JPH06142519A - 炭化水素吸着触媒 - Google Patents
炭化水素吸着触媒Info
- Publication number
- JPH06142519A JPH06142519A JP4298934A JP29893492A JPH06142519A JP H06142519 A JPH06142519 A JP H06142519A JP 4298934 A JP4298934 A JP 4298934A JP 29893492 A JP29893492 A JP 29893492A JP H06142519 A JPH06142519 A JP H06142519A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- zsm
- catalyst
- layer
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 エンジン始動時の排ガスの低温から触媒が浄
化能を発揮する温度まで炭素水素を良好に浄化し得る炭
化水素吸着触媒を得る。 【構成】 モノリス担体上に設けた、炭化水素の吸着に
有効な、Ｃu とＰd の少なくとも１種以上の金属でイオ
ン交換したＺＳＭ−５ゼオライトからなる第１層と、更
に該第１層上に設けた、活性セリアおよび／またはアル
ミナを主成分とした粉末に触媒成分としてＰt とＰd の
１種以上を含む第２層と、更に該第２層の上に設けた、
触媒成分としてＲh を含む第３層を備える。
化能を発揮する温度まで炭素水素を良好に浄化し得る炭
化水素吸着触媒を得る。 【構成】 モノリス担体上に設けた、炭化水素の吸着に
有効な、Ｃu とＰd の少なくとも１種以上の金属でイオ
ン交換したＺＳＭ−５ゼオライトからなる第１層と、更
に該第１層上に設けた、活性セリアおよび／またはアル
ミナを主成分とした粉末に触媒成分としてＰt とＰd の
１種以上を含む第２層と、更に該第２層の上に設けた、
触媒成分としてＲh を含む第３層を備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車などの内燃機関
からの排ガス浄化用の装置に使用される炭化水素吸着触
媒に関するものである。
からの排ガス浄化用の装置に使用される炭化水素吸着触
媒に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】自動車の内燃機関の排ガス浄化用触媒と
しては、一酸化炭素（ＣＯ）及び炭化水素（ＨＣ）の酸
化と、窒素酸化物（ＮＯx)の還元を同時に行なう触媒が
汎用されている。このような触媒は、例えば特公昭58−
20307 号公報にもみられるように、耐火性担体上のアル
ミナコート層に、Ｐd , Ｐt ，Ｒh 等の貴金属、及び場
合により助触媒成分としてＣe ，Ｌa 等の希土類金属ま
たはＮi 等のベースメタル酸化物を添加したものがほと
んどである。
しては、一酸化炭素（ＣＯ）及び炭化水素（ＨＣ）の酸
化と、窒素酸化物（ＮＯx)の還元を同時に行なう触媒が
汎用されている。このような触媒は、例えば特公昭58−
20307 号公報にもみられるように、耐火性担体上のアル
ミナコート層に、Ｐd , Ｐt ，Ｒh 等の貴金属、及び場
合により助触媒成分としてＣe ，Ｌa 等の希土類金属ま
たはＮi 等のベースメタル酸化物を添加したものがほと
んどである。
【０００３】かかる触媒は、排ガス温度とエンジンの設
定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能を
発揮する排ガス温度としては、一般に 300℃以上必要で
あり、また空燃比は、ＨＣとＣＯの酸化とＮＯx の還元
のバランスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝14.6 )付近で
触媒が最も有効に働く。従って、従来の三元触媒を用い
る排ガス浄化装置を取付けた自動車では、三元触媒が有
効に働くような位置に設置されており、また排気系の酸
素濃度を検出して、混合比を理論空燃比付近に保つよう
にフィードバッグ制御が行なわれている。
定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能を
発揮する排ガス温度としては、一般に 300℃以上必要で
あり、また空燃比は、ＨＣとＣＯの酸化とＮＯx の還元
のバランスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝14.6 )付近で
触媒が最も有効に働く。従って、従来の三元触媒を用い
る排ガス浄化装置を取付けた自動車では、三元触媒が有
効に働くような位置に設置されており、また排気系の酸
素濃度を検出して、混合比を理論空燃比付近に保つよう
にフィードバッグ制御が行なわれている。
【０００４】従来の三元触媒をエキゾーストマニホール
ド直後に設置しても、排ガス温度が低い（300 ℃以下)
エンジン始動直後には触媒活性が低く、始動直後（コー
ルドスタート時）に大量に排出されるＨＣは浄化されず
にそのまま排出されてしまうという問題がある。上記の
課題を解決するための排ガス浄化装置として、触媒コン
バータの排気上流側にコールドＨＣを吸着するための吸
着材を納めたＨＣトラッパーを配置したもの（特開平２
−135126号公報) が提案されている。
ド直後に設置しても、排ガス温度が低い（300 ℃以下)
エンジン始動直後には触媒活性が低く、始動直後（コー
ルドスタート時）に大量に排出されるＨＣは浄化されず
にそのまま排出されてしまうという問題がある。上記の
課題を解決するための排ガス浄化装置として、触媒コン
バータの排気上流側にコールドＨＣを吸着するための吸
着材を納めたＨＣトラッパーを配置したもの（特開平２
−135126号公報) が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開平２−135126号公報に開示されている自動車排気ガ
ス浄化装置に配置されたＨＣ吸着材では、 1) ゼオライトとして、Ｙ型ゼオライトまたはモデルナ
イトを用いているため水の影響が大きく、ＨＣ吸着能力
が十分ではない。 2) 吸着材の下流側に貴金属を含浸しているため、触媒
が活性温度に達する前に上流側の吸着材からＨＣが脱離
してしまう。 3) ゼオライトをコートした後に金属を担持しているた
め、イオン交換率が十分におこなわれておらず、吸着能
力が十分でない。 という問題がある。
特開平２−135126号公報に開示されている自動車排気ガ
ス浄化装置に配置されたＨＣ吸着材では、 1) ゼオライトとして、Ｙ型ゼオライトまたはモデルナ
イトを用いているため水の影響が大きく、ＨＣ吸着能力
が十分ではない。 2) 吸着材の下流側に貴金属を含浸しているため、触媒
が活性温度に達する前に上流側の吸着材からＨＣが脱離
してしまう。 3) ゼオライトをコートした後に金属を担持しているた
め、イオン交換率が十分におこなわれておらず、吸着能
力が十分でない。 という問題がある。
【０００６】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解決し、エンジン始動時の排ガスの低温から触媒が浄化
能を発揮する温度までＨＣを良好に浄化し得る炭化水素
吸着触媒を提供することにある。
解決し、エンジン始動時の排ガスの低温から触媒が浄化
能を発揮する温度までＨＣを良好に浄化し得る炭化水素
吸着触媒を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、排ガス中の有
害成分、特にＨＣを浄化するための触媒であって、担体
上にＨＣ吸着に有効なＣu とＰd の少なくとも１種以上
の金属でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライトからなる
第１層を備え、更に該第１層の上に、活性セリアおよび
／またはアルミナを主成分とした粉末に担持したＰt と
Ｐd の少なくとも１種以上からなる第２触媒層を備え、
更に該第２層の上に好ましくはアルミナに担持したＲh
からなる第３層を備えてなることを特徴とする炭化水素
吸着触媒である。
害成分、特にＨＣを浄化するための触媒であって、担体
上にＨＣ吸着に有効なＣu とＰd の少なくとも１種以上
の金属でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライトからなる
第１層を備え、更に該第１層の上に、活性セリアおよび
／またはアルミナを主成分とした粉末に担持したＰt と
Ｐd の少なくとも１種以上からなる第２触媒層を備え、
更に該第２層の上に好ましくはアルミナに担持したＲh
からなる第３層を備えてなることを特徴とする炭化水素
吸着触媒である。
【０００８】
【作用】本発明の自動車排ガス浄化装置に用いる触媒に
おいては、吸着層の上に担持された触媒層が吸着層より
も早く加熱されるため、吸着層からＨＣが脱離する段階
において触媒層が十分に活性化されており、ＨＣが良好
に浄化される。第２層のＰt とＰd は活性セリアおよび
／またはアルミナに担持すると酸化活性が高い。特にＰ
t はＣＯによる被毒を抑えられるため活性セリアに担持
するのが好ましい。また、Ｐd は分散度を高く担持でき
るためアルミナに担持するのが好ましい。また、触媒特
性の耐熱性を保つ為にＲh は単独で第３層に担持する必
要がある。
おいては、吸着層の上に担持された触媒層が吸着層より
も早く加熱されるため、吸着層からＨＣが脱離する段階
において触媒層が十分に活性化されており、ＨＣが良好
に浄化される。第２層のＰt とＰd は活性セリアおよび
／またはアルミナに担持すると酸化活性が高い。特にＰ
t はＣＯによる被毒を抑えられるため活性セリアに担持
するのが好ましい。また、Ｐd は分散度を高く担持でき
るためアルミナに担持するのが好ましい。また、触媒特
性の耐熱性を保つ為にＲh は単独で第３層に担持する必
要がある。
【０００９】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。実施例において、部は特記しない限り重量部を
表す。
明する。実施例において、部は特記しない限り重量部を
表す。
【００１０】実施例１ Ｐd でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（以下、Ｐ
d ／ＺＳＭ−５と記す）100 部、シリカゾル（固形分20
％）65部、水65部を磁器ポットに仕込み、振動ミル装置
で40分間もしくは、ユニバーサルボールミル装置で 6.5
時間混合粉砕して、ウォシュコートスラリーを製造し
た。コーディライト製モノリス担体に、前記で製造した
スラリーを担体断面全体に均一にコーティングし、その
後、乾燥を行い、400 ℃で約１時間仮焼成した。これに
より、Ｐd ／ＺＳＭ−５ゼオライトが約90ｇ／Ｌのコー
ト量で担体にコートされた。上記のウォシュコート、乾
燥及び焼成をさらに繰り返して合計 130ｇ／ＬのＰd ／
ＺＳＭ−５ゼオライトをコートし、空気雰囲気中 650℃
で２〜６時間（好ましくは４時間）の焼成を行なった。
次に、Ｐt を担持した活性セリア粉末（以下、Ｐt ／Ｃ
ｅＯ2 と記す) 100 部、アルミナ50部、２％硝酸 150部
を磁器ポットに仕込み、前記と同様にしてウォシュコー
トスラリーを製造し、同様の方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼ
オライト層の上に 100ｇ／ＬのＰt 触媒層をコートし、
乾燥後、空気雰囲気中 650℃で２〜６時間（好ましくは
４時間）の焼成を行なった。さらに、Ｒh を担持したア
ルミナ粉末（以下、Ｒh ／Ａｌ2 Ｏ3 と記す) 100部、
アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに仕込み、
前記と同様にしてウォシュコートスラリーを製造し、同
様の方法でＰt ／ＣｅＯ2 層の上に50ｇ／ＬのＲh ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 触媒層をコートし、乾燥後、空気雰囲気中 650
℃で２〜６時間（好ましくは４時間）の焼成を行ない、
（吸着触媒−１）を得た。
d ／ＺＳＭ−５と記す）100 部、シリカゾル（固形分20
％）65部、水65部を磁器ポットに仕込み、振動ミル装置
で40分間もしくは、ユニバーサルボールミル装置で 6.5
時間混合粉砕して、ウォシュコートスラリーを製造し
た。コーディライト製モノリス担体に、前記で製造した
スラリーを担体断面全体に均一にコーティングし、その
後、乾燥を行い、400 ℃で約１時間仮焼成した。これに
より、Ｐd ／ＺＳＭ−５ゼオライトが約90ｇ／Ｌのコー
ト量で担体にコートされた。上記のウォシュコート、乾
燥及び焼成をさらに繰り返して合計 130ｇ／ＬのＰd ／
ＺＳＭ−５ゼオライトをコートし、空気雰囲気中 650℃
で２〜６時間（好ましくは４時間）の焼成を行なった。
次に、Ｐt を担持した活性セリア粉末（以下、Ｐt ／Ｃ
ｅＯ2 と記す) 100 部、アルミナ50部、２％硝酸 150部
を磁器ポットに仕込み、前記と同様にしてウォシュコー
トスラリーを製造し、同様の方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼ
オライト層の上に 100ｇ／ＬのＰt 触媒層をコートし、
乾燥後、空気雰囲気中 650℃で２〜６時間（好ましくは
４時間）の焼成を行なった。さらに、Ｒh を担持したア
ルミナ粉末（以下、Ｒh ／Ａｌ2 Ｏ3 と記す) 100部、
アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに仕込み、
前記と同様にしてウォシュコートスラリーを製造し、同
様の方法でＰt ／ＣｅＯ2 層の上に50ｇ／ＬのＲh ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 触媒層をコートし、乾燥後、空気雰囲気中 650
℃で２〜６時間（好ましくは４時間）の焼成を行ない、
（吸着触媒−１）を得た。
【００１１】実施例２ Ｐd ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル (固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰd を担持した活
性セリア粉末（以下、Ｐd ／ＣｅＯ2 と記す)100部、ア
ルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造
し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオライト層
の上に 100ｇ／ＬのＰd 触媒層をコートし、乾燥、焼成
を行なった。さらに、実施例１と同様の方法でＲh ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行な
い、（吸着触媒−２）を得た。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰd を担持した活
性セリア粉末（以下、Ｐd ／ＣｅＯ2 と記す)100部、ア
ルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造
し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオライト層
の上に 100ｇ／ＬのＰd 触媒層をコートし、乾燥、焼成
を行なった。さらに、実施例１と同様の方法でＲh ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行な
い、（吸着触媒−２）を得た。
【００１２】実施例３ Ｃu でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（以下、Ｃ
u ／ＺＳＭ−５と記す）100 部、シリカゾル（固形分20
％）65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコ
ート方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／
Ｌコートし、乾燥後、空気雰囲気中 400℃で２〜６時間
（好ましくは４時間）焼成を行なった。次に実施例１と
同様の方法でＰt ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と同様の
方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行ない、（吸着触媒−３）を得た。
u ／ＺＳＭ−５と記す）100 部、シリカゾル（固形分20
％）65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコ
ート方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／
Ｌコートし、乾燥後、空気雰囲気中 400℃で２〜６時間
（好ましくは４時間）焼成を行なった。次に実施例１と
同様の方法でＰt ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と同様の
方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行ない、（吸着触媒−３）を得た。
【００１３】実施例４ Ｃu ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル（固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次に実施例２と同様の
方法でＰd ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と同様の方法で
Ｒh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 50 ｇ／Ｌコートし、乾燥、
焼成を行ない、（吸着触媒−４）を得た。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次に実施例２と同様の
方法でＰd ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／Ｌコートし、乾
燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と同様の方法で
Ｒh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 50 ｇ／Ｌコートし、乾燥、
焼成を行ない、（吸着触媒−４）を得た。
【００１４】実施例５ Ｐd ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル（固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰt を担持したア
ルミナ粉末（以下、Ｐt ／Ａｌ2 Ｏ3 と記す) 100 部、
アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに仕込み、
実施例１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造
し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオライト層
の上に 100ｇ／ＬのＰｄ触媒層をコートし、乾燥、焼成
を行なった。さらに、実施例１と同様の方法でＲh ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行な
い、（吸着触媒−５）を得た。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰt を担持したア
ルミナ粉末（以下、Ｐt ／Ａｌ2 Ｏ3 と記す) 100 部、
アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに仕込み、
実施例１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造
し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオライト層
の上に 100ｇ／ＬのＰｄ触媒層をコートし、乾燥、焼成
を行なった。さらに、実施例１と同様の方法でＲh ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行な
い、（吸着触媒−５）を得た。
【００１５】実施例６ Ｐd ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル（固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰd を担持したア
ルミナ粉末（以下、Ｐd ／Ａｌ2 Ｏ3 と記す) 100 部、
アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに仕込み、
実施例１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造
し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオライト層
の上に 100ｇ／ＬのＰd 触媒層をコートし、乾燥、焼成
を行なった。さらに、実施例１と同様の方法でＲh ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコート、乾燥、焼成を行な
い、（吸着触媒−６）を得た。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰd を担持したア
ルミナ粉末（以下、Ｐd ／Ａｌ2 Ｏ3 と記す) 100 部、
アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに仕込み、
実施例１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造
し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオライト層
の上に 100ｇ／ＬのＰd 触媒層をコートし、乾燥、焼成
を行なった。さらに、実施例１と同様の方法でＲh ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコート、乾燥、焼成を行な
い、（吸着触媒−６）を得た。
【００１６】実施例７ Ｃu ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル（固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰt ／Ａｌ2 Ｏ3
100 部、アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに
仕込み、実施例５と同様の方法でウォシュコートスラリ
ーを製造し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオ
ライト層の上に 100ｇ／ＬのＰd 触媒層をコートし、乾
燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と同様の方法で
Ｒh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行ない、（吸着触媒−７）を得た。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰt ／Ａｌ2 Ｏ3
100 部、アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに
仕込み、実施例５と同様の方法でウォシュコートスラリ
ーを製造し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオ
ライト層の上に 100ｇ／ＬのＰd 触媒層をコートし、乾
燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と同様の方法で
Ｒh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行ない、（吸着触媒−７）を得た。
【００１７】実施例８ Ｃu ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル（固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰd ／Ａｌ2 Ｏ3
100 部、アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに
仕込み、実施例６と同様の方法でウォシュコートスラリ
ーを製造し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオ
ライト層の上に 100ｇ／ＬのＰd 触媒層をコートし、乾
燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と同様の方法で
Ｒh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行ない、（吸着触媒−８）を得た。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なった。次にＰd ／Ａｌ2 Ｏ3
100 部、アルミナ50部、２％硝酸 150部を磁器ポットに
仕込み、実施例６と同様の方法でウォシュコートスラリ
ーを製造し、同様のコート方法でＰd ／ＺＳＭ−５ゼオ
ライト層の上に 100ｇ／ＬのＰd 触媒層をコートし、乾
燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と同様の方法で
Ｒh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼
成を行ない、（吸着触媒−８）を得た。
【００１８】実施例９ Ｐd ／ＺＳＭ−５を25部、Ｃu ／ＺＳＭ−５を75部とシ
リカゾル65部および水65部をポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコート、乾燥、焼成を行なった。次に実施
例１と同様の方法でＰt ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／Ｌ
コートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と
同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−９）を得た。
リカゾル65部および水65部をポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコート、乾燥、焼成を行なった。次に実施
例１と同様の方法でＰt ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／Ｌ
コートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１と
同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−９）を得た。
【００１９】実施例１０ Ｐd ／ＺＳＭ−５を25部、Ｃu ／ＺＳＭ−５を75部とシ
リカゾル65部および水65部をポットに仕込み、実施例９
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例２と同様の方法でＰd ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／
Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１
と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコー
トし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−10）を得た。
リカゾル65部および水65部をポットに仕込み、実施例９
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例２と同様の方法でＰd ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／
Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１
と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコー
トし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−10）を得た。
【００２０】実施例１１ Ｐd ／ＺＳＭ−５を10部、Ｃu ／ＺＳＭ−５を90部とシ
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例１と同様の方法でＰt ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／
Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１
と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコー
トし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−11）を得た。
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例１
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例１と同様の方法でＰt ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／
Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１
と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコー
トし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−11）を得た。
【００２１】実施例１２ Ｐd ／ＺＳＭ−５を10部、Ｃu ／ＺＳＭ−５を90部とシ
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例11
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例２と同様の方法でＰd ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／
Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１
と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコー
トし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−12）を得た。
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例11
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例２と同様の方法でＰd ／ＣｅＯ2 触媒層を 100ｇ／
Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例１
と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコー
トし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−12）を得た。
【００２２】実施例１３ Ｐd ／ＺＳＭ−５を25部、Ｃu ／ＺＳＭ−５を75部とシ
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例９
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例５と同様の方法でＰt ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 100ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例
１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−13）を得
た。
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例９
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例５と同様の方法でＰt ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 100ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例
１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−13）を得
た。
【００２３】実施例１４ Ｐd ／ＺＳＭ−５を25部、Ｃu ／ＺＳＭ−５を75部とシ
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例９
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例６と同様の方法でＰd ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 100ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例
１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−14）を得
た。
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例９
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例６と同様の方法でＰd ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 100ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例
１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−14）を得
た。
【００２４】実施例１５ Ｐd ／ＺＳＭ−５を10部、Ｃu ／ＺＳＭ−５を90部とシ
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例11
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例５と同様の方法でＰt ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 100ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例
１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−15）を得
た。
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例11
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例５と同様の方法でＰt ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 100ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例
１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−15）を得
た。
【００２５】実施例１６ Ｐd ／ＺＳＭ−５を10部、Ｃu ／ＺＳＭ−５を90部とシ
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例11
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例６と同様の方法でＰd ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 100ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例
１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコ
ート、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−16）を得た。
リカゾル65部及び、水65部をポットに仕込み、実施例11
と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様
のコート方法でＰd とＣu 混合のＺＳＭ−５ゼオライト
を 130ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。次に実
施例６と同様の方法でＰd ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を 100ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施例
１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌコ
ート、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−16）を得た。
【００２６】実施例１７ Ｐd ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル (固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ート、乾燥、焼成を行なった。次に、Ｐt ／ＣｅＯ2 50
部、Ｐd ／Ａｌ2 Ｏ3 50部、アルミナ50部、２％硝酸15
0 部を磁器ポットに仕込、実施例１と同様の方法でウォ
シュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰd
／ＺＳＭ−５ゼオライト層の上に100 ｇ／ＬのＰt −Ｐ
d 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、
実施例１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−17）
を得た。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ート、乾燥、焼成を行なった。次に、Ｐt ／ＣｅＯ2 50
部、Ｐd ／Ａｌ2 Ｏ3 50部、アルミナ50部、２％硝酸15
0 部を磁器ポットに仕込、実施例１と同様の方法でウォ
シュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰd
／ＺＳＭ−５ゼオライト層の上に100 ｇ／ＬのＰt −Ｐ
d 触媒層をコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、
実施例１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ
／Ｌコートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−17）
を得た。
【００２７】実施例１８ Ｃu ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル (固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なう。次に、Ｐt ／ＣｅＯ2 50
部、Ｐd ／Ａｌ2 Ｏ3 50部、アルミナ50部、２％硝酸15
0 部を磁器ポットに仕込、実施例17と同様の方法でウォ
シュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でＣu
／ＺＳＭ−５ライト層の上に100 ｇ／ＬのＰt−Ｐd 触
媒層をコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施
例１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌ
コートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−18）を得
た。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行なう。次に、Ｐt ／ＣｅＯ2 50
部、Ｐd ／Ａｌ2 Ｏ3 50部、アルミナ50部、２％硝酸15
0 部を磁器ポットに仕込、実施例17と同様の方法でウォ
シュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でＣu
／ＺＳＭ−５ライト層の上に100 ｇ／ＬのＰt−Ｐd 触
媒層をコートし、乾燥、焼成を行なった。さらに、実施
例１と同様の方法でＲh ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒層を50ｇ／Ｌ
コートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−18）を得
た。
【００２８】比較例１ Ｐd ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル (固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−19）を得
た。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＰd ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−19）を得
た。
【００２９】比較例２ Ｃu ／ＺＳＭ−５を 100部、シリカゾル (固形分20％）
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−20）を得
た。以上の実施例の担体としては、モリス担体、メタル
担体等任意のものを使用することができる。
65部、水65部を磁器ポットに仕込み、実施例３と同様の
方法でウォシュコートスラリーを製造し、同様のコート
方法でモノリス担体にＣu ／ＺＳＭ−５を 130ｇ／Ｌコ
ートし、乾燥、焼成を行ない、（吸着触媒−20）を得
た。以上の実施例の担体としては、モリス担体、メタル
担体等任意のものを使用することができる。
【００３０】試験例 実施例１〜18及び、比較例１と２の各吸着触媒に付き下
記条件で評価を行ない、ＨＣ吸着浄化率を測定した。 触媒容量 120cm3（ＳＶ：40000 ／ｈ） 評価エンジン 2000 cc エンジン (EGI 使用) 評価モードは、コールド状態 (水温25℃) からエンジン
始動し、アイドル状態（700rpm）に20秒間保持 (図１）
し、その後 2000tpm、−200mmHg に加速、保持する。図
１にエンジン入口温度の経時変化とこれに伴う炭素水素
の基準濃度変化を示す。吸着率は、ガス流入後 100秒間
の積算値 (１−吸着触媒出口／吸着触媒入口）より求
め、ＨＣ浄化特性評価結果を表１に示す。
記条件で評価を行ない、ＨＣ吸着浄化率を測定した。 触媒容量 120cm3（ＳＶ：40000 ／ｈ） 評価エンジン 2000 cc エンジン (EGI 使用) 評価モードは、コールド状態 (水温25℃) からエンジン
始動し、アイドル状態（700rpm）に20秒間保持 (図１）
し、その後 2000tpm、−200mmHg に加速、保持する。図
１にエンジン入口温度の経時変化とこれに伴う炭素水素
の基準濃度変化を示す。吸着率は、ガス流入後 100秒間
の積算値 (１−吸着触媒出口／吸着触媒入口）より求
め、ＨＣ浄化特性評価結果を表１に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【発明の効果】本発明の炭化水素吸着触媒においては、
担体上にＨＣ吸着に有効な吸着層の上に触媒層がコート
されているため、吸着層からＨＣが脱離し始める温度に
おいても、脱離したＨＣが良好に浄化される。
担体上にＨＣ吸着に有効な吸着層の上に触媒層がコート
されているため、吸着層からＨＣが脱離し始める温度に
おいても、脱離したＨＣが良好に浄化される。
【図１】試験例におけるエンジン入口温度の経時変化と
これに伴う、炭化水素の基準濃度変化を示すグラフであ
る。
これに伴う、炭化水素の基準濃度変化を示すグラフであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 増田 剛司 神奈川県横浜市神奈川区宝町２番地 日産 自動車株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 モノリス担体上に設けた、炭化水素の吸
着に有効な、Ｃu とＰd の少なくとも１種以上の金属で
イオン交換したＺＳＭ−５ゼオライトからなる第１層
と、更に該第１層の上に設けた、活性セリアおよび／ま
たはアルミナを主成分とした粉末に触媒成分としてＰt
とＰd の１種以上を含む第２層と、更に該第２層の上に
設けた、触媒成分としてＲh を含む第３層を備えてなる
ことを特徴とする炭化水素吸着触媒。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4298934A JPH06142519A (ja) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | 炭化水素吸着触媒 |
| US08/147,267 US5407880A (en) | 1992-11-09 | 1993-11-05 | Catalysts for adsorption of hydrocarbons |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4298934A JPH06142519A (ja) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | 炭化水素吸着触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06142519A true JPH06142519A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=17866082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4298934A Pending JPH06142519A (ja) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | 炭化水素吸着触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06142519A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4868260A (en) * | 1985-10-25 | 1989-09-19 | Tomei Sangyo Kabushiki Kaisha | Hard contact lens material consisting of alkyl fumarate and silicon-alkyl fumarate copolymers |
| JP2003512143A (ja) * | 1998-07-27 | 2003-04-02 | バッテル・メモリアル・インスティチュート | 多層触媒及びその調製方法 |
| DE10216608A1 (de) * | 2002-04-15 | 2003-10-30 | Wacker Polymer Systems Gmbh | Extrudierbare, migrationsarme Silikonorganocopolymere mit hoher Transparenz, deren Herstellung und Verwendung |
| US6756336B2 (en) | 2002-02-01 | 2004-06-29 | Cataler Corporation | Catalyst for purifying exhaust gases |
| US7084086B2 (en) | 2002-02-01 | 2006-08-01 | Cataler Corporation | Catalyst for purifying exhaust gases |
| WO2011049064A1 (ja) * | 2009-10-21 | 2011-04-28 | 本田技研工業株式会社 | 排気浄化触媒およびこれを用いた排気浄化装置 |
| GB2536582B (en) * | 2014-04-01 | 2018-12-26 | Johnson Matthey Plc | Diesel oxidation catalyst with NOx adsorber activity |
-
1992
- 1992-11-09 JP JP4298934A patent/JPH06142519A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4868260A (en) * | 1985-10-25 | 1989-09-19 | Tomei Sangyo Kabushiki Kaisha | Hard contact lens material consisting of alkyl fumarate and silicon-alkyl fumarate copolymers |
| JP2003512143A (ja) * | 1998-07-27 | 2003-04-02 | バッテル・メモリアル・インスティチュート | 多層触媒及びその調製方法 |
| US6756336B2 (en) | 2002-02-01 | 2004-06-29 | Cataler Corporation | Catalyst for purifying exhaust gases |
| US7084086B2 (en) | 2002-02-01 | 2006-08-01 | Cataler Corporation | Catalyst for purifying exhaust gases |
| EP2322267A1 (en) | 2002-02-01 | 2011-05-18 | Cataler Corporation | Catalyst for purifying exhaust gases |
| DE10216608A1 (de) * | 2002-04-15 | 2003-10-30 | Wacker Polymer Systems Gmbh | Extrudierbare, migrationsarme Silikonorganocopolymere mit hoher Transparenz, deren Herstellung und Verwendung |
| WO2011049064A1 (ja) * | 2009-10-21 | 2011-04-28 | 本田技研工業株式会社 | 排気浄化触媒およびこれを用いた排気浄化装置 |
| JP5698671B2 (ja) * | 2009-10-21 | 2015-04-08 | 本田技研工業株式会社 | 排気浄化触媒およびこれを用いた排気浄化装置 |
| GB2536582B (en) * | 2014-04-01 | 2018-12-26 | Johnson Matthey Plc | Diesel oxidation catalyst with NOx adsorber activity |
| EP3593894A1 (en) * | 2014-04-01 | 2020-01-15 | Johnson Matthey Public Limited Company | Diesel oxidation catalyst with nox adsorber activity |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3311051B2 (ja) | 排気ガス浄化方法及び装置 | |
| US7820123B2 (en) | Device for the purification of exhaust gas | |
| US5407880A (en) | Catalysts for adsorption of hydrocarbons | |
| JP3965711B2 (ja) | 窒素酸化物の浄化触媒及び浄化方法 | |
| US10828623B2 (en) | Hydrocarbon trap catalyst | |
| JP2003200049A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JPH07124468A (ja) | 炭化水素吸着材および吸着触媒の製造方法 | |
| EP1468721B1 (en) | Exhaust gas purifying catalyst and process for purifying exhaust gas | |
| JPH11267504A (ja) | 排ガス浄化用触媒体とそれを用いた排ガス浄化システム | |
| JP3282344B2 (ja) | 排気ガス浄化装置 | |
| JPH07102957A (ja) | 排ガス浄化装置と方法 | |
| JPH06142519A (ja) | 炭化水素吸着触媒 | |
| JP2682404B2 (ja) | 炭化水素吸着材および触媒の製造方法 | |
| JP3842862B2 (ja) | 排ガス浄化システム | |
| JP3295989B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JPH07241471A (ja) | 排ガス浄化用吸着触媒の製造方法 | |
| JP3695394B2 (ja) | 排気ガス浄化装置および製造方法 | |
| JPH04293519A (ja) | 排気ガス浄化用装置 | |
| JPH06142520A (ja) | 炭化水素吸着触媒 | |
| JP3459037B2 (ja) | 排ガス浄化装置 | |
| JPH1142417A (ja) | 排ガス浄化システム | |
| JP2003135970A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JP3321831B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JPH09225265A (ja) | 排気ガス浄化装置 | |
| JP3991908B2 (ja) | 排ガス浄化方法 |