KR20010086455A - 유전체 자기 조성물의 제조방법 - Google Patents
유전체 자기 조성물의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20010086455A KR20010086455A KR1020017007054A KR20017007054A KR20010086455A KR 20010086455 A KR20010086455 A KR 20010086455A KR 1020017007054 A KR1020017007054 A KR 1020017007054A KR 20017007054 A KR20017007054 A KR 20017007054A KR 20010086455 A KR20010086455 A KR 20010086455A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- subcomponent
- powder
- mol
- dielectric ceramic
- moles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 152
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 110
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 230000008569 process Effects 0.000 title abstract description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 235
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims abstract description 57
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 36
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 68
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 28
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 13
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 12
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 9
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052789 astatine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 86
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 64
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 56
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 42
- 101100513612 Microdochium nivale MnCO gene Proteins 0.000 description 39
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 30
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 29
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 25
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 24
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 20
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 17
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 16
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 14
- 230000008859 change Effects 0.000 description 12
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 9
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- AYCPARAPKDAOEN-LJQANCHMSA-N N-[(1S)-2-(dimethylamino)-1-phenylethyl]-6,6-dimethyl-3-[(2-methyl-4-thieno[3,2-d]pyrimidinyl)amino]-1,4-dihydropyrrolo[3,4-c]pyrazole-5-carboxamide Chemical compound C1([C@H](NC(=O)N2C(C=3NN=C(NC=4C=5SC=CC=5N=C(C)N=4)C=3C2)(C)C)CN(C)C)=CC=CC=C1 AYCPARAPKDAOEN-LJQANCHMSA-N 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 6
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- -1 MgO-Y Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 4
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 3
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008135 aqueous vehicle Substances 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003232 water-soluble binding agent Substances 0.000 description 2
- VCGRFBXVSFAGGA-UHFFFAOYSA-N (1,1-dioxo-1,4-thiazinan-4-yl)-[6-[[3-(4-fluorophenyl)-5-methyl-1,2-oxazol-4-yl]methoxy]pyridin-3-yl]methanone Chemical compound CC=1ON=C(C=2C=CC(F)=CC=2)C=1COC(N=C1)=CC=C1C(=O)N1CCS(=O)(=O)CC1 VCGRFBXVSFAGGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVCQTKNUUQOELD-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-[1-(3-chloro-2-fluoroanilino)-6-methylisoquinolin-5-yl]thieno[3,2-d]pyrimidine-7-carboxamide Chemical compound N=1C=CC2=C(NC(=O)C=3C4=NC=NC(N)=C4SC=3)C(C)=CC=C2C=1NC1=CC=CC(Cl)=C1F KVCQTKNUUQOELD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYJRNFFLTBEQSQ-UHFFFAOYSA-N 8-(3-methyl-1-benzothiophen-5-yl)-N-(4-methylsulfonylpyridin-3-yl)quinoxalin-6-amine Chemical compound CS(=O)(=O)C1=C(C=NC=C1)NC=1C=C2N=CC=NC2=C(C=1)C=1C=CC2=C(C(=CS2)C)C=1 CYJRNFFLTBEQSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017493 Nd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010405 reoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- XGVXKJKTISMIOW-ZDUSSCGKSA-N simurosertib Chemical compound N1N=CC(C=2SC=3C(=O)NC(=NC=3C=2)[C@H]2N3CCC(CC3)C2)=C1C XGVXKJKTISMIOW-ZDUSSCGKSA-N 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- RBNWAMSGVWEHFP-UHFFFAOYSA-N trans-p-Menthane-1,8-diol Chemical compound CC(C)(O)C1CCC(C)(O)CC1 RBNWAMSGVWEHFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/468—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/468—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
- C04B35/4682—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates based on BaTiO3 perovskite phase
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
- H01G4/1209—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material
- H01G4/1218—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates
- H01G4/1227—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates based on alkaline earth titanates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
Description
Claims (22)
- 티탄산바륨으로 이루어지는 주성분과, 소결 조제인 제2부성분과, 그 밖의 부성분을 적어도 갖는 유전체 자기 조성물을 제조하는 방법에 있어서, 상기 제2부성분을 제외하고, 상기 주성분과, 그 밖의 부성분 중 적어도 일부를 혼합하여, 가소전 분체를 준비하는 공정과, 상기 가소전 분체를 가소하여 가소후 분체를 준비하는 공정과, 상기 가소후 분체에 상기 제2부성분을 적어도 혼합하여, 상기 주성분에 대한 각 부성분의 비율이 소정 몰비인 유전체 자기 조성물을 얻는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 주성분인 티탄산바륨이 조성식 BamTiO2+m으로 나타내고, 상기 조성식 중 m이 0.995 ≤m ≤1.010이고, Ba와 Ti의 비가 0.995 ≤Ba/Ti≤1.010이며, 상기 제2부성분이 SiO2를 주성분으로 하여, MO(단, M은 Ba, Ca, Sr 및 Mg 중에서 선택되는 적어도 1종의 원소), Li2O 및 B2O3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고, 상기 그 밖의 부성분이 MgO, CaO, BaO, SrO 및 Cr2O3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 제1부성분과, V2O5, MoO3및 WO3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 제3부성분과, R1 산화물(단, R1은 Sc, Er, Tm, Yb 및 Lu 중에서 선택되는 적어도 1종)을 포함하는 제4부성분을 적어도 갖고, 상기 가소후 분체에 상기 제2부성분을 적어도 혼합하여, 상기 주성분 100몰에 대한 각 부성분의 비율이 제1부성분: 0.1∼3몰, 제2부성분: 2∼10몰, 제3부성분: 0.01∼0.5몰, 제4부성분: 0.5∼7몰(단, 제4부성분의 몰수는 R1 단독에서의 비율이다)인 유전체 자기 조성물을 얻는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 2 항에 있어서, 상기 가소전 분체 중에 포함되는 성분의 몰비: (Ba+제1부성분의 금속원소)/(Ti+제4부성분의 금소원소)가 1 미만, 또는 (Ba+제4부성분의 금속원소)/(Ti+제1부성분의 금속원소)가 1을 초과하도록, 상기 가소전 분체를 준비하여, 가소를 행하는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제2부성분이 SiO2를 주성분으로 하여, MO(단, M은 Ba, Ca, Sr 및 Mg 중에서 선택되는 적어도 1종의 원소), Li2O 및 B2O3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하며, 상기 그 밖의 부성분이 MgO, CaO, BaO, SrO 및 Cr2O3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 제1부성분과, V2O5, MoO3및 WO3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 제3부성분과, R1 산화물(단, R1은 Sc, Er, Tm, Yb 및 Lu 중에서 선택되는 적어도 1종)을 포함하는 제4부성분과, R2 산화물(단, R2는 Y, Dy, Ho, Tb, Gd 및 Eu 중에서 선택되는 적어도 1종)을 포함하는 제5부성분을 적어도 갖고, 상기 가소후 분체에 상기 제2부성분을 적어도 혼합하여, 상기 주성분 100몰에 대한 각 부성분의 비율이 제1부성분: 0.1∼3몰, 제2부성분: 2∼10몰, 제3부성분: 0.01∼0.5몰, 제4부성분: 0.5∼7몰(단, 제4부성분의 몰수는 R1 단독에서의 비율이다), 제5부성분: 2∼9몰(단, 제5부성분의 몰수는 R2 단독에서의 비율이다)인 유전체 자기 조성물을 얻는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 가소전 분체 중에 포함되는 성분의 몰비: (Ba+제1부성분의 금속원소)/(Ti+제4부성분의 금속원소+제5부성분의 금속원소)가 1 미만, 또는 (Ba+제4부성분의 금속원소+제5부성분의 금속원소)/(Ti+제1부성분의 금속원소)가 1를 초과하도록, 상기 가소전 분체를 준비하여, 가소를 행하는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 제2부성분을 제외하고, 상기 주성분과, 상기 제1부성분, 제3부성분, 제4부성분 및 제5부성분 중 적어도 하나를 혼합하여, 가소전 분체를 준비할 때에는 가소전 분체에는 제5부성분을 반드시 포함시키는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 제2부성분을 제외하고, 상기 주성분과, 상기 제1부성분, 제3부성분, 제4부성분 및 제5부성분 중 적어도 하나를 혼합하여, 가소전 분체를 준비할 때에는 가소전 분체에는 제4부성분을 포함시키지 않는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 제2부성분을 제외하고, 상기 주성분과, 상기 제1부성분, 제3부성분, 제4부성분 및 제5부성분 중 적어도 하나를 혼합하여, 가소전 분체를 준비할 때에는 가소전 분체에는 제1부성분을 반드시 포함시키는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 가소전 분체 중에 포함되는 제1부성분의 몰수는 제4부성분 및 제5부성분의 합계 몰수(단, 제4부성분 및 제5부성분의 몰수는 각각 R1 단독 및 R2 단독에서의 비율이다) 보다도 작은 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 가소전 분체를 700∼1100℃의 온도에서 가소하는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 가소를 다수회 행하는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 티탄산바륨으로 이루어지는 주성분과, 소결 조제인 제2부성분과, CaZrO3또는 CaO+ZrO2를 포함하는 제6부성분과, 그 밖의 부성분을 적어도 갖는 유전체 자기 조성물을 제조하는 방법에 있어서, 상기 제2부성분을 제외하고, 상기 주성분에 대하여,상기 제6부성분 및 그 밖의 부성분 중 적어도 일부를 혼합하여, 가소전 분체를 준비하는 공정과, 상기 가소전 분체를 가소하여 가소후 분체를 준비하는 공정과, 상기 가소후 분체에 상기 제2부성분을 적어도 혼합하여, 상기 주성분에 대한 각 부성분의 비율이 소정 몰비인 유전체 자기 조성물을 얻는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 주성분인 티탄산바륨이 조성식 BamTiO2+m으로 나타내고, 상기 조성식 중 m이 0.995 ≤m ≤1.010이고, Ba와 Ti의 비가 0.995 ≤Ba/Ti≤1.010이며, 상기 제2부성분이 SiO2를 주성분으로 하여, MO(단, M은 Ba, Ca, Sr 및 Mg 중에서 선택되는 적어도 1종의 원소), Li2O 및 B2O3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고, 상기 그 밖의 부성분이 MgO, CaO, BaO, SrO 및 Cr2O3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 제1부성분과, V2O5, MoO3및 WO3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 제3부성분과, R1 산화물(단, R1은 Sc, Er, Tm, Yb 및 Lu 중에서 선택되는 적어도 1종)을 포함하는 제4부성분을 적어도 갖고, 상기 가소후 분체에 상기 제2부성분을 적어도 혼합하여, 상기 주성분 100몰에 대한 각 부성분의 비율이 제1부성분: 0.1∼3몰, 제2부성분: 2∼10몰, 제3부성분: 0.01∼0.5몰, 제4부성분: 0.5∼7몰(단, 제4부성분의 몰수는 R1 단독에서의 비율이다), 제6부성분: 0∼5몰(단, 0은 포함하지 않는다)인 유전체 자기 조성물을 얻는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 13 항에 있어서, 상기 가소전 분체 중에 포함되는 성분의 몰비: (Ba+Ca+제1부성분 중의 금속원소)/(Ti+Zr+R1)가 1 미만, 또는(Ba+Ca+R1)/(Ti+Zr+제1부성분 중의 금속원소)가 1을 초과하도록, 상기 가소전 분체를 준비하여, 가소를 행하는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 주성분인 티탄산바륨이 조성식 BamTiO2+m으로 나타내고, 상기 조성식 중 m이 0.995 ≤m ≤1.010이고, Ba와 Ti의 비가 0.995 ≤Ba/Ti≤1.010이며, 상기 제2부성분이 SiO2를 주성분으로 하여, MO(단, M은 Ba, Ca, Sr 및 Mg 중에서 선택되는 적어도 1종의 원소), Li2O 및 B2O3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고, 상기 그 밖의 부성분이 MgO, CaO, BaO, SrO 및 Cr2O3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 제1부성분과, V2O5, MoO3및 WO3중에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 제3부성분과, R1 산화물(단, R1은 Sc, Er, Tm, Yb 및 Lu 중에서 선택되는 적어도 1종)을 포함하는 제4부성분과, R2 산화물(단, R2는 Y, Dy, Ho, Tb, Gd 및 Eu 중에서 선택되는 적어도 1종)을 포함하는 제5부성분을 적어도 갖고, 상기 가소후 분체에 상기 제2부성분을 적어도 혼합하여, 상기 주성분 100몰에 대한 각 부성분의 비율이 제1부성분: 0.1∼3몰, 제2부성분: 2∼10몰, 제3부성분: 0.01∼0.5몰, 제4부성분: 0.5∼7몰(단, 제4부성분의 몰수는 R1 단독에서의 비율이다), 제5부성분: 2∼9몰(단, 제5부성분의 몰수는 R2 단독에서의 비율이다), 제6부성분: 0∼5몰(단, 0은 포함하지 않는다)인 유전체 자기 조성물을 얻는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 15 항에 있어서, 상기 가소전 분체 중에 포함되는 성분의 몰비: (Ba+Ca+제1부성분 중의 금속원소)/(Ti+Zr+R1+R2)가 1미만, 또는 (Ba+Ca+R1+R2)/(Ti+Zr+제1부성분 중의 금속원소)가 1을 초과하도록, 상기 가소전 분체를 준비하여, 가소를 행하는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 15 항에 있어서, 상기 제2부성분을 제외하고, 상기 주성분과, 상기 제1부성분, 제3부성분, 제4부성분, 제5부성분 및 제6부성분 중 적어도 하나를 혼합하여 가소전 분체를 준비할 때에는, 가소전 분체에는 제5부성분을 반드시 포함시키는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 15 항에 있어서, 상기 제2부성분을 제외하고, 상기 주성분과, 상기 제1부성분, 제3부성분, 제4부성분, 제5부성분 및 제6부성분 중 적어도 하나를 혼합하여 가소전 분체를 준비할 때에는, 가소전 분체에는 제1부성분을 반드시 포함시키는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 15 항에 있어서, 상기 제2부성분을 제외하고, 상기 주성분과, 상기 제1부성분, 제3부성분, 제4부성분, 제5부성분 및 제6부성분 중 적어도 하나를 혼합하여 가소전 분체를 준비할 때에는, 가소전 분체에는 제1부성분, 제4부성분 및 제5부성분을 반드시 포함시키는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 19 항에 있어서, 상기 가소전 분체 중에 포함되는 제1부성분의 몰수는 제4부성분 및 제5부성분의 합계 몰수(단, 제4부성분 및 제5부성분의 몰수는 각각 R1 단독 및 R2 단독에서의 비율이다) 보다도 작은 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 가소전 분체를 700∼l100℃ 온도에서 가소하는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 가소를 다수회 행하는 것을 특징으로 하는 유전체 자기 조성물의 제조방법.
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28459199 | 1999-10-05 | ||
JP1999-284591 | 1999-10-05 | ||
JP34215299 | 1999-12-01 | ||
JP1999-342152 | 1999-12-01 | ||
JP2000-252586 | 2000-08-23 | ||
JP2000252586A JP3340722B2 (ja) | 1999-10-05 | 2000-08-23 | 誘電体磁器組成物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010086455A true KR20010086455A (ko) | 2001-09-12 |
KR100428962B1 KR100428962B1 (ko) | 2004-04-29 |
Family
ID=27337104
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-7007054A Expired - Fee Related KR100428962B1 (ko) | 1999-10-05 | 2000-10-04 | 유전체 자기 조성물의 제조방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6544916B1 (ko) |
EP (1) | EP1146024B1 (ko) |
KR (1) | KR100428962B1 (ko) |
CN (1) | CN1109005C (ko) |
DE (1) | DE60041120D1 (ko) |
WO (1) | WO2001025164A1 (ko) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6727200B2 (en) * | 2000-08-31 | 2004-04-27 | Mra Laboratories, Inc. | High dielectric constant very low fired X7R ceramic capacitor, and powder for making |
US6723673B2 (en) * | 2000-08-31 | 2004-04-20 | Mra Laboratories, Inc. | High dielectric constant very low fired X7R ceramic capacitor, and powder for making |
US6734127B2 (en) * | 2001-10-09 | 2004-05-11 | Dong-Hau Kuo | Ceramic materials for capacitors with a high dielectric constant and a low capacitance change with temperature |
TW569254B (en) * | 2001-11-14 | 2004-01-01 | Taiyo Yuden Kk | Ceramic capacitor and its manufacturing method |
JP3908723B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2007-04-25 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物の製造方法 |
TW200531955A (en) * | 2004-03-16 | 2005-10-01 | Tdk Corp | Dielectric ceramic composition, multilayer ceramic capacitor, and method for manufacturing the same |
US7316756B2 (en) | 2004-07-27 | 2008-01-08 | Eastman Kodak Company | Desiccant for top-emitting OLED |
TWI275582B (en) * | 2004-08-30 | 2007-03-11 | Tdk Corp | Dielectric ceramic composition and electronic device |
JP4206062B2 (ja) * | 2004-08-30 | 2009-01-07 | Tdk株式会社 | セラミック電子部品およびその製造方法 |
JP4428187B2 (ja) * | 2004-10-12 | 2010-03-10 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物及び電子部品 |
JP4407497B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2010-02-03 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物及び電子部品 |
EP1669334A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-14 | TDK Corporation | Electronic device, dielectric ceramic composition and production method of the same |
JP2007153631A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-21 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物、電子部品および積層セラミックコンデンサ |
JP4299827B2 (ja) * | 2005-12-05 | 2009-07-22 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物、電子部品および積層セラミックコンデンサ |
JP2007230819A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物、電子部品およびその製造方法 |
JP4839913B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2011-12-21 | Tdk株式会社 | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP2007331956A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP2007331958A (ja) | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP2007331957A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物、電子部品およびその製造方法 |
US7541306B2 (en) * | 2007-01-17 | 2009-06-02 | Ferro Corporation | X8R dielectric composition for use with nickel electrodes |
US7521390B2 (en) * | 2007-03-05 | 2009-04-21 | Ferro Corporation | Ultra low temperature fixed X7R and BX dielectric ceramic composition and method of making |
KR100946016B1 (ko) * | 2007-11-16 | 2010-03-09 | 삼성전기주식회사 | 저온 소성 및 고온 절연저항 강화용 유전체 조성물 및 이를이용한 적층 세라믹 커패시터 |
JP5109872B2 (ja) * | 2008-08-27 | 2012-12-26 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法 |
DE112010003826B4 (de) | 2009-09-28 | 2018-01-11 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Dielektrische keramik und laminierter keramikkondensator |
KR20140118557A (ko) * | 2013-03-29 | 2014-10-08 | 삼성전기주식회사 | 유전체 자기 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 캐패시터 |
CN109231985A (zh) * | 2018-10-24 | 2019-01-18 | 天津大学 | 一种低损耗x8r型电介质材料的制备方法 |
CN114573335A (zh) * | 2020-12-01 | 2022-06-03 | 日本化学工业株式会社 | 电介质陶瓷形成用组合物及电介质陶瓷材料 |
WO2024190166A1 (ja) * | 2023-03-16 | 2024-09-19 | 太陽誘電株式会社 | 積層セラミックコンデンサ及び積層セラミックコンデンサの製造方法 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2505030B2 (ja) * | 1988-09-19 | 1996-06-05 | ティーディーケイ株式会社 | 温度補償用高誘電率磁器組成物及びその製造方法 |
JPH0779004B2 (ja) | 1990-10-31 | 1995-08-23 | 株式会社村田製作所 | 誘電体磁器組成物 |
JP2605986B2 (ja) * | 1991-02-19 | 1997-04-30 | 株式会社村田製作所 | 誘電体磁器組成物 |
JPH06243721A (ja) | 1991-03-07 | 1994-09-02 | Tdk Corp | 高誘電率誘電体磁器組成物 |
JPH07118431B2 (ja) | 1991-03-16 | 1995-12-18 | 太陽誘電株式会社 | 磁器コンデンサ及びその製造方法 |
JPH04292459A (ja) | 1991-03-18 | 1992-10-16 | Tdk Corp | 高誘電率誘電体磁器組成物 |
JPH04292458A (ja) | 1991-03-18 | 1992-10-16 | Tdk Corp | 高誘電率誘電体磁器組成物 |
JP2978580B2 (ja) | 1991-03-22 | 1999-11-15 | ティーディーケイ株式会社 | 高誘電率誘電体磁器組成物 |
JP2958817B2 (ja) * | 1991-06-27 | 1999-10-06 | 株式会社村田製作所 | 非還元性誘電体磁器組成物 |
JPH05109319A (ja) | 1991-10-17 | 1993-04-30 | Tdk Corp | 高誘電率誘電体磁器組成物 |
JP3109056B2 (ja) | 1993-10-19 | 2000-11-13 | 三菱化学株式会社 | 通気性樹脂フィルム |
JP3269910B2 (ja) * | 1994-03-30 | 2002-04-02 | 太陽誘電株式会社 | 磁器コンデンサ及びその製造方法 |
JP3326513B2 (ja) * | 1994-10-19 | 2002-09-24 | ティーディーケイ株式会社 | 積層型セラミックチップコンデンサ |
JP3161278B2 (ja) * | 1995-04-26 | 2001-04-25 | 株式会社村田製作所 | 誘電体磁器組成物 |
JPH0940465A (ja) | 1995-07-27 | 1997-02-10 | Kyocera Corp | セラミック成形用組成物 |
JPH09157021A (ja) * | 1995-12-04 | 1997-06-17 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | 低温焼結用誘電体材料の製造方法 |
JP2993425B2 (ja) * | 1995-12-20 | 1999-12-20 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミックコンデンサ |
JPH1025157A (ja) | 1996-07-08 | 1998-01-27 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ |
JP3180681B2 (ja) * | 1996-07-19 | 2001-06-25 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミックコンデンサ |
JP3783403B2 (ja) * | 1997-07-23 | 2006-06-07 | 株式会社村田製作所 | 誘電体磁器組成物および積層セラミックコンデンサ |
JP4253869B2 (ja) * | 1997-12-19 | 2009-04-15 | 日本ケミコン株式会社 | 誘電体磁器組成物、積層セラミクスコンデンサとその製造方法 |
JP3466899B2 (ja) | 1998-01-08 | 2003-11-17 | 富士通株式会社 | 文字認識装置及び方法並びにプログラム記憶媒体 |
JP3091192B2 (ja) * | 1998-07-29 | 2000-09-25 | ティーディーケイ株式会社 | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
JP3567759B2 (ja) | 1998-09-28 | 2004-09-22 | 株式会社村田製作所 | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ |
JP3760364B2 (ja) | 1999-07-21 | 2006-03-29 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
JP3678073B2 (ja) * | 1999-09-07 | 2005-08-03 | 株式会社村田製作所 | 誘電体セラミック組成物及び積層セラミック部品 |
-
2000
- 2000-10-04 CN CN00803096A patent/CN1109005C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-10-04 US US09/857,413 patent/US6544916B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-10-04 KR KR10-2001-7007054A patent/KR100428962B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2000-10-04 WO PCT/JP2000/006902 patent/WO2001025164A1/ja active IP Right Grant
- 2000-10-04 DE DE60041120T patent/DE60041120D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-04 EP EP00964643A patent/EP1146024B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1146024B1 (en) | 2008-12-17 |
EP1146024A1 (en) | 2001-10-17 |
DE60041120D1 (de) | 2009-01-29 |
US6544916B1 (en) | 2003-04-08 |
WO2001025164A1 (fr) | 2001-04-12 |
EP1146024A4 (en) | 2005-06-15 |
CN1337928A (zh) | 2002-02-27 |
KR100428962B1 (ko) | 2004-04-29 |
CN1109005C (zh) | 2003-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100428962B1 (ko) | 유전체 자기 조성물의 제조방법 | |
KR100327132B1 (ko) | 유전체 자기 조성물 및 전자부품 | |
KR100352245B1 (ko) | 유전체 자기(磁器) 조성물 및 전자 부품 | |
KR100814205B1 (ko) | 전자 부품, 유전체 자기 조성물 및 그 제조 방법 | |
EP1786005B1 (en) | Dielectric ceramic composition, electronic device, and multilayer ceramic capacitor | |
EP1792880B1 (en) | Dielectric ceramic composition, electronic device and multilayer ceramic capacitor | |
EP1635360B1 (en) | Dielectric ceramic composition and electronic device | |
JP3340722B2 (ja) | 誘電体磁器組成物の製造方法 | |
JP2001031467A (ja) | 誘電体磁器組成物および電子部品 | |
KR100484515B1 (ko) | 유전체 자기 조성물 및 전자부품 | |
EP1577278A1 (en) | Dielectric ceramic composition, multilayer ceramic capcitor and method for manufacturing the same | |
KR100807774B1 (ko) | 적층형 세라믹 콘덴서 | |
JP4937522B2 (ja) | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 | |
KR100673933B1 (ko) | 유전체 자기 조성물 및 전자 부품 | |
JP3340723B2 (ja) | 誘電体磁器組成物の製造方法 | |
JP4275036B2 (ja) | 誘電体磁器組成物及び電子部品 | |
JP5167579B2 (ja) | 誘電体磁器組成物及び電子部品 | |
JP2001135544A (ja) | 誘電体磁器組成物および電子部品 | |
JP4387990B2 (ja) | 誘電体磁器組成物及び電子部品 | |
JP2003192433A (ja) | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0105 | International application |
Patent event date: 20010605 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20030919 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20040325 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20040413 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20040414 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20070411 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20080411 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20090410 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20100413 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20100413 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |