JP3408000B2 - ペリクル剥離方法 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば半導体装置の
製造工程に使用されるペリクル付きガラスフォトマスク
等からペリクルを剥離させるためのペリクル剥離方法に
関するものである。 【０００２】 【従来の技術】図８は従来の半導体装置の写真製版工程
を示す概略の説明図である。図において、遮光膜による
パターン（図示せず）が設けられたガラスフォトマスク
１の下方には、光学系２を挟んでウエハ３が配置されて
いる。このようなガラスフォトマスク１のパターン形成
面に異物４が付着すると、異物４の像がウエハ３上に結
像されてしまう。 【０００３】このため、図９に示すように、ガラスフォ
トマスク１にペリクル５を設け、パターンを異物４から
保護している。このペリクル５は、例えばアルミニウム
製のペリクルフレーム６と、例えばニトロセルロース製
の透明なペリクル膜７とを有しており、ペリクルフレー
ム６がガラスフォトマスク１に粘着剤（図示せず）によ
り接着されている。ガラスフォトマスク１のパターン形
成面とペリクル膜７との間は所定距離離れており、ペリ
クル膜７に付着した異物４の像は、デフォーカスされて
ウエハ３上に結像されない。 【０００４】しかし、ペリクル膜７の汚れがひどくなっ
てくると、ペリクル膜７の光の透過率が低下し、正常な
写真製版が行えなくなるため、ペリクル５を交換する必
要が生じてくる。また、付着した異物が大きい場合やペ
リクル膜７が破損した場合にも、ペリクル５の交換が必
要となる。 【０００５】図１０は従来のペリクル剥離方法の一例を
示す断面図であり、この例ではガラスフォトマスク１の
両面にペリクル５が接着されている。図に示すように、
従来、不要となったペリクル５をガラスフォトマスク１
から剥がす場合、先端部が屈曲した治具８を使用してい
た。この治具８は、梃の原理を利用してペリクル５を物
理的に剥離させるものである。 【０００６】また、図１１は従来のペリクル剥離方法の
他の例を示す断面図である。図において、容器９内には
有機溶剤１０が入れられており、この有機溶剤１０中に
ペリクル５及びガラスフォトマスク１が浸漬されてい
る。ガラスフォトマスク１は、保持装置１１により保持
されている。 【０００７】この方法では、ペリクル５とガラスフォト
マスク１との間に介在する粘着剤に有機溶剤１０を浸透
させ、粘着剤の粘着力を低下させた後、ペリクル５をガ
ラスフォトマスク１から剥離させる。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のペ
リクル剥離方法のうち、治具８を使用する方法において
は、ガラスフォトマスク１上の治具８が接触する部分に
傷が付き、遮光膜の金属粉がパターンに付着してしまう
ことがあるという問題点があった。また、有機溶剤１０
を使用する方法では、作業者が有機溶剤１０の蒸気を微
量ではあるが吸入する可能性があるため、作業者の定期
的な健康診断が必要であり、さらに粘着剤が溶解した有
機溶剤１０によりガラスフォトマスク１が濡れるため、
粘着剤がガラスフォトマスク１に不要に付着することが
あるなどの問題点があった。 【０００９】この発明は、上記のような問題点を解決す
ることを課題としてなされたものであり、フォトマスク
を傷付けずにペリクルを容易に剥離させることができ、
かつ人体への悪影響が生じるのを防止するとともに、粘
着剤がフォトマスクに付着するのを防止することができ
るペリクル剥離方法を得ることを目的とする。 【００１０】 【課題を解決するための手段】この発明に係るペリクル
剥離方法は、ペリクルのフォトマスクへの接着部を、高
温の水蒸気にさらし、接着部に設けられた粘着剤の粘着
力を低下させた後、ペリクルをフォトマスクから剥離さ
せるものである。 【００１１】 【作用】この発明においては、ペリクルとフォトマスク
とを接着している粘着剤の粘着力を高温の水蒸気により
低下させ、ペリクルがフォトマスクから容易に剥がれる
ようにする。 【００１２】 【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。参考例 １． 図１は参考例１によるペリクル剥離方法を示す断面図で
あり、図８ないし図１１と同一又は相当部分には同一符
号を付し、その説明を省略する。 【００１３】図において、容器２１内には、純水を５０
℃〜１００℃に加熱してなる温水２２が入れられてい
る。この温水２２の中には、ペリクル５が接着されたガ
ラスフォトマスク１が浸漬されている。この参考例１で
は、加熱された温水２２の中にペリクル５及びガラスフ
ォトマスク１を所定時間浸漬した後、これらを引き上
げ、ペリクル５を剥離させる。 【００１４】この方法によれば、粘着剤の周囲に温水２
２が浸透し、粘着剤の粘着力が低下するため、特別な治
具等により無理な力を加えることなく、手等によりペリ
クル５を容易に剥離させることができ、従ってガラスフ
ォトマスク１に傷が付くことはない。また、温水２２を
使用するため人体への悪影響もなく、さらにペリクル５
を剥離させる際に、粘着剤はペリクル５に付着したまま
でガラスフォトマスク１からきれいに剥がれるため、粘
着剤によりガラスフォトマスク１が汚染されることもな
い。 【００１５】なお、温水２２へのガラスフォトマスク１
の出し入れやペリクル５の剥離作業は手で行ってもよい
が、温水２２の温度が高い場合には、ガラスフォトマス
ク１を傷付けないような把持具等の治具を使用すればよ
い。 【００１６】ここで、図２はペリクル剥離時間温度依存
性についての実験結果を示す水温と浸漬時間との関係図
である。図２において、浸漬時間は、ペリクルが人手に
より容易に剥離できるようになるまでに温水中に浸漬し
た時間を示している。この図から、水温が高い程、短時
間の浸漬で済むことがわかる。また、５０℃未満では、
粘着剤の粘着力が十分に低下せず、長時間浸漬しても剥
離が難しかった。従って、水温は、５０℃〜１００℃の
範囲が良いことがわかる。さらには、作業効率の点から
見ると、浸漬時間は１分程度までに抑えるのが好ましい
ため、水温としては８０℃前後、即ち７０℃〜１００℃
の範囲がより好適である。 【００１７】なお、上記実験では、接着強度１２０７ｇ
／ｉｎｃｈのアクリル系粘着剤を使用したが、接着強度
に応じて図２の特性はある程度変化すると考えられる。 【００１８】参考例２． 次に、参考例２について説明する。上記参考例１では、
ペリクル５及びガラスフォトマスク１を温水２２に浸漬
した後、温水２２外へ引き出してペリクル５を剥離させ
たが、この参考例２では、そのまま温水２２中で剥離さ
せるというものである。 【００１９】上記のように、ペリクル５及びガラスフォ
トマスク１を温水２２中に浸漬すると、ペリクル５等に
付着した汚れが温水中に溶け出した後、ガラスフォトマ
スク１に付着する危険がある。ガラスフォトマスク１に
付着した汚れは、一度乾燥してしまうと落ちにくくなる
が、この参考例２のように温水２２中で剥離作業を行
い、そのまま（濡れて温度が高いまま）次工程の洗浄工
程等に移れば、比較的容易に落とすことができる。 【００２０】実施例１． 図３はこの発明の実施例１によるペリクル剥離方法を示
す断面図である。この実施例１のペリクル剥離方法は、
容器２１内の温水２２を沸騰させ、その水蒸気にペリク
ル５及びガラスフォトマスク１をさらすものである。こ
れにより、ペリクル５の粘着剤の粘着力が低下し、人体
への悪影響やガラスフォトマスク１の汚れ等を防止しつ
つ、ペリクル５を容易に剥離させることができるように
なる。 【００２１】また、温水２２に浸漬する場合は、ペリク
ル５等に付着した異物が温水２２に溶け出した後、ガラ
スフォトマスク１を汚染する恐れがあるが、水蒸気によ
る方法では、ペリクル５の異物が溶け出すことはなく、
清浄な状態で剥離作業を行うことができる。 【００２２】ここで、水蒸気の温度は、上記参考例１の
水温の場合とほぼ同様に５０℃以上で、ペリクル５やガ
ラスフォトマスク１に悪影響を及ぼす温度以下とするの
が好ましい。さらに、水蒸気を十分に発生させるために
は、この実施例１のように水を沸騰状態とするのが好ま
しい。 【００２３】実施例２． 図４はこの発明の実施例２によるペリクル剥離装置の概
略の断面図である。図において、容器２１内の温水２２
は、ヒータ（図示せず）等により加熱され沸騰してい
る。容器２１の上部には、蓋２３が設けられている。蓋
２３には、ペリクル５より大きくガラスフォトマスク１
よりも小さい開口部が設けられており、この開口部内に
ペリクル５が挿入されている。 【００２４】このような装置では、容器２１の上部開口
部が蓋２３及びガラスフォトマスク１により閉じられ、
水蒸気の吹出口以外が密閉されるため、容器２１内の水
蒸気の熱が維持され、ペリクル５の粘着剤の粘着力を効
率良く低下させることができる。 【００２５】実施例３． 図５はこの発明の実施例３によるペリクル剥離装置の概
略の断面図である。図において、容器２１内の温水２２
は、ヒータ等により加熱され沸騰している。容器２１の
一内壁面には、ガラスフォトマスク１及びペリクル５の
側面部にそれぞれ当接する固定爪２４，２５が固定され
ている。また、上記の内壁面に対向する内壁面には、ガ
ラスフォトマスク１及びペリクルフレーム６の側面部に
それぞれ当接する可動爪２６，２７が、ばね２８，２９
を介して取り付けられている。 【００２６】このような装置では、固定爪２４，２５及
び可動爪２６，２７がガラスフォトマスク１及びペリク
ルフレーム６の側面部にそれぞれ当接しているため、ペ
リクル５とガラスフォトマスク１との接着部に十分に水
蒸気を当てることができるとともに、ガラスフォトマス
ク１を傷付けずに保持することができる。 【００２７】実施例４． 次に、図６はこの発明の実施例４によるペリクル剥離装
置を示す平面図、図７は図６の装置の使用状態を示す断
面図である。図において、例えばステンレス鋼からなる
容器本体３１内にはヒータ３２が設けられており、この
ヒータ３２上にはビーカ３３が置かれている。ビーカ３
３内の温水３４がヒータ３２により加熱されることによ
り、容器本体３１内に水蒸気が発生している。 【００２８】容器本体３１の開口部には、蓋３５が設け
られている。蓋３５には、スリット状の吹出口３６ａ及
び多数の円形の吹出口３６ｂが設けられている。これら
の吹出口３６ａ，３６ｂは、容器本体３１内の水蒸気を
上方へ吹き出すためのものであり、その形状や配置位置
は図６に限定されない。 【００２９】容器本体３１の一内壁部には、一対の固定
爪３７が互いに間隔をおいて固定されている。上記の内
壁部に対向する内壁部には、一対の可動爪３８が図の左
右方向へ往復動自在に設けられている。可動爪３８は、
容器本体３１の外周部に取り付けられた板ばね３９によ
り容器本体３１の内側へ付勢されている。固定爪３７と
可動爪３８とは互いに対向しており、板ばね３９のばね
力によりペリクルフレーム６の側面部を両側から把持す
る。可動爪３８には、板ばね３９に逆らって可動爪３８
を図の左方へ移動させるためのレバー４０が取り付けら
れている。 【００３０】なお、容器４１は、容器本体３１及び蓋３
５により構成されている。また、水蒸気発生部４２は、
容器４１，ヒータ３２及びビーカ３３により構成されて
いる。さらに、把持部４３は、固定爪３７，可動爪３
８，板ばね３９及びレバー４０により構成されている。
さらにまた、支持部４４は、挟持部４３及び容器本体３
１により構成されている。 【００３１】上記のように構成されたペリクル剥離装置
においては、レバー４０を引いて可動爪３８を引っ込ま
せた状態でペリクル付きのガラスフォトマスク１を容器
３１上にセットする。この後、図７に示すように、レバ
ー４０を戻して可動爪３８と固定爪３７との間にペリク
ルフレーム６の側面部を把持させる。 【００３２】一方、ヒータ３２により温水３４を加熱し
て、容器本体３１内に水蒸気を発生させる。この水蒸気
は、吹出口３６ａ，３６ｂから吹き出し、ペリクル５の
ガラスフォトマスク１との接着部に接触する。これによ
り、粘着剤の粘着力が低下し、ガラスフォトマスク１を
引き離すことによりペリクル５が容易に剥離させる。こ
のとき、ペリクルフレーム６の側面部が把持されている
ので、ガラスフォトマスク１に傷が付くのが防止され
る。 【００３３】上記装置によるペリクル剥離実験では、接
着強度１２０７ｇ／ｉｎｃｈのアクリル系粘着剤の場
合、水蒸気への暴露時間１分で容易に剥離可能となり、
接着強度１８１０ｇ／ｉｎｃｈのアクリル系粘着剤の場
合、水蒸気への暴露時間３分で容易に剥離可能となっ
た。 【００３４】なお、フォトマスクはガラスフォトマスク
に限定されるものではなく、またレチクル，マスターマ
スクのいずれでもよい。さらに、液晶用ペリクル付きフ
ォトマスクにもこの発明は適用できる。 【００３５】 【発明の効果】以上説明したように、この発明のペリク
ル剥離方法は、ペリクルのフォトマスクへの接着部を、
高温の水蒸気にさらし、接着部に設けられた粘着剤の粘
着力を低下させるようにしたので、フォトマスクを傷付
けずにペリクルを容易に剥離させることができ、かつ人
体への悪影響が生じるのを防止するとともに、粘着剤が
フォトマスクに付着するのを防止することができ、また
ペリクルに付着した異物がフォトマスクに付着するのを
防止することができるなどの効果を奏する。
製造工程に使用されるペリクル付きガラスフォトマスク
等からペリクルを剥離させるためのペリクル剥離方法に
関するものである。 【０００２】 【従来の技術】図８は従来の半導体装置の写真製版工程
を示す概略の説明図である。図において、遮光膜による
パターン（図示せず）が設けられたガラスフォトマスク
１の下方には、光学系２を挟んでウエハ３が配置されて
いる。このようなガラスフォトマスク１のパターン形成
面に異物４が付着すると、異物４の像がウエハ３上に結
像されてしまう。 【０００３】このため、図９に示すように、ガラスフォ
トマスク１にペリクル５を設け、パターンを異物４から
保護している。このペリクル５は、例えばアルミニウム
製のペリクルフレーム６と、例えばニトロセルロース製
の透明なペリクル膜７とを有しており、ペリクルフレー
ム６がガラスフォトマスク１に粘着剤（図示せず）によ
り接着されている。ガラスフォトマスク１のパターン形
成面とペリクル膜７との間は所定距離離れており、ペリ
クル膜７に付着した異物４の像は、デフォーカスされて
ウエハ３上に結像されない。 【０００４】しかし、ペリクル膜７の汚れがひどくなっ
てくると、ペリクル膜７の光の透過率が低下し、正常な
写真製版が行えなくなるため、ペリクル５を交換する必
要が生じてくる。また、付着した異物が大きい場合やペ
リクル膜７が破損した場合にも、ペリクル５の交換が必
要となる。 【０００５】図１０は従来のペリクル剥離方法の一例を
示す断面図であり、この例ではガラスフォトマスク１の
両面にペリクル５が接着されている。図に示すように、
従来、不要となったペリクル５をガラスフォトマスク１
から剥がす場合、先端部が屈曲した治具８を使用してい
た。この治具８は、梃の原理を利用してペリクル５を物
理的に剥離させるものである。 【０００６】また、図１１は従来のペリクル剥離方法の
他の例を示す断面図である。図において、容器９内には
有機溶剤１０が入れられており、この有機溶剤１０中に
ペリクル５及びガラスフォトマスク１が浸漬されてい
る。ガラスフォトマスク１は、保持装置１１により保持
されている。 【０００７】この方法では、ペリクル５とガラスフォト
マスク１との間に介在する粘着剤に有機溶剤１０を浸透
させ、粘着剤の粘着力を低下させた後、ペリクル５をガ
ラスフォトマスク１から剥離させる。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のペ
リクル剥離方法のうち、治具８を使用する方法において
は、ガラスフォトマスク１上の治具８が接触する部分に
傷が付き、遮光膜の金属粉がパターンに付着してしまう
ことがあるという問題点があった。また、有機溶剤１０
を使用する方法では、作業者が有機溶剤１０の蒸気を微
量ではあるが吸入する可能性があるため、作業者の定期
的な健康診断が必要であり、さらに粘着剤が溶解した有
機溶剤１０によりガラスフォトマスク１が濡れるため、
粘着剤がガラスフォトマスク１に不要に付着することが
あるなどの問題点があった。 【０００９】この発明は、上記のような問題点を解決す
ることを課題としてなされたものであり、フォトマスク
を傷付けずにペリクルを容易に剥離させることができ、
かつ人体への悪影響が生じるのを防止するとともに、粘
着剤がフォトマスクに付着するのを防止することができ
るペリクル剥離方法を得ることを目的とする。 【００１０】 【課題を解決するための手段】この発明に係るペリクル
剥離方法は、ペリクルのフォトマスクへの接着部を、高
温の水蒸気にさらし、接着部に設けられた粘着剤の粘着
力を低下させた後、ペリクルをフォトマスクから剥離さ
せるものである。 【００１１】 【作用】この発明においては、ペリクルとフォトマスク
とを接着している粘着剤の粘着力を高温の水蒸気により
低下させ、ペリクルがフォトマスクから容易に剥がれる
ようにする。 【００１２】 【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。参考例 １． 図１は参考例１によるペリクル剥離方法を示す断面図で
あり、図８ないし図１１と同一又は相当部分には同一符
号を付し、その説明を省略する。 【００１３】図において、容器２１内には、純水を５０
℃〜１００℃に加熱してなる温水２２が入れられてい
る。この温水２２の中には、ペリクル５が接着されたガ
ラスフォトマスク１が浸漬されている。この参考例１で
は、加熱された温水２２の中にペリクル５及びガラスフ
ォトマスク１を所定時間浸漬した後、これらを引き上
げ、ペリクル５を剥離させる。 【００１４】この方法によれば、粘着剤の周囲に温水２
２が浸透し、粘着剤の粘着力が低下するため、特別な治
具等により無理な力を加えることなく、手等によりペリ
クル５を容易に剥離させることができ、従ってガラスフ
ォトマスク１に傷が付くことはない。また、温水２２を
使用するため人体への悪影響もなく、さらにペリクル５
を剥離させる際に、粘着剤はペリクル５に付着したまま
でガラスフォトマスク１からきれいに剥がれるため、粘
着剤によりガラスフォトマスク１が汚染されることもな
い。 【００１５】なお、温水２２へのガラスフォトマスク１
の出し入れやペリクル５の剥離作業は手で行ってもよい
が、温水２２の温度が高い場合には、ガラスフォトマス
ク１を傷付けないような把持具等の治具を使用すればよ
い。 【００１６】ここで、図２はペリクル剥離時間温度依存
性についての実験結果を示す水温と浸漬時間との関係図
である。図２において、浸漬時間は、ペリクルが人手に
より容易に剥離できるようになるまでに温水中に浸漬し
た時間を示している。この図から、水温が高い程、短時
間の浸漬で済むことがわかる。また、５０℃未満では、
粘着剤の粘着力が十分に低下せず、長時間浸漬しても剥
離が難しかった。従って、水温は、５０℃〜１００℃の
範囲が良いことがわかる。さらには、作業効率の点から
見ると、浸漬時間は１分程度までに抑えるのが好ましい
ため、水温としては８０℃前後、即ち７０℃〜１００℃
の範囲がより好適である。 【００１７】なお、上記実験では、接着強度１２０７ｇ
／ｉｎｃｈのアクリル系粘着剤を使用したが、接着強度
に応じて図２の特性はある程度変化すると考えられる。 【００１８】参考例２． 次に、参考例２について説明する。上記参考例１では、
ペリクル５及びガラスフォトマスク１を温水２２に浸漬
した後、温水２２外へ引き出してペリクル５を剥離させ
たが、この参考例２では、そのまま温水２２中で剥離さ
せるというものである。 【００１９】上記のように、ペリクル５及びガラスフォ
トマスク１を温水２２中に浸漬すると、ペリクル５等に
付着した汚れが温水中に溶け出した後、ガラスフォトマ
スク１に付着する危険がある。ガラスフォトマスク１に
付着した汚れは、一度乾燥してしまうと落ちにくくなる
が、この参考例２のように温水２２中で剥離作業を行
い、そのまま（濡れて温度が高いまま）次工程の洗浄工
程等に移れば、比較的容易に落とすことができる。 【００２０】実施例１． 図３はこの発明の実施例１によるペリクル剥離方法を示
す断面図である。この実施例１のペリクル剥離方法は、
容器２１内の温水２２を沸騰させ、その水蒸気にペリク
ル５及びガラスフォトマスク１をさらすものである。こ
れにより、ペリクル５の粘着剤の粘着力が低下し、人体
への悪影響やガラスフォトマスク１の汚れ等を防止しつ
つ、ペリクル５を容易に剥離させることができるように
なる。 【００２１】また、温水２２に浸漬する場合は、ペリク
ル５等に付着した異物が温水２２に溶け出した後、ガラ
スフォトマスク１を汚染する恐れがあるが、水蒸気によ
る方法では、ペリクル５の異物が溶け出すことはなく、
清浄な状態で剥離作業を行うことができる。 【００２２】ここで、水蒸気の温度は、上記参考例１の
水温の場合とほぼ同様に５０℃以上で、ペリクル５やガ
ラスフォトマスク１に悪影響を及ぼす温度以下とするの
が好ましい。さらに、水蒸気を十分に発生させるために
は、この実施例１のように水を沸騰状態とするのが好ま
しい。 【００２３】実施例２． 図４はこの発明の実施例２によるペリクル剥離装置の概
略の断面図である。図において、容器２１内の温水２２
は、ヒータ（図示せず）等により加熱され沸騰してい
る。容器２１の上部には、蓋２３が設けられている。蓋
２３には、ペリクル５より大きくガラスフォトマスク１
よりも小さい開口部が設けられており、この開口部内に
ペリクル５が挿入されている。 【００２４】このような装置では、容器２１の上部開口
部が蓋２３及びガラスフォトマスク１により閉じられ、
水蒸気の吹出口以外が密閉されるため、容器２１内の水
蒸気の熱が維持され、ペリクル５の粘着剤の粘着力を効
率良く低下させることができる。 【００２５】実施例３． 図５はこの発明の実施例３によるペリクル剥離装置の概
略の断面図である。図において、容器２１内の温水２２
は、ヒータ等により加熱され沸騰している。容器２１の
一内壁面には、ガラスフォトマスク１及びペリクル５の
側面部にそれぞれ当接する固定爪２４，２５が固定され
ている。また、上記の内壁面に対向する内壁面には、ガ
ラスフォトマスク１及びペリクルフレーム６の側面部に
それぞれ当接する可動爪２６，２７が、ばね２８，２９
を介して取り付けられている。 【００２６】このような装置では、固定爪２４，２５及
び可動爪２６，２７がガラスフォトマスク１及びペリク
ルフレーム６の側面部にそれぞれ当接しているため、ペ
リクル５とガラスフォトマスク１との接着部に十分に水
蒸気を当てることができるとともに、ガラスフォトマス
ク１を傷付けずに保持することができる。 【００２７】実施例４． 次に、図６はこの発明の実施例４によるペリクル剥離装
置を示す平面図、図７は図６の装置の使用状態を示す断
面図である。図において、例えばステンレス鋼からなる
容器本体３１内にはヒータ３２が設けられており、この
ヒータ３２上にはビーカ３３が置かれている。ビーカ３
３内の温水３４がヒータ３２により加熱されることによ
り、容器本体３１内に水蒸気が発生している。 【００２８】容器本体３１の開口部には、蓋３５が設け
られている。蓋３５には、スリット状の吹出口３６ａ及
び多数の円形の吹出口３６ｂが設けられている。これら
の吹出口３６ａ，３６ｂは、容器本体３１内の水蒸気を
上方へ吹き出すためのものであり、その形状や配置位置
は図６に限定されない。 【００２９】容器本体３１の一内壁部には、一対の固定
爪３７が互いに間隔をおいて固定されている。上記の内
壁部に対向する内壁部には、一対の可動爪３８が図の左
右方向へ往復動自在に設けられている。可動爪３８は、
容器本体３１の外周部に取り付けられた板ばね３９によ
り容器本体３１の内側へ付勢されている。固定爪３７と
可動爪３８とは互いに対向しており、板ばね３９のばね
力によりペリクルフレーム６の側面部を両側から把持す
る。可動爪３８には、板ばね３９に逆らって可動爪３８
を図の左方へ移動させるためのレバー４０が取り付けら
れている。 【００３０】なお、容器４１は、容器本体３１及び蓋３
５により構成されている。また、水蒸気発生部４２は、
容器４１，ヒータ３２及びビーカ３３により構成されて
いる。さらに、把持部４３は、固定爪３７，可動爪３
８，板ばね３９及びレバー４０により構成されている。
さらにまた、支持部４４は、挟持部４３及び容器本体３
１により構成されている。 【００３１】上記のように構成されたペリクル剥離装置
においては、レバー４０を引いて可動爪３８を引っ込ま
せた状態でペリクル付きのガラスフォトマスク１を容器
３１上にセットする。この後、図７に示すように、レバ
ー４０を戻して可動爪３８と固定爪３７との間にペリク
ルフレーム６の側面部を把持させる。 【００３２】一方、ヒータ３２により温水３４を加熱し
て、容器本体３１内に水蒸気を発生させる。この水蒸気
は、吹出口３６ａ，３６ｂから吹き出し、ペリクル５の
ガラスフォトマスク１との接着部に接触する。これによ
り、粘着剤の粘着力が低下し、ガラスフォトマスク１を
引き離すことによりペリクル５が容易に剥離させる。こ
のとき、ペリクルフレーム６の側面部が把持されている
ので、ガラスフォトマスク１に傷が付くのが防止され
る。 【００３３】上記装置によるペリクル剥離実験では、接
着強度１２０７ｇ／ｉｎｃｈのアクリル系粘着剤の場
合、水蒸気への暴露時間１分で容易に剥離可能となり、
接着強度１８１０ｇ／ｉｎｃｈのアクリル系粘着剤の場
合、水蒸気への暴露時間３分で容易に剥離可能となっ
た。 【００３４】なお、フォトマスクはガラスフォトマスク
に限定されるものではなく、またレチクル，マスターマ
スクのいずれでもよい。さらに、液晶用ペリクル付きフ
ォトマスクにもこの発明は適用できる。 【００３５】 【発明の効果】以上説明したように、この発明のペリク
ル剥離方法は、ペリクルのフォトマスクへの接着部を、
高温の水蒸気にさらし、接着部に設けられた粘着剤の粘
着力を低下させるようにしたので、フォトマスクを傷付
けずにペリクルを容易に剥離させることができ、かつ人
体への悪影響が生じるのを防止するとともに、粘着剤が
フォトマスクに付着するのを防止することができ、また
ペリクルに付着した異物がフォトマスクに付着するのを
防止することができるなどの効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】 参考例１のペリクル剥離方法を示す断面図で
ある。 【図２】 ペリクル剥離時間温度依存性についての実験
結果を示す水温と浸漬時間との関係図である。 【図３】 この発明の実施例１のペリクル剥離方法を示
す断面図である。 【図４】 この発明の実施例２のペリクル剥離装置の概
略の断面図である。 【図５】 この発明の実施例３のペリクル剥離装置の概
略の断面図である。 【図６】 この発明の実施例４のペリクル剥離装置を示
す平面図である。 【図７】 図６の装置の使用状態を示す断面図である。 【図８】 従来の半導体装置の写真製版工程を示す概略
の説明図である。 【図９】 図８のガラスフォトマスクにペリクルを付け
た場合を示す説明図である。 【図１０】 従来のペリクル剥離方法の一例を示す断面
図である。 【図１１】 従来のペリクル剥離方法の他の例を示す断
面図である。 【符号の説明】 １ フォトマスク、５ ペリクル。
ある。 【図２】 ペリクル剥離時間温度依存性についての実験
結果を示す水温と浸漬時間との関係図である。 【図３】 この発明の実施例１のペリクル剥離方法を示
す断面図である。 【図４】 この発明の実施例２のペリクル剥離装置の概
略の断面図である。 【図５】 この発明の実施例３のペリクル剥離装置の概
略の断面図である。 【図６】 この発明の実施例４のペリクル剥離装置を示
す平面図である。 【図７】 図６の装置の使用状態を示す断面図である。 【図８】 従来の半導体装置の写真製版工程を示す概略
の説明図である。 【図９】 図８のガラスフォトマスクにペリクルを付け
た場合を示す説明図である。 【図１０】 従来のペリクル剥離方法の一例を示す断面
図である。 【図１１】 従来のペリクル剥離方法の他の例を示す断
面図である。 【符号の説明】 １ フォトマスク、５ ペリクル。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 和田 茂
伊丹市瑞原４丁目１番地 三菱電機株式
会社 北伊丹製作所内
(72)発明者 楠瀬 治彦
伊丹市瑞原４丁目１番地 三菱電機株式
会社 北伊丹製作所内
(56)参考文献 特開 平３−119356（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−175358（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−304439（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−175356（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03F 1/00 - 1/16
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 ペリクルのフォトマスクへの接着部を高
温の水蒸気にさらし、上記接着部に設けられた粘着剤の
粘着力を低下させた後、上記ペリクルを上記フォトマス
クから剥離させることを特徴とするペリクル剥離方法。
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|---|---|---|---|
| JP29301794A JP3408000B2 (ja) | 1994-11-28 | 1994-11-28 | ペリクル剥離方法 |
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|---|---|---|---|
| JP29301794A JP3408000B2 (ja) | 1994-11-28 | 1994-11-28 | ペリクル剥離方法 |
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-
1995
- 1995-11-22 US US08/561,065 patent/US5772842A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-28 KR KR1019950044327A patent/KR100205196B1/ko not_active IP Right Cessation
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