JP7166049B2 - 楕円偏光板 - Google Patents

Description

本発明は、楕円偏光板に関する。また、本発明は、楕円偏光板を備える表示装置および楕円偏光板の製造方法にも関する。

フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板や位相差板等の光学フィルムが用いられている。このような偏光板としては、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素等の二色性色素が配向吸着された偏光層と保護フィルムからなる偏光板が広く用いられている。位相差板としては、シクロオレフィン系樹脂フィルムやポリカーボネート系樹脂フィルムまたは、トリアセチルセルロース系樹脂フィルムを延伸した位相差板が広く知られている。近年の薄型化に伴い、重合性液晶化合物を含む組成物を基材に塗布することにより製造される薄膜の偏光板ならびに位相差板が開発されている。例えば、特許文献１には、逆波長分散性を示す位相差膜、特許文献２には、高い偏光性能を示す偏光層が開示されている。また、更に薄膜化のために、例えば特許文献３には保護層を介して偏光層と位相差膜を形成する技術が開発されている。これらの偏光層と位相差層とは互いに積層して楕円偏光板として用いられることが多い。

特表２０１０－５３７９５５号公報 特表２０１３－１０１３２８号公報 特表２０１４－６３１４３号公報

しかしながら、このようにして得られる従前の楕円偏光板は、偏光層に配向欠陥や光軸ズレが生じるという問題があった。偏光層の配向欠陥は、欠陥部分で楕円偏光板としての機能を損なう。また、光軸ズレは楕円偏光板としての機能を損なう。
本発明者らが検討した結果、配向欠陥や光軸ズレが抑制された偏光板を提供し得ることを見出した。
本発明は、偏光層の配向欠陥や光軸ズレが抑制された楕円偏光板を提供することを目的とする。

即ち、本発明は、以下の[１]～[１３]を提供するものである。
[１]透明基材上に、配向層Ａ、位相差層、配向層Ｂおよび偏光層がこの順で設けられた楕円偏光板であって、
前記偏光層と前記位相差層の光軸が実質的に平行関係でなく、
前記位相差層は、重合性液晶化合物の重合体から構成される膜であり、
前記配向層Ｂが、８０ｎｍ～８００ｎｍの厚さを有する膜であり、
前記偏光層が、重合性液晶化合物の重合体から構成される膜中に二色性色素が分散配向した膜である。
楕円偏光板。
[２] 前記透明基材、配向層Ａ、位相差層、配向層Ｂ、偏光層の平均屈折率が全て１．４～１．７の範囲である[１]記載の楕円偏光板。
[３] 隣接する層の屈折率差が０．２以下である[１]または[２]記載の楕円偏光板。
[４] 前記偏光層と位相差層の光軸のなす角が４０°～５０°の範囲である[１]～[３]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[５] 前記配向層Ａ及び配向層Ｂが共に光配向膜である[１]～[４]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[６] 前記配向層Ａ及び配向層Ｂがシンナモイル基を含有する光配向膜である[１]～[５]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[７] 前記配向層Ａ及び配向層Ｂが重量平均分子量２００００～５００００である樹脂を含有する光配向膜である[１]～[６]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[８] 前記偏光層が、スメクチック液晶状態の重合体から構成される膜である[１]～[７]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[９] 前記二色性色素が、アゾ色素である[１]～[８]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[１０] 前記位相差層が以下の式を全てみたす[１]～[９]のいずれかに記載の楕円偏光板。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ …（１）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０ …（２）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） …（３）
（Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける面内リタデーションを表す。）
[１１] [１]～[１０]のいずれかに記載の楕円偏光板を備えた液晶表示装置。
[１２] [１]～[１１]のいずれかに記載の楕円偏光板を備えた有機ＥＬ表示装置。
[１３] 透明基材上に、
配向材料Ａと溶剤を含む組成物を塗布し、乾燥後に偏光ＵＶを照射して配向層Ａを形成する工程（１）と、
前記配向層Ａ上に、重合性液晶化合物、重合開始剤及び溶剤を含有した組成物を塗布して、乾燥後にＵＶ照射して液晶状態で重合させる事で位相差層を形成する工程（２）と、
配向材料Ｂと溶剤を含む組成物を塗布し、乾燥後に偏光ＵＶを照射して配向層Ｂを形成する工程（３）と、
前記配向層Ｂ上に、重合性液晶化合物、二色性色素、重合開始剤及び溶剤を含有した組成物を塗布して、乾燥後にＵＶ照射して液晶状態で重合させる事で偏光層を形成する工程（４）と、を有する楕円偏光板の製造方法。

本発明によれば、位相差層と偏光層の光軸ズレと配向欠陥発生が抑制された楕円偏光板を提供することが可能となる。

以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。

本発明の楕円偏光板は、透明基材上に、配向層Ａ、位相差層、配向層Ｂ、偏光層がこの順で設けられた楕円偏光板である。

［透明基材］
透明基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、フィルム基材が好ましい、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。
フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド；等のプラスチックが挙げられる。
市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。
基材の厚さは、実用的な取り扱いが容易である点では、薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材の厚さは、通常、５μｍ～３００μｍであり、好ましくは２０μｍ～２００μｍである。

［配向層Ａ（位相差層を形成するための配向膜）］
透明基材上には、まず配向層Ａが形成されている。配向層Ａ（又は配向膜Ａと呼ぶ）は、位相差層の形成に用いる重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる配向規制力を有する層である。
配向層Ａとしては、後述する液晶化合物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や後述の重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜の種類としては、ラビング配向膜、光配向膜および、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられる。長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、偏光照射により配向規制力を誘起される光配向膜が好ましい。
このような配向膜は、重合性液晶化合物の配向を容易にする。また、配向膜の種類やラビング条件や光照射条件によって、水平配向、ハイブリッド配向、および傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。
位相差層を形成するために用いる配向層Ａは、後述する配向層Ｂに記載の配向膜を使用することが可能である。配向層Ｂは配向層Ａと同じであっても、異なっていてもよい。

配向層Ａの厚さは、通常１０～１００００ｎｍ（０．０１μｍ～１０μｍ）の範囲であり、好ましくは８０～８００ｎｍ（０．０８μｍ～０．８μｍ）の範囲であり、さらに好ましくは１００～５００ｎｍ（０．１μｍ～０．５μｍ）の範囲である。この膜厚範囲内で配向層Ａを形成する事により、配向欠陥を抑制する事が可能である。
［位相差層］

本発明の楕円偏光板は配向層Ａの次に位相差層を有する。この位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物（以下、位相差層形成用組成物とも呼ぶ）を配向層Ａ上に塗布して塗布層を形成し、この塗布層において重合性液晶化合物を配向した状態とし、この状態で重合硬化させて、重合体からなる層とすることが、薄型化ならびに波長分散特性を任意に設計できる点で好ましい。また、位相差層の形成用に用いられる組成物（以下、位相差層形成用組成物という）は、溶剤、光重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び密着性向上剤等をさらに含み得る。

本発明の楕円偏光板における位相差層は、通常、基材上に形成された配向層Ａに、位相差層形成用組成物を塗布し、上記光学異方層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することによって形成される。位相差層は、通常、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した、厚さが５μｍ以下の膜であり、好ましくは重合性液晶化合物が基材面に対して水平方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜である。

重合性液晶化合物が基材面に対して水平方向に配向した状態で硬化した位相差層は、波長λｎｍの光に対する面内位相差であるＲ（λ）が、下記式（１）に示される光学特性を満たすことが好ましく、下記式（１）、下記式（２）及び下記式（３）で示される光学特性を満たすことがより好ましい。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ …（１）
（式中、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値（面内リタデーション）を表す。）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０ …（２）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） …（３）
（式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
位相差層の「Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）」が１．０を超えると、当該位相差層を備える楕円偏光板での短波長側での光抜けが大きくなることから１．０以下が好ましく、より好ましくは０．９５以下、さらに好ましくは０．９２以下である。

位相差層の面内位相差値は、位相差層の厚さによって調整することができる。面内位相差値は下記式（４）によって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ（λ））を得るには、Δｎ（λ）と膜厚ｄとを調整すればよい。位相差層の厚さは、０．５μｍ～５μｍが好ましく、１μｍ～３μｍがより好ましい。位相差層の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡又は触針式膜厚計により測定することができる。尚、Δｎ（λ）は、後述する重合性液晶化合物の分子構造に依存する。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） …（４）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）

［位相差層形成用の重合性液晶化合物］
重合性液晶化合物とは、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物である。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック相構造でもスメクチック相構造でもよい。

本発明において、位相差層を形成する重合性液晶化合物としては、前述した逆波長分散性を発現する点で下記式（Ｉ）の構造を有する化合物が特に好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒは２価の芳香族基を表し、該２価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれる。
Ｇ^１およびＧ^２はそれぞれ独立に、２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^１、Ｌ^２ _、Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１およびＢ^２、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｅ^１およびＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓｉ－で置換されていてもよい。
Ｐ^１およびＰ^２は互いに独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。

Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－フェニル基、ハロゲン原子および炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－シクロヘキシル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４－フェニル基、無置換の１，４－フェニル基、または無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロヘキシル基であり、特に好ましくは無置換の１，４－フェニル基、または無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロヘキシル基である。
また、複数存在するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは２価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１またはＬ^２に結合するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは２価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^ａ＝ＣＲ^ｂ－、または－Ｃ≡Ｃ－である。ここでＲ^ａおよびＲ^ｂは炭素数１～４のアルキル基または水素原子を表す。Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－である。

Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－であり、より好ましくは、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－である。

ｋおよびｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。

Ｅ^１およびＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４～１２のアルカンジイル基がより好ましい。

Ｐ^１またはＰ^２で表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。
中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ａｒは芳香族複素環を有することが好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがより好ましい。
また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは１０以上が好ましく、より好ましくは１４以上であり、さらに好ましくは１８以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。

式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２０）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１～１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１～１２のフルオロアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルチオ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルアミノ基、炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルスルファモイル基または炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基を表す。

Ｑ^１、Ｑ^２およびＱ^３は、それぞれ独立に、－ＣＲ^２’Ｒ^３’－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ^２’－、－ＣＯ－または－Ｏ－を表し、Ｒ^２’およびＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、ｍは０～６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４～２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１およびＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。

Ｑ^１、Ｑ^２およびＱ^３は、－ＮＨ－、－Ｓ－、－ＮＲ^２’－、－Ｏ－が好ましく、Ｒ^２’は水素原子が好ましい。中でも－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－が特に好ましい。

式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２０）の中でも、式（Ａｒ－６）および式（Ａｒ－７）が分子の安定性の観点から好ましい。
式（Ａｒ－１４）～（Ａｒ－２０）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。

上記位相差層形成用組成物の固形分１００質量部に占める、重合性液晶化合物の合計の含有量は、通常、７０質量部～９９．５質量部であり、好ましくは８０質量部～９９質量部であり、より好ましくは８０質量部～９４質量部である。上記合計の含有量が上記範囲内であれば、得られる位相差層の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。

［配向層Ｂ（偏光層を形成するための配向膜）］
本発明の楕円偏光板は、位相差層の次に配向層Ｂを有する。配向層Ｂは、偏光層を形成するための配向膜である。
配向層Ｂとしては、後述する偏光層形成用組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や後述の重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜の種類としては、ラビング配向膜、光配向膜および、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられる。長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、偏光照射により配向規制力を誘起される光配向膜が好ましい。
このような配向膜は、重合性液晶化合物の配向を容易にする。また、配向膜の種類やラビング条件や光照射条件によって、水平配向、ハイブリッド配向、および傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。

配向層Ｂの厚さは、８０～８００ｎｍ（０．０８μｍ～０．８μｍ）の範囲であり、好ましくは１００～５００ｎｍ（０．１μｍ～０．５μｍ）の範囲であり、更に好ましくは１５０ｎｍ（０．１５μｍ）以上である。この範囲よりも膜厚が小さい場合には、配向層の直下に形成されている層、すなわち位相差層などの影響を受け、配向層Ｂの次の偏光層の光軸が所望の値からずれる場合がある。一方で、この範囲よりも膜厚が大きい場合には、配向規制力が低下して偏光層に配向欠陥が生じる場合がある。

ラビング配向膜に用いられる配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせてもよい。

ラビング配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物を基材に塗布し、溶剤を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで配向規制力を付与することができる。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶剤に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマー組成物に対する配向性ポリマーの含有量は、好ましくは０．１～２０質量％であり、より好ましくは０．１～１０質量％である。

配向性ポリマー組成物は、市場から入手できる。市販の配向性ポリマー組成物としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。

配向性ポリマー組成物を塗布する方法としては、後述する光学異方性層形成用組成物を塗布する方法と同様の方法が挙げられる。配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと溶剤とを含む光配向膜形成用組成物を基材等の上に塗布し、溶剤を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。

光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

光二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造または桂皮酸エステル構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚さによって調節でき、少なくとも０．２質量％以上とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲がより好ましい。

光配向膜形成用組成物を塗布する方法としては、後述する光学異方性層形成用組成物を塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

偏光を照射するには、基材等の上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、塗布される基材等の側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長２５０ｎｍ～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。
前記光源からの光を、適当な偏光素子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光素子としては、偏光フィルター、グラントムソン、およびグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドが挙げられる。中でも大面積化と熱による耐性の観点からワイヤーグリッドタイプの偏光素子が好ましい。

尚、ラビング又は偏光照射を行うときに、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（groove）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、樹脂層を基材等へ移してから硬化する方法、及び、基材等の上に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。

［偏光層］
本発明の楕円偏光板は、配向層Ｂの次に偏光層を有する。この偏光層は、重合性液晶化合物を含む組成物（以下、「偏光層形成用組成物」ともいう）を配向層Ｂ上に塗布形成し、二色性色素と重合性液晶化合物が配向した状態における重合性液晶化合物の重合体からなる偏光層を形成することで作製することができる。すなわち、液晶化合物中に包摂された二色性色素によって光が異方性吸収されることによって、吸収軸に平行な振動面を有する直線偏光成分は吸収し、直交する振動面を有する直線偏光成分を透過する偏光板となる。このような偏光板は二色性色素により色相を任意に制御可能である点、ならびに薄型化できる点で好ましい。また、偏光層形成用組成物は、溶剤、光重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び密着性向上剤等をさらに含み得る。

本発明の楕円偏光板における偏光層は、通常、透明基材等の上に形成された配向層Ｂ上に、偏光層形成用組成物を塗布し、上記偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することによって形成される。偏光層は、通常、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した、厚さが５μｍ以下の膜であり、好ましくは４μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以下である。膜厚がこの範囲よりも厚くなると配向膜による配向規制力が低下し、配向欠陥を生じやすい傾向にある。

Ｘ－Ｙ平面での偏光特性を得る場合には、二色性色素と重合性液晶化合物が透明基材面に対して水平配向した状態で重合性液晶化合物を硬化すればよいし、Ｚ方向（偏光層の膜厚方向）での偏光特性を得る場合には、二色性色素と重合性液晶化合物が透明基材面に対して垂直配向した状態で重合性液晶化合物を硬化すればよい。この際、偏光吸収の選択性の観点から、好ましくは重合性液晶化合物がスメクチック液晶相の状態で硬化した液晶硬化膜であり、さらに好ましくは高次スメクチック液晶相の状態で硬化した液晶硬化膜である。ここでいう高次スメクチック液晶相とは、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相及びスメクチックＬ相であり、中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相及びスメクチックＩ相がより好ましい。

これらの高次スメクチック液晶相であると、配向秩序度のより高い偏光層を製造することができる。また、このように配向秩序度の高い高次スメクチック液晶相から作製した偏光層はＸ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られるものである。当該ブラッグピークとは、分子配向の面周期構造に由来するピークであり、本実施形態に係る偏光層形成用組成物によれば、周期間隔が３．０～５．０Åである偏光層を得ることができる。

重合性液晶化合物が、ネマチック液晶相やスメクチック液晶相を示すか否かは、例えば、以下のようにして確認できる。基材に偏光層形成用組成物を塗布して塗布膜を形成した後、重合性液晶化合物が重合しない条件で加熱処理することで塗布膜に含有される溶剤を除去する。続いて、基材上に形成された塗布膜を等方相温度まで加熱し、徐々に冷却することで発現する液晶相を、偏光顕微鏡によるテクスチャー観察、Ｘ線回折測定又は示差走査熱量測定により検査する。ネマチック液晶相及びスメクチック液晶相において、重合性液晶化合物と二色性色素とが相分離していないことは、例えば、各種顕微鏡による表面観察やヘイズメーターによる散乱度測定により確認できる。

二色性色素と重合性液晶化合物が透明基材面に対して水平配向した状態で重合性液晶化合物を硬化した光学異方層は、波長λｎｍの光に対する液晶配向水平方向の吸光度Ａ１（λ）と液晶配向垂直方向の吸光度Ａ２（λ）の比（二色比）が７以上であれば好ましく、２０以上であればより好ましく、さらに好ましくは３０以上である。この値が高ければ高い程、吸収選択性の優れる偏光板である。二色性色素の種類にもよるが、ネマチック液晶相の状態で硬化した液晶硬化膜の場合には５～１０程度である。

吸収波長の異なる２種以上の二色性色素を混合することで、様々な色相の偏光層を作製することができ、可視光全域に吸収を有する偏光層とすることができる。このような吸収特性を有する偏光層とすることで、黒色化することができ、様々な用途に展開しうる。偏光層の偏光性能は、分光光度計を用いて測定することができる。例えば、可視光である波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で透過軸方向（配向垂直方向）の透過率（Ｔ１）及び吸収軸方向（配向同一方向）の透過率（Ｔ２）を、分光光度計に偏光子付フォルダーをセットした装置を用いてダブルビーム法で測定することができる。可視光範囲での偏光性能は、下記式（式１）ならびに（式２）を用いて、各波長における単体透過率、偏光度を算出し、さらにＪＩＳ Ｚ ８７０１の２度視野(Ｃ光源)により視感度補正を行うことで、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）および視感度補正偏光度（Ｐｙ）で算出することができる。また、同様に測定した透過率からＣ光源の等色関数を用いて、Ｌ＊ａ＊ｂ＊（ＣＩＥ）表色系における色度ａ＊及びｂ＊を算出することで、偏光板単体の色相（単体色相）、偏光板を平行配置した色相（平行色相）、偏光板を直交配置した色相（直交色相）が得られる。
ａ＊及びｂ＊は値が０に近いほど、ニュートラルな色相であると判断できる。

単体透過率（％）＝ （Ｔ１＋Ｔ２）／２ ・・・（式１）
偏光度（％） ＝ （Ｔ１－Ｔ２）／（Ｔ１＋Ｔ２）×１００ ・・・（式２）

［偏光層形成用の重合性液晶化合物］
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基は、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶はサーモトロピック液晶でもリオトロピック液晶でもよいが、後述する二色性色素と混合する場合には、サーモトロピック液晶が好ましい。

重合性液晶化合物がサーモトロピック液晶である場合は、ネマチック液晶相を示すサーモトロピック性液晶化合物であってもよいし、スメクチック液晶相を示すサーモトロピック性液晶化合物であってもよい。本発明において重合性液晶化合物は、より高い偏光特性が得られるという観点から、好ましくはスメクチック液晶化合物であり、より好ましくは高次スメクチック液晶化合物である。中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相またはスメクチックＬ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がより好ましく、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相またはスメクチックＩ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がさらに好ましい。重合性液晶化合物が形成する液晶相がこれらの高次スメクチック相であると、偏光性能のより高い偏光層を製造することができる。また、このように偏光性能の高い偏光層はＸ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られるものである。当該ブラッグピークは分子配向の周期構造に由来するピークであり、その周期間隔が３～６Åである膜を得ることができる。本発明で用いる偏光層は、この重合性液晶化合物がスメクチック相の状態で重合された重合性液晶化合物の重合体を含むことが、より高い偏光特性が得られるという観点から好ましい。

このような化合物としては、具体的には、下記式（Ａ）で表される化合物（以下、化合物（Ａ）ということがある。）等が挙げられる。当該重合性液晶化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

Ｕ^１－Ｖ^１－Ｗ^１－Ｘ^１－Ｙ^１－Ｘ^２－Ｙ^２－Ｘ^３－Ｗ^２－Ｖ^２－Ｕ^２ （Ａ）［式（Ａ）中、
Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３は、それぞれ独立に、２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基を表し、ここで、該２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子または硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。ただし、Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基である。
Ｙ^１、Ｙ^２、Ｗ^１およびＷ^２は、互いに独立に、単結合または二価の連結基である。
Ｖ^１およびＶ^２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－またはＮＨ－に置き換わっていてもよい。
Ｕ^１およびＵ^２は、互いに独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。

化合物（Ａ）において、Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、または、置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基であることが好ましい。特に、Ｘ^１およびＸ^３は置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基であることがより好ましく、該シクロへキサン－１，４－ジイル基は、トランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基であることがさらに好ましい。トランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基の構造を含む場合、スメクチック液晶性が発現しやすい傾向にある。また、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、または、置換基を有していてもよいシクロへキサン－１，４－ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基およびブチル基などの炭素数１～４のアルキル基、シアノ基および塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子が挙げられるが、好ましくは無置換である。

Ｙ^１およびＹ^２は、互いに独立に、単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^ａ＝ＣＲ^ｂ－、－Ｃ≡Ｃ－またはＣＲ^ａ＝Ｎ－が好ましく、Ｒ^ａおよびＲ^ｂは、互いに独立に、水素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｙ^１およびＹ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－または単結合であるとより好ましく、Ｙ^１およびＹ^２が互いに異なることがより好ましい。Ｙ^１およびＹ^２が互いに異なる場合には、スメクチック液晶性が発現しやすい傾向にある。

Ｗ^１およびＷ^２は、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－またはＯＣＯ－が好ましく、互いに独立に単結合または－Ｏ－であることがより好ましい。

Ｖ^１およびＶ^２で表される炭素数１～２０のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基およびイコサン－１，２０－ジイル基などが挙げられる。Ｖ^１およびＶ^２は、好ましくは炭素数２～１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは直鎖状の炭素数６～１２のアルカンジイル基である。直鎖状の炭素数６～１２のアルカンジイル基とすることで結晶性が向上し、スメクチック液晶性を発現しやすい傾向にある。
置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基および塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子などが挙げられるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換かつ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。

Ｕ^１およびＵ^２は、ともに重合性基であると好ましく、ともに光重合性基であるとより好ましい。光重合性基を有する重合性液晶化合物は、熱重合性基よりも低温条件下で重合できるため、液晶がより秩序度の高い状態で重合体を形成できる点で有利である。

Ｕ^１およびＵ^２で表される重合性基は互いに異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、メタクリロイルオキシ基、あるいは、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

このような重合性液晶化合物としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。

例示した前記化合物の中でも、式（１－２）、式（１－３）、式（１－４）、式（１－６）、式（１－７）、式（１－８）、式（１－１３）、式（１－１４）および式（１－１５）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。

例示した化合物（Ａ）は、単独または組み合わせて、偏光層に用いることができる。また、２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせる場合には、少なくとも１種が化合物（Ａ）であることが好ましく、２種以上が化合物（Ａ）であることがより好ましい。２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせることにより、液晶－結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。２種類の重合性液晶化合物を組み合わせる場合の混合比としては、通常、１：９９～５０：５０であり、好ましくは５：９５～５０：５０であり、より好ましくは１０：９０～５０：５０である。

化合物（Ａ）は、例えば、Ｌｕｂ eｔ aｌ. Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５, ３２１－３２８（１９９６）、または特許第４７１９１５６号等に記載の公知方法で製造される。

偏光層形成用組成物における重合性液晶化合物の含有割合は、偏光層形成用組成物の固形分１００質量部に対して、通常５０～９９．５質量部であり、好ましくは６０～９９質量部であり、より好ましくは７０～９８質量部であり、さらに好ましくは８０～９７質量部である。重合性液晶化合物の含有割合が上記範囲内であれば、配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、偏光層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。

[偏光層形成用の二色性色素]
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。二色性色素としては、可視光を吸収する特性を有する特性を有する事が好ましく、３８０～６８０ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものがより好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素およびアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素およびスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素およびトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせてもよいが、可視光全域で吸収を得るためには、３種類以上の二色性色素を組み合わせるのが好ましく、３種類以上のアゾ色素を組み合わせるのがより好ましい。

アゾ色素としては、例えば、式（Ｂ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｂ）」ということもある）が挙げられる。
Ｔ^１-Ａ^１（－Ｎ＝Ｎ－Ａ^２）_ｐ－Ｎ＝Ｎ－Ａ^３－Ｔ^２（Ｂ）
［式（Ｂ）中、
Ａ^１およびＡ^２およびＡ^３、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、ナフタレン－１，４－ジイル基または置換基を有していてもよい２価の複素環基を表し、Ａ^１または／及びＡ^２は１，４－フェニレン基であり、Ｔ^１およびＴ^２は電子吸引基あるいは電子放出基であり、アゾ結合面内に対して実質的に１８０°の位置に有する。ｐは０～４の整数を表す。ｐが２である場合、二つのＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。］

Ａ^１およびＡ^２およびＡ^３における１，４－フェニレン基、ナフタレン－１，４－ジイル基および２価の複素環基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基およびブチル基などの炭素数１～４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基およびブトキシ基などの炭素数１～４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの炭素数１～４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基およびピロリジノ基などの置換または無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１～６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、－ＮＨ_２である。）が挙げられる。なお、炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基およびヘキシル基などが挙げられる。炭素数２～８のアルカンジイル基としては、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基などが挙げられる。スメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、Ａ^１およびＡ^２およびＡ^３は無置換または水素がメチル基またはメトキシ基で置換された１，４－フェニレン基、または２価の複素環基が好ましく、ｐは０または１である事が好ましい。中でもｐが１であり、かつ、Ａ^１およびＡ^２およびＡ^３の３つの構造のうち少なくとも２つが１，４－フェニレン基である事が分子合成の簡便さと高い性能の両方を有するという点でより好ましい。

２価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾールおよびベンゾオキサゾールから２個の水素原子を除いた基が挙げられる。Ａ^２が２価の複素環基の場合には、分子結合角度が実質的に１８０°となる構造が好ましく、具体的には、二つの５員環が縮合したベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール構造がより好ましい。

Ｔ^１およびＴ^２は電子吸引基あるいは電子放出基であり、異なる構造である事が好ましく、 Ｔ^１が電子吸引基およびＴ^２電子放出基、あるいは、Ｔ^１が電子放出基およびＴ^２電子吸引基の関係である事がさらに好ましい。具体的には、Ｔ^１およびＴ^２は互いに独立に炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基、またはトリフルオロメチル基が好ましく、中でもスメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、分子の排除体積がより小さい構造体である必要があるため、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基、炭素数１～６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基が好ましい。

このようなアゾ色素としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。

式（２－１）～（２－６）中、
Ｂ^１～Ｂ^２０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基（置換アミノ基および無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子またはトリフルオロメチル基を表す。
ｎ１～ｎ４は、それぞれ独立に０～３の整数を表す。
ｎ１が２以上である場合、複数のＢ^２はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ２が２以上である場合、複数のＢ^６はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ３が２以上である場合、複数のＢ^９はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ４が２以上である場合、複数のＢ^１４はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。

前記アントラキノン色素としては、式（２－７）で表される化合物が好ましい。

［式（２－７）中、
Ｒ^１～Ｒ^８は、互いに独立に、水素原子、－Ｒ^ｘ、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^ｘ、－ＮＲ^ｘ _２、－ＳＲ^ｘまたはハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１～４のアルキル基または炭素数６～１２のアリール基を表す。］

前記オキサジン色素としては、式（２－８）で表される化合物が好ましい。

［式（２－８）中、
Ｒ^９～Ｒ^１５は、互いに独立に、水素原子、－Ｒ^ｘ、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^ｘ、－ＮＲ^ｘ _２、－ＳＲ^ｘまたはハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１～４のアルキル基または炭素数６～１２のアリール基を表す。］

前記アクリジン色素としては、式（２－９）で表される化合物が好ましい。

［式（２－９）中、
Ｒ^１６～Ｒ^２３は、互いに独立に、水素原子、－Ｒ^ｘ、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^ｘ、－ＮＲ^ｘ _２、－ＳＲ^ｘまたはハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１～４のアルキル基または炭素数６～１２のアリール基を表す。］

式（２－７）、式（２－８）および式（２－９）における、Ｒ^ｘで表される炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基およびナフチル基等が挙げられる。

前記シアニン色素としては、式（２－１０）で表される化合物および式（２－１１）で表される化合物が好ましい。

［式（２－１０）中、
Ｄ^１およびＤ^２は、互いに独立に、式（２－１０ａ）～式（２－１０ｄ）のいずれかで表される基を表す。

ｎ５は１～３の整数を表す。］

［式（２－１１）中、
Ｄ^３およびＤ^４は、互いに独立に、式（２－１１ａ）～式（２－１１ｈ）のいずれかで表される基を表す。

ｎ６は１～３の整数を表す。］

二色性色素の含有量（複数種含む場合にはその合計量）は、良好な光吸収特性を得る観点から、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常１～３０質量部であり、好ましくは２～２０質量部であり、より好ましくは３～１５質量部である。二色性色素の含有量がこの範囲より少ないと光吸収が不十分となり、十分な偏光性能が得られず、この範囲よりも多いと液晶分子の配向を阻害する場合がある。

［偏光層と位相差層の成す角］
本発明の楕円偏光板において、偏光層と位相差層の光軸は実質的に平行関係、即ち、偏光層の光軸と位相差層の光軸とは楕円偏光板の面内で実質的に交わらない関係ではなく、楕円偏光板の面内で偏光層の光軸と位相差層の光軸とが交わっている。互いに交わる偏光層の光軸と位相差層の光軸とのなす角度は、位相差層の遅相軸と偏光層の吸収軸の成す角で４０～５０°であることが好ましく、４１～４９°であることがより好ましく、４３～４７°であることがさらに好ましく、実質的に４５°であることが特に好ましく、理想的には４５°である。位相差層遅相軸と偏光層吸収軸の成す角が上記範囲内の場合に楕円率が向上し、特に４５°である場合に本発明の偏光板は、実質的に円偏光板として機能する。

［溶剤］
溶剤としては、前述の位相差層又は偏光層形成時に使用する重合性液晶化合物を完全に溶解し得る溶剤が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。
溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、１種類のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、塩素含有溶剤、アミド系溶剤および芳香族炭化水素溶剤が好ましい。

組成物１００質量部に占める溶剤の含有量は、５０質量部～９８質量部が好ましく、７０重量部～９５重量部がより好ましい。従って、組成物１００質量部に占める固形分は、２質量部～５０質量部が好ましい。組成物の固形分が５０質量部以下であると、組成物の粘度が低くなることから、重合性液晶化合物を含む膜の厚みが略均一になり、重合性液晶化合物を含む膜にムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする重合性液晶化合物を含む膜の厚みを考慮して適宜定めることができる。

［光重合開始剤］
重合開始剤は、重合性液晶化合物等の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、光照射によってラジカルを発生する光重合開始剤がより好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Irgacure、登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア１２７、イルガキュア２９５９、イルガキュア７５４、イルガキュア３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ－６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ－１５２、アデカオプトマーＳＰ－１７０、アデカオプトマーＮ－１７１７、アデカオプトマーＮ－１９１９、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ－Ａ、ＴＡＺ－ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）及びＴＡＺ－１０４（三和ケミカル社製）が挙げられる。
位相差層形成用組成物、又は偏光層形成用組成物において、含まれる光重合開始剤は、少なくとも１種類であり、１種類若しくは２種類であることが好ましい。

光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ～３８０ｎｍであることが好ましく、３００ｎｍ～３６０ｎｍであることがより好ましく、中でも、α－アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。

α－アセトフェノン化合物としては、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベンジルブタン－１－オンおよび２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－（４－メチルフェニルメチル）ブタン－１－オン等が挙げられ、より好ましくは２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プロパン－１－オンおよび２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベンジルブタン－１－オン等が挙げられる。α－アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）およびセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってメチルラジカルを生成させる。このメチルラジカルにより重合性液晶化合物を含む膜の深部における重合性液晶化合物の重合が好適に進行する。また、重合性液晶化合物を含む膜の深部における重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤としては、トリアジン化合物やオキシムエステル型カルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル型カルバゾール化合物がより好ましい。オキシムエステル型カルバゾール化合物としては、１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）等が挙げられる。オキシムエステル型カルバゾール化合物の市販品としては、イルガキュアＯＸＥ－０１、イルガキュアＯＸＥ－０２、イルガキュアＯＸＥ－０３（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカオプトマーＮ－１９１９、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

光重合開始剤の添加量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常、０．１質量部～３０質量部であり、好ましくは１質量部～２０質量部であり、より好ましくは３質量部～１８質量部である。上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。

重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類およびβ－ナフトール類が挙げられる。重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１～１０質量部であり、好ましくは０．５～５質量部であり、さらに好ましくは０．５～３質量部である。

さらに、光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１～１０質量部であり、好ましくは０．５～５質量部であり、さらに好ましくは０．５～３質量部である。

［レベリング剤］
レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２－１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ－４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ－７２、同ＦＣ－４０、同ＦＣ－４３、同ＦＣ－３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ－０８、同Ｒ－３０、同Ｒ－９０、同Ｆ－４１０、同Ｆ－４１１、同Ｆ－４４３、同Ｆ－４４５、同Ｆ－４７０、同Ｆ－４７７、同Ｆ－４７９、同Ｆ－４８２、同Ｆ－４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１、同Ｓ－３８２、同Ｓ－３８３、同Ｓ－３９３、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０５、ＫＨ－４０、ＳＡ－１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ－１０００、ＢＭ－１１００、ＢＹＫ－３５２、ＢＹＫ－３５３およびＢＹＫ－３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。中でも、ポリアクリレート系レベリング剤およびパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましい。

本発明に用いる位相差層形成用組成物、及び偏光層形成用組成物におけるレベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１質量部～５質量部が好ましく、０．１質量部～３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる重合性液晶化合物を含む膜がより平滑となる傾向があるため好ましい。本発明に用いる位相差層形成用組成物、及び偏光層形成用組成物は、レベリング剤を２種類以上含有していてもよい。

［粘着剤］
偏光層と位相差層あるいは位相差層と表示装置とを貼り合わせるための粘接着剤としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤及び化学反応型接着剤が挙げられる。化学反応型接着剤としては、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。偏光層と位相差層との間の粘接着剤としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される接着剤層が好ましく、位相差層と表示装置との間の粘接着剤としては、感圧式粘着剤又は活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される粘着層が好ましい。

感圧式粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶剤を含んでいてもよい。
ポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、又はポリエーテル等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、接着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じ難いため好ましい。

アクリル系ポリマーとしては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１～２０のアルキル基である（メタ）アクリレート（以下、アクリレート、メタクリレートを総称して（メタ）アクリレートと称することがあり、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して（メタ）アクリル酸と称することがある）と、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。

このような共重合体を含む感圧式粘着剤は、粘着性に優れており、表示装置に貼合した後に取り除くときも、表示装置に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことが可能であるので好ましい。アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、２５℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの質量平均分子量は、１０万以上であることが好ましい。

溶剤としては、前記溶剤として挙げられた溶剤等が挙げられる。感圧式粘着剤は、光拡散剤を含有していてもよい。光拡散剤は、粘着剤に光拡散性を付与する添加剤であり、粘着剤が含むポリマーの屈折率と異なる屈折率を有する微粒子であればよい。光拡散剤としては、無機化合物からなる微粒子、及び有機化合物（ポリマー）からなる微粒子が挙げられる。アクリル系ポリマーを含めて、粘着剤が有効成分として含むポリマーの多くは１．４～１．６程度の屈折率を有するため、その屈折率が１．２～１．８である光拡散剤から適宜選択することが好ましい。粘着剤が有効成分として含むポリマーと光拡散剤との屈折率差は、通常、０．０１以上であり、表示装置の明るさと表示性の観点からは、０．０１～０．２が好ましい。光拡散剤として用いる微粒子は、球形の微粒子、それも単分散に近い微粒子が好ましく、平均粒径が２μｍ～６μｍである微粒子がより好ましい。 屈折率は、一般的な最小偏角法又はアッベ屈折計によって測定される。
無機化合物からなる微粒子としては、酸化アルミニウム（屈折率１．７６）及び酸化ケイ素（屈折率１．４５）等が挙げられる。有機化合物（ポリマー）からなる微粒子としては、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１．４９）、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズ（屈折率１．５０～１．５９）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５５）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５３）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．４６）、及びシリコーン樹脂ビーズ（屈折率１．４６）等が挙げられる。光拡散剤の含有量は、通常、ポリマー１００質量部に対して、３質量部～３０質量部である。
感圧式粘着剤の厚さは、その密着力等に応じて決定されるため、特に制限されないが、通常、１μｍ～４０μｍである。加工性や耐久性等の点から、当該厚さは３μｍ～２５μｍが好ましく、５μｍ～２０μｍがより好ましい。粘着剤から形成される粘接着剤層の厚さを５μｍ～２０μｍとすることにより、表示装置を正面から見た場合や斜めから見た場合の明るさを保ち、表示像のにじみやボケを生じ難くすることができる。

［乾燥固化型接着剤］
乾燥固化型接着剤は、溶剤を含んでいてもよい。
乾燥固化型接着剤としては、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体、又は、ウレタン樹脂を主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体としては、エチレン－マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、アクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、ポリ酢酸ビニルのケン化物、及び、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及び、アミノ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水系の粘接着剤におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、水１００質量部に対して、通常、１質量部～１０質量部であり、好ましくは１質量部～５質量部である。

ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂等が挙げられる。
ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分（親水成分）が導入された樹脂である。係るアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の粘接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合することが有効である。

エポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミン又はトリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂等が挙げられる。係るポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、“スミレーズレジン（登録商標）６５０”及び“スミレーズレジン６７５”（以上、住化ケムテックス株式会社製）、“ＷＳ－５２５”（日本ＰＭＣ株式会社製）等が挙げられる。エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常、１質量部～１００質量部であり、好ましくは１質量部～５０質量部である。

乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚さは、通常、０．００１μｍ～５μｍであり、好ましくは０．０１μｍ～２μｍであり、さらに好ましくは０．０１μｍ～０．５μｍである。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、光学異方層が外観不良となり易い。

［活性エネルギー線硬化型接着剤］
活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の接着剤、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有する接着剤、及び、これら重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化される接着剤等が挙げられる。

中でも、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。アクリル系硬化成分としては、メチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸等が挙げられる。エポキシ化合物を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤は、エポキシ化合物以外の化合物をさらに含有していてもよい。エポキシ化合物以外の化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物等が挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、前述した光重合開始剤が挙げられる。カチオン重合開始剤の市販品としては、“カヤラッド”（登録商標）シリーズ（日本化薬株式会社製）、“サイラキュア ＵＶＩ”シリーズ（ダウケミカル社製）、“ＣＰＩ”シリーズ（サンアプロ株式会社製）、“ＴＡＺ”、“ＢＢＩ”及び“ＤＴＳ”（以上、みどり化学株式会社製）、“アデカオプトマー”シリーズ（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、“ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ”（登録商標）（ローディア株式会社製）等が挙げられる。ラジカル重合開始剤並びにカチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤１００質量部に対して、通常、０．５質量部～２０質量部であり、好ましくは１質量部～１５質量部である。

活性エネルギー線硬化型接着剤には、さらに、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤及び消泡剤等が含有されていてもよい。

本明細書において活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられ、紫外線及び電子線が好ましい。好ましい紫外線の照射条件は前述した重合性液晶化合物の重合と同様である。

［積層体各層の屈折率］
ある層Ａに、別の層Ｂが直下に積層されている場合、層Ａの屈折率をｎ_Ａ、層Ｂの屈折率をｎ_Ｂとすると、層Ａに垂直な方向から光が入射したときの層Ａと層Ｂにおける界面反射率は以下の式（Ｋ）であらわされる。

界面反射率（％）＝（ｎ_Ａ－ｎ_Ｂ）^２／（ｎ_Ａ＋ｎ_Ｂ）^２×１００ ・・・（Ｋ）

このため、積層体の隣接する層の屈折率差が大きい場合には、界面反射による損失が大きくなる。積層体から成る楕円偏光板においては、界面反射による損失の影響を小さくするために、隣接する層の屈折率差は０．２０以下が好ましく、０．１５以下がより好ましく、０．１０以下であることがさらに好ましい。

［偏光層、又は位相差層の製造方法］
以下、本発明の偏光層又は位相差層は、光学異方性層という場合がある。また、偏光層形成用組成物又は位相差層形成用組成物は、光学異方性層形成用組成物という場合がある。偏光層、及び位相差層の製造方法は同じであっても、異なっていてもよい。

［光学異方性層形成用組成物の塗布］
前述の透明基材または配向膜上に光学異方性層形成用組成物が塗布することで光学異方性層を形成することができる。光学異方性層形成用組成物を基材上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましく、ガラス等の枚葉基材に塗布する場合には、均一性の高いスピンコーティング法が好ましい。Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に光配向膜形成用組成物等を塗布して配向膜を形成し、さらに得られた配向膜上に光学異方性層形成用組成物を連続的に塗布することもできる。

［光学異方性層形成用組成物の乾燥］
光学異方性層形成用組成物に含まれる溶剤を除去する乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０～２００℃の範囲が好ましく、２０～１５０℃の範囲がより好ましく、５０～１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間～２０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間～１０分間である。光配向膜形成用組成物および配向性ポリマー組成物も同様に乾燥することができる。

［重合性液晶化合物の重合］
重合性液晶化合物を重合させる方法としては、光重合が好ましい。光重合は、基材上または配向膜上に重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物が塗布された積層体に活性エネルギー線を照射することにより実施される。照射する活性エネルギー線としては、乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、およびそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、およびγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０ｍＷ／ｃｍ^２～３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒～１０分であり、好ましくは０．１秒～５分であり、より好ましくは０．１秒～３分であり、さらに好ましくは０．１秒～１分である。このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、通常１０ｍＪ／ｃｍ^２～３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ^２～２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ^２～１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。積算光量がこの範囲以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となる。逆に、積算光量がこの範囲以上である場合には、光学異方層を含む楕円偏光板が着色する場合がある。

［表示装置］
本発明は、実施形態の一つとして本発明の位相差板を含む表示装置を提供することができる。また、上記表示装置は、上記実施形態に係る楕円偏光板を含み得る。
上記表示装置とは、表示機構を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。
液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置等の何れをも含む。これら表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、本発明からなる位相差層と偏光層とを備える表示装置としては、有機ＥＬ表示装置及びタッチパネル表示装置が好ましい。

以下、実施例及び比較例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例に限定されるものではない。実施例及び比較例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、「質量％」及び「質量部」である。
実施例１～６、比較例１～２において使用したポリマーフィルム、装置及び測定方法は、以下の通りである。
・シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムには、日本ゼオン株式会社製のＺＦ－１４を用いた。
・コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ－Ｂ１０を用いた。
・コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。
・偏光ＵＶ照射装置には、ウシオ電機株式会社製の偏光子ユニット付ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７を用いた。
・レーザー顕微鏡には、オリンパス株式会社製のＬＥＸＴを用いた。
・高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａを用いた。
・面内位相差値、及び位相差層・偏光層の軸角度は、王子計測機器株式会社製のＫＯＢＲＡ－ＷＰＲを用いて測定した。
・偏光層の光学特性の測定は、島津製作所株式会社製 ＵＶ－３１５０を用いて測定した。
・膜厚は、日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ－２２０を用いて測定した。

［配向層Ａ、及びＢ形成用組成物の調製］
下記構造の光配向性材料５部とシクロペンタノン（溶剤）９５部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、配向層Ａ、及びＢ形成用組成物を得た。なお、配向層Ａに使用した下記光配向性材料の重量平均分子量は３００００、配向膜Ｂに使用した下記光配向性材料の分子量は表１に記載の通りである。

［位相差層形成用組成物の調製］
下記構造の重合性液晶化合物Ａと、ポリアクリレート化合物（レベリング剤）（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）と、下記重合開始剤とを成分として混合し、位相差層形成用組成物を得た。
重合性液晶化合物Ａ

重合性液晶化合物Ａは、特開２０１０－３１２２３号公報に記載の方法で製造した。 ポリアクリレート化合物の量は、重合性液晶化合物Ａ１００部に対して０．０１部とした。
重合開始剤として、重合性液晶化合物Ａ１００部に対して、２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）；ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。
更に、固形分濃度が１３％となるようにＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）を溶剤として添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、位相差層形成用組成物を得た。

〔偏光層形成用組成物の調製〕
下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、偏光層形成用組成物を得た。二色性色素には、特開２０１３－１０１３２８号公報の実施例に記載のアゾ系色素を用いた。式（１－６）及び（１－７）で示される重合性液晶化合物は、lub et al., Recl.Trav.Chim.Pays-Bas, 115, 321-328(1996）記載の方法に従って製造した。

重合性液晶化合物：

７５部

２５部

二色性色素１：
ポリアゾ色素；化合物（１－８） ２．５部

化合物（１－５） ２．５部

化合物（１－１６） ２．５部

重合開始剤；
２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア３６９；チバスペシャルティケミカルズ社製） ６部
レベリング剤；
ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）
１．２部
溶剤；o-キシレン ２５０部

［実施例１］
［位相差層の製造］
日本ゼオン株式会社製のＣＯＰフィルム（ＺＦ－１４－５０）上に、配向層Ａ形成用組成物をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で、軸角度４５°にて偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向層Ａの膜厚をエリプソメータで測定したところ、１００ｎｍであった。
続いて、配向層Ａ上に、先に調製した位相差層形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、位相差層の組成物を塗布した面側から紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３１３ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、配向層Ａ、位相差層を含む積層体を形成した。
続いて、得られた位相差層を含む積層体上を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、配向層Ｂ形成用組成物をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で、軸角度９０°で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向層Ｂの膜厚をエリプソメータで測定したところ、１５０ｎｍであった。
バーコーターを用いて偏光層形成用組成物を塗布した後、１２０℃に設定した乾燥オーブンで１分間乾燥することで、重合性液晶化合物及び二色性色素が配向した乾燥塗膜を得た。この乾燥塗膜を室温まで自然冷却した後に高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ/ｃｍ²）することにより重合性液晶化合物を重合して偏光層を作製した、位相差層と偏光層を含む楕円偏光板を得た。

〔楕円偏光板の位相差値測定〕
得られた楕円偏光板の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍならびに波長６５０ｎｍの面内位相差値を測定したところ、各波長での位相差値は、Ｒｅ（４５０）＝１１６ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４４ｎｍであり、面内位相差値の関係は以下の通りとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８３
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０３
（式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
即ち、位相差層Ａは下記式（１）～（３）で表される光学特性を有した。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ …（１）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０ …（２）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） …（３）
また、位相差層の遅相軸方向は４５°、偏光層の吸収軸角度は０°であった。円偏光板に用いられる位相差板遅相軸・偏光板の吸収軸が成す角は４５°となる事が理想であるが、作製した楕円偏光板の位相差層遅相軸・偏光層の吸収軸が成す角は４５°であり、軸ズレは発生していないことが分かった。

〔偏光度、単体透過率の測定〕
得られた楕円偏光板の偏光度及び、単体透過率は以下のように測定した。透過軸方向の透過率（Ｔ^１）及び吸収軸方向の透過率（Ｔ^２）を、分光光度計（島津製作所株式会社製 ＵＶ－３１５０）に偏光子付フォルダーをセットした装置を用いて、ダブルビーム法により２ｎｍステップ３８０～６８０ｎｍの波長範囲で測定した。下記式（ｐ）ならびに（ｑ）を用いて、各波長における単体透過率、偏光度を算出し、さらにＪＩＳ Ｚ ８７０１の２度視野(Ｃ光源)により視感度補正を行い、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）および視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出したところ、単体透過率は４２％、偏光度は９７％であり、偏光板として有用な値であることを確認した。
単体透過率（％）=（Ｔ^１＋Ｔ^２）／２ （ｐ）
偏光度（％）＝｛（Ｔ^１－Ｔ^２）／（Ｔ^１＋Ｔ^２）｝×１００ （ｑ）

〔楕円偏光板の屈折率〕
各層の屈折率を屈折率計（株式会社アタゴ製「多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ４」）を用いてＪＩＳ Ｋ７１４２に準じて測定した結果、以下の通りであった。
基材 ・・・１．５３
配向膜Ａ ・・・１．５５
位相差層 ・・・１．６２
配向膜Ｂ ・・・１．５５
偏光層 ・・・１．５４

［実施例２～６］
配向層Ｂの形成時に、光配向性材料をバーコーター塗布する際のワイヤーバーの太さを変えることで配向層Ｂの膜厚を調整したこと以外は実施例１と同様にして、楕円偏光板を作製した。

［比較例１、２］
配向層Ｂの形成時に、光配向性材料をバーコーター塗布する際のワイヤーバーの太さを変えることで偏光層Ｂの膜厚を調整したこと以外は実施例１と同様にして、位相差層と偏光層を含む円偏光板を作製した。

上記実施例・比較例に記載の偏光層の光学特性を測定した結果を表１に示す。

実施例の楕円偏光板は、偏光層の軸ズレと配向欠陥発生を起こすことなく製造する事ができた。

Claims (13)

1. 透明基材上に、配向層Ａ、位相差層、配向層Ｂおよび偏光層がこの順で設けられた楕円偏光板であって、
   前記偏光層と前記位相差層の光軸が実質的に平行関係でなく、
   前記位相差層は、重合性液晶化合物の重合体から構成される膜であり、
   前記配向層Ｂは、偏光層を形成するための配向層であって、１５０ｎｍ～８００ｎｍの厚さを有する膜であり、
   前記位相差層と配向層Ｂとが隣接して配置され、
   前記偏光層は、サーモトロピック性液晶化合物である重合性液晶化合物の重合体から構成される膜中に二色性色素が配向している
   楕円偏光板。
2. 前記透明基材、配向層Ａ、位相差層、配向層Ｂおよび偏光層の平均屈折率が全て１．４～１．７の範囲である請求項１記載の楕円偏光板。
3. 隣接する層の屈折率差が０．２以下である請求項１または２記載の楕円偏光板。
4. 前記偏光層と位相差層の光軸のなす角が４０°～５０°の範囲である請求項１～３のいずれかに記載の楕円偏光板。
5. 前記配向層Ａ及び配向層Ｂが共に光配向膜である請求項１～４のいずれかに記載の楕円偏光板。
6. 前記配向層Ａ及び配向層Ｂがシンナモイル基を含有する光配向膜である請求項１～５のいずれかに記載の楕円偏光板。
7. 前記配向層Ａ及び配向層Ｂが重量平均分子量２００００～５００００である樹脂を含有する光配向膜である請求項１～６のいずれかに記載の楕円偏光板。
8. 前記偏光層が、スメクチック液晶状態の重合体から構成される膜である請求項１～７のいずれかに記載の楕円偏光板。
9. 前記二色性色素が、アゾ色素である請求項１～８のいずれかに記載の楕円偏光板。
10. 前記位相差層が以下の式を全て満たす請求項１～９のいずれかに記載の楕円偏光板。
    １００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ …（１）
    Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０ …（２）
    １．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） …（３）
    （Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける面内リタデーションを表す。）
11. 請求項１～１０のいずれかに記載の楕円偏光板を備えた液晶表示装置。
12. 請求項１～１１のいずれかに記載の楕円偏光板を備えた有機ＥＬ表示装置。
13. 透明基材上に、
    配向材料Ａおよび溶剤を含む組成物を塗布し、乾燥後に偏光ＵＶを照射して配向層Ａを形成する工程（１）と、
    前記配向層Ａ上に、重合性液晶化合物、重合開始剤及び溶剤を含有する組成物を塗布し、乾燥後にＵＶ照射して液晶状態で重合させることで位相差層を形成する工程（２）と、
    配向材料Ｂおよび溶剤を含む組成物を前記位相差層上に塗布し、乾燥後に偏光ＵＶを照射して配向層Ｂを形成する工程（３）と、
    前記配向層Ｂ上に、サーモトロピック性液晶化合物である重合性液晶化合物、二色性色素、重合開始剤及び溶剤を含有する組成物を塗布し、乾燥後にＵＶ照射して液晶状態で重合させることで偏光層を形成する工程（４）と、
    を有し、
    前記配向層Ｂは、１５０ｎｍ～８００ｎｍの厚さを有する膜である、
    楕円偏光板の製造方法。