JP5046515B2 - フタロシアニン化合物並びにその製造方法及び用途 - Google Patents
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Description
本発明は、フタロシアニン化合物に関する。より好ましくは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等において近赤外線吸収材や、熱線遮蔽材として好適に用いることができるフタロシアニン化合物に関する。
フタロシアニン化合物は、可視紫外領域に吸収をもつ熱的、化学的に安定な化合物であり、従来より顔料として広く用いられている。近年、フタロシアニン化合物は、その安定な性質を利用して、半導体用材料やＣＤ−Ｒ等の光学記録媒体、熱線遮蔽材、近赤外線吸収材、太陽電池の増感剤等、様々な分野で幅広く用いられるようになってきており、中でも、プラズマディスプレイパネル用フィルタとしての用途が拡大している。プラズマディスプレイにおいては、リモコンの誤作動の原因となる近赤外線を吸収するフィルタは必須の構成材料であり、このフィルタの材料として、近赤外線吸収色素であるフタロシアニン化合物が用いられている。
従来より近赤外線吸収色素として用いられてきたフタロシアニン化合物は、近赤外領域において、８００〜９００ｎｍに吸収極大を有するものであるが、ＰＤＰ用フィルタに用いられる近赤外線吸収色素としては、８００〜９００ｎｍの領域よりも更に長波長領域に充分な吸収を有するものが求められている。このような１０００ｎｍ付近の長波長領域に吸収を示す色素としてイモニウム色素があるが、イモニウム色素は水等により容易に変質するものであり、耐久性が充分なものではなかった。
また、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用フィルタにおいては、近赤外領域に充分な吸収をもつと同時に、高い色再現性等が要求されることから、可視光領域の光の透過率が高いことが求められており、ＰＤＰ用フィルタに要求されるこれらの特性をより高めた近赤外線吸収色素が求められている。
また、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用フィルタにおいては、近赤外領域に充分な吸収をもつと同時に、高い色再現性等が要求されることから、可視光領域の光の透過率が高いことが求められており、ＰＤＰ用フィルタに要求されるこれらの特性をより高めた近赤外線吸収色素が求められている。
従来のフタロシアニン化合物として、フタロシアニンを構成するベンゼン環の置換基が特定されたフタロシアニン化合物、及び、フタロシアニン化合物を用いた熱線遮蔽材や近赤外線吸収色素が開示されている(例えば、特許文献１〜６参照。)。しかしながら、耐久性、近赤外線吸収能や可視光透過率を更に高め、ＰＤＰ用フィルタにより好適に用いることができるフタロシアニン化合物とする工夫の余地があった。
特開平６−２６４０５０号公報（第１−２頁）
特開２０００−２６７４８号公報（第１−２頁）
特開２０００−６３６９１号公報（第１−２頁）
特開２００１−１０６６８９号公報（第１−２頁）
特開２００４−１８５６１号公報（第１−２頁）
特開平５−２２２０４７号公報（第１−２頁）
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、高い耐久性を有しながら、近赤外領域において長波長側に吸収をもつと同時に可視光領域の透過率が高く、プラズマディスプレイパネル用フィルタ等の各種用途に好適に用いることができるフタロシアニン化合物を提供することを目的とするものである。
本発明者等は、プラズマディスプレイパネル用フィルタとして好適に用いることができるフタロシアニン化合物について種々検討したところ、フタロシアニン化合物を構成するベンゼン環の特定部位にナフタレン環構造を有する置換基を置換させると、６１０ｎｍ近辺の可視光透過率がよく、従来の色素よりも橙色が鮮やかになるとともに、従来の多くのフタロシアニン化合物に比べて近赤外領域における吸収波長を９００〜１０００ｎｍの長波長側にシフトさせることができることを見出した。従来、９００〜１０００ｎｍの領域に吸収を示す色素として用いられてきたイモニウム色素は、水分により容易に変質する等、耐久性の点に問題があったが、フタロシアニン化合物は安定な化合物であることから、高い可視光透過率を有しながら、９００〜１０００ｎｍの領域に吸収を示し、かつ耐久性を有する点において、イモニウム色素よりも優れた色素である。また、このフタロシアニン化合物の合成においては、臭気の強いチオール化合物を用いることになるが、従来のフタロシアニン化合物の場合と異なり、原料が固体になることから、チオールの臭気を抑えることが可能となり、原料化合物の取り扱いがし易くなることも見出し、本発明に想到したものである。
すなわち本発明は、下記一般式（１）；
（式中、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ６、Ｚ７、Ｚ１０、Ｚ１１、Ｚ１４及びＺ１５は、同一又は異なって、ＳＲ１、ＯＲ２、ハロゲン原子又は水素原子のいずれかを表し、少なくとも４個はＳＲ１又はＯＲ２である。Ｚ１、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ８、Ｚ９、Ｚ１２、Ｚ１３及びＺ１６は、同一又は異なって、ＮＨＲ３、ＯＲ4又はフッ素原子を表し、少なくとも１個はＮＨＲ3であり、かつ少なくとも４個はＯＲ４である。Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいナフチル基を表す。Ｒ３及びＲ４は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいフェニル基、アラルキル基、ナフチル基又は炭素原子数１〜２０個のアルキル基のいずれかを表す。Ｍは、無金属、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物のいずれかを表す。）で表されることを特徴とするフタロシアニン化合物である。
以下に本発明を詳述する。
以下に本発明を詳述する。
本発明のフタロシアニン化合物は、上記一般式（１）で表されるものであるが、上記一般式（１）において、炭素原子数１〜２０個のアルキル基、及び、アラルキル基は、置換基を有していていてもよく、有していないくてもよい。炭素原子数１〜２０個のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−イソプロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル−１−イソプロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の直鎖又は分岐状のアルキル基；シクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
上記Ｒ１、Ｒ２におけるナフチル基、Ｒ３、Ｒ４におけるフェニル基、アラルキル基、ナフチル基、及び、炭素原子数１〜２０個のアルキル基は、置換基を有していてもよく、有していないくてもよい。Ｒ１、Ｒ２におけるナフチル基がともに置換基を有する場合、置換基は同一であってもよく異なっていてもよい。同様にＲ３、Ｒ４におけるフェニル基、アラルキル基、ナフチル基、及び、炭素原子数１〜２０個のアルキル基が有する置換基も、同一であってもよく異なっていてもよい。このような置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルアミノ基等が好ましい。
上記一般式（１）において、Ｍは、無金属、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物のいずれかを表す。無金属とは、金属以外の原子、例えば、２個の水素原子であることを意味する。具体的には、フタロシアニン構造の中央部分に存在する、相対する２つの窒素原子に水素原子が結合している構造となる。金属としては、例えば、鉄、マグネシウム、ニッケル、コバルト、銅、パラジウム、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム、錫等が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、チタニル、バナジル等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては、例えば、塩化アルミニウム、塩化インジウム、塩化ゲルマニウム、塩化錫、塩化珪素等が挙げられる。Ｍとしては、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物であることが好ましく、具体的には、ニッケル、コバルト、銅、亜鉛、鉄、バナジル、ジクロロ錫等が挙げられる。より好ましくは、銅、亜鉛、コバルト、バナジル、ジクロロ錫である。
本発明のフタロシアニン化合物は、上記一般式（１）で表される構造を有するものであって、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ６、Ｚ７、Ｚ１０、Ｚ１１、Ｚ１４及びＺ１５で表される部位の置換基は、ナフタレン環が硫黄原子又は酸素原子を介して結合したものあるいはハロゲン原子又は水素原子であるが、硫黄原子又は酸素原子は、ナフタレン環の１あるいは２位のいずれの位置に結合していてもよい。またナフタレン環が置換基を有している場合、置換基は、ナフタレン環の４又は５位の炭素原子に置換していることが好ましい。また、ナフタレン環が有する置換基の数は、１〜４個が好ましい。より好ましくは、１〜２個である。また、ハロゲン原子としては、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。
上記一般式（１）において、Ｚ１、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ８、Ｚ９、Ｚ１２、Ｚ１３及びＺ１６で表される置換基は、ＮＨＲ３、ＯＲ4又はフッ素原子のいずれかであって、少なくとも１個はＮＨＲ3であり、かつ少なくとも４個はＯＲ４であるが、ＮＨＲ3の数は多いほうが好ましく、ＮＨＲ３は１〜４個であることが好ましい。より好ましくは、２〜４個である。
また、上記一般式（１）中、Ｍは、無金属、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物のいずれかであるが、これらの中でも金属又は金属酸化物、金属ハロゲン化物のいずれかであることが好ましい。より好ましくは、金属又は金属酸化物のいずれかである。
Ｚ１〜Ｚ１６及びＭがこのような好ましい構造であると、本発明の効果が充分に発揮されることになる。
上記一般式（１）において、Ｚ１、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ８、Ｚ９、Ｚ１２、Ｚ１３及びＺ１６で表される置換基は、ＮＨＲ３、ＯＲ4又はフッ素原子のいずれかであって、少なくとも１個はＮＨＲ3であり、かつ少なくとも４個はＯＲ４であるが、ＮＨＲ3の数は多いほうが好ましく、ＮＨＲ３は１〜４個であることが好ましい。より好ましくは、２〜４個である。
また、上記一般式（１）中、Ｍは、無金属、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物のいずれかであるが、これらの中でも金属又は金属酸化物、金属ハロゲン化物のいずれかであることが好ましい。より好ましくは、金属又は金属酸化物のいずれかである。
Ｚ１〜Ｚ１６及びＭがこのような好ましい構造であると、本発明の効果が充分に発揮されることになる。
本発明のフタロシアニン化合物の具体例としては、
ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４、
ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４、
ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４、
ＣｕＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４、及び、
ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）｝８｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝８
ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）４｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４Ｃｌ４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４
等が挙げられる。
ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４、
ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４、
ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４、
ＣｕＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４、及び、
ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）｝８｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝８
ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）４｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４Ｃｌ４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４
等が挙げられる。
本発明のフタロシアニン化合物は、上記一般式（１）で表されるものであるが、一般に近赤外線吸収材の原料として用いられるフタロシアニン化合物としては、 近赤外線領域に吸収を示すものであればよい。これらの中でも、近赤外線領域の長波長側に吸収を有するとともに、可視光線透過率の高いものが望ましい。例えば、フタロシアニン化合物であって、透過スペクトルの測定において９００ｎｍを超えて１０５０ｎｍ以下の透過率の最低値が５〜６％になるように該フタロシアニン化合物の濃度を調整した溶液中において６１０ｎｍにおける透過率が７０％以上であるフタロシアニン化合物は、近赤外線吸収材の原料として好適に用いることができる。
本発明はまた、上記一般式（１）で表されるフタロシアニン化合物の製造方法であって、該フタロシアニン化合物の製造方法は、下記一般式（２）〜（５）；
（式中、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ６、Ｚ７、Ｚ１０、Ｚ１１、Ｚ１４及びＺ１５は、同一又は異なって、ＳＲ１、ＯＲ２、ハロゲン原子又は水素原子のいずれかを表し、少なくとも４個はＳＲ１又はＯＲ２である。Ｚ１、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ８、Ｚ９、Ｚ１２、Ｚ１３及びＺ１６は、同一又は異なって、ＮＨＲ３、ＯＲ4又はフッ素原子を表し、少なくとも４個はＯＲ４である。Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいナフチル基を表す。Ｒ３及びＲ４は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいフェニル基、アラルキル基、ナフチル基又は炭素原子数１〜２０個のアルキル基のいずれかを表す。）で表されるフタロニトリル化合物を、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と反応させた後、得られた反応生成物を更に下記一般式（６）又は（７）；
（式中、Ｒ３及びＲ４は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいフェニル基、アラルキル基、ナフチル基又は炭素原子数１〜２０個のアルキル基のいずれかを表す。）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と反応させることを特徴とする上記一般式（１）で表されるフタロシアニン化合物の製造方法でもある。
本発明のフタロシアニン化合物の製造方法は、予めベンゼン環に置換基を置換させたフタロニトリル化合物を用い、環化反応してフタロシアニン化合物とする製造方法である。これ以外の方法として、ベンゼン環に４つのハロゲン原子、例えば塩素原子やフッ素原子が置換したフタロニトリル化合物を用いて先に環化反応を行ってフタロシアニン化合物を製造し、次にベンゼン環のフッ素原子や塩素原子を他の置換基と置換する製造方法もあるが、先に環化反応を行う方法では、後の置換反応において置換基の位置を制御することができないことになる。これに対し、本発明の製造方法によると、フタロニトリル化合物を選択することにより、フタロシアニン化合物のベンゼン環の置換基の位置を制御することが可能となる。
本発明のフタロシアニン化合物の製造方法においては、上記一般式（２）〜（５）で表されるフタロニトリル化合物と金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とが反応することにより、フタロシアニン化合物が生成することになるが、フタロニトリル化合物としては、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。すなわち、フタロシアニン化合物を構成するフタロニトリル化合物由来の4つの芳香環は、それぞれ異なる置換基を有していてもよく、同一の置換基を有していてもよい。
上記一般式（２）〜（５）において、炭素原子数１〜２０個のアルキル基、アラルキル基の具体例としては、上述したものと同様である。ハロゲン原子としては、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。また、Ｒ１、Ｒ２におけるナフチル基、Ｒ３、Ｒ４におけるフェニル基、アラルキル基、ナフチル基、及び、炭素原子数１〜２０個のアルキル基は、置換基を有していてもよく、有していなくてもよい。置換基としては、上述したものと同様である。
反応には、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属の２種類以上を用いてもよいが、これらの中でも、金属酸化物、金属ハロゲン化物のいずれかを用いることが好ましい。
反応には、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属の２種類以上を用いてもよいが、これらの中でも、金属酸化物、金属ハロゲン化物のいずれかを用いることが好ましい。
本発明のフタロシアニン化合物の製造方法は、上記一般式（２）〜（５）で表されるフタロニトリル化合物と金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを反応させる第１工程、及び、得られた反応生成物を更に上記一般式（６）又は（７）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と反応させる第２工程を含んでなるものである限り、その他の工程を含んでいてもよい。
上記第１工程の反応において、上記一般式（２）〜（５）で表されるフタロニトリル化合物と金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物との比率としては、反応がおこるものであれば特に制限されないが、フタロニトリル化合物４モルに対して、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が１〜２モルの比率であることが好ましい。より好ましくは、１．１〜１．５モルの比率であることである。
上記第１工程の反応の反応条件としては、上記一般式（２）〜（５）で表されるフタロニトリル化合物と金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とが反応する条件であれば特に制限されないが、反応温度としては、５０〜２５０℃であることが好ましい。反応温度が５０℃より低いと、反応率が充分なものとはならず、２５０℃より高いと、副反応がおこり、反応の選択率が低下するだけでなく、目的物の分解が起こるので好ましくない。より好ましくは、１００〜２００℃である。
反応時間としては、１〜２０時間が好ましい。反応時間が１時間より短いと、反応率が充分なものとはならず、２０時間より長いと、副反応がおこり、反応の選択率が低下するだけでなく、目的物の分解が起こるので好ましくない。より好ましくは、３〜１５時間である。
反応時間としては、１〜２０時間が好ましい。反応時間が１時間より短いと、反応率が充分なものとはならず、２０時間より長いと、副反応がおこり、反応の選択率が低下するだけでなく、目的物の分解が起こるので好ましくない。より好ましくは、３〜１５時間である。
上記第１工程の反応は、無溶媒あるいは溶媒中のいずれで行ってもよいが、溶媒中で行うことが好ましい。溶媒を使用して反応する場合、反応に使用される溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、１−クロロナフタレン、１−メチルナフタレン、エチレングリコール、及びベンゾニトリル等の不活性溶媒；ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトフェノン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらの中でも１−クロロナフタレン、１−メチルナフタレン及びベンゾニトリルが好ましい。より好ましくは、ベンゾニトリルである。
上記第２工程の反応において、第１工程の反応の生成物と上記一般式（６）、（７）で表される化合物との比率としては、反応がおこるものであれば特に制限されないが、第１工程の反応の生成物１モルに対して４〜３６モルであることが好ましい。より好ましくは、８〜２０モルである。
上記第２工程の反応条件としては、反応がおこる条件であれば特に制限されないが、反応温度としては、３０〜２５０℃であることが好ましい。反応温度が３０℃より低いと、反応率が充分なものとはならず、２５０℃より高いと、副反応がおこり、反応の選択率が低下するだけでなく、目的物の分解が起こるので好ましくない。より好ましくは、５０〜２００℃である。
反応時間としては、１〜３０時間が好ましい。反応時間が１時間より低いと、反応率が充分なものとはならず、３０時間より長いと、副反応がおこり、反応の選択率が低下するだけでなく、目的物の分解が起こるので好ましくない。より好ましくは、３〜１５時間である。
反応時間としては、１〜３０時間が好ましい。反応時間が１時間より低いと、反応率が充分なものとはならず、３０時間より長いと、副反応がおこり、反応の選択率が低下するだけでなく、目的物の分解が起こるので好ましくない。より好ましくは、３〜１５時間である。
上記第２工程の反応は、溶媒を用いて行ってもよく、用いなくてもよいが、溶媒を用いずに反応を行うことが好ましい。溶媒を用いる場合、溶媒としては、ベンゾニトリル等のニトリルや、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等のアミド等が挙げられる。
上記第２工程においては、第１工程の反応生成物と上記一般式（６）、（７）で表される化合物との反応によって、フッ化水素が発生することになることから、反応器の腐食を防止する目的でフッ化水素を除去するためにトラップ剤を使用することが好ましい。トラップ剤としては、フッ化カリウム、炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、塩化マグネシウム及び炭酸マグネシウム等を用いることができる。これらの中でも、フッ化カリウム、炭酸カルシウム及び水酸化カルシウムが好ましい。
トラップ剤を使用する場合の使用量としては、フタロシアニン化合物１モルに対して１〜１６モルであることが好ましい。より好ましくは、３〜８モルである。
トラップ剤を使用する場合の使用量としては、フタロシアニン化合物１モルに対して１〜１６モルであることが好ましい。より好ましくは、３〜８モルである。
本発明はまた、下記一般式（８）；
（式中、Ｘ１、Ｘ４は、同一又は異なって、ＮＨＲ３、ＯＲ４又はフッ素原子を表す。Ｒ３及びＲ４は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいフェニル基、アラルキル基、ナフチル基又は炭素原子数１〜２０個のアルキル基のいずれかを表す。Ｘ２、Ｘ３は、同一又は異なって、ＳＲ１、ＯＲ２、ハロゲン原子又は水素原子のいずれかを表す。Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なって、ナフチル基を表す。）で表されるフタロニトリル化合物でもある。
一般式（８）で表されるフタロニトリル化合物において、炭素原子数１〜２０個のアルキル基、アラルキル基の具体例としては、上述したものと同様である。また、ハロゲン原子としては、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。また、Ｒ１、Ｒ２におけるナフチル基、Ｒ３、Ｒ４におけるフェニル基、アラルキル基、ナフチル基、及び、炭素原子数１〜２０個のアルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したものと同様である。
上記一般式（８）で表されるフタロニトリル化合物は、フタロシアニン化合物を製造する場合の原料として好適に用いることができるものであり、上記一般式（２）〜（５）で表される構造を有するものであると、本発明のフタロシアニン化合物の製造に好適に用いることができる。
上記一般式（８）で表されるフタロニトリル化合物は、フタロシアニン化合物を製造する場合の原料として好適に用いることができるものであり、上記一般式（２）〜（５）で表される構造を有するものであると、本発明のフタロシアニン化合物の製造に好適に用いることができる。
本発明のフタロシアニン化合物は、近赤外線吸収材、熱線遮蔽材の原料として用いることができるものである。この場合、本発明のフタロシアニン化合物は、樹脂と配合されることになる。フタロシアニン化合物と樹脂との配合割合は、近赤外線吸収能、熱線遮蔽能を発揮する限り特に制限されないが、フタロシアニン化合物の配合量が樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部であることが好ましい。フタロシアニン化合物と樹脂との配合割合がこのようなものであると、近赤外線吸収材として用いた場合には、高い可視光透過率を有しながら、近赤外線吸収能を効果的に発揮することができることになり、熱線遮蔽材として用いた場合には、高い可視光透過率を有しながら、高い熱線遮蔽効果を発揮することができることになる。
このような、本発明のフタロシアニン化合物と樹脂とを含んでなる近赤外線吸収材であって、該フタロシアニン化合物の配合量は、該樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部である近赤外線吸収材もまた、本発明の１つである。
また、本発明のフタロシアニン化合物と樹脂とを含んでなる熱線遮蔽材であって、該フタロシアニン化合物の配合量は、該樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部である熱線遮蔽材もまた、本発明の１つである。
このような、本発明のフタロシアニン化合物と樹脂とを含んでなる近赤外線吸収材であって、該フタロシアニン化合物の配合量は、該樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部である近赤外線吸収材もまた、本発明の１つである。
また、本発明のフタロシアニン化合物と樹脂とを含んでなる熱線遮蔽材であって、該フタロシアニン化合物の配合量は、該樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部である熱線遮蔽材もまた、本発明の１つである。
本発明のフタロシアニン化合物は、上述したように近赤外線吸収材や、熱線遮蔽材の原料として使用することができるものであることから、これらの機能が要求されるプラズマディスプレイパネル用フィルタの原料として用いることができるものである。
このような、本発明のフタロシアニン化合物と樹脂とを含んでなるプラズマディスプレイパネル用フィルタであって、該フタロシアニン化合物の配合量は、該樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部であるプラズマディスプレイパネル用フィルタもまた、本発明の１つである。
また、本発明のフタロシアニン化合物を用いた熱線遮蔽材は、上述したプラズマディスプレイパネル用フィルタの他、自動車用熱線吸収ガラスにも用いることができる。
このような、本発明のフタロシアニン化合物と樹脂とを含んでなるプラズマディスプレイパネル用フィルタであって、該フタロシアニン化合物の配合量は、該樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部であるプラズマディスプレイパネル用フィルタもまた、本発明の１つである。
また、本発明のフタロシアニン化合物を用いた熱線遮蔽材は、上述したプラズマディスプレイパネル用フィルタの他、自動車用熱線吸収ガラスにも用いることができる。
上記近赤外線吸収材、熱線遮蔽材、及び、プラズマディスプレイパネル用フィルタにおけるフタロシアニン化合物の配合量は、樹脂１００質量部に対して０．００１〜１５質量部であることが好ましい。より好ましくは、０．００２〜１０質量部である。
上記近赤外線吸収材、熱線遮蔽材、及び、プラズマディスプレイパネル用フィルタにおいて、本発明のフタロシアニン化合物と配合する樹脂としては、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、アルキド系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ブチラール樹脂や、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂等が挙げられ、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等の硬化性樹脂いずれであってもよい。また、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム等の合成ゴム又は天然ゴム等の有機系バインダー樹脂；シリカゾル、アルカリ珪酸塩、シリコンアルコキシドやそれらの（加水分解）縮合物、リン酸塩等の無機系結着剤等のバインダー樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ブチラール樹脂、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂が好ましい。より好ましくは、（メタ）アクリル系樹脂である。なお、アクリル系樹脂とメタクリル系樹脂をアクリル系樹脂ともいう。
これらの中でも、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ブチラール樹脂、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂が好ましい。より好ましくは、（メタ）アクリル系樹脂である。なお、アクリル系樹脂とメタクリル系樹脂をアクリル系樹脂ともいう。
本発明の近赤外線吸収材、熱線遮蔽材、及び、プラズマディスプレイパネル用フィルタは、本発明のフタロシアニン化合物と樹脂とを含むものである限り、その他の成分を含んでいてもよい。その他の成分を含む場合、その他成分の含有割合は、近赤外線吸収材全体１００質量％に対して０．０００５〜６０質量％であることが好ましい。より好ましくは、０．００１〜５０質量％であることである。
その他の成分としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルホルムアミド等の有機溶剤の１種又は２種以上や、硬化剤、レベリング剤；コロイド状シリカ、アルミナゾル等の無機微粒子、消泡剤、タレ性防止剤、シランカップリング剤、チタン白、複合酸化物顔料、カーボンブラック、有機顔料、顔料中間体等の顔料；顔料分散剤；抗酸化剤；粘性改質剤；紫外線安定剤；金属不活性化剤；過酸化物分解剤；充填剤；補強剤；可塑剤；潤滑剤；防食剤；防錆剤；蛍光性増白剤；有機及び無機系紫外線吸収剤、無機系熱線吸収剤；有機・無機防炎剤；静電防止剤等の添加剤が挙げられる。
その他の成分としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルホルムアミド等の有機溶剤の１種又は２種以上や、硬化剤、レベリング剤；コロイド状シリカ、アルミナゾル等の無機微粒子、消泡剤、タレ性防止剤、シランカップリング剤、チタン白、複合酸化物顔料、カーボンブラック、有機顔料、顔料中間体等の顔料；顔料分散剤；抗酸化剤；粘性改質剤；紫外線安定剤；金属不活性化剤；過酸化物分解剤；充填剤；補強剤；可塑剤；潤滑剤；防食剤；防錆剤；蛍光性増白剤；有機及び無機系紫外線吸収剤、無機系熱線吸収剤；有機・無機防炎剤；静電防止剤等の添加剤が挙げられる。
本発明のフタロシアニン化合物は、上述の構成よりなり、固体のチオールを原料とすることからチオールの臭気が抑制されて合成時における原料の取り扱いがし易くなるものであることに加え、更に近赤外領域において、９００〜１０００ｎｍの長波長領域に充分な吸収を示すとともに、耐久性にも優れるものであることから、プラズマディスプレイパネル用フィルターをはじめとする各種の用途において、近赤外線吸収材や熱線遮蔽材として好適に用いることができるものである。
合成例１：３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリルの合成
１００ｍｌの４つ口丸底フラスコにテトラフルオロフタロニトリル１０ｇ（０．０５モル）、フッ化カリウム７．３ｇ（０．１２６モル）及び２−ブタノン３０ｍｌを仕込み、この液に２−ナフタレンチオール１６．８ｇ（０．１０５モル）を少量ずつ丸底フラスコの内容物を攪拌しながら、反応温度が１０℃以下になるように添加速度を調節しながら添加した後、更に３時間攪拌を継続した。
次に、このフラスコに、２，６−ジメチルフェノール７．５ｇ（０．０６モル）、フッ化カリウム４．６ｇ（０．０８モル）及び２−ブタノン１０ｍｌを仕込み、還流しながら４０時間反応した。
冷却後、反応液をろ過し、ろ過物を２−ブタノン２０ｍｌで洗浄ろ過し、ろ液と合わせた。
ロータリーエバポレーターで、ろ液から２−ブタノンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル２３．８９ｇ（０．０４１モル、収率８２．３モル％）を得た。得られた化合物の元素分析結果を表１に示す。
１００ｍｌの４つ口丸底フラスコにテトラフルオロフタロニトリル１０ｇ（０．０５モル）、フッ化カリウム７．３ｇ（０．１２６モル）及び２−ブタノン３０ｍｌを仕込み、この液に２−ナフタレンチオール１６．８ｇ（０．１０５モル）を少量ずつ丸底フラスコの内容物を攪拌しながら、反応温度が１０℃以下になるように添加速度を調節しながら添加した後、更に３時間攪拌を継続した。
次に、このフラスコに、２，６−ジメチルフェノール７．５ｇ（０．０６モル）、フッ化カリウム４．６ｇ（０．０８モル）及び２−ブタノン１０ｍｌを仕込み、還流しながら４０時間反応した。
冷却後、反応液をろ過し、ろ過物を２−ブタノン２０ｍｌで洗浄ろ過し、ろ液と合わせた。
ロータリーエバポレーターで、ろ液から２−ブタノンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル２３．８９ｇ（０．０４１モル、収率８２．３モル％）を得た。得られた化合物の元素分析結果を表１に示す。
合成例２：３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（４−メトキシ−１−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリルの合成
合成例１で使用した２−ナフタレンチオール１６．８ｇ（０．１０５モル）の代わりに、４−メトキシ−１−ナフトール１８．２９ｇ（０．１０５モル）を使用した以外は合成例１と同様にして、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（４−メトキシ−１−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリル２３．４２ｇ（０．０３８４モル、収率７６．７モル％）を得た。得られた化合物の元素分析結果を表２に示す。
合成例１で使用した２−ナフタレンチオール１６．８ｇ（０．１０５モル）の代わりに、４−メトキシ−１−ナフトール１８．２９ｇ（０．１０５モル）を使用した以外は合成例１と同様にして、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（４−メトキシ−１−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリル２３．４２ｇ（０．０３８４モル、収率７６．７モル％）を得た。得られた化合物の元素分析結果を表２に示す。
合成例３：３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリルの合成
合成例１で使用した２−ナフタレンチオール１６．８ｇ（０．１０５モル）の代わりに、２−ナフトール１５．１ｇ（０．１０５モル）を使用した以外は合成例１と同様にして、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリル２２．０ｇ（０．０４モル、収率８０モル％）を得た。得られた化合物の元素分析結果を表３に示す。
合成例１で使用した２−ナフタレンチオール１６．８ｇ（０．１０５モル）の代わりに、２−ナフトール１５．１ｇ（０．１０５モル）を使用した以外は合成例１と同様にして、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリル２２．０ｇ（０．０４モル、収率８０モル％）を得た。得られた化合物の元素分析結果を表３に示す。
合成例４：３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４−クロロ−５−（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリルの合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに４−クロロ−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル３ｇ（１３．９ミリモル）、フッ化カリウム１．０ｇ（１７．２ミリモル）及び２−ブタノン３０ｍｌを仕込み、この液に２−ナフタレンチオール２．３３ｇ（１４．６ミリモル）を少量ずつ、フラスコの内容物を攪拌しながら、反応温度が１０℃以下になるように添加した後、更に２時間攪拌を継続した。
次に、このフラスコに、２，６−ジメチルフェノール２．１ｇ（１７．２ミリモル）、フッ化カリウム１．０ｇ（１７．２ミリモル）を仕込み、ついで還流下で攪拌しながら２４時間保った。
その後、反応液を冷却し、反応液をろ過し、ろ過物を２−ブタノン１０ｍｌで洗浄ろ過し、ろ液と合わせた。ロータリーエバポレーターで、ろ液から２−ブタノンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４−クロロ−５−（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル５．１３ｇ（１１．２ミリモル、収率８０．５モル％）が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表４に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに４−クロロ−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル３ｇ（１３．９ミリモル）、フッ化カリウム１．０ｇ（１７．２ミリモル）及び２−ブタノン３０ｍｌを仕込み、この液に２−ナフタレンチオール２．３３ｇ（１４．６ミリモル）を少量ずつ、フラスコの内容物を攪拌しながら、反応温度が１０℃以下になるように添加した後、更に２時間攪拌を継続した。
次に、このフラスコに、２，６−ジメチルフェノール２．１ｇ（１７．２ミリモル）、フッ化カリウム１．０ｇ（１７．２ミリモル）を仕込み、ついで還流下で攪拌しながら２４時間保った。
その後、反応液を冷却し、反応液をろ過し、ろ過物を２−ブタノン１０ｍｌで洗浄ろ過し、ろ液と合わせた。ロータリーエバポレーターで、ろ液から２−ブタノンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４−クロロ−５−（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル５．１３ｇ（１１．２ミリモル、収率８０．５モル％）が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表４に示す。
実施例１：ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル１０ｇ（１７．２ミリモル）、三塩化バナジウム１．０７ｇ（６．８１ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．０ｇ（１５．４ミリモル）及びベンゾニトリル３０ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間保った。この後、６０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１８．７ｇ（０．１４５モル）を加えて６０℃で攪拌下約３時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をメタノールに滴下し晶析させ、更にメタノールで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が８．９８ｇ（３．１７ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、７３．８モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表５に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル１０ｇ（１７．２ミリモル）、三塩化バナジウム１．０７ｇ（６．８１ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．０ｇ（１５．４ミリモル）及びベンゾニトリル３０ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間保った。この後、６０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１８．７ｇ（０．１４５モル）を加えて６０℃で攪拌下約３時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をメタノールに滴下し晶析させ、更にメタノールで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が８．９８ｇ（３．１７ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、７３．８モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表５に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
実施例２：ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（４−メトキシ−２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリル５ｇ（８．１９ミリモル）、三塩化バナジウム０．６４ｇ（４．１ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．０ｇ（１５．４ミリモル）及びベンゾニトリル２０ｇを仕込み、還流下で攪拌下約６時間保った。この後、１１０℃に冷却後、２−エチルヘキシルアミン８．５ｇ（６５．８モル）を加えて１１０℃で攪拌下約５時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下して晶析させ、更にアセトニトリルで洗浄を行った。真空乾燥により、ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が４．３８ｇ（１．４９ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、７２．６モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表６に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）Ｃ１０Ｈ６Ｏ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（４−メトキシ−２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリル５ｇ（８．１９ミリモル）、三塩化バナジウム０．６４ｇ（４．１ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．０ｇ（１５．４ミリモル）及びベンゾニトリル２０ｇを仕込み、還流下で攪拌下約６時間保った。この後、１１０℃に冷却後、２−エチルヘキシルアミン８．５ｇ（６５．８モル）を加えて１１０℃で攪拌下約５時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下して晶析させ、更にアセトニトリルで洗浄を行った。真空乾燥により、ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が４．３８ｇ（１．４９ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、７２．６モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表６に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）Ｃ１０Ｈ６Ｏ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
実施例３：ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリル１０ｇ（０．０１８モル）、三塩化バナジウム１．４２ｇ（９．０３ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．５ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間反応を継続した。反応終了後、１２０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１８．６ｇ（０．１４４モル）を加えて１２０℃で攪拌下約３時間保った。反応液を冷却後、ろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下し、晶析させ、析出した結晶をろ別してアセトニトリルで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が、９．２４ｇ（３．４１ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、７５．２モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表７に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリル１０ｇ（０．０１８モル）、三塩化バナジウム１．４２ｇ（９．０３ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．５ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間反応を継続した。反応終了後、１２０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１８．６ｇ（０．１４４モル）を加えて１２０℃で攪拌下約３時間保った。反応液を冷却後、ろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下し、晶析させ、析出した結晶をろ別してアセトニトリルで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が、９．２４ｇ（３．４１ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、７５．２モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表７に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
実施例４：ＣｕＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル１０ｇ（１７．２ミリモル）、塩化第一銅０．６４ｇ（６．４６ミリモル）、Ｎ−オクタノール１５ｇ及びベンゾニトリル１５ｇを仕込み、１８０℃で攪拌しながら、６時間保った。その後、６０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１７．８ｇ（０．１３８モル）を加えて６０℃で攪拌下３時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をメタノールに滴下して晶析させ、更にメタノールで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＣｕＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が、９．５１ｇ（３．３６ミリモル）、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率７８．３モル％が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表８に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＣｕＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル１０ｇ（１７．２ミリモル）、塩化第一銅０．６４ｇ（６．４６ミリモル）、Ｎ−オクタノール１５ｇ及びベンゾニトリル１５ｇを仕込み、１８０℃で攪拌しながら、６時間保った。その後、６０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１７．８ｇ（０．１３８モル）を加えて６０℃で攪拌下３時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をメタノールに滴下して晶析させ、更にメタノールで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＣｕＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が、９．５１ｇ（３．３６ミリモル）、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率７８．３モル％が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表８に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＣｕＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
実施例５：ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）｝８｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝８の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３，６−ジフルオロ−４，５−ビス（４−メトキシ−２−ナフトキシ）フタロニトリル１０ｇ（０．０２モル）、三塩化バナジウム１．４５ｇ（９．２ミリモル）、Ｎ−オクタノール１．２ｇ及びベンゾニトリル２５ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間反応を継続した。反応終了後、１２０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン５２ｇ（０．４０モル）を加えて１２０℃で攪拌下約３時間保った。反応液を冷却後、ろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下し、晶析させ、析出した結晶をろ別してアセトニトリルで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）｝８｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝８が１１．２５ｇ（３．７８ミリモル）、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率７６．９モル％が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表９に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）Ｃ１０Ｈ６Ｏ｝８｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝８のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３，６−ジフルオロ−４，５−ビス（４−メトキシ−２−ナフトキシ）フタロニトリル１０ｇ（０．０２モル）、三塩化バナジウム１．４５ｇ（９．２ミリモル）、Ｎ−オクタノール１．２ｇ及びベンゾニトリル２５ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間反応を継続した。反応終了後、１２０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン５２ｇ（０．４０モル）を加えて１２０℃で攪拌下約３時間保った。反応液を冷却後、ろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下し、晶析させ、析出した結晶をろ別してアセトニトリルで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ１０Ｈ６Ｏ）｝８｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝８が１１．２５ｇ（３．７８ミリモル）、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２−ナフトキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率７６．９モル％が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表９に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）Ｃ１０Ｈ６Ｏ｝８｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝８のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
実施例６：ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）４｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４Ｃｌ４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４−クロロ−５−（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル５ｇ（１０．９ミリモル）、三塩化バナジウム０．６５ｇ（４．１ミリモル）、Ｎ−オクタノール１．１ｇ（８．４ミリモル）及びベンゾニトリル３０ｇを仕込み、１８０℃で攪拌しながら５時間保った。その後、６０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１１．３ｇ（０．０８７モル）を加えて６０℃で攪拌下３時間保った。
冷却後、反応液をろ過し、ろ液をメタノールに滴下して晶析させ、更にメタノールで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）４｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４Ｃｌ４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が４．７５ｇ（２．０３ミリモル）、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４−クロロ−５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率７４．５モル％が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表１０に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）４｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４Ｃｌ４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４−クロロ−５−（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリル５ｇ（１０．９ミリモル）、三塩化バナジウム０．６５ｇ（４．１ミリモル）、Ｎ−オクタノール１．１ｇ（８．４ミリモル）及びベンゾニトリル３０ｇを仕込み、１８０℃で攪拌しながら５時間保った。その後、６０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１１．３ｇ（０．０８７モル）を加えて６０℃で攪拌下３時間保った。
冷却後、反応液をろ過し、ろ液をメタノールに滴下して晶析させ、更にメタノールで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）４｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４Ｃｌ４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が４．７５ｇ（２．０３ミリモル）、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４−クロロ−５−ビス（２−ナフチルチオ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率７４．５モル％が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表１０に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）４｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４Ｃｌ４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
比較例１：ＣｕＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェノキシ）−６−フルオロフタロニトリル８．１ｇ（０．０１８モル）、塩化第一銅０．９ｇ（９．１ミリモル）、Ｎ−オクタノール３０ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間反応を継続した。反応終了後、１００℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１８．６ｇ（０．１４４モル）を加えて１００℃で攪拌下約３時間保った。反応液を冷却後、ろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下し、更に水を添加して晶析させ、析出した結晶をろ別してアセトニトリルで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＣｕＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が６．９７ｇ（３．０３ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェノキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、６７．３モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表１１に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェノキシ）−６−フルオロフタロニトリル８．１ｇ（０．０１８モル）、塩化第一銅０．９ｇ（９．１ミリモル）、Ｎ−オクタノール３０ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間反応を継続した。反応終了後、１００℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１８．６ｇ（０．１４４モル）を加えて１００℃で攪拌下約３時間保った。反応液を冷却後、ろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下し、更に水を添加して晶析させ、析出した結晶をろ別してアセトニトリルで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＣｕＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が６．９７ｇ（３．０３ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェノキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、６７．３モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表１１に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
比較例２：ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェノキシ）−６−フルオロフタロニトリル８．１ｇ（０．０１８モル）、三塩化バナジウム１．４２ｇ（９．０ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．５ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間反応を継続した。反応終了後、１００℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン３７．２ｇ（０．２８８モル）を加えて１００℃で攪拌下約３時間保った。反応液を冷却後、ろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下し、更に水を添加して晶析させ、析出した結晶をろ別してアセトニトリルで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が６．６２ｇ（２．８７ミリモル）、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェノキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率６３．９モル％が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表１２に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェノキシ）−６−フルオロフタロニトリル８．１ｇ（０．０１８モル）、三塩化バナジウム１．４２ｇ（９．０ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．５ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間反応を継続した。反応終了後、１００℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン３７．２ｇ（０．２８８モル）を加えて１００℃で攪拌下約３時間保った。反応液を冷却後、ろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下し、更に水を添加して晶析させ、析出した結晶をろ別してアセトニトリルで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が６．６２ｇ（２．８７ミリモル）、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェノキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率６３．９モル％が得られた。得られた化合物の元素分析結果を表１２に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
比較例３：ＶＯＰｃ｛４−ＣＨ３Ｏ（Ｃ６Ｈ５Ｏ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（４−メトキシフェノキシ）−６−フルオロフタロニトリル４．１８ｇ（８．１９ミリモル）、三塩化バナジウム０．６４ｇ（４．１ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．０ｇ（１５．４ミリモル）及びベンゾニトリル２０ｇを仕込み、還流下で攪拌下約６時間保った。この後、１１０℃に冷却後、２−エチルヘキシルアミン８．５ｇ（６５．８ミリモル）を加えて１１０℃で攪拌下約５時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下して晶析させ、更にアセトニトリルで洗浄を行った。真空乾燥により、ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）Ｃ６Ｈ５Ｏ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が３．３８ｇ（１．３３ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（４−メトキシフェノキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、６４．８モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表１３に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）Ｃ６Ｈ５Ｏ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（４−メトキシフェノキシ）−６−フルオロフタロニトリル４．１８ｇ（８．１９ミリモル）、三塩化バナジウム０．６４ｇ（４．１ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．０ｇ（１５．４ミリモル）及びベンゾニトリル２０ｇを仕込み、還流下で攪拌下約６時間保った。この後、１１０℃に冷却後、２−エチルヘキシルアミン８．５ｇ（６５．８ミリモル）を加えて１１０℃で攪拌下約５時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をアセトニトリルに滴下して晶析させ、更にアセトニトリルで洗浄を行った。真空乾燥により、ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）Ｃ６Ｈ５Ｏ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が３．３８ｇ（１．３３ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（４−メトキシフェノキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、６４．８モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表１３に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）Ｃ６Ｈ５Ｏ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
比較例４：ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４の合成
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェニルチオ）−６−フルオロフタロニトリル８．８ｇ（１８．２ミリモル）、三塩化バナジウム１．０７ｇ（６．８１ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．０ｇ（１５．４ミリモル）及びベンゾニトリル３０ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間保った。この後、６０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１８．７ｇ（０．１４５モル）を加えて６０℃で攪拌下約３時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をメタノールに滴下して晶析させ、更にメタノールで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が７．２８ｇ（２．９８ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェニルチオ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、６５．６モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表１４に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
１００ｍｌの４つ口フラスコに、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェニルチオ）−６−フルオロフタロニトリル８．８ｇ（１８．２ミリモル）、三塩化バナジウム１．０７ｇ（６．８１ミリモル）、Ｎ−オクタノール２．０ｇ（１５．４ミリモル）及びベンゾニトリル３０ｇを仕込み、ついで還流下で攪拌しながら、６時間保った。この後、６０℃に冷却し、２−エチルヘキシルアミン１８．７ｇ（０．１４５モル）を加えて６０℃で攪拌下約３時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をメタノールに滴下して晶析させ、更にメタノールで洗浄を行った後、真空乾燥により、ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４が７．２８ｇ（２．９８ミリモル）得られた。３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（フェニルチオ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率は、６５．６モル％であった。得られた化合物の元素分析結果を表１４に示す。
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて、本実施例で得られたフタロシアニン化合物ＶＯＰｃ（Ｃ６Ｈ５Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４のアセトン及びクロロフォルム中での最大吸収波長測定、並びに、波長６１０ｎｍの可視光の透過率測定を行った。また、トルエン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に対する溶解度を測定した。結果を表１５に示す。
上記表１３における溶解度は、２５℃の溶媒１００ｇにフタロシアニン化合物１ｇを加えて３０分間攪拌し、フタロシアニン化合物の溶解の程度を目視により確認した。評価基準は以下のとおりである。
・：全て溶解 ○：ほぼ全て溶解（一部溶解せず） △：一部溶解 ×：溶解せず
・：全て溶解 ○：ほぼ全て溶解（一部溶解せず） △：一部溶解 ×：溶解せず
実施例７
溶融したポリカーボネート樹脂（帝人化成株式会社製、パンライト１２８５、商品名）１００質量部に実施例１で得られたフタロシアニン化合物［ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４を０．０１２質量部添加し、２５０〜３００℃に温度調節された射出成形機で外形７５ミリ、中心厚２ミリのレンズに成形した。得られたレンズの中心部における光線透過率値、６１０ｎｍにおける可視光線透過率を分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて測定したところ、９８０ｎｍの光線透過率値は、９．１％で、可視光透過率は、８０％であった。
溶融したポリカーボネート樹脂（帝人化成株式会社製、パンライト１２８５、商品名）１００質量部に実施例１で得られたフタロシアニン化合物［ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４を０．０１２質量部添加し、２５０〜３００℃に温度調節された射出成形機で外形７５ミリ、中心厚２ミリのレンズに成形した。得られたレンズの中心部における光線透過率値、６１０ｎｍにおける可視光線透過率を分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて測定したところ、９８０ｎｍの光線透過率値は、９．１％で、可視光透過率は、８０％であった。
実施例８
溶融したポリカーボネート樹脂（帝人化成株式会社製、パンライト１２８５、商品名）１００質量部に特開２００１−１０６６８９号公報の実施例３で製造されたフタロシアニン化合物［ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ］を０．００６質量部、及び実施例１で得られたフタロシアニン化合物［ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４］を０．０１０質量部添加し、Ｔダイ押出し機で厚さ２．５ミリのシートを２８０℃で成形しフィルターを得た。得られたフィルターの光線透過率値、６１０ｎｍにおける可視光線透過率を分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて測定したところ、７５０〜１１００ｎｍの光線透過率の最低値は、９．０％で、可視光透過率は、７２．３％であった。
該フィルターを、実際にプラズマディスプレーの前面部に取り付け、リモコンにより動作制御を行う電子機器をディスプレーから２．５ｍの位置に設置し、誤作動が誘発されないかを確認したところ、フィルターがない場合には、誤作動が誘発されたが、該フィルターを取り付けた場合には、誤作動の誘発が全く見られなかった。
溶融したポリカーボネート樹脂（帝人化成株式会社製、パンライト１２８５、商品名）１００質量部に特開２００１−１０６６８９号公報の実施例３で製造されたフタロシアニン化合物［ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ］を０．００６質量部、及び実施例１で得られたフタロシアニン化合物［ＶＯＰｃ（Ｃ１０Ｈ７Ｓ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛Ｃ４Ｈ９ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４］を０．０１０質量部添加し、Ｔダイ押出し機で厚さ２．５ミリのシートを２８０℃で成形しフィルターを得た。得られたフィルターの光線透過率値、６１０ｎｍにおける可視光線透過率を分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製ＵＶ−３１００）を用いて測定したところ、７５０〜１１００ｎｍの光線透過率の最低値は、９．０％で、可視光透過率は、７２．３％であった。
該フィルターを、実際にプラズマディスプレーの前面部に取り付け、リモコンにより動作制御を行う電子機器をディスプレーから２．５ｍの位置に設置し、誤作動が誘発されないかを確認したところ、フィルターがない場合には、誤作動が誘発されたが、該フィルターを取り付けた場合には、誤作動の誘発が全く見られなかった。
Claims (5)
- 下記一般式（１）；
ことを特徴とするフタロシアニン化合物。 - 請求項１に記載のフタロシアニン化合物の製造方法であって、該フタロシアニン化合物の製造方法は、下記一般式（２）〜（５）；
ことを特徴とする請求項１に記載のフタロシアニン化合物の製造方法。 - 請求項１に記載のフタロシアニン化合物と樹脂とを含んでなる近赤外線吸収材であって、該フタロシアニン化合物の配合量は、該樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部である
ことを特徴とする近赤外吸収材。 - 請求項１に記載のフタロシアニン化合物と樹脂とを含んでなる熱線遮蔽材であって、該フタロシアニン化合物の配合量は、該樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部である
ことを特徴とする熱線遮蔽材。 - 請求項１に記載のフタロシアニン化合物と樹脂とを含んでなるプラズマディスプレイパネル用フィルタであって、
該フタロシアニン化合物の配合量は、該樹脂１００質量部に対して０．０００５〜２０質量部である
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005365505A JP5046515B2 (ja) | 2005-12-19 | 2005-12-19 | フタロシアニン化合物並びにその製造方法及び用途 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005365505A JP5046515B2 (ja) | 2005-12-19 | 2005-12-19 | フタロシアニン化合物並びにその製造方法及び用途 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007169343A JP2007169343A (ja) | 2007-07-05 |
| JP2007169343A5 JP2007169343A5 (ja) | 2008-08-28 |
| JP5046515B2 true JP5046515B2 (ja) | 2012-10-10 |
Family
ID=38296346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005365505A Expired - Fee Related JP5046515B2 (ja) | 2005-12-19 | 2005-12-19 | フタロシアニン化合物並びにその製造方法及び用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5046515B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20100079783A (ko) * | 2008-12-31 | 2010-07-08 | 에스케이케미칼주식회사 | 바나듐 프탈로시아닌 화합물 및 이를 이용한 근적외선 흡수필터 |
| KR101153787B1 (ko) * | 2009-12-18 | 2012-06-13 | 에스케이케미칼주식회사 | 바나딜 프탈로시아닌 화합물 및 이를 이용한 근적외선 흡수 필터 |
| JP4902819B1 (ja) * | 2010-02-26 | 2012-03-21 | 株式会社日本触媒 | フタロシアニン誘導体 |
| WO2014084288A1 (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
| EP2927717A4 (en) | 2012-11-30 | 2016-01-06 | Fujifilm Corp | HARDENABLE RESIN COMPOSITION AND IMAGE SENSOR PROCESSING AS WELL AS PICTOR SENSOR THEREBY |
| WO2014104137A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
| EP2940090A4 (en) | 2012-12-28 | 2016-01-06 | Fujifilm Corp | HARDENABLE RESIN COMPOSITION FOR PREPARING AN INFRARED REFLECTIVE FILM, INFRARED REFLECTIVE FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, INFRARED EDGEFILTER, AND SOLIDAGE IMAGING ELEMENT THEREWITH |
| CN104327797B (zh) * | 2014-10-14 | 2016-03-16 | 中国工程物理研究院化工材料研究所 | 一种半碳化酞菁铁吸波剂的制备方法与所得吸波剂及其应用 |
| US9966402B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-05-08 | Jsr Corporation | Solid-state imaging device |
| TWI675907B (zh) | 2015-01-21 | 2019-11-01 | 日商Ｊｓｒ股份有限公司 | 固體攝像裝置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0631239B2 (ja) * | 1987-04-06 | 1994-04-27 | 株式会社日本触媒 | 新規含フッ素フタロシアニン化合物およびその製造方法 |
| JPH01100171A (ja) * | 1987-10-13 | 1989-04-18 | Yamamoto Chem Inc | フタロシアニン化合物の製造方法 |
| DE68928559T2 (de) * | 1988-12-15 | 1998-06-18 | Mitsui Toatsu Chemicals | Absorbiermittel im nahen Infrarot und Anzeige-/Aufzeichnungsmaterialien, die daraus hergestellt sind |
| JPH07103093B2 (ja) * | 1989-01-12 | 1995-11-08 | 三井東圧化学株式会社 | フタロニトリル系化合物およびその製造方法 |
| GB2259517A (en) * | 1991-09-02 | 1993-03-17 | Ici Plc | Phthalocyanine compounds |
| JPH08317737A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-12-03 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 植物成長抑制用被覆材料 |
| JP3721298B2 (ja) * | 1999-07-30 | 2005-11-30 | 株式会社日本触媒 | フタロシアニン化合物およびその製造方法ならびにこれを用いてなる近赤外吸収色素 |
| JP4278923B2 (ja) * | 2002-06-12 | 2009-06-17 | 株式会社日本触媒 | フタロシアニン化合物ならびにその製造方法および用途 |
| JP2005298491A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-10-27 | Nippon Shokubai Co Ltd | ハロゲン含有フタロシアニン化合物の製造方法 |
| US20050277729A1 (en) * | 2004-05-26 | 2005-12-15 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Pressure-sensitive adhesive composition |
-
2005
- 2005-12-19 JP JP2005365505A patent/JP5046515B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2007169343A (ja) | 2007-07-05 |
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