TW201710324A - 經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷、表面處理劑及物件 - Google Patents
經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷、表面處理劑及物件 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201710324A TW201710324A TW105113543A TW105113543A TW201710324A TW 201710324 A TW201710324 A TW 201710324A TW 105113543 A TW105113543 A TW 105113543A TW 105113543 A TW105113543 A TW 105113543A TW 201710324 A TW201710324 A TW 201710324A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- decane
- polymer
- integer
- formula
- Prior art date
Links
- 150000004756 silanes Polymers 0.000 title 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 129
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 79
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 41
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Polymers CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims description 19
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 claims description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 17
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims description 15
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- KYGISWNEHOVNRN-UHFFFAOYSA-N decane Polymers CCCCCCCCCC.CCCCCCCCCC.CCCCCCCCCC.CCCCCCCCCC KYGISWNEHOVNRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MXIRHCBUSWBUKI-UHFFFAOYSA-N decane Polymers CCCCCCCCC[CH2+] MXIRHCBUSWBUKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OWCFCPLYQPPJPH-UHFFFAOYSA-N decane Polymers CCCCCCCCCC.CCCCCCCCCC OWCFCPLYQPPJPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YBPJNJSKPUAMKZ-UHFFFAOYSA-N decane Polymers CCCCCCCCC[CH2-] YBPJNJSKPUAMKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005567 fluorenylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 78
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 57
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 57
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- -1 siloxane chain Chemical group 0.000 description 54
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 34
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 31
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 28
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 27
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002585 base Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CWZQYRJRRHYJOI-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trimethoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCC(OC)(OC)OC CWZQYRJRRHYJOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 8
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 8
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical compound COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000012434 nucleophilic reagent Substances 0.000 description 7
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- QKAGYSDHEJITFV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoro-3-methoxy-4-(trifluoromethyl)pentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(OC)C(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)F QKAGYSDHEJITFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DJXNLVJQMJNEMN-UHFFFAOYSA-N 2-[difluoro(methoxy)methyl]-1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)F DJXNLVJQMJNEMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FNUBKINEQIEODM-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropentanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC=O FNUBKINEQIEODM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SQEGLLMNIBLLNQ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-(trifluoromethyl)propane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)F SQEGLLMNIBLLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 5
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AGGJWJFEEKIYOF-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-triethoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCC(OCC)(OCC)OCC AGGJWJFEEKIYOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 4
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KUZXQXCWRNFIHK-UHFFFAOYSA-N 3,3-diethyldodecane Chemical compound CCCCCCCCCC(CC)(CC)CC KUZXQXCWRNFIHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N trifluoromethane acid Natural products FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N tris(pentafluorophenyl)borane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1B(C=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- LTJKFDLGAFIDPW-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-tribromodecane Chemical compound CCCCCCCCCC(Br)(Br)Br LTJKFDLGAFIDPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHPNGCXABLTQFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichlorodecane Chemical compound CCCCCCCCCC(Cl)(Cl)Cl KHPNGCXABLTQFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPFRRRNIYVFFE-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,5,5-hexamethyl-1,4-dioxane Chemical compound CC1(C)COC(C)(C)C(C)(C)O1 YTPFRRRNIYVFFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAIYSDSCHLMYFF-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetramethyldodecane Chemical compound CCCCCCCCCC(C)(C)C(C)(C)C OAIYSDSCHLMYFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Cl OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDKSGHXRHXVMPF-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylundecane Chemical compound CCCCCCCCCC(C)(C)C QDKSGHXRHXVMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane Chemical group CC(C)C(C)C ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFTHPAKWQBTOLK-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyloxane Chemical compound C=CC1CCCCO1 YFTHPAKWQBTOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNUKTDKISXPDPA-UHFFFAOYSA-N 2-oxopropyl Chemical group [CH2]C(C)=O HNUKTDKISXPDPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVDGUXXKDZEHEI-UHFFFAOYSA-N CC(CCCCCCCCCC=1NC=CN1)(C)C Chemical compound CC(CCCCCCCCCC=1NC=CN1)(C)C HVDGUXXKDZEHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQBSPSZMRYBLLZ-UHFFFAOYSA-N CC(CCCCCCCCCCl)(C)C Chemical compound CC(CCCCCCCCCCl)(C)C ZQBSPSZMRYBLLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SALIQNMMIWBERM-UHFFFAOYSA-N CC(CCCCCCCCCN(CCCCCCCCCC)CCCCCCCCCC(C)(C)C)(C)C.[Na] Chemical compound CC(CCCCCCCCCN(CCCCCCCCCC)CCCCCCCCCC(C)(C)C)(C)C.[Na] SALIQNMMIWBERM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXDSEUFSLFCQCM-UHFFFAOYSA-N N-(2,2-dimethylpropyl)-N-ethyldecan-1-amine Chemical compound CC(CN(CC)CCCCCCCCCC)(C)C WXDSEUFSLFCQCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMNWMAGZLQKXFS-UHFFFAOYSA-N N-tert-butyl-N-methyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(C)C(C)(C)C ZMNWMAGZLQKXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVNGSGZFPTYMCZ-UHFFFAOYSA-N [K].CC(CCCCCCCCCN(CCCCCCCCCC)CCCCCCCCCC(C)(C)C)(C)C Chemical compound [K].CC(CCCCCCCCCN(CCCCCCCCCC)CCCCCCCCCC(C)(C)C)(C)C PVNGSGZFPTYMCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006116 anti-fingerprint coating Substances 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 125000004431 deuterium atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical group [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002291 germanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004022 organic phosphonium compounds Chemical group 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- FYJQJMIEZVMYSD-UHFFFAOYSA-N perfluoro-2-butyltetrahydrofuran Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)OC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F FYJQJMIEZVMYSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- OWUGVJBQKGQQKJ-UHFFFAOYSA-M trimethylsulfanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[S+](C)C OWUGVJBQKGQQKJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LOJJTTDNNWYSGX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutoxy)butane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LOJJTTDNNWYSGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-methoxybutane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTEIWWXAPYLKDK-UHFFFAOYSA-N 1,1-diphenyldecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCC(c1ccccc1)(c1ccccc1)c1ccccc1 BTEIWWXAPYLKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical compound CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282575 Gorilla Species 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 1
- QCDFRRQWKKLIKV-UHFFFAOYSA-M chloroplatinum Chemical compound [Pt]Cl QCDFRRQWKKLIKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- UZILCZKGXMQEQR-UHFFFAOYSA-N decyl-Benzene Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 UZILCZKGXMQEQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N dibutyltin(2+);methanolate Chemical compound CCCC[Sn](OC)(OC)CCCC ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000000105 evaporative light scattering detection Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical class FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000002575 gastroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Chemical class 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940104873 methyl perfluorobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- FIOMXZXIOGRRRZ-UHFFFAOYSA-N n,n,2-trimethylpropan-2-amine;hydrochloride Chemical compound Cl.CN(C)C(C)(C)C FIOMXZXIOGRRRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004024 organic sulfonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- LGUZHRODIJCVOC-UHFFFAOYSA-N perfluoroheptane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LGUZHRODIJCVOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N perfluorooctane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- UREFKUKELTYZEO-UHFFFAOYSA-N ruthenium;triphenylphosphane Chemical compound [Ru].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UREFKUKELTYZEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003707 silyl modified polymer Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- WCZKTXKOKMXREO-UHFFFAOYSA-N triethylsulfanium Chemical compound CC[S+](CC)CC WCZKTXKOKMXREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIGQJZSUXKXNOV-UHFFFAOYSA-M triethylsulfanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[S+](CC)CC KIGQJZSUXKXNOV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[6-(trimethylazaniumyl)hexyl]azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)C GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GOTIICCWNAPLMN-UHFFFAOYSA-M trimethylsulfanium;bromide Chemical compound [Br-].C[S+](C)C GOTIICCWNAPLMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N trimethylsulfonium Chemical compound C[S+](C)C NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
- C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
- C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/337—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing other elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/46—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/10—Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences
- C08L83/12—Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D171/02—Polyalkylene oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1656—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the film-forming substance
- C09D5/1662—Synthetic film-forming substance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1656—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the film-forming substance
- C09D5/1662—Synthetic film-forming substance
- C09D5/1675—Polyorganosiloxane-containing compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G2650/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterized by the type of post-polymerisation functionalisation
- C08G2650/04—End-capping
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G2650/28—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type
- C08G2650/46—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen
- C08G2650/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen containing fluorine, e.g. perfluropolyethers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
Abstract
提供一種具有式(1)之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中Rf為含氟氧烷基或含氟氧伸烷基之聚合物殘基，Y為二價至六價烴基，R與R'為C1-C4烷基或苯基，X與X'為羥基或可水解的基團，n為1至3之整數，a為0至3之整數，m為1至5之整數，且α為1或2。一種包含該矽烷之表面處理劑具有貯存安定性，且固化成具有耐候性之拒水/油層。
□
Description
此非臨時申請案依照35 U.S.C.§119(a)主張於日本於2015年5月1日提出申請之專利申請案第2015-093830號之優先權，在此以引用方式併入該案完整內容。
本發明關於一種經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，及更特別地，關於一種經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其具有貯存安定性及形成具有耐候性之塗層，一種包含該經改質的矽烷之表面處理劑，及一種經該表面處理劑處理之物件。
最近，對於鑲嵌觸控面板在行動電話及其他顯示器上作為螢幕有增長中之需求。由於觸控面板具有保持為無遮蓋的螢幕，手指或臉頰有許多機會直接接觸螢
幕。不理想的是觸控面板易於被例如皮脂之污斑污染。為了較佳之外觀或可見度，對於在顯示器表面上達到防指紋性或容易去除污斑之技術有漸增之需求。因此需要具有能夠符合這些要求之材料。尤其，對於易於被指紋污染之觸控面板顯示器，理想的為在其表面上形成拒水/油層。先前技術中之拒水/油層具有高拒水/油性質且容易被擦除污斑，但遭遇到在使用期間防積垢性能降低之問題。
一般而言，含氟聚醚之化合物由於其之極低表面自由能，顯出拒水/油性質、耐化學性、潤滑性、脫膜性、防積垢性及其他性質。利用這些性質，其於多種工業領域中可被用作紙及紡織品之拒水/油防積垢劑、用於磁性記錄介質之潤滑劑、用於精密儀器之防油劑、脫膜劑、化妝品成份、保護性膜及類似物。相反地，該相同性質顯示對其他基質之非黏性或非附著性。即使其可被塗覆至基質表面，塗層很難緊密附著至基質表面。
另一方面，矽烷偶合劑之鍵結玻璃表面或織物基質至有機化合物之能力為眾所周知的。其被廣泛用作多種基質之表面塗覆劑。該矽烷偶合劑於分子中包含一有機官能基及一反應性矽基(通常為可水解的矽基，例如烷氧基矽基)。在有空氣承載的溼氣或類似物存在下，可水解的矽基進行自縮合反應以形成一塗層。由於可水解的矽基與玻璃或金屬之表面形成化學及物理鍵，該塗層變成具有耐久性之堅固的塗層。
專利文件1至5揭示主要含有經含氟聚醚之
聚合物改質的矽烷之組成物，其為經由將可水解的矽基導入含氟聚醚之化合物而獲得，該組成物為緊密附著至基質表面且能夠形成具有拒水/油性質、耐化學性、潤滑性、脫膜性，防積垢性及其他性質之塗層。
鏡片及抗反射塗層當被經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷處理後，有改進之潤滑性及脫膜性質，但缺乏耐磨性及耐候性。
專利文件1：JP-A 2008-534696(USP 8211544)
專利文件2：JP-A 2008-537557(USP 8664421)
專利文件3：JP-A 2012-072272(USP 8900711)
專利文件4：JP-A 2012-157856(US 2013303689)
專利文件5：JP-A 2013-136833(US 2013136928)
本案發明人於日本專利申請案第2014-250460號中建議一如下式之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其作為具有優異耐磨性之含氟聚醚之化合物。
此處RF為含單價氟氧烷基或含二價氟氧伸烷基之聚合物殘基，Y為可含有矽氧烷鍵或亞矽基之二價至六價烴
基，R獨立為C1-C4烷基或苯基，X獨立為可水解的基團，n為1至3之整數，m為1至5之整數，且α為1或2。包含經改質的矽烷及/或其之部分水解縮合物之表面處理劑形成具有優異拒水/油性質及耐磨性之塗層。該經改質的矽烷於低溫為可固化的，但由於高反應性有時缺乏貯存安定性。
本發明之一目標為提供一經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其具有貯存安定性，及固化成具有耐候性之拒水/油層；一包含該矽烷之表面處理劑；及一經該表面處理劑處理之物件。
本案發明人發現一經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其與上述之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷相似，但具有一經矽基保護之羥基，具有貯存安定性及形成顯出耐候性之拒水/油層。
於一方面，本發明提供一經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，具有通式(1)。
此處Rf為含單價氟氧烷基或含二價氟氧伸烷基之聚合物殘基，Y為可含有矽氧烷鍵或亞矽基之二價至六價烴基，R及R'各獨立為C1-C4烷基或苯基，X及X'各獨立為羥基或可水解的基團，n為1至3之整數，a為0至3之整數，m為1至5之整數，且α為1或2。
於一較佳之實施體系中，α為1，且Rf為具有通式(2)之基。
F-(CF2O)p-(C2F4O)q-(C3F6O)r-(C4F8O)s-(CtF2t)- (2)
此處p、q、r及s各獨立為0至200之整數，總和p+q+r+s為3至200，t為1至3之整數，各重複單元可為線形或分支的，且個別重複單元可無規地排置。
於另一較佳之實施體系中，α為2，且Rf為具有通式(3)之基。
-(CtF2t)-O-(CF2O)p-(C2F4O)q-(C3F6O)r-(C4F8O)s-(CtF2t)- (3)
此處p、q、r及s各獨立為0至200之整數，總和p+q+r+s為3至200，t為1至3之整數，各重複單元可為線形或分支的，且個別重複單元可無規地排置。
於一較佳之實施體系中，Y為選自C3-C10伸烷基，含伸苯基之C8-C16伸烷基，具有經由矽伸烷基或矽伸芳基結構鍵結之C2-C10伸烷基之二價基，及具有鍵結至二價至四價2至10個矽原子之線形有機聚矽氧烷殘基或3至10個矽原子之分支或環狀有機聚矽氧烷殘基之C2-C10伸烷基的二價至四價基。
於一較佳之實施體系中，X及X'各選自羥基、C1-C10烷氧基、C2-C10烷氧基烷氧基、C1-C10醯氧基、C2-C10烯氧基、及鹵素。
於一較佳之實施體系中，具有式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷為選自具有下式之化合物。
此處p1為5至100之整數，q1為5至100之整數，且總和p1+q1為10至105之整數。
於另一方面，本發明提供一表面處理劑，包含如上定義之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷。
此處亦設想一物件，其為經該表面處理劑處理之表面。
依照本發明之表面處理劑包含一經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，具有一以矽基封端之與碳鍵結之羥基，其在貯存期間保持安定，且形成顯出優異耐候性之拒水/油層。
單數形式"一"及"該"包括複數指示物，除非內文有其他清楚指示。符號(Cn-Cm)意指每基團含n至m個碳原子之基團。
本發明之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷具有通式(1)。
此處Rf為含單價氟氧烷基或含二價氟氧伸烷基之聚合物殘基，Y為二價至六價烴基，其可包含一矽氧烷鍵或亞矽基，R及R'各獨立為C1-C4烷基或苯基，X及X'各獨立為羥基或可水解的基團，n為1至3之整數，a為0至3之整數，m為1至5之整數，且α為1或2。
本發明之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷具有一結構，其中該含單價氟氧烷基或含二價氟氧伸烷基之聚合物殘基(Rf)為經由烴鏈(Y)鏈結至該可水解的矽基，例如烷氧基矽基或含羥基之矽基(-Si(R)3-n(X)n)。進一步，於聚合物中與碳鍵結之羥基經矽基(-Si(R')3-a(X')a)保護。此結構確保該經聚合物改質的矽烷具有貯存安定性，且形成具有優異耐候性之拒水/油層，且不負面地影響拒水/油層之耐磨性。
於一較佳之實施體系中，其中α為1，Rf為具
有通式(2)之單價氟氧烷基：F-(CF2O)p-(C2F4O)q-(C3F6O)r-(C4F8O)s-(CtF2t)- (2)
其中p、q、r及s各獨立為0至200之整數，總和p+q+r+s為3至200，t為1至3之整數，各重複單元可為線形或分支的，且個別重複單元可無規地排置。
於另一較佳之實施體系中，其中α為2，Rf為具有通式(3)之二價氟氧伸烷基：-(CtF2t)-O-(CF2O)p-(C2F4O)q-(C3F6O)r-(C4F8O)s-(CtF2t)- (3)
其中p、q、r及s各獨立為0至200之整數，總和p+q+r+s為3至200，t為1至3之整數，各重複單元可為線形或分支的，且個別重複單元可無規地排置。
於式(2)及(3)中，p、q、r及s各獨立為0至200之整數，較佳p為5至100之整數，q為5至100之整數，r為0至100之整數，及s為0至100之整數。總和p+q+r+s為3至200，較佳10至100。各重複單元可為線形或分支的，且個別重複單元可無規地排置。更佳p+q為10至105之整數，甚至更佳15至60，且r=s=0。若p+q+r+s為低於或等於該上限，附著性及固化為令人滿意的。若p+q+r+s為大於或等於該下限，該氟聚醚基完全發揮其之特徵。該下標t為1至3之整數，較佳1或2，且CtF2t可為線形或分支。
RF之實例為如下所示。
F(CF2O)p'CF2-
F(CF2O)p'(CF2CF2O)q'CF2-
F(CF2O)p'(CF2CF2O)q'(CF2CF2CF2O)r'CF2-
F(CF2O)p'(CF2CF2O)q'(CF2CF2CF2CF2O)s'CF2-
F(CF2O)p'(CF2CF2O)q'(CF2CF2CF2O)r'(CF2CF2CF2CF2O)s'CF2-
F(CF2CF2O)q'CF2-
F(CF2CF2CF2O)r'CF2CF2-
-CF2O(CF2O)p'CF2-
-CF2O(CF2O)p'(CF2CF2O)q'CF2-
-CF2O(CF2O)p'(CF2CF2O)q'(CF2CF2CF2O)r'CF2-
-CF2O(CF2O)p'(CF2CF2O)q'(CF2CF2CF2CF2O)s'CF2-
-CF2O(CF2O)p'(CF2CF2O)q'(CF2CF2CF2O)r'(CF2CF2CF2CF2O)s'CF2-
-CF2CF2O(CF2CF2CF2O)r'CF2CF2-
此處p'、q'、r'及s'各為至少1之整數且其之上限為與p、q、r及s中所定義者相同。各u及v為1至24之數目，符合u+v=r，且個別重複單元可無規地排置。
於式(1)中，Y為烴基，其為二至六價，較
佳二至四價，及最佳二價，且其可包含一矽氧烷鍵或亞矽基。由於由分子除去具有低鍵能之鏈接物(通常為醚鍵)，具有改進之耐候性及耐磨性之塗層可被形成。
具體而言，Y為選自下列者：C3-C10伸烷基，例如伸丙基(三亞甲基或甲基伸乙基)、伸丁基(四亞甲基或甲基伸丙基)、及六亞甲基；含C6-C8伸芳基(通常為伸苯基)之伸烷基，例如C8-C16伸烷基-伸芳基；具有經由矽伸烷基或矽伸芳基結構鍵結之C2-C10伸烷基之二價基；及二至六價基，其具有伸烷基鍵結至2至10個矽原子，較佳2至5個矽原子之二至六價線形、分支或環狀有機聚矽氧烷殘基之價鍵。較佳Y為C3-C10伸烷基，含伸苯基之C8-C16伸烷基，具有經由矽伸烷基或矽伸芳基結構鍵結之C2-C10伸烷基之二價基，或其具有C2-C10伸烷基鍵結至2至10個矽原子之二至四價線形有機聚矽氧烷殘基或3至10個矽原子之分支或環狀有機聚矽氧烷殘基之價鍵的二至四價基，及更佳為C3-C6伸烷基。
該矽伸烷基或矽伸芳基結構由以下結構例示。
此處R1可為相同或不同且為C1-C4烷基，例如甲基、乙基、丙基或丁基，或C6-C10芳基，例如苯基。R2為C1-C4伸烷基，例如伸甲基、伸乙基、或伸丙基(三亞甲基或甲基伸乙基)，或C6-C10伸芳基，例如伸苯基。
該2至10個矽原子，較佳2至5個矽原子，之二至六價線形、分支或環狀有機聚矽氧烷殘基之實例為如下所示。
此處R1為如上所定義，g為1至9之整數，較佳1至4，h為2至6之整數，較佳2至4，j為0至8之整數，較佳0或1，總和h+j為3至10之整數，較佳3至5，且k為1至3之整數，較佳2或3。
Y之實例為如下所示。
-CH2CH2CH2-
-CH2CH2CH2CH2-
-CH2CH2CH2CH2CH2-
-CH2CH2CH2CH2CH2CH2-
於式(1)中，X各獨立為羥基或可水解的基團。X之實例包括羥基，C1-C10烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基及丁氧基，C2-C10烷氧基烷氧
基，例如甲氧基甲氧基及甲氧基乙氧基，C1-C10醯氧基，例如乙醯氧基，C2-C10烯氧基，例如異丙烯氧基，及鹵基，例如氯基、溴基及碘基。尤其較佳為甲氧基、乙氧基、異丙烯氧基及氯基。
於式(1)中，R為C1-C4烷基，例如甲基、乙基、丙基或丁基，或苯基，而甲基為較佳者。該下標n為1至3之整數，較佳2或3。由反應性及至基質的附著性之觀點，最佳為n為3者。該下標m為1至5之整數。若m為低於1，至基質之附著性為不良。若m為多於5，過度高之終端烷氧基數目負面地影響該所需之性能。較佳m為1、2或3，且最佳為1。
於式(1)中，X'各獨立為羥基或可水解的基團。X'之實例包括羥基，C1-C10烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基及丁氧基，C2-C10烷氧基烷氧基，例如甲氧基甲氧基及甲氧基乙氧基，C1-C10醯氧基，例如乙醯氧基，C2-C10烯氧基，例如異丙烯氧基，及鹵基，例如氯基、溴基及碘基。尤其，甲氧基、乙氧基、異丙烯氧基及氯基為較佳者。
於式(1)中，R'為C1-C4烷基，例如甲基、乙基、丙基或丁基，或苯基，甲基及乙基為較佳者。該下標a為0至3之整數，較佳為0或1。由貯存安定性之觀點，最佳為a為0。
式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷之實例為如下所示。於各式中，氟氧烷基或氟氧伸烷基形
式之重複單元中之重複數目亦稱為聚合度，可為符合代表Rf之式(2)或(3)之任意數目。
此處p1為5至100之整數，q1為5至100之整數，且總和p1+q1為10至105之整數。
式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=1可例如由以下方法製備。於一示範性方法中，於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之含氟氧烷基之聚合物，被溶解於溶劑中，通常為氟化學溶劑，例如1,3-雙(三氟甲基)苯。於分子中具有SiH基及可水解的終端基團之有機矽化合物，例如三甲氧基矽烷，及氫矽烷化觸媒，例如氯基鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物之甲苯溶液，被加入該溶液中。該反應混合物於40至120℃，較佳60至100℃，及更佳約80℃之溫度被陳化1至72小時，較佳20至36小時，及更佳約24小時。
另一方法可被使用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=1。一於分子鏈之一終
端具有兩個烯烴部位之含氟氧烷基之聚合物被溶解於溶劑中，通常為氟化學溶劑，例如1,3-雙(三氟甲基)苯。於分子中具有SiH基及可水解的終端基團之有機矽化合物，例如三氯矽烷，及氫矽烷化觸媒，例如氯基鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物之甲苯溶液，被加入該溶液中。該反應混合物於40至120℃，較佳60至100℃，及更佳約80℃之溫度被陳化1至72小時，較佳20至36小時，及更佳約24小時。最終，該矽基上之取代基被轉變為例如甲氧基。
用以代替於分子中具有SiH基及可水解的終端基團之該有機矽化合物，亦可使用不具有可水解的終端基團之含SiH之有機矽化合物。於此情形中，使用具有至少兩個SiH基(但非可水解的終端基團)之有機矽化合物。如同該上述方法，一旦該具有至少兩個SiH基(但非可水解的終端基團)之有機矽化合物與於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之含氟氧烷基之聚合物反應，具有終端SiH基之該所得聚合物產物與於分子中具有一烯烴部位及一可水解的終端基團之有機矽化合物(例如烯丙基三甲氧基矽烷)之混合物，在有氫矽烷化觸媒(例如氯基鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物之甲苯溶液)之存在下，於40至120℃，較佳60至100℃，及更佳約80℃之溫度被陳化1至72小時，較佳20至36小時，及更佳約24小時。
該於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之含氟氧烷基之聚合物，通常為通式(4)之含氟氧烷基之聚合物。
此處Rf、R'、X'及a為如上所定義。Z為二價烴基。
於式(4)中，Z為二價烴基，具有1至8個碳原子，較佳1至4個碳原子。適宜之實例包括C1-C8伸烷基，例如伸甲基、伸乙基、伸丙基(三亞甲基或甲基伸乙基)、伸丁基(四亞甲基或甲基伸丙基)、六亞甲基及八亞甲基，及含C6-C8伸芳基，通常為伸苯基，之伸烷基，例如C7-C8伸烷基-伸芳基。較佳Z為C1-C4線形伸烷基。
式(4)之該含氟氧烷基之聚合物之較佳實例為如下所示。於各式中，該氟氧烷基形式之重複單元之重複數目，亦稱為聚合度，可為符合代表Rf之式(2)之任意數目。
此處r1為1至100之整數，p1、q1及p1+q1為如上所定義。
式(4)之該含氟氧烷基之聚合物可被以例如以下方法製備。於分子鏈之一終端具有一羥基之含氟氧烷基之聚合物與一矽烷化劑及選擇性地一溶劑混合，及在有鹼存在下於0至80℃，較佳40至60℃，及更佳約50℃之溫度中陳化1至24小時，較佳2至10小時，及更佳約3小時。
另一方法可被使用於製備式(4)之該含氟氧烷基之聚合物。於分子鏈之一終端具有一羥基之含氟氧烷基之聚合物與氫矽烷及溶劑在有脫氫觸媒存在下，於0至
60℃，較佳15至35℃，及更佳約25℃中混合10分鐘至24小時，較佳30分鐘至2小時，及更佳約1小時，以供用於脫氫反應。
用於製備式(4)之該含氟氧烷基之聚合物之於分子鏈之一終端具有一羥基之含氟氧烷基之聚合物，其實例示於以下。
此處r1、p1、q1、及p1+q1為如上所定義。
該於分子鏈之一終端具有一羥基之含氟氧烷基之聚合物可例如由以下方法製備。於分子鏈之一終端具有氟化醯基(-C(=O)-F)之含全氟氧烷基之聚合物與作為親核性試劑之格任亞(Grignard)試劑及溶劑，例如
1,3-雙(三氟甲基)苯或四氫呋喃，混合，及於0至80℃，較佳50至70℃，及更佳約60℃之溫度陳化1至6小時，較佳3至5小時，及更佳約4小時。
除了該氟化醯基，該含全氟氧烷基之聚合物可於該分子鏈之一終端具有另一基團，例如鹵化醯基、酸酐、酯、羧酸或醯胺。於分子鏈之一終端具有此種基團之該含全氟氧烷基之聚合物之實例為如下所示。
此處p1、q1、及p1+q1為如上所定義。
用於製備該於分子鏈之一終端具有一羥基之含氟氧烷基之聚合物之該親核性試劑，可選自例如烯丙基鎂鹵化物、3-丁烯基鎂鹵化物、4-戊烯基鎂鹵化物、及5-己烯基鎂鹵化物。亦可使用相對應之鋰試劑。相對於該含全氟氧烷基之聚合物，該親核性試劑可被以對每當量該聚合物之反應性終端基團為2至5當量，較佳2.5至3.5當
量，及更佳約3當量之量使用。
作為溶劑，以用於製備於分子鏈之一終端具有一羥基之該含氟氧烷基之聚合物，適宜之氟化學溶劑包括1,3-雙(三氟甲基)苯、三氟甲基苯、氫氟醚(HFE)溶劑(由3M所製之市售產品Novec®)，例如甲基九氟丁基醚、甲基九氟異丁基醚、乙基九氟丁基醚、乙基九氟異丁基醚及1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-2-(三氟甲基)戊烷，及由經全氟化化合物(由3M所製之市售產品Fluorinert®)組成之全氟溶劑。有機溶劑亦為可用的，例如，醚溶劑，例如四氫呋喃、單乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、三乙二醇二甲醚、四乙二醇二甲醚、及二烷。該溶劑可被以對每100重量份數之該含全氟氧烷基之聚合物為10至300份數，較佳100至200份數，及更佳約150重量份數之量使用。
隨後終止反應。該反應溶液經由分離用之操作被分成一水層及一氟化學溶劑層。該氟化學溶劑層於溶劑被蒸餾出之前被以有機溶劑洗，產生於分子鏈之一終端具有一羥基之含氟氧烷基之聚合物。
用於製備式(4)之該含氟氧烷基之聚合物之典型矽烷化劑為矽基鹵化物及矽基三氟甲磺酸酯，包括三甲基矽基氯化物、三乙基矽基氯化物、第三丁基二甲基矽基氯化物、三異丙基矽基氯化物、三苯基矽基氯化物、三甲基矽基溴化物、三甲基矽基三氟甲磺酸酯、三乙基矽基三氟甲磺酸酯、第三丁基二甲基矽基三氟甲磺酸酯、及三
異丙基矽基三氟甲磺酸酯。當不使用鹼時，可使用六甲基二矽氮烷、三甲基矽基二甲基胺、三甲基矽基二乙基胺或三甲基矽基咪唑。該矽烷化劑可被以對具有羥基之該含氟氧烷基之聚合物之每當量反應性終端基團，為1至10當量，較佳1至4當量，及更佳約2當量之量使用。
用於製備式(4)之含氟氧烷基之聚合物之該鹼之實例為胺及鹼金屬鹼。適宜之胺包括三乙基胺、二異丙基乙基胺、吡啶、DBU、及咪唑。適宜之鹼金屬鹼包括氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫化鈉、氫化鉀、烷基鋰、第三丁氧化鉀、二異丙基醯胺鋰、雙(三甲基矽基)醯胺鋰、雙(三甲基矽基)醯胺鈉、及雙(三甲基矽基)醯胺鉀。該鹼可被以對每當量具有羥基之該含氟氧烷基之聚合物之反應性終端基團，為1至10當量，較佳1至4當量，及更佳約2當量之量使用。
作為用於製備該含氟氧烷基之聚合物(4)之溶劑，適宜之氟化學溶劑包括經氟化芳族烴溶劑，例如1,3-雙(三氟甲基)苯及三氟甲基苯，氫氟醚(HFE)溶劑(由3M所製之市售產品Novec®)，例如甲基九氟丁基醚、甲基九氟異丁基醚、乙基九氟丁基醚、乙基九氟異丁基醚及1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-2-(三氟甲基)戊烷，及由經全氟化化合物(由3M所製之市售產品Fluorinert®)組成之全氟溶劑。有機溶劑亦為可用的，例如醚溶劑，例如四氫呋喃、單乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、三乙二醇二甲醚、四乙二醇二甲醚及二烷。該溶
劑可被以對每100重量份數之具有羥基之該含氟氧烷基之聚合物為10至300份數，較佳50至150份數，及更佳約100重量份數之量使用。
用於製備該式(4)之含氟氧烷基之聚合物之氫矽烷可選自三甲基矽烷、三乙基矽烷、第三丁基二甲基矽烷、三異丙基矽烷、及三苯基矽烷。該氫矽烷較佳被以對每當量具有羥基之該含氟氧烷基之聚合物之反應性終端基團，為1至5當量，更佳1.5至3當量，及甚至更佳約2當量之量使用。
用於製備該式(4)之含氟氧烷基之聚合物之脫氫觸媒之實例為以鉑基團金屬為主之觸媒，例如銠、鈀及釕觸媒，及硼觸媒。適宜之以鉑基團金屬為主之觸媒包括四(三苯基膦)鈀及氯基三(三苯基膦)銠，及適宜之硼觸媒包括三(五氟苯基)硼烷。該脫氫觸媒較佳被以對每當量具有羥基之該含氟氧烷基之聚合物之反應性終端基團，為0.01至0.0005當量，更佳0.007至0.001當量，及甚至更佳約0.005當量之量使用。
隨後終止反應。該反應溶液經由分離用之操作被分成一水層及一氟化學溶劑層。該氟化學溶劑層於該溶劑被蒸餾出之前以有機溶劑洗，產生式(4)之含氟氧烷基之聚合物。
如前述，該用於製備具有式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=1，之方法中使用一溶劑。作為該溶劑，較佳為氟化學溶劑，及包括1,3-雙(三
氟甲基)苯及三氟甲基苯，氫氟醚(HFE)溶劑(由3M所製之市售產品Novec®)，例如甲基九氟丁基醚、甲基九氟異丁基醚、乙基九氟丁基醚、乙基九氟異丁基醚及1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-2-(三氟甲基)戊烷，及由經全氟化化合物(由3M所製之市售產品Fluorinert®)組成之全氟溶劑。該溶劑可被以對每100重量份數之於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之該含氟氧烷基之聚合物，為10至300份數，較佳50至150份數，及更佳約100重量份數之量使用。
於式(1)之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=1，之製備中所使用之於分子中具有一SiH基及一可水解的終端基團之有機矽化合物，較佳為選自具有通式(5)至(8)之化合物。
此處R、X、n、R1、R2、g及j為如上所定義，R3為C2-C8二價烴基，i為2至9，較佳2至4之整數，且總和i+j為2至9之整數。
R3為C2-C8，較佳C2-C3二價烴基，其之實例包括伸烷基，例如伸甲基、伸乙基、伸丙基(三亞甲基或甲基伸乙基)、伸丁基(四亞甲基或甲基伸丙基)、六亞甲基及八亞甲基，伸芳基，例如伸苯基，及以上中兩個或更多者之組合，例如伸烷基-伸芳基。尤其，伸乙基及三亞甲基為較佳者。
該於分子中具有一SiH基及一可水解的終端基團之有機矽化合物之實例包括三甲氧基矽烷、三乙氧基矽烷、三丙氧基矽烷、三異丙氧基矽烷、三丁氧基矽烷、三異丙烯氧基矽烷、三乙醯氧基矽烷、三氯矽烷、三溴基矽烷、及三碘基矽烷，以及下式之有機矽化合物。
於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之該含
氟氧烷基之聚合物，與該於分子中具有一SiH基及一可水解的終端基團之有機矽化合物之反應，以用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=1，該有機矽化合物可被以對每當量該聚合物之反應性終端基團為2至6當量，較佳2.2至3.5當量，及更佳約3當量之量使用。
用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=1，之該於分子中具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之有機矽化合物，較佳為選自具有通式(9)至(11)之化合物。
此處R1、R2、g、j及i為如上所定義。
該於分子中具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之有機矽化合物之實例為如下所示。
於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之該含氟氧烷基之聚合物，與該於分子中具有少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之有機矽化合物之反應，以用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=1，該有機矽化合物可被以對每當量該聚合物之反應性終端基團為5至20當量，較佳7.5至12.5當量，及更佳
約10當量之量使用。
於分子中具有一烯烴部位及一可水解的終端基團之該有機矽化合物，其被用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=1，較佳為選自具有通式(12)之化合物。
此處R、X及n為如上所定義。V為1至6個碳原子之一單鍵或二價烴基。
於式(12)中，V為一單鍵或C1-C6二價烴基。該C1-C6二價烴基之實例包括伸烷基，例如伸甲基、伸乙基、伸丙基(三亞甲基或甲基伸乙基)、伸丁基(四亞甲基或甲基伸丙基)及六亞甲基，及伸苯基。較佳V為一單鍵或伸甲基。
於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之該含氟氧烷基之聚合物、與於分子中具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之該有機矽化合物之間之反應產物，與於分子中具有一烯烴部位及一可水解的終端基團之該有機矽化合物之反應，以用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=1，該後者有機矽化合物可被以對每當量該含氟氧烷基之聚合物與該前者有機矽化合物之反應產物之反應性終端基團，為2至6當量，較佳2.2至3.5當量，及更佳約3當量之量使用。
用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改
質的矽烷，其中α=1，之典型氫矽烷化觸媒為以鉑基團金屬為主之觸媒，包括鉑黑，氯基鉑酸，經醇改質的氯基鉑酸，氯基鉑酸與烯烴、醛、乙烯基矽氧烷、及乙炔醇之錯合物，四(三苯基膦)鈀，及氯基三(三苯基膦)銠。尤其，鉑化合物，例如乙烯基矽氧烷配位化合物，為較佳者。該氫矽烷化觸媒較佳被以一量使用以提供0.1至100ppm，更佳1至50ppm之過渡金屬，此係基於該於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之該含氟氧烷基之聚合物之重量、或基於該聚合物與該具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之有機矽化合物之間的反應產物之重量。
重新提及該方法，該溶劑及未反應之反應物被由該陳化反應溶液於真空中蒸餾出，產生該目標化合物。例如，當該於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之含氟氧烷基之聚合物為該式：
且該於分子中具有一SiH基及一可水解的終端基團之有機矽化合物為三甲氧基矽烷，獲得下式之化合物。
接著，式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=2，可例如由以下方法製備。於一示範性方法中，於分子鏈之各終端具有兩個烯烴部位之含氟氧伸烷基之聚合物被溶解於一溶劑中，通常為氟化學溶劑，例如1,3-雙(三氟甲基)苯。於分子中具有一SiH基及一可水解的終端基團之有機矽化合物，例如三甲氧基矽烷，及氫矽烷化觸媒，例如氯基鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物之甲苯溶液，被加入該溶液中。該反應混合物被於40至120℃，較佳60至100℃，及更佳約80℃之溫度陳化1至72小時，較佳20至36小時，及更佳約24小時。
代替於分子中具有SiH基及可水解的終端基團之該有機矽化合物，亦可使用不具有可水解的終端基團之含SiH之有機矽化合物。於此情形中，具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之有機矽化合物被使用。一旦該有機矽化合物具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，與於分子鏈之各終端具有兩個烯烴部位之含氟氧伸烷基之聚合物反應，如同該上述方法，具有終端SiH基之該所得聚合物產物與於分子中具有一烯烴部位及一可水解的終端基團之有機矽化合物，例如烯丙基三甲氧基矽烷，之混合物，在有氫矽烷化觸媒，例如氯基鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物之甲苯溶液，存在下於40至120℃，較佳60至100℃，及更佳約80℃之溫度被陳化1至72小時，較佳20至36小時，及更佳約24小時。
於分子鏈之各終端具有兩個烯烴部位之該含
氟氧伸烷基之聚合物通常為通式(13)之含氧伸烷基之聚合物：
此處Rf、Z、R'、X'及a為如上所定義。
較佳之式(13)之該含氟氧伸烷基之聚合物之實例為如下所示。於各式中，該氟氧伸烷基形式之重複單元之重複數目亦稱為聚合度，可為符合代表Rf之式(3)之任意數目。
此處p1、q1及p1+q1為如上所定義。
式(13)之該含氟氧伸烷基之聚合物可例如由以下方法製備。於分子鏈之各終端具有羥基之含氟氧伸
烷基之聚合物與一矽烷化劑及選擇性地一溶劑混合，及在有鹼存在下於0至80℃，較佳40至60℃，及更佳約50℃之溫度陳化1至24小時，較佳2至10小時，及更佳約3小時。
另一方法可被使用以製備式(13)之該含氟氧伸烷基之聚合物。於分子鏈之各終端具有羥基之含氟氧伸烷基之聚合物、與氫矽烷及溶劑在有脫氫觸媒存在下，於0至60℃，較佳15至35℃，及更佳約25℃混合10分鐘至24小時，較佳30分鐘至2小時，及更佳約1小時，以供用於脫氫反應。
於分子鏈之各終端具有羥基之該含氟氧伸烷基之聚合物，其用於製備式(13)之該含氟氧伸烷基之聚合物，之實例示於以下。
此處p1、q1、及p1+q1為如上所定義。
於分子鏈之各終端具有羥基之該含氟氧伸烷
基之聚合物，可例如由以下方法製備。於分子鏈之各終端具有氟化醯基(-C(=O)-F)之含全氟氧伸烷基之聚合物，與作為親核性試劑之格任亞試劑及溶劑，例如1,3-雙(三氟甲基)苯或四氫呋喃，混合，及於0至80℃，較佳50至70℃，及更佳約60℃之溫度陳化1至6小時，較佳3至5小時，及更佳約4小時。
除了該氟化醯基，該含全氟氧伸烷基之聚合物可於分子鏈之各終端具有另一基團，例如酸鹵化物、酸酐、酯、羧酸或醯胺。於分子鏈之各終端具有此種基團之該含全氟氧伸烷基之聚合物之實例為如下所示。
此處p1、q1、及p1+q1為如上所定義。
用於製備於分子鏈之各終端具有羥基之該含氟氧伸烷基之聚合物之親核性試劑，可選自例如烯丙基鎂
鹵化物、3-丁烯基鎂鹵化物、4-戊烯基鎂鹵化物、及5-己烯基鎂鹵化物。相對應之鋰試劑亦可使用。該親核性試劑可被以對每當量該含全氟氧伸烷基之聚合物之反應性終端基團為4至10當量，較佳5至7當量，及更佳約6當量之量使用。
作為溶劑，以用於製備於分子鏈之各終端具有羥基之該含氟氧伸烷基之聚合物，適宜之氟化學溶劑包括1,3-雙(三氟甲基)苯，三氟甲基苯，氫氟醚(HFE)溶劑(由3M所製之市售產品Novec®)，例如甲基九氟丁基醚，甲基九氟異丁基醚，乙基九氟丁基醚，乙基九氟異丁基醚及1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-2-(三氟甲基)戊烷，及由經全氟化化合物組成之全氟溶劑(由3M所製之市售產品Fluorinert®)。有機溶劑亦為可用的，例如醚溶劑，例如四氫呋喃、單乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、三乙二醇二甲醚、四乙二醇二甲醚、及二烷。該溶劑可被以對每100重量份數之該含全氟氧伸烷基之聚合物為10至300份數，較佳100至200份數，及更佳約150重量份數之量使用。
隨後終止反應。該反應溶液經由分離用之操作被分成一水層及一氟化學溶劑層。該氟化學溶劑層於該溶劑被蒸餾出之前以有機溶劑洗，產生於分子鏈之各終端具有羥基之含氟氧伸烷基之聚合物。
用於製備式(13)之該含氟氧伸烷基之聚合物之典型矽烷化劑為矽基鹵化物及矽基三氟甲磺酸酯，包
括三甲基矽基氯化物、三乙基矽基氯化物、第三丁基二甲基矽基氯化物、三異丙基矽基氯化物、三苯基矽基氯化物、三甲基矽基溴化物、三甲基矽基三氟甲磺酸、三乙基矽基三氟甲磺酸酯、第三丁基二甲基矽基三氟甲磺酸酯、及三異丙基矽基三氟甲磺酸酯。當不使用鹼時，可使用六甲基二矽氮烷、三甲基矽基二甲基胺、三甲基矽基二乙基胺或三甲基矽基咪唑。該矽烷化劑可被以對具有羥基之該含氟氧伸烷基之聚合物之每當量反應性終端基團，為1至10當量，較佳1至4當量，及更佳約2當量之量使用。
用於製備式(13)之該含氟氧伸烷基之聚合物之該鹼之實例為胺及鹼金屬鹼。適宜之胺包括三乙基胺、二異丙基乙基胺、吡啶、DBU、及咪唑。適宜之鹼金屬鹼包括氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫化鈉、氫化鉀、烷基鋰、第三丁氧化鉀、二異丙基醯胺鋰、雙(三甲基矽基)醯胺鋰、雙(三甲基矽基)醯胺鈉、及雙(三甲基矽基)醯胺鉀。該鹼可被以對每當量具有羥基之該含氟氧伸烷基之聚合物之反應性終端基團為1至10當量，較佳1至4當量，及更佳約2當量之量使用。
作為用於製備該含氟氧伸烷基之聚合物(13)之溶劑，適宜之氟化學溶劑包括經氟化芳族烴溶劑，例如1,3-雙(三氟甲基)苯及三氟甲基苯，氫氟醚(HFE)溶劑(由3M所製之市售產品Novec®)，例如甲基九氟丁基醚、甲基九氟異丁基醚、乙基九氟丁基醚、乙基九氟異丁基醚及1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-2-
(三氟甲基)戊烷，及由經全氟化化合物(由3M所製之市售產品Fluorinert®)組成之全氟溶劑。有機溶劑亦為可用的，例如醚溶劑，例如四氫呋喃、單乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、三乙二醇二甲醚、四乙二醇二甲醚及二烷。該溶劑可被以對每100重量份數之具有羥基之該含氟氧伸烷基之聚合物為10至300份數，較佳50至150份數，及更佳約100重量份數之量使用。
用於製備該式(13)之含氟氧伸烷基之聚合物之氫矽烷可選自三甲基矽烷，三乙基矽烷，第三丁基二甲基矽烷，三異丙基矽烷，及三苯基矽烷。該氫矽烷較佳被以對每當量具有羥基之該含氟氧伸烷基之聚合物之反應性終端基團為1至5當量，更佳1.5至3當量，及甚至更佳約2當量之量使用。
用於製備式(13)之該含氟氧伸烷基之聚合物之脫氫觸媒之實例為以鉑基團金屬為主之觸媒，例如銠、鈀及釕觸媒，及硼觸媒。適宜之以鉑基團金屬為主之觸媒包括四(三苯基膦)鈀及氯基三(三苯基膦)銠，及適宜之硼觸媒包括三(五氟苯基)硼烷。該脫氫觸媒較佳被以對每當量具有羥基之該含氟氧伸烷基之聚合物之反應性終端基團為0.01至0.0005當量，更佳0.007至0.001當量，及甚至更佳約0.005當量之量使用。
隨後終止反應。該反應溶液經由分離用之操作被分成一水層及一氟化學溶劑層。該氟化學溶劑層於該溶劑被蒸餾出之前以有機溶劑洗，產生式(13)之含氟氧
伸烷基之聚合物。
如前述，該用於製備具有式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=2，之方法中使用一溶劑。作為該溶劑，較佳為氟化學溶劑，及包括1,3-雙(三氟甲基)苯及三氟甲基苯，氫氟醚(HFE)溶劑(由3M所製之市售產品Novec®)，例如甲基九氟丁基醚、甲基九氟異丁基醚、乙基九氟丁基醚、乙基九氟異丁基醚及1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-2-(三氟甲基)戊烷，及由經全氟化化合物(由3M所製之市售產品Fluorinert®)組成之全氟溶劑。該溶劑可被以對每100重量份數之於分子鏈之每一終端具有兩個烯烴部位之該含氟氧伸烷基之聚合物為10至300份數，較佳50至150份數，及更佳約100重量份數之量使用。
於式(1)之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=2，之製備中所使用之於分子中具有一SiH基及一可水解的終端基團之有機矽化合物，較佳為選自具有通式(5)至(8)之化合物。
此處R、X、n、R1、R2、R3、g、i及j為如上所定義。
該於分子中具有一SiH基及一可水解的終端基團之有機矽化合物之實例包括三甲氧基矽烷、三乙氧基矽烷、三丙氧基矽烷、三異丙氧基矽烷、三丁氧基矽烷、三異丙烯氧基矽烷、三乙醯氧基矽烷、三氯矽烷、三溴基矽烷、及三碘基矽烷，以及下式之有機矽化合物。
於分子鏈之每一終端具有兩個烯烴部位之該含氟氧伸烷基之聚合物，與該於分子中具有一SiH基及一可水解的終端基團之有機矽化合物之反應，以用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=2，該有機矽化合物可被以對每當量該聚合物之反應性終端基團為2至6當量，較佳2.2至3.5當量，及更佳約3當量之量使用。
用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=2，之該於分子中具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之有機矽化合物，較佳為選自具有通式(9)至(11)之化合物。
此處R1、R2、g、j及i為如上所定義。
該於分子中具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之有機矽化合物之實例為如下所示。
於分子鏈之每一終端具有兩個烯烴部位之該含氟氧伸烷基之聚合物，與該於分子中具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之有機矽化合物之反應，以用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=2，該有機矽化合物可被以對每當量該聚合物之反應性終端基團為5至20當量，較佳7.5至12.5當量，及
更佳約10當量之量使用。
於分子中具有一烯烴部位及一可水解的終端基團之該有機矽化合物，其被用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=2，較佳為選自具有通式(12)之化合物。
此處R、X、V及n為如上所定義。
於分子鏈之每一終端具有兩個烯烴部位之該含氟氧伸烷基之聚合物、與於分子中具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之該有機矽化合物之間之反應產物，與於分子中具有一烯烴部位及一可水解的終端基團之該有機矽化合物之反應，以用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=2，該後者有機矽化合物可被以對每當量該含氟氧伸烷基之聚合物與該前者有機矽化合物之反應產物之反應性終端基團為2至6當量，較佳2.2至3.5當量，及更佳約3當量之量使用。
用於製備式(1)之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其中α=2，之典型氫矽烷化觸媒為以鉑基團金屬為主之觸媒，包括鉑黑，氯基鉑酸，經醇改質的氯基鉑酸，氯基鉑酸與烯烴、醛、乙烯基矽氧烷、及乙炔醇之錯合物，四(三苯基膦)鈀，及氯基三(三苯基膦)銠。尤其，鉑化合物，例如乙烯基矽氧烷配位化合物，為較佳者。該氫矽烷化觸媒較佳被以一量使用以提供0.1至100
ppm，更佳1至50ppm之過渡金屬，此係基於該於分子鏈之一終端具有兩個烯烴部位之該含氟伸氧烷基之聚合物之重量、或基於該聚合物與該具有至少兩個SiH基，但非可水解的終端基團，之有機矽化合物之間的反應產物之重量。
重新提及該方法，該溶劑及未反應之反應物被由該陳化反應溶液於真空中蒸餾出，產生該目標化合物。例如，當該於分子鏈之每一終端具有兩個烯烴部位之含氟氧伸烷基之聚合物為該式：
且該於分子中具有一SiH基及一可水解的終端基團之有機矽化合物為三甲氧基矽烷，獲得下式之化合物。
本發明之另一實施體系為一表面處理劑，包含如上定義之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷。該表面處理劑亦可包含部分水解形式，其經由先使該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷以眾所周知的方式受到部分水解，再將可水解的終端基團(亦即，於式(1)中之X及X')部
分轉變成羥基而獲得。
若需要可將水解縮合觸媒加入該表面處理劑。適宜之水解縮合觸媒包括有機錫化合物，例如二丁基錫二甲醇鹽及二丁基錫二月桂酸鹽，有機鈦化合物，例如四-正丁基鈦酸，有機酸，例如乙機、甲磺酸、及經氟改質的羧酸，及無機酸，例如鹽酸及硫酸。乙酸、四-正丁基鈦酸、二丁基錫二月桂酸鹽、及經氟改質的羧酸為較佳的。該觸媒可被以催化劑量加入，通常為對每100重量份數之該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，為0.01至5重量份數，更佳0.1至1份數。
該表面處理劑可進一步包含一溶劑。適宜之溶劑包括經氟改質的脂族烴溶劑，例如全氟庚烷及全氟辛烷；經氟改質的芳族烴溶劑，例如1,3-雙(三氟甲基)苯；經氟改質的醚溶劑，例如甲基全氟丁基醚、乙基全氟丁基醚、及全氟(2-丁基四氫呋喃)；經氟改質的烷基胺溶劑，例如全氟三丁基胺及全氟三戊基胺；烴溶劑，例如石油本精、甲苯及二甲苯；酮溶劑，例如丙酮、甲基乙基酮、及甲基異丁基酮。於這些中，關於溶解性及濕潤性，理想的為經氟改質的溶劑，而1,3-雙(三氟甲基)苯、全氟(2-丁基四氫呋喃)、全氟三丁基胺、及乙基全氟丁基醚為更理想的。
溶劑可被單獨使用或與兩個或更多者摻合，較佳為該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷被均勻溶解於該溶劑中。該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷於溶劑中之最
佳濃度隨特殊處理模式而變動。可選擇容易秤重之量。當該劑被直接施加，該濃度較佳可為0.01至10重量%，更佳0.05至5重量%，基於該溶劑與該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷之總重量。當該劑被經由蒸發施加，該濃度較佳可為1至100重量%，更佳3至30重量%，基於該溶劑與該經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷之總重量。
該表面處理劑可被經由任何眾所周知的技術施加至基質，例如刷塗、浸漬、噴塗及蒸發。於蒸發之例子中，加熱模式可為電阻加熱或電子束(EB)加熱。一表面處理劑塗層被固化至該基質。固化溫度隨特殊塗覆或固化技術而變動。當塗覆技術為例如蒸發，適宜之固化溫度為20℃至200℃。濕潤的固化條件亦為可用的。經固化塗層通常具有0.1至100奈米，理想地為1至20奈米之厚度，雖然該厚度視基質之類而定型。
將被表面處理劑處理之基質無特別限制，且可被由任何理想之材料製成，包括紙、織物、金屬、金屬氧化物、玻璃、塑料、陶瓷、及石英。該表面處理劑為有效於賦予該基質拒水/油性質。尤其，該表面處理劑被有利地用於處理經SiO2沉積之玻璃及膜。
多種物件可被該表面處理劑處理。較佳之物件包括汽車導航系統、行動電話、數位相機、數位攝影機、個人數位助理(PDA)、可攜式聲音播放器、汽車聲音播放器、遊戲主機、眼鏡、相機鏡頭、濾鏡、太陽眼鏡、醫院儀器(例如胃鏡)、影印機、個人電腦、液晶顯
示器、有機電激發光(EL)顯示器、電漿顯示器、觸控面板顯示器、保護性膜、抗反射膜、及其他光學物件。本發明之該表面處理劑為有效於防止指紋及皮脂附著至物件，及亦用於賦予抗刮性。因此，其特別可用於在觸控面板顯示器及抗反射膜上作為拒水/油層。
該表面處理劑為用於在衛生器具，例如浴缸及水洗槽上之防污塗層；於運輸載具，例如汽車、火車及飛機中之釉或強化玻璃及頭燈罩上之防污塗層；在建築物外部上之拒水/油塗層；在廚房用具上用於防止油污染之塗層；於電話亭中之防污、抗黏著、抗塗鴉塗層；在藝術物體上之抗指紋塗層；在光碟及DVD上之抗指紋塗層；脫膜劑；漆添加物；及樹脂改質劑。該劑亦為有效於改善無機填料之流動及分散，及用於改進帶及膜之潤滑性。
本發明之實施例經由說明而非經由限制地示於以下。
反應器中被注入100克之1,3-雙(三氟甲基)苯、8.2克(5.4×10-2莫耳)之DBU及100克(2.7×10-2莫耳)之如以下式(A)之化合物，5.8克(5.4×10-2莫耳)之三甲基氯基矽烷被逐滴添加至其中。
所得溶液被於50℃加熱3小時。之後其被冷卻至室溫，及鹽酸水溶液被逐滴添加。經由分離用之操作及以甲醇洗，以回收該較低層或氟化合物層。該較低層或氟化合物層於經洗之後被再回收。該殘留溶劑被於真空中蒸餾出，產生90克之如以下式(B)之含氟聚醚之聚合物。
1H-NMR
δ 0-0.2(-OSi(CH 3)3)9H
δ 2.4-2.6(-CH 2CH=CH2)4H
δ 5.0-5.2(-CH2CH=CH 2)4H
δ 5.7-5.9(-CH2CH=CH2)2H
反應器中被注入90克(2.4×10-2莫耳)具有如下所示式(B)之化合物、90克之1,3-雙(三氟甲基)苯、9.0克(7.4×10-2莫耳)之三甲氧基矽烷、及9.0×10-2克之氯基鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物(含2.4×10-6莫耳Pt)之甲苯溶液，彼等被混合。
該溶液被於80℃陳化24小時。之後，該溶劑及未反應之反應物於真空中被蒸餾出，獲得93克之液態產物。
經由NMR分析，該產物被鑑別為具有以下式(C)之結構。
1H-NMR
δ 0-0.2(-OSi(CH 3)3)9H
δ 0.4-0.6(-CH2CH2CH 2-Si)4H
δ 1.3-1.6(-CH2CH 2CH2-Si)4H
δ 1.6-1.9(-CH 2CH 2 CH2-Si)4H
δ 3.3-3.6(-Si(OCH 3)3)18H
反應器中被注入200克之1,3-雙(三氟甲基)苯、0.29克(5.5×10-4莫耳)之三(五氟苯基)硼烷及400克(1.1×10-1莫耳)之如以下式(A)之化合物，14.1克(1.2×10-1莫耳)之三乙基矽烷被緩慢逐滴添加至其中。
該所得溶液被於25℃攪拌1小時。水被添加至該溶液。該較低層或氟化合物層被經由分離用之操作及以丙酮洗而回收。該較低層或氟化合物層經洗之後再被回收。該殘留溶劑被於真空中蒸餾出，產生406克之以下式(D)之含氟聚醚之聚合物。
1H-NMR
δ 0.5-0.8(-SiCH 2CH3)2H
δ 0.8-1.1(-SiCH2CH 3)3H
δ 2.4-2.6(-CH 2CH=CH2)4H
δ 5.0-5.1(-CH2CH=CH 2)4H
δ 5.7-5.9(-CH2CH-CH2)2H
於反應器中，220克(6.1×10-2莫耳)之具有如下所示式(D)之化合物、220克之1,3-雙(三氟甲基)苯、22克(1.8×10-1莫耳)之三甲氧基矽烷、及2.2×10-1克之氯基鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物(含5.9×10-6莫耳Pt)之甲苯溶液被混合。
該溶液被於80℃陳化24小時。之後，該溶劑及未反應之反應物被於真空中蒸餾出，獲得226克之液態產物。
經由NMR分析，該產物被鑑別為具有如以下式(E)之結構。
1H-NMR
δ 0.4-0.8(-SiCH 2CH3,-CH2CH2CH 2-Si)6H
δ 0.8-1.1(-SiCH2CH 3)3H
δ 1.4-1.9(-CH2CH 2CH2-Si,-CH 2CH 2 CH2-Si)8H
δ 3.3-3.7(-Si(OCH 3)3)18H
反應器中被注入7.9克(5.2×10-2莫耳)之DBU及100克(2.6×10-2莫耳)之如以下式(F)之化合物，5.7克(5.2×10-2莫耳)之三甲基氯基矽烷被被逐滴添加至其中。
該所得溶液被於50℃加熱3小時。之後，其被冷卻至室溫，及鹽酸水溶液被逐滴添加至其中。該較低層或氟化合物層被經由分離用之操作及以甲醇洗回收。該較低層或氟化合物層經洗之後再被回收。該殘留溶劑被於真空中蒸餾出，產生95克之如以下式(G)之含氟聚醚之聚合物。
1H-NMR
δ 0-0.2(-OSi(CH 3)3)18H
δ 2.4-2.6(-CH 2CH=CH2)8H
δ 5.0-5.2(-CH2CH=CH 2)8H
δ 5.7-5.9(-CH2CH=CH2)4H
於反應器中，90克(2.3×10-2莫耳)之具有如下所示式(G)之化合物、90克之1,3-雙(三氟甲基)苯、8.4克(6.9×10-2莫耳)之三甲氧基矽烷、及8.4×10-2克之氯基鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物(含2.3×10-6莫耳Pt)之甲苯溶液被混合。
該溶液被於80℃陳化24小時。之後，該溶劑及未反應之反應物於真空中被蒸餾出，獲得92克之液態產物。
經由NMR分析，該產物被鑑別為具有如以下式(H)之結構。
1H-NMR
δ 0-0.2(-OSi(CH 3)3)18H
δ 0.4-0.6(-CH2CH2CH 2-Si)8H
δ 1.3-1.6(-CH2CH 2CH2-Si)8H
δ 1.6-1.9(-CH 2CH 2 CH2-Si)8H
δ 3.3-3.6(-Si(OCH 3)3)36H
以下聚合物被用於比較。
CF3O-(CF2O)p1-(C2F4O)q1-CF2-O-CH2CH2CH2-Si(OCH3)3
p1：q1=47：53,p1+q1 43
經由將實例1至3中獲得之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷、及比較實施例1及2中獲得之聚合物以20重量%之濃度溶解於溶劑Novec® 7200(3M所製之乙基全氟丁基醚)中，以製備表面處理劑。於最外層表面經10奈米之SiO2(Corning所製之Gorilla®)處理之玻璃上，以2.0×10-2Pa之壓力及700℃之溫度，經由真空蒸發沉積7毫克之各表面處理劑。該沉積物被保持於25℃且溼度為40%之氣體中24小時，獲得10奈米厚之經固化膜。
使用接觸角量測儀Drop Master(Kyowa Interface Science Co.,Ltd.)，測量玻璃上之經固化膜與水之接觸角，作為拒水性之指標。結果示於表1中。所有之膜顯示於起始時優異之拒水性。
玻璃上之經固化膜被曝露至來自金屬鹵化物燈之紫外光(波長300-400奈米)，以770W/m2照射160小時。於此耐候性測試之後，該膜被再測量與水之接觸角。結果示於表1中。
由表1中結果可知，比較實施例1中之膜，其使用具有含醚鍵之鏈接物之聚合物，顯示出實質減低之接觸角，此顯示不良之耐候性。與比較實施例2之膜比較，其使用含與碳鍵結之羥基之聚合物，但於鏈接物中無醚鍵，實例1至3之膜，其使用經聚合物改質的矽烷，顯示改進之耐候性。
於實例1至3中獲得之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷、及比較實施例2之聚合物，各以0.1重量%之濃度被溶解於Novec® 7200(3M所製之乙基全氟丁基醚)(50ppm之水含量)中。該稀溶液被貯存於50℃為時1個月，之後該溶液被經由膠滲層析法(GPC)檢視是否有形成縮合物。於以下條件進行測量。結果示於表2中。
顯影溶劑：氫氯基氟碳(HCFC-225)
流速：1毫升/分鐘
檢測器：蒸發性光散射檢測器
管柱：TSKgel Multipore HXL-M(Tosoh Corp.)7.8毫米ID×30公分，2個管柱
管柱溫度：35℃
注入之樣品量：100微升(濃度為0.1重量%之溶液)
由表2中結果可知，比較實施例2之具有與碳鍵結之羥基之聚合物形成縮合物，至於實例1至3之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，於其中該與碳鍵結之羥基已被封端，則幾乎無形成縮合物。
日本專利申請案第2015-093830號在此以引用方式併入本案。
雖然一些較佳之實施體系已被敘述，依照以上教示可對其作許多修正及變動。因此應了解本發明可被以與所特定敘述者不同方式實施，而不脫離所附之申請專利範圍之範疇。
Claims (8)
- 一種經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷，其具有通式(1)：
- 如申請專利範圍第1項之矽烷，其中α為1，且Rf為具有通式(2)之基：F-(CF2O)p-(C2F4O)q-(C3F6O)r-(C4F8O)s-(CtF2t)- (2)其中p、q、r及s各獨立為0至200之整數，總和p+q+r+s為3至200，t為1至3之整數，各重複單元可為線形或分支的，且個別重複單元可無規地排置。
- 如申請專利範圍第1項之矽烷，其中α為2，且Rf為具有通式(3)之基：-(CtF2t)-O-(CF2O)p-(C2F4O)q-(C3F6O)r-(C4F8O)s-(CtF2t)- (3)其中p、q、r及s各獨立為0至200之整數，總和p+q+r+s為3至200，t為1至3之整數，各重複單元可為線形或分支的，且個別重複單元可無規地排置。
- 如申請專利範圍第1項之矽烷，其中Y為選自下列所組成之群組：C3-C10伸烷基，含伸苯基之C8-C16伸烷基，具有經由矽伸烷基或矽伸芳基結構鍵結之C2-C10伸烷基的二價基，及具有鍵結至二價至四價2至10個矽原子之線形有機聚矽氧烷殘基、或3至10個矽原子之分支或環狀有機聚矽氧烷殘基之C2-C10伸烷基的二價至四價基。
- 如申請專利範圍第1項之矽烷，其中X與X'各選自下列所組成之群組：羥基、C1-C10烷氧基、C2-C10烷氧基烷氧基、C1-C10醯氧基、C2-C10烯氧基、與鹵素。
- 如申請專利範圍第1項之矽烷，其中該具有式(1)之經聚合物改質的矽烷係選自具有下式之化合物：
- 一種表面處理劑，其包含申請專利範圍第1項之經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷。
- 一種物件，其係經申請專利範圍第7項之表面處理劑處理表面。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015093830A JP6260579B2 (ja) | 2015-05-01 | 2015-05-01 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
| JP2015-093830 | 2015-05-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201710324A true TW201710324A (zh) | 2017-03-16 |
| TWI686427B TWI686427B (zh) | 2020-03-01 |
Family
ID=57204593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW105113543A TWI686427B (zh) | 2015-05-01 | 2016-04-29 | 經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷、表面處理劑及物件 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10196483B2 (zh) |
| JP (1) | JP6260579B2 (zh) |
| KR (1) | KR102608151B1 (zh) |
| CN (1) | CN106084205B (zh) |
| TW (1) | TWI686427B (zh) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017022437A1 (ja) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物 |
| WO2017104249A1 (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
| WO2018110461A1 (ja) * | 2016-12-14 | 2018-06-21 | 東京応化工業株式会社 | 表面処理液、及び表面処理方法 |
| CN110392711B (zh) * | 2017-03-27 | 2022-04-12 | Ａｇｃ株式会社 | 含氟醚组合物及其制造方法 |
| CN107216460B (zh) * | 2017-05-16 | 2021-02-26 | 太仓中化环保化工有限公司 | 一种具有多水解活性端基的全氟聚氟醚基氟硅烷和应用 |
| WO2018216406A1 (ja) * | 2017-05-25 | 2018-11-29 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物、表面処理剤及び物品 |
| JP6485610B1 (ja) | 2017-06-21 | 2019-03-20 | Ａｇｃ株式会社 | 撥水撥油層付き物品およびその製造方法 |
| JP7007601B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2022-01-24 | ダイキン工業株式会社 | 硬化性組成物 |
| KR20210089638A (ko) | 2018-11-13 | 2021-07-16 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 발수발유층 형성 기재, 증착 재료 및 발수발유층 형성 기재의 제조 방법 |
| WO2020137998A1 (ja) | 2018-12-26 | 2020-07-02 | Ａｇｃ株式会社 | 撥水撥油層付き基材、およびその製造方法 |
| EP3922626B1 (en) | 2019-02-08 | 2024-09-04 | Agc Inc. | Fluorine-containing ether compound, fluorine-containing ether composition, coating liquid, article, method for producing article, and method for producing fluorine-containing compound |
| JP7480780B2 (ja) | 2019-05-31 | 2024-05-10 | Ａｇｃ株式会社 | 防汚層付き透明基板 |
| KR20220044773A (ko) | 2019-08-08 | 2022-04-11 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 불소 함유 유기 규소 화합물의 박막의 광학 상수 계측 방법 |
| JP7544060B2 (ja) | 2019-09-20 | 2024-09-03 | Ａｇｃ株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、表面処理剤、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、及び化合物 |
| JP7367864B2 (ja) * | 2020-05-11 | 2023-10-24 | 信越化学工業株式会社 | コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品 |
| JP7408250B2 (ja) | 2020-10-01 | 2024-01-05 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー組成物、コーティング剤及び物品 |
| JP7152696B1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-13 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有シラン化合物 |
| JPWO2023013477A1 (zh) | 2021-08-05 | 2023-02-09 | ||
| CN117794741A (zh) | 2021-08-05 | 2024-03-29 | 信越化学工业株式会社 | 具有拒水拒油表面层的物品 |
| WO2023074874A1 (ja) | 2021-10-29 | 2023-05-04 | Ａｇｃ株式会社 | 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法 |
| KR20230096256A (ko) | 2021-12-23 | 2023-06-30 | 최준일 | 셔츠 고정 기능 바지 |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3805534A1 (de) | 1988-02-23 | 1989-08-31 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von perfluoralkylverbindungen sowie das pentafluoraethyl-trimethylsilan |
| JP3015139B2 (ja) * | 1991-04-23 | 2000-03-06 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
| JPH09227580A (ja) * | 1996-02-23 | 1997-09-02 | Sagami Chem Res Center | 新規シロキサン化合物およびそれを用いた液晶基含有モノマーの製造方法 |
| WO1998029473A1 (fr) * | 1996-12-27 | 1998-07-09 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Polysiloxanes modifies, compositions de caoutchouc et compositions de caoutchouc de bande de roulement les renfermant, et plastifiant reactif |
| US6136521A (en) * | 1997-02-20 | 2000-10-24 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonate, and molding and electrophotographic photoreceptor prepared therefrom |
| JPH11172108A (ja) * | 1997-12-12 | 1999-06-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 導電性フッ素樹脂組成物 |
| JP4306824B2 (ja) * | 1998-01-30 | 2009-08-05 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 有機官能性オルガノペンタシロキサンの製造方法、有機樹脂改質剤および有機樹脂 |
| IT1318507B1 (it) * | 2000-05-10 | 2003-08-27 | Ausimont Spa | Uso di derivati (per)fluoropolieterei nel trattamento di substrati abassa energia superficiale. |
| US7041748B2 (en) * | 2003-01-08 | 2006-05-09 | International Business Machines Corporation | Patternable low dielectric constant materials and their use in ULSI interconnection |
| WO2006107082A2 (en) | 2005-04-01 | 2006-10-12 | Daikin Industries, Ltd. | Surface modifier and its use |
| CN101151269A (zh) * | 2005-04-01 | 2008-03-26 | 大金工业株式会社 | 表面改性剂 |
| KR100967981B1 (ko) | 2005-04-01 | 2010-07-07 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 표면 개질제 |
| JP4998723B2 (ja) | 2007-06-18 | 2012-08-15 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素コーティング剤組成物 |
| JP5235026B2 (ja) * | 2010-09-28 | 2013-07-10 | 信越化学工業株式会社 | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
| JP2012102153A (ja) * | 2010-11-05 | 2012-05-31 | Kaneka Corp | 変成シリコン系発泡体の製造方法 |
| JP2012157856A (ja) | 2011-01-13 | 2012-08-23 | Central Glass Co Ltd | 防汚性物品及びその製造方法 |
| JP5857942B2 (ja) | 2011-11-30 | 2016-02-10 | 信越化学工業株式会社 | 蒸着用フッ素系表面処理剤及び該表面処理剤で蒸着処理された物品 |
| JP5938280B2 (ja) * | 2012-06-22 | 2016-06-22 | 日華化学株式会社 | パーフルオロポリエーテル変性シラン化合物、防汚性被膜形成用組成物、防汚性被膜、およびこの被膜を有する物品 |
| EP2915833B1 (en) | 2012-11-05 | 2018-06-06 | Daikin Industries, Ltd. | Silane compound containing perfluoro(poly)ether group |
| JP5992875B2 (ja) * | 2013-07-01 | 2016-09-14 | 信越化学工業株式会社 | フッ素系表面処理剤及び該表面処理剤で処理された物品 |
| CN103665022A (zh) * | 2013-12-13 | 2014-03-26 | 江南大学 | 一种应用于抗指纹涂料的全氟聚醚烷氧基硅烷的合成方法 |
| JP6119656B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-04-26 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー |
| JP6451279B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2019-01-16 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
| WO2016101185A1 (en) * | 2014-12-24 | 2016-06-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Perfluoropolyether silanes and method of forming the same |
| EP3085749B1 (en) * | 2015-04-20 | 2017-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Fluoropolyether-containing polymer-modified silane, surface treating agent, and treated article |
-
2015
- 2015-05-01 JP JP2015093830A patent/JP6260579B2/ja active Active
-
2016
- 2016-04-28 KR KR1020160052097A patent/KR102608151B1/ko active Active
- 2016-04-29 TW TW105113543A patent/TWI686427B/zh active
- 2016-04-29 US US15/141,991 patent/US10196483B2/en active Active
- 2016-04-29 CN CN201610283788.0A patent/CN106084205B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN106084205B (zh) | 2020-03-27 |
| KR20160130156A (ko) | 2016-11-10 |
| CN106084205A (zh) | 2016-11-09 |
| KR102608151B1 (ko) | 2023-12-01 |
| TWI686427B (zh) | 2020-03-01 |
| US10196483B2 (en) | 2019-02-05 |
| JP2016210854A (ja) | 2016-12-15 |
| JP6260579B2 (ja) | 2018-01-17 |
| US20160319071A1 (en) | 2016-11-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW201710324A (zh) | 經含氟聚醚之聚合物改質的矽烷、表面處理劑及物件 | |
| CN106065070B (zh) | 含有氟聚醚的聚合物改性硅烷、表面处理剂和处理过的物品 | |
| JP7456499B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー及び／又はその部分（加水分解）縮合物を含む表面処理剤及び物品 | |
| JP5235026B2 (ja) | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 | |
| JP7276464B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 | |
| TW201602165A (zh) | 含有氟聚醚基之聚合物變性矽烷、表面處理劑及物品 | |
| JP6680350B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 | |
| JPWO2017212850A1 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 | |
| JP7318735B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 | |
| JP6891952B2 (ja) | 含フッ素コーティング剤組成物及び該組成物を含有する表面処理剤並びに物品 | |
| TW201936707A (zh) | 含有氟聚醚基之聚合物、表面處理劑及物品 | |
| TW201734086A (zh) | 含氟聚醚基之聚合物改質有機矽化合物、表面處理劑及物品 | |
| TW201739787A (zh) | 含有氟聚醚基之聚合物改質矽烷、表面處理劑及物品 | |
| WO2022230642A1 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 | |
| WO2024122451A1 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 | |
| TW202409143A (zh) | 含氟聚醚基之聚合物、表面處理劑以及物品 |