JPH0954424A - ペリクルのフォトマスクへの貼着構造 - Google Patents
ペリクルのフォトマスクへの貼着構造Info
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- JPH0954424A JPH0954424A JP22858095A JP22858095A JPH0954424A JP H0954424 A JPH0954424 A JP H0954424A JP 22858095 A JP22858095 A JP 22858095A JP 22858095 A JP22858095 A JP 22858095A JP H0954424 A JPH0954424 A JP H0954424A
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 ペリクルフレームの一端面にペリクル膜
を張設したペリクルの上記フレーム他端面を粘着剤層を
介してフォトマスクに貼着してなるペリクルのフォトマ
スクへの貼着構造において、上記粘着剤層に外方に突出
する粘着剤層抜き取り用把持部を突設したことを特徴と
するペリクルのフォトマスクへの貼着構造。 【効果】 本発明によれば、ペリクルをフォトマスクか
らフォトマスクを傷付けたり汚染することなく容易に除
去することができる。
を張設したペリクルの上記フレーム他端面を粘着剤層を
介してフォトマスクに貼着してなるペリクルのフォトマ
スクへの貼着構造において、上記粘着剤層に外方に突出
する粘着剤層抜き取り用把持部を突設したことを特徴と
するペリクルのフォトマスクへの貼着構造。 【効果】 本発明によれば、ペリクルをフォトマスクか
らフォトマスクを傷付けたり汚染することなく容易に除
去することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ペリクルを粘着剤
層を介してフォトマスクに貼着してある貼着構造におい
て、使用済みのペリクルをフォトマスクから容易に除去
（取りはずし）することを可能としたペリクルのフォト
マスクへの貼着構造に関する。
層を介してフォトマスクに貼着してある貼着構造におい
て、使用済みのペリクルをフォトマスクから容易に除去
（取りはずし）することを可能としたペリクルのフォト
マスクへの貼着構造に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
半導体デバイス及び液晶用デバイスは、高密度化、高集
積化され、それに伴ってパターンの微細化が進行してい
る。その結果、このリソグラフィー工程で用いられるフ
ォトマスク又はレチクルにはますます高レベルの清浄性
が要求され、微細な異物（ゴミ）も転写パターンの欠陥
になるおそれがあり、フォトマスクやレチクルにペリク
ルを装着して異物の付着を防止することが広く行われて
いる。
半導体デバイス及び液晶用デバイスは、高密度化、高集
積化され、それに伴ってパターンの微細化が進行してい
る。その結果、このリソグラフィー工程で用いられるフ
ォトマスク又はレチクルにはますます高レベルの清浄性
が要求され、微細な異物（ゴミ）も転写パターンの欠陥
になるおそれがあり、フォトマスクやレチクルにペリク
ルを装着して異物の付着を防止することが広く行われて
いる。
【０００３】ペリクルは高さが５ｍｍ程度の金属フレー
ムの片面に透明な薄膜（ペリクル膜）を張設したもの
で、これをフォトマスクに装着すると、透明薄膜とフォ
トマスク面との距離だけ露光時の焦点がずれるので、透
明薄膜上に比較的大きな異物が付着してもレジスト上に
異物が転写されないという効果がある。
ムの片面に透明な薄膜（ペリクル膜）を張設したもの
で、これをフォトマスクに装着すると、透明薄膜とフォ
トマスク面との距離だけ露光時の焦点がずれるので、透
明薄膜上に比較的大きな異物が付着してもレジスト上に
異物が転写されないという効果がある。
【０００４】このペリクルはペリクル膜が張設されてい
ない方の端面に粘着剤層を形成し、この粘着剤層を介し
てフォトマスクに貼り付け、使用するものであるが、ペ
リクル使用後において、ペリクル膜の汚れがひどくなっ
たり、ペリクル膜が破損したり等した場合は、ペリクル
をフォトマスクから除去する（取り去る）必要がある。
ない方の端面に粘着剤層を形成し、この粘着剤層を介し
てフォトマスクに貼り付け、使用するものであるが、ペ
リクル使用後において、ペリクル膜の汚れがひどくなっ
たり、ペリクル膜が破損したり等した場合は、ペリクル
をフォトマスクから除去する（取り去る）必要がある。
【０００５】従来、フォトマスクよりペリクルを除去す
る方法としては、フレームの側面に設けた治具用くぼみ
に剥離用治具のピンを差し込み、治具を傾けて、てこの
原理で剥離する方法、フォトマスクとペリクルとの間に
くさび状の治具を差し込んでペリクルをフォトマスクか
ら剥離する方法、ペリクルの周囲に溶剤を流してペリク
ルの粘着剤層を膨潤させて粘着力を低下させた後、くさ
び状の治具を用いてペリクルをフォトマスクから剥離す
る方法が採用されている。
る方法としては、フレームの側面に設けた治具用くぼみ
に剥離用治具のピンを差し込み、治具を傾けて、てこの
原理で剥離する方法、フォトマスクとペリクルとの間に
くさび状の治具を差し込んでペリクルをフォトマスクか
ら剥離する方法、ペリクルの周囲に溶剤を流してペリク
ルの粘着剤層を膨潤させて粘着力を低下させた後、くさ
び状の治具を用いてペリクルをフォトマスクから剥離す
る方法が採用されている。
【０００６】しかし、これらの方法はフォトマスク自身
に傷が付き易く、またフォトマスク自身が汚染されて洗
浄等の後処理に多大の労力を要するという問題がある。
に傷が付き易く、またフォトマスク自身が汚染されて洗
浄等の後処理に多大の労力を要するという問題がある。
【０００７】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、フォトマスクからペリクルを容易に、しかもフォト
マスク自身を傷付けたり汚染したりすることなく除去す
ることが可能なペリクルのフォトマスクへの貼着構造を
提供することを目的とする。
で、フォトマスクからペリクルを容易に、しかもフォト
マスク自身を傷付けたり汚染したりすることなく除去す
ることが可能なペリクルのフォトマスクへの貼着構造を
提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、ペリクルフレームの一端面にペリクル膜を
張設したペリクルの上記フレーム他端面を粘着剤層を介
してフォトマスクに貼着してなるペリクルのフォトマス
クへの貼着構造において、上記粘着剤層に外方に突出す
る粘着剤層抜き取り用把持部を突設したことを特徴とす
るペリクルのフォトマスクへの貼着構造を提供する。
成するため、ペリクルフレームの一端面にペリクル膜を
張設したペリクルの上記フレーム他端面を粘着剤層を介
してフォトマスクに貼着してなるペリクルのフォトマス
クへの貼着構造において、上記粘着剤層に外方に突出す
る粘着剤層抜き取り用把持部を突設したことを特徴とす
るペリクルのフォトマスクへの貼着構造を提供する。
【０００９】この場合、上記把持部は上記粘着剤層と同
材質によりこの粘着剤と一体に形成することが好まし
い。また粘着剤層の材質としては、シリコーン粘着剤を
用いることが好ましい。シリコーン粘着剤は、一般的な
粘着剤であるアクリル系粘着剤やゴム系粘着剤に比べ
て、引き伸ばしても切断しにくく、更にフォトマスクか
ら粘着剤を剥離した後にフォトマスクに粘着剤の残留物
が残りにくいという特徴がある。
材質によりこの粘着剤と一体に形成することが好まし
い。また粘着剤層の材質としては、シリコーン粘着剤を
用いることが好ましい。シリコーン粘着剤は、一般的な
粘着剤であるアクリル系粘着剤やゴム系粘着剤に比べ
て、引き伸ばしても切断しにくく、更にフォトマスクか
ら粘着剤を剥離した後にフォトマスクに粘着剤の残留物
が残りにくいという特徴がある。
【００１０】本発明によれば、ペリクルを除去する場
合、上記把持部を手、ピンセット、ペンチなどで把みこ
れを引張ることにより、粘着剤層がペリクル、フォトマ
スク間から連続的に引き出され、抜き取り、剥離するも
ので、これによりフォトマスクからペリクルが容易に分
離除去される。
合、上記把持部を手、ピンセット、ペンチなどで把みこ
れを引張ることにより、粘着剤層がペリクル、フォトマ
スク間から連続的に引き出され、抜き取り、剥離するも
ので、これによりフォトマスクからペリクルが容易に分
離除去される。
【００１１】このように、本発明においては、粘着剤層
を把持部から引き出し、抜き取るように剥離するので、
フォトマスクを傷付けたり、汚したりすることなく簡単
かつ確実にフォトマスクからペリクルを除去することが
できる。
を把持部から引き出し、抜き取るように剥離するので、
フォトマスクを傷付けたり、汚したりすることなく簡単
かつ確実にフォトマスクからペリクルを除去することが
できる。
【００１２】
【発明の実施の形態及び実施例】以下、本発明の一実施
例につき図面を参照して説明すると、本発明におけるペ
リクルのフォトマスクへの貼着構造は、ペリクルフレー
ム２の一端面にペリクル膜３が張設され、他端面に粘着
剤層４が形成されたペリクル１の上記粘着剤層４の粘着
力でフォトマスク５に貼着されたものであり、この場
合、本発明においては、上記粘着剤層４に粘着剤層抜き
取り用把持部６を外方に突出した状態で突設したもので
ある。
例につき図面を参照して説明すると、本発明におけるペ
リクルのフォトマスクへの貼着構造は、ペリクルフレー
ム２の一端面にペリクル膜３が張設され、他端面に粘着
剤層４が形成されたペリクル１の上記粘着剤層４の粘着
力でフォトマスク５に貼着されたものであり、この場
合、本発明においては、上記粘着剤層４に粘着剤層抜き
取り用把持部６を外方に突出した状態で突設したもので
ある。
【００１３】ここで、ペリクルフレームの材質としては
一般にアルミニウムが用いられ、フォトマスクの材質と
しては一般に合成石英等のガラスが用いられる。また粘
着剤層の材質としては、シリコーン粘着剤が引き出し性
も良好で途中で切断が発生しにくいために好ましい。な
お、粘着剤層の粘着力は上記ペリクルフレームに対して
５〜１０ｋｇ／ｃｍ2で、上記フォトマスクに対して１
〜３ｋｇ／ｃｍ2が好適である。ペリクルフレームに対
する粘着剤層の粘着力が、フォトマスクに対する粘着力
より低くなると、ペリクルを剥離した際、粘着剤層がフ
ォトマスクに残存するので好ましくない。
一般にアルミニウムが用いられ、フォトマスクの材質と
しては一般に合成石英等のガラスが用いられる。また粘
着剤層の材質としては、シリコーン粘着剤が引き出し性
も良好で途中で切断が発生しにくいために好ましい。な
お、粘着剤層の粘着力は上記ペリクルフレームに対して
５〜１０ｋｇ／ｃｍ2で、上記フォトマスクに対して１
〜３ｋｇ／ｃｍ2が好適である。ペリクルフレームに対
する粘着剤層の粘着力が、フォトマスクに対する粘着力
より低くなると、ペリクルを剥離した際、粘着剤層がフ
ォトマスクに残存するので好ましくない。
【００１４】上記把持部は、上記粘着剤層に突設される
が、この把持部は手、ピンセット、ペンチなどの工具を
用いて把むものであり、そのサイズはかかる把持効果を
有する限り特に制限されないが、ペリクル収納容器のス
ペース、レチクルに貼り付けた後の大きさ、更に粘着剤
層抜き取り時の強度を考慮すると、幅２〜５ｍｍ、長さ
２〜５ｍｍ、厚さ０．５〜１ｍｍ程度とすることが好ま
しく、またその形状は四角形状が強度の点から好まし
い。
が、この把持部は手、ピンセット、ペンチなどの工具を
用いて把むものであり、そのサイズはかかる把持効果を
有する限り特に制限されないが、ペリクル収納容器のス
ペース、レチクルに貼り付けた後の大きさ、更に粘着剤
層抜き取り時の強度を考慮すると、幅２〜５ｍｍ、長さ
２〜５ｍｍ、厚さ０．５〜１ｍｍ程度とすることが好ま
しく、またその形状は四角形状が強度の点から好まし
い。
【００１５】上記把持部の形成場所に特に制限はない
が、収納時や使用時のスペースなどの点から粘着剤層の
コーナー部が好ましく、またその形成個数も限定されな
いが、通常は１個で十分である。
が、収納時や使用時のスペースなどの点から粘着剤層の
コーナー部が好ましく、またその形成個数も限定されな
いが、通常は１個で十分である。
【００１６】上記把持部の材質は、粘着剤層のそれと異
なっていても良いが、粘着剤層と同じ材質にすれば、製
造も容易でかつ粘着剤層との接着力も高く、特に粘着剤
層と一体に突設形成することがかかる点から推奨され
る。即ち、把持部は、粘着剤層と別個に作成し、その後
この把持部を粘着剤層に接合するようにしてもよいが、
粘着剤層の形成時に把持部も同時に成形することが好ま
しいものである。
なっていても良いが、粘着剤層と同じ材質にすれば、製
造も容易でかつ粘着剤層との接着力も高く、特に粘着剤
層と一体に突設形成することがかかる点から推奨され
る。即ち、把持部は、粘着剤層と別個に作成し、その後
この把持部を粘着剤層に接合するようにしてもよいが、
粘着剤層の形成時に把持部も同時に成形することが好ま
しいものである。
【００１７】上記のようにペリクルがフォトマスクに貼
着された状態において、ペリクルを除去する場合は、上
記把持部を手やピンセット、ペンチ等の適宜な工具で把
んでこれを粘着剤層のペリクル、フォトマスクへの粘着
力より大きい力で外方に引張るもので、これにより粘着
剤層は連続的にペリクル、フォトマスクから剥離して引
き出され、やがて完全に引き出されてフォトマスクとペ
リクルとが容易に分離するものである。この場合、シリ
コーン粘着剤を用いることにより、粘着剤残りもなく、
スムーズに粘着剤層が抜き取られる。なお万一、粘着剤
層がその引き出し時に破断した場合、破断端部を把持部
として引き出しを続ければよい。
着された状態において、ペリクルを除去する場合は、上
記把持部を手やピンセット、ペンチ等の適宜な工具で把
んでこれを粘着剤層のペリクル、フォトマスクへの粘着
力より大きい力で外方に引張るもので、これにより粘着
剤層は連続的にペリクル、フォトマスクから剥離して引
き出され、やがて完全に引き出されてフォトマスクとペ
リクルとが容易に分離するものである。この場合、シリ
コーン粘着剤を用いることにより、粘着剤残りもなく、
スムーズに粘着剤層が抜き取られる。なお万一、粘着剤
層がその引き出し時に破断した場合、破断端部を把持部
として引き出しを続ければよい。
【００１８】次に実験例を示す。
【００１９】〔実験例〕ペリクルフレームとして、外寸
が１２２ｍｍ×１４９ｍｍで、幅２．０ｍｍ、高さ５．
８ｍｍの四角形アルミフレームを用いた。このペリクル
フレームの一端面に、ペリクル膜を形成すると共に、他
端面にシリコーン粘着剤（信越化学社製）の０．５ｍｍ
の層を形成し、かつこのコーナー部に幅２．０ｍｍ、長
さ４．０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの同シリコーン粘着剤よ
りなる把持部を一体に形成した。
が１２２ｍｍ×１４９ｍｍで、幅２．０ｍｍ、高さ５．
８ｍｍの四角形アルミフレームを用いた。このペリクル
フレームの一端面に、ペリクル膜を形成すると共に、他
端面にシリコーン粘着剤（信越化学社製）の０．５ｍｍ
の層を形成し、かつこのコーナー部に幅２．０ｍｍ、長
さ４．０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの同シリコーン粘着剤よ
りなる把持部を一体に形成した。
【００２０】次にこのペリクルを合成石英製フォトマス
クに１５ｋｇ荷重で３分間圧着して貼り付けた。この場
合、シリコーン粘着剤のペリクルフレームに対する粘着
力は６ｋｇ／ｃｍ2であり、フォトマスクへの粘着力は
２ｋｇ／ｃｍ2であった。
クに１５ｋｇ荷重で３分間圧着して貼り付けた。この場
合、シリコーン粘着剤のペリクルフレームに対する粘着
力は６ｋｇ／ｃｍ2であり、フォトマスクへの粘着力は
２ｋｇ／ｃｍ2であった。
【００２１】このようにフォトマスクに貼着されたペリ
クルをフォトマスクから除去するため、把持部をピンセ
ットで把み、外方に引張って、粘着剤を引き出した。そ
の結果、粘着剤層を途中で破断することなく容易にペリ
クルとフォトマスクとの間から抜き出すことができ、フ
ォトマスクを傷付けたり、汚染したりすることなくフォ
トマスクよりペリクルを除去することができた。
クルをフォトマスクから除去するため、把持部をピンセ
ットで把み、外方に引張って、粘着剤を引き出した。そ
の結果、粘着剤層を途中で破断することなく容易にペリ
クルとフォトマスクとの間から抜き出すことができ、フ
ォトマスクを傷付けたり、汚染したりすることなくフォ
トマスクよりペリクルを除去することができた。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、ペリクルをフォトマス
クからフォトマスクを傷付けたり汚染することなく容易
に除去することができる。
クからフォトマスクを傷付けたり汚染することなく容易
に除去することができる。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図である。
１ ペリクル ２ ペリクルフレーム ３ ペリクル膜 ４ 粘着剤層 ５ フォトマスク ６ 把持部
Claims (3)
- 【請求項１】 ペリクルフレームの一端面にペリクル膜
を張設したペリクルの上記フレーム他端面を粘着剤層を
介してフォトマスクに貼着してなるペリクルのフォトマ
スクへの貼着構造において、上記粘着剤層に外方に突出
する粘着剤層抜き取り用把持部を突設したことを特徴と
するペリクルのフォトマスクへの貼着構造。 - 【請求項２】 上記把持部が上記粘着剤層と同材質によ
りこの粘着剤層と一体に形成された請求項１記載の貼着
構造。 - 【請求項３】 粘着剤層がシリコーン粘着剤により形成
された請求項１又は２記載の貼着構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22858095A JP3427241B2 (ja) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | ペリクルのフォトマスクへの貼着構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22858095A JP3427241B2 (ja) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | ペリクルのフォトマスクへの貼着構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0954424A true JPH0954424A (ja) | 1997-02-25 |
| JP3427241B2 JP3427241B2 (ja) | 2003-07-14 |
Family
ID=16878597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22858095A Expired - Fee Related JP3427241B2 (ja) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | ペリクルのフォトマスクへの貼着構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3427241B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007298870A (ja) * | 2006-05-02 | 2007-11-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル剥離治具 |
| US7488560B2 (en) | 2004-11-24 | 2009-02-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Large pellicle |
-
1995
- 1995-08-14 JP JP22858095A patent/JP3427241B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7488560B2 (en) | 2004-11-24 | 2009-02-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Large pellicle |
| JP2007298870A (ja) * | 2006-05-02 | 2007-11-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル剥離治具 |
| JP4664859B2 (ja) * | 2006-05-02 | 2011-04-06 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル剥離治具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3427241B2 (ja) | 2003-07-14 |
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