JP2006301525A - ペリクルフレーム - Google Patents
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Abstract
【課題】 フォトマスクへの貼付後に剥離が容易なペリクルフレーム、及びそのペリクルフレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 フレームの長辺の長さが500mm以上の大型ペリクルにおいて、コーナー部12より50mm以内の外側面に少なくとも1箇所の凹み部13を設けたことを特徴とするペリクルフレームである。
また、凹み部13はペリクルフレーム11の外側面全体で5箇所以上配置されていること、凹み部13は直径1.0mm以上3.0mm以下、深さ0.5mm以上でかつ非貫通の丸穴であること、がそれぞれ好ましい。
そして、このようなペリクルフレームを使用してペリクルを構成する。
【選択図】 図1
【解決手段】 フレームの長辺の長さが500mm以上の大型ペリクルにおいて、コーナー部12より50mm以内の外側面に少なくとも1箇所の凹み部13を設けたことを特徴とするペリクルフレームである。
また、凹み部13はペリクルフレーム11の外側面全体で5箇所以上配置されていること、凹み部13は直径1.0mm以上3.0mm以下、深さ0.5mm以上でかつ非貫通の丸穴であること、がそれぞれ好ましい。
そして、このようなペリクルフレームを使用してペリクルを構成する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体デバイス、プリント基板あるいは液晶ディスプレイ等を製造する際のゴミよけとして使用されるリソグラフィー用ペリクル、特には液晶ディスプレイ製造に用いられる大型のペリクルに関するものである。
LSIなどの半導体デバイス或いは液晶ディスプレイなどの製造においては、半導体ウエハー或いは液晶用ガラス原板に光を照射してパターンを作製するが、この時に用いるフォトマスクあるいはレチクル(以下、単にフォトマスクという)にゴミが付着していると、このゴミが光を遮ったり、曲げたりしてしまうために、転写したパターンが損なわれるという問題があった。
このため、これらの作業は通常クリーンルーム内で行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことは難しい。そこで、フォトマスク表面にゴミよけとして、ペリクルを貼付する方法が採られている。
このため、これらの作業は通常クリーンルーム内で行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことは難しい。そこで、フォトマスク表面にゴミよけとして、ペリクルを貼付する方法が採られている。
この場合、異物はフォトマスクの表面上には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。
このペリクルは、通常光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロースあるいはフッ素系樹脂などからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリクルフレームの上端面にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する(特許文献1参照)か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の接着剤で接着し(特許文献2、特許文献3参照)、更に、ペリクルフレームの下端には、フォトマスクに装着するためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的とした離型層(セパレータ)が設けられる。
このペリクルは、通常光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロースあるいはフッ素系樹脂などからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリクルフレームの上端面にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する(特許文献1参照)か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の接着剤で接着し(特許文献2、特許文献3参照)、更に、ペリクルフレームの下端には、フォトマスクに装着するためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的とした離型層(セパレータ)が設けられる。
また、ペリクルをフォトマスクに貼り付けた状態において、ペリクル内部に囲まれた空間と外部との気圧差をなくすことを目的として、ペリクルフレームの一部に気圧調整用の小孔を開け、小孔を通じて移動する空気からの異物侵入を防ぐためのフィルターが設置されることもある(特許文献4参照)。
ペリクルを製造する際には、組立や搬送のためにペリクルフレームを保持する必要があるが、図6に示すように、一般的にはペリクルフレームの外側面に溝や凹み部63を設け、ここにピン等を挿入して保持することが行われている。一般的には、凹み部は対向した2辺に各2箇所ずつ、計4箇所設けられる。このとき、この凹み部63は、ピン等でペリクルフレームを保持した際に上下方向の撓みが出にくいよう、コーナー部62よりフレーム辺長の20〜30%程度離れた位置に設けられることが多い。
ペリクルを製造する際には、組立や搬送のためにペリクルフレームを保持する必要があるが、図6に示すように、一般的にはペリクルフレームの外側面に溝や凹み部63を設け、ここにピン等を挿入して保持することが行われている。一般的には、凹み部は対向した2辺に各2箇所ずつ、計4箇所設けられる。このとき、この凹み部63は、ピン等でペリクルフレームを保持した際に上下方向の撓みが出にくいよう、コーナー部62よりフレーム辺長の20〜30%程度離れた位置に設けられることが多い。
フォトマスクに貼付した後のペリクルは、何らかの理由で貼替えが必要になれば剥離しなければならない。その際には、マスク粘着層に板状の冶具を差し込んでフレームを持ち上げ剥離する方法、あるいは図5(a)、(b)に示すように、上記したペリクルフレーム外側面に設けられた凹み部52に、ピン状の冶具54を差し込んで梃子の原理でペリクルフレーム51を持ち上げて剥離する方法等が行われている。
マスク粘着層に板状の冶具を差し込む場合、ペリクルフレームの全周に渡って差し込みが可能なため、剥離しやすい端の方から順々に剥離していけるという利点があるが、フォトマスクに傷をつけてしまう恐れがあり必ずしも好ましいものとはいえない。
マスク粘着層に板状の冶具を差し込む場合、ペリクルフレームの全周に渡って差し込みが可能なため、剥離しやすい端の方から順々に剥離していけるという利点があるが、フォトマスクに傷をつけてしまう恐れがあり必ずしも好ましいものとはいえない。
一方、ペリクルフレーム外側面に設けられた凹み部にピン状の冶具を差し込む方法では、そのような危険は小さい。しかしながら、この凹み部は、上記のように、一般的には4箇所しかなく、また、位置も剥離に使用することを考慮した位置にはなっていない。そのため、辺長が500mmを超えるような大型のペリクルの場合、一度に剥離させる面積が大きいため、剥離に要する力が極めて大きくなるという不都合がある。
また、剥離冶具でペリクルフレームを引き上げている間は、ペリクルフレームが撓み、ピン周辺のある範囲で剥離して浮き上がるものの、剥離冶具を取り外すとペリクルフレームはほとんど元の位置に戻ってしまい、大部分が再び接着してしまう。その結果、ペリクル全体を剥離することが非常に難しいという問題があった。
また、剥離冶具でペリクルフレームを引き上げている間は、ペリクルフレームが撓み、ピン周辺のある範囲で剥離して浮き上がるものの、剥離冶具を取り外すとペリクルフレームはほとんど元の位置に戻ってしまい、大部分が再び接着してしまう。その結果、ペリクル全体を剥離することが非常に難しいという問題があった。
本発明は上記のような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、フォトマスクへの貼付後に剥離が容易な大型のペリクルフレーム、及びそのペリクルフレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクルを提供することにある。
上記課題を解決するための本発明は、フレームの長辺の長さが500mm以上の大型ペリクルにおいて、コーナー部より50mm以内の外側面に少なくとも1箇所の凹み部を設けたことを特徴とするペリクルフレームである。
また、凹み部はペリクルフレームの外側面全体で5箇所以上配置されていること、凹み部は直径1.0mm以上3.0mm以下、深さ0.5mm以上でかつ非貫通の丸穴であること、がそれぞれ好ましい。
そして、このようなペリクルフレームを使用してペリクルを構成する。
また、凹み部はペリクルフレームの外側面全体で5箇所以上配置されていること、凹み部は直径1.0mm以上3.0mm以下、深さ0.5mm以上でかつ非貫通の丸穴であること、がそれぞれ好ましい。
そして、このようなペリクルフレームを使用してペリクルを構成する。
本発明によれば、長辺の長さが500mmを超える大型のペリクルにおいても、コーナー部より50mm以内の位置に凹み部を設けたことで、フォトマスク基板から剥離する際には、コーナー部である端の方から剥離を進めることができるので、剥離に要する力を小さくすることができ、また、コーナー部近傍のペリクルフレームがコーナー部周辺から内側にかけて、上反りに塑性変形して再接着しにくくなり、剥離が極めて容易となる。また、コーナー部近傍以外に配置された凹み部を利用すれば、辺長が700mmを超えるような特に大型のペリクルについても一部分づつ剥離を進めることができるため、容易に剥離することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
図1は、本発明によるペリクルフレームの一実施の形態を示す説明図、図2は、本発明によるペリクルフレームをガラス基板より剥離した状態を示す概略説明図、図3は、本発明によるペリクルフレームに設けた凹み部を示す説明断面図、図4(a)は、本発明によるペリクルフレームの他の実施の形態を示す説明図、図4(b)は、本発明によるペリクルフレームのさらに別の実施の形態を示す説明図、図5は、剥離冶具によりペリクルを剥離する状態を示す概略説明図であって、図5(a)は剥離し始める状態、図5(b)は剥離が進行した状態を示す。
図1は、本発明によるペリクルフレームの一実施の形態を示す説明図、図2は、本発明によるペリクルフレームをガラス基板より剥離した状態を示す概略説明図、図3は、本発明によるペリクルフレームに設けた凹み部を示す説明断面図、図4(a)は、本発明によるペリクルフレームの他の実施の形態を示す説明図、図4(b)は、本発明によるペリクルフレームのさらに別の実施の形態を示す説明図、図5は、剥離冶具によりペリクルを剥離する状態を示す概略説明図であって、図5(a)は剥離し始める状態、図5(b)は剥離が進行した状態を示す。
図1において、ペリクルフレーム11の長辺に、コーナー部12の近傍50mm以内の部分に凹み部13を設けている。
そのため、この凹み部13にピン等の剥離冶具を挿入して剥離した場合、図2に示すように、コーナー部から剥離するため、剥離に要する力を小さくすることができ、さらには、ペリクルフレームがコーナー部付近で上方に塑性変形して再接着しにくくなるため、剥離が極めて容易となる。ただし、この凹み部13の位置はコーナー部12から50mm以内であることが必要で、これ以上離れると剥離に必要な剥離力が著しく増加するうえ、コーナー部を完全に剥離させることが難しくなり、所望の効果は得られない。
そのため、この凹み部13にピン等の剥離冶具を挿入して剥離した場合、図2に示すように、コーナー部から剥離するため、剥離に要する力を小さくすることができ、さらには、ペリクルフレームがコーナー部付近で上方に塑性変形して再接着しにくくなるため、剥離が極めて容易となる。ただし、この凹み部13の位置はコーナー部12から50mm以内であることが必要で、これ以上離れると剥離に必要な剥離力が著しく増加するうえ、コーナー部を完全に剥離させることが難しくなり、所望の効果は得られない。
従来、こういった凹み部は、保持を目的としたものとして対辺に2個ずつ、荷重がバランスすることに主眼をおいて位置決めされて、4箇所設けられるのが一般的であったが、本発明では、本来のペリクルフレームを保持する目的の凹み部に加えて、剥離を考慮した位置にこれを追加して配置するか、もしくは剥離を考慮した凹み部のみを配置することにより、より容易に剥離を行うことができるようになった。
さらに、このとき、凹み部は直径1.0mm以上3mm以下、深さ0.5mm以上で、かつ、非貫通の丸穴であることとすることが望ましい。従来の凹み部は、保持を主眼としていたので、保持具が係合すれば足り、直径も深さも必ずしも剥離治具に適合するものではなかった。
そして、このようなペリクルフレームを使用してペリクルを構成すれば、そのペリクルはフォトマスクからの剥離が非常に容易なものとなる。
さらに、このとき、凹み部は直径1.0mm以上3mm以下、深さ0.5mm以上で、かつ、非貫通の丸穴であることとすることが望ましい。従来の凹み部は、保持を主眼としていたので、保持具が係合すれば足り、直径も深さも必ずしも剥離治具に適合するものではなかった。
そして、このようなペリクルフレームを使用してペリクルを構成すれば、そのペリクルはフォトマスクからの剥離が非常に容易なものとなる。
この実施の形態では、凹み部13を長辺のコーナー部12の近傍に配置しているが、短辺に配置されていても良い。また、短辺と長辺の両方に配置されていても良い(図4(b))。さらには、ペリクルフレームを保持するために設けた凹み部と剥離に使用する凹み部を別に設けても良い(図4(a))。
図3は、この凹み部の望ましい形状を示した断面図であって、基本的に断面が円形となっている。円形のため加工が容易であるし、通常用いられる円形のピンとの嵌め合いも良い。また、保持あるいは剥離に用いるピンとの十分な嵌め合いを考慮すると、0.5mm以上の深さが好ましい。
図3は、この凹み部の望ましい形状を示した断面図であって、基本的に断面が円形となっている。円形のため加工が容易であるし、通常用いられる円形のピンとの嵌め合いも良い。また、保持あるいは剥離に用いるピンとの十分な嵌め合いを考慮すると、0.5mm以上の深さが好ましい。
直径は、1mm以上3mm以下、特には2〜2.5mmの範囲が好ましい。1mm以下では保持あるいは剥離に用いるピンの強度が維持でき難くなり易く、精度の良い保持および剥離に際して要求される強度を満足することができ難くなり易い。また、3mm以上ではペリクルフレームの欠損量が多くなり、使用時の強度に問題が出る恐れがある他、剥離時に凹み部の周囲がめくれたり、欠けやすくなり剥離がしにくくなるという問題点があり得る。また、穴(凹み部)底部の形状は、図示のように、ドリル先端形状そのままとなっていても良いし、球面や平面等に仕上げられていても良い。
通常、この凹み部の大きさ・形状は、全箇所同じであれば加工が容易であるが、例えば、位置および用途によってピンの差し込みやすさを考慮して、個別に最適化されていても良い。
図4(a)は、他の実施の形態を示したものであるが、コーナー部22近傍の凹み部23の内側に複数の別の凹み部24を設けている。また、図4(b)では長辺だけでなく短辺にも(追加)凹み部34を設けている。このような形態であれば、辺長が700mmを超えるような特に大型のペリクルフレームに対しても、コーナー部から順番にピンを差し込み、徐々に剥離していくことができるため、フォトマスクからの剥離をより容易とすることができる。
図4(a)は、他の実施の形態を示したものであるが、コーナー部22近傍の凹み部23の内側に複数の別の凹み部24を設けている。また、図4(b)では長辺だけでなく短辺にも(追加)凹み部34を設けている。このような形態であれば、辺長が700mmを超えるような特に大型のペリクルフレームに対しても、コーナー部から順番にピンを差し込み、徐々に剥離していくことができるため、フォトマスクからの剥離をより容易とすることができる。
上記したように、本発明では、従来のペリクルフレームの下方向への撓みを考慮した位置よりもかなり外側、コーナー部近傍に凹み部を設けている。そのため、ピンでペリクルフレームを保持した際に、自重による下方向への撓みが懸念されるが、これらの実施形態で示したような4箇所以上の穴によりペリクルフレームを保持してこれを防止することもできるし、また、製造装置側において下側から支えを設ける、といった手段で容易にこれを補正することができる。
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
図1に示すような形状のアルミニウム合金製ペリクルフレーム11を機械加工により製作した。このペリクルフレーム11の形状は、外寸782×474mm、内寸768×456mm、高さ5mmの長方形とした。ここで、凹み部13は長辺側面のコーナー部12からそれぞれ36mmの位置に、相対する側面に合計4箇所配置し、その形状は、直径2.5mm深さ2.5mmの非貫通の丸穴とした。
図1に示すような形状のアルミニウム合金製ペリクルフレーム11を機械加工により製作した。このペリクルフレーム11の形状は、外寸782×474mm、内寸768×456mm、高さ5mmの長方形とした。ここで、凹み部13は長辺側面のコーナー部12からそれぞれ36mmの位置に、相対する側面に合計4箇所配置し、その形状は、直径2.5mm深さ2.5mmの非貫通の丸穴とした。
このペリクルフレームを洗浄、乾燥後、一方の端面にペリクル膜接着剤としてシリコーン粘着剤、他方の端面にマスク粘着剤としてシリコーン粘着剤(商品名KR120、信越化学工業(株)製)をトルエンで50%に希釈して塗布し、加熱によりキュアさせた。
さらに、フッ素系ポリマー(商品名サイトップ、旭硝子(株)製)をスピンコート法により800×920×厚さ8mmの長方形石英基板上に成膜し、基板外形と同形状の枠体に接着、剥離して得た厚さ約4μmのペリクル膜をこのペリクルフレームに貼付けた。そして、ペリクルフレーム周囲の不要な膜をカッターにて切断除去してペリクルとした。完成したペリクルの凹み部周辺の断面構造は、図3のようになっている。
さらに、フッ素系ポリマー(商品名サイトップ、旭硝子(株)製)をスピンコート法により800×920×厚さ8mmの長方形石英基板上に成膜し、基板外形と同形状の枠体に接着、剥離して得た厚さ約4μmのペリクル膜をこのペリクルフレームに貼付けた。そして、ペリクルフレーム周囲の不要な膜をカッターにて切断除去してペリクルとした。完成したペリクルの凹み部周辺の断面構造は、図3のようになっている。
図5(a)に示すように、この完成したペリクル51を520x800mmx厚さ8mmの平滑な石英ガラス基板53に120kgの荷重で貼り付けた後、剥離冶具54を凹み部52に差し込み、石英ガラス基板53からの剥離を試みた。
その結果、剥離冶具54の操作により、図2および図5(b)に示すような形でコーナー部を完全に剥離させることができ、4箇所の凹み部すべてについて剥離操作を行ったところ、ペリクルフレームの各辺の中央部だけが剥離せずに残っている状態となった。その後、ペリクルフレームを手で直接つかんでゆっくり上方へ引き上げたところ、石英ガラス基板から完全に引き剥がすことができた。
その結果、剥離冶具54の操作により、図2および図5(b)に示すような形でコーナー部を完全に剥離させることができ、4箇所の凹み部すべてについて剥離操作を行ったところ、ペリクルフレームの各辺の中央部だけが剥離せずに残っている状態となった。その後、ペリクルフレームを手で直接つかんでゆっくり上方へ引き上げたところ、石英ガラス基板から完全に引き剥がすことができた。
図4(a)に示すような形状のアルミニウム合金製ペリクルフレーム21を機械加工により製作した。このペリクルフレーム21の形状は、実施例1と同じく外寸782x474mm、内寸768x456mm、高さ5mmの長方形とした。ここで、凹み部は長辺側面のコーナー部22からそれぞれ36mmの位置に4箇所(23)、さらにコーナー部22からそれぞれ166mmの位置に4箇所(24)配置し、その形状は直径2.5mm深さ2.5mmの非貫通の丸穴とした。そして、このペリクルフレーム21を洗浄、乾燥後、上記実施例1と同一の工程にてペリクルに仕上げた。
この完成したペリクルを520x800mmx厚さ8mmの平滑な石英ガラス基板に120kgの荷重で貼り付けた後、コーナー部に近いところから、上記実施例1と同様にしてガラス基板からの剥離を試みた。その結果、剥離冶具54の操作により容易にペリクルフレームを持ち上げることができ、その後、隣り合う凹み部に順々にこの操作を進めていったところ、ペリクルフレーム全体が一度完全に剥離し、一部が再度接触してごく軽く接着している状態となった。その後、ペリクルフレームを手で直接つかんでゆっくり上方へ引き上げたところ、ガラス基板からきわめて容易に引き剥がすことができた。
図6に示すような形状のアルミニウム合金製ペリクルフレーム61を機械加工により製作した。このペリクルフレーム61の形状は、実施例1と同じく外寸782x474mm、内寸768x456mm、高さ5mmの長方形とした。ここで、凹み部63は長辺側面のコーナー部62からそれぞれ170mmの位置に4箇所配置し、その形状は直径2.5mm深さ2.5mmの非貫通の丸穴とした。そして、このペリクルフレーム61を洗浄、乾燥後、上記実施例1と同一の工程にてペリクルに仕上げた。
この完成したペリクルを上記実施例と同様にして石英ガラス基板に貼り付け、剥離を試みた。すると、剥離させるのに極めて大きな力が必要だったばかりか、図7に示すように凹み部63周辺のペリクルフレーム61がわずかに浮き上がって隙間65が生じただけで、凹み部63周辺の領域を除いて剥離することができなかった。そして、この冶具ではこれ以上ペリクルフレーム61を上方へ引き上げることができなくなり、それ以上剥離が進められない状態となってしまった。
本発明によれば、フォトマスクとペリクルとを剥離する必要が生じた場合に、容易に簡便に安全に、大きな力を要することなく剥離することができるので、ペリクルを用いるリソグラフィーの技術分野で、利用価値が極めて高いものとなる。
11 ペリクルフレーム
12 コーナー部
13 凹み部
14 マスク粘着層
15 石英ガラス基板
16 ペリクル膜
17 ペリクル膜接着層
21 ペリクルフレーム
22 コーナー部
23 (コーナー部近傍の)凹み部
24 (追加)凹み部
31 ペリクルフレーム
32 コーナー部
33 凹み部
34 凹み部
51 ペリクルフレーム
52 凹み部
53 石英ガラス基板
54 剥離冶具
55 マスク粘着層
61 ペリクルフレーム
62 コーナー部
63 凹み部
64 マスク粘着層
65 石英ガラス基板
66 (ペリクルフレームが剥離・変形してできた)隙間
12 コーナー部
13 凹み部
14 マスク粘着層
15 石英ガラス基板
16 ペリクル膜
17 ペリクル膜接着層
21 ペリクルフレーム
22 コーナー部
23 (コーナー部近傍の)凹み部
24 (追加)凹み部
31 ペリクルフレーム
32 コーナー部
33 凹み部
34 凹み部
51 ペリクルフレーム
52 凹み部
53 石英ガラス基板
54 剥離冶具
55 マスク粘着層
61 ペリクルフレーム
62 コーナー部
63 凹み部
64 マスク粘着層
65 石英ガラス基板
66 (ペリクルフレームが剥離・変形してできた)隙間
Claims (4)
- フレームの長辺の長さが500mm以上の大型ペリクルにおいて、コーナー部より50mm以内の外側面に少なくとも1箇所の凹み部を設けたことを特徴とするペリクルフレーム。
- フレームの長辺の長さが500mm以上の大型ペリクルにおいて、外側面全体で5箇所以上の凹み部が設けられていることを特徴とするペリクルフレーム。
- 凹み部は直径1.0mm以上3.0mm以下、深さ0.5mm以上でかつ非貫通の丸穴である請求項1または2に記載のペリクルフレーム。
- 請求項1ないし3に記載のペリクルフレームにより構成されたペリクル。
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