JP2016133728A - 積層体の製造方法、積層体、偏光板および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】第１の液晶組成物をホモジニアス配向させた第１の光学異方性層と、第２の液晶組成物をホメオトロピック配向させた第２の光学異方性層とを備え、視野角特性に優れる積層体の製造方法において、複雑な製造工程を要することなくより顕著な薄型化が可能となる積層体を製造する方法を提供する。
【解決手段】配向基板（Ａ）上に、第１の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、第１の液晶組成物をホモジニアス配向させ、配向基板（Ａ）上に第１の光学異方性層を形成する工程と、第１の光学異方性層と、偏光子とを貼り合わせる工程と、配向基板（Ａ）を剥離する工程と、配向基板（Ｂ）上に、第２の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、第２の液晶組成物をホメオトロピック配向させ、配向基板（Ｂ）上に第２の光学異方性層を形成する工程と、第１の光学異方性層と、第２の光学異方性層とを貼り合わせる工程と、配向基板（Ｂ）を剥離する工程と、を含んでなることを特徴とする、積層体の製造方法。
【選択図】図２

Description

本発明は、積層体の製造方法、積層体、偏光板および画像表示装置に関する。

画像表示装置の光源として使用される有機エレクトロルミネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という）は、薄型軽量、低消費電力、高コントラスト、高速応答性の点で優れた自発光素子であり、画像表示装置の面光源として研究開発、実用化が進められている。このような有機ＥＬ素子には、いくつかの形態があるが、主要な形態として、透明支持基板上に陽極である透明電極と、有機発光層と、陰極である金属電極とを順に積層して作製されたものが提案、実用化されている。このような有機ＥＬ素子においては、透明電極と金属電極との間で印加された電圧により、陰極から供給された電子と陽極から供給されたホール（正孔）とが有機発光層で再結合し、これに伴って生成される励起子が励起状態から基底状態へ移行する際にエレクトロルミネセンス発光する原理を利用している。

有機ＥＬ素子においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常ＡｌやＡｌＬｉ、ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎ等の金属や合金からなる金属電極が使用される。これらの金属電極は一般的に光反射率が高く、また鏡面構造であるため、電極として機能するだけではなく、有機発光層で金属電極方向に発光した光を反射し、透明支持基板から出射する光量を高め、輝度を向上させる役割も担っている。

しかしながら、金属電極が持つ高い光反射率や、鏡面構造は、外光反射を引き起こす。すなわち、有機ＥＬ素子は、照明や太陽光等の強い外光の存在下では外光の映りこみが激しく、画像表示装置として使用する場合には、コントラストが著しく低下するという問題点を有する。

鏡面における外光反射を防止する方法として、円偏光板を使用することが知られている。例えば特許文献１および２には、偏光板と位相差板（例えば１／４波長板）とからなる円偏光板が開示されている。また、特許文献３には、複数の複屈折板によって構成されている１／４波長板が開示されている。また、特許得文献４には、いわゆる「負の分散」特性を有する位相差フィルムが開示されている。しかしながら、これらを円偏光板に適用した場合、理想的に機能するのは、円偏光板や金属電極に対して垂直方向から入射する外光に対してのみであり、斜め方向から入射した外光に対しては、位相差板を通過する光の光路長が長くなるため、１／４波長からずれが生じてしまい、理想的な円偏光板としては機能しなくなる。すなわち、正面から上記位相差板を適用した画像表示装置を観察した場合は、円偏光板によって外光反射が抑制されるが、斜め方向から観察した場合は、円偏光板の視野角依存性により外光反射が抑制できず、反射光が視認されるという問題が発生する。以上の理由から、有機ＥＬ素子は、外光反射防止目的で使用する円偏光板の特性により、黒表示において視野角依存性が発生する場合がある。

このような現象を抑制する方法として、例えば特許文献５には、２枚の有機高分子からなるフィルムから構成された１／４波長板を積層した偏光板であって、前記１／４波長板を構成する位相差板として、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を有し、且ついわゆる「負の分散」特性を有する第１の位相差層と、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの屈折率特性を有する第２の位相差層とを積層し、両者の面内位相差を所定の範囲とした偏光板を、画像表示装置に適用することにより、外光反射による視野特性が改善できることが提案されている。

しかしながら、特許文献５において開示される円偏光板が備える第一の位相差層および第２の位相差層は、高分子フィルムを一軸延伸してなる位相差フィルムであり、複屈折Δｎが非常に小さくなるため、１／４波長板として使用するためには、厚みを５０〜２００μｍと厚くする必要がある。近年、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置に用いる位相差板の薄層化が求められており、複屈折Δｎの小さい高分子延伸フィルムは膜厚の薄型化が望まれている。

また、従来液晶組成物を用いて位相層を形成しようとした場合、この液晶組成物を配向基板上において配向させる必要があり、液晶表示装置は配向基板の厚さを加味したものとなり、ディスプレイ薄型化の要求に応えられるものではなかった。

特開平８−３２１３８１号公報 特開２００５−２８９９８０号公報 特開平９−１２７８８５号公報 特開２００２−４８９１９号公報 特開２０１４−２６２６６号公報

本発明者らは今般、積層体を製造するにあたり、配向基板（Ａ）上に形成した第１の液晶組成物からなる第１の光学異方性層と、偏光子と、を貼り合わせた後に、配向基板（Ａ）を剥離し、第２の液晶組成物からなる第２の光学異方性層と、第１の光学異方性層と、を貼り合わせた後に、配向基板（Ｂ）を剥離することにより、複雑な製造工程を要することなく顕著な薄型化積層体を実現できる、との知見を得た。

したがって、本発明の目的は、第１の液晶組成物をホモジニアス配向させた第１の光学異方性層と、第２の液晶組成物をホメオトロピック配向させた第２の光学異方性層とを備え、視野角特性に優れる積層体の製造方法において、複雑な製造工程を要することなくより顕著な薄型化が可能となる積層体を製造する方法を提供することである。

本発明による積層体の製造方法は、
配向基板（Ａ）上に、第１の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、前記第１の液晶組成物をホモジニアス配向させ、前記配向基板（Ａ）上に第１の光学異方性層を形成する工程と、
前記第１の光学異方性層と、偏光子とを貼り合わせる工程と、
前記配向基板（Ａ）を剥離する工程と、
配向基板（Ｂ）上に、第２の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、前記第２の液晶組成物をホメオトロピック配向させ、前記配向基板（Ｂ）上に第２の光学異方性層を形成する工程と、
前記第１の光学異方性層と、前記第２の光学異方性層とを貼り合わせる工程と、
前記配向基板（Ｂ）を剥離する工程と、
を含んでなることを特徴とする。

本発明の態様においては前記第１の液晶組成物を含む塗工液が、二色性色素を含むことが好ましい。

本発明の態様においては、前記第１の液晶組成物が、重合性液晶化合物を含んでなり、前記配向基板（Ａ）上にホモジニアス配向させた後、前記重合性液晶化合物を重合させることにより、ホモジニアス配向が固定されることが好ましい。

本発明の態様においては、前記第２の液晶組成物が、重合性液晶化合物を含んでなり、前記配向基板（Ｂ）上にホメオトロピック配向させた後、前記重合性液晶化合物を重合させることにより、ホメオトロピック配向が固定されることが好ましい。

本発明の態様においては、前記第１の液晶組成物と、前記第２の液晶組成物とが同一の液晶組成物であることが好ましい。

本発明の態様においては、前記第１の液晶組成物と、前記第２の液晶組成物とが異なる液晶組成物であることが好ましい。

本発明の態様においては、前記第１の光学異方性層と、前記偏光子との貼り合わせが、前記第１の光学異方性層のホモジニアス配向方向と、前記偏光子の吸収軸とが４０〜５０度の角度となるように行われることが好ましい。

本発明の態様においては、前記二色性色素が、重合性基を有し、前記第１の液晶組成物と重合し、前記配向基板（Ａ）上において、前記第１の液晶組成物の配向方向と略同一方向に配向することが好ましい。

本発明の態様においては、前記二色性色素の極大吸収波長が、３８０〜７８０ｎｍであることが好ましい。

本発明の態様においては、前記第１の光学異方性層の最大主屈折率ｎｘ１および／または複屈折Δｎ１が、可視光領域の少なくとも一部の波長領域において、測定波長が長いほど大きくなる「負の分散」特性を有し、
前記第２の光学異方性層が、ｎｚ２＞ｎｘ２≧ｎｙ２の複屈折特性を有することが好ましい。
（ここで、ｎｘ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。）

本発明の態様においては、前記第１の光学異方性層のＲｔｈ１と、前記第２の光学異方性層のＲｔｈ２とが、
４０ｎｍ≧Ｒｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）≧−４０ｎｍ （１）
を満たすことが好ましい。
（ここで、厚さ方向リターデーションＲｔｈ１は、Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１｝×ｄ１［ｎｍ］で表される。なお、ｄ１は第１の光学異方性層の厚さ、ｎｘ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。また、厚さ方向リターデーションＲｔｈ２は、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］で表される。なお、ｄ２は第２の光学異方性層の厚さ、ｎｘ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。）

本発明の他の態様によれば、上記方法により製造された積層偏光板が提供される。

本発明のさらに別の態様によれば、上記積層体を用いた画像表示装置が提供される。

本発明によれば、積層体を製造する際に、一旦、配向基板（Ａ）上に第１の光学異方性層を形成しておき、偏光子と貼り合わせた後に配向基板（Ａ）を剥離し、さらに配向基板（Ｂ）上に第２の光学異方性層を形成しておき、第１の光学異方性層と貼り合わせた後に配向基板（Ｂ）を剥離することにより、著しく薄膜化した積層体を得ることができる。

液晶組成物の屈折率と吸収係数の波長分散特性を示す図である。 本発明の積層体の製造方法の一実施形態を示す概略図である。 液晶組成物に二色性色素を添加する前後の最大主屈折率ｎｘと最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率ｎｙの波長分散を比較した図である。 有機ＥＬ画像表示装置の赤青緑３色の発光スペクトルと、３色を同時に点灯して表示したときの発光スペクトルの図である。 第１の光学異方性層と、偏光子とを貼り合わせる工程を示す図である。 本発明の画像表示装置の断面模式図である。 実施例１で作製した第１の光学異方性層の複屈折Δｎの波長分散特性を示す図である。 比較例１で作製した第１の光学異方性層の複屈折Δｎの波長分散特性を示す図である。 比較例２で作製した第１の光学異方性層の複屈折Δｎの波長分散特性を示す図である。

＜定義＞
（１）複屈折Δｎ
複屈折Δｎは、ｎｘ−ｎｙで表される。
（２）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
ｎｘは、光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙは光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率という。ｎｚは光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。
（３）面内リターデーション値Ｒｅ
面内リターデーション値Ｒｅは、Ｒｅ＝Δｎ×ｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ［ｎｍ］で表される。なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍの光における光学異方性層の面内リターデーション値を意味する。なお、測定時の温度は２３±２℃、相対湿度は４５±５％である。
（４）厚さ方向リターデーション値Ｒｔｈ
厚さ方向リターデーションＲｔｈは、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［ｎｍ］で表される。なお、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍの光における光学異方性層の厚さ方向リターデーション値を意味する。なお、測定時の温度は２３±２℃、相対湿度は４５±５％である。
（５）負の分散特性
負の分散特性とは、固有吸収を含む波長域（図１のｂ１、ｂ２、ｂ３の領域）における屈折率ｎが、測定波長が長波長化するに従って増加する分散を意味する。「負の分散特性」は、「異常分散特性」ともいう。なお、「負の分散特性」に対して、「正の分散特性」は、固有吸収波長から離れた領域（図１のａ１，ａ２，ａ３の領域）において、測定波長が長波長化するに従って屈折率ｎが減少する分散を意味する。「正の分散特性」を「正常分散特性」ともいう。

なお、本発明において、異常光屈折率ｎｅおよび通常光屈折率ｎｏは、例えば、分光エリプソメトリー（堀場製作所社製、製品名「ＡＵＴＯ−ＳＥ」）を用い、温度２３℃±２℃、相対湿度４５±５％の条件下で波長領域４４０〜１０００ｎｍのスペクトルを測定することにより得ることができる。また、面内リターデーション値および厚さ方向リターデーション値は、例えば、複屈折Δｎを測定することが可能な装置（例えばＡｘｏｍｅｔｒｉｘ社製の商品名「Ａｘｏｓｃａｎ」、王子計測機器社製の商品名「ＫＯＢＲＡ−ＷＲ」等）を用いて測定することができる。

＜積層体の製造方法＞
本発明による積層体の製造方法は、図２に表すように、少なくとも、
配向基板（Ａ）２０上に、第１の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、第１の液晶組成物をホモジニアス配向させ、配向基板（Ａ）２０上に第１の光学異方性層１０を形成する工程（工程１）と、
第１の光学異方性層１０と、偏光子３０とを貼り合わせる工程（工程２）と、
配向基板（Ａ）２０を剥離する工程（工程３）と、
配向基板（Ｂ）上に、第２の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、前記第２の液晶組成物をホメオトロピック配向させ、前記配向基板（Ｂ）５０上に第２の光学異方性層４０を形成する工程（工程４）と、
第１の光学異方性層１０と、第２の光学異方性層４０とを貼り合わせる工程（工程５）と、
配向基板（Ｂ）５０を剥離する工程（工程６）と、を含んでなる。
このような工程を経ることにより、配向基板を有さず、非常に薄い、第１の光学異方性層１０、第２の光学異方性層４０と、偏光子３０とを備えた積層体１００を製造することができる。
以下、各工程について説明する。

［工程１：第１の光学異方性層形成工程］
配向基板（Ａ）上に、第１の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、第１の液晶組成物をホモジニアス配向させることにより、配向基板（Ａ）上に第１の光学異方性層を形成させることができる。第１の液晶組成物は、重合性基を有している液晶化合物（重合性液晶化合物）を１種または２種以上含んでいることが好ましい。すなわち、重合性液晶化合物を重合させ、第１の液晶組成物のホモジニアス配向を固定することが好ましい。

配向状態を固定化する方法としては、第１の液晶組成物等の種類等に応じて、公知の方法を適宜採用することができる。例えば、後述する重合開始剤の種類等に応じて、光照射及び／又は加熱処理を施すことにより、重合性基（反応性官能基）を反応させてホモジニアス配向の配向状態で配向を固定化する方法を採用してもよい。なお、「配向状態がホモジニアス配向の状態で固定化された」という状態は、第１の液晶組成物を重合させて配向を固定化した後に得られる第１の光学異方性層において、ホモジニアス配向（液晶分子の長軸方向が配向基板（Ａ）に対して実質的に平行方向に整列している配向）が確認されることを意味し、第１の液晶組成物等に由来する成分（好ましくは重合性液晶化合物に由来する成分：その重合性液晶化合物自体、その重合性液晶化合物が分解されて形成された構成物やその重合性液晶化合物の重合物等を含む。）のうちのいずれかが、ホモジニアス配向の状態で固定化されていればよい。

重合開始剤が光の照射により開始剤の機能を発現するようなものである場合（例えば、いわゆる光ラジカル開始剤や光カチオン発生剤の場合）には、光照射によりホモジニアス配向の配向状態を固定化することが好ましい。このような光照射の方法としては特に制限されず、例えば、用いる重合開始剤の吸収波長領域にスペクトルを有する光源（例えば、１０ｍＷ／ｃｍ^２以上の照度を有する、メタルハライドランプ、中圧或いは高圧水銀灯（中圧或いは高圧水銀紫外ランプ）、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、ＬＥＤ、レーザー等）を用いて、その光源からの光を照射する方法が挙げられる。なお、このような光の照射により重合開始剤を活性化させることが可能となり、効率よく重合性基を反応させることが可能となる。

また、このような光照射の方法において光の積算照射量としては、波長３６５ｎｍでの積算露光量として、１０〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましく、１００〜１５００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましい。ただし、重合開始剤の吸収領域と、光源のスペクトルが著しく異なる場合や、第１の液晶組成物自体に光源波長光の吸収能がある場合等は、この限りではない。その場合には、より効率よく配向状態を維持したまま、塗膜を固定化（硬化）させるという観点から、適当な光増感剤や、吸収波長の異なる２種以上の重合開始剤を混合して用いる等の方法を採用してもよい。また、このような光照射時の温度条件は、前記第１の液晶組成物がホモジニアス配向の配向状態を維持できる温度範囲とすればよく、特に制限されない。なお、光照射時に、塗膜の表面温度が液晶温度の範囲を維持できるように、基板と光源（紫外線ランプ等）との間には、コールドミラーやその他の冷却装置を設けてもよい。

さらに、光照射時の雰囲気条件としては、特に制限されず、大気雰囲気であってもよく、また反応効率を高めるために酸素を遮断した窒素雰囲気下であってもよい。なお、雰囲気中の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させた雰囲気で光照射することが好ましい。このような場合の雰囲気ガス中の酸素濃度としては、１０容量％以下であることが好ましく、７容量％以下であることがさらに好ましく、３容量％以下であることが最も好ましい。

また、重合開始剤が熱により開始剤の機能を発現するようなものである場合（例えば、いわゆる熱ラジカル開始剤や熱カチオン発生剤の場合）には、加熱処理によりホモジニアス配向の配向状態で配向を固定化することが好ましい。このような加熱処理の条件としては、特に制限されず、前記重合開始剤の種類に応じて、配向状態が十分に維持されるように温度条件を選択すればよく、公知の条件を適宜採用することができる。なお、配向基板（Ａ）として耐熱性の低いものを使用する場合は、重合開始剤として光の照射により開始剤の機能を発現するようなものを用い、光照射によりホモジニアス配向の配向状態を固定化することが好ましい。

ここで、重合性液晶化合物としては、配向状態をより効率よく固定化できるといった観点から、光及び／又は熱により反応する重合性基を備える液晶化合物が好ましい。このような光や熱により反応する重合性基を備える液晶化合物としては、光及び／又は熱によって、その周りに存在する成分（液晶化合物等）と重合して、配向を固定化できるものであればよく、その種類は特に限定されず、公知の重合性基を備える液晶化合物を適宜利用できる。また、このような重合性基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、アジリジニル基等が好ましい。なお、このような重合性基としては、反応条件等によっては、例えば、イソシアナート基、水酸基、アミノ基、酸無水物基、カルボキシル基等の他の重合性基を使用してもよい。

また、入手容易性、耐熱性、取扱い容易性の観点から、重合性基として（メタ）アクリロイル基を有する液晶化合物が好ましく、（メタ）アクリレート系液晶化合物（（メタ）アクリレート基を有する液晶化合物）を用いることがより好ましい。

このような（メタ）アクリレート系液晶化合物としては、下記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物が好ましい。

上記一般式（１０）〜（１２）中、Ｗは、それぞれ独立して、Ｈ及びＣＨ_３のうちのいずれかを示す。このようなＷの種類に応じて、式中において、ＣＨ_２＝ＣＷＣＯＯで表わされる基がアクリレート基又はメタクリレート基のいずれかの基となる。また、ｎは１〜２０（より好ましくは２〜１２、更に好ましくは３〜６）の整数である。このようなｎの値が前記下限未満では化合物が液晶性を発現する温度領域が小さくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると良好なホモジニアス配向を実現するのに必要な、化合物の液晶由来の流動性が小さくなる結果、良好なホモジニアス配向の実現が困難となる傾向にある。

前記一般式（１０）中、Ｒ^ａは炭素原子数が１〜２０のアルキル基及び炭素数が１〜２０のアルコキシ基の中から選択されるいずれかの基を表す。このようなＲ^ａとして選択され得る炭素数が１〜２０のアルキル基は、炭素数が１〜１２のものがより好ましく、３〜６のものが更に好ましい。このような炭素数が前記上限を超えると良好なホモジニアス配向を実現するのに必要な、化合物の液晶由来の流動性が小さくなる結果、良好なホモジニアス配向の実現が困難となる傾向にある。また、前記炭素数が前記下限未満では化合物が液晶性を発現する温度領域が小さくなる傾向にある。なお、このようなアルキル基は、直鎖状のものであっても、分岐鎖状のものであっても、環状のものであってもよく特に制限されないが、良好なホモジニアス配向の実現の観点からは、直鎖状のものであることがより好ましい。

また、Ｒ^ａとして選択され得る炭素数が１〜２０のアルコキシ基は、炭素数が１〜１２のものがより好ましく、３〜６のものが更に好ましい。このような炭素数が前記上限を超えると良好なホモジニアス配向を実現するのに必要な、化合物の液晶由来の流動性が小さくなる結果、良好なホモジニアス配向の実現が困難となる傾向にある。また、前記炭素数が前記下限未満では化合物が液晶性を発現する温度領域が小さくなる傾向にある。なお、アルコキシ基は、アルキル基が酸素原子に結合した構造を有するが、かかるアルキル基の部分の構造は直鎖状のものであっても、分岐鎖状のものであっても、環状のものであってもよく特に制限されないが、良好なホモジニアス配向の実現の観点からは、直鎖状のものであることがより好ましい。

また、前記一般式（１２）中、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−のうちのいずれかの基を表す。このようなＺ^１及びＺ^２としては、化合物の調製の容易さ等の観点から、Ｚ^１及びＺ^２のうちの一方の基が−ＣＯＯ−で表わされる基であり、もう一方の基が−ＯＣＯ−で表わされる基であることが好ましい。

また、前記一般式（１２）中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、Ｈ及び炭素数が１〜７のアルキル基のうちのいずれかを表す。このようなＸ^１及びＸ^２として選択され得る炭素数が１〜７のアルキル基としては、炭素数が１〜３であることがより好ましく、１であること（前記アルキル基がＣＨ_３であること）がより好ましい。このような炭素原子数が前記上限を超えると良好な配向を実現するのが困難となる傾向にある。このように、前記Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、Ｈ及びＣＨ_３のうちのいずれかであることが特に好ましい。

また、このような一般式（１０）〜（１２）で表わされる（メタ）アクリレート系液晶化合物としては、例えば、下記一般式（１１０）〜（１１３）に記載のような化合物が挙げられる。なお、このような（メタ）アクリレート系液晶化合物は１種を単独で用いてもよく或いは２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、前記重合性液晶化合物としては、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物を組み合わせて利用することが好ましく、上記一般式（１１０）〜（１１３）で表わされる化合物を組み合わせて利用することがより好ましい。

このように、重合性液晶化合物として、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物を組み合わせて利用する場合においては、上記一般式（１０）で表わされる化合物の含有量は、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物の総量に対して２０〜６０重量部であることが好ましく、３０〜４５重量部であることがより好ましい。このような一般式（１０）で表わされる化合物の含有量が上記数値範囲外であると、ホモジニアス配向に関して、配向欠陥が生じる傾向にあり、上記範囲内であれば、ホモジニアス配向に関して、配向欠陥が生じるのを抑制することができる。

また、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物を組み合わせて利用する場合において、上記一般式（１１）で表わされる化合物の含有量は、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物の総量に対して１０〜５０重量部であることが好ましく、２０〜３０重量部であることがより好ましい。このような一般式（１１）で表わされる化合物の含有量が上記数値範囲内にあれば、ホモジニアス配向に関して、配向欠陥が生じるのを抑制することができる。

さらに、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物を組み合わせて利用する場合において、上記一般式（１２）で表わされる化合物の含有量は、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物の総量に対して１０〜７０重量部であることが好ましく、２５〜４５重量部であることがより好ましい。このような一般式（１２）で表わされる化合物の含有量が上記範囲内であれば、ホモジニアス配向に関して、配向欠陥が生じるのを抑制することができる。

さらに、上記一般式（１１０）〜（１１３）で表わされる化合物を組み合わせて前記重合性液晶化合物として利用する場合においては、良好なホモジニアス配向の実現の観点から、各化合物の質量比が（［上記一般式（１１０）で表わされる化合物］：［上記一般式（１１１）で表わされる化合物］：［上記一般式（１１２）で表わされる化合物］：［上記一般式（１１３）で表わされる化合物］）が４５：４０：１５：０〜３５：５：３０：３０であることが好ましく、３５：２３：２３：１９〜３８：２５：２５：１２であることがより好ましい。

また、重合性液晶化合物の製造方法は特に制限されるものではなく、公知の方法を適宜利用することができる。例えば、上記一般式（１１０）で表わされる化合物を製造する場合には、例えば、英国特許出願公開第２，２８０，４４５号明細書に記載された方法を採用してもよく、上記一般式（１１１）で表わされる化合物を製造する場合には、例えば、Ｄ．Ｊ．Ｂｒｏｅｒらの「Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．（ｖｏｌ．１９０，１９８９年発行）」の第３２０１頁〜第３２１５頁に記載された方法を採用してもよく、上記一般式（１１２）〜（１１３）で表わされる化合物を製造する場合には、例えば、国際公開ＷＯ９３／２２３９７号に記載された方法を採用してもよい。このように、重合性液晶化合物は、その利用する化合物の種類に応じて公知の方法を適宜利用して製造することができる。また、このような重合性液晶化合物としては市販品を利用してもよい。さらに、このような重合性液晶化合物は１種を単独で用いてもよく、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、第１の光学異方性層は、後記するように、下記式（１）を満足することが好ましい。
１．００＞Ｒｅ１ａ（４５０）／Ｒｅ１ａ（５５０）＞０．７０ （１）
上記式（１）の要件を満足させる方法の一つとして、重合性液晶化合物が二種類以上のメソゲン基を有する化合物であり、そのうち少なくとも一つのメソゲン基を液晶層のホモジニアス配向の遅相軸に対して略直交方向に配向させることで、長波長になるほど、位相差が大きくなることが、特開２００２−２６７８３８号公報や特開２０１０−３１２２３号公報に記載されている。ここで、メソゲン（mesogen）基のメソゲンは、中間相（＝液晶相）形成分子（「液晶辞典」、日本学術振興会、情報科学用有機材料第１４２委員会、液晶部会編、１９８９年）とも称され、液晶性分子構造とほぼ同義である。本発明では、棒状液晶化合物におけるメソゲン基（棒状液晶化合物の液晶性に関する分子構造）を採用することが好ましい。棒状液晶化合物におけるメソゲン基については、各種文献（例えば、Flussige Kristalle in Tabellen誌、VEB Deutscher Verlag furGrundstoffindustrie, Leipzig（１９８４年）、第２巻）に記載されている。

メソゲン基の例には、ビフェニル、フェニルシクロヘキシル、シクロヘキシルフェニル、フェニルオキシカルボニルフェニル、フェニルカルボニルオキシフェニル、フェニルオキシカルボニルシクロヘキシル、シクロヘキシルカルボニルオキシフェニル、フェニルカルボニルオキシフェニルオキシカルボニルフェニル、フェニルカルボニルオキシフェニルオキシカルボニルフェニル、フェニルカルボニルオキシシクロヘキシルオキシカルボニルフェニル、フェニルオキシカルボニルシクロヘキシルカルボニルオキシフェニル、フェニルカルボニルオキシフェニルアミノカルボニルフェニル、フェニルエテニレンフェニル、フェニルエチニレンフェニル、フェニルエチニレンフェニルエチニレンフェニル、フェニルエテニレンカルボニルオキシビフェニルおよびフェニルエテニレンオキシフェニルエチニレンフェニルが含まれる。

メソゲン基（メソゲン基を構成するベンゼン環やシクロヘキサン環）は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上記した重合性基またはその誘導体が好ましい。二種類のメソゲン基の組み合わせとしては、一方のメソゲン基が、ビフェニル、フェニルシクロヘキシル、シクロヘキシルフェニル、フェニルオキシカルボニルフェニル、フェニルカルボニルオキシフェニル、フェニルオキシカルボニルシクロヘキシル、シクロヘキシルカルボニルオキシフェニル、フェニルカルボニルオキシフェニルオキシカルボニルフェニル、フェニルカルボニルオキシフェニルオキシカルボニルフェニル、フェニルカルボニルオキシシクロヘキシルオキシカルボニルフェニル、フェニルオキシカルボニルシクロヘキシルカルボニルオキシフェニルおよびフェニルカルボニルオキシフェニルアミノカルボニルフェニルからなる群より選ばれ、他方のメソゲン基が、フェニルエテニレンフェニル、フェニルエチニレンフェニル、フェニルエチニレンフェニルエチニレンフェニル、フェニルエテニレンカルボニルオキシビフェニルおよびフェニルエテニレンオキシフェニルエチニレンフェニルからなる群より選ばれることが特に好ましい。

二種類以上のメソゲン基を有する化合物は、一般的な合成方法を応用して合成することができる。例えば、１）最初に出発原料の官能基変換により二種類以上のメソゲン基の一つを導入した後、同様に官能基変換により他のメソゲン基を続けて導入する順次導入法、２）出発原料の官能基変換により同時に二種類以上のメソゲン基を導入する同時導入法、あるいは３）順次導入法と同時導入法との併用法を採用できる。このように、二種類以上のメソゲン基を有する化合物を製造するための方法は特に制限されず、公知の方法を適宜利用することができ、例えば、特開２００２−２６７８３８号公報に記載された方法を採用してもよい。このように、重合性液晶化合物は、その利用する化合物の種類に応じて公知の方法を適宜利用して製造することができる。その他の方法としては、特表２０１０−５２２８９２号公報、特表２０１０−５２２８９３号公報、特表２０１０−５３７９５４号公報、特表２０１０−５３７９５５号公報、特表２０１０−５４０４７２号公報、特表２０１２−５３２１５５号公報、特表２０１３−５０９４５８号公報、特開２００７−２２０８号公報、特開２００７−２２０９号公報、特開２００７−２２１０号公報、特開２００９−１７３８９３号公報、特開２０１０−３０９７９号公報、特開２０１１−６３６０号公報、特開２０１１−６３６１号公報、特開２０１１−４２６０６号公報、特開２０１１−１６２６７８号公報、特開２０１１−２０７７６５号公報、特開２０１３−７１９５６号公報、特開２００５−２８９９８０号公報、特開２００６−２４３４７０号公報、特開２００８−２７３９２５号公報、特開２００９−６２５０８号公報、特開２００９−１７９５６３号公報、特開２０１０−８４０３２号公報、特開２００５−２０８４１５号公報、特開２００５−２０８４１６号公報、ＷＯ２０１２/１６９４２４号公報等が例示できる。

また、上記重合性液晶化合物としては市販品を利用してもよい。さらに、このような重合性液晶化合物は１種を単独で用いてもよく、あるいは２種以上を組み合わせた混合物として用いてもよい。また、液晶化合物を２種以上組み合わせる場合、全ての液晶化合物が液晶性を示す必要はなく、混合物である第１の液晶組成物が液晶性を示せばよい。例えば、２種以上のメソゲン基を有する化合物は、それ自体が液晶性を示さなくても他の液晶化合物との混合物が液晶性を示せばよい。さらには、重合性液晶化合物を２種以上組み合わせた混合物として使用する場合、全ての液晶化合物が重合性官能基を有する必要はなく、少なくとも１種の液晶化合物が重合性官能基を有していればよい。

第１の液晶組成物は、重合性基を有する液晶化合物以外に、液晶性を示さないその他の重合性化合物を含んでいても良い。このような重合性化合物としては、重合性基を有する液晶化合物との相溶性を有しており、且つ該液晶化合物を配向させる際に配向阻害を著しく引き起こすようなものではない限り特に限定されない。このような他の重合性化合物としては、公知の重合性化合物を適宜利用でき、目的とする液晶組成物の設計に応じて公知の重合性化合物の中から好適な化合物を選択して利用すればよい。このような他の重合性化合物としては、例えば、エチレン性不飽和基（例えばビニル基、ビニルオキシ基、（メタ）アクリロイル基）等の重合性官能基を有する化合物等が挙げられる。なお、このような他の重合性化合物の添加量は、前記重合性基を有する液晶化合物と前記液晶性を示さない他の重合性化合物の総量に対して０．５〜５０重量部とすることが好ましく、１〜３０重量部とすることが好ましい。また、このような重合性化合物の重合性官能基の数は、重合速度を十分に早いものとする観点および得られる第１の光学異方性層に十分な耐熱性を付与する観点から、２以上であることが好ましい。さらに、このような重合性化合物を製造するための方法も特に制限されず、公知の方法を適宜利用できる。また、このような重合性化合物としては市販品を利用してもよい。

また、第１の液晶組成物を含む塗工液は、二色性色素を含むことが好ましい。ここでいう二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。このような性質を有するものであれば、二色性色素は特に制限されず、染料として用いられている色素であってもよく、顔料として用いられている色素であってもよい。二色性色素は複数種用いてもよく、染料として用いられている色素と顔料として用いられている色素とを組み合わせてもよい。

図３の細線（実線はｎｘ、点線はｎｙ）に示す通り、通常、第１の液晶組成物を含む塗工液を用いて第１の光学異方性層を形成した場合、双極子の種類が軸方向によって異なるため、最大主屈折率ｎｘと最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率ｎｙは異なる「正の分散」曲線を示す。この第１の液晶組成物を含む塗工液に、例えば、５８０ｎｍに極大吸収波長を有する吸収スペクトルを持つ二色性色素を添加すると、吸収波長付近である５５０〜６５０ｎｍの波長領域においても、最大主屈折率ｎｘが「負の分散」特性を有する第１の光学異方性層が得られる。

また、二色性色素は、重合性基を有していることが好ましく、例えば、重合性基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、ビニロキシ基、エポキシ基、オキセタニル基が好ましく、反応性の観点からアクリル基、エポキシ基、オキセタニル基が特に好ましい。二色性色素が、重合性基を有していることにより、第１の液晶組成物と重合し、配向基板（Ａ）上において第１の液晶組成物の配向方向と略同一方向に配向するため、高温多湿環境下における「負の分散」特性の低減、二色性色素の吸光度および二色比の変動を防止することができ、光学信頼性に優れた位相差板を実現できる。更に、二色性色素は、液晶性を有していてもよく、特に、ネマチック相、スメクチック相を有するものが好ましい。

二色性色素は、３８０〜７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長（λｍａｘ）を有するものが好ましく、より好ましくは４００〜７５０ｎｍであり、特に好ましくは４５０〜７００ｎｍ、最も好ましくは５４０〜６２０ｎｍであるが、本発明の位相差板を画像表示装置に適用する場合は、画像表示装置の光源の発光スペクトルを考慮して、画像表示装置の発光スペクトルの極大吸収波長と異なるような極大吸収波長を選択することが最も好ましい。

図４は、有機ＥＬ画像表示装置の赤青緑の３色の発光スペクトルと、３色を同時に点灯し白表示をした際の発光スペクトルを示したものである。図４に示す通り、青色光は約４６０ｎｍに、緑色光は５３０ｎｍに、赤色光は６３０ｎｍに極大値を示す。有機ＥＬ画像表示装置に、本発明の積層体を適用する場合、二色性色素による光の吸収は避けられないが、この吸収による透過率低下を最小限に抑えるために３色の発光スペクトルの極大吸収波長と異なる極大吸収波長を有する二色性色素を選択することが好ましい。例えば、５８０ｎｍ近辺に極大吸収波長を有する二色性色素を適用することが好ましい。図４は有機ＥＬ画像表示装置の発光スペクトルを示したが、他の画像表示装置においても同様である。例えば、液晶画像表示装置においては、光源にＬＥＤを使用する場合、ＬＥＤの極大吸収波長と異なる極大吸収波長を有する二色性色素を用いることで、透過率低下を抑制することができる。二色性色素の極大吸収波長と画像表示装置の発光スペクトルの極大吸収波長の差は５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは２０ｎｍ以上である。二色性色素の極大吸収波長と画像表示装置の発光スペクトルの極大吸収波長との差を５ｎｍ以上とすることで、透過率低下を抑制することができる。

二色性色素の二色比は、色素分子の長軸方向における極大吸収波長での吸光度と短軸方向の吸光度の比で定義される。該二色比は、色素の配向方向の吸光度と配向方向と垂直方向の吸光度を測定することで求めることが可能である。本発明で用いることができる二色性色素は、二色比として、好ましくは２以上５０以下、好ましくは２以上５０以下、更に好ましくは３以上５０以下である。二色比が前記範囲内であれば、色素の配向方向が液晶組成物内で揃うこととなり、色素の吸収波長における透過率の損失を抑制することができる。

このような二色性色素としては特に限定はないが、例えば、アクリジン色素、アジン色素、アゾメチン色素、オキサジン色素、シアニン色素、メロシアニン色素、スクアリリウム色素、ナフタレン色素、アゾ色素、およびアントラキノン色素、ベンゾトリアゾール色素、ベンゾフェノン色素、ピラゾリン色素、ジフェニルポリエン色素、ビナフチルポリエン色素、スチルベン色素、ベンゾチアゾール色素、チエノチアゾール色素、ベンゾイミダゾール色素、クマリン色素、ニトロジフェニルアミン色素、ポリメチン色素、ナフトキノン色素、ペリレン色素、キノフタロン色素、スチルベン色素、インジゴ色素等が挙げられる。中でも、該二色性色素は、アントラキノン色素およびアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素およびスチルベンアゾ色素等が挙げられ、好ましくはビスアゾ色素、トリスアゾ色素およびこれらの系列の色素の誘導体が例示される。上記の条件を満たす色素であれば本発明で用いることが可能である。本発明で用いることが可能である色素の一例を色素ハンドブック（大河原信、北尾悌次郎、平嶋恒亮、松岡賢編、講談社サイエンティフィック社：１９８６年第１版）に記載の色素番号で表１に示す。

二色性色素は、下記式（１）で表されるもの（以下、場合により「アゾ色素（１）」という。）が特に好ましい。

式（１）中、ｎは１〜４の整数であり、Ａｒ_１およびＡｒ_３は、それぞれ独立して下記の群より選択される基を表す。

また、式（１）中、Ａｒ_２は、下記の群より選択される基を表し、ｎが２以上の場合は、Ａｒ_２は互いに同一であってもよく異なっていてもよい。

上記した基において、Ａ_１およびＡ_２は、それぞれ独立して下記の群より選択される基を表わす。
（式中、ｍは０〜１０の整数であり、同一の基中にｍが２つある場合、この２つのｍは互いに同一であってもよく異なっていてもよい。）

上記したアゾ色素（１）のアゾベンゼン部位の位置異性は、トランスであることが好ましい。

重合性官能基を有する重合性二色性色素の具体例としては、例えば、下記のような化合物等が挙げられる。

アントラキノン色素としては、式（１−５９）で表される化合物が好ましい。
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^８は、互いに独立して、水素原子、−Ｒｘ、−ＮＨ_２、−ＮＨＲｘ、−ＮＲｘ_２、−ＳＲｘ又はハロゲン原子を表す。Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。）

また、オキサゾン色素としては、式（１−６０）で表される化合物が好ましい。
（式中、Ｒ^９〜Ｒ^１５は、互いに独立して、水素原子、−Ｒｘ、−ＮＨ_２、−ＮＨＲｘ、−ＮＲｘ_２、−ＳＲｘ又はハロゲン原子を表す。Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。）

また、アクリジン色素としては、式（１−６１）で表される化合物が好ましい。
（式中、Ｒ^１６〜Ｒ^２３は、互いに独立して、水素原子、−Ｒｘ、−ＮＨ_２、−ＮＨＲｘ、−ＮＲｘ_２、−ＳＲｘ又はハロゲン原子を表す。Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。）

以上の式（１−５９）、式（１−６０）及び式（１−６１）において、Ｒｘの炭素数１〜６のアルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等であり、炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基及びナフチル基等である。

また、シアニン色素としては、式（１−６２）で表される化合物、及び式（１−６３）で表される化合物が好ましい。
（式中、Ｄ^１及びＤ^２は、互いに独立して、下記式（１−６２ａ）〜式（１−６２ｄ）のいずれかで表される基を表し、ｎ５は１〜３の整数を表す。）

（式（１−６３）中、Ｄ^３及びＤ^４は、互いに独立して、下記式（１−６３ａ）〜式（１−６３ｈ）のいずれかで表される基を表し、ｎ６は１〜３の整数を表す。）

以上、二色性色素について、その好ましい例を説明したが、中でも、二色性色素としてアゾ色素（１）であることが好ましく、互いに異なる極大吸収波長を有するアゾ色素（１）を少なくとも２種含有してもよい。

二色性色素の添加量は、当該二色性色素の種類等に応じて適宜調節できるが、第１の液晶組成物１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部が好ましく、０．０３〜２．０重量部がより好ましく、０．０３〜１．２重量部がさらに好ましい。二色性色素の含有量が、この範囲内であれば、第１の液晶組成物の配向を乱すことなく、第１の液晶組成物の成膜や重合を行うことができる。二色性色素の含有量が多すぎると、第１の液晶組成物の配向を阻害したり、二色性色素の吸収により第１の光学異方性層の透過率が低下するおそれがある。そのため、第１の液晶組成物がホモジニアス配向を保持できる範囲で、二色性色素の含有量を定めることもできる。なお、ここでいう二色性色素の含有量とは、２種以上の二色性色素を含む場合は、それらの合計量を意味する。

また、第１の液晶組成物を含む塗工液は、上記したような重合性液晶化合物を重合させるための重合開始剤を含んでなることが好ましい。重合開始剤としては特に制限されず、公知の重合開始剤を適宜利用することができ、公知の重合開始剤の中から、第１の液晶組成物中の液晶化合物の種類に応じて、より効率よく前記重合性液晶化合物の重合を開始させることが可能なものを適宜選択して利用すればよい。

また、重合開始剤は、熱重合開始剤（熱重合反応を利用する際の開始剤）であっても、光重合開始剤（光や電子線の照射を利用する際の開始剤）であってもよい。このような重合開始剤としては、配向基板（Ａ）としてプラスチックフィルム等を用いる場合に、熱によりその配向基板（Ａ）等が変形したり、変質したりすることを防止するといった観点から、光重合開始剤を用いることがより好ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとを組み合わせたもの、アクリジンおよびフェナジン化合物およびオキサジアゾール化合物等が挙げられる。なお、このようなα−カルボニル化合物としては、例えば、米国特許２３６７６６１号明細書や米国特許２３６７６７０号明細書に記載のα−カルボニル化合物等が挙げられ、前記アシロインエーテルとしては、例えば、米国特許２４４８８２８号明細書に記載のもの等が挙げられる。また、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物としては、例えば、米国特許２７２２５１２号明細書に記載のもの等が挙げられ、前記多核キノン化合物としては、例えば、米国特許３０４６１２７号明細書や米国特許２９５１７５８号明細書に記載のもの等が挙げられる。また、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとを組み合わせたものとしては、例えば、米国特許３５４９３６７号明細書に記載されているもの等が挙げられ、前記アクリジンおよびフェナジン化合物としては、例えば、特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書等に記載のもの等が挙げられ、更に、前記オキサジアゾール化合物としては、例えば、米国特許４２１２９７０号明細書に記載のもの等が挙げられる。

また、光重合開始剤としては、市販品を利用してもよく、例えば、ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤（商品名「イルガキュア９０７」、商品名「イルガキュア６５１」、商品名「イルガキュア１８４」）や、Ｕｎｉｏｎ Ｃａｒｂｉｄｅ社製の光重合開始剤（商品名「ＵＶＩ６９７４」）等を適宜使用してもよい。なお、このような光重合開始剤は、光または電子線の照射により、自由ラジカルを生成するものや、イオンを生成するもの等があるが、第１の液晶組成物の種類や重合反応の条件等に応じて、自由ラジカルを生成する光重合開始剤（例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名「イルガキュア６５１」等）や、イオンを生成する光重合開始剤（例えば、Ｕｎｉｏｎ Ｃａｒｂｉｄｅ社製の光重合開始剤（商品名「ＵＶＩ６９７４」））の中から好適なものを適宜選択して利用すればよい。

また、重合開始剤の含有量としては、第１の液晶組成物と二色性色素の総量１００重量部に対して０．５〜１０重量部であることが好ましく、１〜５重量部であることがより好ましい。重合開始剤の含有量が上記数値範囲内であれば、液晶の配向に欠陥を生じるのを抑制することができる。

また、第１の液晶組成物を含む塗工液には、塗布性を考慮して適宜溶媒が含まれていてもよい。溶媒としては、第１の液晶組成物および二色性色素等を溶解でき適当な条件で留去できる溶媒であれば特に制限はなく、一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン類、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール等のアルコール類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール等のエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸２−メトキシエチル、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチル等のエステル類、フェノール、クロロフェノール等のフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、等等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、γ-ブチロラクトン等の複素環類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類等やこれらの混合系が好ましく用いられる。

また、このような溶媒としては、均一な膜厚となるように塗工液を塗布するのに適切な乾燥速度、取扱い容易性（環境への有害性）や、第１の液晶組成物等に対する溶解性の観点から、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート、酢酸２−メトキシエチル、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−メトキシベンゼン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、γ-ブチロラクトンが好ましく、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート、トルエン、γ-ブチロラクトンがより好ましい。なお、このような溶媒としては１種を単独であるいは２種以上を組み合わせて利用してもよい。また、用いる溶媒の種類によっては、配向基板（Ａ）に腐食が生じる場合もあることから、配向基板（Ａ）の種類に応じて好適な溶媒を適宜選択して利用することが好ましい。

また、溶媒の含有量としては、使用方法（例えば光学異方性層を形成するために使用する場合には、その厚さの設計やコーティング方法等も含めた使用方法等）等を考慮し、適宜調整することができる。例えば、溶媒の含有量は、第１の液晶組成物を含む塗工液１００重量部に対し、３０〜９８重量部であることが好ましく、５０〜９５重量部であることがより好ましく、７０〜９０重量部であることが更に好ましい。溶媒の含有量が３０重量部以上であれば、第１の液晶組成物および／または二色性色素に対する溶媒の量が確保されるため、保管中に第１の液晶組成物が析出するのを抑制したり、第１の液晶組成物を含む塗工液の粘度が高くなって湿潤（wetting）性が低下するのを抑制し、第１の光学異方性層の製造時におけるコーティングを良好に行うことができる。また、溶媒の含有量が９５重量部以下であれば、溶媒除去工程（乾燥工程）を短時間で終了することができるため、第１の液晶組成物を含む塗工液を配向基板（Ａ）上に塗布する際に表面の流動性低下を抑制でき、均一な光学異方性層を製造することができる。このように、本発明の第１の液晶組成物および／または二色性色素の含有量は、第１の液晶組成物を含む塗工液１００重量部に対し、２〜７０重量部であることが好ましく、５〜５０重量部であることがより好ましく、１０〜３０重量部であることが更に好ましい。また、第１の液晶組成物を含む塗工液には、上記した溶媒だけでなく、配向基板上に均一な塗膜を形成するために、反応活性化剤、増感剤、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤等を添加してもよい。

また、配向基板（Ａ）としては、平滑な平面を有するものが好ましく、有機高分子材料からなるフィルムやシート、ガラス板、金属板等を挙げることができる。コストや連続生産性の観点からは有機高分子からなる材料を用いることが好ましい。有機高分子材料の例としては、、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の透明樹脂からなるフィルムが挙げられる。またポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系樹脂、環状ないしノルボルネン構造を有するシクロオレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ナイロン、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド等のアミド系樹脂等の透明樹脂からなるフィルムも挙げられる。さらにポリイミド等のイミド系樹脂、スルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド等のポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリビニルアルコール等のビニルアルコール系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ビニルブチラール系樹脂、アリレート系樹脂、ポリオキシメチレン系樹脂、エポキシ系樹脂や前記樹脂のブレンド物等の透明樹脂からなるフィルム等も挙げられる。

セルロース系樹脂としては、セルロースの低級脂肪酸エステルが更に好ましい。このような低級脂肪酸としては、炭素原子数が６以下の脂肪酸が好ましい。またこのような低級脂肪酸の炭素原子数としては２〜４であることがより好ましい。このようなセルロース系樹脂としては、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート又はセルロースブチレートが挙げられる。また、このようなセルロース系樹脂の中でも、セルローストリアセテートが特に好ましい。なお、セルロース系樹脂としては、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。

また、前記シクロオレフィン樹脂（ＣＯＰ）としては、例えば、ジシクロペンタジエン誘導体等のシクロオレフィンの開環重合体、シクロオレフィンの付加重合体、シクロオレフィンとエチレン、プロピレン等のα−オレフィンとのランダム共重合体、これらを不飽和カルボン酸やその誘導体等で変性したグラフト変性体、これらの水素化物等が挙げられる。また、このようなシクロオレフィンとしては、ノルボルネン及びその誘導体、ジシクロペンタジエンが好ましい。ＣＯＰフィルムとして市販品を使用することもでき、例えば、ゼオノア（商品名、日本ゼオン（株）製）、ゼオネックス（商品名、日本ゼオン（株）製）、アートン（商品名、ＪＳＲ（株）製）等が使用できる。

上記した有機高分子材料からなるフィルムのなかでも、光学フィルムとして用いられるトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ノルボルネンポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチックフィルムを好ましく使用できる。また、金属フィルムとしては、例えばアルミニウム等から形成される当該フィルムが挙げられる。

このような基板基板（Ａ）は、一軸延伸したもの（いわゆる一軸延伸フィルム）であっても二軸延伸したもの（いわゆる二軸延伸フィルム）であってもよい。なお、このような配向基板（Ａ）は、これを縦方向および横方向に延伸することにより、二軸性の光学異方性を発現させて、光学異方性を有していてもよい。

また、このような配向基板（Ａ）としては、Ｚ軸配向処理を施したものを用いてもよい。更に、このような配向基板（Ａ）としては、その接着性を制御する目的で、片面もしくは両面にコロナ処理、プラズマ処理、ＵＶ−オゾン処理、ケン化処理等の表面処理を適宜行ってもよい。このような表面処理を採用する際の処理条件としては、利用する配向基板等に応じて適宜設定すればよく、特に制限されず、公知の条件を適宜採用すればよい。

配向基板（Ａ）は、特に処理を行わなくとも第１の液晶組成物に対して十分な配向能を示すものもあるが、配向能が不十分、または配向能を示さない等の場合には、必要に応じて、これらの配向基板（Ａ）を適度な加熱下で延伸したり、配向基板（Ａ）表面をレーヨン布等で一方向に擦るいわゆるラビング処理を行ったり、配向基板（Ａ）上にポリイミド、ポリビニルアルコール、シランカップリング剤等の公知の配向剤からなる配向膜を設けてラビング処理を行ったり、配向基板（Ａ）上に光反応剤を塗布し適度な温度で加熱後、直線偏光紫外線を照射して光配向膜を形成したり、酸化珪素等の斜方蒸着処理を行ったり、あるいはこれらの手段を適宜組み合わせる等して配向能を発現する処理を行ってもよい。

また、表面に規則的な微細溝を設けたアルミニウム、鉄、銅、ニッケル、ステンレス等の金属板や各種ガラス板等、あるいはそれらを元型として、前記配向基板（Ａ）の表面に規則的な微細溝を熱転写したものや、紫外線硬化型樹脂等を使用して前記配向基板（Ａ）の表面に規則的な微細溝を転写したものも使用することができる。これらの中でも、液晶の分野においては、配向基板（Ａ）に対して布等で擦るラビング処理を行うことが一般的である。ラビング条件を規定する重要な設定値としては周速比がある。これはラビング布をロールに巻きつけて回転させつつ配向基板（Ａ）を擦る場合の、布の移動速度と基板の移動速度の比を表す。本発明においては、通常周速比が５０以下、より好ましくは２５以下、特に好ましくは１０以下である。周速比が５０以下である場合、ラビングの効果が十分であるため、第１の液晶組成物が完全配向することができ、特性低下を抑制することができる。

また、配向基板（Ａ）に、第１の光学異方性層の搬送方向と平行方向にガイドラインを設けておくことで、装置中に組み込んだ検査装置等でそのガイドラインを検出し、搬送中の第１の光学異方性層が蛇行していないことを確認することが出来る。そのことにより、第１の光学異方性層と偏光子と、を貼り合わせる前に配向基板（Ａ）を有する第１の光学異方性層側が所定の角度に揃っていない場合は装置を停止し、所定の角度にフィルムの角度を調整し直すことが出来、誤った角度での貼合を未然に防止することが出来る。配向基板（Ａ）を剥離しない場合は、第１の光学異方性層面に消去可能なガイドラインを設けることが難しく、搬送中の第１の光学異方性層の蛇行を検出することが難しい場合がある。

次に、第１の液晶組成物を含む塗工液を配向基板（Ａ）へ塗布する方法について説明する。塗布方法については、塗膜の均一性が確保される方法であれば、特に限定されることはなく公知の方法を採用することができる。例えば、スピンコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディップコート法、ロールコート法等が挙げられる。このような塗膜としては、第１の液晶組成物中の溶媒の含有量等によっても異なるものであり、一概には言えないが、乾燥前の塗膜の厚み（ウエット膜厚）が３〜５０μｍであることが好ましく、５〜２０μｍであることがより好ましい。厚み（ウエット膜厚）が上記数値範囲内であれば、第１の液晶組成物における固形分の析出を抑制でき、均一な光学異方性層を得ることができる。また、均一な塗布を行うことが可能となり、第１の光学異方性層の平滑性を維持することができる。さらに、塗布後の乾燥時間を短縮することができる。

次いで塗膜を乾燥、熱処理することにより第１の液晶組成物をホモジニアス配向させる。この乾燥条件は、上記した第１の液晶組成物、二色性色素、溶媒の種類等によっても異なるものであり、一概に言えるものではなく、特に制限されるものではない。例えば、溶媒の種類によっては、常温（２５℃）でも塗膜から溶媒を乾燥除去することが可能である。このように、溶媒の種類等によっては、特に加熱処理を施すことなく、ホモジニアス配向した第１の光学異方性層を製造することも可能である。また、このような溶媒除去工程における温度条件としては、１５〜１１０℃であることが好ましく、２０〜８０℃であることがより好ましい。溶媒除去工程における温度が、上記数値範囲内であれば、乾燥に別途冷却設備を使用する必要はなく、また、基板が熱により変形することもないため、所望の光学特性を有する第１の光学異方性層を得ることができる。

また、この乾燥工程における圧力条件としては、特に制限されないが、６５０〜１４００ｈＰａであることが好ましく、９００〜１１００ｈＰａであることがより好ましい。圧力条件が上記数値範囲内であれば、乾燥ムラが生じることはなく、また、乾燥時間を短縮することができる。また、溶媒除去工程の時間（乾燥時間）としては、特に制限されないが、１０秒〜６０分とすることが好ましく、３０秒〜３０分とすることがより好ましい。乾燥時間が上記数値範囲内であれば、第１の光学異方性層の平滑性の低下（乾燥ムラ）を抑制することができ、また、高い生産性を維持することができる。なお、このような溶媒除去工程に乾燥装置を利用する場合においては、前記塗膜と乾燥装置との相対的な移動速度を、相対風速が６０〜１２００ｍ／分となるように制御することが好ましい。塗膜の均一性が維持される方法であれば、特に限定されることなく公知の方法を採用することができる。例えば、ヒーター（炉）、温風吹きつけ等の方法が挙げられる。

塗布された第１の液晶組成物を含む塗工液の乾燥工程後の膜厚は、０．１〜５０μｍが好ましく、より好ましくは０．２〜２０μｍであり、０．５〜１０μｍがさらに好ましい。乾燥後の膜厚が上記数値範囲内であれば、得られる第１の光学異方性層の光学性能を十分に維持することができ、第１の液晶組成物および／または二色性色素が十分に配向することができる。

上記した乾燥および／または熱処理により、液晶化合物および／または二色性色素が、ホモジニアス配向する。ここでホモジニアス配向とは、液晶分子の長軸方向が基板に対して実質的に平行方向に整列している状態を意味する。なお、配向とは、例えば、測定波長５５０ｎｍにおいてΔｎ・ｄが２０ｎｍ以上を指す。ここで、Δｎ・ｄは、位相差板とした場合の複屈折Δｎと膜厚ｄの積である。

ここで、ホモジニアス配向の確認方法としては、以下のような方法を採用してもよい。ホモジニアス配向の確認方法としては、公知の方法を適宜採用でき、特に制限されるものではないが、一対の直交偏光板（一方の偏向板が偏向する方向と、他方の偏向板が偏向する方向が垂直となる一対の偏光板）の間に光学異方性層（配向基板と積層したもの等であってもよい）を挟み、、肉眼で透過光を確認する方法や、偏光顕微鏡で観察する方法を採用してもよい。また、ホモジニアス配向した光学異方性層は、光の入射角に応じて位相差の特性が異なるものとなることから、試料の表面に対して垂直な方向（垂直入射角）の位相差と前記垂直入射角から特定の角度に光の入射角を傾けた場合の位相差とを測定することが可能な複屈折測定装置（例えばＡｘｏ−ｍｅｔｒｉｘ社製の商品名「Ａｘｏｓｃａｎ」、王子計測機器社製の商品名「ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ」等）を用いて、視野角０°（液晶フィルムに対して垂直の方向）から視野角がより大きくなる方向に角度を適宜変更しながら位相差の測定を行い、複数の視野角において前記試料の位相差をそれぞれ求め、試料の面に対して垂直な方向において位相差が確認され、入射角のマイナス方向とプラス方向の位相差の値が対称であること、を確認することによって、ホモジニアス配向の有無を確認する方法を採用してもよい。

上記のようにして、配向基板（Ａ）上に第１の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、塗膜から所望により溶媒を除去して第１の液晶組成物および／または二色性色素をホモジニアス配向させ好ましくは、その配向状態を固定化することによって、配向状態がホモジニアス配向の状態で固定化された第１の光学異方性層を配向基板上に形成することができる。

以上のような工程により作製した第１の光学異方性層は、充分強固な膜となっている。具体的には、硬化反応によりメソゲンが３次元的に結合され、硬化前と比べて耐熱性（液晶配向保持の上限温度）が向上するのみでなく、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐クラック性等の機械的強度に関しても大幅に向上する。

また、上記のようにして得られる第１の光学異方性層は、複屈折Δｎが、可視光領域の少なくとも一部の波長領域において、測定波長が長いほど大きくなる「負の分散」特性を有することが好ましい。
より具体的には、下記式（２）および（３）を満足するようなリターデーション特性を有することが好ましい。
１．００＞Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）＞０．７０ （２）
１．３０＞Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）＞１．００ （３）
（ここで、Ｒｅ１は、第１の光学異方性層の面内リターデーション値を表し、複屈折Δｎ１と、第１の光学異方性層の膜厚ｄ１との積で表され、Ｒｅ１（４５０）、Ｒｅ１（５５０）およびＲｅ１（６５０）は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍにおける第１の光学異方性層の面内リターデーション値である。）
また、より好ましくは、下記式（２−１）および（３−１）を満足する。
０．９５＞Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）＞０．８０ （２−１）
１．２０＞Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）＞１．０２ （３−１）

また、比視感度特性を考慮して、下記式（４）および（５）を満足するようなリターデーション特性を有することが好ましい。
１．１０＞Ｒｅ１（５００）／Ｒｅ１（５５０）＞０．８０ （４）
１．１５＞Ｒｅ１（５８０）／Ｒｅ１（５５０）＞１．００ （５）
また、より好ましくは、下記式（４−１）および（５−１）を満足する。
１．０５＞Ｒｅ１（５００）／Ｒｅ１（５５０）＞０．８５ （４−１）
１．１２＞Ｒｅ１（５８０）／Ｒｅ１（５５０）＞１．０２ （５−１）

第１の光学異方性層のリターデーションが上記の範囲から外れると、１／４波長板として使用する場合において、４００〜７００ｎｍの直線偏光入射した際、得られる偏光状態は特定の波長では完全な円偏光が得られるものの、それ以外の波長では大きく円偏光からずれてしまうことがある。

また、第１の光学異方性層が、二色性色素を含んでなる場合、その面内のリターデーション値をＲｅ１ａ（＝（ｎｘ１ａ−ｎｙ１ａ）×ｄ１）、
この第１の光学異方性層から二色性色素を除いた第１の光学異方性層の面内のリターデーション値をＲｅ１ｂ（＝（ｎｘ１ｂ−ｎｙ１ｂ）×ｄ１）とした場合に、下記式（６）満足するようなリターデーション特性を有することが好ましい。
Ｒｅ１ａ（５８０）／Ｒｅ１ａ（５５０）−Ｒｅ１ｂ（５８０）／Ｒｅ１ｂ（５５０）＞０（６）
本発明においては、二色性色素を含む第１の光学異方性層の所定波長でのリターデーション比を、二色性色素を含まない第１の光学異方性層の所定波長でのリターデーション比よりも大きくすることにより、最大主屈折率ｎｘおよび／または複屈折Δｎ＝（ｎｘ−ｎｙ）が「負の分散」特性を有するような第１の光学異方性層を実現できる。

第１の光学異方性層は、可視光領域の少なくとも一部の波長域において、最大主屈折率ｎｘおよび／または複屈折率Δｎが「負の分散」特性を有することが好ましい。

第１の光学異方性層は、その用途等によっては、膜厚だけでなく、特定の位相差値を有することが要求され得る。ここで、波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層の面内のリターデーション値としては、２０〜４５０ｎｍであることが好ましく、５０〜３００ｎｍであることがより好ましい。

［工程２：第１の光学異方性層と偏光子の貼合工程］
次いで、配向基板（Ａ）上に形成させた第１の光学異方性層と、偏光子とを貼り合わせる。

第１の光学異方性層と、偏光子との貼り合わせは、図５に示すように、第１の光学異方性層１０のホモジニアス配向方向Ａと、偏光子３０の吸収軸Ｂとの角度αが４０〜５０度となるように貼り合わせることが好ましい。偏光子３０との貼り合わせは、第１の光学異方性層１０のホモジニアス配向方向Ａと、偏光子３０の吸収軸Ｂとが４０〜５０度であることにより、所望の反射防止性能を発現することが出来る。

偏光子は、粘着剤または接着剤を介して、第１の光学異方性層に貼り合わせることができる。なお、本明細書において、「粘着剤」とは、固化せずに剥離抵抗力を発揮するものいい、「接着剤」とは固化して剥離抵抗力を発揮するものをいう。使用する粘着剤もしくは接着剤は光学的に等方性で透明なものであれば特に制限はなく、アクリル系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ウレタン系粘着剤等、一般に用いられているものを用いることができる。また、粘着層を介して互いに貼り合わせてもよい。粘着層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、フッ素系やゴム系粘着剤等をベース粘着剤とするものを適宜選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性等に優れるものが好ましく用いられる。

粘着層の形成は、適宜な方式で行うことができる。その例としては、例えば、トルエンや酢酸エチル等の適宜な溶媒の単独物又は混合物からなる溶媒にベース樹脂またはその組成物を溶解又は分散させた１０〜４０重量部程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で前記第１の光学異方性層上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着層を形成してそれを前記第１の光学異方性層上移着する方式等が挙げられる。また、粘着層には、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤、顔料、着色剤、酸化防止剤等の粘着層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着剤層等であってもよい。

なお、第１の光学異方性層と、偏光子とを粘着剤を介して貼り合わせる際には、第１の光学異方性層表面を処理して、偏光子との密着性を向上することができる。表面処理の手段は、特に制限されないが、第１の光学異方性層の透明性を維持できるコロナ放電処理、スパッタ処理、低圧ＵＶ照射、プラズマ処理等の表面処理法を好適に採用できる。これら表面処理法のなかでもコロナ放電処理が特に好適に採用できる。

粘着剤または接着剤の厚さは、貼着する部材を貼着しかつ十分な密着力を維持できる限り特に制限はなく、粘着剤または接着剤の特性や粘着・接着される部材により適宜選定することができる。画像表示装置の薄肉化に伴い、楕円偏光板の厚みを低減する必要性が高いことから、粘着層または接着層は薄いほうが好ましく、通常は２〜８０μｍが好ましく、さらに好ましくは３〜５０μｍ、特に５〜４０μｍが好ましい。この範囲外では、接着力が不足したり、積層時や積層体の保存時に端部から粘着剤が滲み出す等して好ましくない。

偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用でき、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム、リオトロピック液晶を含む配向フィルム等が挙げられる。これら偏光子は市販のものを使用することもできる。これらのなかでもポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸して二色性材料（ヨウ素、染料）を吸着・配向したものが好適に用いられる。偏光子の厚さは特に制限されないが、５〜８０μｍ程度が一般的である。

上記した偏光子は、片側または両側に保護フィルムを備えたものであってもよい。保護フィルムとしては、従来公知のものを使用することができるが、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性等の観点から、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂フィルムを好適に使用することができる。

［工程３：配向基板（Ａ）の剥離工程］
次いで、偏光子と貼り合わせた第１の光学異方性層から配向基板（Ａ）を剥離する。積層体の製造工程において、配向基板（Ａ）が光学的に等方でない、あるいは得られる第１の光学異方性層が不透明である、もしくは配向基板（Ａ）の膜厚が厚すぎて実際の使用に支障を生じる等の問題や、配向基板（Ａ）と第１の光学異方性層の密着力が乏しい場合、配向基板（Ａ）と第１の光学異方性層の層間で剥がれが発生する等の問題が生じる可能性がある。第１の光学異方性層から配向基板（Ａ）を剥離することによりこれらの問題を解消することができる。

［工程４：第２の光学異方性層形成工程］
配向基板（Ｂ）上に、第２の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、第２の液晶組成物をホメオトロピック配向させることにより、配向基板（Ｂ）上に第２の光学異方性層を形成させることができる。第２の液晶組成物は、重合性基を有している液晶化合物（重合性液晶化合物）を１種または２種以上含んでいることが好ましい。すなわち、重合性液晶化合物を重合させ、第２の液晶組成物のホメオトロピック配向を固定することが好ましい。第２の光学異方性層は、第２の液晶組成物を含む塗工液を配向基板（Ｂ）上に塗布し、第２の液晶組成物をホメオトロピック配向させた後、必要により光照射および／または加熱処理してから、冷却することにより当該配向状態を固定化することが好ましい。

配向状態を固定化する方法としては、第２の液晶組成物などの種類等に応じて、重合可能な公知の方法を適宜採用することができる。例えば、光照射および／または加熱処理してから、冷却することで硬化を行い固定化する。第２の液晶組成物を熱処理等の方法により、ホメオトロピック配向させた後、冷却してガラス状態として固定化するか、必要によりホメオトロピック配向状態を保ったまま第２の液晶組成物が含む重合性液晶化合物が有するオキセタニル基等の反応性基の重合反応により硬化させることにより固定価することができる。これにより、形成される第２の光学異方性層を、より強固なものとすることができる。

重合性液晶化合物が重合性のオキセタニル基を有する場合、その重合性基の重合（架橋）には、カチオン重合開始剤（カチオン発生剤）を用いることが好ましい。また、重合開始剤としては、熱カチオン発生剤より光カチオン発生剤を使用することが好ましい。光カチオン発生剤を用いた場合、光カチオン発生剤の添加後、液晶配向のための熱処理までの工程を暗条件（光カチオン発生剤が解離しない程度の光遮断条件）で行えば、液晶化合物は配向段階までは硬化することなく、充分な流動性をもって液晶配向することができる。この後、適当な波長の光を発する光源からの光を照射することによりカチオンを発生させ、硬化させ、第２の光学異方性層を得ることができる。

光照射の方法としては、用いる光カチオン発生剤の吸収波長領域にスペクトルを有するようなメタルハライドランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザー等の光源からの光を照射し、光カチオン発生剤を開裂させる。１平方センチメートルあたりの照射量としては、積算照射量として通常１〜２０００ｍＪ、好ましくは１０〜１０００ｍＪの範囲である。ただし、光カチオン発生剤の吸収領域と光源のスペクトルが著しく異なる場合や、第２の液晶組成物自身に光源からの光の吸収能がある場合等はこの限りではない。これらの場合には、適当な光増感剤や、吸収波長の異なる２種以上の光カチオン発生剤を混合して用いる等の方法を採ることもできる。光照射時の温度は、第２の液晶組成物がホメオトロピック配向をとる温度範囲である必要がある。また、硬化後充分な強度を確保するためには、第２の液晶組成物が含む液晶化合物のＴｇ以上の温度で光照射を行うのが好ましい。

以上のような工程により製造した第２の光学異方性層は、充分強固な膜となっている。具体的には、硬化反応によりメソゲンが３次元的に結合され、硬化前と比べて耐熱性（液晶配向保持の上限温度）が向上するのみでなく、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐クラック性等の機械的強度に関しても大幅に向上する。

重合性液晶化合物としては、配向基板（Ｂ）上において、第２の液晶組成物がホメオトロピック配向し、その配向を固定化しうる正の一軸性液晶化合物が好ましい。このような性質を有する化合物であれば、特に限定されず、低分子液晶化合物であっても、高分子液晶化合物であっても、これらの混合物からなる材料であってもよい。

前記の低分子液晶化合物としては、光や熱により反応する反応性基を有するものが好ましい。反応性基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、アジリジニル基等が好ましいが、他の反応性基、例えばイソシアナート基、水酸基、アミノ基、酸無水物基、カルボキシル基等も反応条件等によっては使用することができる。

前記の高分子液晶化合物には主鎖型液晶化合物と側鎖型液晶化合物とがあるがいずれも使用することができる。主鎖型液晶化合物としては、ポリエステル、ポリエステルイミド、ポリアミド、ポリカーボネート等が挙げられる。なかでも合成の容易さ、配向性、ガラス転移点等の面からポリエステルが好ましく、カチオン重合性基を有する主鎖型液晶性ポリエステルが特に好ましい。側鎖型液晶化合物としては、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリマロネート、ポリシロキサン等を挙げることができる。側鎖型液晶化合物としては前記の反応性基を側鎖に有するものが好ましい。

前記の主鎖型液晶ポリエステルは、芳香族ジオール単位（以下、構成単位（Ａ）という。）、芳香族ジカルボン酸単位（以下、構成単位（Ｂ）という。）および芳香族ヒドロキシカルボン酸単位（以下、構成単位（Ｃ）という。）のうち少なくとも２種を必須単位として含む主鎖型液晶ポリエステルであって、主鎖末端の少なくとも一方にカチオン重合性基を有する構成単位を含むことを特徴とする主鎖型液晶ポリエステルである。以下に、構成単位（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）について順次説明する。

構成単位（Ａ）を導入するための化合物としては下記一般式（ａ）で表される化合物が好ましく、具体的には、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等若しくはそれらの置換体、４，４’―ビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチル−４，４’−ビフェノール、２，６−ナフタレンジオール等が挙げられ、特に、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等若しくはそれらの置換体が好ましい。

ただし、式中の−Ｘは、−Ｈ、−ＣＨ_３、−Ｃ_２Ｈ_５、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）_２、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（ＣＨ_３）_３、−ＯＣＨ_３、−ＯＣ_２Ｈ_５、−ＯＣ_６Ｈ_５、−ＯＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_５、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＮＯ_２、または−ＣＮのいずれかの基であり、特に下記式（ａ’）で表される化合物が好ましい。

構成単位（Ｂ）を導入するための化合物としては下記一般式（ｂ）で表される化合物が好ましく、具体的には、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸等若しくはそれらの置換体、４，４’−スチルベンジカルボン酸若しくはその置換体、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸等が挙げられ、特に、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸等若しくはそれらの置換体が好ましい。

ただし、式中の−Ｘは、−Ｈ、−ＣＨ_３、−Ｃ_２Ｈ_５、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）_２、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（ＣＨ_３）_３、−ＯＣＨ_３、−ＯＣ_２Ｈ_５、−ＯＣ_６Ｈ_５、−ＯＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_５、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＮＯ_２、または−ＣＮのいずれかの基を表す。

構成単位（Ｃ）を導入するための化合物としては下記一般式（ｃ）で表される化合物が好ましく、具体的には、ヒドロキシ安息香酸若しくはその置換体、４’−ヒドロキシ−４−ビフェニルカルボン酸若しくはその置換体、４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸若しくはその置換体、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、４−ヒドロキシ桂皮酸等が挙げられ、特に、ヒドロキシ安息香酸およびその置換体、４’−ヒドロキシ−４−ビフェニルカルボン酸若しくはその置換体、４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸若しくはその置換体が好ましい。

ただし、式中の−Ｘ、−Ｘ１、−Ｘ２は、それぞれ個別に、−Ｈ、−ＣＨ_３、−Ｃ_２Ｈ_５、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）_２、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（ＣＨ_３）_３、−ＯＣＨ_３、−ＯＣ_２Ｈ_５、−ＯＣ_６Ｈ_５、−ＯＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_５、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＮＯ_２、または−ＣＮのいずれかの基を表す。

主鎖型液晶ポリエステルは、構成単位として、（Ａ）芳香族ジオール単位、（Ｂ）芳香族ジカルボン酸単位、および（Ｃ）芳香族ヒドロキシカルボン酸単位のうちから少なくとも２種と、好ましくはさらに主鎖末端の少なくとも一方にカチオン重合性基を有する構成単位（以下、構成単位（Ｄ）という。）を含み、サーモトロピック液晶性を示すものであればよく、他の構成単位はこれら条件を満足する限り特に限定されるものではない。

主鎖型液晶ポリエステルを構成する構成単位（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の全構成単位に占める割合は、構成単位（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）をジオールあるいはジカルボン酸あるいはヒドロキシカルボン酸として、全モノマーの仕込み量１００重量部に対して、通常２０〜９９重量部、好ましくは３０〜９５重量部、４０〜９０重量部の範囲が特に好ましい。２０重量部以上であれば、液晶性を発現する温度領域が極端に狭くなることを抑制することができ、また９９重量部以下であれば、カチオン重合性基を有する構成単位の割合が相対的に低下することなく、配向保持能、機械的強度を向上させることができる。

次にカチオン重合性基を有する構成単位（Ｄ）について説明する。カチオン重合性基としては、エポキシ基、オキセタニル基、およびビニルオキシ基からなる群から選ばれる官能基が好ましく、特にオキセタニル基が好ましい。構成単位（Ｄ）を導入するための化合物としては、下記の一般式（ｄ）に示すごとく、フェノール性水酸基あるいはカルボキシル基を有する芳香族化合物に、エポキシ基、オキセタニル基、およびビニルオキシ基から選ばれるカチオン重合性基が結合した化合物である。また、芳香環と上記カチオン重合性基の間には、スペーサが存在しても良い。

ただし、式中の−Ｘ、−Ｘ_１、−Ｘ_２、−Ｙ、−Ｚは、各構成単位毎にそれぞれ独立に以下に示すいずれかの基を表す。
（１）−Ｘ、−Ｘ_１、−Ｘ_２：−Ｈ、−ＣＨ_３、−Ｃ_２Ｈ_５、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）_２、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（ＣＨ_３）_３、−ＯＣＨ_３、−ＯＣ_２Ｈ_５、−ＯＣ_６Ｈ_５、−ＯＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_５、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＮＯ_２、または−ＣＮ
（２）−Ｙ：単結合、−（ＣＨ_２）_ｎ−、−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−、−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｎ−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−、−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−ＣＯ−、−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−ＣＯ−、または−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯ−Ｏ−（ただし、ｎは１〜１２の整数を示す。）
（３）Ｚ：

構成単位（Ｄ）の中では、カチオン重合性基もしくはカチオン重合性基を含む置換基と、フェノール性水酸基あるいはカルボン酸基の結合位置は、これらの官能基が結合する骨格がベンゼン環の場合は１，４−の位置関係を、ナフタレン環の場合は２，６−の位置関係を、ビフェニル骨格、スチルベン骨格の場合は４，４’−の位置関係にあるものが液晶性の点から好ましい。より具体的には、４−ビニルオキシ安息香酸、４−ビニルオキシフェノール、４−ビニルオキシエトキシ安息香酸、４−ビニルオキシエトキシフェノール、４−グリシジルオキシ安息香酸、４−グリシジルオキシフェノール、４−（オキセタニルメトキシ）安息香酸、４−（オキセタニルメトキシ）フェノール、４’−ビニルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸、４’−ビニルオキシ−４−ヒドロキシビフェニル、４’−ビニルオキシエトキシ−４−ビフェニルカルボン酸、４’−ビニルオキシエトキシ−４−ヒドロキシビフェニル、４’−グリシジルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸、４’−グリシジルオキシ−４−ヒドロキシビフェニル、４’−オキセタニルメトキシ−４−ビフェニルカルボン酸、４’−オキセタニルメトキシ−４−ヒドロキシビフェニル、６−ビニルオキシ−２−ナフタレンカルボン酸、６−ビニルオキシ−２−ヒドロキシナフタレン、６−ビニルオキシエトキシ−２−ナフタレンカルボン酸、６−ビニルオキシエトキシ−２−ヒドロキシナフタレン、６−グリシジルオキシ−２−ナフタレンカルボン酸、６−グリシジルオキシ−２−ヒドロキシナフタレン、６−オキセタニルメトキシ−２−ナフタレンカルボン酸、６−オキセタニルメトキシ−２−ヒドロキシナフタレン、４−ビニルオキシ桂皮酸、４−ビニルオキシエトキシ桂皮酸、４−グリシジルオキシ桂皮酸、４−オキセタニルメトキシ桂皮酸、４’−ビニルオキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ビニルオキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ビニルオキシ−４−ヒドロキシスチルベン、４’−ビニルオキシエトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ビニルオキシエトキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ビニルオキシエトキシ−４−ヒドロキシスチルベン、４’−グリシジルオキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−グリシジルオキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−グリシジルオキシ−４−ヒドロキシスチルベン、４’−オキセタニルメトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−オキセタニルメトキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−オキセタニルメトキシ−４−ヒドロキシスチルベン等が好ましい。

（Ａ）〜（Ｄ）の各構成単位は、それぞれ１つまたは２つのカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基を有しているが、（Ａ）〜（Ｄ）の有するカルボキシル基、フェノール性水酸基は、仕込みの段階においてそれぞれの官能基の当量数の総和を概ねそろえることが望ましい。すなわち、構成単位（Ｄ）が遊離のカルボキシル基を有する単位である場合には、（（Ａ）のモル数×２）＝（（Ｂ）のモル数×２）＋（（Ｄ）のモル数）、構成単位（Ｄ）が遊離のフェノール性水酸基を有する単位である場合には、（（Ａ）のモル数×２）＋（（Ｄ）のモル数）＝（（Ｂ）のモル数×２）なる関係を概ね満たすことが望ましい。この関係式を満たすことにより、カチオン重合に関わる構成単位以外のカルボン酸あるいはフェノール、もしくはそれらの誘導体が分子末端となり、十分なカチオン重合性を得ることができ、また、酸性の官能基が残存することを防止できるため、望まない工程での重合反応や分解反応を防止できる。

主鎖型液晶ポリエステルは、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）以外の構成単位を含有することができる。含有することができる他の構成単位としては、特に限定はなく当該分野で公知の化合物（モノマー）を使用することができる。例えば、ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸およびこれら化合物にハロゲン基やアルキル基を導入した化合物や、ビフェノール、ナフタレンジオール、脂肪族ジオールおよびこれら化合物にハロゲン基やアルキル基を導入した化合物等を挙げることができる。

主鎖型液晶ポリエステルの分子量は、フェノール／テトラクロロエタン混合溶媒（重量比６０／４０）中、３０℃で測定した対数粘度ηが０．０３〜０．５０ｄｌ／ｇであることが好ましく、より好ましくは０．０５〜０．１５ｄｌ／ｇである。ηが０．０３ｄｌ／ｇより大きい場合、主鎖型液晶ポリエステルの溶液粘度を保つことができ、均一な塗膜を得ることができる。また、０．５０ｄｌ／ｇより小さい場合、液晶配向時に要する配向処理温度を低温に抑えられるため、配向と架橋反応の同時発生抑制し、高い配向性を維持できる。

本発明において、主鎖型液晶ポリエステルの分子量は専ら仕込み組成により決定される。具体的には分子両末端を封印する形で反応する１官能性モノマー、すなわち前記した構成単位（Ｄ）を導入するための化合物の、全仕込み組成における相対的な含有量により、得られる主鎖型液晶ポリエステルの平均的な重合度（構成単位（Ａ）〜（Ｄ）の平均結合数）が決定される。したがって、所望の対数粘度を有する主鎖型液晶性ポリエステルを得るためには、仕込みモノマーの種類に応じて仕込み組成を調整する必要がある。

このようにして得られた主鎖型液晶ポリエステルは、ＮＭＲ（核磁気共鳴法）等の分析手段により、それぞれのモノマーがどのような比率で主鎖型液晶ポリエステル中に存在するかを同定することができる。特に、カチオン重合性基の量比から、主鎖型液晶ポリエステルの平均結合数を算出する事ができる。

前記カチオン重合性基を含む主鎖型液晶ポリエステルに他の化合物を配合することも、本発明の範囲を超えない限り可能である。例えば、本発明に用いる主鎖型液晶ポリエステルと混和しうる他の高分子化合物や各種低分子化合物等を添加しても良い。かかる低分子化合物は、液晶性を有していても有していなくとも良く、架橋性の主鎖型液晶ポリエステルと反応できる重合性基を有していてもいなくとも良い。しかしながら、重合性基を有する液晶化合物を用いることが好ましい。重合性基を有する主鎖型液晶としては、例えば以下のものを例示できる。

ここで、ｎは２〜１２の整数を、また−Ｖ−および−Ｗはそれぞれ以下のいずれかの基を表す。
−Ｖ−： 単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ_ｍＨ_２ｍ−Ｏ−（ただし、ｍは２〜１２の整数）
−Ｗ：

側鎖型液晶化合物としては、前述のようにポリ（メタ）アクリレート、ポリマロネート、ポリシロキサン等が挙げられるが、中でも下記一般式（１）で表される反応性基を結合したポリ（メタ）アクリレートが好ましい。

式（１）において、Ｒ^３は、それぞれ独立に、水素またはメチル基を表し、Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シアノ基、ブロモ基、クロロ基、フルオロ基またはカルボキシル基を表し、Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｒ^６は、炭素数１から２４までの炭化水素基を表し、Ｌ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、ｐは、１から１０までの整数を表し、ｑは、０から１０までの整数を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、ポリマー中の各ユニットのモル比（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝１．０、ただし、ｃ＋ｄ＋ｅ＝０ではない）を表す。

式（１）で表される側鎖型高分子液晶化合物を構成する各成分のモル比は、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝１．０、ｃ＋ｄ＋ｅ＝０ではなく、かつ、液晶性を示すことが必要である。この要件を満たせば各成分のモル比は任意でよいが、以下のとおりであることが好ましい。
ａ：好ましくは０〜０．８０、より好ましくは０．０５〜０．５０
ｂ：好ましくは０〜０．９０、より好ましくは０．１０〜０．７０
ｃ：好ましくは０〜０．５０、より好ましくは０．１０〜０．３０
ｄ：好ましくは０〜０．５０、より好ましくは０．１０〜０．３０
ｅ：好ましくは０〜０．５０、より好ましくは０．１０〜０．３０
ｆ：好ましくは０〜０．３０、より好ましくは０．０１〜０．１０

これらのポリ（メタ）アクリレート中の各成分は、上記の条件を満たせば、６種類の成分すべてが存在する必要はない。また、ａ〜ｆの各成分は、それぞれ複数の構造からなっていてもよい。
また、Ｒ^４は、好ましくは、水素、メチル基、ブチル基、メトキシ基、シアノ基、ブロモ基、フルオロ基であり、特に好ましくは、水素、メトキシ基またはシアノ基であり、Ｌ^２は、好ましくは、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−であり、Ｒ^６は、好ましくは、炭素数２、３、４、６、８および１８の炭化水素基を表す。
さらに、一般式（１）で表される側鎖型高分子液晶化合物は、各成分ａ〜ｆのモル比や配向形態により複屈折が変化するが、ネマチック配向をとった場合の複屈折は０．００１〜０．３００であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜０．２５である。

上記の側鎖型液晶化合物は、各成分に該当する上記方法で得られたそれぞれの（メタ）アクリル化合物の（メタ）アクリル基をラジカル重合またはアニオン重合により共重合することにより容易に合成することができる。重合条件は特に限定されるものではなく、通常の条件を採用することができる。

ラジカル重合の例としては、各成分に該当する（メタ）アクリル化合物をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の溶媒に溶かし、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）や過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）等を開始剤として、６０〜１２０℃で数時間反応させる方法が挙げられる。また、液晶相を安定に出現させるために、臭化銅（Ｉ）／２，２’−ビピリジル系や２，２，６，６−テトラメチルピペリジノオキシ・フリーラジカル（ＴＥＭＰＯ）系等を開始剤としたリビングラジカル重合を行い、分子量分布を制御する方法も有効である。これらのラジカル重合は脱酸素条件下に行う必要がある。

アニオン重合の例としては、各成分に該当する（メタ）アクリル化合物をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の溶媒に溶かし、有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合物、グリニャール試薬等の強塩基を開始剤として反応させる方法が挙げられる。また、開始剤や反応温度を最適化することでリビングアニオン重合とし、分子量分布を制御することもできる。これらのアニオン重合は、脱水かつ脱酸素条件で行う必要がある。

側鎖型液晶化合物は、重量平均分子量が１，０００〜２００，０００であるものが好ましく、３，０００〜５０，０００のものが特に好ましい。上記数値範囲内であれば、十分な強度を有し、、良好な配向性を実現できる。

第２の液晶組成物は、前記側鎖型液晶化合物の他に、液晶性を損なわずに混和し得る種々の化合物を含んでいてもよい。例えば、オキセタニル基、エポキシ基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性官能基を有する化合物、フィルム形成能を有する各種の高分子化合物、液晶性を示す各種の低分子液晶化合物や高分子液晶化合物等が挙げられる。

側鎖型液晶化合物の含有量は、第２の液晶組成物１００重量部に対し、１０重量部以上、好ましくは３０重量部以上、さらに好ましくは５０重量部以上である。側鎖型液晶化合物の含有量が１０重量部以上であることにより、フィルム化が容易となり、組成物中に占める重合性基濃度が好ましい範囲に保たれ、重合後の機械的強度が十分なものとなる。

また、第２の液晶組成物は、前記側鎖型液晶化合物に下記一般式（２）で表されるジオキセタン化合物を配合することが好ましい。

式（２）において、Ｒ^７は、それぞれ独立に、水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｌ^３は、それぞれ独立に、単結合または−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは１〜１２の整数）を表し、Ｘ^１は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｍ^１は、式（３）または式（４）で表されるいずれかであり、式（３）および式（４）中のＰ１は、それぞれ独立に式（５）から選ばれる基を表し、Ｐ２は式（６）から選ばれる基を表し、Ｌ^４は、それぞれ独立に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。
−Ｐ１−Ｌ^４−Ｐ２−Ｌ^４−Ｐ１− （３）
−Ｐ１−Ｌ^４−Ｐ１− （４）

式（５）および式（６）において、Ｅｔはエチル基を、ｉ-Ｐｒはイソプロピル基を、ｎ-Ｂｕはノルマルブチル基を、ｔ-Ｂｕはターシャリーブチル基をそれぞれ表す。
より具体的には、Ｍ^１基から見て左右のオキセタニル基を結合している連結基は異なっても（非対称型）同一でも（対称型）よく、特に２つのＬ^３が異なる場合や他の連結基の構造によっては液晶性を示さないこともあるが、使用には制約とならない。
一般式（２）で表される化合物は、Ｍ^１、Ｌ^３およびＸ^１の組み合わせから多くの化合物を例示することができるが、好ましくは、下記の化合物を挙げることができる。

また前記液晶化合物は配向処理された後、オキセタニル基をカチオン重合させて架橋することにより、当該液晶状態を固定化することが好ましい。このため、第２の液晶組成物を含む塗工液に、光や熱等の外部刺激でカチオンを発生する光カチオン発生剤および／または熱カチオン発生剤を含有させておくことが好ましい。また、必要によっては各種増感剤を併用してもよい。

光カチオン発生剤とは、適当な波長の光を照射することによりカチオンを発生できる化合物を意味し、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示することが出来る。これら化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェート、ボレート等が好ましく用いられる。具体的な化合物としては、Ａｒ_３Ｓ＋ＳｂＦ_６−、Ａｒ_３Ｐ＋ＢＦ_４−、Ａｒ_２Ｉ＋ＰＦ_６−（ただし、Ａｒはフェニル基または置換フェニル基を示す。）等が挙げられる。また、スルホン酸エステル類、トリアジン類、ジアゾメタン類、β−ケトスルホン、イミノスルホナート、ベンゾインスルホナート等も用いることができる。

熱カチオン発生剤とは、適当な温度に加熱されることによりカチオンを発生できる化合物であり、例えば、ベンジルスルホニウム塩類、ベンジルアンモニウム塩類、ベンジルピリジニウム塩類、ベンジルホスホニウム塩類、ヒドラジニウム塩類、カルボン酸エステル類、スルホン酸エステル類、アミンイミド類、五塩化アンチモン−塩化アセチル錯体、ジアリールヨードニウム塩−ジベンジルオキシ銅、ハロゲン化ホウ素−三級アミン付加物等を挙げることができる。

これらのカチオン発生剤の第２の液晶組成物を含む塗工液中の添加量は、用いる側鎖型高分子液晶化合物を構成するメソゲン部分やスペーサ部分の構造や、オキセタニル基当量、液晶の配向条件等により異なるため一概には言えないが、第２の液晶組成物１００重量部に対し、通常０．０１〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部、より好ましくは０．２〜７重量部の範囲である。０．１重量部以上であれば、発生する重合反応を十分進行することができ、また２０重量部以下であれば、光学異方性層中のカチオン発生剤の分解残存物等を低減することができ、耐光性等の各種物性が悪化するのを抑制することができる。

また、第２の液晶組成物を含む塗工液は、塗布性を考慮して適宜溶媒が含まれていてもよい。溶媒としては、第２の液晶組成物を溶解でき、適当な条件で留去できる溶媒であれば特に制限はなく、一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール等のエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチル等のエステル類、フェノール、クロロフェノール等のフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼン等のハロゲン系等やこれらの混合系が好ましく用いられる。また、配向基板（Ｂ）上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、着色剤等を、第２の液晶組成物を含む塗工液に添加してもよい。

上記した第２の液晶組成物を含む塗工液を溶融状態で、配向基板（Ｂ）上に塗布することにより塗膜を形成する。配向基板（Ｂ）としては、配向基板（Ａ）と同一のものであっても、異なるものであってもよく、平滑な平面を有するものが好ましく、有機高分子からなるフィルムやシート、ガラス板、金属板等を挙げることができる。コストや連続生産性の観点からは有機高分子を用いることが好ましい。有機高分子の例としては、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、シクロオレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂等が挙げられる。これらは２種以上の樹脂を混合した混合物であってもよい。また、アクリル系やエポキシ系、オキセタン系等の光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂光または熱で硬化させたフィルムを用いることもできる。

これら配向基板（Ｂ）には安定したホメオトロピック配向および配向基板（Ｂ）の耐溶剤性向上を実現し、密着性をコントロールする等の観点から、必要に応じてさらに配向膜を設けてもよい。配向膜を形成させる材料としては、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂等の透明樹脂が挙げられる。これらは前記２種以上の樹脂を混合した混合物であってもよい。また、アクリル系やエポキシ系、オキセタン系等の光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を光または熱で硬化させた硬化膜も使用することができる。これら配向膜を形成する手法としては、直接あるいは溶液化して塗布する方法、蒸着やスパッタリング、配向基板との共押出等を利用することができる。また、無機系物質の層を配向基板（Ｂ）上に蒸着、スパッタリング、塗布等の方法で形成してもよい。無機系物質の例としては、アルミニウム、銀等の無機金属や、シリカ、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の無機化合物が挙げられる。

次に、第２の液晶組成物を含む塗工液を配向基板（Ｂ）へ塗布する方法について説明する。液晶組成物を直接塗布する方法でも、溶液を塗布する方法でも、塗布方法については、塗膜の均一性が確保される方法であれば、特に限定されることはなく公知の方法を採用することができる。例えば、スピンコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディップコート法、ロールコート法等が挙げられる。液晶組成物の溶液を塗布する方法では、塗布後に溶媒を除去するための乾燥工程を入れることが好ましい。この乾燥工程は、塗膜の均一性が維持される方法であれば、特に限定されることなく公知の方法を採用することができる。例えば、ヒーター（炉）、温風吹きつけ等の方法が挙げられる。

続いて、配向基板（Ｂ）上において、熱処理等の方法により、第２の液晶組成物をホメオトロピック配向させる。この熱処理では、使用した第２の液晶組成物中の液晶化合物の液晶相発現温度範囲に加熱することで、該液晶化合物が本来有する自己配向能により液晶を配向させることができる。熱処理の条件としては、用いる液晶化合物の液晶相挙動温度（転移温度）により最適条件や限界値が異なるため一概には言えないが、通常１０〜２５０℃、好ましくは３０〜１６０℃の範囲であり、該液晶化合物にガラス転移温度が存在する場合には、ガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度、さらに好ましくはＴｇより１０℃以上高い温度で熱処理するのが好ましい。Ｔｇが上記数値範囲内であれば、液晶配向を充分に進行させることができ、第２の液晶組成物中のカチオン重合性反応基や配向基板に悪影響を与えるのを抑制することが得きる。また、熱処理時間については、通常３秒〜３０分、好ましくは１０秒〜２０分の範囲である。３秒以上の熱処理時間であれば、液晶配向は充分に完成し、また３０分以下の熱処理時間であれば、良好な生産性を維持することができる。

第２の光学異方性層の厚みは、液晶画像表示装置の方式や種々の光学パラメーターに依存することから一概には言えないが、通常０．１〜１００μｍ、好ましくは０．３〜５０μｍ、さらに好ましくは０．５〜２０μｍである。第２の光学異方性層の厚みが上記数値範囲内であれば、所望の位相差を発現することが容易となり、また、有機ＥＬ素子の薄膜化が可能である。

以上のようにして得られるホメオトロピック配向した第２の光学異方性層層は、当該光学異方性層の光学位相差を垂直入射から傾けた角度で測定することによって配向性を評価することができる。液晶がホメオトロピック配向している場合、この位相差値は垂直入射について対称である。
光学位相差の測定には数種の方法を利用することができ、例えば王子計測機器（株）製自動複屈折測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲやＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製ＡｘｏＳｃａｎ、および偏光顕微鏡を利用することができる。

上記のようにして得られた第２の光学異方性層は、ｎｚ２＞ｎｘ２≧ｎｙ２の屈折率特性を有することが好ましい。
（ここで、ｎｘ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。）

また、第２の光学異方性層は、下記式（７）および（８）を満足するようなリターデーション特性を有することが好ましい。
２０ｎｍ≧Ｒｅ２（５５０）≧０ｎｍ （７）
−３０ｎｍ≧Ｒｔｈ２（５５０）≧−５００ｎｍ （８）
この範囲を外れた場合、積層体の視野角特性を改善する効果が低下し、また、フィルムの製造が困難となる傾向にあるため望ましくない。

より好ましくは、第２の光学異方性層は、下記式（９）を満足するようなリターデーション特性を有する。
−４５ｎｍ≧Ｒｔｈ２≧−４００ｎｍ （９）
さらに好ましくは、下記式（１０）を満足するようなリターデーション特性を有する。
−４０ｎｍ≧Ｒｔｈ２≧−３００ｎｍ （１０）

また、より好ましくは、第２の光学異方性層は、下記式（１１）を満足するようなリターデーション特性を有する。
１０ｎｍ≧Ｒｅ２≧０ｎｍ （１１）
さらに好ましくは、下記式（１２）を満足するようなリターデーション特性を有する。
５ｎｍ≧Ｒｅ２≧０ｎｍ （１２）

さらに、第２の光学異方性層の厚さ方向リタ−デーション値Ｒｔｈ２（＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ）は、第１の光学異方性層の厚さ方向リターデーション値Ｒｔｈ１（＝｛（ｎｘ１ａ＋ｎｙ１ａ）／２−ｎｚ１ａ｝×ｄ１）との関係において、下記式（１３）を満足することが好ましい。
４０ｎｍ≧Ｒｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）≧−４０ｎｍ （１３）
積層体が、上記リタデーション特性を満たす場合、積層体の視野角特性を顕著に向上させることができる。

［工程５：第１の光学異方性層と、第２の光学異方性層の貼合］
次いで、偏光子と貼り合わせた第１の光学異方性層の配向基板（Ａ）を剥離した面に、第２の光学異方性層を貼り合わせる。第２の光学異方性層は、上記した粘着剤または接着剤を介して、第１の光学異方性層に貼り合わせることができる。ここで用いられる粘着剤または接着剤は、第１の光学異方性層と、偏光子との貼り合わせに用いられたものと同一のものであっても異なるものであってもよい。

［工程６：配向基板（Ｂ）の剥離］
次いで、第１の光学異方性層と貼り合わせた第２の光学異方性層から配向基板（Ｂ）を剥離する。第１の光学異方性層と、第２の光学異方性層とを貼り合わせた後に、第２の光学異方性層から配向基板（Ｂ）を剥離することにより、配向基板（Ｂ）を有さない積層体を製造することができる。本発明においては、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層とを粘着剤または接着剤を介して貼り合わせた場合は、粘着剤または接着剤の硬化処理を施した後に配向基板（Ｂ）を剥離することが好ましい。

配向基板（Ｂ）を第２の光学異方性層から剥離すると、第２の光学異方性層が露出することになる。そのため、露出した第２の光学異方性層を透明保護層で被覆してもよい。透明保護層としては、ポリエステルやトリアセチルセルロース等の透明樹脂フィルムアクリル系やエポキシ系等の光硬化型樹脂等を用いることができる。

上記方法により製造される積層体１００を、図２を参照しながら説明する。積層体１００は、少なくとも第１の光学異方性層１０と、第２の光学異方性層４０と、偏光子３０と、を備える。偏光子３０を透過した直線偏光は、第１の光学異方性層１０によって円偏光に変換される。第１の光学異方性層１０を出射した光（円偏光）は、第２の光学異方性層４０に入射するが、第２の光学異方性層４０は、正面位相差が非常に小さいため、円偏光の状態にはほとんど影響を与えない。第２の光学異方性層４０を透過した光は、後記するように有機ＥＬ素子の陰極で鏡面反射され、位相が１８０度反転して、再び第２の光学異方性層４０に入射するが、偏光状態はほとんど変化しない。。第２の光学異方性層４０を透過した光は、第１の光学異方性層１０に入射するが、第１の光学異方性層１０によって偏光子３０の透過軸と直交する直線偏光に変換されるため、偏光子３０で吸収される。

一方、斜め方向から入射した外光は、第１の光学異方性層１０を通過する際の光路長が長くなるため、第２の光学異方性層４０が存在しない場合には、第１の光学異方性層１０のみでは１／４波長板として機能せず、楕円偏光となり、反射光は偏光子３０を通過する際に一部透過して、観察者に視認される。すなわち、第２の光学異方性層４０のない従来の偏光板では、斜め方向からの外光の反射防止効果が、正面方向と比べて大幅に低下する問題があった。しかしながら、本発明の積層体では、第１の光学異方性層１０に加えて第２の光学異方性層４０を有するため、斜め方向からの光に対してもほぼ１／４波長板として機能することが可能となり、正面だけではなく、斜め方向からの光に対しても外光反射を防止することが可能となる。このため、本発明による積層体を備えた画像表示装置は、薄型化が可能で視野角依存性が少なく、斜め方向においても高コントラストな表示が可能となる。

一実施形態において、積層体は、偏光子側にＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム等の保護フィルムを備えていてもよい（図示せず）。さらに、本発明の積層体は、必要に応じて光拡散層、光制御フィルム、導光板、プリズムシート等の部材を備えていてもよい。

本発明の積層体の総厚みは、有機ＥＬ素子等として使用できる範囲ならば特に制限はないが、４０〜５００μｍが好ましく、より好ましくは５０〜２００μｍ、さらに好ましくは６０〜１５０μｍである。

＜画像表示装置＞
一実施形態における画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。図６は、画像表示装置の概略構成を示す断面模式図である。図６に示すように、画像表示装置２００は、上記した積層体１００と、透明基板９０と、陽極９１と、発光層９２と、陰極９３と、を少なくとも備えてなる。このような構成を有する画像表示装置２００において、陰極９３からは電子が、陽極９１からは正孔が注入され、両者が発光層９２で再結合することにより、発光層９２の発光特性に応じた波長で発光する。発光層９２で生じた光は、直接または陰極９３で反射した後、陽極９１、透明基板９０、積層体１００を通過して外部に出射する。

太陽光や室内照明等により画像表示装置２００の外部から素子面に対して垂直に入射した外光は、偏光子３０により少なくとも半分が吸収され、残りが直線偏光として透過し、第１の光学異方性層１０に入射する。第１の光学異方性層１０は、１／４波長板として機能するため、第１の光学異方性層１０を通過する際に円偏光に変換される。第１の光学異方性層１０を出射した光は、第２の光学異方性層４０に入射するが、第２の光学異方性層４０は、正面位相差が非常に小さいため、円偏光の状態にはほとんど影響を与えない。第２の光学異方性層４０を通過した円偏光は、透明基板９０、陽極９１、発光層９２を通過し、陰極９３で鏡面反射するが、反射する際に位相が１８０度反転するため、入射時とは逆の円偏光として反射される。この逆回りの円偏光は、偏光状態を変化することなく発光層９２、陽極９１、透明基板９０、第２の光学異方性層４０を通過し、第１の光学異方性層１０に入射するが、第１の光学異方性層１０によって偏光子３０の透過軸と直交する直線偏光に変換されるため、偏光子３０で吸収され、外部に出射されない。

一方、斜め方向から入射した外光は、第１の光学異方性層１０を通過する際の光路長が長くなるため、第２の光学異方性層４０が存在しない場合には、第１の光学異方性層１０のみでは１／４波長板として機能せず、楕円偏光となり、反射光は偏光子３０を通過する際に一部透過して、観察者に視認される。すなわち、第２の光学異方性層４０のない従来の円偏光板では、斜め方向からの外光の反射防止効果が、正面方向と比べて大幅に低下する問題があった。しかしながら、本発明の積層体では、第１の光学異方性層１０に加えて第２の光学異方性層４０を有するため、斜め方向からの光に対してもほぼ１／４波長板として機能することが可能となり、正面だけではなく、斜め方向からの光に対しても外光反射を防止することが可能となる。

画像表示装置は、前記した構成部材以外にも他の構成部材を付設することができる。例えば、カラーフィルターを付設することにより、色純度の高いマルチカラーまたはフルカラー表示を行うことができる画像表示装置を作製することができる。

本発明による画像表示装置は、必要に応じて光拡散層、光制御フィルム、導光板、プリズムシート等の部材（いずれも図示せず）を備えていてもよい。

以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

なお、実施例で用いた各分析方法は以下の通りである。
（１）分子量
化合物をテトラヒドロフランに溶解し、東ソー社製８０２０ＧＰＣシステムにて測定した。カラムはＴＳＫ−ＧＥＬ ＳｕｐｅｒＨ１０００、ＳｕｐｅｒＨ２０００、ＳｕｐｅｒＨ３０００、ＳｕｐｅｒＨ４０００を直列につなぎ、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて測定した。重量平均分子量の較正にはポリスチレンを標準物質として用いた。
（２）液晶組成物の熱挙動、ガラス転移温度（Ｔｇ）、相転移温度
液晶組成物の相挙動はメトラー社製ホットステージＦＰ８２ＨＴ上で、試料を加熱しつつ、オリンパス社製ＢＨ２偏光顕微鏡で観察した。ガラス転移温度（Ｔｇ）、相転移温度は、Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ社製示差走査熱量計ＤＳＣ８０００を用いて、昇降温速度２０℃／分で測定した。
（３）液晶組成物の配向状態
オリンパス光学社製ＢＨ２偏光顕微鏡にて確認した。
（４）膜厚
ＳＬＯＡＮ社製ＳＵＲＦＡＣＥ ＴＥＸＴＵＲＥ ＡＮＡＬＹＳＩＳ ＳＹＳＴＥＭ Ｄｅｋｔａｋ ３０３０ＳＴ、もしくはニコン社製ＤＩＧＩＭＩＣＲＯ ＭＦＣ−１０１を用いた。また、干渉波測定（日本分光（株）製 紫外・可視・近赤外分光光度計Ｖ−５７０）と屈折率のデータから膜厚を求める方法も併用した。
（５）複屈折、面内リターデーション値Ｒｅおよび膜厚方向のリターデーション値Ｒｔｈ、
複屈折、面内リターデーション値Ｒｅおよび膜厚方向のリターデーション値Ｒｔｈは、王子計測機器（株）製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製ＡｘｏＳｃａｎを用いて測定した。
（６）二色性色素の吸収スペクトル、透過率
日本分光（株）製分光スペクトル（Ｖ−５７０）を用いて測定した。

〈第１の液晶組成物（Ａ）と二色性色素と、を含む塗工液の調製〉
下記式で表される示される棒状液晶化合物（２１）と二種類以上のメソゲン基を有する化合物（２２）をそれぞれ準備した。なお、棒状液晶化合物（２１）と化合物（２２）は、特開２００２−２６７８３８号公報に記載された方法により製造した。

前記棒状液晶化合物（２１）１７．６重量％、及び二種類以上のメソゲン基を有する化合物（２２）２．０重量％を混合し、第１の混合物（第１の液晶組成物（Ａ）とする）を得た。次いで、第１の液晶組成物（Ａ）に対して、二色性色素（長瀬産業製トリスアゾ色素、商品名：Ｇ−２４１、極大吸収波長５６０ｎｍ）を総量１００重量部に対して０．０８重量部添加し、更に、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュア６５１）を、第１の液晶組成物（Ａ）と二色性色素の総量１００重量部に対して３．０重量部添加して、第１の液晶組成物（Ａ）、二色性色素および重合開始剤とを混合してなる第２の混合物（固体）を得た。

次いで、上記のようにして得られた第２の混合物を、メチルエチルケトン（溶媒）中に溶解させて、孔径０．４５μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで不溶分をろ過して、第１の液晶組成物（Ａ）と二色性色素と、を含む塗工液を得た。なお、第１の液晶組成物（Ａ）と二色性色素と、を含む塗工液の調製に際しては、前記塗工液中の溶媒の含有量が８０重量部となり、第１の液晶組成物（Ａ）、二色性色素および重合開始剤の総量が２０重量部となるように調製した

〈第２の液晶組成物（Ｂ）を含む塗工液（Ｂ）の調製〉
特開２００４−３１５７３６号公報、特開２００７−２７７４６２号公報を参考にして、ラジカル重合により、下記式（７）で表される側鎖型液晶化合物を合成した。得られた側鎖型液晶化合物の数平均分子量Ｍｎは８，９００、重量平均分子量Ｍｗは１９，６００であった。なお、式（７）における数字は各ユニットのモル組成比を表すものであって、ブロック共重合体を意味するものではない。ＤＳＣ測定の結果、昇温時のＴｇは５９℃で、それ以上の温度ではネマチック液晶相を示し、１７５℃以上で等方相を示した。
式（７）で表される側鎖型液晶化合物を０．９ｇと、式（８）で表されるジオキセタン化合物を０．０５ｇ、式（９）で表されるアクリル化合物０．０５ｇを、９ｇのシクロヘキサノンに溶解し、暗所でカチオン系光開始剤トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネートの５０％プロピレンカーボネート溶液（アルドリッチ社製、試薬）０．１ｇ（式（７）、式（８）、式（９）の化合物３種からなる混合物の総重量に対して濃度５重量％）、界面活性剤としてパーフルオロアルキル基含有界面活性剤を０．００２ｇ（式（７）、式（８）、式（９）の化合物３種からなる液晶材料の総重量に対して濃度０．２重量％）を加えた後、孔径０．５μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルター（アドバンテック東洋（株）製、品名２５ＪＰ０５０ＡＮ）でろ過して第２の液晶組成物（Ｂ）を含む塗工液（Ｂ）を調製した。なお、式（８）のジオキセタン化合物は、偏光顕微鏡観察及びＤＳＣ測定の結果、昇温時は７４℃で結晶相からネマチック液晶相に転移し、９６℃で等方相となり、降温時は８８℃で等方相からネマチック相に転移した後、５４℃で結晶相を示した。また、式（９）のアクリル化合物は、偏光顕微鏡観察及びＤＳＣ測定の結果、液晶相を示さず、昇温時３０℃で融解した。第２の液晶組成物（Ｂ）の一部をガラス基板上にスピンコート法により塗布し、５５℃のホットプレートで６０分加熱して溶媒を除去した。本組成物をガラス基板上からかき取り、熱挙動の確認を偏光顕微鏡観察およびＤＳＣ測定にて行ったところ、昇温時のＴｇは５０℃で、１５５℃まで液晶相を示し、それ以上の温度で等方相を示した。

〈第２の液晶組成物（Ｃ）を含む塗工液（Ｃ）の調製〉
先ず、下記式（１１０）〜（１１３）で表わされる第２の液晶化合物（Ｃ）（アクリレート系の重合性液晶化合物）をそれぞれ準備した。
なお、上記一般式（１１０）〜（１１３）で表わされる各重合性液晶化合物は、それぞれ公知の方法で製造した。具体的には、上記一般式（１１０）で表わされる化合物（以下、場合により単に「液晶化合物（Ｉ）」という。）は、英国特許出願公開第２，２８０，４４５号明細書に記載された方法により製造し、上記一般式（１１１）で表わされる化合物（以下、場合により単に「液晶化合物（ＩＩ）」という。）は１９８９年に発行された文献（Ｄ．Ｊ．Ｂｒｏｅｒ ｅｔ ａｌ．，“Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．”，ｖｏｌ．１９０，１９８９年，第３２０１頁〜第３２１５頁）に記載された方法により製造し、上記一般式（１１２）で表わされる化合物（以下、場合により単に「液晶化合物（ＩＩＩ）」という。）及び（１１３）で表わされる化合物（以下、場合により単に「液晶化合物（ＩＶ）」という。）は、国際公開９３／２２３９７号に記載された方法により製造した。また、上記一般式（１１０）〜（１１３）で表わされる重合性液晶化合物はいずれも、室温（２５℃）条件下において固体であった。

次に、前記液晶化合物（Ｉ）〜（ＩＶ）を、液晶化合物（Ｉ）：３５重量部、液晶化合物（ＩＩ）：２３重量部、液晶化合物（ＩＩＩ）：２３重量部、及び、液晶化合物（ＩＶ）：１９重量部の割合で混合し、第２の液晶組成物（Ｃ）を得た。次いで、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア９０７」）を、第２の液晶組成物（Ｃ）に対して４．０重量部となる割合で添加したの後、ジクロロベンゼン（溶媒）に溶解させて、孔径０．４５μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで不溶分をろ過し、第２の液晶組成物（Ｃ）、重合開始剤および溶媒を含む塗工液（Ｃ）を得た。なお、前記第２の液晶組成物（Ｃ）、重合開始剤および溶媒を含む塗工液（Ｃ）の調製に際しては、塗工液中の溶媒の含有量が８０重量部となり、第２の液晶組成物（Ｃ）と重合開始剤の総量が２０重量部となるように調製した。

〈ＰＶＡ（Ａ）溶液の調製及びＰＶＡ配向基板（Ａ）の作製〉
配向基板（Ａ）は以下のようにして作製した。厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績（株）製、商品名：コスモシャインＡ４１００）を１５ｃｍ角に切り出し、アルキル変性ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：（株）クラレ製、商品名：ＭＰ−２０３）の５重量％溶液（溶媒は、水とイソプロピルアルコールの重量比１：１の混合溶媒）（ＰＶＡ（Ａ）溶液）をスピンコート法により塗布し、５０℃のホットプレートで３０分乾燥した後、１２０℃のオーブンで１０分間加熱した。次いで、レーヨンのラビング布でラビングして、ＰＶＡ層とＰＥＴフィルムからなるＰＶＡ配向基板（Ａ）（ＰＶＡ（Ａ）層／ＰＥＴ）を作製した。得られたＰＶＡ（Ａ）層の膜厚は１．２μｍであった。ラビング時の周速比（ラビング布の移動速度／基板フィルムの移動速度）は４とした。

〈ＰＶＡ（Ｂ）溶液の調製及びＰＶＡ配向基板（Ｂ）の作製〉
還流冷却器および攪拌機の付いた１Ｌ三口フラスコにＰＶＡ（日本酢ビ・ポバール（株）製、商品名：ＪＬ−１８Ｅ、ケン化度８３〜８６％、平均重合度１８００）２４．０ｇおよび脱イオン水４６０．８ｇ（電気伝導度値；１μＳ／ｃｍ以下）を投入し、９５℃、３時間加熱し攪拌溶解後、７０℃まで冷却した。イソプロピルアルコール１１５．２ｇ（関東化学（株）製、鹿一級、純度９９％以上）を徐々に加え、６５℃〜７０℃で２時間攪拌し、透明な均一溶液を得た。室温まで冷却し、前記槽からＰＶＡ（Ｂ）溶液を濾過しながら抜き出した。濾過は、平均粒径１μｍの粒子を捕集できるカートリッジフィルター（ＡＤＶＡＮＴＥＣ ＴＣＰ−ＪＸ−Ｓ１ＦＥ（１μｍ））を使用し、固形分濃度約４重量％のＰＶＡ（Ｂ）溶液３５０ｇを得た。
次に厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績（株）製、商品名：コスモシャインＡ４１００）を１５ｃｍ角に切り出し、コロナ放電処理（１００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２）を施した後、厚み１．１ｍｍ、１３ｃｍ角のガラス基板上に固定し、スピンコーターにセットした。前記ＰＶＡ（Ｂ）溶液を３００ｒｐｍで３０秒の条件でスピンコート法により塗布し、５０℃のホットプレートで３０分乾燥した後、１２０℃のオーブンで１０分間加熱して、ＰＶＡ配向基板（Ｂ）（ＰＶＡ（Ｂ）層／ＰＥＴ）を得た。得られたＰＶＡ配向基板（Ｂ）のＰＶＡ（Ｂ）層の膜厚は１．２μｍであった。

〈偏光子の作製〉
ポリビニルアルコールフィルムを温水中に浸漬して膨張させたあと、ヨウ素／ヨウ化カリウム水溶液中にて染色し、次いでホウ酸水溶液中で一軸延伸処理して偏光子を得た。分光光度計にて単体透過率、平行透過率および直交透過率を調べたところ、この偏光子は、厚み２０μｍ、透過率４３．５％、偏光度９９．９％であった。

〈偏光子（Ａ１）の作製〉
偏光子の一方の面に厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製、商品名：Ｔ４０ＵＺ、以下ＴＡＣ）を透明保護層として接着して、ＴＡＣ／接着層／偏光子の構成を有する偏光子（Ａ１）を作製した。

〈偏光子（Ｂ１）の作製〉
偏光子（Ａ１）の偏光子面側に、厚さ５μｍの接着層を介して、ＴＡＣを透明保護層として接着して、ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＴＡＣの構成を有する偏光子（Ｂ１）を作製した。

〈偏光子（Ｃ１）の作製〉
偏光子（Ａ１）の偏光子面側に、厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのＣＯＰフィルム（日本ゼオン(株)製、商品名：ゼオノア）を透明保護層として接着して、ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＣＯＰからなる偏光子（Ｃ１）を作製した。

〈偏光子（Ｄ１）の作製〉
偏光子（Ａ１）の偏光子面側に、厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのアクリルフィルムを透明保護層として接着して、ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／アクリルフィルムからなる偏光子（Ｄ１）を作製した。

（実施例１）
〈第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層の作製〉
ＰＶＡ配向基板（Ａ）に、第１の液晶組成物（Ａ）、二色性色素と重合開始剤と溶媒とを含む塗工液をスピンコート法により塗布（コーティング）して、塗膜（ウエット膜厚：１２．５μｍ）を形成し、塗膜と配向基板（Ａ）との積層体を得た。

次に、塗膜と配向基板（Ａ）の積層体を圧力：１０１３ｈＰａ、温度：室温（２５℃）の条件下において２分間静置することにより、塗膜から溶媒を乾燥除去した（溶媒除去工程）。なお、配向基板（Ａ）へのコーティング完了から２分経過後に、前記塗膜の全面から溶媒が除去されたことを確認した。

次いで、乾燥後の塗膜に対して、照度：１５ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀ランプを用いて、積算照射量が２００ｍＪ／ｃｍ^２条件下で、紫外光（ただし、３６５ｎｍの波長の光を測定した光量）を照射することにより、第１の液晶組成物（Ａ）を重合（硬化）して配向状態を固定化し、積層物（ａ）（第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／ＰＶＡ（Ａ）／ＰＥＴ）を得た。

配向基板として用いたＰＥＴフィルムは大きな複屈折を持ち、位相差フィルムとして好ましくないため、粘着剤を介して、積層物（ａ）の第１の光学異方性層をＴＡＣに転写した。すなわち、第１の光学異方性層とＴＡＣとを厚み１５μｍの粘着剤を介して貼合し、配向基板（Ａ）を剥離し積層物（ｂ）（第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／粘着層／ＴＡＣ）を得た。積層物（ｂ）を偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーション（配向欠陥）がなくモノドメインの均一な配向であることがわかった。

ＴＡＣと、第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層を備える積層物（ｂ）と、ＴＡＣ単体の面内方向のリターデーション（Δｎｄ）の波長分散特性をＡｘｏｍｅｔｒｉｘ社製の商品名「Ａｘｏｓｃａｎ」を用いて測定し、両者の引き算から、第１の光学異方性層の複屈折の波長分散特性を測定した。図７は、第１の光学異方性層の複屈折の波長分散特性を表す。また、５５０ｎｍでの面内のリターデーション値Ｒｅ１（５５０）は１４３ｎｍであり、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は７２ｎｍであった。また、Ｒｅ１（５００）／Ｒｅ１（５５０）は０．９７３であり、Ｒｅ１（５８０）／Ｒｅ１（５５０）は１．０１４であった。また、Ｒｅ１ａ（４５０）／Ｒｅ１ａ（５５０）＝０．９０８であり、Ｒｅ１ａ（６５０）／Ｒｅ１ａ（５５０）＝１．０２６であった。特に、測定波長５００〜６００ｎｍの範囲では、測定波長が長波長であるほど位相差が大きくなることを確認した。また、第１の光学異方性層の厚みは２．５μｍであった。

〈第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層の作製〉
第２の液晶組成物（Ｂ）を含む塗工液（Ｂ）を、ＰＶＡ配向基板（Ｂ）上にスピンコート法により塗布した。次いで５５℃のホットプレートで１０分乾燥し、１００℃のオーブンで３分間熱処理することで第２の液晶組成物（Ｂ）を配向させた。次いで、７０℃に加熱したアルミ板に試料を密着させ、その上から、高圧水銀灯ランプにより３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外光（３６５ｎｍで測定した光量）を空気中で照射して、オキセタニル基をカチオン反応させて第２の液晶組成物（Ｂ）を重合（硬化）させることで、ＰＶＡ配向基板（Ｂ）上に配向状態が固定化された、第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層の積層物（ｃ）（第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層／ＰＶＡ（Ｂ）／ＰＥＴ）を得た。第２の光学異方性層の厚みは０．８μｍであった。

配向基板として用いたＰＥＴフィルムは大きな複屈折を持ち、第２の光学異方性層の光学測定が困難なため、積層物（ｃ）の第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層を、光学的に等方である粘着剤を介して、厚み０．５ｍｍ、４０ｍｍ角の光学的に等方なガラス基板上に転写した。すなわち、積層物（ｃ）の第２の光学異方性層とガラス基板とを厚み１５μｍの粘着剤を介して貼合し、配向基板（Ｂ）を剥離することで、ガラス基板付きの積層物（ｄ）（第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層／粘着層／ガラス基板）を得た。

得られた積層物（ｄ）をクロスニコルにした偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向で、顕微鏡観察から正の一軸性屈折率を有するホメオトロピック配向であることがわかった。積層物（ｄ）を傾けて斜めから光を入射し、同様にクロスニコルで観察したところ、光の透過が観測された。また、積層物（ｄ）の位相差を測定した結果、第２の光学異方性層単独の面内のリターデーション値Ｒｅ２（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ２（５５０）は−８１ｎｍであった。

〈積層物（ｅ）の作製〉
偏光子（Ａ１）の偏光子側に、積層物（ａ）の第１の光学異方性層を、ＵＶ硬化型のアクリル系接着剤を用いて転写した。すなわち、積層物（ａ）の第１の光学異方性層上に、アクリル系接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、偏光子（Ａ１）（ＴＡＣ／接着層／偏光子）の偏光子側と接着してラミネートし、ＰＥＴフィルム側から６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して接着層を硬化させて、ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／ＰＶＡ配向基板（Ａ）からなる積層物を形成した後、ＰＶＡ配向基板（Ａ）を剥離し、積層物（ｅ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層）を得た。この際、偏光子の吸収軸と積層物（ａ）の第１の光学異方性層の遅相軸とを４５度の角度で交差させて接着したが、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸の貼合角は４５度と１３５度のどちらでもよく、どちらに設定するかは、積層体の使用方法により適宜選択すればよい。積層物（ｅ）の厚みは、７２．５μｍであった。

〈積層体（Ａ）の作製〉
積層物（ｅ）の第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層側に厚さ５μｍのＵＶ硬化型Ｖ硬化型のアクリル系接着剤介して、積層物（ｃ）の第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層を転写した。すなわち、積層物（ｃ）の第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層上に、接着層としてＵＶ硬化型のアクリル系接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、積層物（ｅ）の第１の光学異方性層側を接着させてラミネートし、ＰＥＴフィルム側から６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して接着層を硬化させ、ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の光学異方性層／ＵＶ硬化型樹脂層／第２の光学異方性層／ＰＶＡ配向基板（Ｂ）からなる積層物を形成した後、ＰＶＡ配向基板（Ｂ）を剥離し、積層体（Ａ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／接着層／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ａ）の厚みは、７８．３μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ａ）の厚みは１３．３μｍであった。この第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層と、第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層と、を備える積層体（Ａ）において、Ｒｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は＋９ｎｍであった。

（実施例２）
〈積層体（Ｂ）の作製〉
積層物（ｅ）の第１の光学異方性層と、積層物（ｃ）の第２の光学異方性層を、光学的に等方である厚み１５μｍの粘着剤で貼合し、配向基板（Ｂ）を剥離することで、第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層のみを偏光子（Ａ２）に転写し、積層体（Ｂ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／粘着層／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｂ）の厚みは、８８．３μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｂ）の厚みは２３．３μｍであった。

（実施例３）
〈第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層の作製〉
第２の液晶化合物（Ｃ）を含む塗工液（Ｃ）を使用した以外は、実施例１と同様にして、ＰＶＡ配向基板（Ｂ）上に第２の液晶組成物（Ｃ）からなる積層物（ｆ）（第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層／ＰＶＡ配向基板（Ｂ））を得た。第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層の厚みは１．０μｍであった。実施例１と同様にして、ＰＶＡ配向基板（Ｂ）上の第２の光学異方性層を、光学的に等方性である粘着剤を介して、厚み０．５ｍｍ、４０ｍｍ角の光学的に等方性のガラス基板上に転写し、ガラス基板付きの積層物（ｇ）（第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層／粘着層／ガラス基板）を得た。この積層物（ｇ）をクロスニコルにした偏光顕微鏡下で観察したところ、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向で、顕微鏡観察から正の一軸性を有するホメオトロピック配向を有することがわかった。このフィルムを傾けて斜めから光を入射し、同様にクロスニコルで観察したところ、光の透過が観測された。また、同積層物（ｇ）の光学位相差を測定した結果、本第２の光学異方性層単独の面内のリターデーション値Ｒｅ２（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ２（５５０）は−７５ｎｍであった。

〈積層体（Ｃ）の作製〉
偏光子（Ａ１）の偏光子側と、積層物（ａ）中の第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層を光学的に等方である厚み１５μｍの粘着剤で貼合し、配向基板（Ａ）を剥離することで、第１の光学異方性層のみを偏光子（Ａ１）に転写し、積層物（ｈ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／粘着層／第１の液晶化合物（Ａ）からなる第１の光学異方性層）を得た。更にその後、積層物（ｈ）の第１の光学異方性層側に厚さ５μｍの接着層を介して、積層物（ｆ）の第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層を転写した。すなわち、積層物（ｆ）の第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層上に、接着層としてＵＶ硬化型のアクリル系接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、第１の光学異方性層と接着させてラミネートし、ＰＥＴフィルム側から６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して接着層を硬化させ、ＴＡＣ／接着層／偏光子／粘着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／接着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層／ＰＶＡ配向基板（Ｂ）からなる積層物を形成した後、ＰＶＡ配向基板（Ｂ）を剥離し、積層体（Ｃ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／粘着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／接着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｃ）の厚みは、８８．５μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｃ）の厚みは２３．５μｍであった。この、第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層と、第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層とを備える積層体（Ｃ）において、Ｒｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は−３ｎｍである。

（実施例４）
〈積層体（Ｄ）の作製〉
積層物（ｈ）の第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層と、積層物（ｆ）中の第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層を、光学的に等方である厚み１５μｍの粘着剤で貼合し、配向基板（Ｂ）を剥離することで、第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層のみを積層物（ｈ）に転写し、積層体（Ｄ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／粘着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／粘着層／第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｄ）の厚みは、９８．５μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｄ）の厚みは３３．５μｍであった。

（実施例５）
〈積層体（Ｅ）の作製〉
実施例１において積層物（ｅ）を作製する際に用いた偏光子（Ａ１）を偏光子（Ｂ１）に変更した以外は、実施例１での積層体（Ａ）を作製する場合と同様の手順で、積層物（ｉ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＴＡＣ／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層）を作製した。さらに、この積層物（ｉ）の第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層側に厚さ５μｍの接着層を介して、積層物（ｆ）の第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層を貼合し、ＰＶＡ配向基板（Ｂ）を剥離することで、重合性液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層のみを積層物（ｉ）に転写した。すなわち、積層物（ｉ）の第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層の上に、接着層としてＵＶ硬化型のアクリル系接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、積層体（Ｅ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＴＡＣ／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／接着層／第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｅ）の厚みは、１２３．５μｍであり、偏光子（Ｂ１）を除いた積層体（Ｅ）の厚みは１３．５μｍであった。

（実施例６）
〈積層体（Ｆ）の作製〉
積層物（ｉ）中の第１の液晶化合物（Ａ）からなる第１の光学異方性層と積層物（ｆ）中の重合性液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層を、光学的に等方である厚み１５μｍの粘着剤で貼合し、ＰＶＡ配向基板（Ｂ）を剥離することで、重合性液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層のみを積層物（ｉ）に転写し、積層体（Ｆ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＴＡＣ／接着層／第１の液晶化合物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／粘着層／第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｆ）の厚みは、１３３．５μｍであり、偏光子（Ｂ１）を除いた積層体（Ｆ）の厚みは２３．５μｍであった。

（実施例７）
〈積層体（Ｇ）の作製〉
実施例３において積層物（ｈ）を作製する際に用いた偏光子（Ａ１）を偏光子（Ｂ１）に変更した以外は、実施例３での積層物（ｈ）を作製する場合と同様の手順で、積層物（ｊ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＴＡＣ／粘着層／第１の液晶化合物（Ａ）からなる第１の光学異方性層）を作製した。さらに、この積層物（ｊ）の第１の光学異方性層側に厚さ５μｍの接着層を介して、積層物（ｆ）の第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層を転写した。すなわち、積層物（ｆ）の第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層上に、接着層としてＵＶ硬化型のアクリル系接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、積層体（Ｇ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＴＡＣ／粘着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／接着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｇ）の厚みは、１３３．５μｍであり、偏光子（Ｂ１）を除いた積層体（Ｇ）の厚みは２３．５μｍであった。

（実施例８）
〈積層体（Ｈ）の作製〉
積層物（ｊ）の第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層と、積層物（ｆ）中の第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層を、光学的に等方である厚み１５μｍの粘着剤で貼合し、配向基板（Ｂ）を剥離することで、第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層のみを積層物（ｊ）に転写し、積層体（Ｈ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＴＡＣ／粘着層／第１の液晶化合物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／粘着層／第２の液晶化合物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｈ）の厚みは、１４３．５μｍであり、偏光子（Ｂ１）を除いた積層体（Ｈ）の厚みは３３．５μｍであった。

（実施例９）
〈積層体（Ｉ）の作製〉
実施例５で積層体（Ｅ）を作製する場合に用いた偏光子（Ｂ１）を偏光子（Ｃ１）に変更した以外は、実施例５と同様の手順で、積層体（Ｉ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＣＯＰ／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／接着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を作製した。積層体（Ｉ）の厚みは、１２３．５μｍであり、偏光子（Ｃ１）を除いた積層体（Ｉ）の厚みは１３．５μｍであった。

（実施例１０）
〈積層体（Ｊ）の作製〉
実施例６で積層体（Ｆ）を作製する場合に用いた偏光子（Ｂ１）を偏光子（Ｃ１）に変更した以外は、実施例５と同様の手順で、積層体（Ｊ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＣＯＰ／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／粘着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層を作製した。積層体（Ｊ）の厚みは、１３３．５μｍであり、偏光子（Ｃ１）を除いた積層体（Ｊ）の厚みは２３．５μｍであった。

（実施例１１）
〈積層体（Ｋ）の作製〉
実施例７で積層体（Ｇ）を作製する際に用いた偏光子（Ｂ１）を偏光子（Ｃ１）に変更した以外は、実施例７と同様の手順で、積層体（Ｋ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＣＯＰ／粘着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／接着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｋ）の厚みは、１３３．５μｍであり、偏光子（Ｃ１）を除いた積層体（Ｋ）の厚みは２３．５μｍであった。

（実施例１２）
〈積層体（Ｌ）の作製〉
実施例８で積層体（Ｈ）を作製する際に用いた偏光子（Ｂ１）を偏光子（Ｃ１）に変更した以外は、実施例８と同様の手順で、積層体（Ｌ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／ＣＯＰ／粘着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性／粘着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｌ）の厚みは、１４３．５μｍであり、偏光子（Ｃ１）を除いた積層体（Ｌ）の厚みは３３．５μｍであった。

（実施例１３）
〈積層体（Ｍ）の作製〉
実施例５で積層体（Ｅ）を作製する際に用いた偏光子（Ｂ１）を偏光子（Ｄ１）に変更した以外は、実施例５と同様の手順で、積層体（Ｍ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／アクリルフィルム／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性／接着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｍ）の厚みは、１２３．５μｍであり、偏光子（Ｄ１）を除いた積層体（Ｍ）の厚み１３．５μｍであった。

（実施例１４）
〈積層体（Ｎ）の作製〉
実施例６で積層体（Ｆ）を作製する際に用いた偏光子（Ｂ１）を偏光子（Ｄ１）に変更した以外は、実施例６と同様の手順で、積層体（Ｎ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／アクリルフィルム／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／粘着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｎ）の厚みは、１３３．５μｍであり、偏光子（Ｄ１）を除いた積層体（Ｎ）の厚みは２３．５μｍであった。

（実施例１５）
〈積層体（Ｏ）の作製〉
実施例７で積層体（Ｇ）を作製する際に用いた偏光子（Ｂ１）を偏光子（Ｄ１）に変更した以外は、実施例７と同様の手順で、積層体（Ｏ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／アクリルフィルム／粘着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／接着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層を得た。積層体（Ｏ）の厚みは、１３３．５μｍであり、偏光子（Ｄ１）を除いた積層体（Ｏ）の厚みは２３．５μｍであった。

（実施例１６）
〈積層体（Ｐ）の作製〉
実施例８で積層体（Ｈ）を作製する際に用いた偏光子（Ｂ１）を偏光子（Ｄ１）に変更した以外は、実施例８と同様の手順で、積層体（Ｐ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／アクリルフィルム／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性／粘着層／第２の液晶組成物（Ｃ）からなる第２の光学異方性層を得た。積層体（Ｐ）の厚みは、１４３．５μｍであり、偏光子（Ｄ１）を除いた積層体（Ｐ）の厚みは３３．５μｍであった。

（実施例１７）
〈積層体（Ｑ）の作製〉
実施例１で積層体（Ａ）を作製する際に用いた積層物（ａ）を積層物（ｃ）に変更した以外は、実施例１の積層体（Ａ）を作製する場合と同様の手順で、積層物（ｋ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層）を得た。さらに、この積層物（ｋ）の第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層と、実施例１で得られた積層物（ａ）の第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層を、光学的に等方である厚み１５μｍの粘着剤で貼合し、配向基板（Ａ）を剥離することで、第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層のみを積層物（ｋ）に転写し、積層体（Ｑ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層／粘着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層）を得た。積層体（Ｑ）の厚みは、８８．３μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｑ）の厚みは２３．３μｍであった。

（比較例１）
〈第１の光学異方性層の作製〉
第１の光学異方性層として、縦方向の一軸延伸により作製された厚み５０μｍ、２００ｍｍ角のフルオレン骨格を有するポリカーボネートフィルム（帝人化成（株）製、商品名：ピュアエースＷＲ、以下ＷＲフィルム）を用意した。ＷＲフィルムの測定波長５５０ｎｍにおける面内のリターデーション値Ｒｅ１（５５０）は１４３ｎｍであり、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は７２ｎｍであった。また、Ｒｅ１（５００）／Ｒｅ１（５５０）＝０．９６３であり、Ｒｅ１（５８０）／Ｒｅ１（５５０）＝１．０１５であった。特に、測定波長５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲では、測定波長が長波長になるほど位相差が大きくなることを確認した。図８は、第１の光学異方性層であるＷＲフィルムの複屈折の波長分散特性を表す。

〈積層物（ｌ）の作製〉
ＰＶＡ（Ｂ）溶液を、３００ｒｐｍ、３０秒の条件でスピンコート法により塗布し、５０℃のホットプレートで３０分乾燥した後、１００℃のオーブンで１０分間加熱して、前記ポリカーボネートフィルム上にＰＶＡ（Ｂ）層を設け、積層物（ｌ）を得た。得られたＰＶＡ（Ｂ）層の膜厚は１．２μｍであった。なお、本ＰＶＡ（Ｂ）層は光学的に等方である。

第１の光学異方性層であるＷＲフィルムに形成した前記ＰＶＡ（Ｂ）層上に、第２の液晶組成物（Ｂ）を含む塗工液を、スピンコート法により塗布した。次いで５５℃のホットプレートで１０分乾燥し、１００℃のオーブンで３分間熱処理することで第２の液晶組成物を配向させた。次いで、７０℃に加熱したアルミ板に試料を密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外光（ただし３６５ｎｍで測定した光量）を空気中で照射して、オキセタニル基をカチオン反応させ、硬化させることで、第１の光学異方性層であるＷＲフィルム／ＰＶＡ（Ｂ）層の積層物上に第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層を形成させて、積層物（ｍ）（ＷＲフィルム／ＰＶＡ（Ｂ）／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層）を得た。第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層の厚みは０．８μｍであり積層物（ｍ）の厚みは５２．０μｍであった。

得られた積層物（ｍ）をクロスニコルにした偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向であった。また、積層物（ｍ）の光学位相差を測定し、第１の光学異方性層であるＷＲフィルムの光学位相差を差し引いて算出された第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層のリターデーション値Ｒｅ２（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ２（５５０）は−８１ｎｍであり、ホメオトロピック配向であることを確認した。すなわち、積層物（ｍ）のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は＋９ｎｍであった。

〈積層体（Ｒ）の作製〉
偏光子（Ａ１）の偏光子側と、積層物（ｍ）のＷＲフィルムを、光学的に等方である厚さ１５μｍの粘着剤で貼合させ、積層体（Ｒ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／粘着層／ＷＲフィルム（第１の光学異方性層）／ＰＶＡ（Ｂ）／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｒ）の厚みは、１３２．０μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｒ）の厚みは６７．０μｍであった。

（比較例２）
〈積層体（Ｓ）の作製〉
二色性色素を混合しない以外は、実施例１と同様にして第１の光学異方性層を得た後、実施例２で積層体（Ｂ）を作製する場合と同様の手法で積層体（Ｓ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層（二色性色素なし）／粘着層／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｓ）の厚みは、８８．３μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｓ）の厚みは２３．３μｍであった。図９は、第１の光学異方性層の複屈折の波長分散特性を表す。

（比較例３）
〈積層体（Ｔ）の作製〉
第２の光学異方性層を含まない形態として、実施例１で作製した第１の光学異方性層のみからなる積層体（Ｔ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層）を得た。積層体（Ｔ）の厚みは、７２．５μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｔ）の厚みは７．５μｍであった。

（比較例４）
〈第１の光学異方性層の作製〉
実施例１で積層物（ａ）を作製する際に用いたＰＥＴフィルムを、厚さ４０μｍの無延伸のＣＯＰフィルムに変更した以外は、実施例１の積層物（ａ）を作製する場合と同様の手順で、積層物（ｎ）（第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／ＰＶＡ（Ａ）／ＣＯＰ）を得た。

〈積層体（Ｕ）の作製〉
偏光子（Ａ１）の偏光子側に厚さ５μｍのアクリル系接着剤を介して、積層物（ｎ）を貼合させた。すなわち偏光子（Ａ１）の偏光子側に接着層としてＵＶ硬化型のアクリル系接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／ＰＶＡ（Ａ）／ＣＯＰからなる積層物（ｎ）の第１の光学異方性層と接着しラミネートした後、ＣＯＰ側から６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して接着層を硬化させて、積層物（ｏ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／ＰＶＡ（Ａ）／ＣＯＰ）を得た。積層物（ｏ）の厚みは、１１３．７μｍであった。

さらに、積層物（ｏ）のＣＯＰと、実施例１で得られた積層物（ｃ）の第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層を、光学的に等方である厚み１５μｍの粘着剤で貼合し、配向基板（Ｂ）を剥離することで、第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層のみを積層物（ｏ）に転写し、積層体（Ｕ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／ＰＶＡ（Ａ）／ＣＯＰ／粘着層／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層）を得た。積層体（Ｕ）の厚みは、１２９．５μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｕ）の厚みは６４．５μｍであった。

（比較例５）
〈第２の光学異方性層の作製〉
実施例１で積層物（ｃ）を作製する際に用いたＰＥＴフィルムを、厚み４０μｍのＣＯＰに変更した以外は、実施例１の積層物（ｃ）を作製する場合と同様の手順で、積層物（ｐ）（第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層／ＰＶＡ（Ｂ）／ＣＯＰ）を得た。

〈積層体（Ｖ）の作製〉
実施例１で得た積層物（ｅ）の第１の光学異方性層と、積層物（ｐ）の第２の液晶組成物からなる第２の光学異方性層（Ｂ）を、光学的に等方性である厚み１５μｍの粘着剤で貼合し、積層体（Ｖ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／粘着層／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層／ＰＶＡ（Ｂ）／ＣＯＰ）を得た。積層体（Ｖ）の厚みは、１２９．５μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｖ）の厚みは６４．５μｍであった。

（比較例６）
〈積層体（Ｗ）の作製〉
比較例４で得た積層物（ｎ）のＣＯＰと、比較例５で得た積層物（ｐ）の第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層を、光学的に等方である厚み１５μｍの粘着剤で貼合し、積層体（Ｗ）（ＴＡＣ／接着層／偏光子／接着層／第１の液晶組成物（Ａ）からなる第１の光学異方性層／ＰＶＡ（Ａ）／ＣＯＰ／粘着層／第２の液晶組成物（Ｂ）からなる第２の光学異方性層／ＰＶＡ（Ｂ）／ＣＯＰ）を得た。積層体（Ｗ）の厚みは、１７０．７μｍであり、偏光子（Ａ１）を除いた積層体（Ｗ）の厚みは１０５．７μｍであった。

実施例１〜１７、および比較例１〜６で作成した積層体（Ａ）〜（Ｗ）を、市販の有機ＥＬディスプレイの有機ＥＬ素子の透明ガラス基板上にアクリル系粘着剤を介して貼着し、有機ＥＬ画像表示装置を作製した。

（ア）正面観察時の外光反射防止効果の評価
有機ＥＬ素子に電圧を印加しない状態で、照度約１００ルックスの環境下に置き、積層体貼合部分の反射光の黒表示を目視評価した。黒表示は以下の４つのレベルのいずれに該当するかを確認した。評価結果は表３に示す。
１：ほぼ完全に外光反射が無く、色身も黒色である。
２：１よりは劣るが、十分に外光反射が抑えられ、色味もほぼ黒色である。
３：外光反射がやや視認される。
４：外光反射が極めて視認される。

（イ）外光反射防止効果の視野角特性の評価
有機ＥＬ素子に電圧を印加しない状態で、照度約１００ルックスの環境下に置き、正面と斜め４５度における積層体貼合部分の反射光の黒表示を目視評価した。黒表示は以下の４つのレベルのいずれに該当するかを確認した。評価結果は表３に示す。
１：正面と斜め方向でほぼ外光反射に変化は見られない。
２：１より劣るが、正面と斜め方向での外光反射の差はわずかである。
３：正面と斜め方向で外光反射に差が認められる。
４：正面と斜め方向で外光反射に差がかなり認められる

表２に示すように、実施例１〜１７、比較例１、４〜６の有機ＥＬ素子の積層体は、正面観察時の外光反射防止効果に優れるとともに、視野角特性も良好であることが分かった。一方で、二色性色素を含まない比較例２の積層体は、正面及び斜め方向から見た場合ともに、外光反射が視認され、黒表示が青味を帯びることを確認した。

また、第２の光学異方性層を含まない比較例３の積層体（Ｔ）は、正面観察時の外光反射防止効果は認められたが、正面と斜め方向で外光反射に差がかなり認められ、斜め方向から見た場合の色味が強い青味を帯びることが確認された。

また、表３に示すように、積層体の偏光子を除いた部分の厚みを比較すると、実施例１〜１７のいずれの形態も比較例１、４〜６よりも大幅に薄く、顕著な薄膜化を実現したことを確認した。

加えて、各実施例、比較例における光学異方性層の層間密着性を比較すると、実施例１〜１７、比較例１〜３に関しては光学異方性層、位相差層をＵＶ硬化樹脂、または粘着層で直接積層しているため、密着性に関しては問題ない。一方、比較例４〜６の形態では、配向膜であるＰＶＡ層と光学異方性層には密着性向上処理を施していないため、ＰＶＡ層と光学異方性層の密着性が乏しく、積層体を形成する工程、及び積層体を作製後のハンドリング時に容易に剥離した。すなわち、転写工程を含む本発明の実施形態を採用することで、高い外光反射防止性能を維持しつつ、積層体の厚みを大幅に低減でき、また光学異方性層の密着性を大幅に向上させることが可能である。

（実施例１８）
実施例１で積層体（Ａ）を偏光板反射型液晶画像表示装置に組み込み色味を評価した。その構成は観察側から、積層体（Ａ）／ガラス基板／ＩＴＯ透明電極／配向膜／ツイストネマチック液晶／配向膜／金属電極兼反射膜／ガラス基板である（各層間の粘着層は省略）。電圧オフ時に白表示となる角度で貼り合わせ、目視にて色味の評価を実施した。特に電圧印加時の黒表示における着色が少なく、それにより明瞭なコントラストが実現でき、画像の視認性に優れることを確認した。
＜符号の説明＞

１ 有機高分子（棒状分子）
２ 高分子フィルム
３ 有機高分子（円盤状分子）
１０ 第１の光学異方性層
２０ 配向基板（Ａ）
３０ 偏光子
４０ 第２の光学異方性層
５０ 配向基板（Ｂ）
９０ 透明基板
９１ 陽極
９２ 発光層
９３ 陰極
１００ 積層体
２００ 画像表示装置
Ａ： 第１の光学異方性層のホモジニアス配向方向
Ｂ： 偏光子の吸収軸
α： 第１の光学異方性層のホモジニアス配向方向と、偏光子の吸収軸との角度

Claims (15)

1. 配向基板（Ａ）上に、第１の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、前記第１の液晶組成物をホモジニアス配向させ、前記配向基板（Ａ）上に第１の光学異方性層を形成する工程と、
   前記第１の光学異方性層と、偏光子とを貼り合わせる工程と、
   前記配向基板（Ａ）を剥離する工程と、
   配向基板（Ｂ）上に、第２の液晶組成物を含む塗工液を塗布し、前記第２の液晶組成物をホメオトロピック配向させ、前記配向基板（Ｂ）上に第２の光学異方性層を形成する工程と、
   前記第１の光学異方性層と、前記第２の光学異方性層とを貼り合わせる工程と、
   前記配向基板（Ｂ）を剥離する工程と、
   を含んでなることを特徴とする、積層体の製造方法。
2. 前記第１の液晶組成物を含む塗工液が、二色性色素を含む、請求項１に記載の積層体の製造方法。
3. 前記第１の液晶組成物が、重合性液晶化合物を含んでなり、前記配向基板（Ａ）上にホモジニアス配向させた後、前記重合性液晶化合物を重合させることにより、ホモジニアス配向が固定される請求項１または２に記載の積層体の製造方法。
4. 前記第２の液晶組成物が、重合性液晶化合物を含んでなり、前記配向基板（Ｂ）上にホメオトロピック配向させた後、前記重合性液晶化合物を重合させることにより、ホメオトロピック配向が固定される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
5. 前記第１の液晶組成物と、前記第２の液晶組成物とが同一の液晶組成物である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
6. 前記第１の液晶組成物と、前記第２の液晶組成物とが異なる液晶組成物である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
7. 前記第１の光学異方性層と、前記偏光子との貼り合わせ角度が、前記第１の光学異方性層のホモジニアス配向方向と、前記偏光子の吸収軸とが４０〜５０度の角度となるように行われる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
8. 前記二色性色素が、重合性基を有し、前記第１の液晶組成物と重合し、前記配向基板（Ａ）上において、前記第１の液晶組成物の配向方向と略同一方向に配向する、請求項２〜７のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
9. 前記二色性色素の極大吸収波長が、３８０〜７８０ｎｍである、請求項２〜８のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
10. 前記二色性色素の含有量が、前記第１の液晶組成物１００重量部に対し、０．０１〜１０重量部である、請求項２〜９のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
11. 前記第１の光学異方性層の最大主屈折率ｎｘ１および／または複屈折Δｎ１が、可視光領域の少なくとも一部の波長領域において、測定波長が長いほど大きくなる「負の分散」特性を有し、
    前記第２の光学異方性層が、ｎｚ２＞ｎｘ２≧ｎｙ２の複屈折特性を有する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
    （ここで、ｎｘ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。）
12. 前記第１の光学異方性層のＲｔｈ１と、前記第２の光学異方性層のＲｔｈ２とが、下記式（１）を満たす、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
    ４０ｎｍ≧Ｒｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）≧−４０ｎｍ （１）
    （ここで、厚さ方向リターデーションＲｔｈ１は、Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１｝×ｄ１［ｎｍ］で表される。なお、ｄ１は第１の光学異方性層の厚さ、ｎｘ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。また、厚さ方向リターデーションＲｔｈ２は、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］で表される。なお、ｄ２は第２の光学異方性層の厚さ、ｎｘ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。）
13. 請求項１〜１１のいずれか一項に記載の積層体の製造方法により製造されたことを特徴とする、積層体。
14. 請求項１３に記載の積層体を用いたことを特徴とする、偏光板。
15. 請求項１３に記載の積層体または請求項１４に記載の偏光板を用いたことを特徴とする、画像表示装置。