JP2008052076A - ガラス - Google Patents

Abstract

【課題】特に自動車等の乗り物のフロントガラスに好適に用いられ、裏面反射による車内の構造物の反射像（影）の映り込みを防止できるガラスの提供。
【解決手段】基材と、少なくとも偏光子を含有する偏光層とを有してなり、前記偏光子のアスペクト比が１．５以上であり、かつ該偏光子の長軸方向が前記基材面に対し斜め方向に配向しているガラスである。該偏光子の長軸方向が、基材面に対し±３０度以上、±８０度未満の角度で配向している態様、乗り物のフロントガラスに用いられる態様、乗り物が自動車である態様などが好ましい。
【選択図】図３

Description

本発明は、特に自動車等の乗り物のフロントガラスに好適に用いられ、裏面反射による車内の構造物の反射像（影）の映り込みを防止できるガラスに関する。
なお、本発明において、角度が±Ａ度とは、−Ａ度〜＋Ａ度の範囲であることを意味する。

日中、自動車のフロントガラスに車内のダッシュボード等の構造物の反射像が映り込み、運転者の視認性を低下させることがあり、安全運転上問題となっている。また、昨今では自動車室内の色使いや模様など、デザイン性が問われることが多くなっているが、ダッシュボードのエリアだけは、この映り込みの問題があるため暗色しか使えないという不都合がある。
このため、例えば、特許文献１には、反射防止層を被覆したガラス２枚を反射防止層が外側になるように貼り合せてなる合わせガラスが提案されている。
また、特許文献２には、透明ガラス基板の少なくとも片側表面にガラス面側から第１層目として屈折率ｎ１＝１．８〜１．９でかつ厚みが７００〜９００Åである薄膜層を被覆し、該第１層目薄膜上に、第２層として屈折率がｎ２＝１．４〜１．５でかつ厚みが１，１００〜１，３００Åである薄膜層を積層してなり、前記表面の垂直線とのなす入射角が５０〜７０度の間で入射する膜面側の可視光に対し、前記薄膜層面における反射を４．５〜６．５％低減する車両用反射低減ガラスが提案されている。

しかし、前記特許文献１及び前記特許文献２のように、車両用フロントガラスの外側に低反射処理を施す場合には、運転時に安全視界を確保するために使用されるワイパー等によってフロントガラスの外側表面が擦られ、低反射処理膜が摩耗し、光の干渉を利用した光学薄膜の性能を維持できないという問題がある。また、汚れの付着等によって光の干渉条件がずれて反射率が著しく増大し、汚れが目立ち、車両用フロントガラスの外側に低反射処理を行うことは耐久性の面から問題がある。更に、片面だけの反射防止処理だけでは、他方の反射防止未処理の片面からの裏面反射が残ってしまい、トータルの反射防止効果は約３０％の低減に留まり、十分満足できる性能を備えたものではないのが現状である。

実開平５−６９７０１号公報 特開平４−３５７１３４号公報

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、特に自動車等の乗り物のフロントガラスに好適に用いられ、裏面反射による車内の構造物の反射像（影）の映り込みを防止することでトータルの反射防止効果が飛躍的に上がって安全性が向上し、更にダッシュボードのデザイン性を向上させることができるガラスを提供することを目的とする。

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 基材と、少なくとも偏光子を含有する偏光層とを有してなり、
前記偏光子のアスペクト比が１．５以上であり、かつ該偏光子の長軸が前記基材面に対し斜め方向に配向していることを特徴とするガラスである。
＜２＞ 偏光子の長軸が、基材面に対し±３０度以上、±８０度未満の角度で配向している前記＜１＞に記載のガラスである。
＜３＞ 基材面に対し垂直方向から見た際に、偏光子が偏光層面内の一方向に配列されている前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載のガラスである。
＜４＞ 基材の一方の面側から太陽光が入射するようにガラスを配置した際に、前記基材の太陽光が入射しない側の面に偏光層を有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のガラスである。
＜５＞ 基材が２枚の板ガラス間に中間層を有する合わせガラスであり、かつ該中間層が偏光層である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のガラスである。
＜６＞ 基材の一方の面側から太陽光が入射するようにガラスを配置した際に、前記基材の少なくとも太陽光が入射しない側の最表面に反射防止膜を有する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のガラスである。
＜７＞ 偏光層と反射防止層との間に、１／４波長板及び１／２波長板のいずれかを有する前記＜６＞に記載のガラスである。
＜８＞ 乗り物のフロントガラスに用いられる前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載のガラスである。
＜９＞ 乗り物が、自動車である前記＜８＞に記載のガラスである。
＜１０＞ フロントガラスと水平基準面とのなす角が、２０〜５０度である前記＜８＞から＜９＞のいずれかに記載のガラスである。
＜１１＞ 乗り物を運転中の運転者のフロントガラス面への視線方向に対し、偏光子の長軸が±３０度以内の角度に配向している前記＜８＞から＜１０＞のいずれかに記載のガラスである。
＜１２＞ 偏光子が、異方性吸収材料を含有する前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載のガラスである。
＜１３＞ 異方性吸収材料が、異方性金属ナノ粒子及びカーボンナノチューブのいずれかである前記＜１２＞に記載のガラスである。
＜１４＞ 異方性金属ナノ粒子の材料が、金、銀、銅、及びアルミニウムから選択される少なくとも１種である前記＜１３＞に記載のガラスである。

本発明のガラスは、基材と、少なくとも偏光子を含有する偏光層とを有してなり、
前記偏光子のアスペクト比が１．５以上であり、かつ該偏光子の長軸が前記基材面に対し斜め方向に配向しているので、例えば自動車等の乗り物のフロントガラスに好適に用いられ、裏面反射による車内の構造物の反射像（影）の映り込みを防止できる。

本発明によると、従来における問題を解決することができ、特に自動車等の乗り物のフロントガラスに好適に用いられ、裏面反射による車内の構造物の反射像（影）の映り込みを防止することでトータルの反射防止効果が飛躍的に上がって安全性が向上し、更にダッシュボードのデザイン性を向上させることができるガラスを提供することができる。

（ガラス）
本発明のガラスは、基材と、偏光層とを有してなり、反射防止膜、１／２波長板、１／４波長板、更に必要に応じてその他の層を有してなる。

＜基材＞
前記基材としてはガラス（即ち、基材ガラス）が最も適している。これは、ガラスは風雨に晒される環境において乗り物の概略寿命である１２年の耐久性を持ち、偏光を乱さない、と言う点において最も実績があるからである。しかし、最近ではポリマーの板状成形物においてもノルボルネン系高分子等のように高耐久性であって等方性が高く偏光を乱しにくいプラスチックが提供されており、基材としてガラス以外を用いることも可能である。

−基材ガラス−
前記基材ガラスとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、単層ガラス、合わせガラス、強化合わせガラス、複層ガラス、強化複層ガラス、合わせ複層ガラスなどが挙げられる。
このような基材ガラスを構成する板ガラスの種類としては、例えば透明板ガラス、型板ガラス、網入り板ガラス、線入り板ガラス、強化板ガラス、熱線反射板ガラス、熱線吸収板ガラス、Ｌｏｗ−Ｅ板ガラス、その他各種板ガラスなどが挙げられる。
なお、前記基材ガラスは、透明ガラスであれば無色透明ガラス及び有色透明ガラスのどちらであってもよい。
前記基材ガラスの厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２〜２０ｍｍが好ましく、４〜１０ｍｍがより好ましい。

−合わせガラス−
前記合わせガラスは、２枚の板ガラスの間に中間層を介在させて一体化したものである。このような合わせガラスは、外部衝撃を受けて破損してもガラスの破片が飛散することがなく安全であるため、自動車等の乗り物のフロントガラス、建築物等の窓ガラスとして広く用いられている。自動車用合わせガラスの場合には、最近では軽量化を図るため相当薄いものが用いられており、１枚のガラスは厚みが１〜３ｍｍであり、該ガラス２枚を厚みが０．３〜１ｍｍの粘着層で貼り合わせて、合計厚み約３〜６ｍｍの合わせガラスとしている。

前記２枚の板ガラスとしては、上述した各種板ガラスを目的に応じて適宜使用することができる。
前記中間層に用いられる熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性、耐候性、強度、接着力等の諸性能のバランスに優れた中間層が得られることから、ポリビニルアセタール系樹脂が特に好ましい。

前記ポリビニルアセタール系樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略記することがある）とホルムアルデヒドとを反応させて得られるポリビニルホルマール樹脂、ＰＶＡとアセトアルデヒドとを反応させて得られる狭義のポリビニルアセタール樹脂、ＰＶＡとｎ−ブチルアルデヒドとを反応させて得られるポリビニルブチラール樹脂などが挙げられる。
前記ポリビニルアセタール系樹脂の合成に用いられるＰＶＡとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、平均重合度が２００〜５，０００のものが好ましく、５００〜３，０００のものがより好ましい。前記平均重合度が２００未満であると、得られるポリビニルアセタール系樹脂を用いた中間層の強度が弱くなりすぎることがあり、５，０００を超えると、得られるポリビニルアセタール系樹脂を成形する際に不具合が生じることがある。
前記ポリビニルアセタール系樹脂は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、アセタール化度が４０〜８５モル％であるものが好ましく、５０〜７５モル％のものがより好ましい。前記アセタール化度が４０モル％未満又は８５モル％を超えるポリビニルアセタール系樹脂は反応機構上、合成が困難となることがある。前記アセタール化度は、ＪＩＳ Ｋ６７２８に準拠して測定することができる。

前記中間層には、前記熱可塑性樹脂以外にも、必要に応じて例えば可塑剤、顔料、接着性調整剤、カップリング剤、界面活性剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、赤外吸収剤などを添加することができる。
前記中間層の成形方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、熱可塑性樹脂及びその他の成分を含有する組成物を均一に混練りした後、押出し法、カレンダー法、プレス法、キャスティング法、インフレーション法等の従来公知の方法によりシート状に作製する方法などが挙げられる。
前記中間層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．３〜１．６ｍｍが好ましい。
本発明においては、前記中間層が、本発明の前記偏光層（膜）であることが生産性、耐久性などの点から好ましい。前記中間層が本発明の前記偏光膜である場合には、該中間層は偏光子を含有し、該偏光子を略水平方向に配向させること以外は同様である。なお、前記偏光膜は合わせガラスの片方の面に設けることもできる。

前記合わせガラスの作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、２枚の透明なガラス板の間に中間膜を挟み、この合わせガラス構成体を例えばゴムバッグのような真空バッグの中に入れ、この真空バッグを排気系に接続して、真空バッグ内の圧力が約−６５〜−１００ｋＰａの減圧度となるように減圧吸引（脱気）しながら温度が約７０〜１１０℃の予備接着を行った後、この予備接着された合わせガラス構成体をオートクレーブの中に入れ、温度１２０〜１５０℃、圧力０．９８〜１．４７ＭＰａの条件で加熱加圧して本接着を行うことにより、所望の合わせガラスを得ることができる。

＜偏光層＞
前記偏光層は、少なくとも偏光子を含有し、更に必要に応じて、分散剤、溶媒、バインダー樹脂等のその他の成分を含有してなる。
基材の一方の面側から太陽光が入射するようにガラスを配置した際に、前記基材の太陽光が入射しない側の面（うら面、内面）に偏光層を有することが好ましいが、両面に偏光層を設けてもよい。

−偏光子−
前記偏光子は、アスペクト比の平均値が１．５以上であり、１．６以上が好ましく、２．０以上がより好ましい。前記アスペクト比の平均値が１．５以上であると、十分な異方性吸収効果を発揮することができる。
ここで、前記偏光子のアスペクト比の平均値は、偏光子の長軸長さ及び短軸長さを測定し、次式、（偏光子の長軸長さ）／（偏光子の短軸長さ）から求めることができる。
前記偏光子の短軸長さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、１〜５０ｎｍが好ましく、５〜３０ｎｍがより好ましい。前記偏光子の長軸長さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、１０〜１，０００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがより好ましい。

本発明においては、前記偏光子の長軸が前記基材面（水平面）に対し斜め方向に配向している。このように偏光子の長軸を基材面（水平面）に対し斜め方向に配向させることによって、入射光線の方位角変化によって透過率が変わると共に透過光の偏光特性が変化する膜となる。
前記「基材面」とは、基材が単層ガラスである場合には、偏光層が設けられる側の基材表面（水平面）を意味する。また、基材が合わせガラスであり、偏光層が２枚の板ガラス間の中間層として設けられる場合には、偏光層が設けられている２枚の板ガラスのいずれか一方の板ガラス表面（水平面）を意味する。また、基材ガラスが合わせガラスであり、偏光層が中間層ではなく、合わせガラスのいずれか一方の面に設けられる場合には、偏光層が設けられる側の合わせガラス表面（水平面）を意味する。

前記「斜め方向」とは、前記偏光子の長軸が、前記基材ガラス面（水平面）に対し±３０度以上、±８０度未満に配向していることを意味し、±４０度以上、±７０度以下に配向していることがより好ましい。前記偏光子の長軸の基材ガラス面（水平面）に対する角度が±３０度以上であると、斜め配向偏光子としての特性が有効に機能することができる。一方、±８０度未満であると、入射光線の方位角変化時に有効な異方性が得られる。

ここで、前記偏光子の配向状態について図面を参照して具体的に説明する。図１Ａは偏光層２における偏光子Ｐの配向状態を示す平面図であり、図１Ｂは、図１ＡのＡ−Ａ線での断面図であり、図１Ｃは、図１ＡのＢ−Ｂ線での断面図であり、図１Ｄは、図１ＡのＢ−Ｂ線での別の断面図である。
図１Ａ〜図１Ｃに示すように、偏光子Ｐの長軸は、基材面（水平面）Ｓに対し斜め方向（約４５度）に配向している。
また、図１Ｄのａでは、偏光子Ｐの長軸が基材面（水平面）Ｓに対し斜め方向（約３０度）に配向している。図１Ｄのｂでは、偏光子Ｐの長軸が基材面（水平面）Ｓに対し斜め方向（約４５度）に配向している。図１Ｄのｃでは、偏光子Ｐの長軸が基材面（水平面）Ｓに対し斜め方向（約７５度）に配向している。
なお、図１Ａ〜図１Ｄでは、偏光層は基材のおもて面に形成されているが、うら面に形成しても構わない。

また、前記偏光子は、基材面に対し垂直方向から見た際に、偏光層面内の一方向に配列されていることが好ましい。例えば、偏光子の配列の長軸方向が、偏光層面内の水平線に対し略平行に配列していることが好ましい。この場合、前記偏光子の配列の長軸方向と、偏光層面の水平線とのなす角度が±３０度以内であることが好ましく、±５度以内であることがより好ましく、０度（水平）が特に好ましい。図１Ａでは、偏光子Ｐの配列の長軸方向が偏光層面の水平線Ｂ−Ｂに対し平行に配列している。

ここで、前記偏光子の長軸が前記基材面に対し斜め方向に配向していることは、例えば、偏光層の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより確認することができる。

前記偏光子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、異方性金属ナノ粒子、カーボンナノチューブ、金属錯体、二色性色素などが挙げられる。これらの中でも、異方性金属ナノ粒子、カーボンナノチューブが特に好ましい。

−異方性金属ナノ粒子−
前記異方性金属ナノ粒子は、数ｎｍ〜１００ｎｍのナノサイズの棒状金属微粒子である。該棒状金属微粒子とは、アスペクト比（長軸長さ／短軸長さ）が１．５以上である粒子を意味する。
このような異方性金属ナノ粒子は、表面プラズモン共鳴を示し、紫外〜赤外領域に吸収を示す。例えば短軸長さが１〜５０ｎｍ、長軸長さが１０〜１０００ｎｍ、アスペクト比が１．５以上の異方性金属ナノ粒子は、短軸方向と、長軸方向とで吸収位置を変えることができるので、このような異方性金属ナノ粒子を膜の水平面に対し斜め方向に配向させた偏光膜は、異方性吸収膜となる。
ここで、図２に、短軸長さ１２．４ｎｍ、長軸長さ４５．５ｎｍの異方性金属ナノ粒子の吸収スペクトルを示す。このような異方性金属ナノ粒子の短軸の吸収は５３０ｎｍ付近であり、赤色を示し、異方性金属ナノ粒子の長軸の吸収は７８０ｎｍ付近であり、青色を示す。

前記異方性金属ナノ粒子の金属種としては、例えば金、銀、銅、白金、パラジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、イリジウム、鉄、錫、亜鉛、コバルト、ニッケル、クロム、チタン、タンタル、タングステン、インジウム、アルミニウム、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、金、銀、銅、アルミニウムが好ましく、金、銀が特に好ましい。
次に、異方性金属ナノ粒子の好適な一例としての金ナノロッドについて説明する。

−−金ナノロッド−−
前記金ナノロッドの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、（１）電解法、（２）化学還元法、（３）光還元法などが挙げられる。

前記（１）電解法〔Ｙ．−Ｙ．Ｙｕ，Ｓ．−Ｓ．Ｃｈａｎｇ，Ｃ．−Ｌ．Ｌｅｅ，Ｃ．Ｒ．Ｃ．Ｗａｎｇ，Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ.Ｂ，１０１,６６６１(１９９７)〕は、カチオン性界面活性剤を含む水溶液を定電流電解し、陽極の金板から金クラスターを溶脱させて金ナノロッドを生成する。界面活性剤としては窒素原子に４つの疎水的な置換基が結合した構造を有する４級アンモニウム塩が用いられ、更に自律的な分子集合体を形成しない化合物、例えば、テトラドデシルアンモニウムブロミド（ＴＤＡＢ）などが添加されている。金ナノロッドを製造する場合には、金の供給源は陽極の金板から溶脱する金クラスターであり、塩化金酸等の金塩は用いられていない。電解中は超音波を照射し、溶液中に銀板を浸漬して金ナノロッドの成長を促す。
この電解法では、電極とは別に浸漬する銀板の面積を変えることによって生成する金ナノロッドの長さを制御できる。金ナノロッドの長さを調整することによって近赤外光域の吸収バンドの位置を７００ｎｍ付近から１２００ｎｍ付近の間に設定することが可能となる。反応条件を一定に保てばある程度一定形状の金ナノロッドを製造することができる。しかし、電解に用いる界面活性剤溶液は過剰の４級アンモニウム塩とシクロヘキサンとアセトンを含む複雑な系であり、超音波照射など不確定な要素を有するため、生成する金ナノロッドの形状と各種調製条件との因果関係を理論的に解析し、金ナノロッド調製条件の最適化を行うことは困難である。また、電解という性質上、本質的にスケールアップが容易ではなく、大量の金ナノロッドの調製には適さない。

前記（２）化学還元法〔Ｎ．Ｒ．Ｊａｎａ,Ｌ．Ｇｅａｒｈｅａｒｔ,Ｃ．Ｊ．Ｍｕｒｐｈｙ,Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｂ,１０５，４０６５(２００１)〕は、ＮａＢＨ_４によって塩化金酸を還元して金ナノ粒子を生成させる。この金ナノ粒子を「種粒子」とし、溶液中で成長させることによって金ナノロッドを得る。この「種粒子」と成長溶液に添加する塩化金酸の量比により生成する金ナノロッドの長さが決定される。この化学還元法では前記（１）の電解法よりも長い金ナノロッドを作製することが可能であり、長さ１，２００ｎｍを超える近赤外光域に吸収ピークをもつ金ナノロッドが報告されている。
しかし、この化学還元法は「種粒子」の調製と、成長反応との２つの反応槽が必要である。また「種粒子」の生成は数分間で終了するが、生成する金ナノロッドの濃度を上げることが困難であり、金ナノロッドの生成濃度は、前記（１）の電解法の１０分の１以下である。

前記（３）光還元法〔Ｆ．ｋｉｍ，Ｊ．Ｈ．Ｓｏｎｇ，Ｐ．Ｙａｎｇ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２４，１４３１６（２００２）〕は、前記（１）の電解法とほぼ同じ溶液に塩化金酸を添加し、紫外線照射により塩化金酸を還元する。紫外線照射には低圧水銀ランプを用いている。この光還元法では、種粒子を生成させずに金ナノロッドを生成することができる。金ナノロッドの長さの制御は照射時間によって可能である。生成する金ナノロッドの形状が均一に揃っていることが特徴的である。また、前記（１）の電解法では反応後に大量の球形粒子が共存するので遠心分離による分画が必要であるが、この光還元法では球状粒子の割合が少ないので分画処理が不要である。また、再現性が良好であり、一定操作でほぼ確実に同サイズの金ナノロッドを得ることができる。

−カーボンナノチューブ−
前記カーボンナノチューブは、繊維径が１〜１，０００ｎｍ、長さが０．１〜１，０００μｍ、アスペクト比が１００〜１０，０００の細長いチューブ状の炭素である。
前記カーボンナノチューブの作製方法としては、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法などが知られている。前記アーク放電法及びレーザー蒸発法により得られるカーボンナノチューブには、グラフェンシートが一層のみの単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ：Ｓｉｎｇｌｅ Ｗａｌｌ Ｎａｎｏｔｕｂｅ）と、複数のグラフェンシートからなる多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ：Ｍａｌｕｔｉ Ｗａｌｌ Ｎａｎｏｔｕｂｅ）とが存在する。
また、熱ＣＶＤ法及びプラズマＣＶＤ法では、主としてＭＷＮＴが作製できる。前記ＳＷＮＴは、炭素原子同士がＳＰ２結合と呼ばれる最も強い結合により６角形状につながったグラフェンシート一枚が筒状に巻かれた構造を有する。

前記カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ、ＭＷＮＴ）は、グラフェンシート１枚〜数枚を筒状に丸めた構造を有する直径０．４ｎｍ〜１０ｎｍ、長さ０．１μｍ〜数１００μｍのチューブ状物質である。グラフェンシートをどの方向に丸めるかによって、金属になったり半導体になったりするというユニークな性質を有する。このようなカーボンナノチューブは長さ方向に光吸収や発光が起こり易く、径方向は光吸収や発光が起こりにくいという性質を有し、異方性吸収材料、異方性散乱材料として用いることができる。

前記偏光子の前記偏光層における含有量は、０．１〜９０．０質量％が好ましく、１．０〜３０．０質量％がより好ましい。前記含有量が０．１質量％以上であると、十分な偏光性を得ることができる。一方、９０質量％以下であると、偏光層の成膜を支障なく行うことができ、偏光層の透過率を維持することができる。

前記偏光層は、前記偏光子以外にも偏光層の形成方法（配向方法）に応じて、分散剤、溶媒、バインダー樹脂等のその他の成分を含有してなる。
前記偏光層の形成方法としては、基材面（水平面）に対し偏光子の長軸が斜め方向となるように配向させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、（１）ゲスト−ホスト液晶法、（２）陽極酸化アルミナ法、（３）延伸法、（４）高シェア塗布法、（５）ラングミュア・ブロジェット（ＬＢ）法、（６）鋳型法、（７）蒸着−延伸法、（８）斜め蒸着−メッキ法などが挙げられる。これらの中でも、（１）ゲスト−ホスト液晶法、（２）陽極酸化アルミナ法が特に好ましい。なお、前記（１）ゲスト−ホスト液晶法、及び前記（２）陽極酸化アルミナ法については、後述するガラスの製造方法において詳細に説明する。

（３）延伸法
前記延伸法では、例えば基材上にポリマー溶液中に偏光子を分散させた塗布液を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成した後、該塗布膜中のポリマーのガラス転移温度程度まで加熱し、一軸延伸することにより、偏光子が膜の基材面（水平面）に対し斜め方向に配向した偏光膜が得られる。
（４）高シェア塗布法
前記高シェア塗布法では、例えば偏光子、必要に応じて、バインダー、溶剤、界面活性剤などを分散した塗布溶液をスリットコーターやダイコーター等の塗布時に高シェアをかけることができる方法により塗布することにより、偏光子が膜の水平面に対し斜め方向に配向した偏光膜が得られる。
（５）ラングミュア・ブロジェット（ＬＢ）法
前記ＬＢ法では、例えば偏光子を分散した溶液を水面に展開し、偏光子を水面に浮かべた後、水面面積を狭めることにより、偏光子が膜の水平面に対し斜め方向に配向した偏光膜が得られる。
（６）鋳型法
前記鋳型法では、例えば偏光子をナノ凹凸、又はナノ溝を設けた基体表面に塗布することにより、偏光子が基体面（水平面）に対し斜め方向に配向した偏光膜が得られる。
（７）蒸着−延伸法
前記蒸着−延伸法では、例えば基材表面に異方性アルゴン（Ａｒ）スパッタにより金属薄膜を蒸着させた後、基材のガラス転移温度程度まで加熱し、延伸することにより、金属ナノロッドが基材面（水平面）に対し斜め方向に配向した偏光膜が得られる。
（８）斜め蒸着−メッキ法
前記斜蒸着−メッキ法では、例えば基材表面と蒸着粒子入射方向のなす角が４０度以下の斜め方向からのスパッタにより、各蒸着カラムの間に隙間ができた状態の金属酸化物薄膜を形成した後、その隙間を金属メッキで埋めることにより、基材面（水平面）に対し斜め方向に配向した偏光膜が得られる。

＜反射防止膜＞
本発明のガラスは、前記基材の一方の面側から太陽光が入射するようにガラスを配置した際に、前記基材の少なくとも太陽光が入射しない側の最表面に反射防止膜を有することが好ましく、乗り物のフロントガラスに用いる場合には、基材の太陽光入射側でない面（乗り物内側表面）に偏光層と、該偏光層上に反射防止膜とを有することがより好ましい。

前記反射防止膜は、実使用上充分な耐久性、耐熱性を有し、例えば６０度入射での反射率を５％以下に抑えることができるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）微細な表面凹凸を形成した膜、（２）高屈折率膜と低屈折率膜を組み合わせた２層膜の構成、（３）中屈折率膜、高屈折率膜、及び低屈折率膜を順次積層した３層膜構成などが挙げられる。これらの中でも、（２）及び（３）が特に好ましい。
これら反射防止膜は、基材表面に直接ゾルゲル法、スパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ法などで形成してもよい。また、透明支持体上にディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法による塗布により反射防止膜を形成し、基材表面に反射防止膜を粘着又は接着してもよい。

前記反射防止膜は、透明支持体上に低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも１層の層（高屈折率層）、及び低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなることが好ましい。低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも１層を２層とする場合には、透明支持体上に中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなることが好ましい。このような構成の反射防止膜は、「高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率」の関係を満足する屈折率を有するように設計される。なお、各屈折率層の屈折率は相対的なものである。

−透明支持体−
前記透明支持体としてプラスチックフィルムを用いることが好ましい。このプラスチックフィルムの材料の例としては、セルロースアシレート、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルケトンなどが挙げられる。

−高屈折率層及び中屈折率層−
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを含有する硬化性膜からなることが好ましい。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、又はこれらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。これらの中でも、Ｃｏ、Ｚｒ、ＡＬから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以下、「特定の酸化物」と称することもある）が好ましく、特に好ましい元素はＣｏである。
Ｔｉに対するＣｏ、Ａｌ、Ｚｒの総含有量は、Ｔｉに対して０．０５〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．２〜７質量％が更に好ましく、０．３〜５質量％が特に好ましく、０．５〜３質量％が最も好ましい。
Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部や表面に存在する。Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒが二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの特定の金属元素は、酸化物として存在してもよい。
また、他の好ましい無機粒子として、チタン元素と酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称することもある）との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物は、Ｃｏイオン、Ｚｒイオン、及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）が挙げられる。
ここで、該酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属酸化物の金属元素としては、例えばＴａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ，Ｓｎ、Ｂｉなど挙げられ、これらの中でも、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂｉが特に好ましい。
複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を超えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％が更に好ましく、０．３〜３質量％が特に好ましい。
ドープした金属イオンは、金属イオン、金属原子の何れで存在してもよく、複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在することが好ましい。表面と内部との両方に存在することがより好ましい。

上記のような超微粒子とするには、粒子表面を表面処理剤で処理する方法、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とする方法、特定の分散剤を併用する方法などが挙げられる。
粒子表面を表面処理剤で処理する方法に挙げられる表面処理剤としては、例えば、特開平１１−２９５５０３号公報、特開平１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報に記載されたシランカップリング剤等、特開２００１−３１０４３２号公報等に記載されたアニオン性化合物又は有機金属カップリング剤が開示されている。
また、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とする方法としては、特開２００１−１６６１０４号公報、及び米国特許公開２００３／０２０２１３７号公報等に記載の技術を用いることができる。
更に、特定の分散剤を併用する方法は、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、及び特開２００２−２７７６０６９号公報等に記載の技術が挙げられる。

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性及び／又はカチオン重合性の重合性基を２個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、特開２００１−３１５２４２号公報、特開２００１−３１８７１号公報、特開２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、金属アルコキシドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されているものが挙げられる。
前記高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０が好ましい。前記高屈折率層の厚みは、５ｎｍ〜１０μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍがより好ましい。
前期中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０が好ましい。前期中屈折率層の厚みは、５ｎｍ〜１０μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍがより好ましい。

−低屈折率層−
前記低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなることが好ましい。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０がより好ましい。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効であり、シリコーン化合物、又はフッ素含有化合物を導入してなる薄膜層が好適である。

前記フッ素含有化合物の屈折率は１．３５〜１．５０が好ましく、１．３６〜１．４７がより好ましい。また、フッ素含有化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性、若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報の段落番号［００１８］〜［００２６］、特開平１１−３８２０２号公報の段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報の段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報、及び特開２００４−４５４６２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
前記シリコーン化合物としては、ポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基又は重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン〔例えばサイラプレーン（チッソ株式会社製）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）〕などが挙げられる。

また、架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。前記重合開始剤、及び前記増感剤としては、従来公知のものを用いることができる。

また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、特開昭５８−１４７４８３号公報、特開昭５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、特開平１１−１０６７０４号公報等に記載の化合物）；フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、特開２００１−４８５９０号公報、特開２００２−５３８０４号公報に記載の化合物等）などが挙げられる。
前記低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム））等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物を含有することが好ましい。
特に、前記低屈折率層はその屈折率上昇をより一層少なくするために、中空の無機微粒子を用いることが好ましい。中空の無機微粒子の屈折率は１．１７〜１．４０が好ましく、１．１７〜１．３７がより好ましく、１．１７〜１．３５が更に好ましい。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空の無機微粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。
前記低屈折率層中の中空の無機微粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの３０％以上、１００％以下であることが好ましく、３５〜８０％がより好ましく、４０〜６０％が更に好ましい。
即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、無機微粒子の粒径は３０〜１００ｎｍが好ましく、３５〜８０ｎｍがより好ましく、４０〜６０ｎｍが更に好ましい。
なお、これら中空の無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ株式会社製）にて測定することができる。

他の添加剤としては、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子；シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。

前記低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよいが、安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
前記低屈折率層の厚みは、３０〜２００ｎｍが好ましく、５０〜１５０ｎｍがより好ましく、６０〜１２０ｎｍが更に好ましい。

＜１／２波長板及び１／４波長板＞
前記１／２波長板及び１／４波長板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、延伸されたポリカーボネートフィルム、延伸されたノルボルネン系ポリマーフィルム、炭酸ストロンチウムのような複屈折を有する無機粒子を含有して配向させた透明フィルム、支持体上に無機誘電体を斜め蒸着した薄膜などが挙げられる。
なお、１／２波長板とするか、１／４波長板とするかについては、延伸倍率やフィルム厚みを調整してフィルムの複屈折を所望の値にすることにより選択可能である。

前記１／２波長板及び１／４波長板としての既存技術は、例えば、（１）特開平５−２７１１８号及び同５−２７１１９号の各公報に記載された、レターデーションが大きい複屈折性フィルムと、レターデーションが小さい複屈折性フィルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板、（２）特開平１０−６８８１６号公報に記載された、特定波長において１／４波長となっているポリマーフィルムと、それと同一材料からなり同じ波長において１／２波長となっているポリマーフィルムとを積層させて、広い波長領域で１／４波長が得られる位相差板、（２）特開平１０−９０５２１号公報に記載された、二枚のポリマーフィルムを積層することにより広い波長領域で１／４波長を達成できる位相差板、（３）国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載された変性ポリカーボネートフィルムを用いた広い波長領域で１／４波長を達成できる位相差板、（４）国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載されたセルロースアセテートフィルムを用いた広い波長領域で１／４波長を達成できる位相差板、などが挙げられる。

前記ガラスにおけるその他の層としては、必要に応じて例えば、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

＜ガラスの製造方法＞
本発明で用いられるガラスの製造方法は、第１形態及び第２形態では、少なくとも偏光層形成工程を含み、更にその他の工程を含んでなる。

−第１形態の偏光層形成工程−
前記第１形態の偏光層形成工程は、表面に配向膜を有する基材上に、少なくとも紫外線硬化性液晶化合物、高分子界面活性剤、及び偏光子を含有する偏光層塗布液を塗布し、乾燥させて塗布層を形成し、該塗布層を液晶相が発現する温度にまで加熱した状態で紫外線照射して、前記偏光子の長軸が前記基材面に対し斜め方向に配向している偏光層を形成する工程である。
この第１形態の偏光層形成工程は、前記（１）のゲスト−ホスト液晶法と同様である。

−基材−
前記基材としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく適宜選択することができる。

前記基材の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記基材としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。

−配向膜−
前記配向膜は、前記基材の表面に、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリビニルアルコール等の膜を積層し、例えばラビングにより配向処理したものである。前記ラビングは、レーヨンや綿等からなる毛足の短いベルベット状の布を巻付けたドラムを回転させながら配向膜の表面に接触させる方法であり、ラビング処理を施された配向膜は、その表面に微細な溝が一方向に形成され、ここに接触する液晶を配向させるようになっている。
また、前記配向膜は、ラビング法によらず光配向処理したものであってもよい。この光配向は、アゾベンゼン系ポリマーやポリビニルシンナメート等の光活性分子に光化学反応を起こす波長の直線偏光や斜め非偏光を照射して光配向膜の表面に異方性を生成させるものであり、入射光によって膜の最表面の分子長軸の配向が生成され、この最表面の分子に接触する液晶を配向させる駆動力が形成されている。
なお、前記光配向膜の材料としては、前記の他に、光活性分子が光化学反応を起こす波長の直線偏光又は斜め非偏光照射による光異性化、光二量化、光環化、光架橋、光分解、光分解−結合のうち、いずれかの反応により膜表面に異方性を生成するものであればよく、例えば、「長谷川雅樹、日本液晶学会誌、Ｖｏｌ．３ Ｎｏ．１，ｐ３（１９９９）」、「竹内安正、日本液晶学会誌、Ｖｏｌ．３ Ｎｏ．４，ｐ２６２（１９９９）」などに記載されている種々の光配向膜材料を使用することができる。
上記のような配向膜に液晶を塗布すると、配向膜表面の微細な溝及び最表面の分子の配向の少なくともいずれかを駆動力として液晶が配向される。

前記紫外線硬化性液晶化合物としては、重合性基を有し、紫外線の照射によって硬化するものであれば特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができるが、下記構造式で表される化合物が好適に挙げられる。

前記液晶化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３などが挙げられる。

前記液晶性化合物の含有量は、前記偏光層塗布液の全固形分（質量）に対し１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましい。

−高分子界面活性剤−
本発明では、偏光子の長軸を基材面に対し斜め方向に配向させることが特徴であるが、そのためには媒質である液晶層が斜め方向に配向していなければならない。基材の片面配向膜上に形成される液晶層は末端を疎水性に調整することにより、配向膜側から空気界面側に向かって立ち上がるスプレー配向になることもあるが、そのままでは空気界面での立ち上がりは不十分であり、偏光子を斜め配向させる力は弱い。そこで、使用する液晶層との相互作用が強い高分子界面活性剤を選定して液晶層に添加すると、配向熟成時に高分子界面活性剤が空気界面側に浮き上がり、隣接する液晶を強く垂直配向させる。その結果、液晶層全体の配向状態は、配向膜側が若干のプレチルト角を持った水平配向であり、厚み方向に空気界面側へ行くほど立ち上がって垂直配向になっていく「スプレー配向状態」（即ち、斜め配向）になる。
このような高分子界面活性剤としては、ノニオン系が好ましく、用いる液晶性化合物との相互作用が強いものを市販の高分子界面活性剤の中から選定すればよい。例えば、大日本インキ化学工業株式会社製のメガファックＦ７８０Ｆなどが好適に挙げられる。
前記高分子界面活性剤の含有量は、前記偏光層塗布液の全固形分（質量）に対し０．５〜８．０質量％が好ましく、１．０〜５．０質量％がより好ましい。

前記偏光層塗布液は光重合開始剤を含有することが好ましい。前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯ、などが挙げられる。

前記光重合開始剤の添加量は、前記偏光層塗布液の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。

前記偏光層塗布液には、必要に応じてキラル剤を含有することができる。前記キラル剤は、その添加量を調整することによって、前記偏光子の長軸の前記基材面に対する配向角度を適宜調整することができる。
前記キラル剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、イソマニード化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等の他、以下に示す化合物などを挙げることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

また、前記キラル剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ ＬＣ７５６、などが挙げられる。
前記キラル剤の含有量は、前記偏光層塗布液の全固形分（質量）に対し０〜３０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。

前記偏光層塗布液は、例えば、紫外線硬化性液晶化合物、偏光子、高分子界面活性剤、必要に応じてその他の成分を適当な溶媒に溶解乃至分散することによって調製できる。
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール等のアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記偏光層塗布液を、表面に配向膜を有する基材上に塗布し、乾燥させて塗布層を形成した後、偏光子の配向状態を固定するため、塗布層を液晶相が発現する温度にまで加熱した状態で紫外線照射する。これにより、前記偏光子の長軸が前記基材面（水平面）に対し斜め方向に配向した偏光層を形成することができる。
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間は、例えば、０．１〜６００秒間が好ましく、０．３〜３００秒間がより好ましい。また、前記加熱条件は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０〜１２０℃が好ましい。
前記紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）及びショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などを挙げることができる。

−第２形態の偏光層形成工程−
前記第２形態の偏光層形成工程は、表面に導電性膜を有する基材上に蒸着角度を変えてアルミニウムを蒸着してアルミニウム蒸着層を形成し、該アルミニウム蒸着層を陽極酸化し、形成されたナノホール内に金属を電鋳してアスペクト比が１．５以上の金属ナノロッドを形成し、該金属ナノロッドの長軸が前記基材面に対し斜め方向に配向している偏光層を形成する工程である。
この第２形態の偏光層形成工程は、前記（２）の陽極酸化アルミナ法と同様である。

前記基材としては、透明であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記第１形態の偏光層形成工程の基材と同様のものが用いられる。

−導電性膜−
前記導電性膜としては、透明で電気を通すものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＮＥＳＡ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、白金、金、銀、ロジウム、銅、クロム、炭素等が挙げられる。これらの中でも、表面抵抗値が低い、耐熱性が良い、化学的な安定性がある、光透過率が高い等の点からフッ素をドーピングした酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）が好ましい。
前記導電性膜は、気相法（例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成される。
前記導電性膜の表面抵抗値としては、１００Ω／ｃｍ^２以下が好ましく、１０Ω／ｃｍ^２以下がより好ましい。
前記導電性膜の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１〜５００ｎｍが好ましく、５〜２００ｎｍがより好ましい。

−アルミニウム蒸着層−
前記アルミニウム蒸着層の形成は、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができるが、例えば、蒸着法、スパッタ法（スパッタリング）などが挙げられる。該アルミニウム蒸着層の形成条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記アルミニウム蒸着層を蒸着する際の蒸着角度を変えることにより、ナノホールの基材面に対する角度を変化させることができ、基材面に対し金属ナノロッドの長軸が斜め方向に配向した偏光層を形成することができる。
具体的には、厚み約１００ｎｍに蒸着したアルミニウム膜を陽極とし、陰極に適当な金属基盤を使って０．５モル／ｌの蓚酸水溶液の中で酸化すると、ナノポーラスアルミナ膜ができる。これを水洗し、乾燥させた後、電鋳によってナノホールに金属ナノロッドを形成することができる。

前記アルミニウム蒸着層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５００ｎｍ以下が好ましく、５〜２００ｎｍがより好ましい。

−陽極酸化処理−
前記陽極酸化処理は、硫酸、リン酸、シュウ酸等の水溶液中で、前記アルミニウム蒸着層に接する電極を陽極として電気分解エッチングさせることにより行うことができる。
前記陽極酸化処理における電解液の種類、濃度、温度、時間等としては、特に制限はなく、形成するナノホールの数、大きさ、アスペクト比等に応じて適宜選択することができる。例えば、前記電解液の種類としては、隣接する前記ナノホール列の間隔（ピッチ）が、１５０ｎｍ〜５００ｎｍである場合は、希釈リン酸溶液が好適に挙げられ、８０ｎｍ〜２００ｎｍである場合は、希釈蓚酸溶液が好適に挙げられ、１０ｎｍ〜１５０ｎｍである場合は、希釈硫酸溶液が好適に挙げられる。いずれの場合も、前記ナノホールのアスペクト比の調整は、陽極酸化処理後にリン酸溶液に浸漬させて前記ナノホールの直径を増加させることにより行うことができる。

前記ナノホールとしては、アルミニウム蒸着層を貫通して孔として形成されていてもよいし、貫通せず穴（窪み）として形成されていてもよい。
前記ナノホール列の配列としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、一方向に平行に配列していることが好ましい。
隣接する前記ナノホール（列）の間隔としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５〜５００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍｎｍがより好ましい。
前記ナノホールにおける開口径は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、１〜５０ｎｍが好ましく、５〜３０ｎｍがより好ましい。
前記ナノホールにおける深さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、１０〜１，０００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがより好ましい。
前記ナノホールにおける深さと開口径とのアスペクト比（深さ／開口径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．５以上であるのが好ましく、３〜１５であるのがより好ましい。

次に、前記ナノホール内の金属を電鋳処理することにより、金属ナノロッドが形成される。得られた金属ナノロッドの長軸は前記基材面に対し斜め方向に配向している。

本発明のガラスの製造方法における前記その他の工程としては、基材形成工程、反射防止層形成工程、１／４波長板作製工程、１／２波長板作製工程などが挙げられる。

−ガラスの用途等−
本発明のガラスは、以上説明したように、偏光子の長軸が前記基材面（水平面）に対し斜め方向に配向している偏光層を有し、優れた光学的異方性（異方性吸収、異方散乱性、偏光、複屈折性等）を備えているので、各種乗り物用ガラス；一般の戸建住宅、集合住宅、オフィスビス、店舗、公共施設、工場施設等の建物の開口部、間仕切り等の建材用ガラスなどの各種分野に幅広く用いることができるが、以下に説明する乗り物のフロントガラスに用いることが、裏面反射をなくして乗り物内の構造物の反射像（影）の映り込みを防止できる点から特に好適である。

−映り込み防止の原理−
本発明のガラスを自動車等の乗り物のフロントガラスに用いる場合には、図３に示すように、偏光層２は、前記フロントガラスを構成する基材ガラスの太陽光入射側でない面（うら面）に形成することが好ましい。また、フロントガラスが２枚の板ガラスの間に中間層を有する合わせガラスの場合には、図６に示すように前記偏光層２を中間層とするか、又は図７に示すように合わせガラスの光入射側でない面（うら面）に偏光層２を形成することが好ましい。図３、図６、及び図７中、１、１ａ、及び１ｂはガラスであり、３は反射防止膜、５はダッシュボード、６は中間層、７は１／４波長板をそれぞれ示す。

本発明のガラスを乗り物のフロントガラスに用いる場合、図３に示すように、空力抵抗を小さくするため、乗り物のフロントガラスとダッシュボード５表面（水平基準面）とのなす角は２０〜５０度が好ましく、２０〜４０度がより好ましく、２５〜３５度が更に好ましい。
前記乗り物としては、乗り物のフロントガラスと水平基準面とのなす角が２０〜５０度であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば自動車、バス、トラック、電車、新幹線、飛行機、旅客機、船、などが挙げられ、これらの中でも、自動車が特に好ましい。
また、図３に示すように、乗り物を運転中の運転者のフロントガラス面への視線方向に対し、偏光子長軸の平均配向方向が±３０度以内の角度に配向していることが好ましく、±２０度以内がより好ましい。前記角度が±３０度以内であると、偏光子の吸収が見えることがなく、好ましい。

ここで、図３に基づき、本発明のガラスを自動車のフロントガラスに用いた場合の映り込み防止の原理について説明する。上述したように、フロントガラス１は、水平基準面から約３０度の角度を付けて設けられている車種が圧倒的に多い。この際、運転時に運転者の目に入ってくる車内のダッシュボード５の影はフロントガラス内面に約６０度の入射角で反射する光である。ここで、入射角とは、ガラス面に対して９０度の方向から入ってくるとき、入射角０度と定義する。
次に、偏光子Ｐがガラスの水平面に対し斜め方向に配向している偏光層２に関し、あらゆる仰角・方位角で透過率を測定したときの最小の透過率を５０％とする。
太陽光Ｉ_０は水平偏光成分Ｔｅ_０とそれに垂直な偏光成分Ｔｍ_０に分けて考えることができる。太陽光Ｉ_０は偏光子Ｐを通過することにより、Ｔｍ_０が吸収されてＴｅ_０のみになる。Ｔｅ_０は次に１／４波長板７を通過して円偏光に変調され、ダッシュボード５に照射される。
次に、ダッシュボード５の反射率を１０％とし、反射防止膜３の６０度反射率を３％とすると、運転者の目に入ってくる光Ｉ_６は、以下のようにして求められ、０．１５％となる。
Ｉ_６＝０．０３・０．１０・１／２・Ｔｅ_０
＝０．００１５Ｔｅ_０
次に、反射防止膜３を通過した光は、再度１／４波長板７を通って垂直な偏光成分Ｔｍ２’に変調される。偏光子Ｐは垂直な偏光成分に対し吸収率１００％であるからＴｍ２’は完全に吸収され、図３のＩ_３は実質光強度が０（ゼロ）になる。
したがって、裏面反射光Ｉ_５は０（ゼロ）となり、映り込みが防止できる。

また、図４に示すように、偏光層２が１／２波長板８ａ，８ｂで挟まれている場合には、以下のような原理に基づき裏面反射が解消される。
太陽光Ｉ_０は水平偏光成分Ｔｅ_０とそれに垂直な偏光成分Ｔｍ_０に分けて考えることができる。まず、太陽光Ｉ_０は、ガラス１ａと１／２波長板８ａを通るがそこでは常光のままで、次の偏光層２の偏光子Ｐを通過することにより、Ｔｍ_０が吸収されてＴｅ_０のみになる。Ｔｅ_０は次に１／２波長板８ｂを通過するときに９０度捻じ曲げられてＴｍ_１に変調され、ガラス１ｂを通過してダッシュボード５に照射される。
次に、ダッシュボード５を反射した光Ｔｍ_２は再度ガラス１ｂに向かうがこのときの入射角は最近の自動車では５０〜７０度の範囲のものが殆どでありブリュスター角前後であることから、Ｔｍ_２の反射成分は非常に少なくなり、殆どが通過して１／２波長板８ｂに向かう。
ここで、前記ブリュスター角は、屈折率の異なる物質の界面で反射される光が完全に偏光となる入射角度である。
２つの屈折率の異なる材質の界面にある角度をもって光が入射する時、入射角に平行な偏光成分（Ｐ偏光）と、垂直な偏光成分（Ｓ偏光）とでは反射率が異なり、図５に示すように、Ｐ偏光はブリュスター角で０まで減少し、その後増加する。Ｓ偏光は単調に増加する。このように屈折率が１．４６のガラスに屈折率１の空気中から入射する可視光のブリュスター角は約５６度である。
次に、１／２波長板８ｂを通過するときにＴｍ_２は９０度捻じ曲げられてＴｅ_３に変調される。Ｔｅ_３は偏光子Ｐを素通りして１／２波長板８ａを通過するときに９０度捻じ曲げられてＴｍ_３に変調されるため、ガラス１ａを通過するときにはやはりブリュスター角前後であり、その殆どが透過して外部へ放出される。従って、偏光子Ｐが５０％吸収の偏光子であれば上記メカニズムによって殆ど内部への反射は０％近くになり、かつ運転手の目に前方視野から飛び込んでくる景色に対する透過率は落とさずに済む。ただし、設計上、多少の配向度不全や１／２波長板の波長分散性などによる残留反射成分は出てくるので、ガラス１ｂ内面側に反射防止層３を設けておくことが効果的である。

以上説明したように、本発明のガラスは、自動車等の乗り物のフロントガラスに用いた場合には、車内のダッシュボード等の構造物の反射像（影）の映り込みを防止することができ、運転者の前方の安全視界が確保される。

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。

（実施例１）
＜ゲスト−ホスト型液晶法による金ナノロッドが配向した偏光層付きガラスの作製＞
−配向膜の作製−
清浄な３０ｃｍ角、厚み６．０ｍｍの白板ガラスに、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜溶液（メタノール溶液）を１，０００ｒｐｍ、３０秒間でスピンコート塗布し、１００℃で３分間乾燥させることにより、厚み１．０μｍのＰＶＡ膜を作製した。このＰＶＡ膜表面をラビング装置（常陽工学株式会社製、回転数＝１，０００ｒｐｍ、押し込み量＝０．３５ｍｍ）で２回ラビングすることにより、ＰＶＡ配向膜を作製した。

−偏光層塗布液の調製−
光重合性基を有する液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ ＬＣ２４２）３．０４ｇ、高分子界面活性剤（メガファックＦ７８０Ｆ、大日本インキ化学工業株式会社製）０．１ｇをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）５．０７ｇに溶解した液晶溶液に、開始剤溶液〔イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製）０．９０ｇ、及びカヤキュアＤＥＴＸ（日本化薬株式会社製）０．３０ｇをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）８．８０ｇに溶解した溶液〕１．１１ｇを添加し、５分間攪拌することにより、完全に溶解させた。
次に、得られた溶液に５．０質量％の金ナノロッドのトルエン溶液（商品名：Ａｕ−３、三菱マテリアル株式会社製、長軸長さ＝２７ｎｍ、短軸長さ＝１３ｎｍ、アスペクト比＝２．１）２．５ｇを添加し、５分間攪拌することにより、偏光膜塗布液を調製した。

−金ナノロッドの配向及び硬化−
得られた偏光膜塗布液を、上記ＰＶＡ配向膜上に、回転数５００ｒｐｍ、１５秒間の条件でスピンコートし、塗布面の反対側の面が接触するようにホットプレートに載せ、９０℃で１分間加熱した後、加熱した状態で紫外線（ＵＶ）照射（高圧水銀灯、１ｋＷ、３３０ｍＪ／ｍｍ^２）することにより、金ナノロッドが配向した厚み２．５μｍの偏光膜を形成した。

＜金ナノロッドの配向性＞
得られた偏光膜の切片を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０１０）で観察したところ、５００個の金ナノロッドの８０個数％以上がガラス面（水平面）に対し５５±５度に配向していた。

−１／４波長板の形成−
得られた偏光層上に、以下のようにして、厚み８０μｍの１／４波長板を形成した。なお、１／４波長板の遅相軸は偏光軸と４５度をなしている。
＜１／４波長板の作製＞
ポリカーボネートフィルム（商品名：ピュアエース、帝人化成株式会社製）を加熱し、延伸することにより、複屈折値（５５０ｎｍにおけるレターデイション値）１３８ｎｍに調整し、１／４波長板とした。

−反射防止膜の形成−
次に、得られた１／４波長板上に、以下のようにして反射防止膜を設けた。以上により、実施例１の金ナノロッドが配向した偏光膜付きガラスを作製した。
＜反射防止膜の形成＞
真空槽内に金属チタン（Ｔｉ）と比抵抗１．２Ω・ｃｍのｎ型Ｓｉ（リンドープ単結晶）をターゲットとしてカソード上に設置し、真空槽内を１．３×１０^−３Ｐａ（１×１０^−５Ｔｏｒｒ）まで排気した。真空槽内に設置した無着色のソーダライムガラス基板（厚み２ｍｍ）上に、以下のようにして、反射防止膜を偏光膜上に形成した。
（１）まず、放電ガスとしてアルゴンと窒素の混合ガス（１０％窒素）を導入し、圧力が０．２７Ｐａ（２×１０^−３Ｔｏｒｒ）になるようコンダクタンスを調整した。次いで、Ｔｉのカソードに負のＤＣ電圧を印加し、ＴｉターゲットのＤＣスパッタリングにより、厚み７．２ｎｍの窒化チタン膜（光吸収膜、可視光領域における消衰係数が０．５以上、波長５５０ｎｍにおける消衰係数が１．２６、屈折率が１．９）を成膜した。
（２）ガス導入を停止し、真空槽内を高真空とした後、放電ガスとしてアルゴンと窒素の混合ガス（３３％窒素）を導入し、圧力が０．２７Ｐａ（２×１０^−３Ｔｏｒｒ）になるようコンダクタンスを調整した。次いで、ＳｉのカソードにＤＣ電源からＳＰＡＲＣＬＥ−Ｖ（アドヴァンスト・エナジー社製）を経由してパルス化されたＤＣ電圧を印加し、Ｓｉターゲットの間欠ＤＣスパッタリングにより、厚み５ｎｍの透明な窒化シリコン膜（透明窒化物膜、波長５５０ｎｍにおける消衰係数が０．０１、屈折率が１．９３）を形成した。
（３）ガス導入を停止し、真空槽内を高真空とした後、放電ガスとして酸素ガス（１００％）を導入し、圧力が０．２７Ｐａ（２×１０^−３Ｔｏｒｒ）になるようコンダクタンスを調整した。次いで、ＳｉのカソードにＤＣ電源からＳＰＡＲＣＬＥ−Ｖ（アドヴァンスト・エナジー社製）を経由してパルス化されたＤＣ電圧を印加し、Ｓｉターゲットの間欠ＤＣスパッタリングにより、厚み１２２ｎｍの酸化シリコン膜（酸化物膜、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．４７）を形成した。

−光学特性評価−
得られた金ナノロッドが配向した偏光層付きガラスについて、以下のようにして諸特性を評価した。結果を表１に示す。

＜映り込み性の評価＞
図８に示すように、厚み６ｍｍの青板ガラス１２上で、作製した偏光膜付きガラス１１を偏光膜が下側となるように水平基準面に対し角度３０度で固定し、光源１０（Ｈｅ−Ｎｅレーザー）から６３２．８ｎｍの光を照射して、受光機１３に入るパワーを測定し、素ガラスの場合を指標にしてどれだけ減光したかをｄＢで表すことにより、映り込み性を評価した。前記受光機１３としては、光センサ（安藤電気株式会社製、型番：ＡＱ２７４１）を用い、ＯＰＭユニットＡＱ２７３０を介して、マルチメーターＡＱ２１４０の中に配置して使用した。

＜耐光性の評価＞
超高圧水銀灯を使用して、爆光試験を行い、１，０００時間爆光後の上記映り込み性の値の変化により、耐光性を評価した。

（実施例２）
＜金ナノロッド配向偏光層付きフィルムの作製＞
−配向膜の作製−
清浄な厚み１００μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士写真フイルム株式会社製）表面に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜溶液（メタノール溶液）をバーコート塗布し、１００℃で３分間乾燥させて、厚み１．０μｍのＰＶＡ膜を作製した。このＰＶＡ膜表面をラビング装置（常陽工学株式会社製、回転数＝１，０００ｒｐｍ、押し込み量＝０．３５ｍｍ）で２回ラビングすることにより、ＰＶＡ配向膜を得た。
得られたＰＶＡ配向膜付きＴＡＣベースを基体として用いた以外は、実施例１と同様にして、金ナノロッドが配向した偏光膜を形成した。
＜金ナノロッドの配向性＞
得られた偏光膜の切片を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０１０）で観察したところ、５００個の金ナノロッドの８０個数％以上が基体面（水平面）に対し５５±５度に配向していた。

次に、得られた偏光膜に、実施例１と同様にして、１／４波長板、及び反射防止膜を設けて、実施例２の偏光層付きフィルムを作製した。
得られた偏光膜及び偏光層付きフィルムの諸特性について、実施例１と同様にして測定した。結果を表１に示す。

（実施例３）
実施例２において、１／４波長板を下記の１／２波長板に変え、偏光子を２枚の１／２波長板を使って挟み込んだ以外は、実施例２と同様にして、実施例３の偏光層付きフィルムを作製した。
＜１／２波長板の作製＞
ポリカーボネートフィルム（商品名：ピュアエース、帝人化成株式会社製）を加熱し、延伸することにより、複屈折率値（５５０ｎｍにおけるレターデーション値）を２７５ｎｍに調整し、１／２波長板とした。

得られた偏光層付きフィルムの諸特性について、実施例１と同様にして測定した。結果を表１に示す。

（実施例４）
＜ゲスト−ホスト型液晶法によるカーボンナノチューブが配向した偏光層付きフィルムの作製＞
実施例２において、下記のカーボンナノチューブを含有する偏光層塗布液を用い、カーボンナノチューブの配向及び硬化を行った以外は、実施例２と同様にして、カーボンナノチューブが配向した偏光膜を作製した。
−偏光層塗布液の調製−
光重合性基を有する液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ ＬＣ２４２）３．０４ｇ、及び高分子界面活性剤（メガファックＦ７８０Ｆ、大日本インキ化学工業株式会社製）０．１ｇをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）５．０７ｇに溶解した液晶溶液に、開始剤溶液〔イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製）０．９０ｇ、及びカヤキュアＤＥＴＸ（日本化薬株式会社製）０．３０ｇをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）８．８０ｇに溶解した溶液〕１．１１ｇを添加し、５分間攪拌することにより、完全に溶解させた。
次に、得られた溶液に、カーボンナノチューブ（Ａｌｄｒｉｃｈ社製、長軸長さ＝３００〜５００ｎｍ、短軸長さ＝５〜１０ｎｍ、アスペクト比＝３０〜１００）１．０ｇを添加し、３０分間攪拌して、カーボンチューブを分散させることにより、偏光膜塗布液を調製した。

−カーボンナノチューブの配向及び硬化−
得られた偏光膜塗布液を、ＰＶＡ配向膜上にバーコート塗布し、塗布面の反対面が接触するようにホットプレートに載せ、９０℃で１分間加熱した後、加熱した状態で紫外線（ＵＶ）照射（高圧水銀灯、１ｋＷ、３３０ｍＪ／ｍｍ^２）することにより、カーボンナノチューブが配向した厚み３．４μｍの偏光膜を作製した。

＜カーボンナノチューブの配向性＞
得られた偏光膜の切片を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０１０）で観察したところ、５００個のカーボンナノチューブの８０個数％以上が基体面（水平面）に対し５５±５度に配向していた。

次に、得られたカーボンナノチューブが配向した偏光膜に、実施例１と同様にして、１／４波長板、及び反射防止膜を設けて、偏光層付きフィルムを作製した。
得られた偏光膜及び偏光層付きフィルムの諸特性について、実施例１と同様にして測定した。結果を表１に示す。

（実施例５）
＜陽極酸化アルミナ法による金ナノロッドが配向した偏光層付きフィルムの作製＞
−透明導電性膜の形成−
清浄な３０ｃｍ角、厚み６．０ｍｍの白板ガラス表面に、ＩＴＯ（Ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ Ｉｎｄｉｕｍ ｏｘｉｄｅ）膜を膜厚１２０ｎｍに成膜し、抵抗値１０Ω／□の透明導電性膜付きガラス基板を作製した。

−アルミニウム蒸着膜の形成−
透明導電性膜付きガラス基板の透明導電性膜表面にＲＦスパッタリング法により膜厚１５０ｎｍのアルミニウム蒸着膜を形成した。蒸着の際、蒸着角度を基盤面に対し７５度とした。

−陽極酸化によるナノホールの形成−
アルミニウム蒸着膜及び透明導電性膜付きのガラス基板を０．３Ｍのシュウ酸水溶液中において、ＤＣ１０Ｖで３０分間定電圧電解して、平均開口径２０ｎｍ、平均深さ１００ｎｍ、平均アスペクト比５のナノホールが形成されたアノード酸化皮膜を作製した。

−電鋳による金ナノロッドの形成−
ナノホールが形成されたアノード酸化皮膜付きのガラス基板に対して、Ｈ_２ＳＯ_４でｐＨを２．５に調整した０．５ｍＭのＨＡｕＢｒ_４水溶液中で、水溶液温度を２０℃としてＡＣ１０Ｖで１０分間電解し、アノード酸化皮膜のナノホール中に金ナノロッドを電析させた。なお、電解時の対極は炭素板とした。電析する金ナノロッドはホールによって長さが不揃いなため、表面にはところどころ金が溢れている部分が存在する。そこで最後に軽く逆スパッタすることで表面を若干削り、ナノロッドの長さを均一に揃えた。

＜金ナノロッドの配向性＞
得られたアノード酸化皮膜の切片を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０１０）で観察したところ、５００個の金ナノロッドの８０個数％以上が膜の水平面に対し５５±５度に配向していた。

次に、得られた金ナノロッド偏光膜に、実施例１と同様にして、１／４波長板、及び反射防止膜を設けて、実施例４の偏光層付きフィルムを作製した。
得られた偏光膜及び偏光層付きフィルムの諸特性について、実施例１と同様にして測定した。結果を表１に示す。

（実施例６）
＜陽極酸化法による金ナノロッドが配向した偏光層付きフィルムの作製＞
−透明導電性膜の形成−
清浄な厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士写真フイルム株式会社製）表面に、ロール蒸着機によりＩＴＯ（Ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ Ｉｎｄｉｕｍ ｏｘｉｄｅ）膜を膜厚１２０ｎｍに成膜し、抵抗値１０Ω／□の透明導電性膜付きＴＡＣフィルムを作製した。

−アルミニウム蒸着膜の形成−
透明導電性膜付きＴＡＣフィルムの透明導電性膜表面に、ロール蒸着機にてＲＦスパッタリング法により膜厚１５０ｎｍのアルミニウム蒸着膜を形成した。蒸着の際、蒸着源はフィルムの直下から外れたところにあり、幅方向に見た蒸着角度が遠い方の端部で１５度、近い方の端部で３０度になるよう配置され、長手方向には２ｍごとに＋１５度〜−８０度まで蒸着マスクの角度を変化させながら、ＴＡＣフィルムの水平面に対する蒸着角度が変化したアルミニウム蒸着膜を作製した。この操作によって、２ｍごとに切り出されてフロントガラスに装着された蒸着フィルムは、蒸着カラムが、運転手の視線方向に対して平行に配向をしているフィルムとなる。

−陽極酸化によるナノホールの形成−
アルミニウム蒸着膜及び透明導電性膜付きのガラス基板を０．３Ｍのシュウ酸水溶液中において、ＤＣ１０Ｖで３０分間定電圧電解して、平均開口径２０ｎｍ、平均深さ１００ｎｍ、平均アスペクト比５のナノホールが形成されたアノード酸化皮膜を作製した。

−電鋳による金ナノロッドの形成−
ナノホールが形成されたアノード酸化皮膜付きのガラス基板に対して、Ｈ_２ＳＯ_４でｐＨを２．５に調整した０．５ｍＭのＨＡｕＢｒ_４水溶液中で、水溶液温度を２０℃としてＡＣ１０Ｖで１０分間電解し、アノード酸化皮膜のナノホール中に金ナノロッドを電析させた。なお、電解時の対極は炭素板とした。

＜金ナノロッドの配向性＞
得られたアノード酸化皮膜の切片を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０１０）で観察したところ、乗り物を運転中の運転者のフロントガラス面への視線方向に対して、金ナノロッドの長軸が±５度以内の角度に配向していた。

次に、得られた金ナノロッド偏光膜に、実施例３と同様にして、１／２波長板で挟み込み、実施例６の偏光層付きフィルムを作製した。なお、遅相軸は偏光軸と４５度をなしている。また、この実施例には反射防止膜は設けなかった。
得られた偏光膜及び偏光層付きフィルムの諸特性について、実施例１と同様にして測定した。結果を表１に示す。

（実施例７）
−合わせガラスの作製−
実施例２の偏光膜を透明な２枚のフロートガラスで挟み込み、これをゴムバック内に入れ、２，６６０Ｐａの真空度で２０分間脱気した後、脱気したままオーブンに移し、更に９０℃で３０分間保持しつつ真空プレスした。このようにして予備圧着された合わせガラスをオートクレーブ中で１３５℃、圧力１１８Ｎ／ｃｍ^２の条件で２０分間圧着を行い、合わせガラスを作製した。
得られた合わせガラスに、実施例１と同様にして、１／４波長板、及び反射防止膜を設けて、実施例７の偏光層付き合わせガラスを作製した。
得られた偏光層付き合わせガラスの諸特性について、実施例１と同様にして測定した。結果を表１に示す。

（実施例８）
−合わせガラスの作製−
実施例３の偏光膜を透明な２枚のフロートガラスで挟み込み、これをゴムバック内に入れ、２，６６０Ｐａの真空度で２０分間脱気した後、脱気したままオーブンに移し、更に９０℃で３０分間保持しつつ真空プレスした。このようにして予備圧着された合わせガラスをオートクレーブ中で１３５℃、圧力１１８Ｎ／ｃｍ^２の条件で２０分間圧着を行い、合わせガラスを作製した。
得られた合わせガラス上に、実施例１と同様にして、１／４波長板、及び反射防止膜を設けて、実施例８の偏光層付き合わせガラスを作製した。
得られた偏光層付き合わせガラスの諸特性について、実施例１と同様にして測定した。結果を表１に示す。

（比較例１）
実施例１において、金ナノロッドが配向した偏光層を設けない以外は、実施例１と同様にして、比較例１のガラスを作製した。
得られたガラスの諸特性について、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。

（比較例２）
実施例７において、偏光膜としてヨウ素・ＰＶＡ系の偏光板（サンリッツ社製）を用いた以外は、実施例７と同様にして、比較例２の偏光膜付き合わせガラスを作製した。
得られた偏光膜付き合わせガラスの諸特性について、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。

本発明のガラスは、特に自動車等の乗り物のフロントガラスに好適に用いられ、裏面反射による車内の構造物の反射像（影）の映り込みを防止できるので、安全性に優れ、また、従来は用いることのできなかった明るい色や絵柄の付いた意匠性の高いダッシュボードを用いることができるので、自動車、電車、新幹線、飛行機などをはじめ各種乗り物のフロントガラスなどに幅広く好適に用いられる。

図１Ａは、偏光子の偏光層面における配向状態を示す平面図である。 図１Ｂは、図１ＡのＡ−Ａ線での断面図である。 図１Ｃは、図１ＡのＢ−Ｂ線での断面図である。 図１Ｄは、図１ＡのＢ−Ｂ線での別の断面図である。 図２は、金ナノロッドの吸収スペクトルを示す図である。 図３は、本発明のガラスを自動車のフロントガラスに提供した際の映り込み防止の原理を説明するための図である。 図４は、本発明の別のガラスを自動車のフロントガラスに提供した際の映り込み防止の原理を説明するための図である。 図５は、屈折率１の媒質から屈折率１．４６の媒質に入射した場合の反射率の挙動を示すグラフである。 図６は、合わせガラスの中間層として偏光層を設けた一例を示す図である。 図７は、合わせガラスに片面側に偏光層を設けた一例を示す図である。 図８は、実施例における映り込み性を評価する方法を説明するための図である。

符号の説明

１、１ａ、１ｂ ガラス
２ 偏光層
３ 反射防止膜
５ ダッシュボード
６ 中間層
７ １／４波長板
８ａ、８ｂ １／２波長板
Ｐ 偏光子
Ｓ 基材ガラス面

Claims (14)

1. 基材と、少なくとも偏光子を含有する偏光層とを有してなり、
   前記偏光子のアスペクト比が１．５以上であり、かつ該偏光子の長軸が前記基材面に対し斜め方向に配向していることを特徴とするガラス。
2. 偏光子の長軸が、基材面に対し±３０度以上、±８０度未満の角度で配向している請求項１に記載のガラス。
3. 基材面に対し垂直方向から見た際に、偏光子が偏光層面内の一方向に配列されている請求項１から２のいずれかに記載のガラス。
4. 基材の一方の面側から太陽光が入射するようにガラスを配置した際に、前記基材の太陽光が入射しない側の面に偏光層を有する請求項１から３のいずれかに記載のガラス。
5. 基材が２枚の板ガラス間に中間層を有する合わせガラスであり、かつ該中間層が偏光層である請求項１から３のいずれかに記載のガラス。
6. 基材の一方の面側から太陽光が入射するようにガラスを配置した際に、前記基材の少なくとも太陽光が入射しない側の最表面に反射防止膜を有する請求項１から５のいずれかに記載のガラス。
7. 偏光層と反射防止層との間に、１／４波長板及び１／２波長板のいずれかを有する請求項６に記載のガラス。
8. 乗り物のフロントガラスに用いられる請求項１から７のいずれかに記載のガラス。
9. 乗り物が、自動車である請求項８に記載のガラス。
10. フロントガラスと水平基準面とのなす角が、２０〜５０度である請求項８から９のいずれかに記載のガラス。
11. 乗り物を運転中の運転者のフロントガラス面への視線方向に対し、偏光子の長軸が±３０度以内の角度に配向している請求項８から１０のいずれかに記載のガラス。
12. 偏光子が、異方性吸収材料を含有する請求項１から１１のいずれかに記載のガラス。
13. 異方性吸収材料が、異方性金属ナノ粒子及びカーボンナノチューブのいずれかである請求項１２に記載のガラス。
14. 異方性金属ナノ粒子の材料が、金、銀、銅、及びアルミニウムから選択される少なくとも１種である請求項１３に記載のガラス。
    

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