JP2015079230A - 積層体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】有機ＥＬ表示装置における黒表示時の斜め視野における光漏れを低減させることができ、且つ、薄型の光学積層体を製造する製造方法を提供する。【解決手段】偏光層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び転写接着層を含む積層体の製造方法であって、積層体は、偏光層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含み、ポジティブＣ層を、偏光層及びλ／４層の間、又は、λ／４層のλ／２層とは反対側に含み、転写接着層を、偏光層と、λ／４層又はポジティブＣ層との間に含む積層体であり、基材及び転写接着層を含む接着体と、被着体とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法。【選択図】図１

Description

本発明は、積層体の製造方法に関する。

特許文献１には、λ／４層、λ／２層及び偏光層からなる円偏光板が記載されている。

国際公開第２００３／１００１１５号

従来の円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置は、黒表示時の斜め視野における光漏れが発生する場合があった。

本発明は、以下の発明を含む。
［１］ 偏光層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び転写接着層を含む積層体の製造方法であって、
積層体は、
偏光層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含み、
ポジティブＣ層を、偏光層及びλ／４層の間、又は、λ／４層のλ／２層とは反対側に含み、
転写接着層を、偏光層と、λ／４層又はポジティブＣ層との間に含む積層体であり、
基材及び転写接着層を含む接着体と、被着体とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法。
［２］ 偏光層、転写接着層、ポジティブＣ層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体、
転写接着層、ポジティブＣ層、λ／２層及び基材をこの順に含む積層体、
又は、
転写接着層、ポジティブＣ層、λ／２層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、偏光層を含む被着体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体の偏光層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、［１］記載の製造方法。
［３］ 偏光層、転写接着層、λ／２層、ポジティブＣ層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、λ／２層及び基材をこの順に含む積層体、
転写接着層、λ／２層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体、
又は、
転写接着層、λ／２層、ポジティブＣ層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、偏光層を含む被着体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体の偏光層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、［１］記載の製造方法。
［４］ 偏光層、転写接着層、λ／２層、λ／４層及びポジティブＣ層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、λ／２層及び基材をこの順に含む積層体、
転写接着層、λ／２層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体、
又は、
転写接着層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、偏光層を含む被着体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体の偏光層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、［１］記載の製造方法。
［５］ 偏光層、λ／２層、λ／４層、転写接着層及びポジティブＣ層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、転写接着層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、λ／４層を含む被着体、
λ／４層及びλ／２層をこの順に含む積層体、
又は、
λ／４層、λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／４層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、［１］記載の製造方法。
［６］ 偏光層、λ／２層、ポジティブＣ層、転写接着層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、転写接着層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、ポジティブＣ層を含む被着体、
ポジティブＣ層及びλ／２層をこの順に含む積層体、
又は、
ポジティブＣ層、λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のポジティブＣ層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、［１］記載の製造方法。
［７］ 偏光層、ポジティブＣ層、λ／２層、転写接着層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、転写接着層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、λ／２層を含む被着体、
λ／２層及びポジティブＣ層をこの順に含む積層体、
又は、
λ／２層、ポジティブＣ層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／２層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、［１］記載の製造方法。
［８］ 偏光層、λ／２層、転写接着層、λ／４層及びポジティブＣ層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、λ／４層及び基材を含む接着体、又は、
転写接着層、λ／４層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む接着体であり、
被着体が、
λ／２層を含む被着体、又は、
λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／２層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、［１］記載の製造方法。
［９］ 偏光層、λ／２層、転写接着層、ポジティブＣ層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、ポジティブＣ層及び基材を含む接着体、又は、
転写接着層、ポジティブＣ層、λ／４層及び基材をこの順に含む接着体であり、
被着体が、
λ／２層を含む被着体、又は、
λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／２層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、［１］記載の製造方法。
［１０］ 偏光層、ポジティブＣ層、転写接着層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、λ／２層及び基材を含む接着体、又は、
転写接着層、λ／２層、λ／４層及び基材をこの順に含む接着体であり、
被着体が、
ポジティブＣ層を含む被着体、又は、
ポジティブＣ層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のポジティブＣ層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む［１］記載の製造方法。
［１１］ 偏光層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び転写接着層を含む積層体であって、
偏光層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含み、
ポジティブＣ層を、偏光層及びλ／４層の間、又は、λ／４層のλ／２層とは反対側に含み、
転写接着層を、偏光層と、λ／４層又はポジティブＣ層との間に含む積層体。［１２］ 偏光層、転写接着層、ポジティブＣ層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含む［１１］記載の積層体。
［１３］ 偏光層、転写接着層、λ／２層、ポジティブＣ層及びλ／４層をこの順に含む［１１］記載の積層体。
［１４］ 偏光層、転写接着層、λ／２層、λ／４層及びポジティブＣ層をこの順に含む［１１］記載の積層体。
［１５］ 偏光層、λ／２層、λ／４層、転写接着層及びポジティブＣ層をこの順に含む［１１］記載の積層体。
［１６］ 偏光層、λ／２層、ポジティブＣ層、転写接着層及びλ／４層をこの順に含む［１１］記載の積層体。
［１７］ 偏光層、ポジティブＣ層、λ／２層、転写接着層及びλ／４層をこの順に含む［１１］記載の積層体。
［１８］ 偏光層、λ／２層、転写接着層、λ／４層及びポジティブＣ層をこの順に含む［１１］記載の積層体。
［１９］ 偏光層、λ／２層、転写接着層、ポジティブＣ層及びλ／４層をこの順に含む［１１］記載の積層体。
［２０］ 偏光層、ポジティブＣ層、転写接着層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含む［１１］記載の積層体。

本発明によれば、有機ＥＬ表示装置における黒表示時の斜め視野における光漏れを低減させることができ、且つ、薄型の光学積層体を製造することができる。

本発明の第１の製造方法により得られる第１の積層体を示す概略図である。 本発明の第２の製造方法により得られる第２の積層体を示す概略図である。 本発明の第３の製造方法により得られる第３の積層体を示す概略図である。 本発明の第４の製造方法により得られる第４の積層体を示す概略図である。 本発明の第５の製造方法により得られる第５の積層体を示す概略図である。 本発明の第６の製造方法により得られる第６の積層体を示す概略図である。 本発明の第７の製造方法により得られる第７の積層体を示す概略図である。 本発明の第８の製造方法により得られる第８の積層体を示す概略図である。 本発明の第の９製造方法により得られる第９の積層体を示す概略図である。 本発明の製造方法により得られる円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置を示す概略図である。 本発明の製造方法により得られる円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置を示す概略図である。 本発明の実施例１を示す概略図である。 本発明の実施例２を示す概略図である。 本発明の実施例３を示す概略図である。 本発明の実施例４を示す概略図である。 本発明の実施例５を示す概略図である。 本発明の実施例６を示す概略図である。 本発明の実施例７を示す概略図である。

本発明は、偏光層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び転写接着層を含む積層体の製造方法であって、積層体は、偏光層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含み、ポジティブＣ層を、偏光層及びλ／４層の間、又は、λ／４層のλ／２層とは反対側に含み、転写接着層を、偏光層と、λ／４層又はポジティブＣ層との間に含む積層体であり、基材及び転写接着層を含む接着体と、被着体とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。
また、本発明は、偏光層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び転写接着層を含む積層体であって、偏光層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含み、ポジティブＣ層を、偏光層及びλ／４層の間、又は、λ／４層のλ／２層とは反対側に含み、転写接着層を、偏光層と、λ／４層又はポジティブＣ層との間に含む積層体である。

＜位相差層＞
λ／２層、λ／４層及びポジティブＣ層を総称して、位相差層という。
位相差層は、重合性液晶を含む位相差層形成用組成物を、基材上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することにより形成することができる。
第１の位相差層上に第２の位相差層を形成する場合は、第１の位相差層を、第２の位相差層を形成するための基材とすることができる。重合性液晶を含む第２の位相差層形成用組成物を、第１の位相差層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することにより、第２の位相差層を形成することができる。

＜基材＞
基材は積層体に含まれる場合には透明基材であり、転写後に積層体から除去される場合には透明基材である必要はない。
透明基材は、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材であり、波長３８０〜７８０ｎｍにおける光の透過率が８０％以上であることが好ましい。基材としては、透光性樹脂基材が挙げられる。透光性樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ノルボルネン系ポリマー等の環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシドが挙げられる。入手のしやすさや透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステル、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂又はポリカーボネートが好ましい。

セルロースエステルは、セルロースに含まれる水酸基の一部又は全部が、エステル化されたものであり、市場から入手することができる。また、セルロースエステル基材も市場から入手することができる。市販のセルロースエステル基材としては、“フジタック（登録商標）フィルム”［富士写真フイルム（株）］；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”［コニカミノルタオプト（株）］が挙げられる。

環状オレフィン系樹脂は、市場から入手できる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）［Ｔｉｃｏｎａ社（独）］、“アートン”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］及び“アペル”（登録商標）［三井化学（株）］が挙げられる。環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材を得ることができる。また、環状オレフィン系樹脂基材も市場から入手することができる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ＳＣＡ４０”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ゼオノアフィルム”（登録商標）［オプテス（株）］及び“アートンフィルム”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］が挙げられる。

環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル基を有する芳香族化合物との共重合体である場合、環状オレフィンに由来する構造単位の含有量は、共重合体の全構造単位に対して、通常５０モル％以下、好ましくは１５〜５０モル％の範囲である。鎖状オレフィンとしては、エチレン及びプロピレンが挙げられ、ビニル基を有する芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン及びアルキル置換スチレンが挙げられる。環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンと、ビニル基を有する芳香族化合物との三元共重合体である場合、鎖状オレフィンに由来する構造単位の含有量は、共重合体の全構造単位に対して、通常５〜８０モル％であり、ビニル基を有する芳香族化合物に由来する構造単位の含有量は、共重合体の全構造単位に対して、通常５〜８０モル％である。三元共重合体は、その製造において、高価な環状オレフィンの使用量を比較的少なくすることができるという利点がある。

基材は、積層体に含まれる場合には、位相差が小さい基材が好ましい。位相差性が小さい基材としては、ゼロタック（登録商標）（コニカミノルタオプト（株））、Ｚタック（富士フィルム（株））等の位相差を有しないセルロースエステル基材が挙げられる。また、未延伸の環状オレフィン系樹脂基材も好ましい。

後述する配向膜及び後述する位相差層が形成される側の基材の面には、配向膜を形成する前に、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、真空下又は大気圧下、コロナ又はプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法又は基材表面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布するプライマー処理する方法、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後、放射線、プラズマ又は紫外線を照射して反応させるグラフト重合法等が挙げられる。中でも、真空下や大気圧下で、基材表面をコロナ又はプラズマ処理する方法が好ましい。

コロナ又はプラズマで基材の表面処理を行う方法としては、
大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、
対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法、及び、
低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法が挙げられる。

中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、又は、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かかるコロナ又はプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる。

後述する配向膜及び後述する位相差層が形成されていない側の基材の面には、ハードコート処理、帯電防止処理等がなされてもよい。また、性能に影響しない範囲で、紫外線吸収剤等の添加剤を含んでいてもよい。

基材の厚みは、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向があるため、通常５〜３００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍである。

基材を公知の延伸方法により延伸することにより、基材に位相差性を付与することができる。例えば、基材がロールに巻き取られているロール（巻き取り体）を準備し、かかる巻き取り体から、基材を連続的に巻き出し、巻き出された基材を加熱炉へと搬送する。加熱炉の設定温度は、基材のガラス転移温度近傍（℃）〜［ガラス転移温度＋１００］（℃）の範囲、好ましくは、ガラス転移温度近傍（℃）〜［ガラス転移温度＋５０］（℃）の範囲である。当該加熱炉においては、基材の進行方向へ、又は進行方向と直交する方向へ延伸する際に、搬送方向や張力を調整し任意の角度に傾斜をつけて一軸又は二軸の熱延伸処理を行う。延伸の倍率は、通常１．１〜６倍の範囲であり、好ましくは１．１〜３．５倍の範囲である。また、斜め方向に延伸する方法としては、連続的に配向軸を所望の角度に傾斜させることができるものであれば、特に限定されず、延伸方法としては、特開昭５０−８３４８２号公報や特開平２−１１３９２０号公報に記載された公知の方法を挙げることができる。延伸後の基材の厚みは、延伸前の厚みや延伸倍率によって決定される。
延伸することにより位相差性を付与された基材を、λ／２層、λ／４層とすることもできる。

＜配向膜＞
基材上に配向膜を形成してもよい。配向膜とは、後述する重合性液晶を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向膜が挙げられる。

配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。

＜配向性ポリマーを含む配向膜＞
配向性ポリマーとしては、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを併用してもよい。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングすることで得られる。

前記溶剤としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、及び、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤が挙げられる。溶剤は、二種以上を組み合わせてもよい。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１〜２０％が好ましく、０．１〜１０％がより好ましい。“固形分”とは、配向性ポリマー組成物から溶剤を除いた成分の合計を意味する。

配向性ポリマー組成物は、市場から入手できる。市販の配向性ポリマー組成物としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法等の塗布法、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法が挙げられる。位相差層を、後述するＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式の連続的製造方法により製造する場合、当該塗布方法としては通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法等の印刷法が採用される。

配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じてラビング法によりラビング処理を行う。

ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。
ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じて光配向処理を行う。

＜光配向膜＞
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む光配向膜形成用組成物を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、上述の配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの溶解性に応じて選択することができる。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって調節でき、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコ−ルやポリイミド等の高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

偏光を照射するには、基材上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レ−ザ−等が挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光層を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光層としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光層が挙げられる。

偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

＜グルブ配向膜＞
グルブ配向膜は、膜表面の凹凸パターン又は複数の溝によって、液晶配向が得られる膜である。複数の等間隔に並んだ直線状のグルブ（溝）を有する基材に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド表面に周期的なパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って不要なポリイミド膜を除去し凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤にＵＶ硬化樹脂層を形成し、樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、ＵＶ硬化樹脂層を形成した基材を搬送し、複数の溝を有するロール状の原盤をＵＶ硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成後硬化する方法等が挙げられ、特開平６−３４９７６号公報、特開２０１１−２４２７４３号公報記載の方法等が挙げられる。

上記方法の中でも、複数の溝を有するロール状の原盤をＵＶ硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成後硬化する方法が好ましい。ロール状原盤としては、耐久性の観点からステンレス（ＳＵＳ）鋼が好ましい。

ＵＶ硬化樹脂としては、単官能アクリレート、多官能アクリレート又はこれらの混合物が挙げられる。
単官能アクリレートとは、アクリロイルオキシ基（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−）及びメタクリロイルオキシ基（ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−）からなる群より選ばれる基（以下、（メタ）アクリロイルオキシ基と記すこともある。）を１個有する化合物である。また、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。

（メタ）アクリロイルオキシ基を１個有する単官能アクリレートとしては、炭素数４から１６のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のβカルボキシアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のアルキル化フェニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート及びイソボニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多官能アクリレートとは、通常、（メタ）アクリロイルオキシ基を２から６個有する化合物である。

（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有する２官能アクリレートとしては、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート；１，３−ブタンジオール（メタ）アクリレート；１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジアクリレート；ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート；プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート及び３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイルオキシ基を３〜６個有する多官能アクリレートとしては、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、及びカプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物等が挙げられる。
カプロラクトン変性とは、（メタ）アクリレート化合物のアルコール由来部位と（メタ）アクリロイルオキシ基との間に、カプロラクトンの開環体、又は、開環重合体が導入されていることを意味する。

多官能アクリレートは市場から入手することができる。市販品としては、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ、Ａ−ＨＤ−Ｎ、Ａ−ＮＯＤ−Ｎ、ＡＰＧ−１００、ＡＰＧ−２００、ＡＰＧ−４００、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＰＴ、ＡＤ−ＴＭＰ、ＡＴＭ−３５Ｅ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−９５５０、Ａ−ＤＰＨ、ＨＤ−Ｎ、ＮＯＤ−Ｎ、ＮＰＧ、ＴＭＰＴ［新中村化学（株）］、“ＡＲＯＮＩＸ Ｍ−２２０”、同“Ｍ−３２５”、同“Ｍ−２４０”、同“Ｍ−２７０”同“Ｍ−３０９”同“Ｍ−３１０”、同“Ｍ−３２１”、同“Ｍ−３５０”、同“Ｍ−３６０”、同“Ｍ−３０５”、同“Ｍ−３０６”、同“Ｍ−４５０”、同“Ｍ−４５１”、同“Ｍ−４０８”、同“Ｍ−４００”、同“Ｍ−４０２”、同“Ｍ−４０３”、同“Ｍ−４０４”、同“Ｍ−４０５”、同“Ｍ−４０６”［東亜合成（株）］、“ＥＢＥＣＲＹＬ１１”、同“１４５”、同“１５０”、同“４０”、同“１４０”、同“１８０”、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＨＰＮＤＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＤＰＨＡ、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ［ダイセル・サイテック（株）］等を挙げることができる。

グルブ配向膜の凸部の幅は０．０５〜５μｍであることが好ましく、凹部の幅は０．１〜５μｍであることが好ましく、凹凸の段差の深さは２μｍ以下であることが好ましく、０．０１〜１μｍ以下であることが好ましい。この範囲であれば、配向乱れの小さな液晶配向を得ることができる。

＜位相差層＞
重合性液晶を含む位相差層形成用組成物を、配向膜上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することにより位相差層を形成する。重合性液晶とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物をいう。

［重合性液晶］
重合性液晶の液晶配向は、配向膜及び重合性液晶の性質によって制御される。
例えば、配向膜が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、重合性液晶は水平配向又はハイブリッド配向を発現させることができ、垂直配向を発現させる材料であれば、重合性液晶は垂直配向又は傾斜配向を発現させることができる。
配向規制力は、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、配向膜が光配向膜である場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。

重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でも良く、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。位相差層形成用組成物は、２種以上の重合性液晶を含んでもよい。

［棒状液晶］
重合性液晶としては、製膜の容易さという観点からサーモトロピック性のネマチック液晶が好ましい。重合性液晶としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報及び特開２０１１−２０７７６５号公報記載の重合性液晶が挙げられる。

このような化合物は棒状液晶と呼ばれる。棒状液晶としては、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２６）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−２６）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−２）及び式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）で表わされる化合物が挙げられる。なお、式中、ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立して、２〜１２の整数を表わす。

［円盤状液晶］
重合性液晶は、円盤状の骨格及び重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物であってもよく、式（Ｗ）で表される基を含む化合物が挙げられる。このような化合物は円盤状液晶と呼ばれる。

［式（Ｗ）中、Ｒ^４０は、それぞれ独立に、式（Ｗ−１）〜（Ｗ−５）であらわされる基を表わす。

Ｘ^４０及びＺ^４０は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又はＣＯ−に置き換わっていてもよい。ｍ２は、２〜１２の整数を表わす。

円盤状液晶としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料 図６．２１」に記載された化合物、特開平７−２５８１７０号公報、特開平７−３０６３７号公報、特開平７−３０９８０７号公報、特開平８−２３１４７０号公報等に記載された重合性液晶が挙げられる。

位相差層形成用組成物は、重合性液晶に加えて、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、カイラル剤、反応性添加剤、溶剤等を含んでもよく、重合開始剤を含むことが好ましい。

［重合開始剤］
重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましく、光照射によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、α−アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７、同１８４、同６５１、同８１９、同２５０、同３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオール（登録商標）ＢＺ、同Ｚ、同ＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、同ＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマー（登録商標）ＳＰ−１５２、同ＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）及びＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）等が挙げられる。中でも、α−アセトフェノン化合物が好ましく、α−アセトフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア（登録商標）３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）及びセイクオール（登録商標）ＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

重合開始剤の含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶の液晶配向を乱さずに重合することができるため好ましい。

［重合禁止剤］
重合禁止剤としては、ハイドロキノン及びアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類及びβ−ナフトール類が挙げられる。
重合禁止剤の含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶の液晶配向を乱し難く、また、重合性液晶の液晶配向を乱さずに重合することができるため好ましい。

［光増感剤］
光増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセン及びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤を含むことにより、光重合開始剤を高感度化することができる。
光増感剤の含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。

［レベリング剤］
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３、ＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）が挙げられる。２種以上のレベリング剤を組み合わせてもよい。

レベリング剤を含むことにより、より平滑な位相差層を得ることができる。また、位相差層の製造過程で、位相差層形成用組成物の流動性を制御したり、位相差層の架橋密度を調整したりすることができる。
レベリング剤の含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜１０質量部である。

［カイラル剤］
カイラル剤としては、公知のカイラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）が挙げられる。
カイラル剤としては、不斉炭素原子を含む化合物が挙げられるが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物及び面性不斉化合物も挙げられる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物としては、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が挙げられる。
具体的には、特開２００７−２６９６４０号公報、特開２００７−２６９６３９号公報、特開２００７−１７６８７０号公報、特開２００３−１３７８８７号公報、特表２０００−５１５４９６号公報、特開２００７−１６９１７８号公報及び特表平９−５０６０８８号公報に記載されているような化合物が挙げられ、好ましくはＢＡＳＦジャパン（株）製のｐａｌｉｏｃｏｌｏr（登録商標）ＬＣ７５６が挙げられる。
カイラル剤の含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは１．０〜２５質量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶の液晶配向を乱し難く、また、重合性液晶の液晶配向を乱さずに重合することができるため好ましい。

［反応性添加剤］
基材が積層体に含まれる場合には、反応性添加剤を位相差層形成用組成物中に含むことで、位相差層と基材の密着性を向上させることができる。反応性添加剤としては、炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。活性水素反応性基とは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、水酸基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ_２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアナト基、チオイソシアナト基、無水マレイン酸基等が挙げられる。

反応性添加剤は、活性水素反応性基を少なくとも２つ有することが好ましく、複数の活性水素反応性基は同一でも、異なってもよい。

反応性添加剤が有する炭素−炭素不飽和結合としては、炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合、或いはそれらの組み合わせが挙げられ、炭素−炭素二重結合であると好ましい。炭素−炭素不飽和結合としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基が好ましい。活性水素反応性基は、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアナト基からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましくい。アクリル基と、イソシアナト基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。

反応性添加剤としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテル等の、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリン等の、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び２−イソシアナトエチルメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とイソシアナト基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸等の、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物等が挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２−イソシアナトエチルアクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。

活性水素反応性基としてイソシアナト基を有する反応性添加剤としては、式（Ｙ）で表される反応性添加剤が好ましい。

［式（Ｙ）中、
ｎは１〜１０の整数を表わし、Ｒ^１’は、それぞれ独立に、炭素数２〜２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ^２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方が＞Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３’で示される基である。Ｒ^３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。Ｒ^３’のうち、少なくとも１つのＲ^３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］

式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、式（ＹＹ）で表される化合物が特に好ましい（なお、ｎは前記と同じ意味である）。

式（ＹＹ）で表される化合物は、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

反応性添加剤の含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部である。

［溶剤］
位相差層形成用組成物は、位相差層製造の操作性を良好にするために溶剤、特に有機溶剤を含むことが好ましい。有機溶剤としては、重合性液晶等の位相差層形成用組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤が好ましく、重合性液晶等の位相差層形成用組成物の構成成分を溶解し得る溶剤であって、且つ、重合性液晶の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；及びクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる。二種以上の有機溶剤を併用してもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、非塩素化脂肪族炭化水素溶剤及び非塩素化芳香族炭化水素溶剤が好ましい。

溶剤の含有量は、固形分１００質量部に対して、１０〜１００００質量部が好ましく、より好ましくは１００〜５０００質量部である。位相差層形成用組成物中の固形分濃度は、好ましくは２〜５０質量％であり、より好ましくは５〜５０質量％である。“固形分”とは、位相差層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計を意味する。

＜位相差層の製造方法＞
塗布方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布できる点で、ＣＡＰコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法及びバーコーターによる塗布方法が好ましい。Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に配向膜を形成し、得られた配向膜表面に位相差層を連続的に形成することもできる。

乾燥方法としては、配向膜製造時の乾燥方法と同じ方法が挙げられる。中でも、自然乾燥又は加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０〜２５０℃の範囲が好ましく、５０〜２２０℃の範囲がより好ましく、８０〜１７０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間〜６０分間が好ましく、３０秒間〜３０分間がより好ましい。

重合性液晶を重合して硬化させることもできる。重合性液晶が重合した位相差層は、重合性液晶の液晶配向が固定化されるため、熱による複屈折の変化の影響を受けにくい。

重合性液晶を重合する方法としては、光重合が好ましい。光重合によれば、低温で重合を実施できるため、耐熱性の観点で、基材の選択幅が広がる。光重合反応は、通常、可視光、紫外光又はレーザー光を照射することにより行われ、好ましくは紫外光を照射することで行われる。

光照射は、塗布された位相差層形成用組成物が溶剤を含む場合は、当該溶剤を乾燥し除去した後に行うことが好ましい。乾燥は、光照射と並行して行ってもよいが、光照射を行う前に、ほとんどの溶剤を除去しておくことが好ましい。

＜位相差層の特性＞
得られた位相差層がネマチック相等の液晶相を示す場合、モノドメイン配向による複屈折性を有する。
位相差層の厚さは、その用途により調節でき、０．１μｍ〜１０μｍが好ましく、光弾性を小さくする点で０．２μｍ〜５μｍがより好ましい。
位相差層は重合性液晶の配向状態又は延伸方法により光学特性を調節することができる。重合性液晶の配向により位相差層を形成する場合、重合性液晶の種類に応じて、配向状態を調節する。

重合性液晶が棒状液晶である場合、光軸が基材平面に対して水平となるように配向するものを水平配向、光軸が基材平面に対して垂直となるように配向するものを垂直配向と定義する。光軸とは、重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体を考え、光軸に直交する方向で切り出した断面が円となる、つまり３方向の屈折率がすべて等しくなる方向を意味し棒状液晶が基材に対して水平又は垂直配向した場合は、分子長軸方向と一致する。棒状液晶の場合は、その配向方向に対して水平な方向に遅相軸が存在する。

重合性液晶が円盤状液晶である場合、光軸が基材平面に対して水平となるように配向するものを水平配向、光軸が基材平面に対して垂直となるように配向するものを垂直配向と定義する。円盤状液晶の場合は、その円盤面が配向している方向に対して直交する方向に遅相軸が存在する。

位相差層を、延伸によって形成する場合、遅相軸方向は延伸方法により異なり、一軸、二軸又は斜め延伸等、その方法に応じて遅相軸及び光軸が決定される。例えば、正の配向複屈折材料を一軸延伸した場合においては、その延伸方向に遅相軸が存在する。

＜位相差層の面内位相差値Ｒ_ｅ（λ）＞
位相差層の厚み（延伸フィルムの場合は延伸倍率も）を調整することにより、所望の面内位相差を与える位相差層が作製できる。得られる位相差層の面内位相差値（面内リタデーション値、Ｒ_ｅ（λ））は、式（４）のように決定される。所望のＲ_ｅ（λ）を得るためには、Δｎ（λ）と膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒ_ｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （４）
（式中、Ｒ_ｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表わす。）

重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体を考えた場合、３方向の屈折率、つまりｎ_ｘ、ｎ_ｙ及びｎ_ｚを次のように定義する。ｎ_ｘは、位相差層が形成する屈折率楕円体における、基材平面対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎ_ｙは、位相差層が形成する屈折率楕円体における、基材平面対して平行であり、且つ、ｎ_ｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎ_ｚは、位相差層が形成する屈折率楕円体における、基材平面対して垂直な方向の屈折率を表す。

棒状液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、位相差層は、ｎ_ｘ＞ｎ_ｙ≒ｎ_ｚを満たすポジティブＡ層となり、ｎ_ｘと遅相軸方向が一致する。

円盤状液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、位相差層は、ｎ_ｘ＜ｎ_ｙ≒ｎ_ｚを満たすネガティブＡ層となり、ｎ_ｙと遅相軸方向が一致する。

位相差層がλ／４層である場合は、面内位相差値Ｒ_ｅ（５５０）は１１３〜１６３ｎｍの範囲、好ましくは１３０〜１５０ｎｍの範囲である。位相差層がλ／２層である場合は、Ｒ_ｅ（５５０）は２５０〜３００ｎｍの範囲、好ましくは２６５〜２８５ｎｍの範囲である。

＜厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈ＞
重合性液晶の配向状態に応じて、厚み方向の位相差を発現する位相差層が作製できる。厚み方向の位相差を発現するとは、式（８）において、厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈが負となる特性を示すことである。厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈは、面内の進相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ_４０と面内位相差値Ｒ_ｅとから算出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈは、面内位相差値Ｒ_ｅ、進相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ_４０、位相差層の厚みｄ、及び位相差層の平均屈折率ｎ_０から、式(９)〜（１１）によりｎ_ｘ、ｎ_ｙ及びｎ_ｚを求め、これらを式（８）に代入して、算出することができる。

Ｒ_ｔｈ＝［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ］×ｄ （８）
Ｒ_ｅ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ （９）
Ｒ_４０＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ'）×ｄ／ｃｏｓ（φ） （１０）
（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ＋ｎ_ｚ）／３＝ｎ_０ （１１）
ここで、
φ＝ｓｉｎ^−１〔ｓｉｎ（４０°)／ｎ0〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ²×ｓｉｎ²(φ)＋ｎｚ²×ｃｏｓ²(φ)〕^1/2
また、ｎ_ｘ、ｎ_ｙ及びｎ_ｚは前述の定義と同じである。

棒状液晶の光軸が基材平面に対して垂直に配向した場合、又は、円盤状液晶の光軸が基材平面に対して水平に配向した場合、厚み方向の位相差が発現する。重合性液晶が円盤状液晶である場合は、光軸が基材平面に対して平行であるため、面内位相差値Ｒ_ｅを決めると、厚みが固定されるため、一義的に厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈが決定される。重合性液晶が棒状液晶である場合は、光軸が基材平面に対して垂直であるため、位相差層の厚みを調節することで面内位相差値Ｒ_ｅを変化させることなく厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈを調節することが可能となる。

延伸によって形成した、厚み方向の位相差を発現する位相差層としては、例えば、特開２００８−１２９４６５号公報に記載のｎ_ｘ＜ｎ_ｙ＜ｎ_ｚの屈折率関係を有する延伸フィルムや、公知の多層押出フィルムを挙げることができる。ｎ_ｘ＜ｎ_ｙ＜ｎ_ｚの屈折率関係を有する位相差層であっても、相対的にｎ_ｚが大きくなるため、ｎ_ｘ≒ｎ_ｙ＜ｎ_ｚと同等の効果を得ることができる。

棒状液晶の光軸が、基材平面に対して垂直に配向した場合、位相差層は、ｎ_ｘ≒ｎ_ｙ＜ｎ_ｚを満たすポジティブＣ層となり、ｎ_ｚと遅相軸方向が一致する。

円盤状液晶の光軸が、基材平面に対して平行に配向した場合、位相差層は、ｎ_ｘ＜ｎ_ｙ≒ｎ_ｚを満たすネガティブＡ層となり、ｎ_ｙと遅相軸方向が一致する。

ポジティブＣ層の面内位相差値Ｒ_ｅ（５５０）は通常０〜１０ｎｍの範囲、好ましくは０〜５ｎｍの範囲である。厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈは、通常−１０〜−３００ｎｍの範囲、好ましくは−２０〜−２００ｎｍの範囲である。

重合性液晶が棒状液晶である場合、特定の構造を有する高分子を延伸したフィルムと、位相差層としてλ／２層及びλ／４層とを、特定の遅相軸関係で積層した場合、式（１２）及び式（１３）を満たす広帯域λ／４層を得ることができる。
広帯域λ／４層とは、可視光域における各波長の光に対して、その１／４の位相差値を発現する位相差層を意味し、その一様な偏光変換の特性から、後述するように有機ＥＬ表示装置の黒表示時の光漏れを抑制することが可能となる。
広帯域λ／４層は、さらに、面内位相差値Ｒ_ｅが式（１４）を満たす。

Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （１２）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （１３）
１００＜Ｒ_ｅ（５５０）＜１６０ （１４）

式（１２）及び式（１３）において、Δｎ（λ）は、リタデーションを測定して、位相差層の厚みで除することで得られる。この際、ガラス基板のように基材自体にリタデーションが無い基材上に製膜したものを測定することで、実質的な位相差層の特性を測定することができる。

特定の構造を有する高分子を延伸したフィルムとしては、ポリカーネート系樹脂からなる市販の延伸フィルムが挙げられ、「ピュアエース（登録商標）ＷＲ」（帝人株式会社製）等が挙げられる。

面内位相差がλ／２とλ／４である２つの位相差層を特定の遅相軸関係で積層し、広帯域λ／４層を得る方法としては、公知の方法が挙げられる。
特開平１０−６８８１６号公報及び特開平１０−９０５２１号公報には、異方性を有する二枚のポリマーフィルムを積層することにより得られる位相差フィルムが開示されている。
特開平１０−６８８１６号公報記載には、λ／４層と、λ／２層とを、それらの光軸が交差した状態で貼り合わせた広帯域λ／４層が開示されている。
特開平１０−９０５２１号公報には、面内位相差値が１６０〜３２０ｎｍである位相差板を少なくとも２枚、その遅相軸が互いに平行でも直交でもない角度になるように積層した広帯域／４が開示されている。
特開２００１−４８３７号公報、特開２００１−２１７２０号公報、特開２０００−２０６３３１号公報には、液晶化合物からなる位相差層を少なくとも２層設けることによって広帯域λ／４層を製造する方法が開示されている。
特開２００１−４８３７号公報には、円盤状液晶を光軸が基材平面に対して平行となるように配向させることで位相差層を形成する方法が開示されている。

＜偏光層＞
偏光層は通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造されるか、吸収異方性を有する色素を塗布して製造される。得られた偏光層の少なくとも一方の面に接着層を介して透明保護フィルムを貼合することが好ましい。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニル、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１,０００〜１０,０００であり、好ましくは１,５００〜５,０００の範囲である。

ポリビニルアルコール系樹脂を製膜し、偏光層の原反フィルムを得ることができる。ポリビニルアルコール系樹脂は、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、１０〜１５０μｍが好ましい。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、又は染色の後で行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常３〜８倍である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの二色性色素による染色は、二色性色素を含む水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法等によって行われる。二色性色素としては、ヨウ素や二色性有機染料等が挙げられる。二色性有機染料としては、Ｃ． Ｉ． ＤＩＲＥＣＴ ＲＥＤ ３９等のジスアゾ化合物からなる二色性直接染料、トリスアゾ、テトラキスアゾ等の化合物からなる二色性直接染料等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に、水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。

二色性色素がヨウ素である場合は通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含む水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する。水溶液におけるヨウ素の含有量は、水１００質量部に対して、通常０．０１〜１質量部である。ヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部に対して、通常０．５〜２０質量部である。水溶液の温度は、通常２０〜４０℃である。また、水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常２０〜１,８００秒である。

二色性色素が二色性有機染料である場合は通常、水溶性二色性染料を含む水溶液にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する。水溶液における二色性有機染料の含有量は、水１００質量部に対して、通常１×１０^-４〜１０質量部であり、好ましくは１×１０^-３〜１質量部であり、より好ましくは１×１０^-３〜１×１０^-２質量部である。水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含んでいてもよい。二色性染料水溶液の温度は、通常２０〜８０℃である。また、水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常１０〜１,８００秒である。

二色性色素による染色後のホウ酸処理は通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬する方法により行うことができる。このホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は、水１００質量部に対して、通常２〜１５質量部であり、好ましくは５〜１２質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いた場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含むことが好ましく、その場合のヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部に対して、通常０．１〜１５質量部であり、好ましくは５〜１２質量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、通常６０〜１,２００秒であり、好ましくは１５０〜６００秒、より好ましくは２００〜４００秒である。ホウ酸処理の温度は、通常５０℃以上であり、好ましくは５０〜８５℃、より好ましくは６０〜８０℃である。

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬する方法等により行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常５〜４０℃である。また浸漬時間は、通常１〜１２０秒である。

水洗後は乾燥処理が施されて、偏光層が得られる。乾燥手段としては、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターが挙げられる。乾燥処理の温度は、通常３０〜１００℃であり、好ましくは５０〜８０℃である。乾燥処理の時間は、通常６０〜６００秒であり、好ましくは１２０〜６００秒である。乾燥処理により、偏光層の水分率は実用可能な程度にまで低減される。その水分率は、通常５〜２０質量％であり、好ましくは８〜１５質量％である。水分率が５質量％を下回ると、偏光層の可撓性が失われ、偏光層がその乾燥後に損傷したり、破断したりすることがある。また、水分率が２０質量％を上回ると、偏光層の熱安定性が悪くなる可能性がある。
偏光層の厚さは、通常５〜４０μｍである。

吸収異方性を有する色素を塗布して製造される偏光層としては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は、二色性色素と重合性液晶化合物とを含む組成物を塗布して得られる偏光層等が挙げられる。

吸収異方性を有する色素を塗布した偏光層は薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該偏光層の厚みは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５〜３μｍである。

吸収異方性を有する色素を塗布した偏光層としては、具体的には、特開２０１２−３３２４９号公報等に記載のフィルムが挙げられる。

偏光層の少なくとも一方の面に、接着層を介して透明保護フィルムを積層してもよい。透明保護フィルムとしては、前述した透明基材と同様のものが好ましい。

［接着層］
偏光層及び透明保護フィルム、位相差層同士、位相差層及び偏光層、又は、位相差層及び偏光層を含む円偏光板とディスプレイとを、接着層を介して貼合する場合には、接着剤又は粘着剤により貼合される。
偏光層の両面に透明保護フィルムを貼合する場合は、同じ接着剤であることが、生産性やコストの面で好ましい。

［接着剤］
接着剤としては、接着成分を水に溶解又は分散させた水系接着剤、及び、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する組成物（以下、活性エネルギー線硬化型接着剤ということがある）が挙げられる。

＜水系接着剤＞
水系接着剤としては、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を含み、接着性を向上させるために、イソシアネート系化合物やエポキシ化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含む組成物等が挙げられる。乾燥後の接着層の厚さは、通常０．００１〜５μｍであり、好ましくは０．０１〜２μｍ、より好ましくは０．０１〜１μｍである。

接着剤の主成分がポリビニルアルコール系樹脂である場合、ポリビニルアルコール系樹脂としては、部分ケン化ポリビニルアルコール及び完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及びアミノ基変性ポリビニルアルコール等の、変性されたポリビニルアルコール系樹脂が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂の水溶液が接着剤であり、接着剤中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、水１００質量部に対して、通常１〜１０質量部であり、好ましくは１〜５質量部である。

ポリビニルアルコール系樹脂の水溶液からなる接着剤は、接着性を向上させるために、多価アルデヒド、水溶性エポキシ樹脂、メラミン系化合物、ジルコニア系化合物、及び亜鉛化合物等の硬化性化合物を含んでいてもよい。
水溶性エポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られる水溶性のポリアミドエポキシ樹脂が挙げられる。ポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、“スミレーズレジン ６５０”及び“スミレーズレジン ６７５”［住化ケムテックス（株）］、“ＷＳ−５２５”［日本ＰＭＣ（株）］等が挙げられる。水溶性エポキシ樹脂の含有量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜５０質量部である。

接着剤の主成分がウレタン樹脂である場合、ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂が好ましい。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、イオン性成分（親水成分）が導入されたものである。アイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用しなくても、水中で乳化してエマルジョンとなる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を含む水性接着剤は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を含むことが好ましい。

偏光層と透明保護フィルムを水系接着剤により接着する場合、水系接着剤を偏光層と透明保護フィルムとの間に注入後、前述した乾燥方法で水を蒸発させつつ、熱架橋反応を進行させることで両者に十分な接着性を与えることができる。

＜活性エネルギー線硬化型接着剤＞
活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含むカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤を含むラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含み、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化型接着剤、並びに、電子線を照射することで硬化させる電子線硬化型の活性エネルギー線硬化型接着剤等が挙げられる。電子線硬化型の活性エネルギー線硬化型接着剤は、開始剤を含まない。
なかでも、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含むカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤は、実質的に溶剤を含まないことが好ましい。

カチオン重合可能なエポキシ化合物であって、それ自身が室温において液体であり、溶剤の非存在下であっても適度な流動性を有し、適切な硬化接着強度を与えるものを選択し、さらに、該エポキシ化合物に適したカチオン重合開始剤を選択することによって得られる活性エネルギー線硬化型接着剤によれば、接着工程で通常必要となる乾燥設備を省くことができる。また、適切な活性エネルギー線量を照射することで硬化速度を促進させ、生産速度を向上させることもできる。

エポキシ化合物としては、水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物、アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物、Ｃ−Ｃ二重結合を有する鎖状化合物のエポキシ化物、飽和炭素環に直接若しくはアルキレンを介してグリシジルオキシ基若しくはエポキシエチル基が結合しているか、又は飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物等が挙げられる。エポキシ化合物は、異なる複数種を併用してもよい。なかでも脂環式エポキシ化合物は、カチオン重合性に優れることから、好ましい。

水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物は、芳香族化合物又は鎖状化合物の水酸基にエピクロロヒドリンを塩基性条件下で付加縮合させる方法によって製造できる。水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物としては、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル、多芳香環型エポキシ樹脂、アルキレングリコール又はポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。

ビスフェノール類のジグリシジルエーテルとしては、ビスフェノールＡのグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体、ビスフェノールＦのグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノールのグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体等が挙げられる。

多芳香環型エポキシ樹脂としては、フェノールノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物、クレゾールノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物、フェノールアラルキル樹脂のグリシジルエーテル化物、ナフトールアラルキル樹脂のグリシジルエーテル化物、フェノールジシクロペンタジエン樹脂のグリシジルエーテル化物等が挙げられる。さらに、トリスフェノール類のグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体等も多芳香環型エポキシ樹脂に属する。

アルキレングリコール又はポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテルとしては、エチレングリコールのグリシジルエーテル化物、ジエチレングリコールのグリシジルエーテル化物、１，４−ブタンジオールのグリシジルエーテル化物、１，６−ヘキサンジオールのグリシジルエーテル化物等が挙げられる。

アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物は、該化合物のアミノ基にエピクロロヒドリンを塩基性条件下で付加縮合させる方法によって製造できる。アミノ基を有する化合物は、同時に水酸基を有していてもよい。アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物としては、１，３−フェニレンジアミンのグリシジルアミノ化物及びそのオリゴマー体、１，４−フェニレンジアミンのグリシジルアミノ化物及びそのオリゴマー体、３−アミノフェノールのグリシジルアミノ化及びグリジシジルエーテル化物並びにそのオリゴマー体、４−アミノフェノールのグリシジルアミノ化及びグリジシジルエーテル化物並びにそのオリゴマー体等が挙げられる。

Ｃ−Ｃ二重結合を有する鎖状化合物のエポキシ化物は、その鎖状化合物のＣ−Ｃ二重結合を、塩基性条件下で過酸化物によりエポキシ化する方法によって製造できる。Ｃ−Ｃ二重結合を有する鎖状化合物としては、ブタジエン、ポリブタジエン、イソプレン、ペンタジエン、ヘキサジエン等が挙げられる。また、二重結合を有するテルペン類もエポキシ化原料として挙げられ、非環式モノテルペンとしては、リナロール等が挙げられる。エポキシ化に用いられる過酸化物としては、過酸化水素、過酢酸、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド等が挙げられる。

飽和炭素環に直接若しくはアルキレンを介してグリシジルオキシ基又はエポキシエチル基が結合している脂環式エポキシ化合物としては、先に掲げたビスフェノール類等の水酸基を有する芳香族化合物の芳香環を水素化して得られる水素化ポリヒドロキシ化合物のグリシジルエーテル化物、水酸基を有するシクロアルカン化合物のグリシジルエーテル化物、ビニル基を有するシクロアルカン化合物のエポキシ化物等が挙げられる。

エポキシ化合物は、市販品を入手することが可能であり、“ｊＥＲ”シリーズ［三菱化学（株）］、“エピクロン”［ＤＩＣ（株）］、“エポトート”［東都化成（株）］、“アデカレジン”［（株）ＡＤＥＫＡ］、“デナコール”［ナガセケムテックス（株）］、“ダウエポキシ”［ダウケミカル社］、“テピック”［日産化学工業（株）］等が挙げられる。

一方、飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物は、Ｃ−Ｃ二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物のＣ−Ｃ二重結合を、塩基性条件下で過酸化物を用いてエポキシ化する方法等によって製造できる。Ｃ−Ｃ二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物としては、クロペンテン環を有する化合物、シクロヘキセン環を有する化合物、シクロペンテン環又はシクロヘキセン環にさらに少なくとも２個の炭素原子が結合して追加の環を形成している多環式化合物等が挙げられる。Ｃ−Ｃ二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物は、環外に別のＣ−Ｃ二重結合を有していてもよい。Ｃ−Ｃ二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物の例を挙げると、シクロヘキセン、４−ビニルシクロヘキセン、単環式モノテルペンであるリモネン及びα−ピネン等がある。

飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物は、環に直接結合したエポキシ基を有する脂環式構造が、適当な連結基を介して少なくとも２個形成された化合物であってもよい。連結基としては、エステル結合、エーテル結合、アルキレン結合等が挙げられる。

飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物の具体的としては
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、
１，２−エポキシ−４−エポキシエチルシクロヘキサン、
１，２−エポキシ−１−メチル−４−（１−メチルエポキシエチル）シクロヘキサン、
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル （メタ）アクリレート、
２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールと４−エポキシエチル−１，２−エポキシシクロヘキサンとの付加物、
エチレン ビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、
オキシジエチレン ビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、
１，４−シクロヘキサンジメチル ビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、
３−（３，４−エポキシシクロヘキシルメトキシカルボニル）プロピル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。

飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物も、市販品を入手することが可能であり、“セロキサイド”シリーズ及び“サイクロマー”［商品名、（株）ダイセル］、“サイラキュア UVR”シリーズ［商品名、ダウケミカル社］等が挙げられる。

エポキシ化合物を含む硬化性接着剤は、さらにエポキシ化合物以外の活性エネルギー線硬化性化合物を含んでいてもよい。エポキシ化合物以外の活性エネルギー線硬化性化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物等が挙げられる。なかでも、カチオン重合において硬化速度を促進できる可能性があることから、オキセタン化合物を併用することが好ましい。

オキセタン化合物は、４員環エーテルを有する化合物であり、
１，４−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル〕ベンゼン、
３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン、
ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、
３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、
３−エチル−３−（シクロヘキシルオキシメチル）オキセタン、
フェノールノボラックオキセタン、
１，３−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ベンゼン等が挙げられる。

オキセタン化合物は、市販品を入手することが可能であり、それぞれ商品名で、“アロンオキセタン”シリーズ［東亞合成（株）］、“ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ”シリーズ［宇部興産（株）］等が挙げられる。

エポキシ化合物やオキセタン化合物を含む硬化性化合物は、有機溶剤を含まないことが好ましい。また、カチオン重合開始剤や増感剤等の接着剤を構成する他の成分も、有機溶剤に溶解されたものよりも、有機溶剤を含まないものを使用することが好ましい。

カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線、例えば紫外線の照射を受けてカチオン種を発生する化合物である。カチオン重合開始剤としては、接着剤に求められる接着強度及び硬化速度を与えるものであればよいが、芳香族ジアゾニウム塩；芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩；鉄−アレーン錯体等が挙げられる。カチオン重合開始剤は、異なる複数種を併用してもよい。

芳香族ジアゾニウム塩としては、
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロボレート等が挙げられる。

芳香族ヨードニウム塩としては、
ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、
ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ノニルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。

芳香族スルホニウム塩としては、
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
トリフェニルスルホニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジフェニル（４−フェニルチオフェニル）スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
４，４’−ビス（ジフェニルスルホニオ）ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、
４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシフェニル）スルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、
４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシフェニル）スルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、
７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントン ヘキサフルオロアンチモネート、
７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントン テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
４−フェニルカルボニル−４’−ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロホスフェート、
４−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカルボニル）−４’−ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロアンチモネート、
４−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカルボニル）−４’−ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ−ジフェニルスルフィド テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。

鉄−アレーン錯体としては、
キシレン−シクロペンタジエニル鉄（II） ヘキサフルオロアンチモネート、
クメン−シクロペンタジエニル鉄（II） ヘキサフルオロホスフェート、
キシレン−シクロペンタジエニル鉄（II） トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メタナイド等が挙げられる。

カチオン重合開始剤としては、３００ｎｍ以上の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械強度や接着強度を有する接着層を与えることができるため、芳香族スルホニウム塩が好ましい。

カチオン重合開始剤は、市販品を入手することが可能であり、それぞれ商品名で、“カヤラッド”シリーズ［日本化薬株］、“サイラキュア ＵＶＩ”シリーズ［ダウケミカル社］、光酸発生剤“ＣＰＩ”シリーズ［サンアプロ（株）］、光酸発生剤“ＴＡＺ”、“ＢＢＩ”及び“ＤＴＳ”［みどり化学（株）］、“アデカオプトマー”シリーズ［（株）ＡＤＥＫＡ］、“ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ”［ローディア社］等が挙げられる。

カチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤１００質量部に対して、通常０．５〜２０質量部であり、好ましくは１〜１５質量部である。０．５質量部未満の場合は、硬化が不十分になり、接着層の機械強度や接着強度を低下させることがある。２０質量部を超える場合は、その量が多すぎると、接着層中のイオン性物質が増加することで接着層の吸湿性が高くなり、接着後の耐久性能を低下させることがある。

電子線硬化型の活性エネルギー線硬化型接着剤は、光重合開始剤を含まない。紫外線硬化型の活性エネルギー線硬化型接着剤は、光ラジカル発生剤を含むことが好ましい。光ラジカル発生剤としては、水素引き抜き型光ラジカル発生剤と開裂型光ラジカル発生剤とが挙げられる。

水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、１−メチルナフタレン、２−メチルナフタレン、１−フルオロナフタレン、１−クロロナフタレン、２−クロロナフタレン、１−ブロモナフタレン、２−ブロモナフタレン、１−ヨードナフタレン、２−ヨードナフタレン、１−ナフトール、２−ナフトール、１−メトキシナフタレン、２−メトキシナフタレン、１，４−ジシアノナフタレン等のナフタレン誘導体、アントラセン、１，２−ベンズアントラセン、９，１０−ジクロロアントラセン、９，１０−ジブロモアントラセン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９−シアノアントラセン、９，１０−ジシアノアントラセン、２，６，９，１０−テトラシアノアントラセン等のアントラセン誘導体、ピレン誘導体、カルバゾール、９−メチルカルバゾール、９−フェニルカルバゾール、９−プロペ−２−イニル−９Ｈ−カルバゾール、９−プロピル−９Ｈ−カルバゾール、９−ビニルカルバゾール、９Ｈ−カルバゾール−９−エタノール、９−メチル−３−ニトロ−９Ｈ−カルバゾール、９−メチル−３，６−ジニトロ−９Ｈ−カルバゾール、９−オクタノイルカルバゾール、９−カルバゾールメタノール、９−カルバゾールプロピオン酸、９−カルバゾールプロピオニトリル、９−エチル−３，６−ジニトロ−９Ｈ−カルバゾール、９−エチル−３−ニトロカルバゾール、９−エチルカルバゾール、９−イソプロピルカルバゾール、９−（エトキシカルボニルメチル）カルバゾール、９−（モルホリノメチル）カルバゾール、９−アセチルカルバゾール、９−アリルカルバゾール、９−ベンジル−９Ｈ−カルバゾール、９−カルバゾール酢酸、９−（２−ニトロフェニル）カルバゾール、９−（４−メトキシフェニル）カルバゾール、９−（１−エトキシ−２−メチル−プロピル）−９Ｈ−カルバゾール、３−ニトロカルバゾール、４−ヒドロキシカルバゾール、３，６−ジニトロ−９Ｈ−カルバゾール、３，６−ジフェニル−９Ｈ−カルバゾール、２−ヒドロキシカルバゾール、３，６−ジアセチル−９−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメトキシ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ベンゾイル安息香酸メチルエステル、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、芳香族カルボニル化合物、［４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル］−フェニルメタノン、キサントン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、４−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等のチオキサントン誘導体やクマリン誘導体等が挙げられる。

開裂型光ラジカル発生剤は、活性エネルギー線を照射することにより当該化合物が開裂してラジカルを発生するタイプの光ラジカル発生剤であり、ベンゾインエーテル誘導体、アセトフェノン誘導体等のアリールアルキルケトン類、オキシムケトン類、アシルホスフィンオキシド類、チオ安息香酸Ｓ−フェニル類、チタノセン類、及びそれらを高分子量化した誘導体等が挙げられる。市販されている開裂型光ラジカル発生剤としては、１−（４−ドデシルベンゾイル）−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−（４−イソプロピルベンゾイル）−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−ベンゾイル−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−ベンゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−［４−（アクリロイルオキシエトキシ）−ベンゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、ジフェニルケトン、フェニル−１−ヒドロキシ−シクロヘキシルケトン、ベンジルジメチルケタール、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−ピリル−フェニル）チタン、（η６−イソプロピルベンゼン）−（η５−シクロペンタジエニル）−鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシ−ベンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチル）−ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド又はビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニル−ホスフィンオキシド、（４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン、４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モルホリノエタン等が挙げられる。光ラジカル発生剤は異なる複数種を併用してもよい。

光ラジカル発生剤単体の安定性や、硬化性の面でより好ましいものは開裂型光ラジカル発生剤である。開裂型光ラジカル発生剤の中でもアシルホスフィンオキシド類が好ましく、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド［商品名「ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ」、チバ・ジャパン（株）］、ビス（２，６−ジメトキシ−ベンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチル）−ホスフィンオキシド［商品名「ＣＧＩ ４０３」、チバ・ジャパン（株）］、又はビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド［商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９」、チバ・ジャパン（株）］がより好ましい。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、増感剤を含んでいてもよい。増感剤を含むことにより、反応性が向上し、接着層の機械強度や接着強度をさらに向上させることができる。増感剤としては、前述したものが挙げられる。

増感剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量１００質量部に対し、０．１〜２０質量部の範囲とすることが好ましい。

活性エネルギー線硬化型接着剤には、その効果を損なわない範囲で各種の添加剤を配合することができる。配合しうる添加剤としては、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤等が挙げられる。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、前述した塗布方法によりフィルムに塗工することができる。この際、活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度としては、種々方法で塗工できる粘度を有するものであればよいが、その温度２５℃における粘度は、１０〜３０,０００ｍＰａ・ｓｅｃの範囲にあることが好ましく、５０〜６,０００ｍＰａ・ｓｅｃの範囲にあることがより好ましい。その粘度があまり小さいと、ムラのない均質な塗膜が得られにくくなる傾向にある。一方、その粘度があまり大きいと、流動しにくくなって、同じくムラのない均質な塗膜が得られにくくなる傾向にある。ここでいう粘度は、接着剤を２５℃に調温した後、６０ｒｐｍで、Ｂ型粘度計により測定される値である。

本発明において活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等等が挙げられる。

電子線硬化型の活性エネルギー線硬化型接着剤において、電子線の照射条件は、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化しうる条件であればよく、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５ｋＶ〜３００ｋＶであり、さらに好ましくは１０ｋＶ〜２５０ｋＶである。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、透明保護フィルムや偏光子に損傷を与えるおそれがある。照射線量は、５〜１００ｋＧｙ、さらに好ましくは１０〜７５ｋＧｙである。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、透明保護フィルムや偏光子に損傷を与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所望の光学特性を得ることができない場合がある。

電子線照射は、通常、不活性ガス中で照射を行うが、必要であれば大気中や酸素を少し導入した条件で行ってもよい。透明保護フィルムの材料によるが、酸素を適宜導入することによって、最初に電子線があたる透明保護フィルム面にあえて酸素阻害を生じさせ、透明保護フィルムへのダメージを防ぐことができ、接着剤にのみ効率的に電子線を照射させることができる。

紫外線硬化型活性エネルギー線硬化型接着剤において、光照射強度は、接着剤の組成ごとに決定されるものであって特に限定されないが、１０〜５０００ｍＷ／ｃｍ^２であることが好ましい。樹脂組成物への光照射強度が１０ｍＷ／ｃｍ^２未満であると、反応時間が長くなりすぎ、５０００ｍＷ／ｃｍ^２を超えると、光源から輻射される熱及び組成物の重合時の発熱により、接着剤の構成材料の黄変や層の劣化を生じる可能性がある。なお、照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度であり、より好ましくは波長４００ｎｍ以下の波長領域における強度であり、さらに好ましくは波長２８０〜３２０ｎｍの波長領域における強度である。光を１回又は複数回照射して、その積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ^２以上、好ましくは１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ^２となるように設定されることが好ましい。上記接着剤への積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ^２未満であると、重合開始剤由来の活性種の発生が十分でなく、接着剤の硬化が不十分となる。一方でその積算光量が５，０００ｍＪ／ｃｍ^２を超えると、照射時間が非常に長くなり、生産性向上には不利なものとなる。この際、使用するフィルムや接着剤種の組み合わせ等によって、どの波長領域（ＵＶＡ（３２０〜３９０ｎｍ）やＵＶＢ（２８０〜３２０ｎｍ）等）での積算光量が必要かは異なる。

活性エネルギー線を照射する光源は、特に限定されないが、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。エネルギーの安定性や装置の簡便さという観点から、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する紫外光源であることが好ましい。

［粘着剤］
粘着剤としては、感圧式粘着剤が挙げられる。
粘着剤としては、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とし、官能基を有する（メタ）アクリルモノマーを含むアクリル系モノマー混合物を、重合開始剤の存在下にラジカル重合することにより得られ、ガラス転移温度Ｔｇが０℃以下のアクリル系樹脂と、架橋剤とを含むアクリル系粘着剤が好ましい。

（メタ）アクリル酸エステルとしては、アクリル酸アルキルエステルが好ましく、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−メトキシエチルやアクリル酸エトキシメチルがより好ましい。

官能基を有する（メタ）アクリルモノマーは、オレフィン性二重結合である（メタ）アクリロイル基を１個有するとともに、水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、又はエポキシ基等の極性官能基を有する化合物である。なかでも、アクリロイル基がオレフィン性二重結合となるアクリルモノマーが好ましい。水酸基を有するモノマーとしては、アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましく、カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸が好ましい。

アクリルモノマー系混合物は、上記の（メタ）アクリル酸エステル及び官能基を有する（メタ）アクリルモノマー以外のモノマー（以下、「第三モノマー」と言う場合がある）をさらに含んでいてもよい。第三モノマーとしては、１個のオレフィン性二重結合と少なくとも１個の芳香環を有するモノマー、スチレン系モノマー、脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステル、ビニル系モノマー、複数の（メタ）アクリロイル基を有するモノマー等が挙げられる。

１個のオレフィン性二重結合と少なくとも１個の芳香環を有するモノマーが好ましく、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−フェノキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ノニルフェノールの（メタ）アクリレート、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレートがより好ましく、２−フェノキシエチルアクリレートがさらに好ましい。

第三モノマーは、異なる複数種を併用してもよい。第三モノマーに由来する構造単位の量は、アクリル系樹脂全体に対して、通常０〜２０質量％の範囲であり、好ましくは０〜１０質量％である。

アクリル系樹脂は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが、１００万〜２００万の範囲にあることが好ましい。重量平均分子量Ｍｗが１００万以上であると、高温高湿下での接着性が向上し、被着体等と接着層との間に浮きや剥がれの発生する可能性が小さくなる傾向にあり、しかもリワーク性が向上する傾向にあることから好ましい。また、アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗが２００万以下であると、層の寸法が変化しても、その寸法変化に接着層が追随して変動するので、ディスプレイの光抜けや色ムラが抑制される傾向にあることから好ましい。さらに、重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比Ｍｗ／Ｍｎで表される分子量分布は、３〜７の範囲にあることが好ましい。

アクリル系樹脂は、上記のような比較的高分子量のものだけで構成することも、それとは異なるアクリル系樹脂との混合物で構成することもできる。

アクリル系樹脂は、溶液重合法、乳化重合法、塊状重合法、懸濁重合法等、公知の各種方法によって製造することができる。アクリル系樹脂の製造においては通常、重合開始剤が用いられる。重合開始剤としては、アゾ系化合物、有機過酸化物、無機過酸化物、過酸化物と還元剤を併用したレドックス系開始剤等が挙げられる。具体的には、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル、過硫酸アンモニウム等が挙げられる。重合開始剤の使用量は、アクリル系樹脂の原料となるモノマーの総量１００質量部に対して、通常０．００１〜５質量部である。

架橋剤は、アクリル系樹脂中の極性官能基を有するモノマーに由来する構造単位と架橋反応し得る官能基を、少なくとも２個有する化合物であり、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、金属キレート系化合物、アジリジン系化合物等が挙げられる。

架橋剤としては、イソシアネート系化合物が好ましい。イソシアネート系化合物としては、イソシアナト基（−ＮＣＯ）を少なくとも２個有する化合物、該化合物をポリオールと反応させたアダクト体、該化合物の二量体、該化合物の三量体等が挙げられる。具体例としては、トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートをポリオールと反応させて得られるアダクト体、トリレンジイソシアネートの二量体、トリレンジイソシアネートの三量体、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートをポリオールと反応させて得られるアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートの二量体、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体等が挙げられる。

架橋剤の含有量は、アクリル系樹脂１００質量部に対して、通常０．０１〜５質量部であり、０．１〜５質量部が好ましく、０．２〜３質量部がより好ましい。アクリル系樹脂１００質量部に対する架橋剤の含有量を０．０１質量部以上、好ましくは０．１質量部以上とすれば、接着層の耐久性が向上する傾向にある。

粘着剤は、他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、金属微粒子、金属酸化物微粒子、又は金属等をコーティングした微粒子等の、導電性の微粒子、イオン導電性組成物、有機のカチオン又はアニオンを有するイオン性化合物、シランカップリング剤、架橋触媒、耐候安定剤、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、染料、顔料、無機フィラー、上記アクリル系樹脂以外の樹脂、有機ビーズ等の光拡散性微粒子等が挙げられる。また、粘着剤に紫外線硬化性化合物を配合し、接着層を形成した後に紫外線を照射して硬化させ、より硬い接着層とすることも有用である。

粘着剤を構成する各成分を、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を、基材上に塗布後に、乾燥させて、接着層が形成される。一部、溶剤に溶解しない成分がある場合は、それらは系中に分散した状態であればよい。

粘着剤により形成される接着層の厚さは、５〜５０μｍが好ましく、５〜３０μｍがより好ましい。接着層の厚さを３０μｍ以下とすることにより、高温高湿下での接着性が向上し、被着体と接着層との間に浮きや剥がれの発生する可能性が低くなる傾向にあり、リワーク性も向上する傾向にある。また、その厚さを５μｍ以上とすることにより、そこに被着体の寸法が変化してもその寸法変化に接着層が追随して変動することができる。

＜接着層の形成方法＞
接着層を形成する方法としては、基材として剥離フィルムを用い、基材又は基材上に設けた層の上に接着剤又は粘着剤を塗布して接着層を形成し、得られる接着層（以下「転写接着層」という）を被着体の表面に転写する方法、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等が挙げられる。また、１枚の剥離フィルム又は剥離フィルム上に設けた層の上に接着層を形成した後、さらにその接着層の上に別の剥離フィルムを貼合して、両面セパレーター型シートとすることもできる。両面セパレーター型シートは、必要な時に片側の剥離フィルムを剥がし、被着体へ貼合される。両面セパレーター型シートの市販品としては、リンテック株式会社や日東電工株式会社から販売されているノンキャリア粘着剤フィルムやノンキャリア粘着剤シートがある。

剥離フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリプロピレン又はポリエチレン等の各種の樹脂からなるフィルムを基材とし、この基材の接着層との接合面に、シリコーン処理等の離型処理が施されたもの等が挙げられる。剥離フィルムは、セパレートフィルム又はセパレーターとも呼ばれる。

＜位相差層の製造方法＞
位相差層は、連続的製造方法（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式）により製造することができる。
位相差層の製造方法は、
基材が第１の巻芯に巻き取られている第１ロールを準備する工程と、
該第１ロールから、該基材を連続的に送り出す工程と、
該基材に配向膜形成用組成物を連続的に塗布して第１塗布膜を形成する工程と、
塗布された配向膜形成用組成物から該溶剤を乾燥除去して、該基材上に第１乾燥被膜を形成する工程と、
該第１乾燥被膜に配向処理することにより、配向膜を形成して、積層体を連続的に得る工程と、
該光配向膜上に、位相差層形成用組成物を塗布して、該配向膜上に第２塗布膜を連続的に形成する工程と
該第２塗布膜を、含まれる重合性液晶が重合しない条件で乾燥することにより、該配向膜上に第２乾燥被膜を形成する工程と、
該第２乾燥被膜中に含まれる該重合性液晶を液晶状態に保持したまま、該重合性液晶を重合させることにより、位相差層を連続的に形成する工程と、
連続的に得られた位相差層付き基材を第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程を有する。

基材が巻芯に巻き取られている第１ロールは、市場から入手できる。
第１ロールから基材を巻き出す方法は第１ロールの巻芯に適当な回転手段を設置し、当該回転手段により第１ロールを回転させることにより行われる。また、第１ロールから基材を搬送する方向に、適当な補助ロールを設置し、当該補助ロールの回転手段で基材を巻き出す形式でもよい。さらに、第１の巻芯及び補助ロールともに回転手段を設置することで、基材に適度な張力を付与しながら、基材を巻き出す形式でもよい。

第１ロールから巻き出された基材は、塗布装置を通過する際に、その表面上に当該塗布装置により配向膜形成用組成物が塗布される。このように連続的に配向膜形成用組成物を塗布するために、上述のとおり、当該塗布装置によって、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、フレキソ法等の印刷法が実施される。

塗布装置を経た基材は、乾燥炉へと搬送され、この乾燥炉により加熱されて、基材に第１乾燥被膜を連続的に形成する。乾燥炉としては、熱風式乾燥炉等が挙げられる。乾燥炉の設定温度は、塗布装置により塗布された前記配向膜形成用組成物に含まれる溶剤の種類等に応じて定められる。また乾燥炉は、複数のゾーンに区分し、区分された複数のゾーンごとに設定温度が異なる形式であってもよく、複数個の乾燥炉を直列に配置し、乾燥炉ごとに設定温度が異なる形式の乾燥炉でもよい。

加熱炉を通過することにより連続的に形成された第１乾燥被膜は、続いて、ラビング装置、偏光ＵＶ照射装置又はナノインプリント法により、第１乾燥被膜側の表面に配向処理が施され、該第１乾燥被膜は配向膜を形成する。その際、基材の搬送方向と、形成される配向膜の配向方向とがなす角度が平行又は直行とならないようにする。この際、形成する位相差層の種類によって、角度は任意に決定され、波長板としてλ／４層のみを適用する場合には、実質的に４５°となるように処理し、λ／２層とλ／４層とを組み合わせて広帯域λ／４層とする際には、前者の角度は実質的に１５°、後者は実質的に７５°となるようにすればよい。また、液晶の垂直配向を目的とする際には、配向膜並びに配向処理が必要ないこともある。

連続的に配向膜が形成された基材は、続いて第２の塗布装置を通過することにより、該配向膜上に位相差層形成用組成物が塗布された後、乾燥炉を通過する。乾燥炉を通過することにより、位相差層形成用組成物に含まれる重合性液晶が、液晶状態を形成し第２乾燥被膜が形成される。乾燥炉は、前記位相差層形成用組成物から溶剤を乾燥除去する役割とともに、前記第２乾燥被膜中に含まれる重合性液晶が液晶状態となるように、熱エネルギーを与える役割とを担う。異なる加熱条件により、多段階の加熱処理を行うため、複数のゾーンに区分し、区分された複数のゾーンごとに設定温度が異なる形式であってもよく、複数個の乾燥炉を直列に配置し、乾燥炉ごとに設定温度が異なる形式の乾燥炉でもよい。

前記乾燥炉を経た基材は、位相差層形成用組成物に含まれていた溶剤が十分除去され、第２乾燥被膜中の重合性液晶が液晶状態を保持したまま、光照射装置へと搬送される。光照射装置による光照射により、該重合性液晶は前記液晶状態を保持したまま、光重合して、位相差層が配向膜上に連続的に形成される。

かくして連続的に形成された位相差層は、透明基材及び配向膜を含んだ積層体の形態で第２の巻芯に巻き取られ、第２ロールの形態が得られる。形成された位相差層を巻き取って第２ロールを得る際、適当なスペーサを用いた共巻きを行ってもよい。

このように、基材が、第１ロール／第一塗布装置／第一乾燥炉／配向処理装置／第二塗布装置／第二乾燥炉／光照射装置の順で通過することで、基材上の配向膜上に位相差層が連続的に形成される。

基材を、第１ロール／第一塗布装置／第一乾燥炉／配向処理装置の順で通過させることで、連続的に形成された積層体を巻芯に巻き取って、積層体をロールの形態で製造し、該ロールから該積層体を巻き出し、巻き出された該積層体を、第二塗布装置／第二乾燥炉／光照射装置の順で通過させ、位相差層を製造してもよい。

当該製造方法により得られる位相差層は、その形状がフィルム状且つ長尺状のものである。位相差層であるλ／２層、λ／４層及びポジティブＣ層は、さらに、偏光層と長尺状態で連続的に貼り合わせて、長尺の位相差層付き偏光板ロールとすることもできる。

位相差層は、配向膜及び基材を剥離して用いてもよいし、基材／配向膜／位相差層を積層したものをそのまま用いてもよい。

本発明の積層体を連続的製造方法により製造する場合には、ロール状の位相差層又は偏光層を巻き出し、いずれか又は両方が所定の寸法に裁断された状態で貼り合わせることができる。また、位相差層と偏光層の両方を長尺ロールの状態で準備し、フィルム状且つ長尺状である積層体を連続的に製造することもできる。

＜本発明の積層体の製造方法＞
本発明の製造方法は、偏光層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び転写接着層を含む積層体の製造方法であって、積層体は、偏光層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含み、ポジティブＣ層を、偏光層及びλ／４層の間、又は、λ／４層のλ／２層とは反対側に含み、転写接着層を、偏光層と、λ／４層又はポジティブＣ層との間に含む積層体であり、基材及び転写接着層を含む接着体と、被着体とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。
接着体は、偏光層、λ／２層、λ／４層及びポジティブＣ層からなる群から選ばれる１層以上と、基材と、転写接着層とを含む。
被着体は、偏光層、λ／２層、λ／４層及びポジティブＣ層からなる群から選ばれる１層以上を含む。
基材は、上述した基材と同様のものであり、転写接着層としては、上述した転写接着層と同様のものである。
本発明の積層体は、転写接着層を、偏光層と、λ／４層又はポジティブＣ層との間に含む積層体であり、転写接着層を少なくとも１層含んでいればよい。
本発明の積層体のうち、転写接着層以外により接着される接着部は、転写接着層であってもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により形成される接着層であってもよし、直接塗布することにより接着されていてもよい。

図１は、本発明の第１の製造方法により得られる第１の積層体を示す概略図である。本発明の第１の製造方法は、偏光層１、転写接着層５、ポジティブＣ層２、λ／２層３及びλ／４層４をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体、
転写接着層、ポジティブＣ層、λ／２層及び基材をこの順に含む積層体、
又は、
転写接着層、ポジティブＣ層、λ／２層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、偏光層を含む被着体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体の偏光層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。

本発明の第１の積層体において、ポジティブＣ層及びλ／２層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／２層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよいし、ポジティブＣ層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよい。

本発明の第１の積層体において、λ／２層及びλ／４層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／４層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／４層が形成されていてもよいし、λ／２層形成用組成物を、λ／４層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよい。

図２は、本発明の第２の製造方法により得られる第２の積層体を示す概略図である。本発明の第２の製造方法は、偏光層１、転写接着層５、λ／２層３、ポジティブＣ層２及びλ／４層４をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、λ／２層及び基材をこの順に含む積層体、
転写接着層、λ／２層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体、
又は、
転写接着層、λ／２層、ポジティブＣ層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、偏光層を含む被着体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体の偏光層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。

本発明の第２の積層体においてλ／２層及びポジティブＣ層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、ポジティブＣ層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよいし、λ／２層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよい。

本発明の第２の積層体において、ポジティブＣ層及びλ／４層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／４層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／４層が形成されていてもよいし、ポジティブＣ層形成用組成物を、λ／４層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよい。

図３は、本発明の第３の製造方法により得られる第３の積層体を示す概略図である。本発明の第３の製造方法は、偏光層１、転写接着層５、λ／２層３、λ／４層４及びポジティブＣ層を２この順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、λ／２層及び基材をこの順に含む積層体、
転写接着層、λ／２層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体、
又は、
転写接着層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、偏光層を含む被着体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体の偏光層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。

本発明の第３の積層体において、λ／２層及びλ／４層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／４層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／４層が形成されていてもよいし、λ／２層形成用組成物を、λ／４層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよい。

本発明の第３の積層体においてλ／４層及びポジティブＣ層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、ポジティブＣ層形成用組成物を、λ／４層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよいし、λ／４層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／４層が形成されていてもよい。

図４は、本発明の第４の製造方法により得られる第４の積層体を示す概略図である。本発明の第４の製造方法は、偏光層１、λ／２層３、λ／４層４、転写接着層５及びポジティブＣ層２をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、転写接着層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、λ／４層を含む被着体、
λ／４層及びλ／２層をこの順に含む積層体、
又は、
λ／４層、λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／４層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。

本発明の第４の積層体において、偏光層及びλ／２層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／２層形成用組成物を、偏光層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよいし、偏光層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することにより偏光層が形成されていてもよい。

本発明の第４の積層体において、λ／２層及びλ／４層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／４層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／４層が形成されていてもよいし、λ／２層形成用組成物を、λ／４層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよい。

図５は、本発明の第５の製造方法により得られる第５の積層体を示す概略図である。本発明の第５の製造方法は、偏光層１、λ／２層３、ポジティブＣ層２、転写接着層５及びλ／４層４をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、転写接着層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、ポジティブＣ層を含む被着体、
ポジティブＣ層及びλ／２層をこの順に含む積層体、
又は、
ポジティブＣ層、λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のポジティブＣ層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。

本発明の第５の積層体において、偏光層及びλ／２層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／２層形成用組成物を、偏光層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよいし、偏光層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することにより偏光層が形成されていてもよい。

本発明の第５の積層体においてλ／２層及びポジティブＣ層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、ポジティブＣ層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよいし、λ／２層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよい。

図６は、本発明の第６の製造方法により得られる第６の積層体を示す概略図である。本発明の第６の製造方法は、偏光層１、ポジティブＣ層２、λ／２層３、転写接着層５及びλ／４層４をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、転写接着層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
被着体が、λ／２層を含む被着体、
λ／２層及びポジティブＣ層をこの順に含む積層体、
又は、
λ／２層、ポジティブＣ層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／２層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。

本発明の第６の積層体において、偏光層及びポジティブＣ層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、ポジティブＣ層形成用組成物を、偏光層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよいし、偏光層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することにより偏光層が形成されていてもよい。

本発明の第６の積層体において、ポジティブＣ層及びλ／２層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／２層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよいし、ポジティブＣ層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよい。

図７は、本発明の第７の製造方法により得られる第７の積層体を示す概略図である。本発明の第７の製造方法は、偏光層１、λ／２層３、転写接着層５、λ／４層４及びポジティブＣ層２をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、λ／４層及び基材を含む接着体、又は、
転写接着層、λ／４層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む接着体であり、
被着体が、
λ／２層を含む被着体、又は、
λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／２層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。

本発明の第７の積層体において、偏光層及びλ／２層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／２層形成用組成物を、偏光層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよいし、偏光層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することにより偏光層が形成されていてもよい。

本発明の第７の積層体においてλ／４層及びポジティブＣ層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、ポジティブＣ層形成用組成物を、λ／４層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよいし、λ／４層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／４層が形成されていてもよい。

図８は、本発明の第８の製造方法により得られる第８の積層体を示す概略図である。本発明の第８の製造方法は、偏光層１、λ／２層３、転写接着層５、ポジティブＣ層２及びλ／４層４をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、ポジティブＣ層及び基材を含む接着体、又は、
転写接着層、ポジティブＣ層、λ／４層及び基材をこの順に含む接着体であり、
被着体が、
λ／２層を含む被着体、又は、
λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／２層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。

本発明の第８の積層体において、偏光層及びλ／２層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／２層形成用組成物を、偏光層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよいし、偏光層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することにより偏光層が形成されていてもよい。

本発明の第８の積層体において、ポジティブＣ層及びλ／４層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／４層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／４層が形成されていてもよいし、ポジティブＣ層形成用組成物を、λ／４層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよい。

図９は、本発明の第９の製造方法により得られる第９の積層体を示す概略図である。本発明の第９の製造方法は、偏光層１、ポジティブＣ層２、転写接着層５、λ／２層３及びλ／４層４をこの順に含む積層体の製造方法であって、
接着体が、
転写接着層、λ／２層及び基材を含む接着体、又は、
転写接着層、λ／２層、λ／４層及び基材をこの順に含む接着体であり、
被着体が、
ポジティブＣ層を含む被着体、又は、
ポジティブＣ層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
接着体の転写接着層側の面と、被着体のポジティブＣ層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法である。

本発明の第９の積層体において、偏光層及びポジティブＣ層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、ポジティブＣ層形成用組成物を、偏光層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりポジティブＣ層が形成されていてもよいし、偏光層形成用組成物を、ポジティブＣ層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することにより偏光層が形成されていてもよい。

本発明の第９の積層体において、λ／２層及びλ／４層は、転写接着層により接着されていてもよいし、その他の方法、例えば、被着体の表面に接着剤又は粘着剤を直接塗布して接着層を形成する方法等により接着されていてもよい。
また、λ／４層形成用組成物を、λ／２層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／４層が形成されていてもよいし、λ／２層形成用組成物を、λ／４層上に塗布して乾燥させ、配向させた後に重合することによりλ／２層が形成されていてもよい。

＜円偏光板＞
本発明の製造方法により得られた積層体は、円偏光板として用いられる。得られた円偏光板は、さらに粘着剤を介してＥＬ表示装置と貼り合わせて反射防止としての機能を発現することができる。この際、目的とするＥＬ表示装置のサイズに合わせて、ロール形態から任意のサイズに裁断して使用することができる。

＜円偏光板の用途＞
本発明の製造方法により得られる円偏光板は、さまざまな表示装置に用いることができる。表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置としては、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置等が挙げられる。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。

＜ＥＬ表示装置＞
円偏光板１１０を備えたＥＬ表示装置を図１０及び図１１を参照して説明する。ＥＬ表示装置３０は、画素電極３５が形成された基板３３上に、発光源である有機機能層３６、及びカソード電極３７が積層されたものである。基板３３を挟んで有機機能層３６と反対側に、円偏光板３１が配置され、かかる円偏光板３１として円偏光板１１０が用いられる。画素電極３５にプラスの電圧、カソード電極３７にマイナスの電圧を加え、画素電極３５及びカソード電極３７間に直流電流を印加することにより、有機機能層３６が発光する。発光源である有機機能層３６は、電子輸送層、発光層及び正孔輸送層等からなる。有機機能層３６から出射した光は、画素電極３５、層間絶縁膜３４、基板３３、円偏光板３１（円偏光板１１０）を通過する。有機機能層３６を有する有機ＥＬ表示装置について説明する。無機機能層を有する無機ＥＬ表示装置にも適用してもよい。

ＥＬ表示装置３０を製造するには、まず、基板３３上に薄膜トランジスタ４０を所望の形状に形成する。そして層間絶縁膜３４を成膜し、次いで画素電極３５をスパッタ法で成膜し、パターニングする。その後、有機機能層３６を積層する。

次いで、基板３３の薄膜トランジスタ４０が設けられている面の反対の面に、円偏光板３１（円偏光板１１０）を設ける。

近年ではスマートフォン等のモバイル電子端末にタッチパネルが採用されるケースが増加しており、タッチパネルとＥＬ表示装置とを組み合わせて表示装置とする場合には、円偏光板１１０をタッチパネル側に搭載することで、同様に反射防止特性を付与してもよい。

次に、ＥＬ表示装置３０の位相差層３１（円偏光板１１０）以外の部材について説明する。

基板３３としては、サファイアガラス基板、石英ガラス基板、ソーダガラス基板及びアルミナ等のセラミック基板；銅等の金属基板；プラスチック基板等が挙げられる。
図示はしないが、基板３３上に熱伝導性膜を形成してもよい。熱伝導性膜としては、ダイヤモンド薄膜（ＤＬＣ等）等が挙げられる。画素電極３５を反射型とする場合は、基板３３とは反対方向へ光が出射する。したがって、透明材料だけでなく、ステンレス等の非透過材料が挙げられる。基板は単一で形成されていてもよく、複数の基板を接着剤で貼り合わせて積層基板として形成されていていてもよい。また、これらの基板は、板状のものに限定するものではなく、フィルムであってもよい。

薄膜トランジスタ４０としては、多結晶シリコントランジスタ等が挙げられる。薄膜トランジスタ４０は、画素電極３５の端部に設けられ、その大きさは１０〜３０μｍである。なお、画素電極３５の大きさは２０μｍ×２０μｍ〜３００μｍ×３００μｍである。

基板３３上には、薄膜トランジスタ４０の配線電極が設けられている。配線電極は抵抗が低く、画素電極３５と電気的に接続して抵抗値を低く抑える機能があり、一般的にはその配線電極は、Ａｌ、Ａｌ及び遷移金属（ただしＴｉを除く）、Ｔｉ又は窒化チタン（ＴｉＮ）のいずれか１種又は２種以上を含むものが用いられる。

薄膜トランジスタ４０と画素電極３５との間には層間絶縁膜３４が設けられる。層間絶縁膜３４は、ＳｉＯ_２等の酸化ケイ素、窒化ケイ素等の無機系材料をスパッタや真空蒸着で成膜したもの、ＳＯＧ（スピン・オン・グラス）で形成した酸化ケイ素層、フォトレジスト、ポリイミド及びアクリル樹脂等の樹脂系材料の塗膜等、絶縁性を有するものであればいずれであってもよい。

層間絶縁膜３４上に、リブ４１を形成する。リブ４１は、画素電極３５の周辺部（隣接画素間）に配置されている。リブ４１の材料としては、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂等が挙げられる。リブ４１の厚みは、好ましくは１．０μｍ以上３．５μｍ以下であり、より好ましくは１．５μｍ以上２．５μｍ以下である。

次に、透明電極である画素電極３５と、発光源である有機機能層３６と、カソード電極３７とからなるＥＬ素子について説明する。有機機能層３６は、それぞれ少なくとも１層のホール輸送層及び発光層を有し、例えば、電子注入輸送層、発光層、正孔輸送層及び正孔注入層を順次有する。

画素電極３５としては、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）、ＩＧＺＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２及びＩｎ_２Ｏ_３等が挙げられ、特にＩＴＯやＩＺＯが好ましい。画素電極３５の厚さは、ホール注入を十分行える一定以上の厚さを有すればよく、１０〜５００ｎｍが好ましい。
画素電極３５は、蒸着法（好ましくはスパッタ法）により形成することができる。スパッタガスとしては、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｋｒ及びＸｅ等の不活性ガス、及びこれらの混合ガスが挙げられる。

カソード電極３７の構成材料としては、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ及びＺｒ等の金属元素が挙げられ、電極の作動安定性を向上させるためには、例示した金属元素から選ばれる２成分又は３成分の合金系が好ましい。合金系としては、Ａｇ・Ｍｇ（Ａｇ：１〜２０ａｔ％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．３〜１４ａｔ％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０〜８０ａｔ％）及びＡｌ・Ｃａ（Ｃａ：５〜２０ａｔ％）等が好ましい。
カソード電極３７は、蒸着法及びスパッタ法等により形成される。カソード電極３７の厚さは、０．１ｎｍ以上、好ましくは１〜５００ｎｍであることが好ましい。

正孔注入層は、画素電極３５からの正孔の注入を容易にする機能を有し、正孔輸送層は、正孔を輸送する機能及び電子を妨げる機能を有し、電荷注入層や電荷輸送層とも称される。
発光層の厚さ、正孔注入層と正孔輸送層とを併せた厚さ、及び電子注入輸送層の厚さは、形成方法によっても異なり、５〜１００ｎｍが好ましい。正孔注入層や正孔輸送層には、各種有機化合物が含まれる。正孔注入輸送層、発光層及び電子注入輸送層の形成する方法としては、均質な薄膜が形成できる点で真空蒸着法が好ましい。

発光源である有機機能層３６としては、１重項励起子からの発光（蛍光）を利用するもの、３重項励起子からの発光（燐光）を利用するもの、１重項励起子からの発光（蛍光）を利用するものと３重項励起子からの発光（燐光）を利用するものとを含むもの、有機物によって形成されたもの、有機物によって形成されたものと無機物によって形成されたものとを含むもの、高分子の材料、低分子の材料、高分子の材料と低分子の材料とを含むもの等が挙げられる。ただし、これに限定されず、ＥＬ素子用として公知の様々なものを用いた有機機能層３６を、ＥＬ表示装置３０に用いることができる。

カソード電極３７と封止フタ３９との空間には乾燥剤３８を配置する。これは、有機機能層３６は湿度に弱いためである。乾燥剤３８により水分を吸収し有機機能層３６の劣化を防止する。

図１１は、ＥＬ表示装置３０の別態様の断面構成を表す概略図である。ＥＬ表示装置３０は、薄膜封止膜４２を用いた封止構造を有し、アレイ基板の反対面からも出射光を得ることができる。
薄膜封止膜４２としては電解コンデンサのフィルムにＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）を蒸着したＤＬＣ膜が好ましい。ＤＬＣ膜は水分浸透性が極めて悪いという特性があり、防湿性能が高い。また、ＤＬＣ膜等をカソード電極３７の表面に直接蒸着して形成してもよい。また、樹脂薄膜と金属薄膜とを多層に積層して、薄膜封止膜４２を形成してもよい。

［実施例］
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。

実施例１
［光配向膜形成用組成物の調製］
下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物（１）を得た。
光配向性材料（５部）：

溶剤（９５部）：シクロペンタノン

［配向性ポリマー組成物の調製］
市販の配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ−６１０（日産化学工業株式会社製）に２−ブトキシエタノールを加えて配向性ポリマー組成物（１）を得た。尚、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合としては、配向性ポリマー組成物中の固形分量は１．０％、溶剤は９９．０％とした。ＳＥ−６１０については、固形分量を納品仕様書に記載の濃度から換算した。

［位相差層形成用組成物の調製］
位相差層形成用組成物の組成を表１に示す。各成分を混合し、得られた溶液を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却し、位相差層形成用組成物を得た。

表１における括弧内の値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を表す。
ＬＲ９０００：Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦジャパン社製）
Ｉｒｇ９０７：イルガキュア（登録商標）９０７（ＢＡＳＦジャパン社製）
ＢＹＫ−３６１Ｎ：（ビックケミージャパン製）
ＬＣ２４２：下記式で示される重合性液晶（ＢＡＳＦ社製）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート

［λ／２層（１）及びλ／４層（１）の製造］
延伸処理を施していない基材（シクロオレフィンポリマーフィルム、日本ゼオン製ＺＦ−１４、厚さ２３μｍ）の表面を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回コロナ処理した。コロナ処理を施した表面に、光配向膜形成用組成物（１）をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。
続いて、配向膜上に位相差層形成用組成物（１）を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより位相差層を形成した。この際、位相差層形成用組成物を、バーコーター塗布する際のワイヤーバーの太さを変えることで塗布膜厚を調整し、厚みを変えることで位相差値を制御した。
位相差層の乾燥膜厚が１μｍとなるようにして得られた位相差層の位相差値を波長５５０ｎｍで測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝６８ｎｍであり、λ／４層（１）を作製することができた。
位相差層の乾燥膜厚が２μｍとなるようにして得られた位相差層の位相差値を波長５５０ｎｍで測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝２７０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１３８ｎｍであり、λ／２層（１）を作製することができた。

［広帯域λ／４層（１）の製造］
λ／４層（１）の表面に、先と同様の方法でコロナ処理、配向処理をし、さらに、位相差層形成用組成物（１）を用いて位相差層を形成した。この際、位相差層の乾燥膜厚が２μｍとなるように製膜し、λ／２層として機能するようにした。また、偏光ＵＶ照射方向をλ／４層の光軸（遅相軸）に対して６０°となるように設定し、λ／４層とλ／２層の光軸が交差するように作製した。このようにして得られた層の位相差値を波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍで測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）＝１１３ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１６０ｎｍであった。この測定値を前述した定義式（１２）（１３）（１４）に照らして計算し、広帯域λ／４層（１）を作製することができたことを確認した。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）＝Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８１
Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０）＝Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．１４

［広帯域λ／４層（２）の製造］
λ／２層（１）の表面に、先と同様の方法でコロナ処理、配向処理をし、さらに、位相差層形成用組成物（１）を用いて位相差層を形成した。この際、位相差層の乾燥膜厚が１μｍとなるようい製膜し、λ／４層として機能するようにした。このようにして得られた層の位相差値を波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍで測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝１３８ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）＝１１２ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１５７ｎｍであった。この測定値を前述した定義式（１２）（１３）（１４）に照らして計算し、広帯域λ／４層（２）を作製することができたことを確認した。

［λ／２層（２）及びλ／４層（２）の製造］
位相差形成用組成物（２）を用いた以外は［λ／２層（１）及びλ／４層（１）の製造］と同様にしてλ／２層（２）及びλ／４層（２）を製造した。

［広帯域λ／４層（３）の製造］
位相差形成用組成物（２）を用いた以外は［広帯域λ／４層（１）の製造］と同様にして広帯域λ／４層（３）を製造した。

［広帯域λ／４層（４）の製造］
位相差形成用組成物（２）を用いた以外は［広帯域λ／４層（２）の製造］と同様にして広帯域λ／４層（４）を製造した。

［ポジティブＣ層（１）の製造］
延伸処理を施していないシクロオレフィンポリマーフィルム（日本ゼオン製ＺＦ−１４ 厚さ２３μｍ）の表面を、コロナ処理装置を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回コロナ処理した。コロナ処理を施した表面に、配向性ポリマー組成物（１）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、３４ｎｍであった。
続いて、配向膜上に位相差層形成用組成物（１）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより位相差層を形成した。得られた位相差層の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は４５０ｎｍであった。また、得られた位相差層の位相差値を波長５５０ｎｍで測定したところＲｅ（５５０）＝１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝−７０ｎｍであった。すなわち、得られた位相差層の３次元屈折率の関係はｎ_x≒ｎ_y＜ｎ_zであり、ポジティブＣ層としての光学特性を有することを確認した。
得られたポジティブＣ層を、ポジティブＣ層（１）とする。

［ポジティブＣ層（２）の製造］
位相差形成用組成物（２）を用いた以外は［ポジティブＣ層（１）の製造］と同様にしてポジティブＣ層（２）を製造した。

［接着体の製造］
得られたλ／２、λ／４層、広帯域λ／４層及びポジティブＣ層上にコロナ処理装置を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回コロナ処理した。コロナ処理を施した表面に、厚さ５μｍのアクリル系粘着剤（リンテック社製 セパレータフィルム付きノンキャリアフィルム）を塗布して転写接着層を設けて、接着体２１〜１５を作製した。
接着体２１：基材１７、λ／４層１４［λ／４層（１）］、転写接着層１５を、この順に含む接着体
接着体２２：基材１７、λ／２層１３［λ／２層（１）］、転写接着層１５を、この順に含む接着体
接着体２３：基材１７、広帯域λ／４層（１）〔λ／４層１４［λ／４層（１）］、λ／２層１３［λ／２層（１）］〕、転写接着層１５を、この順に含む接着体
接着体２４：基材１７、広帯域λ／４層（２）〔λ／２層１３［λ／２層（１）］、λ／４層１４［λ／４層（１）］〕、転写接着層１５を、この順に含む接着体
接着体２５：基材１７、ポジティブＣ層１２［ポジティブＣ層（１）］、転写接着層１５を、この順に含む接着体
接着体２６：基材１７、ポジティブＣ層１２［ポジティブＣ層（２）］、転写接着層１５を、この順に含む接着体

[偏光層の製造]
平均重合度約２,４００、ケン化度９９.９モル％以上で厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０.０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に５６.５℃で浸漬してホウ酸処理を行った。引き続き８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光層（延伸後の厚さ２７μｍ）を作製した。延伸は、ヨウ素染色及びホウ酸処理の工程で主に行い、トータル延伸倍率は５.３倍であった。得られた偏光層と、透明保護フィルムとしてケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ製 ＫＣ４ＵＹＴＡＣ ４０μｍ）とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍの保ちながら、６０℃で２分間乾燥して片面に保護フィルムを有する偏光板を作製した。尚、水系接着剤は水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレ製 クラレポバールＫＬ３１８）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（住化ケムテックス製 スミレーズレジン６５０ 固形分濃度３０％の水溶液〕１.５部を添加して調製した。

実施例１
透明保護フィルム１６及び偏光層１１からなる被着体２０（偏光板）の偏光層１１上に、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２５を設けた。その後、接着体２５の基材１７を剥離し、偏光層１１上にポジティブＣ層１２を転写した。さらに、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２３を設けた。その後、接着体２３の基材１７を剥離し、ポジティブＣ層１２上に、λ／４層１４及びλ／２層１３を転写して積層体を得た。この積層体の厚みは８１μｍであり、非常に薄型の円偏光板を作製することができた。

実施例２
透明保護フィルム１６及び偏光層１１からなる被着体２０（偏光板）の偏光層１１上に、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２３を設けた。その後、接着体２３の基材１７を剥離し、偏光層１１上にλ／２層１３及びλ／４層１４を転写した。さらに、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２５を設けた。その後、接着体２５の基材１７を剥離し、λ／４層１４上にポジティブＣ層１２を転写して積層体を得た。この積層体の厚みは８１μｍであり、非常に薄型の円偏光板を作製することができた。

実施例３
被着体２７［広帯域λ／４層（４）］のλ／４層１４［λ／４層（２）］上に、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２６を設けた。その後、接着体２６の基材１７を剥離し、被着体２７上にポジティブＣ層１２を転写した。さらに、被着体２７の基材１８と偏光板の偏光層１１を水系接着剤を介して貼り合わせることで、積層体を得た。この積層体の厚みは９９μｍであり、非常に薄型の円偏光板を作製することができた。

実施例４
基材１８及びポジティブＣ層１２［ポジティブＣ層（２）］からなる被着体２８のポジティブＣ層１２上に、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２３を設けた。その後、接着体２３の基材１７を剥離し、ポジティブＣ層１２上にλ／２層１３及びλ／４層１４を転写した。さらに、ポジティブＣ層１２の基材１８と偏光板の偏光層１１を水系接着剤を介して貼り合わせることで、積層体を得た。この積層体の厚みは９９μｍであり、非常に薄型の円偏光板を作製することができた。

実施例５
透明保護フィルム１６及び偏光層１１からなる被着体２０（偏光板）の偏光層１１上に、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２５を設けた。その後、接着体２５の基材１７を剥離し、偏光層１１上にポジティブＣ層１２を転写した。さらに、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２２を設けた。その後、接着体２２の基材１７を剥離し、ポジティブＣ層１２上にλ／２層１３を転写した。さらに、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２１を設けた。その後、接着体２１の基材１７を剥離し、λ／２層１３上にλ／４層１４を転写して積層体を得た。この積層体の厚みは８６μｍであり、非常に薄型の円偏光板を作製することができた。

実施例６
透明保護フィルム１６及び偏光層１１からなる被着体２０（偏光板）の偏光層１１上に、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２２を設けた。その後、接着体２２の基材１７を剥離し、偏光層１１上にλ／２層１３を転写した。さらに、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２５を設けた。その後、接着体２５の基材１７を剥離し、λ／２層１３上にポジティブＣ層１２を転写した。さらに、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２１を設けた。その後、接着体２１の基材１７を剥離し、ポジティブＣ層１２上にλ／４層１４を転写して積層体を得た。この積層体の厚みは８６μｍであり、非常に薄型の円偏光板を作製することができた。

実施例７
透明保護フィルム１６及び偏光層１１からなる被着体２０（偏光板）の偏光層１１上に、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２２を設けた。その後、接着体２２の基材１７を剥離し、偏光層１１上にλ／２層１３を転写した。さらに、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２１を設けた。その後、接着体２１の基材１７を剥離し、λ／２層１３上にλ／４層１４を転写した。さらに、セパレータフィルムを剥がしながら接着体２５を設けた。その後、接着体２５の基材１７を剥離し、λ／４層１４上にポジティブＣ層１２を転写して積層体を得た。この積層体の厚みは８６μｍであり、非常に薄型の円偏光板を作製することができた。

実施例１〜７で作製した積層体を偏光層が視認側となるように粘着剤を用いて鏡面に貼合して、反射防止特性を観察したところ、いずれの方向から観察しても着色なく、良好な反射防止特性が得られることを確認した。

本発明によれば、有機ＥＬ表示装置における黒表示時の斜め視野における光漏れを低減させることができ、且つ、薄型の光学積層体を製造することができる。

１，１１ 偏光層
２，１２ ポジティブＣ層
３，１３ λ／２層
４，１４ λ／４層
５，１５ 転写接着層
６，２９ 積層体
１６ 透明保護フィルム
１７，１８ 基材
２０ 被着体（偏光板）
２１，２２，２３，２４，２５，２６ 接着体
２７，２８ 被着体
３０ ＥＬ表示装置
３１、１１０ 円偏光板
３３ 基材
３４ 層間絶縁膜
３５ 画素電極
３６ 有機機能層
３７ カソード電極
３８ 乾燥剤
３９ 封止フタ
４０ 薄膜トランジスタ
４１ リブ
４２ 薄膜封止膜

Claims (11)

1. 偏光層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び転写接着層を含む積層体の製造方法であって、
   積層体は、
   偏光層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含み、
   ポジティブＣ層を、偏光層及びλ／４層の間、又は、λ／４層のλ／２層とは反対側に含み、
   転写接着層を、偏光層と、λ／４層又はポジティブＣ層との間に含む積層体であり、
   基材及び転写接着層を含む接着体と、被着体とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む製造方法。
2. 偏光層、転写接着層、ポジティブＣ層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
   接着体が、
   転写接着層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体、
   転写接着層、ポジティブＣ層、λ／２層及び基材をこの順に含む積層体、
   又は、
   転写接着層、ポジティブＣ層、λ／２層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
   被着体が、偏光層を含む被着体であり、
   接着体の転写接着層側の面と、被着体の偏光層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、請求項１記載の製造方法。
3. 偏光層、転写接着層、λ／２層、ポジティブＣ層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
   接着体が、
   転写接着層、λ／２層及び基材をこの順に含む積層体、
   転写接着層、λ／２層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体、
   又は、
   転写接着層、λ／２層、ポジティブＣ層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
   被着体が、偏光層を含む被着体であり、
   接着体の転写接着層側の面と、被着体の偏光層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、請求項１記載の製造方法。
4. 偏光層、転写接着層、λ／２層、λ／４層及びポジティブＣ層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
   接着体が、
   転写接着層、λ／２層及び基材をこの順に含む積層体、
   転写接着層、λ／２層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体、
   又は、
   転写接着層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体であり、
   被着体が、偏光層を含む被着体であり、
   接着体の転写接着層側の面と、被着体の偏光層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、請求項１記載の製造方法。
5. 偏光層、λ／２層、λ／４層、転写接着層及びポジティブＣ層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
   接着体が、転写接着層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む積層体であり、
   被着体が、λ／４層を含む被着体、
   λ／４層及びλ／２層をこの順に含む積層体、
   又は、
   λ／４層、λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
   接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／４層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、請求項１記載の製造方法。
6. 偏光層、λ／２層、ポジティブＣ層、転写接着層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
   接着体が、転写接着層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
   被着体が、ポジティブＣ層を含む被着体、
   ポジティブＣ層及びλ／２層をこの順に含む積層体、
   又は、
   ポジティブＣ層、λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
   接着体の転写接着層側の面と、被着体のポジティブＣ層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、請求項１記載の製造方法。
7. 偏光層、ポジティブＣ層、λ／２層、転写接着層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
   接着体が、転写接着層、λ／４層及び基材をこの順に含む積層体であり、
   被着体が、λ／２層を含む被着体、
   λ／２層及びポジティブＣ層をこの順に含む積層体、
   又は、
   λ／２層、ポジティブＣ層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
   接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／２層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、請求項１記載の製造方法。
8. 偏光層、λ／２層、転写接着層、λ／４層及びポジティブＣ層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
   接着体が、
   転写接着層、λ／４層及び基材を含む接着体、又は、
   転写接着層、λ／４層、ポジティブＣ層及び基材をこの順に含む接着体であり、
   被着体が、
   λ／２層を含む被着体、又は、
   λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
   接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／２層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、請求項１記載の製造方法。
9. 偏光層、λ／２層、転写接着層、ポジティブＣ層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
   接着体が、
   転写接着層、ポジティブＣ層及び基材を含む接着体、又は、
   転写接着層、ポジティブＣ層、λ／４層及び基材をこの順に含む接着体であり、
   被着体が、
   λ／２層を含む被着体、又は、
   λ／２層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
   接着体の転写接着層側の面と、被着体のλ／２層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、請求項１記載の製造方法。
10. 偏光層、ポジティブＣ層、転写接着層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含む積層体の製造方法であって、
    接着体が、
    転写接着層、λ／２層及び基材を含む接着体、又は、
    転写接着層、λ／２層、λ／４層及び基材をこの順に含む接着体であり、
    被着体が、
    ポジティブＣ層を含む被着体、又は、
    ポジティブＣ層及び偏光層をこの順に含む積層体であり、
    接着体の転写接着層側の面と、被着体のポジティブＣ層側の面とを、転写接着層を介して貼合し、基材を剥離する工程を含む、請求項１記載の製造方法。
11. 偏光層、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層及び転写接着層を含む積層体であって、
    偏光層、λ／２層及びλ／４層をこの順に含み、
    ポジティブＣ層を、偏光層及びλ／４層の間、又は、λ／４層のλ／２層とは反対側に含み、
    転写接着層を、偏光層と、λ／４層又はポジティブＣ層との間に含む積層体。

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