前記陰極物質の選択は酸性水製造の場合にも考慮
する必要がある。本発明の酸性水製造では、陰極として
開口が100 ミクロン以下の白金及び／又はカーボンのシ
ート状電極を使用する。白金及び／又はカーボンを陰極
として使用することにより電極が安定になり、陰極物質
の溶出を最大限に抑制する。更に100 ミクロン以下好ま
しくは４〜50ミクロンの開口を有する電極シートは均一
に陽イオン交換膜と接触して部分的な電流集中を抑えて
いるため、電解電圧が低く維持され、更に陰極で発生す
る水素ガスが陰極全面で平均的に発生すること、及びガ
ス抜きがスムーズに行なえるため、陰極で発生する水素
ガスの陽極室への移動割合を抑制し、これにより陽極の
酸化還元電位の低下を抑制して高く維持することを可能
にする。

【００１５】アルカリ水製造の場合には、陰極物質とし
て白金又は酸化ルテニウムを使用する。これらの物質を
陰極として使用すると電解による消耗が極めて小さく、
又過電圧も低いため電解電圧を下げるためにも有効であ
る。例えば前記白金又は酸化ルテニウムの代わりに、ス
テンレス、ニッケル、チタン等の金属を陰極として使用
すると、過電圧が大きく電解電圧を上昇させて電力コス
トが高くなり、更に電解による消耗がかなりあり、生成
する洗浄水中に溶出した金属イオンが混入し、該洗浄水
を半導体や液晶の洗浄に使用すると前記金属イオンによ
る絶縁不良を来たす恐れが高くなる。更にアルカリ水製
造では、陰極集電体としてジルコニウムを使用する。こ
れも同様にジルコニウム以外のステンレスやニッケルで
は溶出が大きく、電子機器の洗浄には不向きだからであ
る。

【００１６】酸性水製造の目的では、上述した電解槽の
陽極室に純水及び／又は塩酸を供給し、陽極及び陰極間
に通電する。純水のみを供給すると前記陽イオン交換膜
が電解質として機能し水電解による酸素発生（オゾンを
含むことがある）が生じ、該酸素が陽極液中に溶解して
酸性水が生成する。又塩酸を陽極室に供給すると、塩素
イオンが塩素ガスに更に次亜塩素イオンに電解酸化され
て、低ｐＨで酸化力の強い酸性水が生ずる。なおこのよ
うにして製造された酸性水中には僅少量のカチオンが混
入している場合があり、本発明方法では得られた酸性水
を電解槽外に設置したカチオン樹脂充填塔に導きかつ該
充填塔を通してカチオン性の不純物除去を行ない、更に
純度の高い酸性水を得る。

【００１７】一方アルカリ水製造の目的では、上述した
電解槽の陰極室に純水及び／又は水酸化アンモニウムを
供給し、陽極及び陰極間に通電する。純水のみを供給す
ると前記陽イオン交換膜が電解質として機能し水電解に
よる水酸イオンが発生し、アルカリ水が生成する。又水
酸化アンモニウムを陰極室に供給すると、水酸イオンが
濃度が高くなり、更に強いアルカリ水が生成する。なお
このようにして製造されたアルカリ水中には僅少量のア
ニオンが混入している場合があり、本発明方法では得ら
れたアルカリ水を電解槽外に設置したアニオン樹脂充填
塔に導きかつ該充填塔を通してアニオン性の不純物除去
を行ない、更に純度の高いアルカリ水を得る。

【００１８】本発明の酸性水及び／又はアルカリ水製造
では、隔膜としてパーフルオロカーボン系陽イオン交換
膜を使用することによる電極物質の消耗及び溶出の抑
制、電解室枠をフッ素樹脂製とすることによる室枠材料
の溶出の抑制、電極物質の選択による該電極物質の消耗
及び溶出の抑制が可能になり、これらの効果が組み合わ
されて生成する洗浄水中への不純物の混入を完全に又は
最小限に抑制して、超高純度が要求される電子機器洗浄
用としても効果的に使用できる洗浄水を提供できる。

【００１９】図１は本発明の電解槽を例示する概略縦断
面図である。電解槽本体１は、パーフルオロカーボン系
陽イオン交換膜２の周囲を挟持する額縁状の陽極室ガス
ケット３及び陰極室ガスケット４、及び各ガスケット
３、４の前記陽イオン交換膜２とは反対面に設置された
電解液流通機能を有しかつ少なくとも内側の電解液と接
触する部分をフッ素樹脂製とした陽極室壁板５及び陰極
室壁板６により構成されている。前記陽イオン交換膜２
の陽極面には、白金族金属又はそれらの酸化物の粉末か
ら成る多孔性陽極７が密着状態で設けられ、前記陽イオ
ン交換膜２の陰極面には、白金やカーボンから成る多孔
体シート状陰極８が密着状態で設けられている。前記陽
極７及び陰極８には、それぞれ陽極集電体９及び陰極集
電体10が接続され、該集電体を通して通電が行なわれ
る。

【００２０】前記陽極室壁板５の内部には陽極液流通路
11が形成され、陽極液入口12から供給される塩酸等を溶
解した陽極液が陽極室開口部13から陽極室に進入して陽
極７と接触して次亜塩素酸等の酸化力の強い高酸化還元
電位の化合物に酸化され、酸性水として陽極液出口14か
ら取り出される。一方前記陰極室壁板６の内部には陰極
液流通路15が形成され、陰極液入口16から必要に応じて
供給される超純水が陰極室開口部17から陰極室に進入し
イオンを含む陽極からの移行水とともに陰極８と接触し
て還元され、アルカリ水として陰極液出口18から取り出
される。図示した電解槽を使用する洗浄水製造では、隔
膜として陽イオン交換膜を使用し、電極室壁板をフッ素
樹脂で形成し、かつ電極物質として溶出のない又は少な
い物質を使用しているため、得られる洗浄水中に混入す
る不純物量が零又は僅少であり、電子機器洗浄用として
特に好ましい不純物がほぼ零の洗浄水を提供できる。

【００２１】

【実施例】次に本発明に係わる電子機器洗浄水製造用電
解槽を使用する洗浄水製造の実施例を記載するが、該実
施例は本発明を限定するものではない。

【００２２】

【実施例１】陽イオン交換膜ナフィオン117 （デュポン
社製）の陽極面側に、イリジウム酸化物触媒を担持し基
材全てをカバーした気液透過性のチタン製の多孔性陽極
を、陰極面側に開口が10〜20ミクロンで厚さが100 ミク
ロンの白金カーボンシートから成る陰極をそれぞれ密着
させた。該陰極にはジルコニウム製の集電体を接続し
た。この陽イオン交換膜を、全体をテフロン（デュポン
社製）により成形した電解槽本体内に設置して陽極室と
陰極室に区画して、図１に示した電解槽を構成した。該
電解槽の陽極室に40mmol塩酸を、陰極室に純水をそれぞ
れ300 ミリリットル／分及び300 ミリリットル／分で供
給しながら、温度25℃、電流５Ａで電解を行なったとこ
ろ、電解電圧は3.0 Ｖであり、陽極室出口から酸化還元
電位が1150mVでｐＨが4.5 である酸性水が毎分300 ミリ
リットルで回収され、同時に陰極室出口から酸化還元電
位ＯＲＰが−680 mVでｐＨが7.5 であるアルカリ水が毎
分300ミリリットルで回収された。前記酸性水中の不純
物を分析したところ、イリジウム及びアルミニウムが40
ng／リットル検出されたが、その他の金属は５ng／リッ
トルの検出限界で検出されなかった。

【００２３】

【比較例１】陰極に40メッシュの白金メッシュを用いた
こと以外は実施例１と同一条件で電解を行ない、酸性水
及びアルカリ水を得た。電解電圧は5.5 Ｖであり、得ら
れた酸性水中の不純物は、イリジウムが100 ng／リット
ル見出され、その他に鉄が100 ng／リットル検出され
た。

【００２４】

【比較例２】イオン交換膜を多孔質のアルミナ・シリカ
材質のセラミックスに変更したことを除いて、実施例１
と同一条件で電解を行ない、酸性水及びアルカリ水を得
た。得られた酸性水の酸化還元電位は650 mVとなり、電
解電圧も7.0 Ｖを超えてしまった。

【００２５】

【発明の効果】酸性水製造用電解槽に係わる本発明は、
その両面に陽極触媒及び陰極触媒を配したパーフルオロ
カーボン系陽イオン交換膜により陽極室及び陰極室に区
画された電子機器洗浄用酸性水製造用電解槽において、
陽極室枠をフッ素樹脂で形成し、前記陽極触媒として白
金族金属及びその酸化物から選択される１又は２以上の
金属又は金属酸化物を使用し、前記陰極触媒として白金
及び／又はカーボン製の多孔性シートを使用し、前記陽
極室に純水及び／又は塩酸を供給し、陽極及び陰極間に
通電することにより陽極室で酸性水を製造することを特
徴とする電子機器洗浄用酸性水製造用電解槽である。

【００２６】本発明では、隔膜として電流偏在等を防止
できる高耐性のパーフルオロカーボン系陽イオン交換膜
を使用することによる電極物質の消耗及び溶出の抑制、
電解室枠をフッ素樹脂製とすることによる室枠材料の溶
出の抑制、電極物質の選択による該電極物質の消耗及び
溶出の抑制が可能になり、これらの効果が組み合わされ
て生成する酸性水中への不純物の混入を完全に又は最小
限に抑制して、超高純度が抑制される電子機器洗浄用と
しても効果的に使用できる洗浄用酸性水を提供できる。
更に本発明では陰極をシート状として該陰極を均一に陽
イオン交換膜と接触させ部分的な電流集中を抑えている
ため、電解電圧が低く維持され、更に陰極で発生する水
素ガスが陰極全面で平均的に発生すること、及びスムー
ズなガス抜きが可能になり、これにより陽極の酸化還元
電位の低下を抑制して高く維持することができる。又こ
のようにして製造された酸性水中には僅少量のカチオン
が混入している場合があり、本発明では得られた酸性水
を電解槽外に設置したカチオン樹脂充填塔に導きかつ該
充填塔を通してカチオン性の不純物除去を行ない、更に
純度の高い酸性水を得ることもできる。

【００２７】アルカリ水製造用電解槽に係わる本発明で
も、同様にして陽イオン交換膜、陰極室枠、陰極触媒及
び陰極集電体の材質を適切に選択することにより、前述
した酸性水製造用電解槽の場合のように、生成するアル
カリ水中への不純物の混入を完全に又は最小限に抑制し
て、超高純度が抑制される電子機器洗浄用としても効果
的に使用できる洗浄用アルカリ水を提供できる。更にこ
のようにして製造されたアルカリ水中には僅少量のアニ
オンが混入している場合があり、本発明では得られたア
ルカリ水を電解槽外に設置したアニオン樹脂充填塔に導
きかつ該充填塔を通してアニオン性の不純物除去を行な
い、更に純度の高いアルカリ水を得ることもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電解槽を例示する概略縦断面図。

【符号の説明】

１・・・電解槽本体２・・・陽イオン交換膜２３・
・・陽極室ガスケット４・・・陰極室ガスケット５・・・陽極室壁板６・
・・陰極室壁板７・・・陽極８・・・陰極９・・
・陽極集電体 10・・・陰極集電体 11・・・陽極液流
通路 12・・・陽極液入口 13・・・陽極室開口部 14
・・・陽極液出口 15・・・陰極液流通路 16・・・陰
極液入口 17・・・陰極室開口部 18・・・陰極液出口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者桜井直明神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会社東芝生産技術研究所内 (72)発明者速水直哉神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会社東芝生産技術研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】その両面に陽極触媒及び陰極触媒を配し
た陽イオン交換膜により陽極室及び陰極室に区画された
電子機器洗浄用酸性水製造用電解槽において、前記陽イ
オン交換膜がパーフルオロカーボン系陽イオン交換膜で
あり、陽極室枠をフッ素樹脂で形成し、前記陽極触媒と
して白金族金属及びその酸化物から選択される１又は２
以上の金属又は金属酸化物を使用し、前記陰極触媒とし
て白金及び／又はカーボン製の多孔性シートを使用し、
前記陽極室に純水及び／又は塩酸を供給し、陽極及び陰
極間に通電することにより陽極室で酸性水を製造するこ
とを特徴とする電子機器洗浄用酸性水製造用電解槽。
【請求項２】その両面に、白金族金属及びその酸化物
から選択される１又は２以上の金属又は金属酸化物から
成る陽極触媒、及び白金及び／又はカーボン製の多孔性
シートから成る陰極触媒を配したパーフルオロカーボン
系陽イオン交換膜により陽極室及び陰極室に区画され、
その陽極室枠がフッ素樹脂で形成された電子機器洗浄用
酸性水製造用電解槽の前記陽極室に純水及び／又は塩酸
を供給し、陽極及び陰極間に通電することにより陽極室
で酸性水を製造し、該酸性水を槽外のカチオン樹脂充填
塔を通して不純物除去を行なうことを特徴とする電子機
器洗浄用酸性水の製造方法。
【請求項３】その両面に陽極触媒及び陰極触媒を配し
た陽イオン交換膜により陽極室及び陰極室に区画された
電子機器洗浄用アルカリ水製造用電解槽において、前記
陽イオン交換膜がパーフルオロカーボン系陽イオン交換
膜であり、陰極室枠をフッ素樹脂で形成し、前記陰極触
媒として白金及び／又は酸化ルテニウムを使用し、該陰
極触媒へ通電するための陰極集電体をジルコニウムで形
成し、前記陰極室に純水及び／又は水酸化アンモニウム
を供給し、陽極及び陰極間に通電することにより陰極室
でアルカリ水を製造することを特徴とする電子機器洗浄
用アルカリ水製造用電解槽。
【請求項４】その両面に、陽極触媒、及び白金及び／
又は酸化ルテニウムから成る陰極触媒を配したパーフル
オロカーボン系陽イオン交換膜により陽極室及び陰極室
に区画され、その陰極室枠がフッ素樹脂で形成された電
子機器洗浄用アルカリ水製造用電解槽の前記陰極室に純
水及び／又は水酸化アンモニウムを供給し、陽極及び陰
極間に通電することにより陰極室でアルカリ水を製造
し、該アルカリ水を槽外のアニオン樹脂充填塔を通して
不純物除去を行なうことを特徴とする電子機器洗浄用ア
ルカリ水の製造方法。