[go: up one dir, main page]

JP4664859B2 - ペリクル剥離治具 - Google Patents

ペリクル剥離治具 Download PDF

Info

Publication number
JP4664859B2
JP4664859B2 JP2006128481A JP2006128481A JP4664859B2 JP 4664859 B2 JP4664859 B2 JP 4664859B2 JP 2006128481 A JP2006128481 A JP 2006128481A JP 2006128481 A JP2006128481 A JP 2006128481A JP 4664859 B2 JP4664859 B2 JP 4664859B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
mask
peeling
jig
main body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2006128481A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007298870A (ja
Inventor
享 白崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2006128481A priority Critical patent/JP4664859B2/ja
Publication of JP2007298870A publication Critical patent/JP2007298870A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4664859B2 publication Critical patent/JP4664859B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

本発明は、リソグラフィー用ペリクル、特にはLSI、超LSIなどの半導体装置製造時にゴミよけとしてマスクに貼り付けたペリクルを、マスクから剥離する際に使用するペリクル剥離治具に関する。
従来、LSI、超LSIなどの半導体デバイスあるいは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハーあるいは液晶用原版に光を照射してパターニングをするが、この場合に用いるマスクにゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を反射してしまうため、転写したパターニングが変形したり、エッジががさついたりしてしまい、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液晶表示板などの性能や製造歩留まりの低下を来すという問題があった。
このため、これらの作業は、通常、クリーンルームで行われるが、このクリーンルーム内でもマスクを常に正常に保つことが難しいので、マスクの表面にゴミよけの為の露光用の光を良く通過させるペリクルを貼着する方法が採用されている。
この場合、ゴミはマスクの表面には直接付着せず、ペリクル膜上に付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、ペリクル上のゴミは転写に無関係となる利点がある。
ペリクルは、一般に、薄いペリクル膜、アルミニウム製のフレーム(以下、ペリクルフレームという)、ペリクル膜をペリクルフレームに固定する接着剤から構成され、マスクに固定する粘着剤がペリクルフレームに付着されている。
この粘着剤は、ペリクルの出荷時にはセパレータでカバーされており、マスクメーカーにてマスクが完成した後、前記セパレータが外されペリクルの粘着剤をマスクに押し当てることでペリクルをマスクに装着する。
ペリクルは、マスクに装着されそのまま長期間に渡り使用されるが、例えば、ペリクル膜が何らかの原因で破れた場合や、近年問題になっているマスクパターン上の成長性異物発生が起こり、マスクを再洗浄する必要がある場合等にペリクルをマスクから剥離する必要がある。
ペリクルは、長期に渡り安定してマスクに貼り付いている必要がある為、通常マスクに強固に貼り付けられており、また、ペリクルフレームの高さは一般的に4〜7mm程度しかなく、作業者がペリクルフレームを手で掴んで剥がすのは非常に困難である。
その為、ペリクルをマスクから剥がすには、一般に、図4、図5に示すようなペリクル剥離治具が使用されている。
この従来のペリクル剥離治具11は、本体棒12と作業者用の取っ手13からなり、本体棒12には、ペリクルフレーム16に設けられた治具穴17に差し込む差込ピン14が一つ設けられており、本体棒12の両端部にはマスク18と接触する部分に樹脂製のマスク接触部品15が取り付けられている。
通常、ペリクルフレーム16には、対向辺の隅部近傍に二カ所、両辺で計四箇所の治具穴17が設けられており、前記した従来のペリクル剥離治具11を使用して、ペリクルをマスク18から剥離する際には、ペリクル剥離治具11の差込ピン14を、そのペリクルフレーム16の治具穴17のそれぞれに、順次、差し込み、本体棒12をマスク18に接触させて、取っ手13を下方に下げることにより、テコの原理を利用してペリクルフレーム16を持ち上げている(図6参照)。
このような従来のペリクル剥離治具11を用いた場合には、ペリクル剥離の作業時にマスク18が持ち上がってしまうので、ペリクルを剥離治具にて持ち上げる際にマスク18を作業者が手で押える必要がある。
しかし、マスク18を作業者が手で触るということは、マスク18を汚染する可能性が高くなる。また、ペリクルをマスク18から剥離する時に、剥離を容易にするためマスクを加熱する場合があり、その場合に高温になったマスクを作業者が押えるというのは作業上の危険性を伴う。
さらに、上記従来のペリクル剥離治具11を用いてペリクルを剥離する場合には、一度の作業ではペリクルを局部的にしか剥離できない。その為、ペリクル全体を剥離するには、ペリクル剥離治具11の差込ピンを、差込位置を換えて順次フレームの各治具穴17へ差し込み、何度かペリクルフレームを持ち上げる必要があり作業が煩雑になる。
さらにまた、ペリクル剥離治具にて位置を変えて粘着剤層をマスクから剥がしても、粘着剤は粘着力を失わない為、別の部分を剥離している時に、一度剥離した部分の粘着剤がマスクに再付着してしまうという問題があり、また最終的にペリクルをマスクから取り外す時には、ペリクルを作業者が手で掴む必要があり、この場合にもマスクが汚染される可能性が高くなる。
本発明の課題は、マスクからのペリクルの剥離作業時に、作業者の手が触れてマスクを汚染することがなく、一度の作業でペリクル全体をマスクから剥離することのできるペリクル剥離治具を提供することにある。
本発明のペリクル剥離治具は、半導体リソグラフィーに使用されるペリクル
をマスクから剥離する際に使用するペリクル剥離治具であって、ペリクルフレ
ームの治具穴が設けられた一辺と略同じ長さを有する本体棒と、本体棒の軸心
に向けて本体棒の外周面の中央部に一体に取り付けられた作業者が掴む取っ手
と、前記本体棒の長手方向に間隔をあけて設けられた複数のペリクルフレーム
差込ピン(以下、差込ピンという。)とからなることと、2つのペリクル剥離
治具をペリクルフレームの対向辺にある治具穴に同時に差し込んで剥離作業を
行うことと、を特徴とする
本発明のペリクル剥離治具によれば、ペリクルをマスクから剥離する際にマスクを手で押さえる必要がないためマスクを汚染することが無く、マスクを加熱する剥離方法でも安全に作業が行なえ、また、一度の作業でペリクル全体の剥離が完了できるため、作業中に剥離したペリクルの一部がマスクに再付着することがなく、さらには、ペリクルをマスクから剥離した状態で、ペリクルに手を触れずにそのままマスク上からペリクルを除去できる。
本発明者は、従来のペリクル剥離治具を改良し、本体棒の外周面に間隔をあけて複数の差込ピンを設けたペリクル剥離治具を使用してペリクルの剥離行なうことによって、前記課題が全て解決できることを見出した。
以下、本発明のペリクル剥離治具の一例を、添付図面に基づいて詳細に説明する。
図1に示すように、本発明のペリクル剥離治具1は、円筒状の本体棒2とこの本体棒2の取っ手3と、本体棒2の外周面の長手方向に間隔をあけて立設された2本の差込ピン4、4'とから構成されている。従来例と同様、本体棒2の両端部にはマスク接触部品5が取付けられている。
本体棒2は、図2に示すような、ペリクルフレーム6の治具穴7が設けられた一辺と同程度の長さに形成されている。
取っ手3は、把持しやすい棒体であって、本体棒2の軸心に向けて本体棒2の外周面の中央部に一体に取り付けられており、取っ手3と本体棒2の外周面に立設された差込ピン4、4'とは、本体棒1の外周面に対する取付け角度が鈍角状になるように形成されている。
差込ピン4、4'は、適用するペリクルフレーム6の治具穴7に嵌入できる外径と、治具穴7に嵌入してペリクルフレーム6を持ち上げることのできる長さに形成されており、また、本体棒2の外周面に立設された差込ピン4、4'の間隔は、ペリクルフレーム6の外周面に設けられた治具穴7、7の間隔に一致するよう配置されている。
本発明のペリクル剥離治具1は、上記構成とすることにより、その2つの差込ピン4、4'を、同時にペリクルフレームの二つの治具穴7、7に挿入することができる。
本発明のペリクル剥離治具は、従来のペリクル剥離治具が、ペリクルフレームの辺に比して短い本体棒の外周面に、差込ピンを一つ設けただけの構成であったのと異なり、本体棒2をペリクルフレーム6の治具穴7が設けられた一辺に見合う長さとし、かつ、この本体棒2の軸心に沿って外周面の長手方向に、ペリクルフレーム6に設けられた二つの治具穴7に対応する二つの差込ピン4、4'を設けている。
なお、図では、差込ピンを二つ設けた本発明のペリクル剥離治具を示したが、ペリクルフレームに設けられた治具穴の数によって、差込ピンを二つ以上設けるようにしてもよい。
本発明のペリクル剥離治具を用いたペリクルの剥離作業は、本発明のペリクル剥離治具を二つ使用して行なう(図2、図3参照)。
即ち、図2に示す二つのペリクル剥離治具1a、1bを使用し、治具穴7を有するペリクルフレーム6の対向辺10、10'の外方から、それぞれ近づけ、ペリクル剥離治具1a、1bの本体棒2の外周面に間隔をあけて立設された二つの差込ピン4、4'を、ペリクルフレーム6の治具穴7、7にそれぞれ差込む。
これにより、ペリクルフレーム6の対向辺にある四つの治具穴7に、同時に四つの差込ピン4、4'を差し込むことになる。
次いで、本体棒2、2'のマスク接触部品5、5'をマスク8に接触させて、取っ手3、3'を同時に押し下げると、テコの原理でペリクルフレーム6の対向辺10、10'が、マスク8から同時に離れ、図3に示すように、ペリクル剥離治具でそのまま持ち上げられてペリクルの剥離が完了する。
以下、本発明の実施例を示す。
149mm×122mm×6.3mmサイズのペリクルが装着された、152mm角、厚み6.3mmのマスクと、図1に示すような本発明のペリクル剥離治具を用意し、マスクからのペリクルの剥離作業を行なった。
前記ペリクルのペリクルフレームには、直径1.6mm、深さ1.2mmの治具穴が、両長辺に各二つ、両側で計四つ設けられており、この治具穴の間隔は104mmである。
本実施例に使用した本発明のペリクル剥離治具は、SUS製で、本体棒2は、長さが162mm、直径が8mmの円筒形であり、取っ手2の長さは150mmである。
本体棒2の外表面に設けられた差込ピン4、4'は、直径が1.2mm、長さが2.5mmであり、2つの差込ピン4、4'の間隔は104mmである。本体棒2の両端部には、テトラフルオロエチレン製のマスク接触部品5が取り付けられている。
このテトラフルオロエチレン製のマスク接触部品5は、内側が直径9mm、外側が直径10mmである。
ペリクルが装着された前記マスクを水平に設置し、上記本発明のペリクル剥離治具を用いてペリクルを剥離した。手順は以下の通りである。
1.作業者は、二つのペリクル剥離治具1a、1bの取っ手3、3'を、それぞれ左右の手に持ち、ペリクルフレーム6の対向辺に設けられた治具穴7、7に、ペリクル剥離治具1a、1bの差込ピンをそれぞれ挿入して本体棒2、2'のマスク接触部品5、5'をマスク8に接触させた(図2参照)。
2.次いで、二つのペリクル剥離治具1a、1bでペリクルフレーム6を挟むようにしながら、ペリクル剥離治具1a、1bの取っ手3、3'を同時に、ゆっくりと下方に倒して、マスク8からペリクルフレーム6を持ち上げた。
3.ペリクルが完全にマスク8から剥がれたところで、ペリクルを二つのペリクル剥離治具1a、1bで挟んだまま持ち上げ、ペリクルをマスク8から取り除いた(図3参照)。
上記したように、二つのペリクル剥離治具1a、1bを用いた場合には、1回の剥離動作でペリクル剥離が完了し、また作業者がマスクに手を触れることなく作業を行なうことができた。
また、ペリクルをマスクから除去する場合にも、二つのペリクル剥離治具で掴んだまま除去できたためペリクルを手で触ることが一切なかった。
[比較例]
実施例1で使用したものと同じペリクルが装着されたマスクを用意し、図4に示すような従来のペリクル剥離治具11を使ってマスクからのペリクルの剥離作業を行なった(図5参照)。
使用した従来のペリクル剥離治具はSUS製で、本体棒12が40mmで直径が8mm。本体棒の両端には直径10mmのテトラフルオロエチレン製のマスク接触部品15が取り付けられている。取っ手13の長さは150mm。差込ピン14は、直径が1.2mm、長さが2.5mmである。
ペリクルが装着されたマスクを水平に設置し、上記従来のペリクル剥離治具11を用いてペリクルを剥離した。手順は以下の通りである。
1.作業者がペリクル剥離治具11を片手に持ち、ペリクルフレームの一つの治具穴17に剥離治具11の差込ピン14を挿入し、本体棒12のマスク接触部品15をマスク18に接触させた。この時、作業者はもう片方の手でマスク18を固定した。
2.次いで、片手でマスク18を固定したまま、剥離治具11の取っ手13を下方に倒し、ゆっくりとペリクルフレーム16を持ち上げた。この時、剥離治具11で持ち上げている部分のペリクルが剥離したが、それ以外の部分はまだマスク18に貼り付いたままであった。
3.その後、作業者は、ペリクルフレーム16の残り三つの治具穴17に、剥離治具11の差込ピン14を順次差し込み、前記1、2と同様のペリクルの剥離作業を繰り返し行った。
4.最後に剥離治具11でペリクルを持ち上げた際に、ペリクルを手で掴みペリクルを完全にマスク18から除去した。
上記したように、従来のペリクル剥離治具を用いたペリクルの剥離作業の場合には、ペリクルの剥離動作を最低でも4回は行なう必要があり、その度にペリクル剥離治具をフレームに差し込み、場合によってはマスクを回転させる必要があった。また、作業者は剥離動作時にマスクが浮き上がるのを防ぐ為、マスクを手で押え、ペリクルを完全にマスクから除去する際に、ペリクルを手で掴む必要があった。
前記した実施例と比較例の結果から、本発明のペリクル剥離治具が有する以下の特性が確認できた。
本発明のペリクル剥離治具を二つ使用して、マスクからペリクルを剥離すると、二つの本体棒でマスクを押さえつけながら、ペリクルフレームの対向辺を同時に持ち上げてペリクルを剥離することができるので、ペリクルの剥離時にマスクを手で押える必要が無くなる。その為、作業者がマスクを触ることでマスクを汚染することが無くなり、またマスクを加熱する剥離方法でも安全に作業することができる。
また、ペリクル全体を同時に剥離できるので一度の作業でペリクルの剥離が完了する。その為、従来の差込ピンが一つだけ付いた剥離治具でペリクルを剥離した場合に発生するペリクル粘着剤のマスクへの再付着という問題は発生しない。
さらに、ペリクルを剥離すると同時にペリクルを両側からペリクル剥離治具で挟持状に掴んだ状態にあるため、ペリクルに一切手を触れずに、そのままペリクルをマスク上から除去することが可能になる。その為、従来の剥離治具で発生した、ペリクルを剥離した後ペリクルを手で掴みマスク上から除去しなければならない、といった従来の問題を解決できる。
本発明のペリクル剥離治具によれば、従来のペリクル剥離治具を使用したペリクル剥離作業に比べて、作業性が格段に向上できるため、リソグラフィーを利用する技術分野において極めて有用であり、その産業上の利用可能性は大きい。
本発明のペリクル剥離治具の一例を示す模式的な斜視図である。 本発明のペリクル剥離治具の他例の使用状態を示す模式的な斜視図である。 図2に示す本発明のペリクル剥離治具の使用状態を示す模式的な斜視図である。 従来のペリクル剥離治具の代表例を示す模式的な斜視図である。 従来のペリクル剥離治具の使用状態を示す模式的な斜視図である。 ペリクル剥離治具の使用状態を示す模式的な部分断面図である。
符号の説明
1、1a、1b、11 ペリクル剥離治具
2、2'、12 本体棒
3、3'、13 取っ手
4、4'、14 差込ピン
5、5'、15 マスク接触部品
6、16 ペリクルフレーム
7、17 治具穴
8、18 マスク
10、10' (ペリクルフレーム)の対向辺

Claims (1)

  1. 半導体リソグラフィーに使用されるペリクルをマスクから剥離する際に使用
    するペリクル剥離治具であって、ペリクルフレームの治具穴が設けられた一辺
    と略同じ長さを有する本体棒と、本体棒の軸心に向けて本体棒の外周面の中央
    部に一体に取り付けられた作業者が掴む取っ手と、前記本体棒の外周面に間隔
    をあけて設けられた複数のペリクルフレーム差込ピンとからなることと、2つ
    ペリクル剥離治具をペリクルフレームの対向辺にある治具穴に同時に差し込
    んで剥離作業を行うことと、を特徴とするペリクル剥離治具。

JP2006128481A 2006-05-02 2006-05-02 ペリクル剥離治具 Active JP4664859B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006128481A JP4664859B2 (ja) 2006-05-02 2006-05-02 ペリクル剥離治具

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006128481A JP4664859B2 (ja) 2006-05-02 2006-05-02 ペリクル剥離治具

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007298870A JP2007298870A (ja) 2007-11-15
JP4664859B2 true JP4664859B2 (ja) 2011-04-06

Family

ID=38768389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006128481A Active JP4664859B2 (ja) 2006-05-02 2006-05-02 ペリクル剥離治具

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4664859B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5134436B2 (ja) * 2008-05-27 2013-01-30 信越化学工業株式会社 リソグラフィ用ペリクル
JP5722760B2 (ja) * 2011-02-08 2015-05-27 信越化学工業株式会社 ペリクル製造用キット
US11183410B2 (en) * 2017-04-24 2021-11-23 Photronics, Inc. Pellicle removal tool
JP7357432B2 (ja) 2017-10-10 2023-10-06 信越化学工業株式会社 Euv用ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、及び半導体の製造方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02181755A (ja) * 1989-01-07 1990-07-16 Mitsubishi Electric Corp ホトマスク
JPH02304439A (ja) * 1989-05-19 1990-12-18 Matsushita Electron Corp ペクリルの剥離方法
JPH03219442A (ja) * 1990-01-24 1991-09-26 Canon Inc 2p樹脂―ガラススタンパ原盤の作成方法
JPH0573652U (ja) * 1992-03-06 1993-10-08 富士通株式会社 ペリクルの剥離装置
JPH095982A (ja) * 1995-06-17 1997-01-10 Mitsui Petrochem Ind Ltd マスク保護装置の剥離方法
JPH0954424A (ja) * 1995-08-14 1997-02-25 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルのフォトマスクへの貼着構造
JPH09311435A (ja) * 1996-05-16 1997-12-02 Shin Etsu Chem Co Ltd フォトマスクからのペリクル脱着方法
JP2002131892A (ja) * 2000-10-27 2002-05-09 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ペリクルの剥離方法及びその装置
JP2006301525A (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02181755A (ja) * 1989-01-07 1990-07-16 Mitsubishi Electric Corp ホトマスク
JPH02304439A (ja) * 1989-05-19 1990-12-18 Matsushita Electron Corp ペクリルの剥離方法
JPH03219442A (ja) * 1990-01-24 1991-09-26 Canon Inc 2p樹脂―ガラススタンパ原盤の作成方法
JPH0573652U (ja) * 1992-03-06 1993-10-08 富士通株式会社 ペリクルの剥離装置
JPH095982A (ja) * 1995-06-17 1997-01-10 Mitsui Petrochem Ind Ltd マスク保護装置の剥離方法
JPH0954424A (ja) * 1995-08-14 1997-02-25 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルのフォトマスクへの貼着構造
JPH09311435A (ja) * 1996-05-16 1997-12-02 Shin Etsu Chem Co Ltd フォトマスクからのペリクル脱着方法
JP2002131892A (ja) * 2000-10-27 2002-05-09 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ペリクルの剥離方法及びその装置
JP2006301525A (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007298870A (ja) 2007-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5202557B2 (ja) ペリクルハンドリング治具
CN1854891B (zh) 防护胶膜框架
JP4664859B2 (ja) ペリクル剥離治具
JP4637053B2 (ja) ペリクルおよびペリクル剥離装置
US10895805B2 (en) Pellicle manufacturing method and method for manufacturing photomask with pellicle
KR960014053B1 (ko) 광학 펠리클 호울더, 그 호울더와 광학 펠리클 조립체 및 그 사용 방법
JP3408000B2 (ja) ペリクル剥離方法
JP4381860B2 (ja) 補強半導体ウエハに固定された補強板の分離方法およびその装置
KR101564115B1 (ko) 펠리클 박리용 지그 및 박리 방법
JP4999634B2 (ja) ペクリル剥離装置及びその方法
EP3644121B1 (en) Method of separating pellicle and device for separating pellicle
JP5199217B2 (ja) ペリクル
WO2005106931A1 (ja) 形状転写方法
TWI341957B (en) Method and tool for cleaning photomask
JP2012250316A (ja) ガラス研磨方法及びガラス研磨装置
JP3427241B2 (ja) ペリクルのフォトマスクへの貼着構造
JP2000305252A (ja) ペリクルの剥離方法
JP6417761B2 (ja) インプリントモールドの製造方法
KR102597891B1 (ko) 프레임 일체형 마스크의 제조 시스템 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
JP2008032981A (ja) ペリクル枠剥離方法及びその装置並びにこれに使用される剥離治具
JP3101431U (ja) 部品を支持したフィルムを治具からはずすための補助具
KR19990086876A (ko) 반도체 웨이퍼의 보호필름 제거장치
JPH0470657A (ja) ペリクル貼付装置及びペリクルの接着面保護シート剥離装置
JP2005115032A (ja) マスク把持冶具
KR20020065984A (ko) 척을 구비한 웨이퍼 반송 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080522

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100629

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100830

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101004

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101227

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110107

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4664859

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114

Year of fee payment: 3