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JPS63239904A - 光硬化型磁性流体 - Google Patents

光硬化型磁性流体

Info

Publication number
JPS63239904A
JPS63239904A JP62073655A JP7365587A JPS63239904A JP S63239904 A JPS63239904 A JP S63239904A JP 62073655 A JP62073655 A JP 62073655A JP 7365587 A JP7365587 A JP 7365587A JP S63239904 A JPS63239904 A JP S63239904A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
magnetic fluid
dispersion medium
photoset
fluid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62073655A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuichi Ishikawa
雄一 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NSK Ltd filed Critical NSK Ltd
Priority to JP62073655A priority Critical patent/JPS63239904A/ja
Priority to US07/173,724 priority patent/US4946613A/en
Publication of JPS63239904A publication Critical patent/JPS63239904A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
    • H01F41/16—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates the magnetic material being applied in the form of particles, e.g. by serigraphy, to form thick magnetic films or precursors therefor
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/72—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables
    • G01N27/82—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables for investigating the presence of flaws
    • G01N27/83—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables for investigating the presence of flaws by investigating stray magnetic fields
    • G01N27/84—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables for investigating the presence of flaws by investigating stray magnetic fields by applying magnetic powder or magnetic ink
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、磁気ディスクや光磁気ディスク等の記録パ
ターンの可視化、あるいは磁気探傷に好適に利用できる
光硬化型磁性流体に関する。
〔従来の技術〕
例えば従来の磁気探傷用の媒体として、磁性流体が利用
されている。これは磁性材料でつくられた被検体におけ
る欠陥の有無を検査する場合などに、その被検体の表面
に塗布して用いられる。
すなわち、被検体の表面もしくは極く浅いところに微細
な傷や異物が介在しているとき、単なる顕微鏡検査では
発見が困難である。ところが被検体に磁場を形成すると
、被検体の欠陥箇所で磁束が漏洩して不均一磁場になる
。そこで磁性流体を被検体の表面に塗布すると、その不
均一磁場の作用力で、塗布した磁性流体が漏洩磁束部分
に引きつけられて盛り上がり、欠陥箇所に応じたパター
ンが形成される。
この磁性流体の盛り上がり部分は、その他の部分と光の
反射状態が異なるから２強磁性体微粒子を直接に顕微鏡
で観察できなくても、顕微鏡像の明暗として欠陥の存在
を明確に観察することができる。
しかしながら、従来の磁気探傷に用いる磁性流体は文字
通り流体であり、欠陥部分の漏洩磁束で拘束されている
に過ぎないから、被検体の磁場がなくなると同時に流れ
て、その欠陥パターンを示す盛り上がりも消失してしま
う。したがって、被検体を磁場から外すと欠陥部分も不
明になるおそれがあった。
そこで本出願人は、被検体を磁場からはずしても欠陥パ
ターンが消失しないようにした磁性流体を先に提案した
（特願昭６２−７０３６号）。
このものは光硬化型樹脂自体を分散媒として。
その中に強磁性体微粒子を安定に分散せしめた磁性流体
であり、先ず磁場を形成した被検体の表面にそれを塗布
し、被検体の欠陥部や磁気記録により形成される磁束パ
ターンに対応する磁性流体の分布パターンをつくる。つ
いで、その磁性流体の分散媒である光硬化型樹脂を硬化
させる特定の波長の光を塗膜に照射して、磁性流体の欠
陥パターンを固定化するものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記の光硬化型磁性流体は、光の照射で磁性流体の欠陥
パターンを固定化し、磁場外で観察することを可能とし
たが、光硬化型樹脂自体を磁性流体の分散媒として構成
されており、これを磁場内の被検体に塗布したとき、欠
陥部での洩れ磁束による磁性流体の盛り上がりがなだら
かになり、顕微鏡撮影の影像にシャープさが不足する点
にスｙお改善の余地があった。
この発明は、このような従来の問題点に着目してなされ
たものであり、被検体の磁束のパターンに応じて形成さ
れる磁性流体パターンを単に固定するのみでなく、きわ
めてシャープな撮像を得ることができる高感度の光硬化
型磁性流体を提供することを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の目的を達成するこの発明は、低粘度の分散媒と１
強磁性体微粒子と、該強磁性体微粒子を前記分散媒中に
安定に分散させる界面活性剤とよりなる磁性流体に、さ
らに前記分散媒に対して少なくとも２５ＶＯ１％の光硬
化型樹脂を混合してなるものである。
〔作用〕
この発明の光硬化型磁性流体を磁気探傷や磁気記録パタ
ーンの可視化等に用いる際は、先ず磁場を形成した被検
体の表面にそれを塗布する。すると、被検体の欠陥部の
洩れ磁束や磁気記録の磁束宗度の変化に応じて磁性流体
が吸引されて盛り上がり、それらの磁束パターンに対応
する磁性流体の分布パターンができる。その場合、吸引
された磁性流体の盛り上がりは２分散媒が低粘度のため
掻めて急峻になる。ついでその磁性流体中に含有された
パターン固定剤としての光硬化型樹脂を硬化させるに必
要な特定の波長の光を塗膜に照射する。これにより磁性
流体のパターンを固定することができる。しかも、磁束
変化箇所が急峻な盛り上がり状態のままに固定されるか
ら、その周辺箇所との光の反射状態の差異が拡大されて
非常にシャープな影像となり、微小な欠陥の存在や磁気
記録パターンをより一層明確に観察できる。
以下、この発明の光硬化型磁性流体を詳細に説明する。
この発明の光硬化型磁性流体体において１強磁性体微粒
子のキャリアとして用いられる分散媒は。
２０°Ｃで４００ｍｍＨｇ以下の蒸気圧を有する低粘度
の無機溶媒または有機溶媒または両者の混合溶媒である
。蒸気圧が２０°Ｃで４００　ｕ＋　ｌ−Ｉ　ｇを越え
るものは、被検体に塗布すると殆ど同時に蒸発してしま
うから、むら塗りになり、その後の観察に支障をきたす
ことが、実験的に確かめられた。また、この発明の分散
媒は、塗布された光硬化型磁性流体に紫外線を照射して
固化させる際に、その固化を妨げてはならず、その間に
乾燥することが望ましい。
このような条件を満たすものは、具体的には。
無機溶媒として水、また有機溶媒としてはメタノール、
エタノール、ブタノール等のアルコール類や酢酸、ぎ酸
等の有機酸類や、あるいはトリフロン等のフッ素系低沸
点溶媒やジメチルポリシロキサンとアセトンの混合物等
のシリコーン系低沸点溶媒が好適である。なお、水溶媒
に対しては、Ｎａ　Ｃ／、ＫＣｊ！、ＮａｚＳＯｓ等の
塩を添加してその蒸気圧、ひいては乾燥速度を制御する
ことも可能である。
この発明の強磁性体微粒子としては、公知の湿式法によ
り得られるマグネタイトコロイドを用い得る。また、水
中でマグネタイト粉末をボールミルにより粉砕する。い
わゆる湿式粉砕法で得られるものでもよい。
また、マグネタイト以外のマンガンフェライト。
コバルトフェライトもしくはこれらと亜鉛、ニッケルと
の複合フェライトやバリウ″ムフェライトなどの強磁性
酸化物または鉄、コバルト希土類などの強磁性金属を用
いることもできる。
この発明の強磁性体微粒子の粒径は、一般の磁性流体に
用いられる０、１μｍ〜２０人の範囲であればよい。も
っとも１強磁性体微粒子の粒径が小さい程、磁気探傷や
磁気記録パターンの検査精度が向上するから、必要に応
じて微細粒子とすることが好ましい。
この発明の強磁性体微粒子の含有量は、従来一般的に用
いられている体積比で１〜３０％の範囲でよく、光硬化
型樹脂を硬化させる光の照射を考慮すれば、むしろ低濃
度の方が適している。
上記強磁性体微粒子を分散媒中に安定に分散させるため
の界面活性剤としては１例えばＣ０ＯＨ基、５ＣｈＨ基
、ＰＣｈＨ基などの極性基を１個以上有するものや、ま
たはカップリング結合をする不飽和脂肪酸またはその塩
類を主成分とするもの、その他シリコーン系界面活性剤
、フッ素系界面活性剤等周知のものの中から選定するこ
とができる。
この発明にあっては１分散媒中に、界面活性剤を吸着さ
せた強磁性体微粒子を分散させて得られた磁性流体に、
更に光硬化型樹脂が混合されている。その光硬化型樹脂
は、下記のいわゆる感光性高分子の群の中から選定でき
る。
すなわち、官能基としてアクロイル基（ＣＨ２＝ＣＨＣ
ＯＯ−）、　メタクリロイル基（ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）
−Ｃｏｏ−）、７クリルアミド基（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯ
ＮＨ−）、マレイン酸ジエステル（−０ＣＯＣＨ＝ＣＨ
−Ｃｏｏ−）、７リル基（ＣＨｚ＝　ＣＨＣＨｚ　　）
　、ビニルエーテル基（ＣＨ，＝ＣＨ−０−）、　ビニ
ルチオエーテル基（ＣＨ２＝ＣＨ−３−）、　　ビニル
アミノ基（ＣＨ２＝ＣＨ−ＮＨ−）、グリシジル基（Ｃ
Ｈｚ　　ＣＨＣＨｚ　　）、７セｆ　し７性不飽和４（
−ｃ＝Ｃ−）等を有する次のような官能性モノマー、例
えばアクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリラート、
メチルメタアクリラート、ブチルアクリラート、シクロ
へキシルアクリラート、カルピトールアクリラート、ア
クリルアミド、スチレン、アクリロニトリル、Ｎ−ビニ
ルピロリドン等が利用できる。
これらは単独光重合系と高分子化合物との付加物系とに
大別され９例えば次のような種類がある。
■　単独光重合系のもの。
アクリル酸バリウム、メヂレンブルーーＰ−トルエンス
ルフィン酸ナトリウム、アクリルアミド鉄塩、Ｎ−ビニ
ルカルバゾル等。
■　高分子化合物との付加物系。
多価アルコールのアクリル酸エステル、ウレタン型アク
リル酸エステル、多価カルボン酸の不飽和エステル、不
飽和酸アミド、無機酸とのエステルまたは金属塩、アセ
チレン性不飽和基をもつ七ツマ−、グリシジル基をもつ
モノマー等。
なお、上記の単独光重合系や高分子化合物との付加物系
の光重合性上ツマ−に、更に他の高分子化合物とか感光
性高分子を加えても同様な効果を得ることができる。
また、上記の感光性高分子以外に９例えば炭化水素系、
フッ素系、シリコーン系等の紫外線硬化型樹脂を混合し
て本発明の光硬化型磁性流体を得ることもできる。その
場合、ベースとなる磁性流体の分散媒との親和性を考慮
して光硬化型樹脂を選定する。例えば１分散媒が水系溶
媒であれば水系光硬化型樹脂がよい。また、フッ素系溶
媒または有機溶媒もしくは両者の混合溶媒であればフッ
素糸光硬化型樹脂がよく、シリコン系溶媒または有機溶
媒もしくは両者の混合溶媒であればシリコン系光硬化型
樹脂がよい。
また２周知の増感剤を添加することにより増感効果を得
られることも自明である。
以上述べた感光性高分子は、特定波長の光を照射すると
光硬化反応を起こして硬化するものである。
以下に、この発明の光硬化型磁性流体の具体例をその製
造工程とともに説明する。
〔実施例１］ 硫酸第１鉄と硫酸第２鉄の各１モルを含む水溶液１βに
、６ＮのＮａ０Ｈａｑを加えてｐ　Ｈを１１以上にした
後、６０°Ｃで３０分間熟成してマグネタイトコロイド
を得た（湿式法）。その後、６０′Ｃに保ったまま、こ
のマグネタイトスラリーに３ＮのＨＣ１を加えてｐ　Ｈ
を２〜３の間に調節し。
これにコロイド粒子を安定に分散させる第１の界面活性
剤として、シランカップリング剤（東しシリコーン（樽
製、５Ｈ−６０４０）を７０ｇ加え。
３０分間撹拌する。
これを静置し、マグネタイト粒子が凝集し沈降したら、
その上澄を捨てて水を注ぎ、更に水洗する操作を数回繰
り返して、電解質を除去する。水洗が終わればその液を
分液ロートに移す。次に。
このロート内の液に低沸点溶媒としてヘキサンを加え、
十分に振とうしてから静置し、水とヘキサンとを分離さ
せる。
これにより、マグネタイト粒子はへキサン中に移行し２
表面を界面活性剤で被覆した強磁性体微粒子が低沸点溶
媒中に分散された中間媒体が得られる。次にこの中間媒
体液を、８０００Ｇの遠心力で２０分間遠心分離し、大
きなマグネタイト粒子を沈降分離せしめた。上澄み内に
残った強磁性体微粒子の粒子径は１００〜１５０人であ
った。
このように、いったん低粘度の中間媒体を形成して遠心
分離すれば２強磁性体微粒子の粒度分布を任意に調整す
ることが可能であり、特に微細粒子の濃度を高め得ると
いう利点がある。
その後、その上澄みを取り出してロータリーエバポレー
タに移し、９０’Ｃに保ってヘキサンを蒸発除去した。
こうして得られた粉末状のマグネタイト微粒子のｌｏｌ
ｇをとり、再びヘキサン中に投入して分散させたのち、
第２の界面活性剤であるオレイン酸ナトリウム３ｇを溶
解させた分散媒としての水２０Ｑｍｌを加えてよく混合
させる。次いでその混合液を分液ロートに移して静置し
、水とヘキサンとを分離させる。なお、上記のオレイン
酸ナトリウムを添加すると、第１の界面活性剤であるシ
ランカップリング剤で被覆されて親油性を示す強磁性体
微粒子表面に重ねて、親水性を示す第２界面活性剤層が
形成され、水溶媒中での強磁性体微粒子の分散性が保た
れる。
これにより、水溶媒中に界面活性剤を介して強磁性体微
粒子を安定に分散せしめた磁性流体が得られる。この磁
性流体溶液に、水溶性の光硬化型樹脂（大日本インキ化
学工業（■製、１７−８２４１７−８２４Ｅを混合した
後、固形不純物を遠心分離して、水を分散媒とする低粘
度（５ｃ　Ｐ）の光硬化型磁性流体を得た。
〔実施例２］ まず、実施例１と同様に湿式法でマグネタイトコロイド
を得た。その後、このマグネタイトスラリーの溶液に対
し２体積比３倍程度のエタノールを加える。これにコロ
イド粒子を安定に分散させる界面活性剤として、フッ素
系界面活性剤（東芝シリコーン■製、ＸＣ９５−４７０
）を７０ｇ加え、３０分間撹拌する。
これを静置し、マグネタイト粒子が凝集し沈降したら、
その上澄を捨てて水を注ぎ、更に水洗する操作を数回繰
り返して、電解質を除去する。水洗後これを濾過して溶
媒を取り除いた後、十分に乾燥する。その後、このマグ
ネタイトをフッ素系低沸点溶媒（セントラル硝子ａ燭製
、トリフロン）中に投入する。
これにより１表面を界面活性剤で被覆した強磁性体微粒
子がフッ素系低沸点溶媒中に分散された中間媒体が得ら
れる。次にこの中間媒体液を、８０００Ｇの遠心力で２
０分間遠心分離し、大きなマグネタイト粒子を沈降分離
せしめた。上澄み内に残った強磁性体微粒子の粒子径は
１００〜１５０人であった。
次に、この上澄み液に、紫外線硬化型フッ素系樹脂（大
日本インキ（１１製、ＤＥＦＥＮＳＡ、ＮＳ−１）１０
−を加えると共に、更に分散媒としてエタノールを体積
比で前記紫外線硬化型フッ素系樹脂の２倍量の２０Ｉｎ
１加えよく混合した。
この混合液を更に遠心分離機にかけて８０００Ｇの遠心
力下に６０分間処理して非分散固形物を取り除き、低粘
度（５ｃＰ）のフッ素系光硬化型磁性流体が得られた。
〔実施例３〕 まず、上記と同様に湿式法でマグネタイトコロイドの水
溶液を得た。ついでこれを静置し、その水溶液中のマグ
ネタイト微粒子が凝集して沈降したら、その上澄み液を
捨てて水を注ぎ、更に水洗する操作を数回繰り返して、
電解質を除去する。
水洗が終わったマグネタイトスラリー１１に、ジメチル
シロキサン（東しシリコーン０１製、５Ｈ２００）５０
０−とアセトン１１を加えると共に。
シリコーン系界面活性剤（信越化学工業側型、Ｘ−２４
−３５０４）を７０ｇ加え、３０分間撹拌する。
その後、上記混合液を分液ロートに移して静置し、水と
上澄み液とを分離させる。
これにより、マグネタイト粒子はジメチルシロキサンと
アセトンからなる溶液中に移行し、その表面をシリコー
ン系界面活性剤で被覆した強磁性体微粒子が低沸点溶媒
中に分散された中間媒体が得られる。次にこの中間媒体
液を、８０００Ｇの遠心力で２０分間遠心分離し、大き
なマグネタイト粒子を沈降分離せしめた。上澄み内に残
った強磁性体微粒子の粒子径は１００〜１５０人であっ
た。
その後、その上澄みを取り出してロータリーエバポレー
タに移し、９０’Ｃに保ってジメチルシラキサンとアセ
トンを蒸発除去した。
こうして得られた粉末状のマグネタイト微粒子の１０ｇ
をとり、ジメチルシロキサン１００ｍｆｆ１とアセトン
１００ｍｆ中に分散させた後、感光性高分子である紫外
線硬化型シリコーン樹脂液として。
信越化学工業■製、ＫＮＳ−５００２Ａ及びＫＮＳ−５
００２Ｂを各１００Ｎｉづつ加えてよく混合する。この
混合液を、８０００Ｇで６０分間遠心分離して非分散固
形物を取り除く。
かくして、シリコーン液を分散媒とし９強磁性体微粒子
のマグネタイトを界面活性剤を介して極めて安定に分散
させてなる磁性流体中に、更に紫外線硬化型シリコーン
樹脂を加えたシリコーン系の光硬化型磁性流体（粘度１
０ｃＰ）を作成することができた。
〔実施例４〕 実施例１において１分散媒として加える水の量を、１０
０−と２００−と３００−に変えてみた。
その結果、光硬化型樹脂：水溶媒の混合比が、おのおの
ｉ：ｔ、１；２．ｉ：３となる。水を分散媒とする３種
類の光硬化型磁性流体が得られた。
これらのものにつき、ｆ６１気深傷比較試験を実施した
。
被検体として１幅２００μｍ、長さ１ｃｍ、深さ数μｍ
の大きさの内部欠陥を有するステンレス鋼板を用いた。
（結果） ＊混合比１：１の場合（粘度３０　ｃ　Ｐ）欠陥の存在
はわかるが、影像が不明確。
＊混合比１：２の場合（粘度５ｃＰ） 欠陥が極めて明確に識別可能。
＊混合比ｌ：３の場合（粘度２ｃＰ） 光硬化型磁性流体の塗膜が不均一になり、不適当。
上記の結果から５水溶媒に対する光硬化型樹脂の混合量
は、３３ｖｏｌ％程度とするのが最良といえる。
〔実施例５〕 実施例２において、紫外線硬化型フッ素系樹脂（大日本
インキ■製、ＤＥＦＥＮＳＡ、ＮＳ−１）１０ｓｄに対
し９分散媒として加えるエタノールの量を、１０−と２
０ｍ１と３Ｑｍｌに変えて、光硬化型樹脂：エタノール
溶媒の混合比が、おのおの１：１．１：２．Ｉ：３とな
る３種類の光硬化型磁性流体を得た。これらのものにつ
き、実施例４と同様の磁気探傷比較試験を実施した。
（結果） ＊混合比１：１の場合（粘度２０ｃＰ）欠陥の存在はわ
かるが、影像が不明確。
＊混合比１：２の場合（粘度５ｃＰ） 欠陥が極めて明確に識別可能。
＊混合比１：３の場合（粘度１ｃＰ）ノ光硬化型磁性流
体の塗膜が不均一になり、不適当。
上記の結果から、）容媒に対する光硬化型樹脂の混合量
は、３３ｖｏｌ％程度とするのが最良といえる。
〔実施例６］ 実施例３において、紫外線硬化型シリコーン樹脂液とし
て、信越化学工業（掬製、ＫＮＳ−５００２Ａ及びＫＮ
Ｓ−５０’０２Ｂを各１００−づつ。
合計２００　ｍｌに対し２分散媒として加えるジメチル
シロキサンとアセトンの量を下記の３種類とした。
■ジメチルシロキサン１００ｍ１とアセトン１００ＩＩ
１１の混合溶媒、計２００　ｍｉ。
■ジメチルシロキサン２００ｆｆｉＺとアセトン２００
ｍ１の混合溶媒、計４００ｒｎｌ。
■ジメチルシロキサン３００　ｍｐとアセ１−ン３００
ｍ１の混合溶媒、計６００ｍ１゜ こうして得られた。光硬化型樹脂：混合溶媒の混合比が
、おのおのｔｉｔ、１：２，１：３となる３種類の光硬
化型磁性流体につき、実施例４と同様の磁気探傷比較試
験を実施した。
（結果） ＊混合比１：１の場合（粘度３７　ｃ　Ｐ）欠陥の存在
はわかるが、影像が不明確。
＊混合比２：１の場合（粘度１０ｃＰ）欠陥が極めて明
確に識別可能。
＊混合比３：１の場合（粘度５ｃＰ） 光硬化型磁性流体の塗膜が不均一になり、不適当。
上記の結果から、溶媒に対する光硬化型樹脂の混合量は
、３３ｖｏｌ％程度とするのが最良といえる。
〔発明の効果〕
この発明によれば、低粘度の分散媒と１強磁性体微粒子
と、該強磁性体微粒子を前記分散媒中に安定に分散させ
る界面活性剤とよりなる磁性流体に１　さらに前記分散
媒に対して少な（とも２５Ｖ０１％の光硬化型樹脂を混
合したため、被検体の磁束の変化に応じて形成される磁
性流体のパターンを光の照射で固定できるのみでなく、
極めてシャープな影像を保持することが可能となり、磁
気探傷や磁気記録媒体におけるマイクロ検査等の分野に
大きな進展をもたらすという効果が得られる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）低粘度の分散媒と、強磁性体微粒子と、該強磁性
    体微粒子を前記分散媒中に安定に分散させる界面活性剤
    とよりなる磁性流体に、さらに前記分散媒に対して少な
    くとも２５ｖｏｌ％の光硬化型樹脂を混合したことを特
    徴とする光硬化型磁性流体。
  2. （２）分散媒は、水または低沸点有機溶媒のいずれか一
    方よりなる特許請求の範囲第１項記載の光硬化型磁性流
    体。
  3. （３）分散媒は、水と２０℃における蒸気圧が４００ｍ
    ｍＨｇ以下の有機溶媒との混合物である特許請求の範囲
    第１項記載の光硬化型磁性流体。
  4. （４）分散媒は、フッ素系溶液である特許請求の範囲第
    １項記載の光硬化型磁性流体。
  5. （５）分散媒は、シリコーン系溶液である特許請求の範
    囲第１項記載の光硬化型磁性流体。
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