JP7165491B2 - 光学フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルムおよびその製造方法に関する。

フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板や位相差板等の光学フィルムが用いられている。位相差板には可視光全域に渡って均一な位相変換が求められており、例えば特許文献１には水平方向に配向した逆波長分散性位相差フィルムが、特許文献２には垂直方向に配向した逆波長分散性位相差フィルムが開示されている。

特表２０１０－５３７９５５号公報 特開２０１５－５７６４６号公報

近年、フラットパネルディスプレイの進化に伴って、どのような方位から見ても明瞭な黒表示が求められてきている。これに従って、水平方向あるいは垂直方向の光波長分散制御だけでは不十分であるという課題が明らかとなった。

本発明は以下の発明を含む。

〔１〕第一の位相差層と第二の位相差層とを有し、下記式（１）及び（２）の関係を満たす光学フィルム。
０．４≦Ｎｚ（４５０）≦０．６ （１）
０．４≦Ｎｚ（５５０）≦０．６ （２）
〔式中、Ｎｚ（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する光学フィルムのＮｚ係数を、Ｎｚ（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する光学フィルムのＮｚ係数をそれぞれ示し、波長λ（ｎｍ）の光に対する光学フィルムのＮｚ係数Ｎｚ（λ）は
Ｎｚ（λ）＝（ｎｘ（λ）－ｎｚ（λ））／（ｎｘ（λ）－ｎｙ（λ））
により示される。ｎｘ（λ）は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙ（λ）は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面対して平行であり、且つ、該ｎｘ（λ）の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚ（λ）は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。〕

〔２〕第一の位相差層が、
第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ＝４００～７００ｎｍの範囲で、
ｎｘ１（λ）＞ｎｙ１（λ）≒ｎｚ１（λ）
〔式中、ｎｘ１（λ）は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙ１（λ）は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘ１（λ）の方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ｎｚ１（λ）は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。〕
の関係を有し、
下記式（３）及び（４）の関係を満たす上記〔１〕に記載の光学フィルム。
Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．００ （３）
１．００≦Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０） （４）
〔式中、Ｒｅ１（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する第一位相差層の面内位相差値を、Ｒｅ１（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する第一位相差層の面内位相差値を、Ｒｅ１（６５０）は波長λ＝６５０ｎｍの光に対する第一位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λｎｍの光に対する第一位相差層の面内位相差値Ｒｅ１（λ）は、
Ｒｅ１（λ）＝（ｎｘ１（λ）－ｎｙ１（λ））×ｄ１
で表される。ここで、ｄ１は第一の位相差層の厚みを表す。〕

〔３〕第二の位相差層は、
第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ＝４００～７００ｎｍの範囲で、
ｎｚ２（λ）＞ｎｘ２（λ）≒ｎｙ２（λ）
〔式中、ｎｚ２（λ）は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。ｎｘ２（λ）は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、は波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ｎｙ２（λ）は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘ２の方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ただし、ｎｘ２（λ）＝ｎｙ２（λ）となる場合には、ｎｘ２（λ）はフィルム平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。〕
の関係を有し、
下記式（５）及び（６）の関係を満たす上記〔１〕又は上記〔２〕に記載の光学フィルム。
Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦１．００ （５）
１．００≦Ｒｔｈ２（６５０）／Ｒｔｈ２（５５０） （６）
〔式中、Ｒｔｈ２（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値を、Ｒｔｈ２（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値を、Ｒｔｈ２（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ（ｎｍ）の光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値Ｒｔｈ２（λ）は、
Ｒｔｈ２（λ）＝[（ｎｘ２（λ）＋ｎｙ２（λ））／２－ｎｚ２（λ）]×ｄ２
で表される。ここで、第二の位相差層が形成する屈折率楕円体においてｎｚ２（λ）は波長λ（ｎｍ）におけるフィルム平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、（（ｎｘ２（λ）＋ｎｙ２（λ））／２）は、波長λ（ｎｍ）におけるフィルム平面での平均屈折率を表す。ｄ２は第二の位相差層の厚みを表す。〕

〔４〕第一の位相差層がさらに下記式（７）の関係を満たす上記〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の光学フィルム。
１２０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１７０ｎｍ （７）
〔式中、Ｒｅ１（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する第一位相差層の面内位相差値を表す。〕

〔５〕第二の位相差層がさらに式（９）で表される光学特性を有する上記〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の光学フィルム。
－１００ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦－５０ｎｍ （８）
〔式中、Ｒｔｈ２（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値を表す。〕

〔６〕第二の位相差層が重合性液晶を配向した状態で重合させることにより形成されるコーティング層からなるフィルムである上記〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の光学フィルム。

〔７〕第一の位相差層が重合性液晶を配向した状態で重合させることにより形成されるコーティング層からなるフィルムである上記〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の光学フィルム。

〔８〕第二の位相差層が５μｍ以下である上記〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の光学フィルム。

〔９〕第一の位相差層が５μｍ以下である上記〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の光学フィルム。

〔１０〕第一の位相差層と第二の位相差層が同一の重合性液晶化合物を主として重合させることにより形成されるコーティング層である上記〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の光学フィルム。

〔１１〕上記〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の光学フィルムと偏光板とを有する光学補償機能付き楕円偏光板。

〔１２〕偏光板の吸収軸と第一の位相差層の遅相軸がフィルム面内で４５±５°又は１３５±５°の関係を有し、かつ、偏光板の吸収軸並びに第一の位相差層の遅相軸と第二の位相差層の遅相軸がフィルム面に対して鉛直方向に直交する上記〔１１〕記載の光学補償機能付き楕円偏光板。

〔１３〕偏光板、粘接着層、第一の位相差層、粘接着層、第二の位相差層がこの順に形成された光学積層体である上記〔１１〕または〔１２〕に記載の光学補償機能付き楕円偏光板。

〔１４〕偏光板、粘接着層、第二の位相差層、粘接着層、第一の位相差層がこの順に形成された光学積層体である上記〔１１〕または〔１２〕に記載の光学補償機能付き楕円偏光板。

上記〔１１〕～〔１４〕のいずれかに記載の光学補償機能付き楕円偏光板を備える有機ＥＬ表示装置。

下記工程全てを含む光学補償機能付き上記〔１１〕～〔１４〕のいずれかに記載の光学補償機能付き楕円偏光板の製造方法。
（工程１－Ａ）水平配向膜を形成した基材上に重合性液晶化合物を塗布した後に、水平配向した状態で重合させることによって位相差層を形成させる工程と、
（工程１－Ｂ）垂直配向膜を形成した基材上に重合性液晶化合物を塗布した後に、垂直配向した状態で重合させることによって第二の位相差層を形成させる工程と、
（工程２）粘接着剤を介して該第一の位相差層の液晶重合体と該第二の位相差層の液晶重合体を各々基材から転写させて偏光板に積層する工程

本発明によれば、可視光全域並びに視認する全ての方位に対して３次元方向で光屈折率制御された新規な光学フィルムとその製造方法を提供する。さらにこの光学フィルムを用いる事で明瞭なディスプレイ表示を可能とする液晶表示装置並びに有機ＥＬ表示装置を提供する。

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。

本発明の光学フィルムは、第一の位相差層と第二の位相差層からなる。第一の位相差層並びに第二の位相差層は、高分子フィルムを延伸する又は収縮させる方法により形成してもよいが、薄型化の観点から重合性液晶（以下、重合性液晶化合物とも言う。）をコーティングし配向した状態で重合させることにより形成されるコーティング層からなるフィルムである事が好ましい。

第一の位相差層並びに第二の位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物（以下、「位相差層形成用組成物」ともいう）を透明基材上に塗布して層を形成し、加熱、冷却処理によって重合性液晶化合物の配向状態で重合体とすることが、薄型化ならびに波長分散特性を任意に設計できる点で好ましい。また、後述するように位相差層形成用組成物は、溶剤、光重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び密着性向上剤等をさらに含み得る。

第一の位相差層は重合性液晶化合物が基材面に対して水平方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜である事が好ましく、第二の位相差層は重合性液晶化合物が基材面に対して垂直方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜である事が好ましい。

第一の位相差層は、波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（５５０）が、下記式（７）に示される光学特性を満たすことが好ましい。また、第一の位相差層は、波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（４５０）、波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（５５０）および波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（６５０）が、式（３）および式（４）で示される光学特性を満たすことも好ましい。第一の位相差層は、下記式（７）、下記式（３）及び下記式（４）で示される光学特性を満たすことがより好ましい。
１２０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１７０ｎｍ …（７）
（式中、Ｒｅ１（５５０）は第一の位相差層の波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値（面内リタデーション）を表す。）
Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．０ …（３）
１．００≦Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０） …（４）
（式中、Ｒｅ１（４５０）は第一の位相差層の波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ１（５５０）は第一の位相差層の波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ１（６５０）は第一の位相差層の波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値をそれぞれ表す。）
第一の位相差層の面内位相差値Ｒｅ１（５５０）が式（７）の範囲を超えると、正面の色相が赤くなったり青くなったりする問題を生じうる。面内位相差値のさらに好ましい範囲としては、１３０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１６０ｎｍである。第一の位相差層の「Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）」が１．０を超えると、当該位相差層を備える楕円偏光板での短波長側での光抜けが大きくなる。好ましくは０．７５以上０．９２以下、より好ましくは０．７７以上０．８７以下、さらに好ましくは０．７９以上０．８５以下である。

第一の位相差層の面内位相差値は、位相差層の厚さによって調整することができる。面内位相差値は下記式（Ａ）によって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ１（λ）：波長λ（ｎｍ）における第一の位相差層の面内位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄ１とを調整すればよい。位相差層の厚さは、０．５μｍ～５μｍが好ましく、１μｍ～３μｍがより好ましい。位相差層の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡又は触針式膜厚計により測定することができる。尚、３次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向状態に依存する。
Ｒｅ１（λ）＝（ｎｘ１（λ）－ｎｙ１（λ））×ｄ１ （Ａ）
（式中、第一の位相差層が形成する屈折率楕円体においてｎｘ１（λ）＞ｎｙ１（λ）≒ｎｚ１（λ）の関係を有し、ｎｘ１（λ）は波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙ１（λ）は波長λ（ｎｍ）の光に対する、第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面対して平行であり、且つ、該ｎｘ１（λ）の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｄ１は第一の位相差層の厚みを表す。）

第二の位相差層は、波長λｎｍの光に対する厚み方向の位相差値であるＲｔｈ２（λ）が、下記式（８）に示される光学特性を満たすことが好ましい。また、下記式（５）および式（６）に示される光学特性を満たすことも好ましい。第二の位相差層は下記式（８）、下記式（５）及び下記式（６）で示される光学特性を満たすことがより好ましい。
－１００ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦－５０ｎｍ …（８）
（式中、Ｒｔｈ２（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値を表す。）
Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦１．０ …（５）
１．００≦Ｒｔｈ２（６５０）／Ｒｔｈ２（５５０） …（６）
（式中、Ｒｔｈ２（４５０）は波長４５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値を、Ｒｔｈ２（５５０）は前記と同じ意味を、Ｒｔｈ２（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値をそれぞれ表す。）
第二の位相差層の厚み方向の位相差値Ｒｔｈ２（５５０）が式（８）の範囲を超えると、斜方の色相が赤くなったり青くなったりする問題を生じうる。厚み方向の位相差値のより好ましい範囲としては、－９５ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦－５５ｎｍ、さらに好ましい範囲としては－９０ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦－６０ｎｍである。第二の位相差層の「Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）」が１．０を超えると、当該位相差層を備える楕円偏光板での短波長側での光抜けが大きくなる。好ましくは０．７５以上０．９２以下、より好ましくは０．７７以上０．８７以下、さらに好ましくは０．７９以上０．８５以下である。

第二の位相差層の厚み方向の位相差値は、位相差層の厚さによって調整することができる。厚み方向の位相差値は下記式（Ｂ）によって決定されることから、所望の厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ２（λ）：波長λ（ｎｍ）における第二の位相差層の厚み方向の位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄ２とを調整すればよい。位相差層の厚さは、０．２μｍ～５μｍが好ましく、０．５μｍ～２μｍがより好ましい。位相差層の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡又は触針式膜厚計により測定することができる。尚、３次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向性に依存する。
Ｒｔｈ２（λ）＝［（ｎｘ２（λ）＋ｎｙ２（λ））／２－ｎｚ２（λ）］×ｄ２（Ｂ）
（式中、第二の位相差層が形成する屈折率楕円体においてｎｚ２（λ）＞ｎｘ２（λ）≒ｎｙ２（λ）の関係を有し、式中、ｎｚ２（λ）は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。ｎｘ２（λ）は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、は波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ｎｙ２（λ）は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘ２の方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ただし、ｎｘ２（λ）＝ｎｙ２（λ）となる場合には、ｎｘ２（λ）はフィルム平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。ここで、ｄ２は第二の位相差層の厚みを表す。）

本発明の光学フィルムは、第一の位相差層と第二の位相差層とを有し、下記式（１）及び（２）の関係を満たす。
０．４０≦Ｎｚ（４５０）≦０．６０ （１）
０．４０≦Ｎｚ（５５０）≦０．６０ （２）
（式中、Ｎｚ（λ）は波長λ（ｎｍ）の光に対する３次元屈折率の関係を示すＮｚ係数であり、Ｎｚ（λ）＝（ｎｘ（λ）－ｎｚ（λ））／（ｎｘ（λ）－ｎｙ（λ））により示される。ｎｘ（λ）は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙ（λ）は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面対して平行であり、且つ、該ｎｘ（λ）の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚ（λ）は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。）
つまり、本発明の光学フィルムはｎｘ（λ）＞ｎｚ（λ）＞ｎｙ（λ）の３次元屈折率関係を有し、光学フィルムが式（１）及び式（２）の関係を有する事で、ディスプレイ搭載時に色相の優れた表示特性を付与する事ができる。Ｎｚ（λ）はそれぞれ、０．４５≦Ｎｚ（４５０）≦０．５５、０．４５≦Ｎｚ（５５０）≦０．５５であれば、さらに好ましい。ここで、Ｎｚ（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍにおけるＮｚ係数を、Ｎｚ（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍにおけるＮｚ係数を、それぞれ示す。

光学フィルムの各波長λ（ｎｍ）におけるｎｘ（λ）、ｎｙ（λ）、ｎｚ（λ）の関係を示すＮｚ係数（Ｎｚ係数：Ｎｚ（λ））は、以下式により計算される。
Ｎｚ（λ）＝（ｎｘ（λ）－ｎｚ（λ））／（ｎｘ（λ）－ｎｙ（λ））
また、該光学フィルムのＮｚ係数を算出する際、第一の位相差層並びに第二の位相差層の正面位相差値並びに厚み方向の位相差値がわかっている場合には、下記式（Ｃ）によっても算出可能である。
Ｎｚ（λ）＝（Ｒｔｈ１（λ）＋Ｒｔｈ２（λ））／（Ｒｅ１（λ）＋Ｒｅ２（λ））＋０．５ （Ｃ）
（式中、Ｒｅ１（λ）は波長λ（ｎｍ）での第一の位相差層の正面位相差値を、Ｒｅ２（λ）は波長λ（ｎｍ）での第二の位相差層の正面位相差値を、Ｒｔｈ１（λ）は波長λ（ｎｍ）での第一の位相差層の厚み方向の位相差値を、Ｒｔｈ２（λ）は波長λ（ｎｍ）での第二の位相差層の厚み方向の位相差値である。）

［重合性液晶］
重合性液晶化合物は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物である。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

本発明において、重合性液晶化合物としては、前述した逆波長分散性を発現する点で下記式（Ｉ）の構造が特に好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここで言う芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをいう。ここでｎは整数を表す。－Ｎ＝や－Ｓ－等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。
Ｇ^１およびＧ^２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^１、Ｌ^２ _、Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１およびＢ^２、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ^１およびＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓｉ－で置換されていてもよい。Ｐ^１およびＰ^２は互いに独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。

Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－フェニレンジイル基、ハロゲン原子および炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４－フェニレンジイル基、無置換の１，４－フェニレンジイル基、または無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４－フェニレンジイル基、または無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１またはＬ^２に結合するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒ^ａ１ＯＲ^ａ２－、－Ｒ^ａ３ＣＯＯＲ^ａ４－、－Ｒ^ａ５ＯＣＯＲ^ａ６－、Ｒ^ａ７ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ８－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^ｃ＝ＣＲ^ｄ－、または－Ｃ≡Ｃ－である。ここで、Ｒ^ａ１～Ｒ^ａ８はそれぞれ独立に単結合、または炭素数１～４のアルキレン基を表し、Ｒ^ｃおよびＲ^ｄは炭素数１～４のアルキル基または水素原子を表す。Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲ^ａ２－１－、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯＲ^ａ４－１－、または－ＯＣＯＲ^ａ６－１－である。ここで、Ｒ^ａ２－１、Ｒ^ａ４－１、Ｒ^ａ６－１はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－のいずれかを表す。Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、または－ＯＣＯ－である。

Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒ^ａ９ＯＲ^ａ１０－、－Ｒ^ａ１１ＣＯＯＲ^ａ１２－、－Ｒ^ａ１３ＯＣＯＲ^ａ１４－、またはＲ^ａ１５ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ１６－である。ここで、Ｒ^ａ９～Ｒ^ａ１６はそれぞれ独立に単結合、または炭素数１～４のアルキレン基を表す。Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲ^{ａ１０－１}－、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯＲ^{ａ１２－１}－、または－ＯＣＯＲ^{ａ１４－１}－である。ここで、Ｒ^{ａ１０－１}、Ｒ^{ａ１２－１}、Ｒ^{ａ１４－１}はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－のいずれかを表す。Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２－、である。

ｋおよびｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるためさらに好ましい。

Ｅ^１およびＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４～１２のアルカンジイル基がより好ましい。

Ｐ^１またはＰ^２で表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、および電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。

式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２２）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１～１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１～１２のフルオロアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルチオ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルアミノ基、炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルスルファモイル基または炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基を表す。

Ｑ^１、Ｑ^２およびＱ^３は、それぞれ独立に、－ＣＲ^２’Ｒ^３’－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ^２’－、－ＣＯ－または－Ｏ－を表し、Ｒ^２’およびＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。

Ｊ^１、およびＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、または窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、ｍは０～６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４～２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１およびＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。

Ｑ^１、Ｑ^２およびＱ^３は、－ＮＨ－、－Ｓ－、－ＮＲ^２’－、－Ｏ－が好ましく、Ｒ^２’は水素原子が好ましい。中でも－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－が特に好ましい。

式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２２）の中でも、式（Ａｒ－６）および式（Ａｒ－７）が分子の安定性の観点から好ましい。
式（Ａｒ－１６）～（Ａｒ－２２）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。

上記位相差層形成用組成物の固形分１００質量部に占める、重合性液晶化合物の合計の含有量は、通常、７０質量部～９９．５質量部であり、好ましくは８０質量部～９９質量部であり、より好ましくは８０質量部～９４質量部であり、さらに好ましくは８０質量部～９０質量部である。上記合計の含有量が上記範囲内であれば、得られる位相差層の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。

［溶剤］
溶剤としては、重合性液晶化合物を溶解し得る溶剤が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。
溶剤としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、１種類のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、塩素含有溶剤、アミド系溶剤および芳香族炭化水素溶剤が好ましい。

組成物１００質量部に占める溶剤の含有量は、５０質量部～９８質量部が好ましく、７０重量部～９５重量部がより好ましい。従って、組成物１００質量部に占める固形分は、２質量部～５０質量部が好ましい。組成物の固形分が５０質量部以下であると、組成物の粘度が低くなることから、位相差層の厚みが略均一になり、位相差層にムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする位相差層の厚みを考慮して適宜定めることができる。

＜重合開始剤＞
重合開始剤は、熱又は光の寄与によって反応活性種を生成し、重合性液晶等の重合反応を開始し得る化合物である。反応活性種としては、ラジカル又はカチオン又はアニオン等の活性種が挙げられる。中でも反応制御が容易であるという観点から、光照射によってラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Irgacure、登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア１２７、イルガキュア２９５９、イルガキュア７５４、イルガキュア３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ－６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ－１５２、アデカオプトマーＳＰ－１７０、アデカオプトマーＮ－１７１７、アデカオプトマーＮ－１９１９、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ－Ａ、ＴＡＺ－ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）及びＴＡＺ－１０４（三和ケミカル社製）が挙げられる。
位相差層形成用組成物において、含まれる光重合開始剤は、少なくとも１種類であり、１種類若しくは２種類であることが好ましい。

光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ～４００ｎｍであると好ましく、３００ｎｍ～３８０ｎｍであるとより好ましく、中でも、α－アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。

α－アセトフェノン化合物としては、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベンジルブタン－１－オンおよび２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－（４－メチルフェニルメチル）ブタン－１－オン等が挙げられ、より好ましくは２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プロパン－１－オンおよび２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベンジルブタン－１－オンが挙げられる。α－アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）およびセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってメチルラジカルを生成させる。このメチルラジカルにより位相差層の深部における重合性液晶化合物の重合が好適に進行する。また、位相差層の深部での重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤としては、トリアジン化合物やオキシムエステル型カルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル型カルバゾール化合物がより好ましい。オキシムエステル型カルバゾール化合物としては、１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）等が挙げられる。オキシムエステル型カルバゾール化合物の市販品としては、イルガキュアＯＸＥ－０１、イルガキュアＯＸＥ－０２、イルガキュアＯＸＥ－０３（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカオプトマーＮ－１９１９、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

光重合開始剤の添加量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常、０．１質量部～３０質量部であり、好ましくは１質量部～２０質量部であり、より好ましくは１質量部～１５質量部である。上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。

重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類およびβ－ナフトール類が挙げられる。重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１～１０質量部であり、好ましくは０．１～５質量部であり、さらに好ましくは０．１～３質量部である。

さらに、増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１～１０質量部であり、好ましくは０．０５～５質量部であり、さらに好ましくは０．１～３質量部である。

［レベリング剤］
レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シランカップリング剤等のシリコーン系及びポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２－１６１Ａ、ＫＦ６００１、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－５７５、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＢＥ－９００７（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ－４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ－７２、同ＦＣ－４０、同ＦＣ－４３、同ＦＣ－３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ－０８、同Ｒ－３０、同Ｒ－９０、同Ｆ－４１０、同Ｆ－４１１、同Ｆ－４４３、同Ｆ－４４５、同Ｆ－４７０、同Ｆ－４７７、同Ｆ－４７９、同Ｆ－４８２、同Ｆ－４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１、同Ｓ－３８２、同Ｓ－３８３、同Ｓ－３９３、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０５、ＫＨ－４０、ＳＡ－１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ－１０００、ＢＭ－１１００、ＢＹＫ－３５２、ＢＹＫ－３５３およびＢＹＫ－３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。

位相差層形成用組成物におけるレベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１質量部～５質量部が好ましく、０．０５質量部～３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる位相差層がより平滑となる傾向があるため好ましい。位相差層形成用組成物は、レベリング剤を２種類以上含有していてもよい。

［基材］
基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、加工性の観点からフィルム基材が好ましく、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド；等のプラスチックが挙げられる。
市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。
基材の厚さは、実用的な取り扱いができる程度の質量である点では、薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材の厚さは、通常、５μｍ～３００μｍであり、好ましくは２０μｍ～２００μｍである。また、基材を剥離して重合性液晶化合物の配向状態における重合体のみを転写することによって、さらなる薄膜化効果が得られる。

［配向膜］
基材上の位相差層形成用組成物が塗布される面には、配向膜が形成されている事が好ましい。配向膜とは、上記重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる配向規制力を有するものである。

配向膜としては、位相差層形成用組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や後述の重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。

このような配向膜は、重合性液晶化合物の配向を容易にする。また、配向膜の種類やラビング条件や光照射条件によって、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、および傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。

第一の位相差層を形成する配向膜としては、水平方向に配向規制力を示す配向膜が適用される。このような水平配向膜としては、ラビング配向膜、光配向膜および、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられる。長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向膜が好ましい。

ラビング配向膜には、配向性ポリマーを利用することが出来る。配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせてもよい。

ラビング配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物（以下、配向性ポリマー組成物とも言う）を基材に塗布し、溶剤を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで配向規制力を付与することができる。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶剤に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマー組成物に対する配向性ポリマーの含有量は、好ましくは０．１～２０質量％であり、より好ましくは０．１～１０質量％である。

配向性ポリマー組成物は、市場から入手できる。市販の配向性ポリマー組成物としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、後述する位相差層形成用組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと溶剤とを含む光配向膜形成用組成物を基材に塗布し、溶剤を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。

光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

光二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造または桂皮酸エステル構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚さによって調節でき、少なくとも０．２質量％以上とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲がより好ましい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、後述する位相差層形成用組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

偏光を照射するには、基材上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を基材に透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長２５０ｎｍ～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光素子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光素子としては、偏光フィルター、グラントムソン、およびグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドが挙げられる。中でも大面積化と熱による耐性の観点からワイヤーグリッドタイプの偏光素子が好ましい。

尚、ラビング又は偏光照射を行うときに、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、及び、基材上に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。

第一の位相差層を形成するための配向膜の厚さは、通常１０～１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０～１０００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは５０～５００ｎｍの範囲である。

第二の位相差層を形成する配向膜としては、垂直方向に配向規制力を有する配向膜（以下、垂直配向膜とも言う）が適用される。垂直配向膜としては、基板表面の表面張力を下げるような材料を適用する事が好ましい。このような材料としては、先述した配向性ポリマーやパーフルオロアルキル等のフッ素系ポリマー、ポリイミド化合物、シラン化合物並びにそれらの縮合反応により得られるポリシロキサン化合物が挙げられる。表面張力を低下させやすいという点でシラン化合物が好ましい。

シラン化合物としては、先述したシランカップリング剤等のシリコーン系が好適に適用可能であるが、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、３－グリシドキシプロピルエトキシジメチルシランなどが挙げられる。２種以上のシラン化合物を使用してもよい。

シラン化合物は、シリコーンモノマータイプのものであっても良いし、タイプシリコーンオリゴマー（ポリマー）タイプのものであってもよい。シリコーンオリゴマーを（単量体）－（単量体）コポリマーの形式で示すと、例えば、次のようなものを挙げることができる。

３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、及び３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトプロピル基含有のコポリマー；

メルカプトメチルトリメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、及びメルカプトメチルトリエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトメチル基含有のコポリマー；

３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、及び３－メタクリロキシイルオプロピルメチルジエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマーの如き、メタクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；

３－アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、及び３－アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマーの如き、アクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；

ビニルトリメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、及びビニルメチルジエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマーの如き、ビニル基含有のコポリマー；

３－アミノプロピルトリメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－アミノプロピルトリメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－アミノプロピルトリエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－アミノプロピルトリエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマー、３－アミノプロピルメチルジエトキシシラン－テトラメトキシシランコポリマー、及び３－アミノプロピルメチルジエトキシシラン－テトラエトキシシランコポリマーの如き、アミノ基含有のコポリマー等。

中でも分子末端にアルキル基を有するシラン化合物が好ましく、炭素数６から炭素数２０のアルキル基を有するシラン化合物がより好ましい。これらのシラン化合物は、多くの場合、液体であるので、そのまま基材に塗布しても良いし、溶剤に溶解して基材に塗布してもよい。また、バインダーとして各種ポリマーとともに、溶剤に溶かして基材に塗布してもよい。

垂直配向膜を基材に塗布する方法としては、後述する位相差層形成用組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

第二の位相差層を形成するための配向膜の厚さは、通常１０～１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは５０～５０００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは１００～５００ｎｍの範囲である。

≪位相差層の製造方法≫
＜位相差層形成用組成物の塗布＞
上記基材または配向膜上に位相差層形成用組成物が塗布することで位相差層を形成することができる。位相差層形成用組成物を基材上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましく、ガラス等の枚葉基材に塗布する場合には、均一性の高いスピンコーティング法が好ましい。

＜位相差層形成用組成物の乾燥＞
位相差層形成用組成物に含まれる溶剤を除去する乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０～２００℃の範囲が好ましく、２０～１５０℃の範囲がより好ましく、５０～１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間～２０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間～１０分間である。光配向膜形成用組成物および配向性ポリマー組成物も同様に乾燥することができる。

＜重合性液晶化合物の重合＞
重合性液晶化合物を重合させる方法としては、光重合が好ましい。光重合は、基材上または配向膜上に重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物が塗布された積層体に活性エネルギー線を照射することにより実施される。照射する活性エネルギー線としては、乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、およびそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、およびγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０ｍＷ／ｃｍ^２～３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒～１０分であり、好ましくは０．１秒～５分であり、より好ましくは０．１秒～３分であり、さらに好ましくは０．１秒～１分である。このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２～３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ^２～２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ^２～１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。積算光量がこの範囲以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、良好な転写性が得られない場合がある。逆に、積算光量がこの範囲以上である場合には、位相差層を含む光学フィルムが着色する場合がある。

［偏光板］
本発明の楕円偏光板は、偏光板と本発明の光学フィルムを含んで構成されるものであり、例えば、偏光板と本発明の光学フィルムとを粘着剤や接着剤層等を介して貼り合わせることにより本発明の楕円偏光板を得ることができる。
本発明の一実施態様においては、偏光板と本発明の光学フィルムが積層される場合、第一の位相差層の遅相軸（光軸）と偏光板の吸収軸とを実質的に４５°となるように積層することが好ましい。本発明の本発明の光学フィルムの遅相軸（光軸）と偏光板の吸収軸とを実質的に４５°となるように積層することによって、円偏光板としての機能を得ることができる。なお、実質的に４５°とは通常４５±５°の範囲である。

偏光板としては、偏光機能を有する偏光子からなる。偏光子としては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は、吸収異方性を有する色素を塗布配向した膜が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、二色性色素が挙げられる。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。このようにして得られた偏光子と透明保護フィルムを貼り合せることで偏光板が得られる。二色性色素として、ヨウ素や二色性の有機染料が挙げられる。二色性の有機染料としては、C.I. DIRECT RED 39等のジスアゾ化合物からなる二色性直接染料及び、トリスアゾ、テトラキスアゾ等の化合物からなる二色性直接染料等が挙げられる。上述のように、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚さは、好ましくは５μｍ～４０μｍである。

［粘接着剤］
偏光板と本発明の光学フィルムあるいは本発明の光学フィルムと表示装置とを貼り合わせるための粘接着剤としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤及び化学反応型接着剤が挙げられる。化学反応型接着剤としては、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。偏光板と本発明の光学フィルムとの間の粘接着剤としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される接着剤層が好ましく、本発明の光学フィルムと表示装置との間の粘接着材としては、感圧式粘着剤又は活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。

感圧式粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶剤を含んでいてもよい。
ポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、又はポリエーテル等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、接着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じ難いため好ましい。

アクリル系ポリマーとしては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１～２０のアルキル基である（メタ）アクリレート（以下、アクリレート、メタクリレートを総称して（メタ）アクリレートと称することがあり、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して（メタ）アクリル酸と称することがある）と、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。

このような共重合体を含む感圧式粘着剤は、粘着性に優れており、表示装置に貼合した後に取り除くときも、表示装置に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことが可能であるので好ましい。アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、２５℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの質量平均分子量は、１０万以上であることが好ましい。

溶剤としては、前記溶剤として挙げられた溶剤等が挙げられる。感圧式粘着剤は、光拡散剤を含有していてもよい。光拡散剤は、粘着剤に光拡散性を付与する添加剤であり、粘着剤が含むポリマーの屈折率と異なる屈折率を有する微粒子であればよい。光拡散剤としては、無機化合物からなる微粒子、及び有機化合物（ポリマー）からなる微粒子が挙げられる。アクリル系ポリマーを含めて、粘着剤が有効成分として含むポリマーの多くは１．４～１．６程度の屈折率を有するため、その屈折率が１．２～１．８である光拡散剤から適宜選択することが好ましい。粘着剤が有効成分として含むポリマーと光拡散剤との屈折率差は、通常、０．０１以上であり、表示装置の明るさと表示性の観点からは、０．０１～０．２が好ましい。光拡散剤として用いる微粒子は、球形の微粒子、それも単分散に近い微粒子が好ましく、平均粒径が２μｍ～６μｍである微粒子がより好ましい。 屈折率は、一般的な最小偏角法又はアッベ屈折計によって測定される。
無機化合物からなる微粒子としては、酸化アルミニウム（屈折率１．７６）及び酸化ケイ素（屈折率１．４５）等が挙げられる。有機化合物（ポリマー）からなる微粒子としては、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１．４９）、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズ（屈折率１．５０～１．５９）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５５）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５３）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．４６）、及びシリコーン樹脂ビーズ（屈折率１．４６）等が挙げられる。光拡散剤の含有量は、通常、ポリマー１００質量部に対して、３質量部～３０質量部である。
感圧式粘着剤の厚さは、その密着力等に応じて決定されるため、特に制限されないが、通常、１μｍ～４０μｍである。加工性や耐久性等の点から、当該厚さは３μｍ～２５μｍが好ましく、５μｍ～２０μｍがより好ましい。粘着剤から形成される粘接着剤層の厚さを５μｍ～２０μｍとすることにより、表示装置を正面から見た場合や斜めから見た場合の明るさを保ち、表示像のにじみやボケを生じ難くすることができる。

［乾燥固化型接着剤］
乾燥固化型接着剤は、溶剤を含んでいてもよい。
乾燥固化型接着剤としては、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体、又は、ウレタン樹脂を主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体としては、エチレン－マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、アクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、ポリ酢酸ビニルのケン化物、及び、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及び、アミノ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水系の粘接着剤におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、水１００質量部に対して、通常、１質量部～１０質量部であり、好ましくは１質量部～５質量部である。

ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂等が挙げられる。ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分（親水成分）が導入された樹脂である。係るアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の粘接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合することが有効である。

エポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミン又はトリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂等が挙げられる。係るポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、“スミレーズレジン（登録商標）６５０”及び“スミレーズレジン６７５”（以上、住化ケムテックス株式会社製）、“ＷＳ－５２５”（日本ＰＭＣ株式会社製）等が挙げられる。エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常、１質量部～１００質量部であり、好ましくは１質量部～５０質量部である。

乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚さは、通常、０．００１μｍ～５μｍであり、好ましくは０．０１μｍ～２μｍであり、さらに好ましくは０．０１μｍ～０．５μｍである。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、光学異方層が外観不良となり易い。

［活性エネルギー線硬化型接着剤］
活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の接着剤、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有する接着剤、及び、これら重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化される接着剤等が挙げられる。

中でも、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。アクリル系硬化成分としては、メチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸等が挙げられる。エポキシ化合物を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤は、エポキシ化合物以外の化合物をさらに含有していてもよい。エポキシ化合物以外の化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物等が挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、前述した光重合開始剤が挙げられる。カチオン重合開始剤の市販品としては、“カヤラッド”（登録商標）シリーズ（日本化薬株式会社製）、“サイラキュア ＵＶＩ”シリーズ（ダウケミカル社製）、“ＣＰＩ”シリーズ（サンアプロ株式会社製）、“ＴＡＺ”、“ＢＢＩ”及び“ＤＴＳ”（以上、みどり化学株式会社製）、“アデカオプトマー”シリーズ（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、“ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ”（登録商標）（ローディア株式会社製）等が挙げられる。ラジカル重合開始剤並びにカチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤１００質量部に対して、通常、０．５質量部～２０質量部であり、好ましくは１質量部～１５質量部である。

活性エネルギー線硬化型接着剤には、さらに、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤及び消泡剤等が含有されていてもよい。

本明細書において活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられ、紫外線及び電子線が好ましい。好ましい紫外線の照射条件は前述した重合性液晶化合物の重合と同様である。

［表示装置］
本発明は、実施形態の一つとして本発明の光学フィルムを含む表示装置を提供することができる。また、上記表示装置は、上記実施形態に係る楕円偏光板を含み得る。
上記表示装置とは、表示機構を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置等の何れをも含む。これら表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、本発明からなる光学フィルムと偏光板とを備える表示装置としては、有機ＥＬ表示装置及びタッチパネル表示装置が好ましい。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。尚、例中の「％」および「部」は、特記ない限り、質量％および質量部を意味する。また、以下の実施例において使用したポリマーフィルム、装置及び測定方法は以下のとおりである。

・シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムには、日本ゼオン株式会社製のＺＦ－１４を用いた。
・コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ－Ｂ１０を用いた。
・コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。
・偏光ＵＶ照射装置には、ウシオ電機株式会社製の偏光子ユニット付ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－９を用いた。
・高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａを用いた。
・面内方向の位相差値Ｒｅ（λ）は、王子計測機器株式会社製のＫＯＢＲＡ－ＷＰＲを用いて測定した。
・厚み方向の位相差値Ｒｔｈ（λ）、及び膜厚は日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ－２２０を使用して測定した。

［第一の位相差層形成用の配向膜組成物調製］
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３００００）とシクロペンタノン（溶剤）９５部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、第一の位相差層形成用の配向膜組成物を得た。

［第二の位相差層形成用の配向膜組成物調製］
信越化学工業株式会社製のシランカップリング剤ＫＢＥ－９１０３を、エタノールと水を９：１（重量比）の割合で混合した混合溶媒に溶解させ、固形分１％の第二の位相差層形成用の配向膜組成物を得た。

［第一、及び第二の位相差層形成用組成物調製（組成物Ｉ～ＩＶ）］
以下に記載の重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂの混合物に対して、レベリング剤（Ｆ－５５６；ＤＩＣ社製）を０．１部、及び重合開始剤２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）；ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。
更に、固形分濃度が１３％となるようにＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）を溶剤として添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、第一、及び第二の位相差層形成用組成物を得た。尚、重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂの混合物比率は、目的の波長分散値αに合わせて、表１に記載の通り添加しており、それぞれの組成物の名称を表１に記載の通りとする。

※重合性液晶化合物Ａ、及びＢの比率は、重合性液晶化合物総量に対する比率とする。

重合性液晶化合物Ａは特開２０１０－３１２２３号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９－１７３８９３に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。

重合性液晶化合物Ａ

重合性液晶化合物Ｂ

［第一、及び第二の位相差層形成用の液晶組成物調製（組成物Ｖ）］
以下に記載の液晶化合物ＬＣ２４２：ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社登録商標）に対して、レベリング剤Ｆ－５５６を０．１部、及び重合開始剤Ｉｒｇ３６９を３部添加し、固形分濃度が１３％となるようにシクロペンタノンを添加して、第一、及び第二の位相差層形成用の液晶組成物を得た。得られた液晶組成物の名称を“組成物Ｖ“とする。
液晶化合物ＬＣ２４２：ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社登録商標）

（実施例１）
［第一の位相差層の製造］
日本ゼオン株式会社製のＣＯＰフィルム（ＺＦ－１４－５０）上に、第一の位相差層形成用の配向膜組成物をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－９；ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３１３ｎｍにおける積算光量：１００ｍＪ／ｃｍ^２で軸角度４５°にて偏光ＵＶ露光を実施した。得られた第一の位相差層形成用配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、１００ｎｍであった。
続いて、第一の位相差層形成用配向膜に組成物Ｉを、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、位相差層の組成物を塗布した面側から紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、第一の位相差層を形成した。得られた第一の位相差層形成用配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、２．３μｍであった。

［第二の位相差層の製造］
日本ゼオン株式会社製のＣＯＰフィルム（ＺＦ－１４－５０）上に、第二の位相差層形成用の配向膜組成物をバーコーター塗布し、１２０℃で１分間乾燥し、第二の位相差層形成用配向膜を得た。得られた第二の位相差層形成用配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、２００ｎｍであった。
続いて、第二の位相差層形成用配向膜に組成物Ｉを、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、位相差層の組成物を塗布した面側から紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、第二の位相差層を形成した。得られた第二の位相差層形成用配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、１．２μｍであった。

［第一の位相差層及び第二の位相差層のＲｅ測定］
上記方法にて製造した第一の位相差層及び第二の位相差層の面内位相差値（Ｒｅ１（λ）およびＲｅ２（λ））は基材であるシクロオレフィンポリマーフィルムには位相差がない事を確認したうえで、測定機（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器社製）により、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍの波長λでそれぞれ測定した。得られた結果を表２に示す。

［第一の位相差層及び第二の位相差層のＲｔｈ測定］
上記方法にて製造した第一の位相差層及び第二の位相差層の厚み方向位相差値（Ｒｔｈ１（λ）およびＲｔｈ２（λ））は基材であるシクロオレフィンポリマーフィルムには位相差がない事を確認したうえで、エリプソメータによりサンプルへの光の入射角を変えて測定した。また、４５０ｎｍ及び５５０ｎｍの波長λにおける平均屈折率は屈折率計（株式会社アタゴ製「多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ４」）を用いて測定した。得られた膜厚、平均屈折率、及びエリプソメータの測定結果から算出される４５０ｎｍ及び５５０ｎｍの波長λにおけるＲｔｈ１（λ）およびＲｔｈ２（λ）を表２に示す。

［Ｎｚ（λ）の算出］
第一の位相差層、及び第二の位相差層を積層した光学フィルムのＮｚ（λ）は式（Ｃ）に準じて算出した。算出した結果を表２に示す。

なお、得られた第一の位相差層の屈折率ｎｘ１（λ）、ｎｙ１（λ）およびｎｚ１（λ）は、波長λ＝４００～７００ｎｍの全域においてｎｘ１（λ）＞ｎｙ１（λ）≒ｎｚ１（λ）を満たす。また、第二の位相差層の屈折率ｎｘ２（λ）、ｎｙ２（λ）およびｎｚ２（λ）は、波長λ＝４００～７００ｎｍの全域においてｎｚ２（λ）＞ｎｘ２（λ）≒ｎｙ２（λ）を満たす。

［偏光板の製造］
平均重合度約２,４００、ケン化度９９.９モル％以上で厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０.０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１２／５／１００の水溶液に、５６.５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。ホウ酸処理工程を経たポリビニルアルコールフィルムを８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子（延伸後の厚さ２７μｍ）を得た。この際、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において延伸を行った。かかる延伸におけるトータル延伸倍率は５.３倍であった。得られた偏光子と、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ製 ＫＣ４ＵＹＴＡＣ ４０μｍ）とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍの保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する偏光板を得た。尚、前記水系接着剤は水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレ製 クラレポバール ＫＬ３１８）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（住化ケムテックス製 スミレーズレジン６５０ 固形分濃度３０％の水溶液〕１.５部を添加して調製した。

得られた偏光板について光学特性の測定を行った。測定は上記で得られた偏光板の偏光子面を入射面として分光光度計（Ｖ７１００、日本分光製）にて実施した。得られた視感度補正単体透過率は４２．１％、視感度補正偏光度は９９．９９６％、単体色相ａは －１．１、単体色相ｂは３．７であった。

［楕円偏光板の製造］
まず、第一の位相差層の重合性液晶化合物塗布面に対してコロナ処理を実施した後、前述の方法にて製造された偏光板に対して、粘着剤（リンテック社製 感圧式粘着剤 ５μｍ）を介して貼合した後、基材を剥離して偏光板と第一の位相差層の積層体を形成した。続いて、第二の位相差層の重合性液晶化合物塗布面に対してコロナ処理を実施した後、粘着剤（リンテック社製 感圧式粘着剤 ５μｍ）を介して、偏光板と第一の位相差層の積層体の内の第一の位相差層と、第二の位相差層を貼合した。この後、基材を剥離して楕円偏光板を製造した。

［正面色相、及び斜方色相変化の確認］
得られた楕円偏光板を、粘着剤を介して鏡に貼合した後、正面から５０ｃｍ離れて目視で観察して色相を確認した。また、仰角６０°、方位角０～３６０°方向から５０ｃｍ離れて目視で観察し、斜方の色相を確認した。確認した結果を表２に示す。
なお、正面色相、および斜方色相は以下のとおりである。
◎：明瞭な黒、○：黒、△：赤、又は青味を帯びた黒、×：赤、又は青

（実施例２～３０、比較例１～１２）
組成物Ｉを表２の記載に従って、それぞれ組成物ＩＩあるいは組成物ＩＩＩあるいは組成物ＩＶあるいは組成物Ｖに変更した以外は実施例１と同様にして光学フィルム及び楕円偏光板を作製した。それぞれの測定結果を表２に示す。
なお、実施例２～実施例３０で得られた第一の位相差層の屈折率ｎｘ１（λ）、ｎｙ１（λ）およびｎｚ１（λ）は、波長λ＝４００～７００ｎｍの全域においてｎｘ１（λ）＞ｎｙ１（λ）≒ｎｚ１（λ）を満たす。また、第二の位相差層の屈折率ｎｘ２（λ）、ｎｙ２（λ）およびｎｚ２（λ）は、波長λ＝４００～７００ｎｍの全域においてｎｚ２（λ）＞ｎｘ２（λ）≒ｎｙ２（λ）を満たす。

（実施例３１）
組成物Ｉを表２の記載に従って変更し、且つ楕円偏光板の製造方法における第一の位相差層と第二の位相差層の積層順序を、先に偏光板と第二の位相差層を積層した後に、偏光板と第二の位相差層の積層体と第一の位相差層を積層する順序に変更した以外は、実施例１と同様にして光学フィルム及び楕円偏光板を作製した。測定結果を表２に示す。
なお、実施例３１で得られた第一の位相差層の屈折率ｎｘ１（λ）、ｎｙ１（λ）およびｎｚ１（λ）は、波長λ＝４００～７００ｎｍの全域においてｎｘ１（λ）＞ｎｙ１（λ）≒ｎｚ１（λ）を満たす。また、第二の位相差層の屈折率ｎｘ２（λ）、ｎｙ２（λ）およびｎｚ２（λ）は、波長λ＝４００～７００ｎｍの全域においてｎｚ２（λ）＞ｎｘ２（λ）≒ｎｙ２（λ）を満たす。

実施例に記載の第一の位相差層及び第二の位相差層を有する楕円偏光板は、正面色相、及び斜方色相が黒となり、優れた反射防止特性を有する。

Claims (9)

1. 位相差層が、第一の位相差層と第二の位相差層とからなる光学フィルムであって、
   下記式（１）及び（２）の関係を満たし、
   ０．４≦Ｎｚ（４５０）≦０．６ （１）
   ０．４≦Ｎｚ（５５０）≦０．６ （２）
   〔式中、Ｎｚ（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する光学フィルムのＮｚ係数を、Ｎｚ（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する光学フィルムのＮｚ係数をそれぞれ示し、波長λ（ｎｍ）の光に対する光学フィルムのＮｚ係数Ｎｚ（λ）は
   Ｎｚ（λ）＝（ｎｘ（λ）－ｎｚ（λ））／（ｎｘ（λ）－ｎｙ（λ））
   により示される。ｎｘ（λ）は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙ（λ）は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面対して平行であり、且つ、該ｎｘ（λ）の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。
   ｎｚ（λ）は、光学フィルムが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。〕
   第一の位相差層が、
   第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ＝４００～７００ｎｍの範囲で、ｎｘ１（λ）＞ｎｙ１（λ）≒ｎｚ１（λ）
   〔式中、ｎｘ１（λ）は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙ１（λ）は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘ１（λ）の方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ｎｚ１（λ）は第一の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。〕
   の関係を有し、下記式（３）、（４）及び（７）
   ０．８２≦Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．００ （３）
   １．００≦Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０） （４）
   １２０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１７０ｎｍ （７）
   〔式中、Ｒｅ１（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する第一位相差層の面内位相差値を、Ｒｅ１（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する第一位相差層の面内位相差値を、Ｒｅ１（６５０）は波長λ＝６５０ｎｍの光に対する第一位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λｎｍの光に対する第一位相差層の面内位相差値Ｒｅ１（λ）は、
   Ｒｅ１（λ）＝（ｎｘ１（λ）－ｎｙ１（λ））×ｄ１
   で表される。ここで、ｄ１は第一の位相差層の厚みを表す。〕の関係を満たし、
   厚さが５μｍ以下であり、
   第二の位相差層は、
   第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ＝４００～７００ｎｍの範囲で、
   ｎｚ２（λ）＞ｎｘ２（λ）≒ｎｙ２（λ）
   〔式中、ｎｚ２（λ）は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。ｎｘ２（λ）は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対するフィルム平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ｎｙ２（λ）は第二の位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘ２の方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ただし、ｎｘ２（λ）＝ｎｙ２（λ）となる場合には、ｎｘ２（λ）はフィルム平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。〕
   の関係を有し、
   下記式（５）、（６）及び（８）
   Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦１．００ （５）
   １．００≦Ｒｔｈ２（６５０）／Ｒｔｈ２（５５０） （６）
   －１００ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦－５０ｎｍ （８）
   〔式中、Ｒｔｈ２（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値を、Ｒｔｈ２（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値を、Ｒｔｈ２（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ（ｎｍ）の光に対する第二の位相差層の厚み方向の位相差値Ｒｔｈ２（λ）は、
   Ｒｔｈ２（λ）＝[（ｎｘ２（λ）＋ｎｙ２（λ））／２－ｎｚ２（λ）]×ｄ２
   で表される。ここで、第二の位相差層が形成する屈折率楕円体においてｎｚ２（λ）は波長λ（ｎｍ）におけるフィルム平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、（（ｎｘ２（λ）＋ｎｙ２（λ））／２）は、波長λ（ｎｍ）におけるフィルム平面での平均屈折率を表す。ｄ２は第二の位相差層の厚みを表す。〕で表される光学特性を有し、
   厚さが５μｍ以下である、
   光学フィルム。
2. 第二の位相差層が重合性液晶を配向した状態で重合させることにより形成されるコーティング層からなるフィルムである請求項１に記載の光学フィルム。
3. 第一の位相差層が重合性液晶を配向した状態で重合させることにより形成されるコーティング層からなるフィルムである請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. 第一の位相差層と第二の位相差層が同一の重合性液晶化合物を主として重合させることにより形成されるコーティング層である請求項１～３のいずれかに記載の光学フィルム。
5. 請求項１～４のいずれかに記載の光学フィルムと偏光板とを有し、偏光板、粘接着層、第一の位相差層、粘接着層、第二の位相差層がこの順に形成された光学積層体である光学補償機能付き楕円偏光板。
6. 請求項１～４のいずれかに記載の光学フィルムと偏光板とを有し、偏光板、粘接着層、第二の位相差層、粘接着層、第一の位相差層がこの順に形成された光学積層体である、光学補償機能付き楕円偏光板。
7. 偏光板の吸収軸と第一の位相差層の遅相軸がフィルム面内で４５±５°又は１３５±５°の関係を有し、かつ、偏光板の吸収軸並びに第一の位相差層の遅相軸と第二の位相差層の遅相軸がフィルム面に対して鉛直方向に直交する請求項５又は６に記載の光学補償機能付き楕円偏光板。
8. 請求項５～７のいずれかに記載の光学補償機能付き楕円偏光板を備える有機ＥＬ表示装置。
9. 下記工程全てを含む、請求項５～７のいずれかに記載の光学補償機能付き楕円偏光板の製造方法。
   （工程１－Ａ）水平配向膜を形成した基材上に重合性液晶化合物を塗布した後に、水平配向した状態で重合させることによって第一の位相差層を形成させる工程と、
   （工程１－Ｂ）垂直配向膜を形成した基材上に重合性液晶化合物を塗布した後に、垂直配向した状態で重合させることによって第二の位相差層を形成させる工程と、
   （工程２）粘接着剤を介して該第一の位相差層の液晶重合体と該第二の位相差層の液晶重合体を各々基材から転写させて偏光板に積層する工程