DE4003119C2 - - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine automatische Entwicklungsvorrichtung mit einer Entwicklerlösung, in die ein elektrisch leitender Körper eingetaucht ist, auf den ein vorgegebenes Muster auf einem auf einer Oberfläche des leitenden Körpers aufgebrachten Fotolackfilm geschrieben ist, und einer Stromerfassungs-Einrichtung zur Erfassung eines durch den leitenden Körper und die Entwicklerlösung fließenden Stroms während der Entwicklung, und zur Bestimmung des Endes der Entwicklung durch Ermittlung eines charakteristischen Werts der Stromänderung in der Stromkurve.

Ferner betrifft die Erfindung ein automatisches Entwicklerverfahren, bei dem ein elektrisch leitender Körper, auf den ein vorgegebenes Muster auf einem auf einer Oberfläche des Körpers aufgebrachten Photolackfilm geschrieben wurde, in eine Entwicklerlösung eingetaucht wird, ein durch die Entwicklerlösung und den leitenden Körper fließender Strom während der Entwicklung erfaßt wird, und zur Bestimmung des Endes der Entwicklung ein charakteristischer Wert der Stromänderung in der Stromkurve ermittelt wird.

Eine derartige automatische Entwicklungsvorrichtung und automatisches Entwicklerverfahren ist beispielsweise aus der JP-1 35 838-1987 bekannt.

Darin wird ein organisches Lösungsmittel als Entwicklerlösung verwendet, dem ein elektrolytisches Material zugegeben worden ist (beispielsweise Methylisobutylketon, das eine Lösung von 1 mM (Millimol) Tetrabutylammoniumperchlorat enthält. Ferner ist MODEL-MX-1000N von Nagase Sangyo (K.K.) ein Beispiel eines zwei Flüssigkeiten umfassenden Gemischsystems, das dazu verwendet wird, um ein elektrolytisches Material einem organischen Lösungsmittel oder einer Entwicklerlösung hinzuzufügen.

In derartigen Entwicklerlösungen zeigt, wenn der elektrisch leitende Körper, auf welchem ein Muster geschrieben wurde, in die Lösung eingetaucht ist, der durch den elektrisch leitenden Körper und die Lösung fließende Strom einen klaren Scheitel oder mehrere Scheitel und dieser Scheitel wird zur Bestimmung verwendet, wann die Entwicklung des geschriebenen Musters beendet ist.

Beispielsweise liegt ein Substrat vor, auf dem eine Anzahl Muster geschrieben wurden, beispielsweise eine Fotomaske, bei welcher Chrom auf eine Grundplatte aus Quarz aufgedampft wurde und anschließend PMMA (Polymethylmethacrylat) als der Elektronenstrahlresist aufgebracht und Muster mit 2 µm Linien und Abständen, Muster mit 25 µm Linien und Abständen und Muster mit 100 µm Linien und Abständen auf dieses PMMA geschrieben wurden. Wird die Entwicklung unter Verwendung der vorstehend aufgeführten Technologie für dieses elektrisch leitende Substrat durchgeführt, so ist der Strom, der durch den elektrisch leitenden Körper und die Lösung fließt, in Fig. 4 mit 1 ₁ angegeben. Es erscheinen charakteristische Werte der Stromänderung in der Stromkurve, nämlich die jeweiligen Scheitel A, B und C für Muster von 100 µm, 20 µm und 2 µm. Wird daher der Punkt, bei dem die Entwicklung beendet ist, lediglich durch Verwendung des Scheitels bestimmt, wie dies bei dem Stand der Technik durchgeführt wird, so wird der Punkt A irrtümlich als der charakteristische Wert der Stromänderung bestimmt, der das Ende der Entwicklung anzeigt, ungeachtet des Umstands, daß der Punkt, bei dem die Entwicklung tatsächlich beendet ist, gemäß Fig. 4 der charakteristische Wert der Stromänderung am Punkt C sein sollte, und dadurch wird das Problem eines resultierenden Abfalls der Abmessungsgenauigkeit des Musters verursacht.

Dieses Problem tritt auf, weil die Entwicklerlösung selbst einen hohen Widerstand hat und dies eine Ladung von Elektronen verursacht, was zu zwei elektrischen Schichten führt. Diese Erscheinung liegt häufig vor, wenn die Empfindlichkeit der Entwicklerlösung zu stark angehoben wird.

Der Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur automatischen Entwicklung von Mustern zu schaffen, die geschrieben wurden, und ein Entwicklerverfahren, das die Abmessungsgenauigkeit eines Musters erhöhen kann, indem der Punkt, der das Ende der Entwicklung anzeigt, selbst in dem Fall korrekt bestimmt wird, bei welchem eine Mehrzahl von Mustern mit verschiedener Breite geschrieben wurden.

Die Aufgabe wird für eine automatische Entwicklervorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruches 1 dadurch gelöst, daß die automatische Entwicklungsvorrichtung folgende Merkmale aufweist:

• a) eine Bestimmungs-Einrichtung zur Bestimmung der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung;
• b) eine Zufuhr-Einrichtung zum Zuführen eines elektrolytischen Materials in die Entwicklerlösung; und
• c) eine Steuer-Einrichtung zur Steuerung der Zufuhr-Einrichtung aufgrund eines von der Erfassungs-Einrichtung ermittelten Wertes der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung derart, daß die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklerlösung in einem optimalen Bereich so eingestellt wird, daß die Stromkurve bei der Entwicklung nur einem charakteristischen Wert der Stromänderung aufweist.

Somit wird also bei der erfindungsgemäßen automatischen Entwicklungsvorrichtung die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklerlösung auf ein Optimum mittels der Steuereinrichtung in einem Steuerbereich gesteuert, unter Verwendung des Erfassungswertes eines Detektors, um die elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung zu ermitteln. Bei einer Entwicklerlösung, für die die elektrische Leitfähigkeit auf ein Optimum gesteuert wurde, besteht kein Einfluß einer Elektronenladung in der Entwicklerlösung. Es wird ein klarer Scheitel beobachtet, der einen charakteristischen Wert der Stromveränderung Punkt anzeigt, in dem die Entwicklung beendet ist, so daß es möglich ist, die Abmessunggenauigkeit selbst in den Fällen zu verbessen, wo mehrere Muster geschrieben werden sollen.

Die obige Aufgabe wird ferner für ein automatischen Entwicklerverfahren gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 9 dadurch gelöst, daß bei dem automatischen Entwicklerverfahren

• a) die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklerlösung bestimmt wird;
• b) ein elektrolytisches Material der Entwicklerlösung zugeführt wird; und
• c) die Zuführung aufgrund eines ermittelten Wertes der elketrischen Leitfähigkeit derart gesteuert wird, daß die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklerlösung in einem optimalen Bereich so eingestellt wird, daß die Stromkurve nur einen charakteristischen Wert (D) der Stromänderung aufweist.

Beim erfindungsgemäßen automatischen Entwicklerverfahren wird also der erfaßte Wert der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung als Grundlage für die Steuerung der Menge des elektrolytischen Materials verwendet, die in der Entwicklerlösung enthalten ist, damit die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklerlösung optimal ist. Der elektrisch leitende Körper, auf den ein vorgegebenes Muster geschrieben wurde, wird in eine Entwicklerlösung eingetaucht, für die die elektrische Leitfähigkeit auf diese Weise gesteuert wurde. Anschließend wird der Wert des Stromes, der zwischen der durch den leitenden Körper und die Entwicklereinrichtung fließt, als Grundlage zur Bestimmung des Punkts verwendet, bei dem die Entwicklung des geschriebenen Musters beendet ist. Dadurch ist es aus den vorstehend angegebenen Gründen möglich, das Ausmaß der Abmessungsgenauigkeit des Musters selbst bei Fällen zu erhöhen, bei denen mehrere Muster geschrieben werden.

Ferner ist es durch Steuerung der elektrischen Leitfähigkeit möglich, den Einfluß des Näherungseffekts und anderer Kennzeichen von Elektronenstrahlen abzuschätzen oder den Status (beispielsweise das Musterungsverhältnis) der durch die Elektronenstrahlen belichteten Muster, und dadurch abhängig von dem Ausmaß eines derartigen Einflusses eine Kompensation zu gestatten.

Weitere Ausgestaltungen und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.

In besonders vorteilhafter Weise ist bei dem erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahren und der Vorrichtung eine Temperatursteuereinrichtung vorgesehen, mit einem Temperatursensor zur Steuerung der Entwicklerlösungstemperatur. Diese Temperatursteuereinrichtung kann über eine Rückkopplungssteuerung die Temperatur in der Entwicklerlösung überwachen, sie integrieren und somit eine Kompensation bezüglich der Entwicklerzeit durchführen, während die Entwicklung durchgeführt wird.

In den Figuren zeigen:

Fig. 1 eine Darstellung, die die Gestaltung eines Aufbereitungsabschnitts der Entwicklerlösung bei einer erfindungsgemäßen Ausführungsform der automatischen Entwicklungsvorrichtung angibt,

Fig. 2 und Fig. 3 Schnittdarstellungen der Entwicklerbereiche einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen automatischen Entwicklungsvorrichtung,

Fig. 4 eine Kurve, die die Änderungen des Stroms angibt, der zwischen einer Elektrode und einem Leiter für den Fall angibt, in dem die automatische Entwicklungsvorrichtung einer erfindungsgemäßen Ausführung verwendet wird, und in dem Fall, wo ein Stand der Technik verwendet wird, und

Fig. 5 eine Kurve, die einen Vergleich der Abmessungsgenauigkeit eines Musters nach der Entwicklung für den Fall angibt, in dem die automatische Entwicklungsvorrichtung einer erfindungsgemäßen Ausführungsform verwendet wird, und in dem Fall, wo ein Stand der Technik verwendet wird.

Nachstehend erfolgt eine Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen automatischen Entwicklungsvorrichtung unter Bezugnahme auf die anliegenden Zeichnungen.

Die erfindungsgemäße automatische Entwicklungsvorrichtung ist mit einem Aufbereitungsabschnitt für Entwicklerlösung und einem Entwicklerbereich versehen. Fig. 1 stellt den Aufbereitungsabschnitt für Entwicklerlösungen dar. Gemäß Fig. 1 wird komprimierter Stickstoff in Behälter 3A und 3B eingebracht, die Flüssigkeiten A und B enthalten (die anschließend als "zu mischende Flüssigkeit" bezeichnet werden), die vorab mit unterschiedlichen elektrischen Leitfähigkeiten hergestellt wurden. Ist dies durchgeführt, so fließen die Flüssigkeiten A und B, die in den Behältern 3A und 3B vorliegen, jeweils über Einwegventile 4A und 4B, Strömungsmesser 5A und 5B und ein Spiralrohr 7 in einen Mischtank 3C, um die Entwicklerlösung zu bilden. Dabei werden die elektrischen Leitfähigkeiten der Flüssigkeiten in den Behältern 3A, 3B und 3C jeweils durch Meßinstrumente 10A, 10B und 10C für die elektrischen Leitfähigkeiten erfaßt und die ermittelten Werte werden als Grundlage für die Bestimmung der Einstellungen für den Öffnungsgrad der Einwegventile 4A und 4B mit Hilfe einer Flüssigkeitsgemischsteuerschaltung 9 verwendet. Nachdem eine vorbestimmte Menge der Entwicklerlösung in den Mischtank 3C geströmt ist, steuert die Flüssigkeitsgemischsteuerschaltung 9 den Öffnungsgrad der Einwegventile 4A und 4B auf Null. Anschließend steuert die Flüssigkeitsgemischsteuerschaltung 9 das Umschaltventil 6, um Flüssigkeit A oder B in geringer Menge durchzulassen, so daß die elektrischen Leitfähigkeiten der Flüssigkeit A oder der Flüssigkeit B innerhalb des Mischbehälters 3C ein Optimum (ein vorgegebener Wert) wird. Dabei liegt die der elektrischen Leitfähigkeit, die als optimal angesehen wird, innerhalb des Bereichs von 2 µ S/cm (S bedeutet Siemens oder mho) bis 100 µ S/cm. Ferner ist jeder der Behälter 3A, 3B und 3C mit einem Rührwerk 8a₁, 8b₁ und 8c₁ und mit Rührwerkswellen 8a₂, 8b₂ und 8c₂ ausgestattet, die elektromagnetisch in Drehung versetzt werden. Schließlich kann anstelle der Verwendung der vorstehend erwähnten Rührwerke und Rührwerkswellen Stickstoff (N₂) oder ein anderes Gas aus Leitungen 11A, 11B und 11C, die in Fig. 1 gestrichelt angegeben sind, durch die Behälter 3A, 3B und 3C hindurchgeperlt werden.

Ferner kann der Aufbereitungsabschnitt für die Entwicklerlösung ein System sein, wie es vorstehend beschrieben wurde, bei dem zwei Flüssigkeiten gemischt werden, aber drei oder mehr Flüssigkeiten können ebenfalls gemischt werden, um die optimale elektrische Leitfähigkeit zu erhalten. Schließlich ist es einfach, eine Entwicklerlösung mit der erforderlichen elektrischen Leitfähigkeit zu erhalten, wenn sich die elektrischen Leitfähigkeiten der jeweils zu vermischenden Flüssigkeiten um mehr als einen Faktor 10 unterscheiden. Endlich kann vom Standpunkt des Betriebs eine im Handel erhältliche Entwicklerlösung, die nicht das elektrolytische Material enthält, als jede der zu mischenden Flüssigkeiten verwendet werden. Wird eine im Handel erhältliche Entwicklerlösung gekauft und verwendet, so kann eine gekauft und als eine der Flüssigkeiten zum Mischen verwendet werden, die ein elektrolytisches Material (wie beispielsweise Tetrabutylammoniumperchlorat) zugegeben hat, so daß die elektrischen Leitfähigkeiten annäherungsweise 300 µ S/cm wird.

Nachstehend erfolgt eine Beschreibung eines Entwicklerbereichs der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung unter Bezugnahme auf Fig. 2 und 3. Gemäß Fig. 2 ist eine Antriebswelle 23, die durch die Antriebskraft eines Motors 22 umläuft, in eine Behandlungskammer 21 vom Mittelpunkt einer Bodenfläche der Behandlungskammer 21 eingeführt, wobei die umlaufende Antriebswelle 23 eine an ihr befestigte flache Bühne 24 hat. Innerhalb der umlaufenden Antriebswelle 23 und der flachen Bühne 24 sind Durchflußöffnungen 24 vorgesehen, durch welche Wasser konstanter Temperatur fließt und diese Durchflußöffnungen 24 haben Öffnungen an der Oberfläche der Seiten der umlaufenden Antriebswelle 23 außerhalb der Behandlungskammer 21 und diese Öffnungen sind mit Anschlußelementen 26, 26 versehen. Diese Anschlußelemente 26, 26 sind über einen elektronisch gesteuerten isothermischen Behälter 27 und eine Pumpe 28 mit einer Rohrleitung 29 verbunden, und Wasser mit konstanter Temperatur wird der umlaufenden Antriebswelle 23 und der flachen Bühne 24 zugeführt. Darüber hinaus ist in der Nachbarschaft der Mündungen der Durchflußöffnungen 25, wo die Anschlußelemente 26, 26 vorgesehen sind, eine Abdichtung aus Dichtungswerkstoff 30 angebracht.

Schließlich sind an der Oberseite der flachen Bühne 24 Substrataufnahmefinger 31 vorgesehen und weiterhin ist der Bodenabschnitt der Behandlungskammer 21 mit Zylindern 32, ausgestattet, deren distale Enden einen Behandlungsrahmen 33 halten, der den Umfang der flachen Bühne 24 umgibt. Wird dieser Behandlungsrahmen 33 angehoben, so wird der Spalt zwischen der Bodenfläche der flachen Bühne 24 luftdicht verschlossen, um einen Behälter für die Entwicklung zu bilden. Dabei ist die Behandlungskammer 21 durchbohrt und das Innere des Behälters für die Entwicklerlösung, der durch die flache Bühne 24 und den Behandlungsrahmen 33 gebildet wird, ist mit einer Zufuhrleitung 34 versehen, die Entwicklerlösung zuführt, die durch den in Fig. 1 angegebenen Aufbereitungsabschnitt für Entwicklerlösung hergestellt wurde.

Ferner ist eine Seitenwand der Behandlungskammer 21 mit einer Substrateinführöffnung 35 und einer Substratausgabeöffnung 36 ausgestattet. Die Außenseite der Substratausgabeöffnung 36 ist mit einem Förderer 37 und einem Einführarm 38 versehen, um ein Substrat in die Behandlungskammer 21 einzuführen, beispielsweise ein Glassubstrat mit einem aufgebrachten Chromfilm, das den Behandlungen eines Harzauftrags, eines Einbrennens und einer Elektronenstrahlbeschriftung unterzogen wurde. Ferner ist die Außenseite der Substratausgabeöffnung 36 mit einem Förderer 39 und einem Ausgabearm 40 versehen, um das Substrat aus der Behandlungskammer 21 zu entnehmen und es auf den Förderer 39 aufzubringen, der das Substrat zur nachfolgenden Behandlung transportiert.

Schließlich ist ein neuer Abschnitt der Behandlungskammer 21 mit einer Düse 41 ausgestattet, die Spüllösung sprüht. Die Behandlungsflüssigkeiten, wie die Entwicklerlösung und die Spüllösung, fließen von einer Auslaßöffnung 42, die im Bodenabschnitt der Behandlungskammer 21 vorgesehen ist, von dieser nach außen. Diese Auslaßöffnung 42 kann auch als Austrittsöffnung für die Gasatmosphäre im Inneren der Behandlungskammer 21 verwendet werden.

Nachfolgend wird die Entwicklung eines Substrats unter Verwendung der vorstehend beschriebenen Entwicklungsvorrichtung erläutert.

Zunächst werden die Zylinder 32, 32 betätigt und der Behandlungsrahmen 31 wird angehoben, so daß ein Entwicklerlösungsbehälter, der luftdicht abgedichtet ist, mit der Bodenfläche der flachen Bühne 24 gebildet wird. Anschließend wird die Entwicklerlösung mit vorbestimmter Temperatur aus der Zufuhrleitung 34 dem Inneren des Entwicklerbehälters zugeführt, der durch die flache Bühne 24 und den Behandlungsrahmen 33 gebildet wird. Anschließend, nachdem ein Zylinder und dergleichen (in der Figur nicht angegeben) die Substrateinführöffnung 35 geöffnet haben, bringt der Einführarm 38 ein Substrat 53 auf die Substrataufnahmefinger 31 und die Entwicklung beginnt. Darüber hinaus werden während der Entwicklung in den Fällen, in denen ein Temperatursensor in die Entwicklerlösung eingetaucht ist und die Temperatur der Entwicklerlösung von der eingestellten Temperatur abweicht, Steuersignale vorzugsweise an eine Temperatursteuereinrichtung des elektronisch gesteuerten isothermischen Behälters 27 rückgeführt, um die Temperatur der Entwicklerlösung genau zu steuern. Dann wird der Strom, der zwischen der Bezugselektrode 55, die in die Entwicklerlösung eingetaucht ist, und der leiterseitigen Elektrode 56, die am Substrat gebildet wird, als Grundlage für eine Schaltung 60 zur Bestimmung des Endpunkts der Entwicklung verwendet, um den Endpunkt der Entwicklung für das Muster zu bestimmen, das auf dem auf dem Substrat aufgebrachten Fotolack geschrieben wurde. Die Bildung der leiterseitigen Elektrode 56 wird in der japanischen offengelegten Patentschrift Nr. 1 38 728-1988 angegeben und wird deshalb hier nicht näher beschrieben. Nachdem der Endpunkt der Entwicklung bestimmt wurde, werden die Zylinder 32, 32 betätigt und der Behandlungsrahmen 33 wird abgesenkt, um die Entwicklerlösung abzulassen und die Entwicklung zu beenden. Darauf wird der Motor 22 in Drehung versetzt, um die Spülflüssigkeit aus der Düse 41 zu sprühen und das Spülen durchzuführen. Weiterhin wird die flache Bühne 24 mit einer hohen Drehzahl von etwa 2000 Umdrehungen/min zur Trocknung des Substrats 53 gedreht. Darauf entfernt der Entnahmearm 40 das Substrat 53 aus den Substrataufnahmefingern 31 und bringt es von der Behandlungskammer 21 nach außen, bevor es am Förderer 39 befestigt und zur folgenden Behandlung weiterbewegt wird.

Mittels einer derartigen automatischen Entwicklungsvorrichtung ist es möglich, automatisch das Eintauchverfahren durchzuführen, indem ein Entwicklerbehälter durch das Anheben des Behandlungsrahmens 33 gebildet wird, das Substrat 53 eingebracht wird, die Entwicklerlösung zugeführt wird und die Entwicklerlösung durch Absenken des Behandlungsrahmens 33 abgelassen wird.

Ferner ist es möglich, ein unmittelbares Spülen durch Versprühen der Spülflüssigkeit aus der Düse 41 auszuführen und es ist somit möglich, ein höheres Genauigkeitsniveau zu erzielen, da kein Auflösen des Fotolackmusters erfolgt während das Substrat 53 befördert wird.

Schließlich erfolgt bei der vorausgehend beschriebenen Ausführungsform die Temperatursteuerung der Entwicklerlösung während der Entwicklung durch strömendes Wasser von konstanter Temperatur zur flachen Bühne 24, jedoch kann Wasser einer konstanten Temperatur auch dem Behandlungsrahmen zugeführt werden. Das für die Temperatursteuerung verwendete Fluid ist nicht auf Wasser begrenzt, da Gase, Glyzerin oder einige andere Wärmeübertragungssolvens ebenfalls verwendet werden können. Ferner war bei der vorstehenden Ausführungsform der Temperatursensor in die Entwicklerlösung eingetaucht und die durch diesen Temperatursensor durchgeführte Rückkopplungssteuerung kann auch die Temperatur der Entwicklerlösung überwachen, sie integrieren und eine Kompensation bezüglich der Entwicklerzeit durchführen, während die Entwicklung durchgeführt wird.

Schließlich kann gemäß Fig. 3 ein Thermoelement 44 an der Kontaktfläche der flachen Bühne 24 und des Behandlungsrahmens 33 zur Entwicklerlösung angebracht sein, so daß eine direkte Temperatursteuerung der Entwicklerlösung durchgeführt wird. In diesem Falle ist es erwünscht, daß Kühlluft in die Leitung 29 und die Durchflußöffnung 25 eingeblasen wird, um die der Kontaktfläche mit dem Thermoelement 44 gegenüberliegende Seite zu kühlen, so daß die Effizienz des Thermoelements 44 erhöht wird.

Schließlich macht ferner das Umströmen eines temperaturgesteuerten inerten Gases (beispielsweise Stickstoff) um den Behandlungsrahmen 33 und das Austreten des Gases aus der Austrittsöffnung 42 oder einer anderen Austrittsöffnung, die an einer von der Austrittsöffnung 42 unterschiedlichen Stelle angeordnet ist, es möglich, daß die Temperatursteuerung der Entwicklerlösung genauer durchgeführt wird. Jedoch ist es erwünscht, den Gasaustritt während des Entwicklervorgangs zu sperren.

Wie vorstehend beschrieben wurde, ist es bei der erfindungsgemäßen automatischen Entwicklungsvorrichtung möglich, die Entwicklung elektrisch leitender Substrate, die mit Mustern mit 2 µm Linien und Abständen, Mustern mit 25 µm Linien und Abständen und Mustern mit 100 µm Linien und Abständen beschrieben sind, derart durchzuführen, daß die elektrische Leitfähigkeit für die Entwicklerlösung mit der richtigen Empfindlichkeit hergestellt werden kann, wobei der Stromscheitel zwischen jenem des 25 µm Musters und jenem des 2 µm Musters auftritt (siehe Punkt D der Kurve 1 ₂ in Fig. 4). Dadurch wird, wie in Fig. 5 angegeben ist, die Abmessungsgenauigkeit der Muster bei Verwendung der erfindungsgemäßen automatischen Entwicklungsvorrichtung besser (siehe Kurve 1 ₂) und hat weniger Streuung als die Abmessungsgenauigkeit der Muster unter Verwendung des Stands der Technik (siehe Kurve h₁).

Claims (12)

1. Automatische Entwicklungsvorrichtung mit
einer Entwicklerlösung, in die ein elektrisch leitender Körper (53) eingetaucht ist, auf den ein vorgegebenes Muster auf einem auf einer Oberfläche des leitenden Körpers (53) aufgebrachten Fotolackfilm geschrieben ist; und
einer Stromerfassungs-Einrichtung (55, 60) zur Erfassung eines durch den leitenden Körper (53) und die Entwicklerlösung fließenden Stroms während der Entwicklung, und zur Bestimmung des Endes der Entwicklung durch Ermittlung eines charakteristischen Werts (A, B, C) der Stromänderung in der Stromkurve; dadurch gekennzeichnet, daß die automatische Entwicklungsvorrichtung umfaßt:

• a) eine Bestimmungs-Einrichtung (10A, 10B, 10C) zur Bestimmung der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung;
• b) eine Zufuhr-Einrichtung (3C, 4A, 4B, 6, 7) zum Zuführen eines elektrolytischen Materials in die Entwicklerlösung; und
• c) eine Steuer-Einrichtung (9) zur Steuerung der Zufuhr-Einrichtung aufgrund eines von der Erfassungs-Einrichtung (10A, 10B, 10C) ermittelten Wertes der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung derart, daß die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklerlösung in einem optimalen Bereich so eingestellt wird, daß die Stromkurve bei der Entwicklung nur einen charakteristischen Wert (D) der Stromänderung aufweist.

2. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einführeinrichtung eine Einrichtung umfaßt, um eine Entwicklerflüssigkeit, die das elektrolytische Material nicht enthält und eine Entwicklerflüssigkeit, die das Elektronenabgabematerial enthält, miteinander zu mischen.

3. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einführeinrichtung eine Einrichtung umfaßt, um eine Anzahl von Flüssigkeiten miteinander zu vermischen, die vorab eingestellt wurden und die elektrische Leitfähigkeit aufweisen, die sich um mehr als einem Faktor 10 unterscheiden.

4. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einführeinrichtung eine Anzahl Behälter (3A, 3B) umfaßt, die Lösungsmittel für die Einstellung der elektrischen Leitfähigkeit besitzen.

5. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Behälter Rührwerke (8a₁, 8a₂, 8b₁, 8b₂) besitzen.

6. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Temperatursteuereinrichtung mit einem Temperatursensor zur Steuerung der Entwicklerlösung-Temperatur.

7. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der charakteristische Wert (D) ein Scheitelwert ist.

8. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1; dadurch gekennzeichnet, daß der optimale Bereich der elektrischen Leitfähigkeit im Bereich von 2µS/cm bis 100µS/cm liegt.

9. Automatisches Entwicklerverfahren bei dem
ein elektrisch leitender Körper (53), auf dem ein vorgegebenes Muster auf einem auf einer Oberfläche des Körpers (53) aufgebrachten Fotolackfilm geschrieben wurde, in eine Entwicklerlösung eingetaucht wird,
ein durch den leitenden Körper (53) und die Entwicklerlösung fließender Strom während der Entwicklung erfaßt wird; und
zur Bestimmung des Endes der Entwicklung ein charakteristischer Wert (A) der Stromänderung in der Stromkurve ermittelt wird; dadurch gekennzeichnet, daß

• a) die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklerlösung bestimmt wird;
• b) ein elektrolytisches Material der Entwicklerlösung zugeführt wird; und
• c) die Zuführung aufgrund eines ermittelten Wertes der elektrischen Leitfähigkeit derart gesteuert wird, daß die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklerlösung in einem optimalen Bereich so eingestellt wird, daß die Stromkurve nur einen charakteristischen Wert (D) der Stromänderung aufweist.

10. Automatisches Entwicklerverfahren nach Anspruch 9, gekennzeichnet durch eine Temperatursteuereinrichtung mit einem Temperatursensor zur Steuerung der Entwicklerlösung-Temperatur.

11. Automatisches Entwicklerverfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der charakteristische Wert (D) ein Scheitelwert ist.

12. Automatisches Entwicklerverfahren nach Anspruch 9; dadurch gekennzeichnet, daß der optimale Bereich der elektrischen Leitfähigkeit im Bereich von 2 µS/cm bis 100µS/cm liegt.