TW562974B - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display device Download PDFInfo
- Publication number
- TW562974B TW562974B TW091122623A TW91122623A TW562974B TW 562974 B TW562974 B TW 562974B TW 091122623 A TW091122623 A TW 091122623A TW 91122623 A TW91122623 A TW 91122623A TW 562974 B TW562974 B TW 562974B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- layer
- color filter
- substrate
- display device
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133371—Cells with varying thickness of the liquid crystal layer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
- G02F1/133555—Transflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2203/00—Function characteristic
- G02F2203/09—Function characteristic transflective
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
562974 ⑴ 成、餐明說明 (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圖式簡單說明) 發明背景 1 ·發明領域 本發明與液晶顯示裝置有關,且更特別是,與能夠以透 射模式和反射模式來顯示圖像的一種透射/反射組合型式 L C D (液晶顯示器)有關。 2 .背景技藝之描述 近年來,具有諸如厚度小和功率消耗少之所需特性的液 晶顯示裝置已經被廣泛地使用在各種應用中,包括:諸如 文書處理器(word processor)*個人電腦的辦公室自動化設 備(OA equipment),諸如電子資訊組織器(electronic organizer) 的個人數位助理(pers〇nal digital assistant,簡稱PDA),以及 具有液时監視器的攝錄影機(camc〇r(jel·) 〇 這些液晶顯示裝置通常被分類成:反射型液晶顯示裝置 和透射型液晶顯示裝置。液晶顯示裝置並不是自發光的, 就像陰極射線管(cathod ray tube,簡稱CRT)或電致發光(EL ’ electroluminescence)裝置一樣。透射型液晶顯示裝置使用 來自一種佈置於液晶顯示板後側之照明器(所謂的”背光 器"(backlight))的光來顯示圖像,而反射型液晶顯示裝置則 使用周圍光線來顯示圖像。 使用來自背光器的光來顯示圖像的透射型液晶顯示裝 置雖然flb夠產生具有高對比度(c〇ntrast rati〇)的明亮顯像而 實質上不受到環境亮度的影響,但是卻會因背光器而消耗 562974 (2) 複數功率。而且,在非常光亮的礞境之下(例如:當在晴 天室外使用時),透射型液晶顯辛装置具有不良可見度 (visibility)。 在另一方面,反射型液晶顯示裝置雖然因/又有是光器而 消耗很少功率,但是其亮度和對比度實質上會受到使用它 時之條件(例如:環境亮度)的影響。特別疋’在…暗的衣 境之下,可見度會顯著地降低。 為了要克服這些問題,在技藝方面,已經提議使用能夠
以反射模式和透射模式來操作的透射/反射組合型式LCD ° 透射/反射組合型式LCD在每個圖像元素區中都曰〇括 反射周圍光線之一反射圖像元素電極和透射來自背光器 的光之-透射圖像元素電極;並且能夠選擇性地以透射模 式或者以反射模式來顯示圖像,端視使用它時之%境(例 如:環境亮度)而纟。透射/反射組合型式LCD也能夠同時 使用兩種模式來顯示圖像。於是,透射/反射組合型式LCD 具有低功率消耗(它是反射型液晶顯示裝置之一優點);並 士 >抖比度的明亮顯像而實質上不會受到 且能夠產生具有南對此 —圣透射型液晶顯示裝置之一優點)。而 環境亮度的影響(它疋 >的瓖境之下使用時(例如:當在晴天室 且,當在非常光允的琢兄 ^ &女面的減少(它是透射型液晶顯示装 外使用時)之可見度 置之一缺點)會被抑制0 丄 ^ ^ 射/反射組合蜇式LCD會使用來自透射 如以上描述的’透· … , 使用反射區中的周圍光線來顯示圖 菡中之背光器的光和1 #申之光通過液晶層的次數與在反射 像。結果是,在透射^
562974 (3) 區中的不同。因此,在透射區 中的液晶層之厚度被設定為 通過透射之顯示光的光 射區之顯示光的光程長 利特許公開出版物第 區中的液晶層之厚度被 大於它在反射區中之厚度,使得: 程長度(optical path length)與通過反 度匹配(譬如說,參閱日本專 2000-3 05 110號)。一般說來,在透射 設定為:大約是它在反射區中之厚度的雨倍° 然而,針對在反射區中的液晶層之厚度力於它在透射區 中之厚度的液晶顯示裝置(即:具有一種所謂的”多隙結 構’’(multi-琴ap structure)之液晶顯示裝置)而吕’尚未發現用 來形成多隙的最佳結構。譬如說,日本特許公開專利申請 案第2000-305110號披露一種提供一個台階(step)在有源矩 陣基板(active matrix substrate)上面的方法,該基板是配備於 LCD裝置後側之其間隙著液晶層彼此相對的一對基板其 中之一基板。諸位發明者已經發現··這種結構具有亮度減 少的問題。 發明概要 本發明已經從上述者來考慮,因而具有一種目的是··提 供具有一種具備所需顯示品質的多隙結構之透射/反射組 合型式LCD。 本發明之一液晶顯示裝置包括:第一基板;第二基板; 配備在第一基板與第二基板之間的液晶層;以及用來顯示 圖像的複數圖像元素區,其中··複數圖像s素區中的每個 圖像元素區都包括一透射區,在其中會使用來自第一基板 之一側的光而以透射模式來顯示圖像,以及一反射區,在 -8« 562974 ⑷ 其中會使用來自第二基板之一側的光而以反射模式來顯 不圖像,並且在反射區中較接近液晶層之一側的第二基板 之表面高度大於它在透射區中之表面高度,而在反射區中 較接近液晶層之一側的第一基板之表面高度則是實質上 等於它在透射區中之表面高度。於是,達成了宣示於上的 目的。 在反射區中的液晶層之厚度大約是它在透射區中之厚 度的1/2。 在一個較佳實施例中:第二基板包括配備在透射區和反 射區中的彩色遽光層(color filter layer):以及在至少一部份 反射區中的彩色濾光層之厚度小於它在透射區中之厚度。 在一個較佳實施例中:第二基板包括透明基板,以及形 成在透明基板與在反射區部份中的彩色濾光層之間的第 一透明介電層(transparent dielectric layer)。 在一個較佳實施例中··將彩色濾光層配備在較接近液晶 層的第二基板之一側;以及將第二透明介電層形成在反射 區中的彩色濾光層上。 在一個較佳實施例中:第二基板包括配備在透射區和反 射區中的彩色濾光層;以及彩色濾光層包括在一部份反射 區中的至少一個開口(opening)。 在彩色濾光層中的至少一個開口可能是複數開口。 在一個較佳實施例中:將彩色濾光層配備在較接近液晶 層的第二基板之一側;以及第二基板包括:形成在彩色濾 光層中的至少一個開口中的第一透明介電層,以及形成在 -9- 562974
反射區中的彩色濾光層和第二透明介電層上的第二透明 介電層。 可成將一透明介電層和第二透明介電層加以整合形成。 第一透明介電層及/或第二透明介電層可能具有擴散光 之功能。 在一個較佳貫施例中:第二基板包括配備在透射區和反 射區中的彩色濾光層;以及在反射區中的彩色濾光層是由 一種與在透射區中的彩色滤光層之材料不同的材料所製 成。 在一個較佳實施例中:將彩色濾光層配備在較接近液晶 層的第二基板之_側;以及在反射區中的彩色濾光層之厚 度大於在透射區中的彩色濾光層之厚度,該反射區中的彩 色濾、光層是由一種與在透射區中的彩色濾光層之材料不 同的材料所製成。 在一個較佳實施例中:將彩色濾光層配備在較接近液晶 層的第一基板之一側,以及第二基板包括形成在反射區中 之彩色濾光層上的透明介電層。 在反射區中的彩色濾光層可能具有擴散光之功能。 在一個較佳實施例中,第二基板包括:透明基板,配備 在較接近液晶層的透明基板之一側的彩色濾光層,以及形 成在反射區中之彩色濾光層上的透明介電層。 透明介電層可能,具有擴散光之功能。 本發明之另一液晶顯示裝置包括:第一基板;第二基板 :配備在第一基板與第二基板之間的液晶層;以及用來顯 -10- 562974 爵爾:_ ⑹
示圖像的複數圖像元素區,其中:複數圖像元素區中的每 個圖像元素區都包括一透射區,在其中會使用來自第一基 板之一側的光而以透射模式來顯示圖像,以及一反射區, 在其中會使用來自第二基板之一侧的光而以反射模式來 顯示圖像;在反射區中較接近液晶層之一側的第二基板之 表面高度大於它在透射區中之表面高度;並且第二基板包 括:透明基板,配備在較接近液晶層的透明基板之一側的 彩色濾光層,形成在至少一部份反射區中的透明基板上並 且被彩色滤光層覆蓋或包圍的第一透明介電層,以及配備 在反射區中以便定位比第一透明介電層和彩色濾光層更 接近液晶層的第二透明介電層。於是,達成了宣示於上的 目的。 可能將第一透明介電層形成在透明基板與彩色濾光層 之間,並且該介電層被彩色濾光層覆蓋。
彩色濾光層可能包括在一部份反射區中的至少一個開 口;以及可能將第一透明介電層形成在至少一個開口中, 並且該介電層被彩色濾光層包圍。 可能將第一透明介電層和第二透明介電層加以整合形 成。 在反射區中較接近液晶層之一側的第一基板之表面高 度可能實質上等於它在透射區中之表面高度。 本發明提供具有一種具備所需顯示品質的多隙結構之 透射/反射組合型式L C D。 沿著透射區與反射區之間的邊界並沒有未用區(unused -11 - 562974 ⑺ region),因而有可能實現明亮顯像,如果不是提供一個台 階在配備於後側(與觀看者(viewer)相對的那一側)之液晶 顯示裝置的一對基板之一基板(第一基板)的表面上,而是 只有在配備於觀看者這一側之另一基板(第二基板)的表 面上’使得在反射區中較接近液晶層之一側的第二基板之 表面南度大於它在透射區中之表面高度,而在反射區中較 接近液晶層之一側的第一基板之表面高度則是實質上等 於它在透射區中之表面高度。 而且,有可能既精確又容易地控制位於反射區中之彩色 /慮光層的光學密度(0pticai density)和在反射區中之液晶層 的厚度,如果第二基板包括:用來控制在反射區中之彩色 濾光層的厚度,存在比例(existence pr〇p〇rti〇n)等之第一透明 介電層;以及用來控制反射區中之第二基板的表面高度之 第二透明介電層。 附圖概述 圖1 A和圖1 B都是:用來概略地圖解說明根據本發明之 實施例1的液晶顯示裝置100之平面圖,其中圖1A是圖解 說明TFT(薄膜電晶體)基板丨〇〇&之平面圖,而圖則是圖 解說明TFT基板l〇〇a和濾色基板1〇叽附接在一起之平面圖。 圖2是:利用概略地圖解說明沿著圖丨A和圖丨B中的線段 2A-2A所採取之根據本發明之實施例1的液晶顯示裝置 1 00之截面圖。 圖3 A是:用來概略地圖解說明一種傳統液晶顯示裝置 1000之平面圖,其中藉由提供一個台階於有源矩陣基板 -12- 562974
1000a的表面上來實現一種多隙結構;而圖3B則是:沿著 圖3A中的線段3B-3B’所採取之截面圖。 圖4是:用來圖解說明透射孔徑比(%)與未用區面積比 (%)之間關係的曲線圖。 圖5 A和圖5B都是:用來概略地圖解說明根據本發明之 實施例1的替換性液晶顯示裝置1 〇 〇 ’之平面圖,其中圖5 a 是圖解說明TFT基板l〇〇a之平面圖’而圖5B則是圖解說明 TFT基板l〇〇a和濾色基板100b附接在一起之平面圖。 圖6是:乩來概略地圖解說明沿著圖5A和圖5]8中的線段 6A-6A,所採取之根據本發明之實施例1的替換性液晶顯示 裝置10(Τ之截面圖。 圖7是:用來概略地圖解說明根據本發明之實施例2的液 晶顯示裝置200之截面圖。 圖8是:用來概略地圖解說明根據本發明之實施例3的液 晶顯示裝置3 00之截面圖。 圖9Α和圖9Β都是:用來概略地圖解說明根據本發
板100a和滤色基板100b附接在一起之平面圖
置400之截面圖。 概略地圖解說明用來形成液晶顯 42 ’第一透明層44al以及第二透
示裝置400之彩色濾光層42 『562974
明層44a2的諸多步驟之截面圖。 圖12A和圖12B都是:概略地圖解說明用來形成液晶顯 示裝置4004第一透明層44al和第二透明層44a2的替換性 步驟之截面圖。 圖13A和圖13B都是:用來概略地圖解說明根據本發明 之實施例5的液晶顯示裝置5〇〇之平面圖,其中圖13 a是圖 解說明TFT基板l〇〇a之平面圖,而圖nB則是圖解說明τρτ 基板100a和濾色基板i〇0b附接在一起之平面圖。 圖1 4疋·,用來概略地圖解說明沿著圖丨3 a和圖〗3 b中的 線段14A-14A’所採取之根據本發明之實施例$的液晶顯示 裝置500之截面圖。 圖1 5是·用來概略地圖解說明根據本發明之實施例6的 液晶顯示裝置600A之截面圖。 圖1 6是·用來概略地圖解說明根據本發明之實施例$的 液晶顯示裝置600B之截面圖。 圖17是:用來概略地圖解說明根據本發明之實施例6的 液晶顯示裝置600C之截面圖。 圖1 8是:用來概略地圖解說明根據本發明之實施例7的 液晶顯示裝置7 0 0之截面圖。 圖19是:用來概略地圖解說明根據本發明之實施例8的 液晶顯示裝置8 0 0之截面圖。 圖20A到圖20D都是:概略地圖解說明用來製造液晶顯 示裝置800之滤色基板8 00b的過程之截面圖。 圖21是:用來概略地圖解說明液晶顯示裝置ιι〇〇之截面 -14- (10) 562974
第二透明介電層。 發明之實施例8的 發明之實施例9的 圖,該裝置在彩色濾光層上並沒有包括 圖2 2是:用來概略地圖解說明根據本 替換性液晶顯示裝置800’之截面圖。 圖2 3是:用來概略地圖解說明根據本 液晶顯示裝置9 0 0之截面圖。 圖24是:用來概略地圖解說明根據本發明之實施例9的 替換性液晶顯示裝置900’之截面圖。 較佳實施例之詳細描述
現在將要·描述本發明之液晶顯示裝置的基本佈置 arrangement) °
本發明之液晶顯示裝置包括:一對基板和配備在兩個基 板之間的液晶層;並且具有用來顯示圖像的複數圖像元素 區。在本說明書中’將對應於最小顯示單位之”圖像元素 n (picture element)的液晶顯示裝置之一區域指稱為,,圖像元 素區π。在彩色液晶顯示裝置中,紅(R),綠(G)及藍(B)三 個π圖像元素π對應於一個π像素"(pixel)。在有源矩陣型 (active matrix type)液晶顯示裝置中,一圖像元素區係由一 圖像元素電極和面向圖像元素電極之一反電極(countei: electrode)加以界定。在無源矩陣型(passive matrix type)液晶 顯示裝置中,將一圖像元素區界定為:在被佈置成條紋圖 案(stripe pattern)的諸多行電極(column electrodes)其中一個行 電極與垂直於行電極之也被佈置成條紋圖案的諸多列電 極(row electrodes)其中一個列電極相交處之一區域。在具有 黑色基質(black matrix)之一佈置中,嚴格地說,一圖像元 -15-
素區县., 1 <·根據有意顯示狀態(intended display state)而施加電 恩於其中的每個區域之一部份,它對應於黑色基質之一開 口 〇 本發明之液晶顯示裝置的每個圖像元素區都具有:透射 區,在其中會使用來自一基板(稱之為”第一基板”)之一側 的光而以透射模式來顯示圖像;以及反射區,在其中會使 用來自另一基板(稱之為’’第二基板’’)之一側的光而以反 射模式來顯示圖像。 在每個圖、像元素區中都包括透射區和反射區的透射/反 射組合型式L C D最好是具有一種所謂的’,多隙結構” ’其中 在反射區中的液晶層之厚度被設定為小於它在透射區中 之厚度,使得:通過透射區之顯示光的光程長度與通過反 射區之顯示光的光程長度匹配。 然而,諸位發明者已經發現:若藉由提供一個台階在配 備於後側(與觀看者相對的那一側)之第一基板的基板表 面上來實現多隙結構’則沿著反射區與透射區之間的邊界 會有一個無助於顯7?:的區域(未用區)存在,因而減少顯示 亮度。稍後將會描述為何有未用區存在的理由。 相對照下,沿著透射區與反射區之間的邊界並沒有未用 區,因而有可能實现明亮顯像’如果只有在配備於觀看者 這一側之第二基板的基板表面上提供一個台階,使得在反 射區中較接近液晶層之一側的第二基板之表面高度大於 它在透射區中之表面南度’而在反射區中較接近液晶層之 一側的第一基板之表面高度則是實質上等於它在透射區 562974
中之表面高度。 將會改善在一種具有多隙結構的透射/反射組合型式 LCD中之顯示充度的這種佈置指稱為’’弟一佈置”。 配備於觀看者這一侧之第二基板,一般說來包括:一透 明基板,以及配備在透明基板上之一彩色滤光層。在透射 /反射組合型式LCD中’在透射區中之光通過彩色濾光層 的次數與在反射區中的不同(在透射區中有一次,而在反 射區中則有兩次)。因此’要產生在透射區和反射區中具 有高色純度〈color purity)的明亮顯像是挺困難的。若將彩色 濾光層的光學密度設定為相對地高以便最隹化在透射1^ 膝量地吸
中的色純度,則通過反射區的光會被彩色濾光I 收,因而導致在反射區中的黑暗顯像3在另一方 彩色濾光層的光學密度設定為相對地低以便增^ I i ^ 區中的顯示亮度,則在透射區中的色純度會減少' °
^ M 若將用來選擇性地控制在反射區中之彩色爲% 學密度之一透明介電層(稱之為”第一透明介電層)形成 在反射區中,則當維持在透射區中的最佳色純度時&夠抑 制在反射區中之透射率(transmittance)的減少,因而有了月匕 產生在透射區和反射區中具有高色純度的明亮顯像。 形成了用來控制在反射區中之彩色濾光層的光學密度 之第一透明介電層;以便根據在透射區中之彩色遽光層的 厚度’存在比例而減少它在反射區中的厚度,存在比例等 〇 譬如說,若將第一透明介電層配備於透明基板與彩色滤 -17- 562974 (13) 、1 ΗΗΗΒΗΗΗΕΒΗΗββΜ 光層之間,則形成彩色濾光層以便覆蓋第一透明介電層。 然而,由於當形成彩色濾光層時會發生膜層變薄現象(film thinning phenomenon),故而根據在其它區域中之彩色〉慮光層 的厚度而減少位於第一透明介電層上之彩色濾光層的厚 度。因此,即使設定在透射區中之彩色濾光層的厚度以便 最佳化在透射區中的色純度,也仍然可能抑制通過反射區 之光的過量吸收。於是,有可能產生在透射區和反射區中 具有高色純度的明亮顯像。
兩者擇一她,彩色濾光層可能包括在一部份反射區中之 一開口,其中將第一透明介電層形成在開口中。具備這樣 一種佈置,通過反射區的一部份光不是通過彩色濾、光層, 而是通過被彩色濾光層包圍的第一透明介電層,因此有可 能改善在反射區中的透射率。於是,有可能產生在透射區 和反射區中具有南色純度的明南顯像。 在將彩色濾光層配備在較接近液晶層的第二基板之一 側的情形下,除了第一透明介電層外,還可能將用來控制 在反射區中之第二基板的表面高度之另一透明介電層(稱 之為’’第二透明介電層")形成在反射區中。將第二透明介 電層形成在反射區中,以便定位比第一透明介電層和彩色 濾光層更接近液晶層。結果是,在反射區中較接近液晶層 之一側的第二基板之表面高度大於它在透射區中之表面 高度。具備這樣一種佈置,有可能控制在反射區中之第二 基板的表面高度,而與在反射區中之彩色濾光層的厚度, 存在比例之控制無關。因此,有可能既精確又容易地控制 -18- 562974
位於反射區中之彩色濾光層的光學密度和液晶層的厚度。 將包括用來控制在反射區中之彩色濾光層的光學密户 之第一透明介電層以及用來控制在反射區中之第基板的 表面高度之第二透明介電層的這種佈置指稱為,,第二体置 ”。注意:第一透明介電層和第二透明介電層一般說來都 是無色層(non-colored layers)。 由使用”第一佈置”及/或ff第二佈置”,就有可能獲得在一
種具有多隙結構之透射/反射組合型式L C D中的所需顯示 品質。 現在將要參考附圖加以詳細描述本發明之諸多較佳杂 施例的液晶顯示裝置。以下實施例的每個液晶顯示裝置都 使用”第一佈置”和”第二佈置,,其中至少一種佈置。然而, 注意:本發明並不受限於下列實施例。 實施例1
將要參考圖1A,圖1B及圖2加以描述根據本發明之實施 例1的液晶顯示裝置之一圖像元素區的結構。圖1 A和圖1 b 都是··用來概略地圖解說明液晶顯示裝置1〇〇之的平面圖 ’而圖2則是:沿著圖ία和圖1B中的線段2A-2A,所採取的 截面圖。注意:圖1A是用來圖解說明液晶顯示裝置1〇〇之 有源矩陣基板100&的平面圖,而圖1B則是用來圖解說明有 源矩陣基板和相對的反向基板(c0unfer substrate) 附 接在一起的平面圖。而且,在後續附圖中,實質上具有與 液晶顯示裝置i 00中之對應元件相同的功能之每個元件都 用相同參考數字加以表示,因而不會進一步描述於下。 -19- 562974
(15) 液晶顯示裝置100包括··有源矩陣基板(以下指稱為"TFT 基板’’)100a,反向基板(以下指稱為,,濾色基板f’)100b,以及 配備在它們之間的液晶層5 0。 而且,針對佈置成矩陣圖案之複數圖像元素區中的每個 圖像元素區而言,液晶顯示裝置100包括有透射區T和反 射區R ;因而能夠以透射模式和反射模式來顯示圖像。能 夠以透射模式和反射模式其中之一模式,或者同時使用兩 種顯示模式來顯示圖像。將透射區T界定為:具有像用來 施加電壓於‘·液晶層5 0之電極一樣的功能以及也有由此而 透射光之功能的TFT基板l〇〇a之一區域。將反射區R界定為 :具有像用來施加電壓於液晶層5 0之電極一樣的功能以及 也有反射光之功能的TFT基板100a之一區域。 TFT基板100a包括:為每個圖像元素區而配備之一圖像 元素電極2 0,為每個圖像元素電極2 0而配備之當作一開關 元件(switching element)的TFT(薄膜電晶體)30,被電連接到 TFT 30之一閘極線(掃描線)1 1和一源極線(訊號線)丨2,行 遍圖像元素區之一儲存電容器線(storage capacitor line) 13等 。現在將要更加詳細地描述該結構。 T F T基板10 0 a包括透明絕緣基板1 〇 (例如:玻璃基板), 並且進一步包括:形成在透明絕緣基板丨〇上的閘極線! i ’閘極電極30G,儲存電容器線13等。而且,形成閘極絕 緣膜14以便覆蓋這些元件。將半導體層15,通道保護層(蚀 刻停止層(etching stopper layer)) 16 ,源極電極3〇3以及汲極 電極30D形成在位於閘極電極3〇g之上的一部份閘極絕緣 -20- 562974
膜14上。這些元件一起形成TFT 3〇。將TFT 3〇的閘極電極 3 0 G電連接到閘極線1丨,將源極電極3 〇 s連接到源極線i 2 ’並且將;及極電極30D連接到連接電極(connection electrode) 1 7。閘極線1 1和源極線丨2各自由諸如鈕(tantalum)的金屬所 組成。在本實施例中,在與閘極線丨丨相同的步驟中,從相 同膜層中形成儲存電容器線13。 形成層間絕緣膜(interlayer insulating film) 18以便實質上 覆盍透明絕緣基板1 0的整個表面,在該表面上已經形成諸 多TFT 30 °將透明電極2 2形成在層間絕緣膜1 8的表面上, 並且將反射電極24形成在透明電極22上。透明電極22是由 譬如說像ITO(銦錫氧化物)這一類的透明導電材料所製成 ’而反射電極2 4則是由譬如說像鋁或銀這一類的高反射率 (high-reflectance)金屬所製成。透明電極22係經由形成在層 間絕緣膜1 8中的接觸孔(c〇ntact h〇ie) 18a而電連接到連接電 極1 7 ’並且經由連接電極丨7而電連接到汲極電極3〇d。反 射包極2 4係經由透明電極2 2而電連接到汲極電極3 〇 〇。被 電連接到汲極電極3〇D的透明電極22和反射電極24一起 執仃圖像兀素電極2 〇 一樣的功能。在本實施例中,圖像元 素電極20係經由層間絕緣膜18而與閘極線11和源極線12 邵份重疊。而且,儲存電容器線13被電連接到配備在濾色 基板100b上的反電極46,並且和連接電極17及閘極絕緣膜 14 一起形成儲存電容器。 在液晶顯示裝置1〇〇中,反射電極24界定反射區r,而 並未开y成反射極2 4在其上的一部份透明電極2 2則界定透 -21 - 562974
射區丁。
界定反射區R的反射電極24是由:與儲存電容器線13重 疊之一反射電極24a,與閘極線1丨重疊之一反射電極24匕 ’以及與源極線12重疊之一反射電極24c所組成。儲存電 容器線13在朝向源極線12延伸的方向(在圖1 a和圖1B中 的方向γ)具有35微米(μπι)之寬度;而與儲存電容器線η 重疊的反射電極2心則也具有35微米之寬度。而且,與問 極線1 1千重疊之反射電極24b在朝向源極線12延伸的方向 具有4微米之寬度,而與源極線12重疊之反射電極24c在朝 向閘極線11延伸的方向(在圖i A和圖1B中的方向X)具有4 微米之寬度。注意:反射電極24之厚度最好是等於或大於 0.1微米以及小於或等於〇15微米。當反射電極24之厚度小 於0 · 1微米時,反射特性就會變質,因此可能由此而透射 來自反向基板1〇〇b之一側的光。在另一方面,當反射電極 24之厚度大於〇15微米時,透明電極22的高度與反射電極 24的高度之間的差異可能會影響:在反射區r中之光程長 度以及在透射區T中之光程長度的控制。形成具有大於 0.15微米之厚度的反射電極24可能會形成產業效益上的 浪費’這是因為··若反射電極24之厚度像大約0·1 5微米一 樣大’則能夠獲得足夠的反射特性。 反射電極2 4的表面可能是平坦表面(即:一種所謂的 ”鏡面拋光表面”(mirror-finished surface))或凹凸表面 (concave/convex surface)。若反射電極24具有凹凸表面,貝1J當 擴散入射於反射區r的光時,光會反射;因此有可能產生 -22- 562974 (18) 國 一種接近紙白色(paper white)之顏色的白色顯示。譬如說, 能夠將層間絕緣膜1 8的一部份(位於反射電極24之下的那 一部份)加以形成具有凹凸表面,使得··反射電極2 4具有 一種川員應層間絕緣膜1 8之表面組態(surface configuration)的 凹凸表面。 在本實施例中,在反射區R中較接近液晶層5 0之一側的 TFT基板100a之表面高度實質上等於它在透射區τ中之表 面南度。 液晶顯示裝置1 0 0之遽色基板100b包括透明絕緣基板4 0 (例如:玻璃基板),並且將彩色濾光層4 2形成在較接近液 晶層50的透明絕緣基板40之一表面上。形成彩色濾光層42 遍及透明區T和反射區R。一般說來,彩色滤光層42包括 •紅(R),練(G)及藍(B)二種彩色層(color layers)。 將透明介電層(以下也簡稱為”透明層”)44a,4补及44c 配備在對應於反射區R之彩色滤光層4 2的區域(即:面向反 射電極24的區域)中。形成透明層44a以便面向與儲存電容 器線1 3重疊的反射電極24a,形成透明層44b以便面向與問 極線11重疊的反射電極24b,以及形成透明層44c以便面向 與源極線12重疊的反射電極24c。 一般說來’透明層44a ’ 44b及44C都是無色的,並且都 是由譬如丙烯酸樹脂(acrylic resin)所製成。在本實施例中 ,透明層44a,4 4b及44 c全部都被形成具有2·5微米之厚度 。面向反射電極24a的透明層44a被形成具有Μ微米之寬产 ,就像反射電極24a—樣。而且,雖然反射電極24b和2扑 -23- 562974 (19) 都被形成具有4微米之寬度,但是分別面向反射電極24b 和24c的透明層44b和44c卻都被形成具有15微米之寬度, 使得它們也會面向一相鄰圖像元素區的反射電極24b和 24c。注意:透明層44a,44b及44c之寬度,在此處指的是 在該層之底面(與彩色濾光層4 2接觸的表面)上的寬度。 形成由譬如說像ITO這一類的透明導電材料所製成的 反射電極46,以便覆蓋彩色濾光層42和透明層44a,4 4b及44c ο 再者,將'一種由譬如說像聚醯亞胺(p〇1yimide)這一類的 聚合物材料所製成的對準層(未示出)形成在:較接近液晶 層50的TFT基板l〇〇a和濾色基板l〇〇b中的每個基板之一表 面上。將對準層(alignment layers)施以磨光處理(rubbing treatment)。藉由一種密封劑(例如·環乳樹脂(epoxy resin)) ,將TFT基板100a和濾色基板l〇〇b彼此附接;並且將成為 液晶層50之液晶材料封入兩個基板之間的間隙中。 在本實施例中,在反射區R中的液晶層5 0之厚度為它在 透射區T中之厚度的1 /2。明確地說,在透射區T中的液晶 層50之厚度為5.0微米,它在反射區R中之厚度為2_5微米 。藉由形成透明層44a,44b及44c,就能夠將在反射區R 中的液晶層5 0之厚度Rd設定為在透射區T中的液晶層5 0 之厚度Td的1/2,使得:濾色基板100b之台階高度CFd實質 上等於在反射區R中的液晶層50之厚度Rd。 液晶顯示裝置1 0 0進一步包括:配備在基板對之外側的 ,對偏振板(例如:圓形偏振板(polarizing plates)) 19和49, -24- 562974 (20) 以及配備在較接近TFT基板l〇〇a的LCD裝置之一側的照明 器(背光器)60。背光器60是由:一聚光膜(light focusing film) ’一光導板(light guiding plate),一 反射片(reflection sheet)等 的任何適當組合所製成。最好是使用一種具有高度光效率 的背光器。 在本實施例的液晶顯示裝置1 00中,在一圖像元素區中 的透射區T之面積比(area ratio)是65%,即:實質上該數值 與正常透射型液晶顯示裝置的相同。在一圖像元素區中的 反射區R之面積比是16.5%。由於液晶顯示裝置1 〇〇在每個 圖像元素區中都具有透射區T和反射區R,故而有可能不 但顯示一種具有對比度像當在室内使用時的透射型液晶 顯示裝置之對比度一樣高的圖像,而且顯示一種具有即使 在非常光亮的環境之下(例如:在盛夏陽光中)也沒有使圖 像衰減(faded)之所需可見度的圖像。 而且,在本實施例的液晶顯示裝置1 0 0中,將透明層4 4 a ,4 4b及44c形成在反射區R中的彩色濾光層42上,因而在 反射區R中較接近液晶層50之一側的濾色基板1〇〇b之表面 高度大於它在透射區T中之表面高度,譬如說是像圖2中 所圖示的那樣。再者,在反射區R中較接近液晶層5 〇之一 側的TFT基板100a之表面咼度實質上等於它在透射區τ中 之表面高度。 明確地說’在液晶顯示裝置1 〇 〇中,只有在觀看者這一 側之基板(滤色基板100b)的表面上提供一個台階,藉以實 現一種多隙結構。以此方式,能夠減少在一圖像元素區中 -25- (21) (21)562974 無助於顯不之區域(未用p (用£)的比例,以便増加有助於顯示 的理由。1 …田述為此而存在 圖3A和圖3B概略地圖解說㈢ 得統硬晶顯示裝置 1000,其中精由提供一個台階於 巧你兜卩早基板1000a的表面 上來實現一種多隙結構。圖3 一 口 疋用术概略地圖解說明液 晶顯示裝置1000之一圖像元音,而阗 Μ Ί豕7L京,而圖3 B則是沿著圖3 A中的 線段3 B - 3 B ’所採取之截面圖。 在液晶顯·示裝置1000中,將反射電極1〇24形成在層間絕 緣膜101 8上,眾絕緣膜則被形成在透明絕緣基板上; 並且將透明電極1022形成在層間絕緣膜1〇18中之一開口 101 8a中。使開口 1018a變成錐形(tapered),將開口配備在層 間絕緣膜101 8中,以便由此而使透明電極丨〇22曝光;而層 間絕緣膜1018則具有傾斜的側面1〇183以便包圍開口1〇18& 。形成反射電極1024以便覆蓋傾斜側面i〇l8s。 若覆蓋傾斜側面l〇18s的反射電極1024使周圍光線有效 地反射到觀看者這一側,則有傾斜側面1〇1 8s存在的區域 會執行像反射區R —樣的功能。然而,實質上,傾斜側面 101 8s的平均錐形角(taper angle)大約為45。,被在傾斜側面 1018s上的反射電極1024反射的光因而會經歷重複内反射 (repeated internal reHection),所以實質上並沒有這種光線會 從濾色基板輸出到觀看者這一側。於是,有傾斜側面1018s 存在的區域變成無助於顯示的未用區U。 諸位發明者已經發現:在某些說明書的透射/反射、组合 -26- 562974 (22) 受[式LCD中,當反射區R與透射區T之間的面積比為72 : 28 以及在一圖像元素區中的反射區R和透射區Tl面積比例 (即:孔徑比(aperture ratio))分別為譬如説是58·0%和22.7%時 ,未用區U之比例(面積比)就是8 %。 當在一圖像元素區中之透射區Τ的比例增加時’未用區 U的比例就會增加。圖4圖解說明:在一圖像元素區中之 透射區Τ的比例(即:透射孔徑比)(%)與未用區U的面積比 (%)之間的關係。 如圖4所圖示的,當透射孔徑比大約為2 3 %時,未用區U 的面積比大約為8 % ;而當透射孔徑比大約為5 1 %時,未用 區U的面積比則大約為2 5 %。於是,當透射孔徑比增加時 ,未用區U的面積比就會增加,因而降低光效率。 相對照下,在本實施例的液晶顯示裝置1 〇〇中,藉由提 供一個台階在濾色基板l〇〇b的表面上來實現多隙結構,因 此如以上描述的這種未用區就不會存在。於是,有可能改 善光效率和改善亮度。 注意:實際上,在反射區R中的TFT基板l〇0a之表面高度 可能和它在透射區T中之表面高度稍微不同。譬如說,在 反射電極24具有凹凸表面的情形下,反射電極24之凹凸表 面的平均高度可能稍微高於透明電極22之表面高度。在本 說明書中,”在反射區R中的表面高度實質上等於在透射 區T中的表面高度"指的是:在透射區τ中的表面高度與在 反射區R中的表面高度之間的差異是那麼小,實質上並沒 有未用區存在(例如:使得層間絕緣膜實質上沒有錐形部 -27- 562974
份)。明確地說,當其間的差異是Ο · 3微米或更小時,在反 射區R中的表面高度就能夠被說成實質上等於它在透射 區τ中的表面高度。注意:在反射電極24具有凹凸表面的 情形下,最好是將凹凸表面的平均高與透明電極22的表面 高度之間的差異設定為〇 · 5微米或更小,使得:當圖像元 素電極2 0的表面高度儘可能變得均勻時,就能夠容易地控 制液晶層5 0的厚度。
如以上描述的,能夠藉由使用”第一佈置,,來改善光效率 ’其中:提供一個台階在濾色基板的表面上,而沒有提供 一個台階在有源矩陣基板的表面上。藉著將反射電極以 配備在每個圖像元素區中之一不透明元件(例如:儲存電 容器線1 3)上,就能夠進一步改善光效率。 圖5Α,圖5Β及圖6概略地圖解說明:根據本發明之實施 例1的替換性液晶顯示裝置100’。
液晶顯示裝置1 0 0包括:分別與閘極線丨丨和源極線丨2重 疊的兩個反射電極24b和24c,以及分別面向反射電極24b 和2 4 c的兩個透明層4 4 b和4 4 c。相對照下,液晶顯示裝置 100’沒有包括:與閘極線11或源極線12重疊的反射電極; 或者沒有包括:面向閘極線1 1或源極線1 2的透明層。於是 ,除了反射電極24b和24c以及透明層44b和44c都被省略之 外,液晶顯示裝置10 0 ’與液晶顯示裝置1 〇 〇類似。 在液晶顯示裝置100,中,在一圖像元素區中的透射區丁 之面積比是6 5 %,而反射區R之面積比則是13.5%。在液曰曰 顯示裝置100,中,當與液晶顯示裝置100相比較時,由於反 -28- (24) /4 (24) /4 射電極2 4被部份省略, 如此,仍然有可能顯示 _示裝置100一樣。 而且,在液晶顯示 故而反射區R之面積比較小。雖然 具有所需可見度之圖像,就像液晶 装』 .^ t 裳置100’中,只有在觀看者這一側之 基板(濾色基板100b)的表 上提供一個台階,藉以實現一 承裝置100中一樣。於是,有 圖像元素區中的區域之比例 種多隙結構,就像在、冷曰 让咬晶顯 可能增加有助於顯示;+ 〈在一 ,藉以進一步改善亮度。 實施例2 圖7概略地圖解說明· ^ w •很據本發明之實施例2的液晶顯示 裝置2 0 0。液日曰顯示裳曹 I 2 0〇與圖示於圖6中的液晶顯示裝 置100,不同在於:將不 Μ材料用於反射區R中的彩色濾光 層42和透射區Τ中的彩a 毛色濾光層42。 形成在透射區T中的 心色濾光層42b是由一種具有相對 深色的材料(具有寬廣脊 y 邑重現範圍(color reproduction range) 的材料)所製成,使得· & a •七色濾光層42b適合以透射模式來 顯不圖像。在另一*方^^ ^ ’形成在反射區R中的彩色濾光層 42a是由一種具有相 對*深色和高光學透射率(optical transmittance)的材料所制 &成’使得:彩色濾光層42a適合以 反射模式來顯示圖像。在本實施例中,在反射區R中的彩 色滤光層42a和在透射區τ中的彩色濾光層々π都被形成 具有相同厚度。 將透明介電層(透明層)44a形成在反射區R中的彩色濾 光層42 a上。此處,透明層44a的寬度與彩色濾光層42 a的 -29- (25) (25)562974 寬度相同,並且透明層& 一^ a的厚度是2·5微米。在透射區τ 中的液晶層5 0之厚度是$ Λ ·υ微米,而它在反射區R中之厚度 則2.5微米。 在本實施例的液晶_示 策置200中,在反射區r中的彩 色滤光層42a是由一種邀, ”在透射區T中的彩色濾光層42b 之材料不同的材料所製& 。以此方式,能夠將在反射區R 中的彩色濾光層42a之光風a 予在、度和在透射區T中的彩色濾 光層42b之光學密度設定A ·、 為· $別適合以反射模式和透射 模式來顯示调像的數值。# e 义疋,當在反射區r中實現一種 既明亮又清晰的顯像時,右1 、 . 有可能在透射區Τ中實現一種具 有南色純度和南對比度的_ I 實施例3 圖8概略地圖解說明:根據太说⑽、承、α 羅本發明足實施例3的液晶顯示 裝置300。液晶顯示裝置3〇〇斑闻-、人園 υ與圖不於圖7中的液晶顯示裝 置200不同在於:液晶顯示裝置3〇〇不包括在彩色濾光層a 上的透明介電層,其中在反射區时的彩色遽光層仏之 厚度大於在透射區T中的彩色濾光層42b之厚度,藉以提 供一個台階在濾色基板100b的表面上。 此處,在透射區T中的彩色滤光層4 2 B被形成具有i微米 之厚度,而在反射區R中的彩色濾光層42 a則被形成具有 3.5之厚度。因此,在反射區R中的表面高度比在透射區丁 中的表面高度大2.5微米;並且在透射區丁中的液晶層5〇 之厚度是5·0微米,而它在反射區R中之厚度則是25微米 -30- (26) 562974 在本實施例的液晶顯示裝置3 〇 〇中,在反射區R中的彩 色濾光層42a是由一種與在透射區T中的彩色濾光層42b 之材料不同的材料所製成;因此,在反射區R中實現,種 既明亮又清的顯像時,有可能在透射區T中實現一具者高 色純度和高對比度的顯像,就像液晶顯示裝置2 0 0 —樣。
再者,在本實施例的液晶顯示裝置3 00中,不須需將透 明介電層形成在彩色濾光層42上。所以,不會發生透明介 電層的不對準(misalignment);因此有可能更精確地製造滤 色基板100b。而且,由於形成透明介電層的過程被省略’ 故而藉此簡化製程。再者,有可能避免因配備透明介電層 而產生之透射率的減少或者不合要求的著色(coloring),藉 此有助於彩色濾光層42的設計(濾色基板1 〇价的設計)。 實施例4
圖9A,圖9B及圖10概略地圖解說明:根據反射之實施 例4的液晶顯示裝置4 0 0。雖然實施例1,2及3的液晶顯示 裝置1 0 0,2 0 0及3 0 0使用,,第一佈置";但是本實施例的液 晶顯示裝置4 0 0除了,,第一佈置,’外還要使用’’第二佈置·*。 本實施例的液晶顯示裝置400與圖示於圖5Α,圖5Β及圖 6中的液晶顯示裝置1〇〇,不同在於··彩色濾光層42包括在一 部份反射區R中之一開口 4 2 1。 如圖9Β和圖10中所圖示的,彩色濾、光層42包括形成在 一部份反射區R中的開口 42,。將第一透明介電層(以下也 簡稱為”第一透明層”)44al形成在開口 42f中。再者,將第 二透明介電層(以下也簡稱為,,第二透明層n)44a2形成在反 -31 - 562974 (27) 身f區R Ψ ώΑ 勺一部份彩色遽光層42以及第一透明層44al上。 第一透明層44a2被形成具有2.5微米之厚度以便面向反射 私極24&’因此在反射區R中的液晶層50之厚度是它在透 射區丁中之厚度(5.0微米)的一半(2.5微米)。 在本g施例中,彩色濾光層4 2包括形成在一部份反射區 R中的開口 4 2 ’,並且將第一透明層44a 1形成在開口 4 2,中。 因此’通過反射區R的一部份顯示光會通過被彩色濾光層 42包圍的第一透明層44al。所以,在反射區r中,藉由通 k先色/慮光,層42的光與通過第一透明層44al(開口 42,)的 光之混合來顯示圖像。這樣會改善在反射區R中的透射率 ’並且即使設定彩色濾光層4 2之厚度以便最佳化在透射區 T中的色純度,在反射區R中的顯像也不會變暗淡(dimmed) 。結果是’有可能產生在透射區T和在反射區r中具有高 色純度的明亮顯像。 月匕夠根據有意的亮度或彩色重現範圍而適當地設定彩 色濾、光層42之開口 42,的面積(朝向垂直於基板之方向看 去的開口面積)^反過來說,能夠藉由改變開口 42,的面積 來凋整党度及/或彩色重現範圍。在單一圖像元素區之尺 寸為80彳政米X240微米,反射區R之尺寸為6〇微米X40微米 ,並且彩色濾光層42之厚度為1微米的情形下;藉由設定 彩色濾光層42之開口 42’的尺寸為譬如說25微米X12微米 ,在透射區T中的光學密度實質上能夠與在反射區R中的 光學雄、度(針對在反射區R中行經面板(panel)兩次之反射 光的光學密度)匹配。 -32- (28) (28)562974 注意:可能針對不同彩色層而將開口 42,的面積設定為 相同(例如:針對紅’綠及藍三種顏色全都相同),或者可 能針對不同彩色層而將它替換性地設定為不相同,端視針 對反射區R之有意的亮度,彩色重現範圍,白點(白色之色 度(chromaticky))等而定。而且,只針對必須的(一些)彩色 層而配備開口 4 2 1。 參考圖11A到圖11G,將要描述一種用來形成本實施例 之液晶顯示裝置400的彩色濾光層42,第—透明層44“以 及第二透明層44a2的方法之實例。注意:#對彩色滤光層 42包括分別對應於紅,綠及藍的紅色層42R,綠色層42(} 及藍色層42B的情形而將該方法描述於下;並且也會將用 來形成黑色基質B Μ的步騾描述於下。 首先,將金屬膜(或樹脂膜)41形成在透明基板4〇上,如 圖11Α中所圖示的;然後將金屬膜(或樹脂膜)4ΐ施以圖案 設計成預定圖案,藉以形成黑色基質Β Μ,如圖1 1 β中所圖 示的。 然後’將一種紅色感光樹脂材料(photosensitive resin material)敷塗在已經形成黑色基質BM在其上的透明基板 4 0上;並且將它施以圖案設計成預定圖案,藉以形成紅色 層42R,如圖11C中所圖示的。在這種製程中,執行圖案 設計(patterning),使得··開口 42’被形成在成為反射區r之 區域的一部份中。注意:藉由使用譬如說自旋塗層法(Spin coat method)或乾式鍍膜法(dry film method),就可能執行敷 塗感光樹脂材料。 -33- (29)
同樣地,如· LUggPiL ,藉由使用— 此方式, 樹脂材"圖UD中所圖示的,藉由使用一種綠色感光 μ种來开^ ώ ,藉由蚀m 綠色層4 2 G ;然後,如圖1 1 E中所圖示的 種I色感光樹脂材料來形成藍色層42^。以 形成了 4 的彩备 匕括紅色層42R,綠色層42G及藍色層42Β 已濾光層42。 然後,將— 在已、細、種透明介電材料(例如:透明樹脂材料)敷塗 、,、^ % 成彩、 已敷吟 乂遽光層42在其上的透明基板40上,然後將 R中的> ;1毛材料施以圖案設計以便留下位於反射區 44a2 , 精以形成第一透明層44al和第二透明層 如圖1 1 F由 U ^ T所圖示的。然後,藉由使用一種透明導電 材枓來形成 ^ 久电極46以便覆蓋彩色濾光層42和第二透明 ’ 44a2,如勵,, 圖11 G中所圖示的。 、 〜、雖然針對將第一透明層44al和第二透明層44a2加 以整合形成的Ij. 勺情形而已經描述該方法於上,但是可能替換 性地將令彳, 、 1加以各別形成。譬如說,在圖丨i A到圖1丨E的 諸多步驟、〆 • 後’將第一透明層44al形成在彩色濾光層42之 開口 4 9 * 由,«-» 甲如圖1 2 A中所圖示的;然後,將第二透明層44a2 形成在反射區R中的一部份彩色濾光層42以及第一透明 層44al上,如圖1Sb中所圖示的。 在同時形成第一透明層44al和第二透明層44a2的情形下 ’順應底層表面組態(即:包括諸多開口 4 2,之彩色濾光層 42的表面組態)的起伏(un(juiati〇ns)可能存在於第二透明層 44a2的表面上,端視開口 42,的尺寸和形狀,透明介電材料 的種類等而定。如圖12A和圖12B中所圖示的,各別形成 -34- 562974
(30) 第一透明層44al和第二透明層44a2是有利的在於:這種起 伏不會存在;因此能夠很容易地使反射區R中的液晶層5 0 之厚度保持不變。在另一方面,如圖11F中所圖示的,同 時整合形成第一透明層44al和第二透明層44a2是有利的在 於:當與它們被各別形成的情形相比較時,能夠簡化製程
具備其中將諸多開口 42’配備於彩色濾光層42中之一佈置 (就像在本實施例中的佈置一樣);當與其中藉由在透射區 T和反射區R中使用不同材料來形成一些彩色層之另一佈 置(就像實施例2和3的液晶顯示裝置2 0 0和3 0 0之佈置一樣) 相比較時,能夠簡化製程。而且,具備本實施例之佈置, 當形成彩色濾光層42時,不須要針對不同彩色層而提供兩 種不同材料,因而有可能降低生產成本。所以,該佈置在 產業效益上是非常有用的。
在彩色滤光層42包括譬如說紅色層,綠色層及藍色層的 情形下,藉由在形成第一透明層44al和第二透明層44a2之 前執行用來形成彩色濾光層42之一彩色層的步驟三次(針 對紅,綠及藍色每種顏色各一次),就能夠獲得本實施例 之液晶顯示裝置400。相對照下,具備實施例2之液晶顯示 裝置200,在形成透明層44a之前,須要執行用來形成彩色 濾光層4 2之一彩色層的步驟六次(針對紅,綠及藍每種顏 色各兩次)。並且,具備實施例3之液晶顯示裝置3 0 0,須 要執行用來形成彩色濾光層42之一彩色層的步驟六次(針 對紅’綠及藍每種顏色各兩次)。 -35- 562974 (31) 由於本實施例之液晶顯示裝置400使用”第一佈置”,其 中:提供一個台階在濾色基板l00b的表面上,而沒有提供 一個台階在TFT基板l〇〇a的表面上;故而有可能改善光效 率,就像使用”第一佈置”的其它液晶顯示裝置(諸如:實 施例1,2及3的液晶顯示裝置1〇〇,200及3 00)—樣。 此外,本實施例的液晶顯示裝置400使用”第二佈置,,那 就是,液晶顯示裝置400包括:第一透明層44al ’藉由根 據在透射區T中之彩色濾光層42的存在比例而減少它在 反射區R中的存在比例來控制在反射區R中的光學密度; 以及形成在反射區R中的第二透明層44a2 ’以便定位比第 一透明層44al和彩色濾光層42更接近液晶層50 ’用來控制 濾色基板100b之表面高度。因此,有可能控制在反射區R 中的濾色基板l〇〇b之表面高度,而與在反射區&中之彩色 濾光層42的存在比例之控制無關。於是,有可能既精確又 容易地控制在反射區R中之彩色濾光層4 2的光學密度和 液晶層5 0的厚度。 實施例5 圖13A,圖13B及圖14概略地圖解說明·根據本發明之 實施例5的液晶顯示裝置5 0 〇。本貫施例的液晶顯示裝置 5 0 0與實施例4的液晶顯示裝置4 0 〇不同在於·液晶顯示裝 置500在每個反射區r中都包括複數開口 而且,液晶 顯示裝置500與液晶顯示裝置400不同也是在於:儲存電容 器線1 3和反射電極2 4 a都被形成呈現接近正方形的形狀。 在本實施例的液晶顯示裝置5 0〇中’藉由在彩色濾光層 -36- (32) (32)562974 42中形成諸多開口 42’來改善在反射區R中的透射率,因此 有可能簡化製程進而降生產成本,就像實施例4的液晶顯 示裝置400—樣。 〜 而且,在液晶顯示裝置5〇〇中,將複數開口 42,形成在每 個反射區R中的彩色濾光層4 2中,如圖丨3 B和圖丨4中所圖 示的。結果是,即使同時形成第一透明層44al和第二透明 層44a2,順應底層表面組態的起伏也不可能存在於第二透 明層44a2的表面上。因此,能夠將反射區R中的液晶層切 很容易地控制得保持不變。 再者,在液晶顯示裝置500中,反射電極24a被形成呈現 接近正方形的狀狀。結果是,在反射電極24a被形成具有 凹凸表面的情形下,能夠有效地佈置凸面(凹面)部份。因 此,有可能改善反射電極2 4 a的反射特性。 實施例6 圖1 5和圖1 6分別概略地圖解說明:根據本發明之實施例 6的顯示裝置600A和600B。圖示於圖1 5中的液晶顯示裝置 600A與圖示於圖7中之實施例2的液晶顯示裝置2〇〇不同在 於··透明介電層44a’具有擴散光之功能。而且,圖示於圖 1 6中的液晶顯示裝置600B與圖示於圖1 4中之實施例5的液 晶顯示裝置500不同在於··第一透明介電層44al,和第二透 明介電層44a2,都具有擴散光之功能。 在液晶顯示裝置600A中,透明層44a’具有擴散(散射 (scattering))光之功能。此處’藉由使用一種包含^斤射率為 1.48之丙歸酸感光透明樹脂和1〇 %數量的折射率為} 35之 -37- 562974 (33) 基於碎土的細微粒子(silica-based minute particles) 48混合的 材料來形成透明層。透明層44a1之模糊植(haze value) (一種表示該層之光擴散性質的數值)是5 5 %。注意:透明 樹脂和細微粒子4 8的折射率,打算增加之細微粒子4 8的數 量,以及透明層44a’的模糊值都不會受限於顯示於上的那 些數值,而是能夠根有意顯示特性等加以適當地設定。 在本實施例的液晶顯示裝置600A中,藉由透明層44a’來 擴散(散射)通過反射區R的光;因此,當與實施例2之液晶 顯示裝置2 (j〇的情形相比較時,在反射區R中的光反射率 會增加12 %。而且,即使在一種會發射具有高準直度(ciegree of collimation)之光的光源(例如:太陽燈(suniight))之下,這 種裝置也會抑制導因於繞射(diffraction)的彩虹狀著色現象 (rainbow-like coloring phenomenon),該繞射是由諸多規貝ij 佈 置的反射電極24或諸多反射電極24的凹凸表面所造成。於 是,進一步改善顯示品質。 注意:能夠獲得改善反射率以及抑制彩虹狀著色現象的 效果,其方法是透過將一種光散射材料(由矽土或丙埽酸 樹脂所製成的細微粒子)混合在用於偏振板4 9與滤色基板 100b之間的黏著之一黏附層(adhesive layer)中而提供光擴散 功能。然而,在這樣一種情形下,也會擴散通過透射區丁 的光,因而減少對比度和透射率。相對照下,在液晶顯示 裝置600A中,被選擇性地配備在反射區r中的透明層44&, 具有擴散光之功能;因此有可能改善在反射區r中的顯示 特性而沒有影響到在透射區T中的顯示特性。 -38 562974
)王意·雖然此處所使用之具有擴散光之功能的透明層 44a疋包含基質材料(matrix materiai)和折射率與基質材料 之折射率不同的粒子之一層,但是本發明當然不會受限於 此’而透明層44a’則可能替換性地就是執行像光擴散一樣 的功能之任何其它適當層。 圖示於圖16中的液晶顯示裝置6〇〇B之第一透明層44ai, 和第二透明層44a2,都具有擴散光之功能,就像液晶顯示裝 置600A之透明層44a,具有該功能一樣。此處,第一透明層 44al’和第二·透明層44a2,都是由與液晶顯示裝置6〇〇八的透 明層44af之材料相同的材料所製成。 在液晶顯示裝置600B中,第一透明層44al,和第二透明層 44a2’都具有擴散光之功能,因而獲得像液晶顯示裝置6〇〇a 之效果一樣的效果。 注意·在液晶顯示裝置6〇〇B中,第一透明層44al,和 一 透明層44a2’兩者都具有擴散光之功能。兩者擇一地,它們 之中只有一個可能具有擴散光之功能。 圖1 7概略地圖解說明:根據本實施例之一替換性液晶顯 示裝置600C。除了第二透明層44a2,具有擴散光之功能以外 ,液晶顯示裝置600C與圖示於圖1〇中的液晶顯示裝置4〇〇 類似。 並且’具備液晶顯示裝置600C,就能夠獲得改善顯示特 性之效果’就像液晶顯示裝置600A或液晶顯示裝置6〇〇δ〜 注意··在本說明書中,"透明介電層”,”第一透明介 -39- (35) 562974 層”以及”第二透明介電層,,可 此都具有如本實施例之描述 中所描述的擴散光之功能;並 、 卫且攻厫格意義而言,它們都 未被要求是透明的。明確地誇 、士 ^ $些層都只是被要求透明 達到一種程度,使得:由此能夠 心Q適當地透射光,以使顯示 圖像之用。 實施例7 •根據本發明之實施例7的液晶顯 圖1 8概略地圖解說明 圖示於圖8中之實施例3 成在反射區R中的彩色 示裝置700。液晶顯示裝置7〇〇與 的液晶顯示'裝置3 00不同在於:开3 濾光層42af具有擴散光之功能。 在液晶顯示裝置7 0 〇中 $成在反射區R的彩色濾光層 42a*具有擴散光之 為1.47之一彩色層 功此。此處,藉由使用一種包含折射率 材料和1〇%數量的折射率為!.35之基於 矽土的細微粒子48混合的材料來形 色濾光層42a’之模糊值是58%。 成彩色濾光層42a,。彩 在本實施例的液晶顯示裝置700中,藉由形成在反射區 R中的彩色濾光層42a,來擴散(散射)通過反射區r的光;因 此,當與實施例3之液晶顯示裝置3〇〇的情形相比較時,在 反射區R中的光反射率會增加14%。而且,有可能獲得一 種其中會抑制彩虹狀著色現象之所需顯示品質,就像實施 例6之液晶顯示裝置6〇〇a,600B及600C—樣。而且,由於選 擇性地配備在反射區R中的彩色濾光層42a,具有擴散光之 功能,故有可能改善在反射區R中的顯示特性而沒有影響 到在透射區T中的顯示特性。 -40- 562974 (36) 實施例8 參考圖1 9,現在將要描述根據本發明之實施例8的液晶 顯示裝置800之結構。 如圖1 9中所圖示的,液晶顯示裝置800包括:一後面基 板(rear substrate) 800a,面向後面基板800a之一滤色基板(前 面基板(front substrate) 800b,以及配備在它們之間的液晶層 50。
如圖1 9中所圖示的,針對佈置成矩陣圖案之複數圖像元 素區中的每柄圖像元素區而言,透射/反射組合型式LCD 8 00 包括有透射區T和反射區R;因而能夠以透射模式和反射 模式來顯示圖像。能夠以透射模式和反射模式其中之一模 式或者同時使用兩種顯示模式來顯示圖像。將透射區T界 定為:具有像用來施加電壓於液晶層5 0之電極一樣的功能 以及也有由此而透射光之功能的後面基板800a 之一區域。將反射區R界定為:具有像用來施加電壓於液 晶層5 0之電極一樣的功能以及也有反射光之功能的後面 基板800a之一區域。 後面基板800a包括:透明絕緣基板(例如:玻璃基板)1 0 ,形成在透明絕緣基板1 0上之絕緣膜1 8,以及具有條紋圖 案並且配備在絕緣膜1 8上之行電極2 5。 行電極2 5包括:形成在絕緣膜1 8上的透明電極2 2,以及 形成在一部份透明電極2 2上的反射電極2 4。在液晶顯示裝 置8〇〇中,反射電極24界定反射區R,而在未形成反射電 極24處的一部份透明電極22則界定透射區τ。 -41 - 562974 (37) 透明電 所製成,d 率金屬所 之下具有 之表面組 電極2 4與 到透明電 電極24, 再者, 。此處所 在本實 後面基板 面高度。 ;並且嚴 稍微大於 T中的表 那麼小, :在反射 面高度。 面向後 如:玻璃 層(第一」 板40之一 射區R中 極22是由譬如說像IT〇這一類的透明導電材料 6反射電極2 4則是由譬如說像鋁這一類的高反射 製成。在本實施例中,絕緣膜丨8在反射電極2 4 凹凸表面,而反射電極2 4則具有順應絕緣膜i 8 怨的凹凸表面。注意:在本實施例中,雖然反射 透明電極2 2接觸遍及其中整個表面,以便電連接 極22;但是可能替換性地形成透明電極22和反射 使得··只有一部份反射電極24與透明電極22接觸。 开〉成對準膜(alignment film) 71以便覆蓋行電極25 使用的對準膜7 1是屬於水平對準類型。 施例中,在反射區R中較接近液晶層5 0之一側的 800a之表面高度實質上等於它在透射區τ中之表 注意:在本實施例中,反射電極24具有凹凸表面 格地說,反射電極24的凹凸表面之平均高度可能 透明電極22之表面高度。然而,注意:在透射區 面高度與在反射區R中的表面高度之間的差異是 實質上並沒有未用區存在。因此,能夠將它視為 •區R中的表面高度實質上等於在透射區T中的表 面基板8 0 0 a的遽色基板8 0 0 b包括透明絕緣基板(例 基板)40,如圖19中所圖示的。將第一透明介電 t明層)47a形成在較接近液晶層50的透明絕緣基 表面上。將第一透明層47a形成在至少一部份反 ,並且形成彩色濾光層42以便覆蓋第一透明層
-42- 562974 (38) 47a°換言之,將第一透明層47a形成在至少一部份反射區 R中’並且將它置於透明絕緣基板40與彩色濾光層42之間 。再者,將第二透明介電層(第二透明層)47b形成在反射 區R中的彩色濾光層42上。於是,第二透明層47b被定位 比第一透明層47a和彩色濾光層42更接近液晶層50。 在本實施例中,形成彩色濾光層42,使得:在至少一部 份反射區R中的彩色濾光層42之厚度小於在透射區T中的 彩色濾光層42之厚度。明確地說,在第一透明層47 a上的 彩色滤光層4 2之厚度小於它在其它區域中之厚度。 而且’濾色基板800b包括:用來施加電壓於液晶層50之 具有條紋圖案的列電極4 5。形成列電極4 5以便覆蓋彩色遽 光層42和第二透明介電層47b。再者,形成對準膜72以便 覆蓋列電極45。此處所使用對準膜72是屬於水平對準類型 配備在後面基板800a與濾色基板800b之間的液晶層5〇 可能是一種其技藝為人所熟知的各種模式中之任何模式 的液晶層。在本實施例中,液晶層5 〇是一種電控雙折射 (Electrically Controlled Birefringence,簡稱ECB)模式液晶層, 並且藉由使用液晶層5 0的雙折射而以控制方式來透射/阻 擋入射光(incident light)。在本實施例中,在反射區r中的 液晶層5 0之厚度小於它在透射區T中之厚度。明確地說, 將在反射區R中的液晶層50之厚度設定為它在透射區τ中 之厚度的1/2。在透射區T中較接近液晶層5〇之一側的後面 基板800a之表面高度實質上等於它在反射區r中之表面高 -43- 562974
度。因此,能夠將在反射區R中的液晶層50之厚度Rd設定 為透射區T中的液晶層50之厚度Td的1/2,其方法是:製造 濾色基板8〇Ob,使得濾色基板800b的台階高度,CFd實質上 等於在反射區R中的液晶層50之厚度Rd。 現在將要描述一種用來製造液晶顯示裝置800的方法。 並未將液晶顯示裝置800之後面基板800a的製造描述於下 是因為:它能夠藉由使用其技藝為人所熟知的方法加以製 造。 首先,將滤色基板800a製造如下。 首先,將第一透明層4 7 a形成在透明絕緣基板4 0上,以 便定位在反射區R中,如圖2 0 A中所圖示的。明確地說, 藉由一種使用譬如說丙婦酸感光樹脂的照相石版印刷術 (photolithography)製程來形成第一透明層47a。當然,可能 精由使用其它方法來替換性地形成弟一透明層4 7 a,諸如 ••使用蝕刻之圖案設計法,印刷法,或者轉印法(transfer method) 〇 然後,將彩色濾光層42形成在已經形成第一透明層47a 在其上的透明絕緣基板4 0上,如圖2 0 B中所圖示的。明確 地說,藉由使用一種譬如說丙晞酸顏料分散 (pigment-dispersed)感光樹脂來形成彩色遽光層42中的每個 彩色層。當將成為彩色層之感光樹脂敷塗在透明絕緣基板 40上時,就會使具有第一透明層47a在其上之已經變成凹 凸表面的表面變平坦達到某種程度。結果是,在第一透明 層47a上的彩色濾光層42(—彩色層)之厚度小於它在其它 -44- 562974 (40) 區域中之厚度,如圖2 0 B中所圖示的。明確地說,導因於 膜層變薄現象而減縮在第一透明層4 7 a上的彩色濾光層4 2 之厚度。 然後’將第二透明介電層4 7b形成在反射區R中的一部 份彩色濾光層4 2上,如圖2 〇 C中所圖示的。明確地說,藉 由一種使用譬如說丙埽酸感光樹脂的照相石版印刷術製 程來形成第二透明介電層4 7b。 然後,藉由使用一種透明導電材料(例如:ITO)來將列 電極4 5形成'在:如以上描述之已經形成的彩色濾光層4 2 和第二透明介電層4 7b上;並且將對準膜72進一步形成在 其上,於是獲得濾色基板800b。 然後’將所得的濾色基板800b和分開配備的後面基板 8〇〇a彼此附接,而它們之間則具有預定間隙。注意,在附 接之前,將較接近液晶層5 0的每個基板之一表面施以對準 處理。在附接濾色基板800b和後面基板800a之後,將成為 液晶層5 0的液晶材料注入它們之間的間隙中,於是獲得液 晶顯示裝置8 〇 〇 ° 如以上已經描述的,在透射/反射組合型式LCD中,在 透射區中之顯示光通過彩色濾光層的次數與在反射區中 的不同(在透射區中有一次,而在反射區中則有兩次);因 此要產生在透射區和反射區中具有高色純度的明亮顯像 是挺困難的。若將彩色濾光層的光學密度設定為相對地高 以便最佳化在透射區中的色純度’則通過反射區的光會被 彩色濾光層過量地吸收,因而導致在反射區中的黑暗顯像 -45- 562974
。在另一方面’若將彩色濾光層的光學密度設定為相對地 低以便增加在反射區中的顯示亮度,則在透射區中的色純 度會減少。 在實施例4和5的液晶顯示裝置4〇〇和5〇〇中,如在圖10 ’圖1 4等中所圖示的,將開口 42,配備反射區R的一部份彩 色滤光層42中’以便抑制在反射區r中之透射率的減少, 藉以實現在透射區T和反射區r中具有高色純度的明亮顯
然而’在將開口 4 2 ’配備於彩色濾光層4 2中的情形下, 在反射區R中’當通過彩色濾光層42的光與通過開口 42, 而不是彩色濾光層42的光混合時,就會顯示圖像;因此在 反射區R中,色純度(彩色重現範圍)可能不是足夠高的。
相對照下’在本實施例的液晶顯示裝置8〇〇中,在至少 一部份反射區R中的彩色濾光層42之厚度小於在透射區T 中的彩色滤光層42之厚度,藉以抑制在反射區r中之透射 率的減少。因此,在反射區r中,未通過彩色濾光層42的 光並不需要被用於顯示圖像;並且有可能藉由只使用通過 彩色遽光層4 2的光來顯示圖像。於是,具備本發明的液晶 顯示裝置800,即使在反射區r中,也會實現一種具有足 夠向色純度(彩色重現性(c〇l〇r repr〇ducibility))的顯像。 在本實施例中,將第一透明層47a形成在至少一部份反 射區R中,以便減少在第一透明層47a上的彩色濾光層42 之厚度,藉此在彩色濾光層42中產生如以上描述的厚度分 佈0 -46- (42) 、在第一透明層47a上的彩色濾光層42之厚度會改變,端 視罘—透明層47a的厚度,@積,形狀等而定。於是,藉 、k田地彡又疋些參數,就有可能將在第一透明層47&上 的衫色濾光層42之厚度設定成有意數值,藉以獲得有意的 免度和彩色重現範圍。 在單一圖像元素區之尺寸為8〇微米X240微米,反射區R 之尺寸為60微米X40微米,並且彩色濾光層42之厚度為! 微米的情形下;在透射區丁中的光學密度實質上能夠與在 反射區R中的光學密度(針對在反射區R中行經面板兩次 <反射光的光學密度)匹配,其方法是:譬如說,將第一 透明層47a之尺寸設定為實質上與反射區r之尺寸相同的 60微米χ4〇微米,並且將其中厚度設定為2微米;藉此將 在第一透明層47a上的彩色濾光層42之厚度設定為大約 0·5微米。注意:若在透射區τ中的彩色濾光層50之厚度Td 是5微米,則能夠將第二透明層47b之厚度設定為1微米, 因此在反射區R中的液晶層5 〇之厚度Rd是2 · 5微米,即: 在透射區T中的液晶層50之厚度Td的1/2。 諸位發明者已經發現:第一透明層47&的形狀和厚度與 第一透明層47a上之彩色濾光層42的厚度之間的關係具有 下列趨勢(1)到(3): (1) 當第一透明層47a的厚度增加時,在第一透明層 上之彩色濾光層4 2的厚度會減少。 (2) 當在反射區r中之第一透明層47a的面積比例增加時 ’在第一透明層47 a上之彩色濾光層42的厚度會減少。 562974 (43)
(3)隨著在反射區R中的(諸多)第一透明層47a之面積 比例(總面積)被固定,在第一透明層47 a上之彩色濾光層 42的厚度在將複數較小的第一透明層47a配備於每個反射 區R中時比在將單一第一透明層47a配備於每個反射區R 中時還要小。換言之,當將諸多第一透明層4 7 a以離散方 式形成在反射區R中時,在第一透明層47 a上之彩色濾光 層42的厚度就會比較小。而且,隨著(諸多)第一透明層 47a之面積比例(總面積)被固定,當第一透明層47a的數目 比較多時.,即:當依照一種島狀佈置(island-like arrangement) 來形成較多數目之較小的第一透明層4 7 a時,在第一透明 層47 a上之彩色濾光層42的厚度就會比較小。 由以上趨勢(1)到(3)看來,藉由適當地設定第一透明層 47a的形狀和厚度就能夠控制在第一透明層47a上之彩色 濾光層4 2的厚度。
如以上描述的,液晶顯示裝置8 0 0包括第一透明介電層 47a,藉著在反射區R中的彩色濾光層42之厚度減少成比 它在透射區T中之厚度還小來控制在反射區R中的光學密 度。 本實施例的液晶顯示裝置8 0 0進一步包括形成在反射區 R中的第二透明介電層47b,以便將它定位比第一透明介 電層47 a和彩色濾光層42更接近液晶層50,用來控制濾色 基板100b的表面高度。因此,有可能控制在反射區R中之 濾色基板l〇〇b的表面高度,而與在反射區R中之彩色濾光 層4 2的厚度之控制無關。於是,有可能既精確又容易地控 -48- 562974 (44) 制在反射區R中之彩色濾光層42的光學密度和液晶層5〇 的厚度。 當形成彩色濾、光層42以便覆蓋第一透明層47&時,彩色 /慮光層4 2的表面就會因膜層變薄現象而變平坦。然而,彩 色/慮光層4 2的表面可能不會總是完全平坦的,而可能是如 圖2 0B中所圖示的凹凸表面。因此,像在圖2丨中所圖示的 液晶顯示裝置1100中那樣,藉由使用台階高度CFd而沒有 配備第二透明層47b,要控制液晶層5〇之厚度不是不可能 的0 然而,實質上,只是藉由控制第一透明層47&的厚度, 形狀等,要既同時又最佳地控制兩個數值(即:形成在第 一透明層4 7 a上的彩色濾光層4 2之厚度以及彩色濾光層4 2 的台階高度)是挺困難的。 譬如說,雖然在第一透明層47a上的彩色濾光層42之厚 度改變,不但取決於第一透明層47a的厚度和形狀,而且 取決於透射區T中之彩色濾光層42的厚度;但是在透射區 丁中的彩色濾光層42之厚度係由在透射區τ中的所需色純 度以及打算使用之彩色層材料的光學密度加以自動確定 。受到這種約|,當控制在第—透明層47a上的彩色濾光 層42之厚度成為最適宜以反射模式來顯示時,只是藉由控 制第一透明層47a的厚度和形狀,要將在反射區汉中的液 晶層50之岸度設定為它在透射區T中之厚度的1/2是挺困 難的。 相對照下,本實施例的液曰曰顯7^裝置8〇〇包括:用來控 -49- 562974
制在反射區R中之彩色濾光層42的光學密度之第一透明 介電層47a,以及用來控制在反射區R中之濾色基板800b 的表面高度之第二透明介電層47b ;那就是,液晶顯示裝 置8 0 0使用π第二佈置’’。因此,有可能既精確又容易地控 制在反射區R中之彩色濾光層42的光學密度和液晶層5 0 的厚度。
注意:在本實施例中,已經描述無源矩陣型液晶顯示裝 置。當然,藉由使用類似佈置,並且具備有源矩陣型液晶 顯示裝置,就能夠獲得像本實施例之效果一樣的效果;針 對於每個圖像元素區而言,該顯示裝置包括當作開關元件 的TFT 30,就像在圖22中所圖示的液晶顯示裝置800’中一 樣。 實施例9
雖然在實施例4,5,6,7及8中,已經將使用π第一佈置π 和”第二佈置’’的諸多液晶顯示裝置加以描述於上;但是即 使具備只是使用’’第一佈置”而不是’’第二佈置’’的液晶顯 示裝置,也有可能既精確又容易地控制在反射區中之彩色 濾光層的光學密度和液晶層的厚度。 圖2 3概略地圖解說明:根據本發明之實施例9的液晶顯 示裝置9 0 0。液晶顯示裝置9 0 0與實施例8之液晶顯示裝置 800'不同在於:液晶顯示裝置900並未使用”第一佈置”。 在液晶顯示裝置900中,在後面基板900a的表面上提供 一個台階。在反射區R中的後面基板900a之表面高度大於 它在透射區T中之表面高度。 -50- 562974 (46) 能夠將在反射區R中的液晶層5 0之厚度Rd設定成在透 射區T中的液晶層5〇之厚度Td的1/2,其方法是:調整在濾 色基板900b上的第二透明層47b之厚度,使得後面基板9〇〇a 之台階向度Kd與濾色基板9〇〇b之台階高度CFd的總和等 於反射區R中的液晶層50之厚度Rd。 在單一圖像元素區之尺寸為80微米X 240微米,反射區R 之尺寸為60微米X40微米,在透射區τ中的液晶層50之厚 度Td為5微米,後面基板基板9〇〇a台階高度(在反射區尺中 的南度與在透射區T中的高度之間的差異)Kd為1微米,並 且彩色濾光層42之厚度為1微米的情形下;能夠使在透射 區T中的光學密度高於在反射區R中的光學密度(針對在 反射區R中行經面板兩次之反射光的光學密度),其方法是 :譬如說’將第一透明介電層47a之尺寸設定為實質上與 反射區R之尺寸相同的60微米X40微米,並且將其中厚度 設定為1微米,藉此將在第一透明介電層4 7 a上的彩色濾光 層4 2之厚度設定為大約〇 · 7微米。然後,能夠將第二透明 介電層47b之厚度設定為〇·8微米;因此濾色基板9 〇〇b之台 階向度CFd是1.5微米,而在反射區r中的液晶層5〇之厚度 則是2 · 5微米,即:在透射區.τ中的液晶層5 〇之厚度的i /2 〇 圖24概略地圖解說明:根據本發明之實施例9的替換性 液晶顯示裝置900’。液晶顯示裝置9〇〇,與液晶顯示裝置9〇〇 不同在於:將開口 42’形成在彩色濾光層42中,藉以抑制 在反射區R中之透射率的減少《雖然如此,液晶顯示裝置 -51 - 562974 900f包括:用來控制在反射區R中之彩色濾光層42的光學 密度之第一透明介電層4 1 a,以及用來控制液晶層5 0的厚 度之第二透明介電層4 1 b ;因此有可能既精確又容易地控 制在反射區R中之彩色濾光層4 2的光學密度和液晶層5 0 的厚度,就像液晶顯示裝置9 0 0 —樣。
雖然在諸多較佳實施例中已經描述本發明,但是對那些 熟習於此技藝者而言顯而易見的是:可能以複數方式來修 改已揭露之本發明,並且可能推測與那些明確地發表和描 述於上之實'施例不同的複數實施例。於是,打算藉由所附 申請專利範圍來涵蓋落入本發明之真正精神和範圍内的 所有本發明之修改。
-52-
Claims (1)
- 562974公告本J ________」 拾、申請專利範圍 1. 一種液晶顯示裝置,其包括: 第一基板; 第二基板; 配備在第一基板與第二基板之間的液晶層;以及 用來顯示圖像的複數圖像元素區,其中: 複數圖像元素區中的每個圖像元素區都包括:一透 射區,在其中會使用來自第一基板之一側的光而以透 射模式來顯示圖像;以及一反射區,在其中會使用來 自第二基板之一側的光而以反射模式來顯示圖像,並 且 在反射區中較接近液晶層之一側的第二基板之表面 高度大於它在透射區中之表面高度,而在反射區中較 接近液晶層之一側的第一基板之表面高度則是實質上 等於它在透射區中之表面高度。 2. 根據申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置,其中在反射 區中的液晶層之厚度大約是它在透射區中之厚度的1 /2。 3. 根據申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置,其中: 第二基板包括配備在透射區和反射區中的彩色遽光 層;以及 在至少一部份反射區中的彩色濾光層之厚度小於它 在透射區中之厚度。 4. 根據申請專利範圍第3項之液晶顯示裝置,其中第二基 562974板包括:透明基板,以及形成在透明基板與反射區部 份中的彩色滤光層之間的第一透明介電層。 5. 根據申請專利範圍第4項之液晶顯示裝置,其中: 將彩色滤光層配備在較接近液晶層的第二基板之一 側;以及 將第二透明介電層形成在反射區中的彩色濾光層上 〇 6. 根據申請專利範圍第5項之液晶顯示裝置,其中:第一 透明介·電'層及/或第二透明介電層具有擴散光之功能。 7. 根據申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置,其中: 弟二基板包括配備在透射區和反射區中的彩色滤光 層;以及 彩色濾光層包括在一部份反射區中的至少一個開口 〇 8. 根據申請專利範圍第7項之液晶顯示裝置,其中:在彩 色濾光層中的至少一個開口是複數開口。 9. 根據申請專利範圍第7項之液晶顯示裝置,其中: 將彩色濾光層配備在較接近液晶層的第二基板之一 側;以及 第二基板包括:形成在彩色濾光層中的至少一個開 口中的第一透明介電層,以及形成在反射區中的色 濾光層和第二透明介電層上的第二透明介電層。 10. 根據申請專利範圍第9項之液晶顯示裝置,其中:將第 一透明介電層和第二透明介電層加以整合形成。 56297411. 根據申請專利範圍第9項之液晶顯示裝置,其中:第一 透明介電層及/或第二透明介電層具有擴散光之功能。 12. 根據申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置,其中: 第二基板包括配備在透射區和反射區中的彩色濾光 層;以及 在反射區中的彩色濾光層是由一種與在透射區中的 彩色濾光層之材料不同的材料所製成。 13. 根據申請專利範圍第1 2項之液晶顯示裝置,其中: 將彩邑濾光層配備在較接近液晶層的第二基板之一 側;以及 在反射區中的彩色濾光層之厚度大於在透射區中的 彩色濾光層之厚度,該反射區中的彩色濾光層是由一 種與在透射區中的彩色濾光層之材料不同的材料所製 成。 14. 根據申請專利範圍第1 2項之液晶顯示裝置,其中:將 彩色濾光層配備在較接近液晶層的第二基板之一側, 以及第二基板包括形成在反射區中之彩色濾光層上的 透明介電層。 15. 根據申請專利範圍第1 2項之液晶顯示裝置,其中在反 射區中的彩色濾光層具有擴散光之功能。 16. 根據申請專利範圍第1 4項之液晶顯示裝置,其中透明 介電層具有擴散光之功能。 17. 根據申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置,其中第二基 板包括:透明基板;配備在較接近液晶層的透明基板 562974 爾 之一側的彩色濾光層;以及形成在反射區中之彩色濾 光層上的透明介電層。 18.根據申請專利範圍第1 7項之液晶顯示裝置,其中透明 介電層具有擴散光之功能。 19. 一種液晶顯示裝置,其包括: 第一基板; 第二基板;配備在第一基板與第二基板之間的液晶層;以及 用來顯'示圖像的複數圖像元素區,其中: 複數圖像元素區中的每個圖像元素區都包括:一透 射區,在其中會使用來自第一基板之一側的光而以透 射模式來顯示圖像,以及一反射區,在其中會使用來 自第二基板之一側的光而以反射模式來顯示圖像; 在反射區中較接近液晶層之一側的第二基板之表面 高度大於它在透射區中之表面高度;並且第二基板包括:透明基板;配備較接近液晶層的透 明基板之一側的彩色濾光層;形成在至少一部份反射 區中的透明基板上並且被彩色濾光層覆蓋或包圍的第 一透明介電層;以及配備在反射區中以便定位比第一 透明介電層和彩色滤光層更接近液晶層的第二透明介 電層。 20. 根據申請專利範圍第1 9項之液晶顯示裝置,其中:將 第一透明介電層形成在透明基板與彩色濾光層之間, 並且該介電層被彩色濾光層覆蓋。 -4- 562974 ρ潘蚤爾111®管 21. 根據申請專利範圍第1 9項之液晶顯示裝置,其中: 彩色滤光層包括在一部份反射區中的至少一個開口 ;以及 將第一透明介電層形成在至少一個開口中,並且該 介電層被彩色濾、光層包圍。 22. 根據申請專利範圍第2 1項之液晶顯示裝置,其中將第 一透明介電層和第二透明介電層加以整合形成。 23. 根據申請專利範圍第1 9項之液晶顯示裝置,其中:在 反射區中,較接近液晶層之一側的第一基板之表面高度 實質上等於它在透射區中之表面高度。-5-
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001306039 | 2001-10-02 | ||
JP2002187146 | 2002-06-27 | ||
JP2002272686A JP4050119B2 (ja) | 2001-10-02 | 2002-09-19 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW562974B true TW562974B (en) | 2003-11-21 |
Family
ID=27347642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW091122623A TW562974B (en) | 2001-10-02 | 2002-10-01 | Liquid crystal display device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US6850298B2 (zh) |
JP (1) | JP4050119B2 (zh) |
KR (2) | KR100761603B1 (zh) |
CN (2) | CN1198168C (zh) |
TW (1) | TW562974B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8411026B2 (en) | 2004-09-27 | 2013-04-02 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Methods and devices for lighting displays |
Families Citing this family (90)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4050119B2 (ja) * | 2001-10-02 | 2008-02-20 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
WO2003034103A1 (fr) * | 2001-10-12 | 2003-04-24 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Feuille de dosage de la lumiere et procede de fabrication de cette feuille |
KR100984343B1 (ko) * | 2002-12-02 | 2010-09-30 | 삼성전자주식회사 | 색필터 표시판 및 이를 포함하는 반투과형 액정 표시 장치 |
JP2003315784A (ja) * | 2002-04-11 | 2003-11-06 | Koninkl Philips Electronics Nv | 半透過型液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2004061952A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
JP4035094B2 (ja) * | 2002-07-31 | 2008-01-16 | エルジー.フィリップス エルシーデー カンパニー,リミテッド | 反射透過型液晶表示装置及びその製造方法 |
JP4110885B2 (ja) * | 2002-08-27 | 2008-07-02 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
JP4214748B2 (ja) * | 2002-09-20 | 2009-01-28 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置及び電子機器 |
WO2004029704A1 (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | 反射透過型液晶表示パネル、2d/3d切替型液晶表示パネル、および2d/3d切替型液晶表示装置 |
US7209107B2 (en) * | 2002-11-06 | 2007-04-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and manufacturing method for the same |
JP4017499B2 (ja) | 2002-11-06 | 2007-12-05 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP3900077B2 (ja) * | 2002-12-10 | 2007-04-04 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器 |
TWI289708B (en) | 2002-12-25 | 2007-11-11 | Qualcomm Mems Technologies Inc | Optical interference type color display |
KR100491258B1 (ko) * | 2002-12-31 | 2005-05-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 |
JP2004302359A (ja) * | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP4317705B2 (ja) * | 2003-04-24 | 2009-08-19 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
TWI255375B (en) * | 2003-04-25 | 2006-05-21 | Sanyo Electric Co | Display device |
US7379134B2 (en) * | 2003-04-30 | 2008-05-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display having an insulating layer on a portion of the common electrode |
JP4461748B2 (ja) | 2003-09-11 | 2010-05-12 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP4089631B2 (ja) * | 2003-09-16 | 2008-05-28 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
KR100610554B1 (ko) * | 2003-09-30 | 2006-08-10 | 가시오게산키 가부시키가이샤 | 수직배향형 액정표시소자 |
TWI228624B (en) * | 2003-11-06 | 2005-03-01 | Chi Mei Optoelectronics Corp | Liquid crystal display |
KR100978949B1 (ko) * | 2003-12-05 | 2010-08-31 | 엘지디스플레이 주식회사 | 반투과형 액정표시장치 |
KR100993820B1 (ko) * | 2003-12-05 | 2010-11-12 | 삼성전자주식회사 | 컬러 필터 기판, 이를 갖는 액정 표시 패널, 이를 갖는액정 표시 장치 및 그 제조방법 |
JP2005173037A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Fujitsu Display Technologies Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US7480022B2 (en) * | 2003-12-10 | 2009-01-20 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal display device, method of manufacturing liquid crystal display device, and electronic apparatus |
US7342705B2 (en) | 2004-02-03 | 2008-03-11 | Idc, Llc | Spatial light modulator with integrated optical compensation structure |
TWI252445B (en) * | 2004-03-03 | 2006-04-01 | Toppoly Optoelectronics Corp | Mirror-surface display |
TWI308247B (en) * | 2004-03-24 | 2009-04-01 | Toppoly Optoelectronics Corp | Transflective liquid crystal display and method of fabricating the same |
JP4293038B2 (ja) * | 2004-04-15 | 2009-07-08 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置及び電子機器 |
JP4499481B2 (ja) * | 2004-06-03 | 2010-07-07 | 富士通株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
KR101053293B1 (ko) * | 2004-06-16 | 2011-08-01 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
JP4076523B2 (ja) * | 2004-06-17 | 2008-04-16 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
WO2006008901A1 (ja) | 2004-06-23 | 2006-01-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US7508571B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-03-24 | Idc, Llc | Optical films for controlling angular characteristics of displays |
US7710632B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-05-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Display device having an array of spatial light modulators with integrated color filters |
US7561323B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-07-14 | Idc, Llc | Optical films for directing light towards active areas of displays |
US7807488B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-10-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Display element having filter material diffused in a substrate of the display element |
US7630123B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-12-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for compensating for color shift as a function of angle of view |
US7911428B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-03-22 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for manipulating color in a display |
US7710636B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-05-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Systems and methods using interferometric optical modulators and diffusers |
JP2006098623A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
US20060132678A1 (en) * | 2004-12-17 | 2006-06-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate and liquid crystal display device |
US7292295B2 (en) * | 2005-01-03 | 2007-11-06 | Wintek Corporation | Micro-reflective liquid crystal display |
JP4628802B2 (ja) * | 2005-01-20 | 2011-02-09 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP2006243587A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性組成物およびそれを用いて形成した光路差調整層を有するカラーフィルタ基板 |
JP2007003758A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Toppan Printing Co Ltd | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP4839696B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2011-12-21 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
JP4151702B2 (ja) * | 2005-07-06 | 2008-09-17 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶装置及びその製造方法並びに電子機器 |
KR20070010550A (ko) * | 2005-07-19 | 2007-01-24 | 삼성전자주식회사 | 공통 전극 표시판, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 그제조 방법 |
JP4784382B2 (ja) * | 2005-09-26 | 2011-10-05 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置 |
JP4882337B2 (ja) * | 2005-10-20 | 2012-02-22 | 大日本印刷株式会社 | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ |
US7821613B2 (en) | 2005-12-28 | 2010-10-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
US7603001B2 (en) | 2006-02-17 | 2009-10-13 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and apparatus for providing back-lighting in an interferometric modulator display device |
US7683988B2 (en) * | 2006-05-10 | 2010-03-23 | Au Optronics | Transflective liquid crystal display with gamma harmonization |
US7724327B2 (en) * | 2006-03-14 | 2010-05-25 | Tpo Displays Corp. | Transflective TFT LCD having stacked layers including a protective layer, a transparent electrode and a ring-shaped reflective electrode surrounding and defining an opening exposing the underlying transparent electrode layer |
KR20080023380A (ko) * | 2006-09-11 | 2008-03-14 | 삼성전자주식회사 | 표시 패널 및 표시 기판의 제조 방법 |
KR20080026721A (ko) * | 2006-09-21 | 2008-03-26 | 삼성전자주식회사 | 컬러필터기판 및 이를 갖는 액정표시장치 |
WO2008045311A2 (en) | 2006-10-06 | 2008-04-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Illumination device with built-in light coupler |
EP2366943B1 (en) | 2006-10-06 | 2013-04-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Optical loss structure integrated in an illumination apparatus of a display |
US8872085B2 (en) | 2006-10-06 | 2014-10-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Display device having front illuminator with turning features |
EP1946162A2 (en) | 2006-10-10 | 2008-07-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc | Display device with diffractive optics |
US7864395B2 (en) | 2006-10-27 | 2011-01-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Light guide including optical scattering elements and a method of manufacture |
KR20080044050A (ko) * | 2006-11-15 | 2008-05-20 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터 기판, 그 제조 방법 및 이를 구비하는액정 표시 장치 |
TW200832329A (en) * | 2007-01-26 | 2008-08-01 | Tpo Displays Corp | System for displaying images including transflective liquid crystal display panel |
US7777954B2 (en) | 2007-01-30 | 2010-08-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Systems and methods of providing a light guiding layer |
JP2008059003A (ja) * | 2007-11-20 | 2008-03-13 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置および電子機器 |
US8068710B2 (en) | 2007-12-07 | 2011-11-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Decoupled holographic film and diffuser |
WO2009102733A2 (en) | 2008-02-12 | 2009-08-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Integrated front light diffuser for reflective displays |
JP4577429B2 (ja) * | 2008-04-30 | 2010-11-10 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置 |
CN102449512A (zh) | 2009-05-29 | 2012-05-09 | 高通Mems科技公司 | 照明装置及其制造方法 |
US8587754B2 (en) | 2009-06-30 | 2013-11-19 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
KR20110001600A (ko) * | 2009-06-30 | 2011-01-06 | 삼성전자주식회사 | 표시기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 액정표시장치 |
US8451407B2 (en) * | 2009-06-30 | 2013-05-28 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
KR101781788B1 (ko) * | 2009-12-28 | 2017-09-26 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 액정 표시 장치 및 전자 기기 |
WO2011081041A1 (en) | 2009-12-28 | 2011-07-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the semiconductor device |
CN105353551A (zh) * | 2009-12-28 | 2016-02-24 | 株式会社半导体能源研究所 | 液晶显示装置及电子设备 |
TWI416232B (zh) * | 2010-02-12 | 2013-11-21 | Au Optronics Corp | 半穿透半反射式畫素結構 |
US9000438B2 (en) | 2010-02-26 | 2015-04-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US8848294B2 (en) | 2010-05-20 | 2014-09-30 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and structure capable of changing color saturation |
US8902484B2 (en) | 2010-12-15 | 2014-12-02 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Holographic brightness enhancement film |
CN103066069A (zh) * | 2011-10-20 | 2013-04-24 | 上海天马微电子有限公司 | Tft阵列基板、电子纸显示面板及其形成方法 |
KR102082794B1 (ko) | 2012-06-29 | 2020-02-28 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 표시 장치의 구동 방법, 및 표시 장치 |
CN105259707A (zh) * | 2015-11-27 | 2016-01-20 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种液晶显示面板及液晶显示装置 |
CN105301833A (zh) * | 2015-12-02 | 2016-02-03 | 上海天马微电子有限公司 | 阵列基板、阵列基板的制作方法以及液晶显示面板 |
CN109119438B (zh) * | 2017-06-26 | 2020-11-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制造方法、显示装置 |
CN107329331A (zh) * | 2017-08-17 | 2017-11-07 | 惠科股份有限公司 | 一种显示面板及制造方法 |
CN109461371B (zh) * | 2017-09-06 | 2021-12-21 | 群创光电股份有限公司 | 显示装置 |
EP3918787A1 (en) * | 2019-01-31 | 2021-12-08 | PCMS Holdings, Inc. | Multi-frame decomposition method for image rendering on multilayer displays |
US11862083B2 (en) * | 2020-08-13 | 2024-01-02 | Apple Inc. | Electronic devices with curved display surfaces |
Family Cites Families (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4632514A (en) * | 1984-01-31 | 1986-12-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Color liquid crystal display apparatus |
US4802743A (en) * | 1986-03-20 | 1989-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device having color filters wherein the color filters formed from a polyamino resin containing coloring materials |
JPH0444250A (ja) | 1990-06-07 | 1992-02-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
US5150235A (en) * | 1991-02-04 | 1992-09-22 | Honeywell Inc. | Apparatus for improving the angle of view in a liquid crystal display |
JPH06194687A (ja) * | 1992-10-30 | 1994-07-15 | Nec Corp | 透過型アクティブマトリクス型液晶素子 |
JP3485997B2 (ja) | 1995-04-14 | 2004-01-13 | シチズン時計株式会社 | 液晶表示装置 |
JP3881092B2 (ja) | 1997-07-10 | 2007-02-14 | シチズン時計株式会社 | 液晶表示パネル |
JP3209689B2 (ja) | 1996-11-12 | 2001-09-17 | 松下電器産業株式会社 | 反射型液晶表示装置 |
US6124909A (en) * | 1996-12-25 | 2000-09-26 | Casio Computer Co., Ltd. | Color liquid crystal display device having a plurality of pixel areas which emit non-colored light |
US6195140B1 (en) * | 1997-07-28 | 2001-02-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display in which at least one pixel includes both a transmissive region and a reflective region |
JP3648942B2 (ja) | 1997-10-02 | 2005-05-18 | カシオ計算機株式会社 | 液晶表示素子 |
US6281952B1 (en) * | 1997-12-26 | 2001-08-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display |
US6624860B1 (en) | 1998-01-26 | 2003-09-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter layer providing transmitted light with improved brightness and display device using same |
US6215538B1 (en) * | 1998-01-26 | 2001-04-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display including both color filter and non-color filter regions for increasing brightness |
JPH11295736A (ja) | 1998-04-15 | 1999-10-29 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP2000267081A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-29 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
EP1045272A3 (en) * | 1999-04-12 | 2004-02-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Reflective color liquid crystal display device |
JP3590737B2 (ja) * | 1999-04-13 | 2004-11-17 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示素子 |
JP3431856B2 (ja) | 1999-04-19 | 2003-07-28 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2000305099A (ja) * | 1999-04-23 | 2000-11-02 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
JP2001055636A (ja) * | 1999-08-09 | 2001-02-27 | Murata Mach Ltd | 繊維機械用通信システム |
JP3815142B2 (ja) * | 1999-09-14 | 2006-08-30 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 封止蛍光体プレートの製造方法 |
KR100656695B1 (ko) * | 1999-12-11 | 2006-12-15 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 투과반사형 액정 표시장치 |
US6697135B1 (en) * | 1999-10-27 | 2004-02-24 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Transflective liquid crystal display device having reflective and transmissive mode parity |
US6909481B2 (en) * | 2000-11-07 | 2005-06-21 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal display and electronic appliance |
JP4196505B2 (ja) * | 1999-12-13 | 2008-12-17 | ソニー株式会社 | 表示装置及びその製造方法とカラーフィルタ |
KR200184736Y1 (ko) * | 2000-01-12 | 2000-06-01 | 화성인스트루먼트주식회사 | 심판용 신호장치 |
JP3665263B2 (ja) * | 2000-01-18 | 2005-06-29 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP3626652B2 (ja) * | 2000-01-21 | 2005-03-09 | 日本電気株式会社 | 反射型液晶表示装置及びその製造方法 |
KR100603846B1 (ko) * | 2000-02-10 | 2006-07-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반사투과형 액정 표시장치 |
US6812978B2 (en) * | 2000-02-29 | 2004-11-02 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Method for fabricating transflective color LCD device and the transflective color LCD device with thick and thin regions of color filter layer |
KR100394987B1 (ko) * | 2000-04-07 | 2003-08-19 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반투과 액정 표시장치 |
JP4706102B2 (ja) | 2000-12-05 | 2011-06-22 | 凸版印刷株式会社 | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ |
JP3941481B2 (ja) * | 2000-12-22 | 2007-07-04 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置および電子機器 |
KR100397399B1 (ko) * | 2001-02-22 | 2003-09-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반투과형 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법 |
US6689522B2 (en) * | 2001-04-26 | 2004-02-10 | Konica Minolta Technosearch Co., Ltd. | Image forming method and electrostatic image developing toner |
JP3873827B2 (ja) * | 2001-07-26 | 2007-01-31 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置及び電子機器 |
JP3675427B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2005-07-27 | セイコーエプソン株式会社 | 半透過・反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 |
JP4050119B2 (ja) * | 2001-10-02 | 2008-02-20 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
KR100790357B1 (ko) * | 2002-02-26 | 2008-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치용 컬러필터기판 및 그 제조방법 |
US6698138B1 (en) * | 2003-04-09 | 2004-03-02 | Heade Technology Co., Ltd. | Adjustable pulley assembly for a suspended door |
-
2002
- 2002-09-19 JP JP2002272686A patent/JP4050119B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-28 CN CNB021482349A patent/CN1198168C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-09-28 CN CNB2005100528583A patent/CN100442116C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-01 US US10/260,248 patent/US6850298B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-01 TW TW091122623A patent/TW562974B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-10-02 KR KR1020020060083A patent/KR100761603B1/ko active IP Right Grant
-
2004
- 2004-06-25 US US10/875,196 patent/US7030948B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-07-28 KR KR1020050068797A patent/KR100799422B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-02-21 US US11/357,039 patent/US7212267B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-03-30 US US11/729,870 patent/US20070177083A1/en not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8411026B2 (en) | 2004-09-27 | 2013-04-02 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Methods and devices for lighting displays |
TWI409799B (zh) * | 2004-09-27 | 2013-09-21 | Qualcomm Mems Technologies Inc | 顯示裝置、製造顯示裝置之方法、形成影像之方法及照明裝置之方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060139528A1 (en) | 2006-06-29 |
US6850298B2 (en) | 2005-02-01 |
KR100799422B1 (ko) | 2008-01-30 |
US7212267B2 (en) | 2007-05-01 |
KR20030028721A (ko) | 2003-04-10 |
CN1409158A (zh) | 2003-04-09 |
JP4050119B2 (ja) | 2008-02-20 |
US20030063244A1 (en) | 2003-04-03 |
US20040233357A1 (en) | 2004-11-25 |
CN100442116C (zh) | 2008-12-10 |
US20070177083A1 (en) | 2007-08-02 |
KR20050099467A (ko) | 2005-10-13 |
KR100761603B1 (ko) | 2007-09-27 |
US7030948B2 (en) | 2006-04-18 |
CN1677184A (zh) | 2005-10-05 |
CN1198168C (zh) | 2005-04-20 |
JP2004086108A (ja) | 2004-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW562974B (en) | Liquid crystal display device | |
KR100529264B1 (ko) | 액정 표시 장치 | |
KR100446562B1 (ko) | 반투과형 액정 표시장치 | |
JP3665263B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
KR100439649B1 (ko) | 반사투과형 액정표시장치 및 그의 제조방법 | |
US6683667B2 (en) | TFT-LCD with scattering layer, reflector, color filters formed on TFT | |
CN101059612B (zh) | 半穿透半反射式液晶面板与主动元件阵列基板的制造方法 | |
TW200900801A (en) | Backlight module and liquid crystal display having the same | |
JP3578894B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
TWI359992B (en) | Liquid crystal display,multi-view liquid crystal d | |
JP2000241809A (ja) | 反射型液晶表示装置 | |
JP4086890B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
WO2005026831A1 (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
JP2000330106A (ja) | 反射型液晶表示装置用電極基板及びそれを用いた反射型液晶表示装置 | |
JP2000338476A (ja) | 反射型液晶表示装置用カラーフィルター基板 | |
JP2003262867A (ja) | 前方照明装置およびこれを備えた反射型液晶表示装置 | |
JP2003215589A (ja) | 前方照明装置およびこれを備えた反射型液晶表示装置 | |
JP4688851B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
TWI251702B (en) | Liquid crystal display device | |
JP2000098361A (ja) | 反射型液晶表示装置 | |
KR100922785B1 (ko) | 반사형 액정표시장치의 제조방법 | |
TW591570B (en) | Reflection type liquid crystal display device | |
KR20040076921A (ko) | 반투과형 액정표시장치 | |
KR101873323B1 (ko) | 반사투과형 액정표시장치 | |
JP2000066186A (ja) | 反射型液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |