DE2706834C2 - Verfahren zum Messen der Verunreinigung einer elektronischen Baueinheit durch Ionen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
Verfahren zum Messen der Verunreinigung einer elektronischen Baueinheit durch Ionen und Vorrichtung zur Durchführung des VerfahrensInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Messen der Verunreinigung einer elektronischen Baueinheit durch
Ionen und eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens. Eine derartige elektronische Baueinheit kann
beispielsweise eine gedruckte Schaltungsplatte sein, welche mit einzelnen elektronischen Baugruppen bestückt
ist.
Aus der US 34 90 873 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Kontrolle von Halbleiter-Bauelementen
bekannt. Zur Feststellung von Fehlern wird eine ionisierte Flüssigkeit verwendet, weiche metallische Bereiehe
des Bauelements einfärbt, so daß eine visuelle Ermittlung der Fehlerstellen möglich ist. Derartige auf diese
Weise zu ermittelnde Fehler bestehen z. B. in Rissen oder Sprüngen der Leiterplatte. Der dabei verwendete
physikalische Effekt besteht darin, daß die Anziehungskraft auf Ionen im Gebiet des Fehlers oder Risses gegenüber
einem unbeschädigten Bauteil verändert ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der obenstehend genannten Art anzugeben, mittels
derer auf einfache und betriebssichere Weise die Verunreinigung einer elektronischen Baueinheit durch
Ionen festgestellt werden kann, sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens zu schaffen.
Die Aufgabe wird durch die in den Ansprüchen 1 und 7 genannten Merkmale gelöst.
Der Zweck der Erfindung ist darin zu sehen, daß zunächst eine Testlösung auf ein vorbestimmtes Niveau
ionischer Reinheit, d. h. Reinheit an Ionen, gebracht und anschließend eine gedruckte Schaltungsplatte mit bekannter
Fläche in ein bekanntes Volumen einer derartigen Lösung eingebracht wird, um so die Verunreinigung
der Schaltungsplatte durch Ionen zu messen oder zu bestimmen.
Der Ionengehalt der Lösung wird dadurch bestimmt, daß der Widerstand der Lösung zwischen zwei Punkten
bestimmt wird, die in einem vorbestimmten Abstand voneinander angeordnet sind. Das Fluid innerhalb des
Versuchs- Behälters wird u mgerühri. um auf diese Weise eine Homogenität der Lösung zu erzielen. Die Reliabilität
des normalen Reinigungsvorganges für elektronisehe Baueinheiten, wie beispielsweise für gedruckte
Schakungsplatten, kann mittels des Verfahrens und mittels der Vorrichtung bestimmt werden. Die Testlösung
kann in einem vorläufigen oder Zwischenschritt auf einen bekannten Gehalt an Ionen gebracht werden. An-
bj schließend wird ein vorbestimmtes, gleichbleibendes
Volumen der Lösung verwendet, um somit die Verunreinigung der Baueinheit durch Ionen innerhalb der Lösung
zu bestimmen. Die Bestimmung des lonengehalts.
d. h. des Gehalts an sowohl positiven als auch negativen
ionen dient dazu, eine nachfolgende Korrosion der elektronischen
Baueinheit zu verhindern. Elektronische Baueinheiten, insbesondere gedruckte Leiterplatten,
weiche mit elektronischen Baugruppen bestückt sind, müssen zur Vermeidung derartiger Korrosionsgefahren
und zur Aufrechterhaltung der betriebssicheren Funktionsweise möglichst vollständig von Ionen gereinigt
sein.
Die Erfindung wird in der folgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispieles anhand der Zeichnung erläutert
Ein Versuchs-Behälter ist in der Zeichnung mit 10 bezeichnet und kann eine sich verjüngende oder keilförmige
Gestalt sowie eine Volumenteilung oder Mensur 12 längs einer Seite besitzen. Eine solche Behältergestalt
ist insbesondere für das Einbringen von gedruckten Schaitungsplatten oder anderer elektronischer Baueinheiten
von Vorteil, wenn dieselben in der ntch zu beschreibenden
Weise behandelt werden sollen. Der Behälter 10 ist mit einem Lösungsvorrat 14 mittels einer
Abzugsleitung 16 und einer Enilüftungsleitung 18 verbunden. Eine Pumpe 20 ist zwischen dem Lösungsvorrat
14 und einer parallelen Kombination vier Ionen-Abscheidungssäulen 22 vorgesehen. Derartige Abscheidungssäulen
sind als »Mischbett-Typ« (mixed bed type) bekannt und vermögen mit Hilfe der in der Säule vorhandenen
Teilchen sowohl positive als auch negative Ionen aus der hindurchströmenden Lösung abzuscheiden.
Die oberen Enden der Säulen 22 sind mit Hilfe einer Leitung 24 mit dem Boden des Behälters 10 verbunden,
wodurch der Fluidkreislauf geschlossen ist.
Ein Motor 26 ist direkt unterhalb des Bodens des Behälters 10 angeordnet und nach einem Agitator oder
Rührwerk 28 ausgerichtet, welches in Gestalt eines am Behälterboden angeordneten Magnetes ausgebildet
sein kann. Wenn sich der Motor dreht, so wird der Magnet gleichfalls rotieren, was zu einer Agitation der Lösung
führt, die innerhalb der Versuchskammer oder des Behälters 10 angeordnet ist.
Mit dem Bezugszeichen 30 ist ein schematisch dargestellter elektronischer Fühler bezeichnet, der zwei im
Abstand voneinander angeordnete Platten oder Fühler 31 besitzen kann, die in einem vorbestimmten Abstand
voneinander gehalten sind und an welchen eine Spannunganliegt.
Eine Widerstands-Monitorschaltung ist schematisch mit dem Bezugszeichen 32 bezeichnet und mit Hilfe
einer Leitung 34 an den Fühler 30 angeschlossen. Auf diese Weise kann der Widerstandsmonitor eine direkte
Angabe in Ohm bezüglich des Gehaltes an Ionen der innerhalb des Behälters 10 enthaltenen Lösung geben.
Der Widerstandsmonitor mißt den Widerstand zwischen den im Abstand voneinander gehaltenen Elementen
31 im Fühler 30, wobei dieser Widerstand direkt vom Gehalt an Ionen der im Behälter vorliegenden Lösung
abhängt. Eine Steuerungsschaltung 36 für den Reinigungsvorgang ist mit Hilfe einer Leitung 38 mit dem
Motor 26 verbunden und mit Hilfe einer Leitung 40 mit der Pumpe 20. Eine Steuerschaltung 42 für den Versuchsvorgang
ist mil Hilfe einer Leitung 44 mit der Steuerung 36 für den Reinigungsvorgang verbunden.
Eine Aufzeichnungsschaltung 48 für den Versuchsvorgang und ein Zeitglied 50 sind jeweils mit dem Widerstandsmonitor
32 sowie mit der Steuerschaltung 42 für den Versuchsvorgang verbunden. In vergleichbarer
Weise ist der Widerslandsmonitor 32 mit der Steuerung 36 für den Reinigungsvorgang verbunden.
Das erfindungsgemäße Verfahren und die erfindungsgemäße Vorrichtung sind von Nutzen für die Bestimmung
der Verunreinigung von elektronischen Baueinheiten durch Ionen, wie beispielsweise von gedruckten
Schaltungsplatten. Derartige Platten werden gewöhnlich nach Lötvorgängen gereinigt, wobei diese Reinigungsvorgänge
die Aufgabe haben, die verschiedenen Verunreinigungen, die durch das Löten hervorgerufen
werden, so weit als möglich zu entfernen. Derartige
ίο Verunreinigungen durch Ionen, d. h. sowohl positive als
auch negative Ionen, können zum Auftreten von Korrosionen führen, falls sie nicht von der Platte für gedruckte
Schaltungen entfernt werden.
Das von den Herstellern gedruckter Schaltungen verwendete Verfahren gewährleistet üblicherweise im wesentlichen reine Schaltungsplatten. Die vorliegende Erfindung ist auf eine Einrichtung gerichtet, mit deren Hilfe die Reliabilität oder Zuverlässigkeit derartiger Reinigungsverfahren untersucht und getestet werden kann.
Das von den Herstellern gedruckter Schaltungen verwendete Verfahren gewährleistet üblicherweise im wesentlichen reine Schaltungsplatten. Die vorliegende Erfindung ist auf eine Einrichtung gerichtet, mit deren Hilfe die Reliabilität oder Zuverlässigkeit derartiger Reinigungsverfahren untersucht und getestet werden kann.
Grundsätzlich beinhaltet die Erfindung zwei voneinander getrennte Verfahrensschritte. Im ersten Verfahrensschritt
wird die Testlösung auf einen vorbestimmten Reinheitsgrad oder ein vorbestimmtes Reinheitsniveau
gebracht. Im zweiten Verfahrensschritt nimmt ein vorbestimmtes gleichbleibendes Volumen der gereinigten
Lösung eine gedruckte Schaltungsplatte von bekannter Wirkungsquerschnittfläche auf und die sich einstellende
Veränderung des Ionengehaltes der Lösung wird aufgezeichnet oder ermittelt, was eine direkte Anzeige
für die Verunreinigung durch Ionen darstellt, die nach dem herkömmlichen Reinigungsvorgang auf der
Trägerplatte für gedruckte Schaltungen zurückbleibt.
Beim ersten Verfahrensschritt strömt Lösung aus dem Vorratsbehälter 14 durch die lonenabscheidersäulen
22 und durch die Leitung 24 zum Boden des Behälters 10. Im Behälter steigt die Lösung allmählich immer
höher, bis sie die gleiche Höhe erreicht hat. wie die Spitze der Entlüftungsleitung 18. Auf diesem Flüssigkeitspegel
verursacht die Saugwirkung durch die Entlüftungsleitung ein Entleeren des Behälters in den Lösungsvorrat
14. Während der Zeitdauer, zu welcher sich Lösung im Behälter 10 befindet, wird der Widerstand
der Lösung mit Hilfe des Fühlers 30 und des Widerstandsmonitors 32 gemessen. Die Steuerung 36 für den
Reinigungsvorgang sorgt dafür, daß die Pumpe 20 weiter arbeitet und daß der Rührwerkmotor 26 in Betrieb
bleibt, um so lange zu arbeiten, bis die vom Widerstandsmonitor gemessene Reinheit der Lösung ein vorbestimmtes
Maß oder eine vorbestimmte Höhe erreicht.
so Dieses Maß kann auf herkömmliche Weise mit Hilfe von Steuerschaltern in der Reinigungsvorgang-Steuerung
36 eingestellt werden. 1st der angestrebte Reinheitsgrad erreicht, so stellt die Pumpe ihre Arbeit ein.
was zur Folge hat, daß die Lösung nicht länger in der vorstehend beschriebenen Weise im Kreislauf geführt
wird.
Sodann wird die Steuerung 42 für den Testvorgang aktiviert, mit deren Hilfe über die Steuerung 36 für den
Reinigungsvorgang die Pumpe 20 dazu veranlaßt wird.
ein vorbestimmtes Volumen der Testlösung in den Behälter
10 einzubringen. Das in den Behälter 10 eingebrachte Volumen wird durch die Wirkungsquerschnittsfläche
(exposed cross sectional area) der gedruckten Schalungsplatte oder -platten bestimmt, die untersucht
werden sollen. Die Teilungen 12 können so skaliert sein, daß direkt die Plattenfläche abgelesen wird. Die Skalierung
kann jedoch auch so getroffen sein, daß sie ein Volumen anzeigt. In jedem Fall wird durch die Pumpe
20 ein vorbestimmtes Fluidvolumen innerhalb des Behälters 10 herbeigeführt, wobei die Pumpe von der
Steuerung 42 für den Versuchsvorgang und von der Steuerung 36 für den Reinigungsvorgang gesteuert
wird. Ist das angestrebte Fluidvolumen im Behälter vorhanden, so wird die Pumpe zum Stillstand gebracht. Die
Trägerplatten für gedruckte Schaltungen oder andere elektronische Anordnungen werden in den Behälter eingelegt
und der Widerstandsmonitor 32 gibt über den Fühler 30 eine direkte Anzeige der Widerstandsänderung
des Fluids, welche eine direkte Folge der Verunreinigung der eingetauchten Schaltungsplatten durch Ionen
ist. Das Zeitglied 50 und die Aufzeichnungseinrichtung 48 des Testvorganges können zur Aufzeichnung
der Widerstandsänderung und zur Steuerung der Zeitdauer verwendet werden, während welcher die Widerstandsänderung
gemessen wird. Nach der vorgeschriebenen Meßdauer und dem Aufzeichnen der Widerstandsänderung
der Lösung im Behälter 10 können die gedruckten Schaltungsplatten entnommen werden. Die
Reinheitsveränderung der Lösung ist eine direkte Angabe für die Verunreinigung der Schaltungsplatte durch
Ionen nach Absolvierung des herkömmlichen Reinigungsverfahrens und mit Hilfe dieser Angabe ist eine
direkte Aussage bezüglich der Reliabilität und Wirksamkeit
derartiger Reinigungsverfahren gegeben. Der Behälter 10 kann sodann durch die Ablaufleitung 16
entleert werden, durch welche die Lösung zurück in den Behälter 14 fließt.
Die Testlösung kann in weiten Grenzen schwanken. Eine Grundlösung aus einer 50 :50-Mischung von Isopropylalkohol
und entionisiertem Wasser hat sich als zufriedenstellend erwiesen.
Die lonenabscheidungssäulen 22 können in der dargestellten
Weise parallel miteinander verbunden sein oder können auch mit geeigneten Ventileinrichtungen
versehen sein, um die Lösung durch das eine oder das andere Säuienpaar zu schicken, was ein leichtes Auswechseln
einer Säule gestattet, wenn deren Wirksamkeit erschöpft ist.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
45
50
60 Il
Claims (11)
1. Verfahren zum Messen der Verunreinigung einer elektronischen Baueinheit durch Ionen, dadurch
gekennzeichnet, daß eine Testlösung mit bekanntem Gehalt an Ionen bereitgestellt wird,
daß eine elektronische Baueinheit mit bekannter Einwirkfläche in ein vorbestimmtes gleichbleibendes
Volumen der Testlösung eingebracht wird, und daß nachfolgend als Messung der Verunreinigung der
Baueinheit durch Ionen der Gehalt an Ionen in der Testlösung bestimmt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Bereitstellen der Testlösung mit
bekanntem Gehalt an Ionen einen Verfahrensschritt umschließt, bei welchem die Testlösung duah ein
lonenabscheidungssystem geschickt wird, während
der Gehalt der Lösung an Ionen kontinuierlich überwacht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Testlösung zwecks Einstellen auf
einen bekannten Gehalt an Ionen nacheinander durch einen Vorrat, ein Ionen-Abscheidungssystem
und durch einen Behälter geleitet wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zeitdauer kontrolliert wird, während
welcher die elektronische Baueinheit in der Testlösung mit bekannten Volumen verbleibt.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Testlösung während des Bereitsteilens einer Lösung mit bekanntem Gehalt an Ionen
und während der Zeitdauer, während welcher die elektrische Baueinheit sich innerhalb der Testlösung
befindet, umgerührt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehalt an Ionen der Testlösung
durch Messung des Lösungswiderstandes zwischen elektronischen Fühlgliedern bestimmt wird, die in
einem vorbestimmten Abstand voneinander angeordnet worden sind.
7. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet
durch einen Behälter (10) zur Aufnahme einer elektronischen Baueinheit einen Lösungsvorrat (14), eine
lonenabscheidungseinrichtung (22), die in Strömungsverbindung mit dem Behälter (10) steht, eine
Pumpe (20) zum Fördern des Fluids durch die Strömungsverbindung (24) und den Behälter, eine Einrichtung
(30, 31) zum Messen der Verunreinigung durch Ionen der innerhalb des Behälters vorliegenden
Lösung, und durch eine Steuereinrichtung (36, 42) zum zyklischen Betätigen der Pumpe zwecks
Förderung von Fluid durch den Behälter, die Ionen-Abscheidungseinrichtung
und den Lösungsvorrat, wobei die Steuereinrichtung ferner eine Einrichtung (42) enthält, mit deren Hilfe die Pumpe zum Einbringen
eines vorbestimmten gleichbleibenden Fluidvolumens in den Behälter betätigbar ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßeinrichtung (30,31) einen elektronischen
Fühler (30) zum Messen des Widerstandes der Lösung zwischen zwei im Abstand voneinander
angeordneten Elektroden (31) umfaßt.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (26,28) zum Umrühren
der Lösung innerhalb des Behälters (10) zwecks Gewährleistung einer homogenen Lösungskonzen-
tration.
10. Vorrichtung nach Anspruch!), dadurch gekennzeichnet,
daß die Umrühreinrichtung (26, 28) einen innerhalb des Behälters (10) angeordneten
Magneten sowie einen außerhalb des Behälters (10) angeordneten Motor (26) aufweist wobei der Motor
in der direkten Nachbarschaft des Magneten angeordnet ist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis
10, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionen-Abscheidungseinrichtung
(22) eine Vielzahl von Ionensäulen aufweist, die parallel miteinander verbunden zwischen
dem Lösungsvorrat (14) und dem Behälter (10) angeordnet sind.
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US05/658,182 US4023931A (en) | 1976-02-17 | 1976-02-17 | Means and method for measuring levels of ionic contamination |
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DE2706834A1 DE2706834A1 (de) | 1977-08-18 |
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Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4434233A (en) | 1981-03-03 | 1984-02-28 | Carrier Corporation | Method of testing oil for ionic contaminants |
GB2128335A (en) * | 1982-08-13 | 1984-04-26 | Omnium Assets Trust Syndicate | Measuring conductivity of a soil sample |
JPS59214750A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | Mitsubishi Electric Corp | ナトリウムイオン物質濃度の連続モニタ−装置 |
US4731154A (en) * | 1986-06-23 | 1988-03-15 | The Dow Chemical Company | Method and apparatus for quantitative measurement of organic contaminants remaining on cleaned surfaces |
WO1988004962A1 (en) * | 1986-12-24 | 1988-07-14 | Fry Metals Inc. | Apparatus and method for determining surface ionic contamination levels of electronic assemblies such as printed circuit assemblies |
US4996160A (en) * | 1987-06-09 | 1991-02-26 | The Dow Chemical Company | Method and apparatus for quantitative measurement of ionic and organic contaminants remaining on cleaned surfaces |
US4922205A (en) * | 1989-06-08 | 1990-05-01 | Rikagaku Kenkyusho | Apparatus for detecting contamination on probe surface |
US5359282A (en) * | 1990-11-16 | 1994-10-25 | Nichimen Kabushiki Kaisha | Plasma diagnosing apparatus |
US5201958A (en) * | 1991-11-12 | 1993-04-13 | Electronic Controls Design, Inc. | Closed-loop dual-cycle printed circuit board cleaning apparatus and method |
JPH08211592A (ja) * | 1995-02-07 | 1996-08-20 | Nikon Corp | 洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置 |
DE19607795C2 (de) * | 1996-03-01 | 1999-09-02 | Temic Semiconductor Gmbh | Verfahren zur Untersuchung von ionischen Verunreinigungen im Innern gemoldeter elektronischer Bauelemente |
US6177279B1 (en) * | 1998-11-12 | 2001-01-23 | Memc Electronic Materials, Inc. | Ion extraction process for single side wafers |
US6367679B1 (en) * | 2000-06-28 | 2002-04-09 | Advanced Micro Devices, Inc. | Detection of flux residue |
JP2004077378A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-03-11 | Somakkusu Kk | 電解洗浄液の劣化測定装置及び該装置を用いた電解洗浄液の劣化度評価方法 |
KR101240333B1 (ko) * | 2007-08-24 | 2013-03-07 | 삼성전자주식회사 | 마스크 표면에 흡착된 이온 분석 장치 및 방법 |
CN101334432B (zh) * | 2008-07-10 | 2010-06-09 | 广东正业科技有限公司 | 一种离子污染检测装置 |
WO2010030505A1 (en) * | 2008-09-10 | 2010-03-18 | Austin American Technology Corporation | Cleaning and testing ionic cleanliness of electronic assemblies |
DE102016113072A1 (de) * | 2016-07-15 | 2018-01-18 | Microtronic Produktions Gmbh | Kontaminationstester zum Prüfen einer ionischen Kontamination von Leiterplatten |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3366554A (en) * | 1964-01-06 | 1968-01-30 | Boeing Co | Method for evaluating coating discontinuities |
US3490873A (en) * | 1965-08-10 | 1970-01-20 | United Aircraft Corp | Method and composition for inspecting semiconductor devices |
US3459505A (en) * | 1965-10-11 | 1969-08-05 | United Carr Inc | Method of testing the porosity of coated articles |
JPS5221916B2 (de) * | 1972-04-26 | 1977-06-14 | ||
DE2514905A1 (de) * | 1974-04-10 | 1975-10-23 | Philips Nv | Konduktometrische analyse |
-
1976
- 1976-02-17 US US05/658,182 patent/US4023931A/en not_active Expired - Lifetime
-
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0119082Y2 (de) | 1989-06-02 |
JPS58175451U (ja) | 1983-11-24 |
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FR2342005B1 (de) | 1980-11-14 |
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GB1516812A (en) | 1978-07-05 |
DE2706834A1 (de) | 1977-08-18 |
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DE3410203C2 (de) | ||
DE4003119C2 (de) | ||
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