CN103080793B - 粘合型光学薄膜、其制造方法以及图像显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明的粘合型光学薄膜具有光学薄膜和设置于前述光学薄膜的粘合剂层，前述粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下。该粘合型光学薄膜可以减少由粘合剂层引起的可视性的不均的问题。

Description

粘合型光学薄膜、其制造方法以及图像显示装置

技术领域

本发明涉及粘合型光学薄膜以及其制造方法。进而，本发明还涉及使用了所述粘合型光学薄膜的液晶显示装置、有机EL显示装置、CRT、PDP等图像显示装置及前面板等与图像显示装置一起使用的构件。作为前述光学薄膜，可使用偏光板、相位差板、光学补偿薄膜、亮度提高薄膜、防反射薄膜等表面处理薄膜、以及层叠有它们的薄膜。

前述粘合型光学薄膜中，使用偏光板作为光学薄膜的粘合型偏光板设置于液晶显示装置以及有机EL显示装置等图像显示装置的可视侧时，特别适合作为液晶显示装置中设置于相对于液晶单元的可视侧的所谓上侧的粘合型偏光板。该液晶显示装置中适用的上侧的粘合型偏光板介由粘合型偏光板的粘合剂层贴合于液晶单元。

背景技术

对液晶显示装置以及有机EL显示装置等而言，因其图像形成方式，例如在液晶显示装置中，在液晶单元的两侧必须配置偏光元件，通常粘贴有偏光板。另外在液晶面板及有机EL面板等显示面板中，除了偏光板之外，为了提高显示器的显示质量，使用各种各样的光学元件。另外为了保护液晶显示装置、有机EL显示装置、CRT、PDP等图像显示装置，或赋予高级感，或使设计差别化，通常使用前面板。这些液晶显示装置以及有机EL显示装置等图像显示装置、前面板等与图像显示装置一同使用的构件，例如使用用于防止着色的相位差板、用于改善液晶显示器的视场角的视场角扩大薄膜、以及用于提高显示器的对比度的亮度提高薄膜、为了赋予表面耐擦伤性而使用的硬涂层薄膜、用于防止对图像显示装置的反射的防眩处理薄膜、抗反射薄膜、低反射薄膜等防反射薄膜等表面处理薄膜。这些薄膜统称为光学薄膜。

上述液晶面板以及有机电致发光(EL)面板等显示面板在手表、移动电话、PDA、笔记本电脑、个人电脑用监视器、DVD播放器、TV等中应用于液晶显示装置以及有机EL显示装置等。液晶面板中，由于液晶显示装置的显示机构，作为光学薄膜，偏光板被用于液晶单元的两侧(上侧：可视侧、下侧：可视侧的相反侧或者背光侧)。另外，偏光板通常在偏振片的单侧或者两侧设置有透明保护薄膜。近年，对于液晶面板以及有机EL面板等显示面板，提高亮度、高精细化、低反射化等显示特性相关的要求正在变高。另外，对于液晶面板以及有机EL面板等显示面板中使用的光学薄膜，对外观的要求也一并变高。

将前述光学薄膜贴合于液晶单元及有机EL面板等显示面板、或前面板时，通常使用粘合剂。另外，关于光学薄膜与液晶单元以及有机EL面板等显示面板、或前面板、或光学薄膜之间的粘接，通常，为了减少光的损失，各材料使用粘合剂进行密合。在这样的情况下，由于具有在固定光学薄膜时不需要干燥工序等优点，一般使用预先将粘合剂作为粘合剂层设置在光学薄膜的单侧的粘合型光学薄膜。

关于前述粘合剂层，从各种观点控制提出了粘合剂层的表面状态的方案。例如，对于设置于偏光板等的粘合剂层的厚度的不均，提出了通过减小标准偏差，提高高温、高温多湿环境下的耐久性(专利文献1)。例如，提出了可以通过控制粘合剂层的表面粗糙度来抑制粘合剂层的不均、改善可视性的方案(专利文献2)。

现有专利文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-90125号公报

专利文献2：日本特开2008-302580号公报

发明内容

发明要解决的问题

上述专利文献1、2中提出了控制粘合剂层的表面状态的方案。但是，专利文献1中，公开了利用溶剂浇铸法(Solvent castingmethod)形成标准偏差小的粘合剂层，但并没有记载具体的粘合剂层的形成方法，实质上不能形成标准偏差小的粘合剂层。另外，专利文献2中，公开了控制粘合剂层的表面粗糙度，但是没有关于将粘合剂层的厚度的不均控制得较小的记载。

另外，以往，在上侧偏光板中，相对于偏振片在可视侧使用以为高雾度值的方式实施了防眩处理的透明保护薄膜。因此，即便偏光板、粘合剂层中存在凹凸，由于实施了防眩处理的透明保护薄膜的雾度值高，因此前述凹凸不会如想象那样被识别为不均。

另一方面，近年来，作为液晶显示装置，特别是TV、笔记本电脑、个人电脑用监视器的液晶面板的最表面期望是重视亮度的所谓透亮且具有高级感的表面。作为这样的透亮系的液晶显示装置，有将玻璃、亚克力板等前面板应用于液晶显示装置的最表面的液晶显示装置，但是前面板的采用会招致成本以及重量的上升，不优选。另外，为了得到前述透亮系的液晶显示装置，上侧偏光板中，作为相对于偏振片的可视侧的透明保护薄膜，使用了没有实施防眩处理、或者以为低雾度值的方式实施了防眩处理的透明保护薄膜。但是，使用这样的未实施防眩处理或者实施了低雾度值的防眩处理的透明保护薄膜时，由于反射，使用以往的高雾度值的透明保护薄膜时不可视的偏光板、粘合剂层的凹凸变得可视。

另外，前述液晶显示装置中在可视侧设置前面板、触摸面板的机种增加。这样的结构中，为了抑制由空气层与前面板、触摸面板的界面上的反射导致的可视性的降低，有时在前面板、触摸面板上贴合带有粘合剂层的表面处理薄膜。但是，如上所述，以往的粘合型光学薄膜起因于光学薄膜以及粘合剂层的厚度不均的表面凹凸变大。近年，低雾度值且透亮的表面处理成为主流的潮流中，由粘合剂层和光学薄膜的凹凸造成的透亮的外观受损成为问题，在带有粘合剂层的表面处理薄膜中，也要求没有凹凸的平滑的粘合剂层。

本发明的目的在于提供粘合型光学薄膜以及其制造方法，所述粘合型光学薄膜为具有光学薄膜以及粘合剂层的粘合型光学薄膜，其可以降低由粘合剂层引起的可视性的不均问题。

另外，本发明的目的在于提供粘合型偏光板以及其制造方法，其中，在前述粘合型光学薄膜为具有偏光板以及粘合剂层的粘合型偏光板时，该粘合型偏光板具有透亮的高级感而且减少了由粘合型偏光板引起的可视性的不均的问题。

另外，本发明的目的还在于提供使用前述粘合型光学薄膜的图像显示装置。

用于解决问题的方案

本发明人等为了解决前述问题进行了反复深入的研究，结果发现，通过下述的粘合型光学薄膜等能够解决上述问题，从而完成了本发明。

即，本发明涉及一种粘合型光学薄膜，其特征在于，其为具有光学薄膜和设置于前述光学薄膜的粘合剂层的粘合型光学薄膜，

前述粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下。

作为前述粘合型光学薄膜，可以列举出以下的薄膜：前述光学薄膜为在偏振片的单侧具有第一透明保护薄膜或者在偏振片的两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的偏光板(以下，粘合型光学薄膜中，将使用偏光板作为光学薄膜的粘合型光学薄膜称为粘合型偏光板)；

前述第一透明保护薄膜的雾度值为15%以下；

前述粘合剂层设置于偏光板的不具有前述第一透明保护薄膜侧。

前述粘合型偏光板中，前述第一透明保护薄膜的厚度优选为60μm以下。

前述粘合型偏光板中，优选的是，前述偏光板在偏振片的两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜，第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的至少任一者的厚度为60μm以下。

前述粘合型偏光板中，前述偏振片的厚度优选为10μm以下。

前述粘合型光学薄膜中，可以使用相位差板作为前述光学薄膜。前述相位差板的厚度优选为60μm以下。

前述粘合型光学薄膜中，可优选使用雾度值为15%以下的光学薄膜作为前述光学薄膜。该光学薄膜作为以贴合于前面板或者触摸面板为目的的光学薄膜是合适的。

前述雾度值为15%以下的光学薄膜优选厚度为60μm以下。另外，作为前述雾度值为15%以下的光学薄膜，可以使用表面处理薄膜。

另外，本发明涉及粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，其为具有光学薄膜和设置于前述光学薄膜的粘合剂层的前述粘合剂型光学薄膜的制造方法，

其具有：

工序(1A)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在前述光学薄膜的不具有前述第一透明保护薄膜侧；以及

工序(2A)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层；

而且，前述粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X满足0.8X-Y≤68。

另外，本发明涉及粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，其为具有光学薄膜和设置于前述光学薄膜的粘合剂层的前述粘合剂型光学薄膜的制造方法，

其具有：

工序(1B)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在脱模薄膜上；

工序(2B)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层；以及

工序(3)：将形成于脱模薄膜上的粘合剂层贴合于前述光学薄膜的不具有前述第一透明保护薄膜侧；

而且，前述粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X满足0.8X-Y≤68。

前述粘合型光学薄膜的制造方法中，优选的是，前述粘合剂涂覆液的粘度Y(P)为2~160P，涂覆厚度X(μm)为20~250μm。

另外，本发明涉及粘合型光学薄膜(以下，称为层叠粘合型光学薄膜)，其特征在于，其为至少两层光学薄膜和至少两层粘合剂层分别交替层叠的粘合型光学薄膜，

前述粘合剂层的至少任一者的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下。

前述层叠粘合型光学薄膜中，优选至少两层粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值均为0.12μm以下。

另外，作为前述层叠粘合型光学薄膜，可以列举出如下的薄膜：前述光学薄膜的一张为在偏振片的单侧具有第一透明保护薄膜或者在偏振片的两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的偏光板(以下，层叠粘合型光学薄膜中，将使用偏光板作为一张光学薄膜的粘合型光学薄膜称为层叠粘合型偏光板)；

前述第一透明保护薄膜的雾度值为15%以下；

前述粘合剂层设置于偏光板的不具有前述第一透明保护薄膜侧。

前述层叠粘合型偏光板中，前述第一透明保护薄膜的厚度优选为60μm以下。

前述层叠粘合型偏光板中，优选的是，前述偏光板在偏振片的两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜，第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的至少任一者的厚度为60μm以下。

前述层叠粘合型偏光板中，前述偏振片的厚度优选为10μm以下。

前述层叠粘合型光学薄膜中，可以使用如下的薄膜：前述光学薄膜的一张为在偏振片的单侧具有第一透明保护薄膜或者在前述光学薄膜的两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的偏光板，

前述第一透明保护薄膜的雾度值为15%以下；

前述粘合剂层设置于偏光板的不具有前述第一透明保护薄膜侧，

其他的光学薄膜的至少一张为相位差板。前述相位差板的厚度优选为60μm以下。

另外，本发明涉及图像显示装置，其特征在于，具有至少一张前述粘合型光学薄膜(或者层叠粘合型光学薄膜)。

发明的效果

本发明中，前述粘合型光学薄膜(或者层叠粘合型光学薄膜)中的粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值被控制在0.12μm以下，粘合剂层的厚度引起的凹凸不均非常小，平滑性良好。粘合型光学薄膜的表面凹凸起因于粘合剂层和光学薄膜的厚度的不均，利用本发明的粘合型光学薄膜，可以减少由光学薄膜以及粘合剂层引起的凹凸导致的不均。

本发明中，发现由粘合剂层的厚度引起的凹凸的不均起因为干燥时的粘合剂涂覆液的流动，因此，通过提高粘合剂涂覆液的粘度Y、将粘合剂涂覆液的涂覆厚度变薄，粘合剂涂覆液的流动变小、进而以它们满足规定关系的方式形成粘合剂层，由此，将粘合剂层的厚度引起的凹凸的不均控制得较小。

另外，可以提供在前述粘合型光学薄膜(或者层叠粘合型光学薄膜)为粘合型偏光板(或者层叠粘合型偏光板)时，该粘合型偏光板(或者层叠粘合型偏光板)使用雾度值为15%以下的透明保护薄膜作为能成为液晶显示装置以及有机EL显示装置等图像显示装置的最表面的透明保护薄膜(液晶显示装置中上侧偏光板的最表面的透明保护薄膜)时，不使用前面板也透亮且具有高级感的液晶显示装置以及有机EL显示装置等图像显示装置。另外，粘合型偏光板中的粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值被控制在0.12μm以下，粘合剂层的厚度引起的凹凸不均非常小，平滑性良好。因此，利用本发明的粘合型偏光板，看不到由粘合型偏光板引起的凹凸导致的不均，可以赋予液晶显示装置等图像显示装置透亮和高级感。

另外，前述粘合型光学薄膜中，使用雾度值为15%以下的光学薄膜(例如，表面处理薄膜)作为光学薄膜时，通过将其贴合于前面板上，通过前面板的透亮赋予高级感，而且由于标准偏差值被控制在0.12μm以下，看不到粘合剂层的凹凸造成的不均，可以赋予液晶显示装置以及有机EL显示装置等图像显示装置透亮和高级感。

附图说明

图1是表示本发明的粘合型光学薄膜的一例的截面图。

图2是表示本发明的粘合型光学薄膜的一例的截面图。

图3是表示本发明的粘合型光学薄膜的一例的截面图。

图4是表示本发明的层叠粘合型光学薄膜的一例的截面图。

图5是表示本发明的层叠粘合型光学薄膜的一例的截面图。

图6是表示本发明的层叠粘合型光学薄膜的一例的截面图。

图7是表示本发明的层叠粘合型光学薄膜的一例的截面图。

图8是表示本发明的粘合型光学薄膜的使用方式的一例的截面图。

图9是表示本发明的粘合型光学薄膜的使用方式的一例的截面图。

图10是表示本发明的粘合型光学薄膜的使用方式的一例的截面图。

图11是薄型高功能偏光膜的制造工序的概略图。

图12是薄型高功能偏光膜的制造方法和包含干式拉伸的制造方法的制造工序的示意图。

图13是薄型高功能偏光膜的参考制造例以及参考比较例的光学特性值的比较表。

图14是薄型高功能偏光膜的参考制造例以及参考比较例的各T/P值的表。

图15是由薄型高功能偏光膜的参考制造例以及参考比较例的各T/P值得到的T-P图表。

图16是薄型高功能偏光膜的T-P图表的示意图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的粘合型光学薄膜进行说明。如图1所示，粘合型光学薄膜具有光学薄膜1和设置于前述光学薄膜1的粘合剂层2。前述粘合剂层2的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下。作为光学薄膜1，可使用偏光板、相位差板、光学补偿薄膜、亮度提高薄膜、防反射薄膜等表面处理薄膜等各种光学薄膜。图2至图10示例了各种光学薄膜的方式。

图2以及图3为本发明的粘合型光学薄膜为粘合型偏光板的情况。该粘合型偏光板具有作为光学薄膜1的偏光板A1或者A2和设置于该偏光板A1或者A2的粘合剂层2。该粘合型偏光板在液晶显示装置中，介由粘合剂层2配置于相对于液晶单元的可视侧。偏光板A1或者A2具有偏振片a且在偏振片a的单侧具有第一透明保护薄膜b1或者在两侧具有第一透明保护薄膜b1以及第二透明保护薄膜b2。图3的偏光板A2为只在偏振片a的单侧具有第一透明保护薄膜b1的情况，图2的偏光板A1为在偏振片a的两侧具有第一透明保护薄膜b1以及第二透明保护薄膜b2的情况。另外，该偏光板A1或者A2至少具有第一透明保护薄膜b1，第一透明保护薄膜b1侧在液晶显示装置以及有机EL显示装置等图像显示装置中成为最表面。图2以及图3中的前述粘合剂层2设置于前述偏光板A1或者A2的不具有第一透明保护薄膜b1侧。即，如图2所示，只在偏振片a的单侧具有第一透明保护薄膜b1时，粘合剂层2设置于偏振片a上，偏振片a的两侧具有第一透明保护薄膜b1以及第二透明保护薄膜b2时，粘合剂层2设置于第二透明保护薄膜b2上。

图4至图7表示层叠粘合型光学薄膜，其为至少两层光学薄膜1和至少两层粘合剂层2分别交替层叠的层叠粘合型光学薄膜。图4至图7中，图2或者图3的粘合型偏光板中的粘合剂层2上层叠有相位差板B作为光学薄膜1，该相位差板B上设置有粘合剂层2。图4中，图2的偏光板A1中的第二透明保护薄膜b2上依次设置有第一粘合剂层21、第一相位差板B1、第二粘合剂层22。图6中，进而在第二粘合剂层22上依次设置有第二相位差板B2、第三粘合剂层23。图5中，图3的偏光板A2中的偏振片a上依次设置有第一粘合剂层21、第一相位差板B1、第二粘合剂层22。图7中，进而在第二粘合剂层22上依次设置有第二相位差板B2、第三粘合剂层23。需要说明的是，层叠粘合型光学薄膜中，粘合剂层2的至少任一层的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下。优选全部的粘合剂层2的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下。

图8至图10表示使用表面处理薄膜C作为本发明的粘合型光学薄膜中的光学薄膜1的粘合型表面处理薄膜的使用方式。需要说明的是，表面处理薄膜C对基材薄膜的单侧实施了表面处理。粘合型表面处理薄膜中，粘合剂层2设置于未实施表面处理侧的基材薄膜上。图8为将粘合型表面处理薄膜的粘合剂层2贴合于前面板F的方式。图9是在图8的方式中进而将前面板F设置在触摸面板T上的情况。图10是将粘合型表面处理薄膜的粘合剂层2贴合于触摸面板T的方式。图10中进而在触摸面板T上设置前面板F。图8至图10中所述的适用粘合型表面处理薄膜C的前面板F或者触摸面板T等中，表面处理薄膜C均位于单侧的表面。适用粘合型表面处理薄膜C的前面板F或者触摸面板T等相对于液晶显示装置以及有机EL显示装置等图像显示装置设置于可视侧，其应用既可以将表面处理薄膜C侧设置于图像显示装置侧，也可以以相对于图像显示装置为相反侧的最表面的方式设置。

本发明的偏光板中适宜使用的偏振片，没有特别的限制，可以使用各种偏振片。作为偏振片，可列举出例如在聚乙烯醇系薄膜、部分甲缩醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯·乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜中吸附碘、二色性染料的二色性物质并进行单轴拉伸而得到的偏振片；聚乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向薄膜等。其中，优选由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物质形成的偏振片。对这些偏振片的厚度没有特别限制，通常为80μm左右以下。该厚度优选为10~50μm，进而优选为15~30μm。

对于用碘染色聚乙烯醇系薄膜并进行单轴拉伸而得到的偏振片，例如可以通过将聚乙烯醇系薄膜浸渍在碘的水溶液中进行染色，并拉伸至原长的3~7倍来制作。根据需要也可以在可含有硼酸、硫酸锌、氯化锌等的碘化钾等的水溶液中浸渍。进而根据需要可以在染色前将聚乙烯醇系薄膜浸渍在水中进行水洗。通过将聚乙烯醇系薄膜水洗，可以清洗聚乙烯醇系薄膜表面的污垢、防粘连剂，此外，通过使聚乙烯醇系薄膜溶胀，还具有可防止染色不均等不均的效果。拉伸可在用碘染色后进行，也可以边染色边拉伸，另外也可以在拉伸后用碘染色。还可以在硼酸、碘化钾等的水溶液、水浴中进行拉伸。

另外，作为偏振片，可以使用厚度为10μm以下的薄型的偏振片。从薄型化的观点而言，该厚度优选为1~7μm。这种薄型的偏振片从厚度不均少、可视性优异、并且尺寸变化少而耐久性优异、进而作为偏光板的厚度也实现薄型化的观点出发是优选的。

作为薄型的偏振片，可代表性地列举出日本特开昭51-069644号公报、日本特开2000-338329号公报、WO2010/100917号小册子、PCT/JP2010/001460的说明书、或日本特愿2010-269002号说明书、日本特愿2010-263692号说明书中记载的薄型偏光膜。这些薄型偏光膜可通过包含如下工序的制法获得：将聚乙烯醇系树脂(以下也称为PVA系树脂)层和拉伸用树脂基材以层叠体的状态拉伸的工序、和进行染色的工序。根据该制法，即使PVA系树脂层薄，也可以通过被拉伸用树脂基材支撑来进行拉伸而不会出现拉伸导致的破断等不良情况。

作为前述薄型偏光膜，从可以高倍率拉伸、可以使偏振性能提高的观点出发，优选由在包括以层叠体的状态进行拉伸的工序和染色工序的制法中还包含WO2010/100917号小册子、PCT/JP2010/001460的说明书、或日本特愿2010-269002号说明书、日本特愿2010-263692号说明书中所记载那样的在硼酸水溶液中进行拉伸的工序的制法得到的偏光膜，特别优选由在包括以层叠体的状态进行拉伸的工序和染色工序的制法中还包含在日本特愿2010-269002号说明书、日本特愿2010-263692号说明书中所记载的在硼酸水溶液中进行拉伸之前进行辅助性的空中拉伸的工序的制法得到的偏光膜。

上述PCT/JP2010/001460的说明书所记载的薄型高功能偏光膜是在树脂基材上一体地成膜、由使二色性物质取向了的PVA系树脂形成的厚度7μm以下的薄型高功能偏光膜，具有单片透射率为42.0%以上且偏光度为99.95%以上的光学特性。

作为上述的薄型偏振片，可以适宜地使用PCT/JP2010/001460的说明书中所记载的薄型高功能偏光膜。

上述薄型高功能偏光膜是在树脂基材上一体地成膜、由使二色性物质取向了的聚乙烯醇系树脂(以下，也称为PVA系树脂)形成的厚度7μm以下的薄型高功能偏光膜，具有单片透射率为42.0%以上且偏光度为99.95%以上的光学特性。前述厚度优选为2~6μm。

上述薄型高功能偏光膜可以如下来制造，即，在具有至少20μm的厚度的树脂基材上通过聚乙烯醇系树脂的涂布以及干燥生成聚乙烯醇系树脂层，将生成的聚乙烯醇系树脂层浸渍在二色性物质的染色液中，使聚乙烯醇系树脂层吸附二色性物质，在硼酸水溶液中，将吸附有二色性物质的聚乙烯醇系树脂层与树脂基材一体地拉伸至总拉伸倍率为原长的5倍以上，从而制造。

另外，通过在包含使二色性物质取向了的薄型高功能偏光膜的层叠体薄膜的制造方法中包含如下工序，可以制造上述薄型高功能偏光膜，所述工序为：生成包含具有至少20μm的厚度的树脂基材、和通过在树脂基材的单面涂布含有聚乙烯醇系树脂的水溶液并干燥而形成的聚乙烯醇系树脂层的层叠体薄膜的工序；和通过将包含树脂基材和在树脂基材的单面上形成的聚乙烯醇系树脂层的前述层叠体薄膜浸渍在包含二色性物质的染色液中，使层叠体薄膜所含的聚乙烯醇系树脂层吸附二色性物质的工序；和在硼酸水溶液中，将包含吸附有二色性物质的聚乙烯醇系树脂层的前述层叠体薄膜拉伸至总拉伸倍率为原长的5倍以上的工序；和通过将吸附有二色性物质的聚乙烯醇系树脂层与树脂基材一体地拉伸，从而制造在树脂基材的单面成膜有由使二色性物质取向了的聚乙烯醇系树脂层形成的、厚度7μm以下、具有单片透射率为42.0%以上且偏光度为99.95%以上的光学特性的薄型高功能偏光膜的层叠体薄膜的工序。

作为背景技术，与光学特性相关的整理是必要的。可以应用于大型显示元件的偏光膜的光学特性可以直接地以偏光度P和单片透射率T表示。偏光膜的性能通常用T-P图表表示，该T-P图表是将为权衡(Trade-off)关系的偏光度P和单片透射率T两种光学特性值制图得到的。

参照图16的示意图。T=50%、P=100%是理想特性。如果T值低P值容易提高，T值越高P值越不易上升。因此，薄型偏光膜中未实现的偏光度P99.95%以上、单片透射率42.0%以上是在现在或者将来作为大型显示元件等的偏光膜性能所要求的光学特性。因此，理想特性为T=50%，P=100%，光透过偏光膜时，在偏光膜和空气的界面产生一部分光反射的现象。考虑该反射现象，透射率减小反射的分量，因此，现实中能够实现的T值的最大值为45~46%左右。

偏光度P可以表示偏光膜或者显示器的对比度比(CR)。99.95%的偏光度P在偏光膜的CR中相当于2000:1，在将其用于一般市售的液晶电视用单元时的显示器的CR中，相当于1050：1。任意的CR越大，显示的对比度均越优异，越容易看见。偏光膜的CR如后述那样，为平行透射率除以正交透射率的值。显示器的CR为最大亮度除以最小亮度的值。最小亮度为黑显示时的亮度，假设通常的观看环境的液晶电视中要求为0.5cd/m²以下。为超过其的值时，颜色再现性下降。另外，最大亮度为白显示时的亮度，假设通常的观看环境的液晶电视中在450~550cd/m²的范围使用。不足该范围时，可视性下降。

由以上可知，通常，液晶电视需要1000：1以上的CR。另一方面，如果考虑液晶单元的消偏振，偏光膜中2000：1以上的CR是必要的。其相当于99.95%以上的偏光度P。

另外，作为液晶电视用的偏光膜，通常使用单片透射率为42.0%以上的偏光膜。偏光膜的单片透射率T小于42.0%时，显示器的亮度L下降。例如，与使用T=42.0%的偏光膜的显示器亮度L=100时相比，T=40.0%的偏光膜的显示器亮度为L=90。为了确保T=42.0%的显示器亮度L=100，使用T=40.0%的偏光膜的显示器的光源、使用时的点亮能量需要增加10%。如果考虑显示元件中使用的光源，为了形成偏光膜的单片透射率T相当于42.0%的显示器，必须通过将光源自身高亮度化来提高显示器的亮度L。

利用上述薄型高功能偏光膜以及其制造方法，可以提供光学特性高的薄偏光膜。

迄今为止的薄型偏光膜的制法都必须在烘箱等加热装置中使用拉伸机进行干式拉伸。干式拉伸由于促进树脂基材以及形成于其上的PVA系树脂层的结晶化，因此难以将层叠体自身拉伸至原长的5倍以上。该结晶化现象在制造通过干式拉伸单层体的厚型偏光膜的情况下也相同。由于PVA系树脂层的结晶化和拉伸倍率的界限，不能使二色性物质充分取向。此为第一技术课题。

虽理所当然，但是与采用湿式拉伸的厚型偏光膜的光学特性匹敌的薄型偏光膜至今还没有被开发出来。PVA系树脂为亲水性高分子组合物，易溶于水。如何使薄的PVA系树脂层在水溶液中不溶化、或者如何利用高倍率的拉伸使吸附的二色性物质高阶取向、作为结果如何实现光学特性高的薄型偏光膜成为课题。

可以将涂布PVA系树脂的水溶液并干燥而在树脂基材上形成的薄PVA系树脂层在低温(65℃以下)的硼酸水溶液中，与树脂基材一体地拉伸至高倍率(5倍以上)。更详细而言，是指：在低温(65℃以下)的硼酸水溶液中，利用交联作用使在树脂基材上形成的薄PVA系树脂层不溶化，由此可以将被不溶化的薄PVA系树脂层与树脂基材一体地以5倍以上的倍率拉伸。

进而值得特殊说明的是，本发明得到了如下令人吃惊的见解：利用水分子的作为增塑剂的作用，在比树脂基材自身的玻璃化转变温度更低的硼酸水溶液中，也可以与树脂基材一体地将薄PVA系树脂层拉伸至高倍率。由此，由图14或者图15的薄型高功能偏光膜的参考制造例1以及2中可发现，通过抑制了PVA系树脂的结晶化的高倍率的拉伸，可以得到充分吸收有二色性物质并使其充分取向了的可用于大型显示元件的光学特性高的薄型偏光膜、所谓的薄型高功能偏光膜。以下，对薄型高功能偏光膜以及其制造方法中应用的工序以及作用进行说明。

(a)低温(65℃以下)的硼酸水溶液中的拉伸作用

为了将厚度为十几μm以下的薄PVA系树脂薄膜在水溶液中拉伸至高倍率，在厚度20μm以上的树脂基材上形成时，PVA系树脂薄膜自身也必须能够耐受拉伸时施加的张力、必须被赋予拉伸中不溶于水的耐水性。即，必须是不溶化的PVA系树脂薄膜。

硼酸如下式所示那样，在水溶液中生成四羟基硼酸阴离子。

H₃BO₃+H₂O←→H⁺+[B(OH)₄]^-

可推知该四羟基硼酸阴离子与乙烯醇系聚合物的羟基氢键键合，使乙烯醇系聚合物交联。作为该交联状态，化学式(1)的状态可被认为是推定模式之一(化学式(1)的点线的键为交联结合)。通过该交联，乙烯醇系聚合物不溶化。

如果将PVA系树脂在硼酸水溶液中拉伸，由于可以将PVA系树脂层不溶化，可以拉伸至5倍以上的高倍率。

(b)高倍率拉伸的作用

利用图12的薄型高功能偏光膜的参考比较例1以及2中所提及的、与树脂基材一体地将薄PVA系树脂以干式拉伸的以往的制法，难以得到例如具有单片透射率为42.0%以上偏光度为99.95%以上的光学特性的薄型偏光膜。其原因为：起因于使用被称为“干式拉伸”的拉伸方法。干式拉伸难以在低于作为拉伸对象的树脂基材的玻璃化转变温度的温度下拉伸。通常作为拉伸对象的树脂基材破断。即便可以将其拉伸，也不能均一地拉伸。因此，干式拉伸通常在高于作为拉伸对象的树脂基材的玻璃化转变温度的温度下拉伸。在65℃以下的低温下拉伸时，必然地，选择玻璃化转变温度为65℃以下的拉伸对象的树脂基材。

玻璃化转变温度和拉伸温度的关系对PVA系树脂层也是相同的。通常的PVA系树脂的玻璃化转变温度为80℃左右，利用干式拉伸时，在比该温度还低的温度下难以均一地拉伸至高倍率。另外，不考虑温度，利用干式拉伸时，由拉伸促进PVA系树脂的结晶化，难以包含拉伸对象的树脂基材在内使总拉伸倍率为原长的5倍以上。而且推测，由于PVA系树脂形成如层状结构、球晶那样对取向没有帮助的高阶构造(大的构造)，因此不能充分吸附二色性物质，而且不能高阶取向。这被认为是利用以往制法的薄型偏光膜的光学特性低的主要原因。

假定图12所示的薄型高功能偏光膜的制造方法。例如在65℃以下的硼酸水溶液中，拉伸形成于树脂基材的薄PVA系树脂。树脂基材为具有65℃以上的玻璃化转变温度的组合物，优选设为由无定形的酯系或者烯烃系的热塑性树脂形成的树脂基材。虽然树脂基材的玻璃化转变温度为65℃以上，但利用水分子的作为增塑剂的功能，在65℃以下也能拉伸该树脂基材。对PVA系树脂，水分子也作为增塑剂起作用。因此，能够将薄PVA系树脂与树脂基材一体地在65℃以下的硼酸水溶液中拉伸。

由此，可以防止PVA系树脂的结晶化，并且将薄PVA系树脂拉伸至5倍以上的高倍率。结果推论为薄PVA系树脂的无定形部分的取向性增高。另外通过拉伸至高倍率，PVA系树脂中存在的多碘离子络合物等二色性物质高阶地单向排列。结果得到光学特性高的薄型偏光膜、所谓的薄型高功能偏光膜。

薄型高功能偏光膜的实施方式如下。

薄型高功能偏光膜的第一方式涉及薄型高功能偏光膜，其为在树脂基材上一体地成膜的、由使二色性物质取向了的PVA系树脂形成的厚度为7μm以下的薄型高功能偏光膜，其具有单片透射率为42.0%以上以及偏光度为99.95%以上的光学特性。参照图13的表。由此可以成功开发使显示元件的薄型化、显示不均的消除、能量消耗量的减少成为可能的、与迄今为止被认为很难的图16的T-P图表中表示的理想特性相近的薄型高功能偏光膜。这可以与采用厚型偏光膜实现的光学特性相匹敌。

第一实施方式中，树脂基材是吸水率为0.50%以上的、玻璃化转变温度在25℃至85℃的范围的酯系或者烯烃系的热塑性树脂，作为具体例有酯系树脂薄膜的无定形聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(无定形聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、A-PET薄膜)。另外，设为保护薄型高功能偏光膜的一面的光学功能薄膜时，树脂基材优选为透明树脂。进而，吸附以及取向于薄型高功能偏光膜的二色性物质可以是碘、有机染料或者它们的混合物的任意一种。

薄型高功能偏光膜的第二方式涉及在树脂基材上制造由使二色性物质取向了的PVA系树脂形成的厚度为7μm以下、且具有单片透射率为42.0%以上而且偏光度为99.95%以上的光学特性的薄型高功能偏光膜的方法。具体而言，首先，包含在具有至少20μm的厚度的树脂基材上通过PVA系树脂水溶液的涂布以及干燥生成PVA系树脂层的工序。与第一实施方式同样地，第二方式的树脂基材也是吸水率为0.50%以上的、玻璃化转变温度在25℃至85℃的范围的酯系或者烯烃系的热塑性树脂，另外，设为保护薄型高功能偏光膜的一面的光学功能薄膜时优选为透明树脂。

接着，包含将生成的PVA系树脂层浸渍于二色性物质的染色液中、使PVA系树脂层中吸附二色性物质的工序。与第一实施方式同样地，二色性物质可以为碘、有机染料或者它们的混合物的任意一种。另外染色液中，二色性物质通过在0.1wt%以上且4.5wt%以下的水溶液中浸渍5~60秒钟吸附于PVA系树脂层内。使用碘作为二色性物质时能够促进碘的溶解更进一步提高染色效率，因此更优选进一步添加碘化物。

染色工序中，由亲水性的PVA系树脂在水溶液中溶出造成的影响在厚型偏光膜的制造时不成为问题，但是在薄型偏光膜的制造中是不能无视的技术课题之一。问题是防止染色中PVA系树脂向水溶液中溶出。染色工序如果是短时间则不成为问题，但是根据情况不同，也影响偏光膜的加工。将生成于树脂基材上的PVA系树脂层浸渍于染色液中之前预先对PVA系树脂层实施不溶化处理是有效的，作为其方法，通过浸渍于常温的硼酸水溶液中能够实现PVA系树脂层的不溶化。

进而包含将吸附有二色性物质的PVA系树脂层在硼酸水溶液中与树脂基材一体地拉伸的工序。水溶液中，拉伸中变薄的PVA系树脂层溶出，因此，难以使PVA系树脂层的总拉伸倍率变为原长的5倍以上，即难以拉伸至PVA系树脂层的原长的5倍以上的长度。在利用硼酸的交联效果和不溶化能同时获得的硼酸水溶液中，可以实现吸附有二色性物质的PVA系树脂层的高倍率拉伸、提高取向性能。

如所指出的那样，薄型偏光膜的制造中，“干式拉伸”不能使总拉伸倍率为原长的5倍以上。另外从防止拉伸中PVA系树脂层的结晶化的观点出发，选择在比树脂基材自身的玻璃化转变温度还低的温度下可以实现高倍率拉伸的树脂基材，因此优选使用65℃以下的低温度的硼酸水溶液。

如图13的表所示的那样，经过这样的工序，可以在树脂基材上成膜由使二色性物质取向了的PVA系树脂形成的、厚度为7μm以下、具有单片透射率为42.0%以上而且偏光度为99.95%以上的光学特性的薄型高功能偏光膜。

在与树脂基材一体地制造的薄型高功能偏光膜的树脂基材上，通过在没有成膜的面上介由粘接剂层叠其他的树脂膜的同时，将树脂基材从薄型高功能偏光膜剥离，也可以将薄型高功能偏光膜转印至其他的树脂膜上。通过在转印的树脂膜上使用光学功能薄膜，可以在制造的薄型高功能偏光膜的单面上形成光学功能薄膜。另外也可以在单面上形成有光学功能薄膜的薄型高功能偏光膜的另外一面上，介由粘接剂层叠第二光学功能薄膜。由此，可以制造两面上形成有光学功能薄膜的薄型高功能偏光膜。

薄型高功能偏光膜的第三方式涉及包含使二色性物质取向了的薄型高功能偏光膜的层叠体薄膜的制造方法。具体而言涉及将由使二色性物质取向了的PVA系树脂层形成的、厚度为7μm以下、具有单片透射率为42.0%以上而且偏光度为99.95%以上的光学特性的薄型高功能偏光膜在树脂基材的单面上成膜而得到的层叠体薄膜的制造方法，其包含以下的工序。

包含生成如下的层叠体薄膜的工序，该层叠体薄膜包含具有至少20μm的厚度的树脂基材、和在树脂基材的单面上涂布含有PVA系树脂的水溶液并干燥而形成的PVA系树脂层。与第一以及第二实施方式同样地，第三方式的树脂基材也是吸水率为0.50%以上的、玻璃化转变温度在25℃至85℃的范围的酯系或者烯烃系的热塑性树脂；另外，设为保护薄型高功能偏光膜的一面的光学功能薄膜时优选为透明树脂。

包含通过将含有树脂基材和在树脂基材的单面上形成的PVA系树脂层的层叠体薄膜浸渍于包含二色性物质的染色液中从而使层叠体薄膜中所包含的PVA系树脂层中吸附二色性物质的工序。与第一以及第二实施方式同样地，二色性物质为碘、有机染料或者它们的混合物的任意一种。另外染色液中，与第二实施方式同样地，二色性物质通过在0.1wt%以上且4.5wt%以下的水溶液中浸渍5~60秒钟从而吸附于PVA系树脂层内。使用碘作为二色性物质时能够促进碘的溶解并进而提高染色效率，因此进而添加碘化物是更加优选的。另外，更优选在将层叠体薄膜中所包含的PVA系树脂层浸渍于包含二色性物质的染色液中之前，预先通过将层叠体薄膜浸渍于常温的硼酸水溶液中而对PVA系树脂层实施不溶化处理。

进而包含将含有吸附有二色性物质的PVA系树脂层的前述层叠体薄膜在硼酸水溶液中拉伸的工序。如与第二实施方式相关指出的那样，在水溶液中，拉伸中与树脂基材一起变薄的PVA系树脂层溶出，因此难以使层叠体薄膜中所包含的PVA系树脂层的总拉伸倍率变为原长的5倍以上，即，难以拉伸至PVA系树脂层的原长的5倍以上的长度。在利用硼酸的交联效果和不溶化能同时实现的硼酸水溶液中、吸附有二色性物质的PVA系树脂层与树脂基材一体地被高倍率拉伸，由此可以提高二色性物质的取向性能。

另外，从防止层叠体薄膜的拉伸中PVA系树脂层的结晶化的观点出发，选择在比层叠体薄膜中所包含的树脂基材自身的玻璃化转变温度还低的温度下也可以实现高倍率拉伸的树脂基材，因而，更优选在65℃以下的低温度的硼酸水溶液中拉伸层叠体薄膜。

如图13的表所示的那样，经过这样的工序，制造在树脂基材的单面将由二色性物质取向了的PVA系树脂层形成的、厚度为7μm以下、具有单片透射率为42.0%以上而且偏光度为99.95%以上的光学特性的薄型高功能偏光膜成膜而得到的层叠体薄膜。

也可以包含如下的清洗工序，即，将制造的包含由使二色性物质取向了的PVA系树脂形成的薄型高功能偏光膜的层叠体薄膜，在比层叠体薄膜中所包含的树脂基材的玻璃化转变温度还低的温度的包含碘化物盐的水溶液中清洗。也可以进而包含进而将清洗过的层叠体薄膜在50℃以上且100℃以下的温度下干燥的工序。

进而，在干燥的层叠体薄膜中所包含的树脂基材薄膜的单面上成膜的薄型高功能偏光膜的另一面上介由粘接剂层叠光学功能薄膜，由该工序也可以制造两面上形成有光学功能薄膜的薄型高功能偏光膜。或者，通过在干燥的层叠体薄膜中所包含的、薄型高功能偏光膜的树脂基材上的没有成膜的面上介由粘接剂层叠其他的树脂膜并且将树脂基材从薄型高功能偏光膜剥离，也可以将薄型高功能偏光膜转印至其他的树脂膜上，制造形成有由转印至单面上的树脂膜形成的光学功能薄膜的薄型高功能偏光膜。

[薄型高功能偏光膜的制造工序的概要]

基于参考制造例1说明薄型高功能偏光膜10的制造。如图11所示，树脂基材11使用例如玻璃化转变温度为80℃的无定形聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。树脂基材11可以支撑薄型高功能偏光膜10的单面。被拉伸之前的树脂基材11的厚度优选在20μm~500μm的范围即可。为了防止由二色性物质14’导致的染色，树脂基材11可以使用不溶于水、而且不溶胀的疏水性树脂。具体而言，是指在分子构造中不具有羧基、磺酸基、季氨基等解离基团、羟基、酰胺基这样的非离子性的亲水基的树脂。

树脂基材11为例如酯系树脂薄膜、烯烃系树脂薄膜，优选为无定形聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。结晶化的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜通常弹性模量高，因此低温下的拉伸是困难的。另一方面，无定形聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜在低温下也可以拉伸。对它们的表面，为了提高与PVA系树脂层12的密合性，也可以实施包含电晕处理的表面改性处理。另外，也可以设置粘接层。另外，树脂基材11的吸水率(JIS K7209)优选为0.3%以上，进而优选为0.5%以上。树脂基材的玻璃化转变温度(JIS K7121DSC法)优选为85℃以下，进而优选为25℃~85℃。是这样的物性的树脂薄膜时，在65℃以下的硼酸水溶液中也可以高倍率拉伸。

由树脂基材11以及PVA系树脂层12形成的层叠体薄膜13由工序(A)制作。

制作工序(A)首先准备由厚度100μm的树脂基材11形成的薄膜辊。接着，相对于溶剂100重量份，准备3~10重量份的PVA系树脂的水溶液。这样准备，由薄膜辊输出树脂基材11，在树脂基材上涂布PVA系树脂的水溶液，边在60℃的烘箱内干燥边在树脂基材11上成膜厚度为10μm的PVA系树脂层12。也可以将这样制作的层叠体薄膜13的连续网卷取。层叠体薄膜13接着按照以下的连续工序处理。

首先为染色工序(B)。这是将层叠体薄膜13浸渍于染色液14中使PVA系树脂层12中吸附二色性物质14’的工序。染色液14的溶剂通常使用水。相对于以水作为主成分的溶剂100重量份，二色性物质14’通常以0.1~4.3重量份(0.1~4.5wt%)的比例使用。作为二色性物质14’可列举出例如碘、有机染料、它们的混合物等。这些二色性物质可以使用一种或者组合使用两种以上。

使用碘作为二色性物质14’时能够促进碘的溶解并进一步提高染色效率，因而优选进而添加碘化物。相对于溶剂100重量份，碘化物以优选0.02~20重量份、进而优选0.1~10重量份的比例使用。作为碘化物的具体例子，可列举出碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡、碘化钛等。其中，优选添加碘化钾。在染色液14中的浸渍时间没有特别的限制，通常为5秒~5分钟左右。染色液14的温度通常为20~50℃左右。

染色工序(B)中，将层叠体薄膜13浸渍于液温为30℃的包含碘以及碘化钾的染色液14中30秒。由此使PVA系树脂层12中吸附碘。相对于水100重量份，染色液14的碘含量为0.1重量份，相对于水100重量份碘化钾含量为0.7重量份。

接着是与交联工序(C)一体的拉伸工序(D)。交联工序(C)为将层叠体薄膜13浸渍于硼酸水溶液15中，将吸附有二色性物质14’的PVA系树脂层12交联的工序。该交联工序(C)也为使溶胀化的PVA系树脂不溶解于水的不溶化工序。

硼酸水溶液15由在作为溶剂的水中溶解硼酸或者硼酸盐而得到。除了硼酸或者硼酸盐以外，可以使用硼砂等硼化合物、乙二醛、戊二醛等。相对于水100重量份，硼酸浓度通常以1~10重量份的比例使用。在硼酸水溶液15中，从抑制PVA系树脂层12中吸附的碘的溶出的目的出发，优选添加碘化物。碘化物的浓度优选为0.05~15重量%、进而优选为0.5~8重量%。碘化物的具体例与染色工序(A)的情况是同样的。在硼酸水溶液15中的浸渍时间没有特别的限制，通常为15秒钟~5分钟左右。硼酸水溶液15的温度通常为20~70℃左右。

吸附有碘的PVA系树脂层12边在液温为60℃的包含碘化钾的硼酸水溶液15中交联边利用具有圆周速度不同的多组辊的辊拉伸机16将其与树脂基材11一体地拉伸。这是与交联工序(C)一体的拉伸工序(D)。拉伸工序(D)中，层叠体薄膜13纵向单轴地拉伸至拉伸倍率5.0倍。相对于水100重量份，此时的硼酸水溶液15的硼酸含量为4重量份，相对于水100重量份，碘化钾含量为5重量份。

硼酸水溶液15的温度优选为85℃以下。超过85℃时容易促进吸附于PVA系树脂的碘的溶出，而且也存在PVA系树脂也溶出的情况，制造的薄型高功能偏光膜10的光学特性降低。另外，PVA系树脂层12的厚度薄时，PVA系树脂层12溶解，得到的薄型高机能偏光膜10的光学特性进一步降低。硼酸水溶液15的温度更优选为30℃~65℃。硼酸水溶液15的温度小于30℃时，由于不能充分发挥水作为增塑剂的机能，树脂基材11以及PVA系树脂层12不能充分软化，难以将层叠体薄膜13的总拉伸倍率拉伸至原长的5倍以上。

硼酸水溶液15中拉伸的层叠体薄膜的拉伸倍率为层叠体薄膜13的原长的优选为5倍以上，进而优选为5.5倍以上。拉伸倍率小于5倍时，二色性物质14’不能充分取向，得到的薄型高功能偏光膜10的光学特性变低。拉伸倍率超过6.5倍时，层叠体薄膜13容易断裂，难以稳定地制造。“拉伸倍率”是指拉伸处理为一阶段时，其处理中的拉伸倍率。在水溶液中设置多个拉伸机多阶段地拉伸时，是指各工序的拉伸倍率的总计(总拉伸倍率)。

利用硼酸水溶液的交联工序如图11所示，可以设置在染色工序(B)的前工序中。该交联工序(E)在厚型偏光膜的制造中，由于PVA系树脂的溶解不成为问题因此是不必要的。然而，在使用在树脂基材11上将薄PVA系树脂层12成膜而成的层叠体薄膜13的薄型高功能偏光膜10的制造中，染色液14中的PVA系树脂的溶解是不能无视的问题。因此，在染色工序(B)的前工序中设置交联工序(E)在光学特性高的薄型高功能偏光膜的制造中是有效的。进而在硼酸水溶液中的拉伸工序(D)的前工序中，从增强染色工序中去除的硼酸的观点出发，可以另外设置利用硼酸水溶液的交联工序(F)。

拉伸至5.0倍的层叠体薄膜13从硼酸水溶液15中取出，接着送至清洗工序(G)中。清洗工序(G)为将实施了各种处理的包含薄型高功能偏光膜10的层叠体薄膜的不需要的残存物洗去的工序。如该处理不充分则有时在层叠体薄膜的干燥后从薄型高功能偏光膜10析出硼酸。另外，清洗以不使PVA树脂溶解的方式，在包含碘化钾的清洗液中处理。清洗液中的碘化钾的浓度为0.5~10重量%左右。清洗液的温度为10~50℃左右。浸渍时间通常为1秒钟~1分钟左右。

最终工序为干燥工序(H)。作为干燥工序(H)，可以采用任意适宜的方法，例如自然干燥、送风干燥、加热干燥等。参考制造例1在60℃的暖风下干燥30秒钟。

完成的层叠体薄膜中所包含的与树脂基材11一体地拉伸的PVA系树脂层12的厚度为3μm。由使碘取向了的3μm厚的PVA树脂形成的薄型高功能偏光膜10在树脂基材11上成膜。这是图13的表中显示特性的参考制造例1的薄型高功能偏光膜10。

薄型高功能偏光膜10在树脂基材11上成膜而得到的层叠体薄膜也可以利用图11所示的转印工序(I)，在进而将树脂基材11从薄型高功能偏光膜10剥离的同时，将薄型高功能偏光膜10转印至其他的光学功能薄膜上。

用于薄型高功能偏光膜的PVA系树脂通过将聚醋酸乙烯酯系树脂皂化而得到。皂化度通常为85摩尔%~100摩尔%，聚合度为1,000~10,000。该PVA系树脂为聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。

制造的薄型高功能偏光膜10优选在可见光区域(波长380nm~780nm)的任一波长处显示吸收二色性。厚度为7μm以下，优选为0.5μm~5μm。该薄型高功能偏光膜10由于收缩应力小，在高温环境下尺寸稳定性也优异，并且显示单片透射率42.0%以上、偏光度99.95%以上的光学特性。

[参考制造例1]

(层叠体的制作工序)

树脂基材使用玻璃化转变温度为80℃的无定形聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱树脂社制造的NOVACLEAR)。包含树脂基材和聚乙烯醇层的层叠体薄膜如以下那样制作。首先，准备厚度为100μm的树脂基材。接着，在该树脂基材上涂布聚乙烯醇(日本合成化学社制造的NH26)的水溶液，边在60℃的温度下干燥边成膜厚度为12μm的聚乙烯醇层。这样制作层叠体薄膜。

(不溶化工序)

将得到的层叠体薄膜浸渍于液温30℃的硼酸水溶液中30秒钟。相对于水100重量份，硼酸水溶液的硼酸含量为4重量份。

(染色工序)

以使最终的偏光膜的单片透射率为40~44%的方式，将制作的层叠体薄膜浸渍于液温为30℃的包含碘以及碘化钾的染色液中任意时间。由此，使碘吸附于聚乙烯醇层中。相对于水100重量份染色液的碘含量为0.1重量份，相对于水100重量份碘化钾含量为0.7重量份。

(交联工序)

接着，浸渍于液温30℃的包含硼酸以及碘化钾的硼酸水溶液中30秒钟。相对于水100重量份，硼酸水溶液的硼酸含量为3重量份，相对于水100重量份，碘化钾含量为3重量份。

将在树脂基材上包含吸附有碘的聚乙烯醇层的层叠体薄膜在液温为60℃的包含硼酸以及碘化钾的硼酸水溶液中，通过圆周速度不同的多组辊间，将该层叠体薄膜纵向单轴拉伸至即将破断之前。此时的拉伸倍率(最大拉伸倍率)为5.0倍。相对于水100重量份，硼酸水溶液的硼酸含量为4重量份，相对于水100重量份，碘化钾含量为5重量份。此处所称的“即将破断之前”以及“最大拉伸倍率”是在事先确认破断的拉伸倍率的基础上决定的。具体而言，是指比事先确认的破断的拉伸倍率还低0.2倍左右的倍率的拉伸。

(清洗工序)

之后，使层叠体薄膜浸渍于液温30℃的碘化钾水溶液中30秒钟，清洗表面上附着的硼酸。对于碘化钾水溶液的碘化钾含量，相对于水100重量份将碘化钾设为3重量份。

将拉伸至5.0倍的层叠体薄膜从硼酸水溶液中取出，接着，用60℃的暖风干燥。与树脂基材一体地拉伸的聚乙烯醇层的厚度为5μm。这样使碘取向了的5μm厚的聚乙烯醇树脂层在树脂基材上成膜。这是图13的表中显示特性的参考制造例1的薄型高功能偏光膜。

[参考制造例2]

树脂基材使用玻璃化转变温度为30℃的聚甲基戊烯薄膜(三井化学社制造的TPX)。参考制造例2采用与参考制造例1同样的方法，将在树脂基材上包含吸附有碘的聚乙烯醇层(其中厚度为7μm)的层叠体薄膜在液温为60℃的包含硼酸以及碘化钾的硼酸水溶液中，通过圆周速度不同的多组辊之间，将该层叠体薄膜纵向单轴拉伸至即将破断之前。此时的拉伸倍率(最大拉伸倍率)为5.5倍。

此处所称的“即将破断之前”以及“最大拉伸倍率”与参考制造例1时同样地，是指比事先确认的破断的拉伸倍率还低0.2倍左右的倍率的拉伸。这样使碘取向了的3μm厚的聚乙烯醇树脂层在树脂基材上成膜。这是图13的表中显示特性的参考制造例2的薄型高功能偏光膜。

[参考比较例1]

树脂基材使用玻璃化转变温度为80℃的无定形聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱树脂社制造的NOVACLEAR)。采用与参考制造例1同样的方法制作在厚度为100μm的树脂基材上成膜有厚度为10μm的聚乙烯醇树脂层的层叠体薄膜。接着，在110℃的烘箱内，将制作的层叠体薄膜纵向单轴拉伸至即将破断之前。此时的拉伸倍率(最大拉伸倍率)为4.0倍。此处所称的“即将破断之前”以及“最大拉伸倍率”与参考制造例1时同样地，是指比事先确认的破断的拉伸倍率还低0.2倍左右的倍率的拉伸。

进而，与参考制造例1同样地，以使最终的偏光膜的透射率为40~44%的方式，将拉伸的层叠体薄膜浸渍于染色液中任意时间。将从染色液中取出的层叠体薄膜用60℃的暖风干燥。与树脂基材一体地拉伸的聚乙烯醇树脂层的厚度为4μm。这样使碘取向了的4μm厚的聚乙烯醇树脂层在树脂基材上成膜。这是图13的表中显示特性的参考比较例1的薄型偏光膜。

[参考比较例2]

与参考制造例1同样地，制作在厚度为100μm的树脂基材上成膜有厚度为10μm的聚乙烯醇树脂层的层叠体薄膜。与参考制造例1同样地，以使最终的偏光膜的透射率为40~44%的方式，将制作的层叠体薄膜浸渍于染色液中任意时间。将从染色液中取出的层叠体薄膜用60℃的暖风干燥。接着在90℃的烘箱内，将吸附有碘的层叠体薄膜纵向单轴拉伸至即将破断之前。此时的拉伸倍率(最大拉伸倍率)为4.5倍。此处所称的“即将破断之前”以及“最大拉伸倍率”与参考制造例1时同样地，是指比事先确认的破断的拉伸倍率还低0.2倍左右的倍率的拉伸。

与树脂基材一体地拉伸的聚乙烯醇层的厚度为4μm。这样使碘取向了的4μm厚的聚乙烯醇树脂层在树脂基材上成膜。这是图13的表中显示特性的参考比较例2的薄型偏光膜。

[测定方法]

[厚度的测定]

树脂基材以及薄型偏光膜的厚度使用Digitalmicrometer(Anritsu社制造的KC-351C)测定。

[透射率以及偏光度的测定]

薄型偏光膜的单片透射率T、平行透射率Tp、正交透射率Tc使用紫外可见分光光度计(日本分光社制造的V7100)测定。这些透射率T、Tp、Tc是利用JISZ8701的2度视场(C光源)测定并进行可见度校正得到的Y值。

使用上述的透射率按照下式求出偏光度P。

偏光度P(%)＝｛(Tp-Tc)/(Tp＋Tc)｝^1/2×100

偏光膜的对比度比(CR)依照下式求出。

CR＝Tp/Tc

显示器的对比度比(CR)按照下式求出。

CR＝最大亮度/最小亮度

上述日本特愿2010-269002号说明书、日本特愿2010-263692号说明书中的薄型偏光膜是由使二色性物质取向了的PVA系树脂形成的连续网状的偏光膜，是含有在无定形酯系热塑性树脂基材上成膜了的PVA系树脂层的层叠体通过包含空中辅助拉伸和硼酸水溶液中拉伸的2阶段拉伸工序进行拉伸而形成为10μm以下的厚度的膜。所述薄型偏光膜优选为具有如下光学特性的膜，即，在将单片透射率设为T、偏光度设为P时，满足P>-(10^0.929T-42.4-1)×100(其中T＜42.3)、以及P≥99.9(其中T≥42.3)的条件。

具体而言，前述薄型偏光膜可以通过包含如下工序的薄型偏光膜的制造方法来制造：通过对在连续网状的无定形酯系热塑性树脂基材上成膜的PVA系树脂层进行空中高温拉伸，生成由取向了的PVA系树脂层形成的拉伸中间产物的工序；和通过二色性物质对拉伸中间产物的吸附，生成由使二色性物质(优选碘或碘与有机染料的混合物)取向了的PVA系树脂层形成的着色中间产物的工序；和通过对着色中间产物的硼酸水溶液中拉伸，生成由使二色性物质取向了的PVA系树脂层形成的厚度为10μm以下的偏光膜的工序。

在该制造方法中，理想的是，利用空中高温拉伸和硼酸水溶液中拉伸的、在无定形酯系热塑性树脂基材上成膜的PVA系树脂层的总拉伸倍率达到5倍以上。用于硼酸水溶液中拉伸的硼酸水溶液的液温可以设定为60℃以上。理想的是，在硼酸水溶液中，在将着色中间产物拉伸之前，对着色中间产物实施不溶化处理，此时，理想的是，通过在液温不超过40℃的硼酸水溶液中浸渍前述着色中间产物来进行。上述无定形酯系热塑性树脂基材可以为包含使间苯二甲酸共聚而得到的共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯、使环己烷二甲醇共聚而得到的共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯或其他的共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯的无定形聚对苯二甲酸乙二醇酯，优选为由透明树脂形成的基材，其厚度可以设定为成膜的PVA系树脂层厚度的7倍以上。另外，空中高温拉伸的拉伸倍率优选为3.5倍以下，空中高温拉伸的拉伸温度优选为PVA系树脂的玻璃化转变温度以上，具体而言在95℃~150℃的范围。通过自由端单轴拉伸的方式来进行空中高温拉伸时，在无定形酯系热塑性树脂基材上成膜的PVA系树脂层的总拉伸倍率优选为5倍以上且7.5倍以下。另外，通过固定端单轴拉伸的方式来进行空中高温拉伸时，在无定形酯系热塑性树脂基材上成膜的PVA系树脂层的总拉伸倍率优选为5倍以上且8.5倍以下。

更具体而言，可以通过如下的方法来制造薄型偏光膜。

制作使6mol%的间苯二甲酸共聚而成的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯(无定形PET)的连续网状基材。无定形PET的玻璃化转变温度为75℃。如下制作由连续网状的无定形PET基材与聚乙烯醇(PVA)层形成的层叠体。其中，PVA的玻璃化转变温度为80℃。

准备200μm厚的无定形PET基材、和将聚合度1000以上、皂化度99%以上的PVA粉末溶解在水中而得到的4~5%浓度的PVA水溶液。接着，在200μm厚的无定形PET基材上涂布PVA水溶液，在50~60℃的温度下干燥，得到在无定形PET基材上成膜有7μm厚的PVA层的层叠体。

经过包含空中辅助拉伸和硼酸水溶液中拉伸的两阶段拉伸工序的以下工序，将包含7μm厚的PVA层的层叠体制造成3μm厚的薄型高功能偏光膜。通过第一阶段的空中辅助拉伸工序，将包含7μm厚的PVA层的层叠体与无定形PET基材一体地拉伸，生成包含5μm厚的PVA层的拉伸层叠体。具体而言，该拉伸层叠体是将包含7μm厚的PVA层的层叠体安装拉伸装置上，自由端单轴拉伸至拉伸倍率为1.8倍而得到的层叠体，所述拉伸装置配备在设定为130℃的拉伸温度环境的烘箱中。通过该拉伸处理，使拉伸层叠体所含的PVA层转变为PVA分子取向了的5μm厚的PVA层。

接着，通过染色工序，生成在PVA分子取向了的5μm厚的PVA层上吸附有碘的着色层叠体。具体而言，该着色层叠体是在液温30℃的包含碘和碘化钾的染色液中，以最终生成的构成高功能偏光膜的PVA层的单片透射率达到40~44%的方式将拉伸层叠体浸渍任意时间，由此使碘吸附在拉伸层叠体所含的PVA层上而得到的层叠体。在本工序中，染色液以水作为溶剂，将碘浓度设定在0.12~0.30重量%的范围内、将碘化钾浓度设定在0.7~2.1重量%的范围内。碘与碘化钾的浓度之比为1比7。为了将碘溶解在水中，碘化钾是必须的。更详细而言，通过将拉伸层叠体在碘浓度0.30重量%、碘化钾浓度2.1重量%的染色液中浸渍60秒钟，生成在PVA分子取向了的5μm厚的PVA层上吸附有碘的着色层叠体。

进而，通过第二阶段的硼酸水溶液中拉伸工序，使着色层叠体与无定形PET基材进而一体地拉伸，生成包含3μm厚的构成高功能偏光膜的PVA层的光学薄膜层叠体。具体而言，该光学薄膜层叠体是将着色层叠体安装在拉伸装置上，自由端单轴拉伸至拉伸倍率为3.3倍而得到的层叠体，所述拉伸装置配备于设定在包含硼酸与碘化钾的液温范围60~85℃的硼酸水溶液中的处理装置中。更详细而言，硼酸水溶液的液温为65℃。另外，将硼酸含量设定为相对于100重量份水为4重量份、将碘化钾含量设定为相对于100重量份水为5重量份。在本工序中，首先将调整了碘吸附量的着色层叠体浸渍在硼酸水溶液中5~10秒钟。然后，使该着色层叠体直接通过作为配备在处理装置中的拉伸装置的圆周速度不同的多组辊之间，自由端单轴拉伸30~90秒至拉伸倍率为3.3倍。通过该拉伸处理，使着色层叠体所含的PVA层转变为所吸附的碘以多碘离子络合物的形式向单方向高阶取向的3μm厚的PVA层。该PVA层构成光学薄膜层叠体的高功能偏光膜。

虽然不是光学薄膜层叠体的制造中所必需的工序，但优选的是，将光学薄膜层叠体从硼酸水溶液中取出，通过清洗工序，用碘化钾水溶液来清洗在无定形PET基材上成膜了的3μm厚的PVA层表面所附着的硼酸。然后，通过利用60℃的暖风的干燥工序对清洗过的光学薄膜层叠体进行干燥。其中，清洗工序是用于消除硼酸析出等外观不良的工序。

虽然同样不是光学薄膜层叠体的制造中所必需的工序，但可以通过贴合和/或转印工序，一边将粘接剂涂布于无定形PET基材上成膜了的3μm厚的PVA层的表面上，一边贴合80μm厚的三醋酸纤维素薄膜，然后将无定形PET基材剥离，从而将3μm厚的PVA层转印到80μm厚的三醋酸纤维素薄膜上。

[其他的工序]

上述薄型偏光膜的制造方法除了上述工序以外还可以包含其他的工序。作为其他的工序，例如可列举出不溶化工序、交联工序、干燥(水分率的调节)工序等。其他工序可在任意的适宜的时机进行。

上述不溶化工序代表性的是通过使PVA系树脂层浸渍在硼酸水溶液中而进行。通过实施不溶化处理，可以赋予PVA系树脂层耐水性。该硼酸水溶液的浓度相对于100重量份水，优选为1重量份~4重量份。不溶化浴(硼酸水溶液)的液温优选为20℃~50℃。优选的是，在层叠体制作之后、在染色工序和/或水中拉伸工序之前进行不溶化工序。

上述交联工序代表性的是通过使PVA系树脂层浸渍在硼酸水溶液中而进行。通过实施交联处理，可赋予PVA系树脂层耐水性。该硼酸水溶液的浓度相对于100重量份水，优选为1重量份~4重量份。另外，在上述染色工序后进行交联工序时，优选进而配混碘化物。通过配混碘化物，可抑制PVA系树脂层上吸附的碘的溶出。碘化物的配混量相对于100重量份水优选为1重量份~5重量份。碘化物的具体例如上所述。交联浴(硼酸水溶液)的液温优选为20℃~50℃。优选的是，在上述第二的硼酸水溶液中拉伸工序之前进行交联工序。在优选的实施方式中，依次进行染色工序、交联工序以及第二的硼酸水溶液中拉伸工序。

作为构成第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的材料，例如可使用透明性、机械强度、热稳定性、水分阻隔性、各向同性等优异的热塑性树脂。作为这样的热塑性树脂的具体例，可列举出三醋酸纤维素等纤维素树脂、聚酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、环状聚烯烃树脂(降冰片烯系树脂)、聚芳酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇树脂、以及它们的混合物。需要说明的是，作为透明保护薄膜，可以使用(甲基)丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、有机硅系等热固化性树脂或者紫外线固化型树脂。在透明保护薄膜中可以含有一种以上任意的适当的添加剂。作为添加剂，例如可列举出紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、颜料、着色剂等。透明保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量优选为50~100重量%、更优选为50~99重量%、进而优选为60~98重量%、特别优选为70~97重量%。透明保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量为50重量%以下时，有无法充分展现热塑性树脂本来具有的高透明性等的担心。

作为本发明的透明保护薄膜，优选使用选自纤维素树脂、环状聚烯烃树脂、(甲基)丙烯酸类树脂以及聚酯树脂中的任意至少一种。

纤维素树脂是纤维素和脂肪酸的酯。作为这种纤维素酯系树脂的具体例子，可列举出三醋酸纤维素、二醋酸纤维素、三丙酸纤维素、二丙酸纤维素等。其中，特别优选三醋酸纤维素。三醋酸纤维素有许多市售产品，在获得的容易性和成本方面也是有利的。作为三醋酸纤维素的市售品的例子，可列举出FUJIFILM Corporation制造的商品名“UV-50”、“UV-80”、“SH-80”、“TD-80U”、“TD-TAC”、“UZ-TAC”、柯尼卡公司制造的“KC系列”等。

作为环状聚烯烃树脂的具体例子，优选为降冰片烯系树脂。环状烯烃系树脂是以环状烯烃为聚合单元进行聚合得到的树脂的统称，例如，可列举出日本特开平1-240517号公报、日本特开平3-14882号公报、日本特开平3-122137号公报等中所记载的树脂。作为具体例子，可列举出环状烯烃的开环聚合物(共聚物)、环状烯烃的加聚物、环状烯烃与乙烯、丙烯等α-烯烃的共聚物(代表性的为无规共聚物)以及用不饱和羧酸、其衍生物将这些聚合物改性而成的接枝聚合物以及上述聚合物的氢化物等。作为环状烯烃的具体例子，可列举出降冰片烯系单体。作为环状聚烯烃树脂，有各种产品在市场上销售。作为具体例子，可列举出ZEON CORPORATION制造的商品名“ZEONEX”、“ZEONOR”，JSR CORPORATION制造的商品名“ARTON”、TICONA公司制造的商品名“Topas”、三井化学株式会社制造的商品名“APEL”。

作为(甲基)丙烯酸系树脂，在不损害本发明的效果的范围内，可以采用任意适当的(甲基)丙烯酸系树脂。例如，可列举出聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS树脂等)、具有脂环族烃基的聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。优选列举出聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更优选列举出以甲基丙烯酸甲酯为主要成分(50~100重量%、优选为70~100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系树脂。

作为(甲基)丙烯酸系树脂的具体例子，例如，可列举出Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.制造的Acrypet VH、Acrypet VRL20A，日本特开2004-70296号公报中所记载的分子内具有环结构的(甲基)丙烯酸系树脂、通过分子内交联、分子内环化反应获得的高Tg(甲基)丙烯酸系树脂。

作为(甲基)丙烯酸系树脂，还可以使用具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂。因为其具有高耐热性、高透明性、由双轴拉伸带来的高机械强度。作为具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂，可列举出日本特开2000-230016号公报、日本特开2001-151814号公报、日本特开2002-120326号公报、日本特开2002-254544号公报、日本特开2005-146084号公报等中记载的具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂。

作为聚酯树脂没有特别的限制，可以列举出例如将对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、2,5-萘二羧酸、2,6-萘二羧酸、1,4-萘二羧酸、1,5-萘二羧酸、二苯基羧酸、二苯氧乙烷二羧酸、二苯砜磺酸、蒽二羧酸、1,3-环戊烷二羧酸、1,3-环己烷二羧酸、1,4-环己烷二羧酸、六氢对苯二甲酸、六氢间苯二甲酸、丙二酸、二甲基丙二酸、琥珀酸、3,3-二甲基琥珀酸，戊二酸、2,2-二甲基戊二酸、己二酸、2-甲基己二酸、三甲基己二酸、庚二酸、壬二酸、二聚酸、癸二酸、辛二酸、十二烷二羧酸等二元羧酸与、乙二醇、丙二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、1,2-环己烷二甲醇、1,4-环己烷二甲醇、1,10-癸二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2,2-双(4-羟基苯基)丙烷、双(4-羟基苯基)砜等二元醇各一种缩聚而成的均聚物，或者将二元羧酸的一种以上和二元醇的两种以上缩聚而成的共聚物，或者将二元羧酸的两种以上和二元醇的一种以上缩聚而成的共聚物、以及将这些均聚物、共聚物两种以上混合而成的混合树脂的任意一种。其中，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂。特别优选无定形化的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂。

第一透明保护薄膜的厚度可适当地设定。通常从强度、处理性等操作性、薄层性等观点出发，优选1~80μm，由于可以将由偏光板引起的凹凸抑制得较小，第一透明保护薄膜的厚度优选为60μm以下，进而优选为10~60μm，更优选为10~50μm。

另外，作为第一透明保护薄膜，优选使用雾度值为15%以下的第一透明保护薄膜。通常，由上述材料形成的透明保护薄膜的雾度值为1%以下，优选为0.5%以下，进而优选为0.3%。因此，由上述材料形成的透明保护薄膜可以原样作为第一透明保护薄膜使用。

另一方面，作为第一透明保护薄膜，可以使用在由该上述材料形成的透明保护薄膜的不粘接偏振片的面，以雾度值为15%以下的范围施加硬涂层、以防反射处理、防扩散、防眩为目的功能层的薄膜。雾度值若为15%以下时，可以满足透亮的高级感。第一透明保护薄膜具有功能层时，也优选雾度值小，优选雾度值为10%以下，进而优选雾度值为5%以下。

硬涂层处理以防止偏光板表面的擦伤为目的而实施，例如可以通过将由丙烯酸系、有机硅系等适宜的紫外固化型树脂形成的硬度、滑动性等优异的固化覆膜附加在透明保护薄膜的表面上的方式等而形成。防反射处理以防止偏光板表面的外部光的反射为目的而实施，利用以往基准的防反射膜等的形成来达成。

另外，防眩处理是以防止偏光板的表面上外部光反射阻碍偏光板透射光的可视等为目的而实施的，例如可以以利用喷砂方式、压花加工方式的粗糙化方式、配混透明微粒的方式等适宜的方式对透明保护薄膜的表面赋予微细凹凸结构而形成。作为前述表面微细凹凸结构的形成中所含有的微粒，可以使用例如平均粒径为0.5~20μm的由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化铟、氧化镉、氧化锑等形成的也具有导电性的无机系微粒；由交联或者未交联的聚合物等形成的有机系微粒等透明微粒。形成表面微细凹凸结构时，相对于形成表面微细凹凸结构的透明树脂100重量份，通常微粒的使用量为2~70重量份左右，优选为5~50重量份。防眩层也可以兼具用于扩散偏光板透射光、扩大视角等的扩散层(视角扩大功能等)。

需要说明的是，前述防反射层、漫射层、防眩层等功能层可以设置在透明保护薄膜本身之上，也可以作为光学层与透明保护薄膜分开设置。需要说明的是，前述功能层的厚度通常为10μm以下，优选为1~10μm，进而优选为3~7μm，这些功能层的厚度根据形成功能层的材料的种类、组成，以第一透明保护薄膜的雾度值为15%以下的方式设计。第一透明保护薄膜具有前述功能层时，第一透明保护薄膜的厚度也优选在上述范围。

上述偏振片的单侧设置有上述第一透明保护薄膜，在另一单侧可以设置第二透明保护薄膜。此时，第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜可以为相同的聚合物材料，也可以为不同的聚合物材料等。

第二透明保护薄膜的厚度可以适宜地决定，通常从强度、处理性等操作性、薄层性等观点出发，优选为1~80μm，从可以将由偏光板引起的凹凸抑制得较小的观点出发，设置第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜时，第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的任一者的厚度优选为60μm以下，进而优选为10~60μm，更优选为10~50μm。

第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜均优选厚度为60μm以下，进而优选为10~60μm，更优选为10~50μm。

另外，第二透明保护薄膜的雾度值通常为1%以下，优选为0.5%以下，进而优选为0.3%，由上述材料形成的透明保护薄膜可以原样作为第二透明保护薄膜使用。

前述偏振片与第一透明保护薄膜和/或第二透明保护薄膜的粘接处理可以使用粘接剂。作为粘接剂，可以例示出异氰酸酯系粘接剂、聚乙烯醇系粘接剂、明胶系粘接剂、乙烯基系胶乳系、水系聚酯等。前述粘接剂通常以由水溶液形成的粘接剂的形式使用，通常含有0.5~60重量%的固体成分。此外，作为偏振片和透明保护薄膜的粘接剂，可列举出紫外固化型粘接剂、电子射线固化型粘接剂等。电子射线固化型偏光板用粘接剂对上述各种透明保护薄膜表现出适宜的粘接性。另外，本发明使用的粘接剂中可以含有金属化合物填料。

另外作为偏光板以外的光学薄膜，例如可列举出反射板、反透射板、相位差板(包括1/2、1/4等波长板)、视场补偿薄膜、亮度提高薄膜、表面处理薄膜等成为用于液晶显示装置等的形成的光学层的薄膜。它们可以单独作为光学薄膜使用，另外也可以在实际使用时层叠在前述偏光板上使用一层或两层以上。

本发明的粘合型光学薄膜中，粘合型偏光板在液晶显示装置等图像显示装置的形成中配置于可视侧而使用，但是图像显示装置的形成中，可以组合使用其他的光学薄膜。本发明的粘合型偏光板在液晶显示装置中，作为相对于液晶单元的可视侧的偏光板使用。相对于液晶单元处于相反侧的偏光板没有特别的限制。

偏光板上层叠有前述光学层的光学薄膜也可以以在液晶显示装置等的制造过程中依次单个层叠的方式来形成，但预先层叠而形成的光学薄膜，其品质稳定性、组装操作性等优异，具有能够优化液晶显示装置等的制造工序的优点。层叠时可使用粘合层等适当的粘接手段。在前述偏光板与其他光学层粘接时，它们的光学轴可以根据目标相位差特性等来形成适当的配置角度。

作为相位差板，可列举出将高分子原材料单轴或者双轴拉伸处理而成的双折射性薄膜、液晶聚合物的取向薄膜、用薄膜支撑液晶聚合物的取向层的相位差板等。对相位差板的厚度也没有特别的限制，通常为10~150μm左右。由于可以将由偏光板引起的凹凸抑制得较小，相位差板的厚度优选为60μm以下，进而优选为10~60μm，更优选为10~50μm。

作为高分子原材料，可以列举出例如，聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚甲基乙烯基醚、聚羟乙基丙烯酸酯、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、甲基纤维素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚苯硫醚、聚苯醚、聚烯丙基砜、聚酰胺、聚酰亚胺、聚烯烃、聚氯乙烯、纤维素类聚合物、降冰片烯系树脂或者它们的二元系、三元系各种共聚物、接枝共聚物、混合物等。这些高分子原材料利用拉伸成为取向物(拉伸薄膜)。

作为液晶聚合物，可列举出例如赋予液晶取向性能的共轭性的直线原子团(介晶)导入到聚合物的主链、侧链的主链型、侧链型的各种液晶聚合物。作为主链型的液晶聚合物的具体例子，可列举出在赋予弯曲性的间隔部结合介晶基团的构造的例如向列取向性的聚酯系液晶聚合物、盘状聚合物、胆甾聚合物等。作为侧链型的液晶聚合物的具体例，可以列举出以聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或者聚丙二酸酯作为主链骨架、作为侧链介由由共轭性原子团形成的间隔部具有向列取向赋予性的对位取代环状化合物单元形成的介晶部的液晶聚合物等。这些液晶聚合物例如在对形成于玻璃板的聚酰亚胺、聚乙烯醇等薄膜的表面进行摩擦处理的物质、斜向蒸镀有氧化硅的物质等的取向处理面上展开液晶性聚合物的溶液，进行热处理来进行。

相位差板例如可以是以各种波长板、液晶层的双折射引起的着色、视角等的补偿为目的的相位差板等根据使用目的而具有适宜的相位差的相位差板，也可以是层叠两种以上的相位差板来控制相位差等光学特性的相位差板等。

另外，作为光学薄膜，优选使用雾度值为15%以下的光学薄膜。作为该光学薄膜，例如可以示例与透明保护薄膜中示例的物质相同的物质。雾度值为15%以下的光学薄膜作为以贴合于前面板或者触摸面板为目的的基材薄膜是合适的。如果是雾度值为15%以下的光学薄膜，可以使用表面处理薄膜作为前述光学薄膜。表面处理薄膜通过进行前述基材薄膜的表面处理而得到。

前述雾度值优选为1%以下，更优选为0.5%以下，进而优选为0.3%。另外，通常从强度、处理性等操作性、薄层性等观点出发，雾度值为15%以下的光学薄膜的厚度优选为1~80μm，由于可以将光学薄膜的凹凸抑制得较小，其厚度优选为60μm以下，进而优选为10~60μm，更优选为10~50μm。

作为表面处理薄膜，可列举出为了赋予表面耐擦伤性而使用的硬质涂层薄膜、用于防止对图像显示装置的反射的防炫处理薄膜、防反射薄膜、低反射薄膜等防反射薄膜等。为了保护液晶显示装置、有机EL显示装置、CRT、PDP等图像显示装置、或赋予高级感、或使设计差别化，前面板被设计成贴合于前述图像显示装置的表面。另外前面板在3D-TV中用作λ/4板的支撑体。例如，在液晶显示装置中，被设置于可视侧的偏光板的上侧。在使用本发明的粘合剂层的情况下，作为前面板，除了玻璃基材以外，聚碳酸酯基材、聚甲基丙烯酸甲酯基材等塑料基材也发挥与玻璃基材相同的效果。

设置于前述光学薄膜的粘合剂层由粘合剂形成。作为粘合剂可以使用各种粘合剂，例如可列举出橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、有机硅系粘合剂、聚氨酯系粘合剂、乙烯基烷基醚系粘合剂、聚乙烯醇系粘合剂、聚乙烯基吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂等。可与前述粘合剂的种类相应地选择粘合性的基础聚合物。

在前述粘合剂中，从光学透明性优异、显示适宜的润湿性、聚集性和粘接性的粘合特性、耐候性、耐热性等优异的观点考虑，优选使用丙烯酸系粘合剂。

丙烯酸系粘合剂以(甲基)丙烯酸系聚合物为基础聚合物，该(甲基)丙烯酸系聚合物以(甲基)丙烯酸烷基酯的单体单元为主骨架。需要说明的是，(甲基)丙烯酸烷基酯是指丙烯酸烷基酯和/或甲基丙烯酸烷基酯，本发明的(甲基)也是同样的意思。作为构成(甲基)丙烯酸系聚合物的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示出直链状或支链状的烷基的碳数1~18的物质。例如，作为上述烷基，可以例示：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、戊基、己基、环己基、庚基、2-乙基己基、异辛基、壬基、癸基、异癸基、十二烷基、异肉豆蔻基、月桂基、十三烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基等。这些烷基可以单独使用也可以组合使用。这些烷基的平均碳数优选为3~9。

另外，可以使用(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯之类的含有芳香族环的(甲基)丙烯酸烷基酯。对于含有芳香族环的(甲基)丙烯酸烷基酯，可以将其聚合形成的聚合物与前述例示的(甲基)丙烯酸系聚合物混合使用，从透明性的观点来看，优选含有芳香族环的(甲基)丙烯酸烷基酯与前述(甲基)丙烯酸烷基酯共聚来使用。

为了改善粘接性、耐热性，可通过共聚在前述(甲基)丙烯酸系聚合物中引入一种以上的共聚单体，该共聚单体具备(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团。作为这样的共聚单体的具体例，例如可以列举出：(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟己酯、(甲基)丙烯酸8-羟辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基月桂酯、丙烯酸(4-羟甲基环己基)-甲酯等含羟基单体；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸等含羧基单体；马来酸酐、衣康酸酐等含酸酐基单体；丙烯酸的己内酯加成物；苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙烷磺酸、(甲基)丙烯酸磺酸丙酯、(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等含磺酸基单体；2-羟乙基丙烯酰基磷酸酯等含磷酸基单体等。

另外，(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基丙烷(甲基)丙烯酰胺等(N-取代)酰胺系单体；(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁氨基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯系单体；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系单体；N-(甲基)丙烯酰氧基亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-6-氧基六亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-8-氧基八亚甲基琥珀酰亚胺、N-丙烯酰基吗啉等琥珀酰亚胺系单体；N-环己基马来酰亚胺、N-异丙基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺等马来酰亚胺系单体；N-甲基衣康酰亚胺、N-乙基衣康酰亚胺、N-丁基衣康酰亚胺、N-辛基衣康酰亚胺、N-2-乙基己基衣康酰亚胺、N-环己基衣康酰亚胺、N-月桂基衣康酰亚胺等衣康酰亚胺系单体等也可以作为改性目的的单体列举出。

进而，作为改性单体，还可以使用醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌嗪、乙烯基吡嗪、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基噁唑、乙烯基吗啉、N-乙烯基羧酸酰胺类、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己内酰胺等乙烯基系单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系单体；(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等含环氧基丙烯酸系单体；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯单体；(甲基)丙烯酸四氢糠酯、氟代(甲基)丙烯酸酯、有机硅(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系单体等。进而，还可以列举异戊二烯、丁二烯、异丁烯、乙烯基醚等。

进而，作为上述以外的可共聚的单体，可以举出含有硅原子的硅烷系单体等。作为硅烷系单体，例如可以列举出：3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、4-乙烯基丁基三甲氧基硅烷、4-乙烯基丁基三乙氧基硅烷、8-乙烯基辛基三甲氧基硅烷、8-乙烯基辛基三乙氧基硅烷、10-甲基丙烯酰氧基癸基三甲氧基硅烷、10-丙烯酰氧基癸基三甲氧基硅烷、10-甲基丙烯酰氧基癸基三乙氧基硅烷、10-丙烯酰氧基癸基三乙氧基硅烷等。

另外，作为共聚单体，还可以使用：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A二缩水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸和多元醇的酯化物等具有2个以上(甲基)丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键的多官能性单体，在聚酯、环氧、氨基甲酸酯等骨架上加成两个以上作为和单体成分同样的官能团的(甲基)丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键所得的聚酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。

这些共聚单体中，从粘接性、耐久性方面考虑，优选使用含羟基单体、含羧基单体。这些共聚单体在粘合剂含有交联剂的情况下成为和交联剂的反应点。含羟基单体、含羧基单体等富于与分子间交联剂的反应性，因此，优选用于提高所得粘合剂层的聚集性、耐热性。

作为共聚单体，在包含含羟基单体和含羧基单体时，这些共聚单体以前述共聚单体的比例使用，优选含有0.1~10重量%含羧基单体和0.01~2重量%含羟基单体。含羧基单体优选为0.2~8重量%，进而优选为0.6~6重量%。含羟基单体更优选为0.03~1.5重量%，进而优选为0.05~1重量%。

(甲基)丙烯酸系聚合物通常使用重均分子量在30万~300万的范围的聚合物。考虑耐久性、特别是耐热性时，优选使用重均分子量为80万~300万的聚合物。进而优选为140万~270万、更优选为170万~250万、进而优选为180万~240万。重均分子量小于30万时，从耐热性方面考虑是不优选的。另外，重均分子量大于300万时，从贴合性、粘接力降低的观点来看是不优选的。另外，重均分子量是通过GPC(凝胶渗透色谱法)测定，根据聚苯乙烯换算而计算出的值。分散比(重均分子量/数均分子量)优选为1.8~10，进而优选为2~7，更优选为2~5。

这种(甲基)丙烯酸系聚合物的制备可以适当选择溶液聚合、本体聚合、乳液聚合、各种自由基聚合等公知的制备方法。另外，所得的(甲基)丙烯酸系聚合物可以是无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任意的共聚物。

需要说明的是，在溶液聚合中，作为聚合溶剂，例如使用醋酸乙酯、甲苯等。作为具体的溶液聚合例子，反应在氮气等非活性气体气流下添加聚合引发剂，通常在50~70℃左右、5~30小时左右的反应条件下进行。

对自由基聚合所用的聚合引发剂、链转移剂、乳化剂等没有特定限制，可以适当选择使用。其中，(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量可以根据聚合引发剂、链转移剂的用量、反应条件来控制，可以根据它们的种类来适当地调整其用量。

作为聚合引发剂，例如可列举出：2,2’-偶氮二异丁腈、2,2’-偶氮双(2-脒基丙烷)二盐酸盐、2,2’-偶氮双[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐、2,2’-偶氮双(2-甲基丙脒)二硫酸盐、2’，2”-偶氮双(2-脒基丙烷)二元酸、2,2’-偶氮双[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二元酸、2,2’-偶氮双(N,N’-二亚甲基异丁脒)、2,2’-偶氮双[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光纯药公司制造，VA-057)等偶氮系引发剂；过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐；过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化新戊酸叔己酯、过氧化新戊酸叔丁酯、过氧化二月桂酰、过氧化二正辛酰、过氧化-2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、过氧化二(4-甲基苯甲酰)、过氧化二苯甲酰、过氧化异丁酸叔丁酯、1,1-二(叔己基过氧化)环己烷、叔丁基过氧化氢、过氧化氢等过氧化物系引发剂；过硫酸盐与亚硫酸氢钠的组合、过氧化物与还原剂组合成的氧化还原系引发剂等，但不限于这些。作为前述还原剂，可以示例抗坏血酸、异抗坏血酸、酒石酸、柠檬酸、葡萄糖、甲醛次硫酸盐等的钠盐等金属盐等还原性有机化合物；硫代硫酸钠、亚硫酸钠、亚硫酸氢钠、偏亚硫酸氢钠等还原性无机化合物；氯化亚铁、雕白粉(rongalite)、二氧化硫脲等。

前述聚合引发剂可以单独使用，也可以混合两种以上使用，相对于100重量份单体，其总体含量优选为0.005~1重量份左右，更优选为0.02~0.5重量份左右。

需要说明的是，例如在使用2,2’-偶氮二异丁腈作为聚合引发剂来制造前述重均分子量的(甲基)丙烯酸系聚合物时，相对于总量为100重量份的单体成分，聚合引发剂的用量优选为0.06~0.2重量份左右，进而优选为0.08~0.175重量份左右。

作为链转移剂，例如可列举出：月桂基硫醇、缩水甘油基硫醇、巯基乙酸(mercaptoacetic acid)、2-巯基乙醇、巯基乙酸(thioglycollic acid)、巯基乙酸2-乙基己酯、2,3-二巯基-1-丙醇等。链转移剂可以单独使用也可以混合两种以上使用，相对于总量为100重量份的单体成分，总体含量为0.1重量份左右以下。

对用于乳液聚合的表面活性剂(乳化剂)没有特别的限制，可使用乳液聚合中通常使用的各种表面活性剂。作为表面活性剂，例如可使用阴离子系界面活性剂、非离子系表面活性剂。作为阴离子系表面活性剂的具体例子，可例示出油酸钠等高级脂肪酸盐类；十二烷基苯磺酸钠等烷基芳基磺酸盐类；月桂基硫酸钠、月桂基硫酸铵等烷基硫酸酯盐类；聚氧乙烯月桂基醚硫酸钠等聚氧乙烯烷基醚硫酸酯盐类；聚氧乙烯壬基苯基醚硫酸钠等聚氧乙烯烷基芳基醚硫酸酯盐类；单辛基磺基琥珀酸钠、二辛基磺基琥珀酸钠、聚氧乙烯月桂基磺基琥珀酸钠等烷基磺基琥珀酸酯盐及其衍生物类；聚氧乙烯二苯乙烯化苯基醚硫酸酯盐类；萘磺酸钠福尔马林缩合物等。作为非离子系表面活性剂的具体例子，可例示出聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚等聚氧乙烯烷基醚类；聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯烷基苯基醚类；山梨糖醇酐单月桂酸酯、山梨糖醇酐单硬脂酸酯、山梨糖醇酐三油酸酯等山梨糖醇酐高级脂肪酸酯类；聚氧乙烯山梨糖醇酐单月桂酸酯等聚氧乙烯山梨糖醇酐高级脂肪酸酯类；聚氧乙烯单月桂酸酯、聚氧乙烯单硬脂酸酯等聚氧乙烯高级脂肪酸酯类；油酸单甘油酯、硬脂酸单甘油酯等甘油高级脂肪酸酯类；聚氧乙烯·聚氧丙烯·嵌段共聚物、聚氧乙烯二苯乙烯化苯基醚等。

另外，除了上述非反应性表面活性剂以外，作为表面活性剂，可使用具有烯属不饱和双键的自由基聚合性官能团的反应性表面活性剂。作为反应性表面活性剂，可列举出在前述阴离子系表面活性剂、非离子系表面活性剂中导入了丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能团(自由基反应性基团)的自由基聚合性表面活性剂等。这些表面活性剂可以适当地单独使用或组合使用。在这些表面活性剂中，从水分散液的稳定性、粘合剂层的耐久性的观点来看，优选使用具有自由基聚合性官能团的自由基聚合性表面活性剂。

作为阴离子系反应性表面活性剂的具体例子，可列举出烷基醚系(作为市售品，例如第一工业制药株式会社制造的AQUARON KH-05、KH-10、KH-20、旭电化工业株式会社制造的ADEKA REASOAP SR-10N、SR-20N、花王株式会社制造的LATEMUL PD-104等)；磺基琥珀酸酯系(作为市售品，例如花王株式会社制造的LATEMUL S-120、S-120A、S-180P、S-180A、三洋化成株式会社制造的ELEMINOL JS-2等)；烷基苯基醚系或者烷基苯基酯系(作为市售品，例如第一工业制药株式会社制造的AQUARON H-2855A、H-3855B、H-3855C、H-3856、H S-05、HS-10、HS-20、H S-30、B C-05、BC-10、B C-20、旭电化工业株式会社制造的ADEKA REASOAP SDX-222、SDX-223、SDX-232、SDX-233、SDX-259、SE-10N、SE-20N)；(甲基)丙烯酸酯硫酸酯系(作为市售品，例如日本乳化剂株式会社制造的Antox MS-60、MS-2N、三洋化成工业株式会社制造的ELEMINOL RS-30等)；磷酸酯系(作为市售品，例如第一工业制药株式会社制造的H-3330PL、旭电化工业株式会社制造的ADEKA REASOAP PP-70等)。作为非离子系反应性表面活性剂，可列举出例如：烷基醚系(作为市售品，例如旭电化工业株式会社制造的ADEKA REAS OAP ER-10、ER-20、ER-30、ER-40；花王株式会社制造的LATEMUL PD-420、PD-430、PD-450等)；烷基苯基醚系或烷基苯基酯系(作为市售品，例如第一工业制药株式会社制造的AQUALON RN-10、RN-20、RN-30、RN-50；旭电化工业株式会社制造的ADEKA REAS OAP NE-10、NE-20、NE-30、NE-40等)；(甲基)丙烯酸酯硫酸酯系(作为市售品，例如日本乳化剂株式会社制造的RMA-564、RMA-568、RMA-1114等)。

相对于前述单体成分100重量份，前述表面活性剂的配混比例优选为0.6~5重量份。根据表面活性剂的配混比例，可以谋求粘合特性、进而聚合稳定性、机械稳定性等的提高。前述表面活性剂的配混比例更优选为0.6~4重量份。

进而，形成粘合剂层的粘合剂中，在上述(甲基)丙烯酸系聚合物等基础聚合物的基础上，还可以含有交联剂。作为交联剂，可以使用有机系交联剂、多官能性金属螯合物。作为有机系交联剂，可列举出异氰酸酯系交联剂、过氧化物系交联剂、环氧系交联剂、亚胺系交联剂等。多官能性金属螯合物是多价金属与有机化合物共价键合或配位键合的螯合物。作为多价金属原子，可列举出Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作为共价键合或配位键合的有机化合物中的原子，可列举出氧原子等；作为有机化合物，可列举出烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。

作为交联剂，优选为异氰酸酯系交联剂和/或过氧化物系交联剂。作为属于异氰酸酯系交联剂的化合物，例如可列举出：甲苯二异氰酸酯、氯代亚苯基二异氰酸酯、四亚甲基二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、二苯甲烷二异氰酸酯、氢化二苯甲烷二异氰酸酯等异氰酸酯单体以及将这些异氰酸酯单体与三羟甲基丙烷等加成而获得的异氰酸酯化合物、异氰脲酸酯化合物、缩二脲型化合物、以及聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇等加成反应而获得的聚氨酯预聚物型的异氰酸酯等。特别优选为多异氰酸酯化合物，为选自由六亚甲基二异氰酸酯、氢化二甲苯二异氰酸酯和异佛尔酮二异氰酸酯组成的组中的一种或源于它们的多异氰酸酯化合物。在这里，选自由六亚甲基二异氰酸酯、氢化二甲苯二异氰酸酯和异佛尔酮二异氰酸酯组成的组中的一种或源于它们的多异氰酸酯化合物包括六亚甲基二异氰酸酯、氢化二甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、多元醇改性六亚甲基二异氰酸酯、多元醇改性氢化二甲苯二异氰酸酯、三聚体型氢化二甲苯二异氰酸酯以及多元醇改性异佛尔酮二异氰酸酯等。由于所例示的多异氰酸酯化合物与羟基的反应迅速进行，特别是聚合物中所含有的酸、碱像催化剂那样起作用，因而促进了交联的速度，是优选的。

作为过氧化物，只要是通过加热或光照射产生自由基活性种，从而促进粘合剂的基础聚合物的交联的过氧化物，就可以适当使用，考虑到操作性、稳定性，优选使用1分钟半衰期温度为80℃~160℃的过氧化物，更优选使用1分钟半衰期温度为90℃~140℃的过氧化物。

作为可使用的过氧化物，例如可列举出过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯(1分钟半衰期温度：90.6℃)、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯(1分钟半衰期温度：92.1℃)、过氧化二碳酸二仲丁酯(1分钟半衰期温度：92.4℃)、过氧化新癸酸叔丁酯(1分钟半衰期温度：103.5℃)、过氧化新戊酸叔己酯(1分钟半衰期温度：109.1℃)、过氧化新戊酸叔丁酯(1分钟半衰期温度：110.3℃)、过氧化二月桂酰(1分钟半衰期温度：116.4℃)、过氧化二正辛酰(1分钟半衰期温度：117.4℃)、过氧化2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯(1分钟半衰期温度：124.3℃)、过氧化二(4-甲基苯甲酰)(1分钟半衰期温度：128.2℃)、过氧化二苯甲酰(1分钟半衰期温度：130.0℃)、过氧化异丁酸叔丁酯(1分钟半衰期温度：136.1℃)、1,1-二(叔己基过氧化)环己烷(1分钟半衰期温度：149.2℃)等。其中，尤其从交联反应效率优异的观点来看，优选使用过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯(1分钟半衰期温度：92.1℃)、过氧化二月桂酰(1分钟半衰期温度：116.4℃)、过氧化二苯甲酰(1分钟半衰期温度：130.0℃)等.

另外，过氧化物的半衰期是表示过氧化物的分解速度的指标，是指过氧化物残留量达到一半所用的时间。关于用于以任意时间获得半衰期的分解温度、在任意温度下的半衰期时间，在制造商商品目录等中有记载，例如，在日本油脂株式会社的“有机过氧化物商品目录第9版(2003年5月)”「有機過酸化物カタログ第9版（2003年5月）」等中有记载。

相对于(甲基)丙烯酸系聚合物等基础聚合物100重量份，交联剂的用量优选为0.01~20重量份，进而优选为0.03~10重量份。其中，交联剂不足0.01重量份时，存在粘合剂的内聚力不足的倾向，加热时有产生发泡的担心；另一方面，多于20重量份时，耐湿性不充分，可靠性试验等中容易产生剥离。

上述异氰酸酯系交联剂可以单独使用一种，还可以混合两种以上使用，相对于前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，作为总体含量，优选含有上述多异氰酸酯化合物交联剂0.01~2重量份，更优选含有0.02~2重量份，进而优选含有0.05~1.5重量份。考虑到内聚力、阻止耐久性试验中的剥离等，可以适当含有。

前述过氧化物可以单独使用一种，还可以混合两种以上使用，相对于前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，前述过氧化物的总体含量为0.01~2重量份，优选为0.04~1.5重量份，更优选为0.05~1重量份。为了调整加工性、再加工性、交联稳定性、剥离性等，可以在该范围内适当选择。

需要说明的是，作为反应处理后残留的过氧化物分解量的测定方法，例如可以通过HPLC(高效液相色谱法)测定。

更具体地说，例如，每次取出约0.2g的反应处理后的粘合剂，浸渍在10ml乙酸乙酯中，用振荡机在25℃、120rpm下振荡提取3小时，然后在室温下静置3天。接着，添加10ml乙腈，在25℃、120rpm下振荡30分钟，将约10μl的用膜滤器(0.45μm)过滤所获得的提取液注入HPLC，进行分析，可以作为反应处理后的过氧化物量。

进而，本发明的粘合剂中可以含有硅烷偶联剂。通过使用硅烷偶联剂，能够提高耐久性。作为硅烷偶联剂，具体地说，例如可列举出3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等含环氧基的硅烷偶联剂；3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1,3-二甲基丁叉基)丙胺、N-苯基-γ-氨丙基三甲氧基硅烷等含氨基的硅烷偶联剂；3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷等含(甲基)丙烯酰基的硅烷偶联剂；3-异氰酸根合丙基三乙氧基硅烷等含异氰酸酯基的硅烷偶联剂等。

前述硅烷偶联剂可以单独使用，也可以混合两种以上使用，相对于前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，前述硅烷偶联剂的总体含量优选为0.001~5重量份，进而优选为0.01~1重量份，更进而优选为0.02~1重量份，再进而优选为0.05~0.6重量份。其量为提高耐久性、适度保持对液晶单元等光学部件的粘接力的量。

此外，本发明的粘合剂中可以含有其他公知的添加剂，例如根据应用的用途可以适当添加着色剂、颜料等粉体、染料、表面活性剂、增塑剂、赋粘剂、表面润滑剂、流平剂、软化剂、抗氧化剂、抗老化剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、无机或有机填充剂、金属粉末、颗粒状物、箔状物等。另外，在可控制的范围内，可以采用添加有还原剂的氧化还原体系。

利用上述粘合剂形成粘合剂层。粘合剂通常根据基础聚合物的制备的方式，以有机溶剂系、水系、水分散系(乳液系)等各种方式的粘合剂涂覆液的形式使用。粘合剂涂覆液可以根据各方式控制固体成分浓度。例如，有机溶剂系的粘合剂涂覆液通常优选固体成分浓度为5~50重量%，进而优选为8~40重量%，更优选为20~35重量%。另外，水系或者水分散系的粘合剂涂覆液通常优选固体成分浓度为20~70重量%，进而优选为30~65重量%。需要说明的是，各例的粘合剂涂覆液的制备中，有机溶剂系的粘合剂的情况下使用各种有机溶剂、水系或者水分散系的粘合剂的情况下使用水分别进行粘合剂的稀释，可以调整粘合剂涂覆液的固体成分浓度、粘度。

对粘合剂层的厚度没有特别限制，例如为1~100μm左右，优选为2~50μm，更优选为2~40μm，进而优选为5~35μm。

另外，前述粘合剂层的厚度(μm)以标准偏差值为0.12μm以下的方式进行控制。通过将标准偏差值控制在0.12μm以下，具有透亮的外观时，也可以降低由粘合型光学薄膜引起的可视性不均的问题。标准偏差值优选为0.08μm以下，进而优选为0.06μm以下。

具有满足上述标准偏差值为0.12μm以下的粘合剂层的本发明的粘合型光学薄膜，例如可以利用如下的方法制造：

制法(A)：

实施工序(1A)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在光学薄膜上；以及，

工序(2A)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层的方法；或者，

制法(B):

实施工序(1B)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在脱模薄膜上；

工序(2B)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层；以及，

工序(3)：将形成于脱模薄膜的粘合剂层贴合于光学薄膜的方法。

其中，上述制法(A)的涂覆工序(1A)、上述制法(B)的涂覆工序(1B)中，任一情况下均以前述粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X满足0.8X-Y≤68的方式控制而进行。通过将粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X控制为满足0.8X-Y≤68，由粘合剂层的厚度引起的凹凸不均非常小，可以形成平滑性好的粘合剂层。利用上述制法(A)、制法(B)，可以形成满足标准偏差值为0.12μm以下的粘合剂层。(0.8X-Y)的值超过68时，不能减小由粘合型光学薄膜引起的可视性的不均问题。(0.8X-Y)的值优选为60以下，进而优选50以下。另一方面，从粘合型涂覆液的涂覆性的观点出发，优选满足(0.8X-Y)的值为-144以上。

另外，从将粘合剂涂覆液均一地涂覆的观点出发，优选粘合剂涂覆液的粘度Y控制在2~160P的范围。有机溶剂系粘合剂的情况下，前述粘合剂涂覆液的粘度Y优选为5~160P，进而优选为10~150P，更优选为20~140P，更优选为40~140P。水系或者水分散系粘合剂的情况下，前述粘合剂涂覆液的粘度Y优选为2~100P，进而优选为5~50P，更优选10~140P。粘合剂涂覆液的粘度Y过低时有涂覆的粘合剂的外观受损的担心，粘合剂涂覆液的粘度Y过高时涂覆外观降低的基础上，送液变困难等操作性降低，因此不优选。

另外，从将粘合剂涂覆液均一地涂覆的观点出发，优选前述粘合剂涂覆液的涂覆厚度X控制在20~250μm的范围。涂覆厚度X优选为30~230μm，进而优选为50~200μm。需要说明的是，涂覆厚度X是考虑形成的粘合剂层的厚度(干燥后厚度)而决定的。涂覆厚度X过薄或者过厚均有涂覆外观受损的担心。

上述涂覆工序(1A)、(1B)中可以使用各种方法。具体而言，可列举出例如辊涂法、辊舔式涂布法、照相凹版涂布法、逆向涂布法、辊刷法、喷涂法、浸渍辊涂法、棒涂法、刮刀涂布法、气刀式涂布法、幕帘式涂布法、模唇涂布法(lip coat)、利用模涂机等的挤出涂布法等方法。这些方法之中，优选模涂，特别优选使用喷泉模、狭缝式涂布机的模涂。需要说明的是，制法(A)中在光学薄膜上实施涂覆工序(1A)；制法(B)中在脱模薄膜上实施涂覆工序(1B)。

接着，实施制法(A)、(B)中的粘合剂层的形成工序(2A)、(2B)。形成工序(2A)、(2B)中，对于涂覆的粘合剂涂覆液，通常实施干燥。干燥温度优选为40℃~200℃，进而优选为50℃~180℃，特别优选为70℃~170℃。干燥时间可以适宜地采用适当时间。上述干燥时间优选为5秒钟~20分钟，进而优选为5秒钟~10分钟，特别优选为10秒钟~5分钟。

粘合剂含有交联剂时，在形成粘合剂层时，优选调整交联剂总体的添加量，并充分考虑交联处理温度、交联处理时间的影响。另外，所述交联处理可以在粘合剂层的干燥工序时的温度下进行，也可以在干燥工序后另外设置交联处理工序。

在制法(A)中，通过上述粘合剂层的形成工序(2A)直接在光学薄膜上形成粘合剂层，得到粘合型光学薄膜。另一方面，在制法(B)中，通过上述粘合剂层的形成工序(2B)在脱模薄膜上形成粘合剂层，接着，通过将该粘合剂层贴合到光学薄膜的工序(3)，将该粘合剂层转印到光学薄膜上，得到粘合型光学薄膜。需要说明的是，图2或图3中所述的粘合型偏光板的制作中，使用偏光板A1或者A2作为光学薄膜1，在制法(A)、(B)的任一者中，粘合剂层2均设置于偏光板A1或者A2的不具有第一透明保护薄膜b1侧。

作为脱模薄膜的构成材料，可列举出例如聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯薄膜等塑料薄膜，纸、布、无纺布等多孔质材料，网、发泡片、金属箔、以及它们的层压体等合适的薄片体等，从表面平滑性优异的观点出发，优选使用塑料薄膜。

作为该塑料薄膜，只要是能保护前述粘合剂层的薄膜就没有特别的限制，例如可列举出聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚氨酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜等。

前述脱模薄膜的厚度通常为5~200μm，优选为5~100μm左右。对于前述脱模薄膜，还可根据需要利用有机硅系、氟系、长链烷基系或者脂肪酸酰胺系脱模剂、硅石粉等进行脱模和防污处理、涂覆型、混炼型、蒸镀型等抗静电处理。特别是，通过对所述脱模薄膜的表面适当地进行有机硅处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理，能够进一步提高从所述粘合剂层的剥离性。

所述粘合剂层露出的情况下，可以用脱模薄膜保护粘合剂层到供实际使用为止。需要说明的是，上述剥离薄膜可以直接作为粘合型光学薄膜的隔离膜使用，能够在工序方面简化。

另外，在光学薄膜(光学薄膜为偏光板时不具有第一透明保护薄膜侧)的表面上，为了提高与粘合剂层之间的密合性，可以形成锚固层，或者可以在实施电晕处理、等离子处理等各种易粘接处理之后形成粘合剂层。另外，可以在粘合剂层的表面进行易粘接处理。

作为上述锚固层的形成材料，优选使用选自聚氨酯、聚酯、分子中含氨基的聚合物类、含噁唑啉基的聚合物类中的锚固剂，特别优选分子中含氨基的聚合物类、含噁唑啉基的聚合物类。分子中含氨基的聚合物类、含噁唑啉基的聚合物类由于分子中的氨基、噁唑啉基与粘合剂中的羧基等反应或显示出离子性相互作用等相互作用，因此可确保良好的密合性。

作为分子中含氨基的聚合物类，可列举出例如聚乙烯亚胺、聚烯丙基胺、聚乙烯基胺、聚乙烯基吡啶、聚乙烯基吡咯烷、丙烯酸二甲氨基乙酯等含氨基单体的聚合物等。

本发明的粘合型偏光板等粘合型光学薄膜可以在液晶显示装置等各种图像显示装置的形成等中优选使用。液晶显示装置的形成可依照现有技术进行。即，液晶显示装置通常通过适宜组装液晶单元等显示面板和粘合型偏光板、以及根据需要的照明系统等构成部件并组入驱动电路等而形成。本发明中，使用本发明的粘合型偏光板时，除相对于液晶单元用于可视侧的方面之外，没有特别的限定，可以依照现有技术。对于液晶单元来说，例如可以使用TN型、STN型、π型、VA型、IPS型等任意类型的液晶单元。

可以形成在液晶单元等显示面板的单侧或两侧配置有粘合型偏光板的液晶显示装置、在照明系统中使用了背光灯(backlight)或者反射板的装置等适当的液晶显示装置。本发明的粘合型偏光板可以设置在液晶单元等显示面板的单侧或两侧。在两侧设置本发明的粘合型偏光板的情况下，它们可以是相同的，也可以是不同的。进而，在形成液晶显示装置时，可以在适宜的位置配置一层或两层以上的例如扩散板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列片、光扩散板、背光灯等适宜的部件。

接下来，对有机电致发光装置(有机EL显示装置：OLED)进行说明。通常情况下，有机EL显示装置在透明基板上依次层叠透明电极、有机发光层和金属电极来形成发光体(有机电致发光体)。这里，有机发光层是各种有机薄膜的层叠体，已知有例如由三苯基胺衍生物等形成的空穴注入层与由蒽等荧光性有机固体形成的发光层的层叠体、或这样的发光层与由苝衍生物等形成的电子注入层的层叠体、或者这些空穴注入层、发光层、及电子注入层的层叠体等具有各种组合的构成。

有机EL显示装置的发光原理是，通过对透明电极和金属电极施加电压，在有机发光层注入空穴和电子，通过这些空穴和电子再结合而产生的能量激发荧光物质，被激发的荧光物质回到基态时发出光。中途再结合的机理与一般的二极管相同，由此还可以推测，电流和发光强度对施加电压显示出伴随整流性的强非线性。

在有机EL显示装置中，为了取出有机发光层的发光，至少一个电极必须是透明的，通常使用由氧化铟锡(ITO)等透明导电体形成的透明电极作为阳极。另一方面，为了使电子注入容易以提高发光效率，重要的是阴极使用功函数小的物质，通常使用Mg-Ag、Al-Li等金属电极。

在上述构成的有机EL显示装置中，有机发光层由厚度10nm左右非常薄的膜来形成。因此，有机发光层也与透明电极同样，使光几乎完全透射。其结果，在非发光时从透明基板的表面入射、透射透明电极和有机发光层并在金属电极反射的光再次向透明基板的表面侧射出，因此，从外部看时，可看到有机EL显示装置的显示面如镜面。

在包含通过施加电压而发光的有机发光层的表面侧备有透明电极、并且有机发光层的背面侧备有金属电极的有机电致发光体的有机EL显示装置中，可以在透明电极的表面侧设置偏光板、并且在这些透明电极和偏光板之间设置相位差板。

相位差板以及偏光板对从外部入射并在金属电极反射的光具有偏振作用，因此，有通过该偏振作用而从外部看不到金属电极的镜面的效果。特别是，若用1/4波长板构成相位差板、且调整偏光板与相位差板的偏振方向所成的角为π/4，则可完全遮蔽金属电极的镜面。

即，入射至该有机EL显示装置的外部光因偏光板而仅有直线偏振光成分透射。该直线偏振光由于相位差板而通常成为椭圆偏振光，特别在相位差板为1/4波长板且偏光板与相位差板的偏振方向所成的角为π/4时成为圆偏振光。

该圆偏振光透射透明基板、透明电极、有机薄膜，并在金属电极反射，从而再次透射有机薄膜、透明电极、透明基板，并在相位差板再次成为直线偏振光。而且，由于该直线偏振光与偏光板的偏振光方向垂直，因此，不能透射偏光板。其结果，可以完全遮掩金属电极的镜面。

如上所述在有机EL显示装置中，为了遮挡镜面反射，可以在有机EL面板上，借助粘合剂层使用相位差板及偏光板组合而成的椭圆偏光板或圆偏光板，此外，可以不在有机EL面板上直接贴合椭圆偏光板或圆偏光板、而将使椭圆偏光板或圆偏光板借助粘合剂层贴合在触摸面板上而成的部件应用于有机EL面板。

作为本发明中所适用的触摸面板，可以采用光学方式、超声波方式、静电容量方式、电阻膜方式等各种方式。电阻膜方式的触摸面板是将具有透明导电性薄膜的触摸侧的触摸面板用电极板和具有透明导电性薄膜的显示器侧的触摸面板用电极板以使透明导电性薄膜彼此对向的方式借助隔离膜（spacer）对向配置而成的。另一方面，静电容量方式的触摸面板通常在整个显示器显示部形成具备具有规定图案形状的透明导电性薄膜的透明导电性膜。本发明的粘合型光学薄膜可应用于触摸侧、显示器侧中的任一侧。

实施例

以下通过实施例具体说明本发明，但本发明不受这些实施例的限定。需要说明的是，各例中的份以及%均为重量基准。以下没有特别规定的室温放置条件全部为23℃、65%RH。

[(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量的测定]

(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量以及分散比(重均分子量/数均分子量)通过GPC(凝胶渗透色谱法)测定。

·分析装置：TOSOH CORPORATION制造，HLC-8120GPC

·柱：东曹株式会社制造，G7000H_XL+GMH_XL+GMH_XL

·柱尺寸：各7.8mmφ×30cm共90cm

·柱温：40℃

·流量：0.8ml/min

·注入量：100μl

·洗脱液：四氢呋喃

·检测器：差示折射计(RI)

·标准试样：聚苯乙烯

[雾度值]

透明保护薄膜的雾度值(%)的测定使用雾度计(HM-150型,村上色彩技术研究所株式会社制造)进行。

[粘合剂涂覆液的粘度Y]

粘合剂涂覆液的粘度Y(P)使用东机产业株式会社制造的VISCOMETER modelBH按照下述的条件测定。

转子：No.4

转速：20rpm

测定温度：30℃

[粘合剂涂覆液的厚度X]

粘合剂涂覆液的厚度X(μm)是由涂覆后进行干燥而形成的粘合剂层的厚度(μm)和粘合剂涂覆液的固体成分浓度(%)利用下式而算出的值。

粘合剂涂覆液的厚度X(μm)={(粘合剂层的厚度(μm))/(粘合剂层涂覆液的固体成分浓度(%))}×100

＜丙烯酸系粘合剂(1)的制备＞

在设有冷凝管、氮气导入管、温度计以及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起加入丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羟基丁酯1份、以及相对于前述单体总计(固体成分)100份为0.3份的2,2-偶氮二异丁腈，在氮气气流下，在60℃反应4小时后，在该反应液中加入乙酸乙酯，得到含有重均分子量170万、分散比4.1的丙烯酸系聚合物(A)的溶液(固体成分浓度30%)。对前述含有丙烯酸系聚合物(A)的溶液每100份固体成分，配混0.15份的三羟甲基丙烷甲苯二异氰酸酯(三井武田化学株式会社：TAKENATE D110N)和0.2份的硅烷偶联剂(综研化学株式会社制造：A-100,含有乙酰乙酰基的硅烷偶联剂)，得到丙烯酸系粘合剂(1)的溶液。

＜丙烯酸系粘合剂(2)的制备＞

在设有冷凝管、氮气导入管、温度计以及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起加入丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羟基乙酯0.1份、以及相对于前述单体总计(固体成分)100份为0.3份的过氧化二苯甲酰，在氮气气流下，在60℃使之反应7小时后，在该反应液中加入乙酸乙酯，得到含有重均分子量220万、分散比3.9的丙烯酸系聚合物(B)的溶液(固体成分浓度30%)。对前述含有丙烯酸系聚合物(B)的溶液每100份固体成分，配混0.6份的三羟甲基丙烷甲苯二异氰酸酯(NipponPolyurethane Industry Co.,Ltd制造：CORONATE L)和0.075份的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制造：KBM-403)，得到丙烯酸系粘合剂(2)的溶液。

＜丙烯酸系粘合剂(3)的制备＞

在设有冷凝管、氮气导入管、温度计以及搅拌装置的反应容器中，将丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羟基乙酯0.1份、以及相对于前述单体总计(固体成分)100份为0.3份的过氧化二苯甲酰加入至乙酸乙酯和甲苯的重量比为5：5的混合溶剂中，在氮气气流下，在60℃使之反应7小时后，在该反应液中加入乙酸乙酯，得到含有重均分子量50万、分散比5的丙烯酸系聚合物(C)的溶液(固体成分浓度50%)。对前述含有丙烯酸系聚合物(C)的溶液每100份固体成分，配混0.6份的三羟甲基丙烷甲苯二异氰酸酯(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd制造：CORONATE L)和0.075份的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制造：KBM-403)，得到丙烯酸系粘合剂(3)的溶液。

＜丙烯酸系粘合剂(4)的制备＞

在设有冷凝管、氮气导入管、温度计以及搅拌装置的反应容器中，将丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羟基乙酯0.1份、以及相对于前述单体总计(固体成分)100份为0.3份的过氧化二苯甲酰加入至乙酸乙酯和甲苯的重量比为8：2的混合溶剂中，在氮气气流下，在60℃使之反应7小时后，在该反应液中加入乙酸乙酯，得到含有重均分子量100万、分散比4的丙烯酸系聚合物(D)的溶液(固体成分浓度50%)。对前述含有丙烯酸系聚合物(D)的溶液每100份固体成分，配混0.6份的三羟甲基丙烷甲苯二异氰酸酯(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd制造：CORONATE L)和0.075份的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制造：KBM-403)，得到丙烯酸系粘合剂(4)的溶液。

＜丙烯酸系粘合剂(5)的制备＞

在设有冷凝管、氮气导入管、温度计以及搅拌装置的反应容器中，将丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羟基乙酯0.1份、以及相对于前述单体总计(固体成分)100份为0.3份的过氧化二苯甲酰加入至乙酸乙酯和甲苯的重量比为6：4的混合溶剂中，在氮气气流下，在60℃使之反应7小时后，在该反应液中加入乙酸乙酯，得到含有重均分子量70万、分散比4.8的丙烯酸系聚合物(E)的溶液(固体成分浓度50%)。对前述含有丙烯酸系聚合物(E)的溶液每100份固体成分，配混0.6份的三羟甲基丙烷甲苯二异氰酸酯(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd制造：CORONATE L)和0.075份的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制造：KBM-403)，得到丙烯酸系粘合剂(5)的溶液。

＜丙烯酸系粘合剂(6)的制备＞

在容器中加入980份丙烯酸丁酯、以及20份丙烯酸并混合，制备单体混合物。接着，相对于以上述比例制备的单体混合物1000份，加入20份作为反应性表面活性剂的AQUALONHS-10(第一工业制药株式会社制造)以及635份离子交换水，使用均质混合器(特殊机化工业株式会社制造)，以6000(rpm)搅拌5分钟并强制乳化，制备单体乳液。在具备冷凝管、氮气导入管、温度计、滴液漏斗和搅拌叶片的反应容器中投入上述制备得到的单体乳液200份以及离子交换水330份，接着，将反应容器用氮气充分置换后，添加0.6份过硫酸铵，边搅拌边在60℃下进行1小时聚合。接着，在将反应容器保持在60℃的情况下，经3小时向其中滴加剩余的单体乳液800份，然后，聚合3小时，得到固体成分浓度46.2%的含有(甲基)丙烯酸系聚合物(F)的乳液颗粒的水分散液。接着，将上述水分散液冷却至室温，然后在其中添加浓度10%的氨水将pH调节至8，而且，得到固体成分调整至45.9%的水分散液。将该分散液作为丙烯酸系粘合剂(6)使用。

＜丙烯酸系粘合剂(7)的制备＞

对丙烯酸系粘合剂(1)中制备的含有丙烯酸系聚合物(A)的溶液每100份固体成分，配混0.3份的过氧化二苯甲酰(日本油脂株式会社制造：NYPER BMT)、0.02份的三羟甲基丙烷二甲苯二异氰酸酯(三井武田化学株式会社：TAKENATE D110N)和0.2份的硅烷偶联剂(综研化学株式会社制造：A-100,含有乙酰乙酰基的硅烷偶联剂)，得到丙烯酸系粘合剂(7)的溶液。

＜丙烯酸系粘合剂(8)的制备＞

在设有冷凝管、氮气导入管、温度计以及搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起加入丙烯酸丁酯81.9份、丙烯酸苄酯13.0份、丙烯酸5.0份、丙烯酸4-羟基丁酯0.1份以及相对于前述单体总计(固体成分)100份为0.1份的2,2’-偶氮二异丁腈，在氮气气流下、55℃下反应8小时之后，在该反应液中加入乙酸乙酯，得到含有重均分子量200万、分散比3的丙烯酸系聚合物(G)的溶液(固体成分浓度30%)。对前述含有丙烯酸系聚合物(G)的溶液每100份固体成分，配混0.09份的过氧化二苯甲酰(日本油脂株式会社制造：NYPER BMT)、0.45份的三羟甲基丙烷甲苯二异氰酸酯(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd制造：CORONATEL)、0.2份的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制造：KBM-403)和0.25份的聚醚化合物(KanekaCorporation制造：Silyl SAT10)，得到丙烯酸系粘合剂(8)的溶液。

＜丙烯酸系粘合剂(9)的制备＞

对丙烯酸系粘合剂(1)中制备的含有丙烯酸系聚合物(A)的溶液每100份固体成分，配混0.3份的过氧化二苯甲酰(日本油脂株式会社制造：NYPER BMT)、0.1份的三羟甲基丙烷二甲苯二异氰酸酯(三井武田化学株式会社：TAKENATE D110N)和0.2份的硅烷偶联剂(综研化学株式会社制造：A-100,含有乙酰乙酰基的硅烷偶联剂)，得到丙烯酸系粘合剂(9)的溶液。

＜偏振片(1)的制作＞

使厚度80μm的聚乙烯醇薄膜在速度比不同的辊之间边在30℃、0.3%浓度的碘溶液中染色1分钟，边拉伸至3倍。然后，边在60℃、包含4%浓度的硼酸、10%浓度的碘化钾的水溶液中浸渍0.5分钟，边拉伸至总拉伸倍率达到6倍。接着，在30℃、包含1.5%浓度的碘化钾的水溶液中浸渍10秒钟，由此进行清洗，然后在50℃下进行4分钟干燥，得到厚度20μm的偏振片。

＜偏振片(2)的制作＞

使用上述参考制造例1中得到的薄型高功能偏光膜(厚度5μm)。

＜偏振片(3)的制作＞

使用上述参考制造例2中得到的薄型高功能偏光膜(厚度3μm)。

＜偏振片(4)的制作＞

为了制作薄型偏光膜，首先，通过对在无定形PET基材上成膜有9μm厚的PVA层的层叠体进行拉伸温度130℃的空中辅助拉伸而生成拉伸层叠体，接着，通过对拉伸层叠体进行染色而生成着色层叠体，进而，将着色层叠体通过拉伸温度65摄氏度的硼酸水溶液中拉伸与无定形PET基材一体地拉伸，使总拉伸倍率为5.94倍，生成包含4μm厚的PVA层的光学薄膜层叠体。可以生成包含构成高功能偏光膜的厚度4μm的PVA层的光学薄膜层叠体，其中，通过如上的2阶段拉伸，在无定形PET基材上成膜的PVA层的PVA分子被高阶取向，通过染色而被吸附的碘以多碘离子络合物的形式向单方向高阶取向。

(透明保护薄膜)

使用下述透明保护薄膜。表1、表2中的符号表示下述内容。

40TAC：厚度40μm的三醋酸纤维素薄膜(雾度值0.3%，Konica Minolta Holdings,Inc.制造的KC4UY)。

80TAC：厚度80μm的三醋酸纤维素薄膜(雾度值0.3%，Fujifilm Corporation制造的TD80UL)。

20acrylic:厚度20μm的丙烯酸系树脂薄膜(雾度值0.2%)。

22ZEONOR：厚度22μm的环状烯烃系树脂薄膜(雾度值0.1%，Zeon Corporation制造的ZEONOR ZD12)。

40APET:厚度40μm的无定形聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(雾度值0.2%，MITSUBISHI PLASTICS制造的NOVACLEAR)。

(相位差板)

使用下述的相位差板。表2中的符号表示下述内容。

50polyca：厚度50μm的聚碳酸酯薄膜(相位差147nm，TEIJIN CHEMICALS LTD.制造的PURE-ACE WR)。

34olefin:厚度34μm的环状烯烃系树脂薄膜(相位差140nm，Kaneka Corporation制造的薄膜)。

33olefin:厚度33μm的环状烯烃系树脂薄膜(相位差270nm，Kaneka Corporation制造的薄膜)。

(光学薄膜)

使用下述光学薄膜。表3中的符号表示下述内容。

40TAC：厚度40μm的三醋酸纤维素薄膜(雾度值0.3%，Konica Minolta Holdings,Inc.制造的KC4UY)。

60TAC：厚度60μm的三醋酸纤维素薄膜(雾度值0.3%，Fujifilm Corporation制造的TD60UL)。

80TAC：厚度80μm的三醋酸纤维素薄膜(雾度值0.3%，Fujifilm Corporation制造的TD80UL)。

30acrylic:厚度30μm的丙烯酸系树脂薄膜(雾度值0.2%)。

需要说明的是，表3中，40TAC：*1使用利用下述方法制作的防眩性硬涂层薄膜。40TAC：*2使用防反射薄膜(大日本印刷株式会社制造的商品名“DSG-03”)。

(防眩性硬涂层薄膜的制作)

准备分散有使无机氧化物颗粒和含有聚合性不饱和基团的有机化合物结合而成的纳米二氧化硅颗粒的硬涂层形成材料(JSR Corporation制造，商品名“OPSTAR Z7540”，固体成分：56重量%，溶剂：乙酸丁酯/甲乙酮(MEK)=76/24(重量比))。前述硬涂层形成材料以(A)成分总计：(B)成分=2：3的重量比含有(A)成分:双季戊四醇以及异佛尔酮二异氰酸酯系聚氨酯、(B)成分：表面用有机分子修饰过的二氧化硅微粒(重均粒径100nm以下)。对前述硬涂层形成材料每100重量份的树脂固体成分，混合作为微粒的丙烯酸和苯乙烯的交联颗粒(积水化成品工业株式会社制造，商品名为“TechpolymerXX80AA”，重均粒径5.5μm，折射率1.515)5重量份、流平剂(大日本油墨化学工业株式会社制造，商品名“GRANDIC PC-4100”)0.1重量份，光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals公司制造，商品名“IRGACURE127”)0.5重量份。将该混合物稀释为固体成分浓度45重量%、乙酸丁酯/MEK比率为2/1(重量比)，制备防眩性硬涂层形成材料。

准备三醋酸纤维素薄膜(Konica Minolta Holdings,Inc.制造，商品名“KC4UY”，厚度40μm)作为透明塑料薄膜基材。在前述透明塑料薄膜基材的单面上使用逗点涂布机涂布前述防眩性硬涂层形成材料形成涂膜。接着，通过在100℃下加热1分钟，干燥前述涂膜。之后，用高压汞灯照射积分光量300mJ/cm²的紫外线，对前述涂膜进行固化处理，形成9μm的防眩性硬涂层，得到防眩性硬涂层薄膜。

实施例1

(偏光板的制作)

在偏振片(1)的两侧，利用聚乙烯醇系粘接剂贴合厚度40μm的三醋酸纤维素薄膜(雾度值0.3%，Konica Minolta Holdings,Inc.制造的KC4UY)作为第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜，制作偏光板。

(粘合剂涂覆液的制备)

将上述制造例1中制备的丙烯酸系粘合剂(1)的溶液用乙酸乙酯稀释至固体成分浓度为15%，制备粘合剂涂覆液。该粘合剂涂覆液的粘度为65P。

(粘合型偏光板的制作)

在实施了有机硅处理的38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(三菱化学聚酯薄膜株式会社制造，MRF38)的单面上，使用喷泉模涂布机涂覆上述制备的粘合剂涂覆液，使涂覆厚度为134.0μm。接着，在155℃下进行干燥1分钟，形成厚度20μm的粘合剂层。将该粘合剂层转印到上述制作的偏光板的第二透明保护薄膜侧，制作粘合型偏光板。

实施例2~29和比较例1~4

实施例1中，制作粘合型偏光板时，作为偏光板使用采用表1中所示的偏振片、第一透明保护薄膜、第二透明保护膜制作的偏光板，使用表1中所示的粘合剂涂覆液作为粘合剂涂覆液，将粘合剂涂覆液的涂覆厚度变更为表1中所示那样，将粘合剂层的厚度变更为表1中所示那样，除此以外，与实施例1同样地，制作粘合型偏光板。需要说明的是，对于偏振片(2)、(3)、(4)，在得到的层叠体薄膜或者光学薄膜层叠体的偏光膜的表面上边涂布聚乙烯醇系粘接剂边贴合第一透明保护薄膜，之后，剥离无定形PET基材，然后利用聚乙烯醇系粘接剂贴合第二透明保护薄膜，制作偏光板。不使用第二透明保护薄膜的偏光板中，将粘合剂层转印到偏光膜上制作粘合型偏光板。

实施例30~37和比较例5~8

实施例1中，制作粘合型偏光板时，作为偏光板使用采用表2中所示的偏振片、第一透明保护薄膜、第二透明保护膜制作的偏光板，使用表2中所示的粘合剂涂覆液作为粘合剂涂覆液，将粘合剂涂覆液的涂覆厚度变更为表2中所示那样，将粘合剂层的厚度变更为表2中所示那样，除此以外，与实施例1同样地，制作粘合型偏光板。需要说明的是，贴合于偏光板的粘合剂层对应于表2中的第一粘合剂层。

进而，对得到的粘合型偏光板，以为如图4至图7所示的构造的方式，介由第二粘合剂层贴合第一相位差板、介由第三粘合剂层贴合第二相位差板，得到层叠粘合型偏光板。需要说明的是，对于第二粘合剂层、第三粘合剂层的形成，在实施过有机硅处理的38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(三菱化学聚酯薄膜株式会社制造，MRF38)的单面上，使用喷泉模涂布机以表2所示的涂覆厚度涂覆表2所示的粘合剂涂覆液。接着，在155℃下进行干燥1分钟，形成表2所示厚度的粘合剂层。将该第二粘合剂层、第三粘合剂层转印于第一相位差板、第二相位差板上制作粘合型相位差板，用于前述层叠粘合型偏光板的制作。

实施例38~52、比较例9~13

实施例1的(粘合型偏光板的制作)中，代替偏光板使用表3所示的光学薄膜，使用表3中所示的粘合剂涂覆液作为粘合剂涂覆液，将粘合剂涂覆液的涂覆厚度变更为表3中所示那样，将粘合剂层的厚度变更为表3中所示那样，除此以外，与实施例1同样地，制作粘合型光学薄膜。

需要说明的是，各例的粘合剂涂覆液的制备中，丙烯酸系粘合剂为溶液时，使用乙酸乙酯进行稀释，丙烯酸系粘合剂为水分散液时使用水进行稀释，调整粘合剂涂覆液的固体成分浓度、粘度。另外，粘合剂层向偏光板的转印中，偏光板不具有第二透明保护薄膜时，在偏光板不具有第一透明保护薄膜侧(直接在偏振片上)转印粘合剂层。

对于上述实施例以及比较例中得到的粘合型偏光板、层叠粘合型偏光板以及粘合型光学薄膜(样品)进行以下的评价。评价结果示于表1至表3中。

＜粘合剂层的厚度和标准偏差值＞

使用大塚电子株式会社制造的分光光度计MCPD-3700，利用波长700~900nm的光干涉法，以1mm的间隔测定2061点的5cm见方的粘合型偏光板、层叠粘合型偏光板或者粘合型光学薄膜(样品)的各粘合剂层的厚度，由其值求出粘合剂层的厚度和标准偏差值。

＜ISC的测定＞

使用I System Corporation制造的EyeScale-4W，基于该装置的方法，采用3CCD图像传感器(Image sensor)的ISC测定模式，算出粘合型偏光板、层叠粘合型偏光板或者粘合型光学薄膜的面内的不均的水平作为ISC值。

(测定条件)

使用以贴合于无碱玻璃板(Corning Incorporated制造，1737)的状态使用的粘合型偏光板、层叠粘合型偏光板以及粘合型光学薄膜作为样品。以光源、样品、丝网的顺序设置，利用CCD照相机测定投影到丝网上的样品的透射图像。以从光源以及CCD照像机至样品(贴合于无碱玻璃板的粘合剂层)的距离为30cm的方式配置。另外，以从光源以及CCD照像机至丝网的距离为100cm的方式配置。光源以及CCD照相机以距样品、丝网的距离相等的方式相隔20cm设置。

ISC值与不均的评价相关，如果ISC值为100以下，可以判定为能将不均控制得较小。ISC值越小可以判定越没有不均，ISC值优选为70以下，更优选为50以下。

＜目视评价：关于粘合型偏光板以及层叠粘合型偏光板＞

将粘合型偏光板或者层叠粘合型偏光板(样品)贴合于黑色亚克力板上，在荧光灯下按照下述的基准目视其外观进行评价。关于层叠粘合型偏光板，对于第一粘合剂层，将粘合型偏光板作为样品，对于第二粘合剂层，将使用第一相位差板的粘合型相位差板作为样品，对于第三粘合剂层，将使用第二相位差板的粘合型相位差板作为样品。

○○○：完全观察不到不均。

○○：几乎观察不到不均。

○：有不均，但不会介意。

×：有不均。

＜目视评价：关于粘合型光学薄膜＞

将粘合型光学薄膜(样品)贴合于表面平滑的透明亚克力板上，假定为在前面板的可视侧贴合有光学薄膜的构成，在荧光灯下按照下述基准目视其外观进行评价。对从光学薄膜侧观察时、从亚克力板侧观察时分别进行评价。

○○○：完全观察不到表面凹凸。

○○：几乎观察不到表面凹凸。

○：虽可见表面凹凸，但是几乎不影响可视性。

×：表面凹凸大，对可视性影响很大。

表1

表2

表3

附图标记说明

1光学薄膜

2粘合剂层

A偏光板

B相位差板

C表面处理薄膜

a偏振片

b1第一透明保护薄膜

b2第二透明保护薄膜

10薄型高功能偏光膜

11树脂基材

12PVA系树脂层

13层叠体薄膜

14含有二色性物质14'的染色液

15硼酸水溶液

16具有圆周速度不同的多组辊的辊拉伸机

(A)包含树脂基材和PVA树脂层的层叠体薄膜的制作工序

(B)染色工序

(C)交联工序

(D)拉伸工序

(E)染色工序前的交联工序

(F)拉伸工序(D)前的交联工序

(G)清洗工序

(H)干燥工序

(I)转印工序

Claims (22)

1.一种粘合型光学薄膜的制造方法，其为具有光学薄膜和设置于所述光学薄膜的粘合剂层、且所述粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下的粘合型光学薄膜的制造方法，

其特征在于，具有：

工序(1A)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在所述光学薄膜上；以及，

工序(2A)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层，

而且，所述粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X满足0.8X－Y≤68。

2.一种粘合型光学薄膜的制造方法，其为具有光学薄膜和设置于所述光学薄膜的粘合剂层、且所述粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下的粘合型光学薄膜的制造方法，

其特征在于，具有：

工序(1B)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在脱模薄膜上；

工序(2B)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层；以及，

工序(3)：将形成于脱模薄膜上的粘合剂层贴合于所述光学薄膜上；

而且，所述粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X满足0.8X－Y≤68。

3.根据权利要求1或2所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述光学薄膜为在偏振片的单侧具有第一透明保护薄膜或者在两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的偏光板，

所述第一透明保护薄膜的雾度值为15%以下，

所述粘合剂层设置于偏光板的不具有所述第一透明保护薄膜侧。

4.根据权利要求3所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述第一透明保护薄膜的厚度为60μm以下。

5.根据权利要求3所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述偏光板在偏振片的两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜，第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的至少任一者的厚度为60μm以下。

6.根据权利要求3所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述偏振片的厚度为10μm以下。

7.根据权利要求1或2所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述光学薄膜为相位差板。

8.根据权利要求7所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述相位差板的厚度为60μm以下。

9.根据权利要求1或2所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述光学薄膜的雾度值为15%以下。

10.根据权利要求9所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述光学薄膜是以贴合于前面板或者触摸面板为目的的光学薄膜。

11.根据权利要求9所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述光学薄膜的厚度为60μm以下。

12.根据权利要求9所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述光学薄膜为表面处理薄膜。

13.根据权利要求1或2所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述粘合剂涂覆液的粘度Y(P)为2～160P，涂覆厚度X(μm)为20～250μm。

14.一种粘合型光学薄膜的制造方法，其为至少两张光学薄膜和至少两层粘合剂层分别交替层叠、且所述粘合剂层的至少任一层的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下的粘合型光学薄膜的制造方法，

其特征在于，具有：

工序(1A)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在所述光学薄膜的至少一张上；以及，

工序(2A)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层，

而且，所述粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X满足0.8X－Y≤68。

15.一种粘合型光学薄膜的制造方法，其为至少两张光学薄膜和至少两层粘合剂层分别交替层叠、且所述粘合剂层的至少任一层的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下的粘合型光学薄膜的制造方法，

其特征在于，具有：

工序(1B)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在脱模薄膜上；

工序(2B)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层；以及，

工序(3)：将形成于脱模薄膜上的粘合剂层贴合于所述光学薄膜的至少一张上；

而且，所述粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X满足0.8X－Y≤68。

16.根据权利要求14或15所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述至少两层粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值均为0.12μm以下。

17.根据权利要求15所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述光学薄膜的一张为在偏振片的单侧具有第一透明保护薄膜或者在两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的偏光板，

所述第一透明保护薄膜的雾度值为15%以下，

所述粘合剂层设置于偏光板的不具有所述第一透明保护薄膜侧。

18.根据权利要求17所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述第一透明保护薄膜的厚度为60μm以下。

19.根据权利要求17所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述偏光板在偏振片的两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜，第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的至少任一者的厚度为60μm以下。

20.根据权利要求17所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述偏振片的厚度为10μm以下。

21.根据权利要求14所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述光学薄膜的一张为在偏振片的单侧具有第一透明保护薄膜或者在两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的偏光板，

所述第一透明保护薄膜的雾度值为15%以下，

所述粘合剂层设置于偏光板的不具有所述第一透明保护薄膜侧，

其他的光学薄膜的至少一张为相位差板。

22.根据权利要求21所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述相位差板的厚度为60μm以下。

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