JPS6370241A - 感光性エラストマ−組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F279/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
- C08F279/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00 on to polymers of conjugated dienes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F287/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to block polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/04—Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
- C08F290/048—Polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Medicinal Chemistry (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光性エラストマー組成物に関するものである
。
。
(従来の技術)
従来、フレキソ印刷に用いられるゴム版は、ゴム板に直
接彫刻する方法と、金属板の腐食により原版を製造し、
グラスチック等による母凰を製造し、この母型版にコ9
ムを流し込み加硫する事で製造されてきた。しかし、こ
れらの方法は複雑で熟練を要したシ、多くの工程からな
るため経費や時間が多くかかる上に、得られたゴム版自
体の精度が低いため使用に際しては裏削りなどの後加工
を必要とする尤どの欠点を有していた。
接彫刻する方法と、金属板の腐食により原版を製造し、
グラスチック等による母凰を製造し、この母型版にコ9
ムを流し込み加硫する事で製造されてきた。しかし、こ
れらの方法は複雑で熟練を要したシ、多くの工程からな
るため経費や時間が多くかかる上に、得られたゴム版自
体の精度が低いため使用に際しては裏削りなどの後加工
を必要とする尤どの欠点を有していた。
この欠点を解決するために、近年になって感光性エラス
トマー組成物を用いて直接的にフレキソ印刷版を製造す
る方法が提案されるようになった。
トマー組成物を用いて直接的にフレキソ印刷版を製造す
る方法が提案されるようになった。
例えば特公昭51−43374号公報には、エラストマ
ー性ポリマーとして、25℃以上のガラス転移温度をも
つ少なくとも2個の熱可塑性非エラストマー状重合体ブ
ロック及びそれらの非エラストマー状重合体ブロック間
を、10℃以下のガラス転移温度をもつエラストマー状
ブロックで結合した構造の、溶媒可溶性熱可塑性エラス
トマー状ブロック共重合体を用いると効果があることが
示されている。しかしこのようなブロック共重合体を使
用する感光性組成物で成形し、光照射して得られたフレ
キソ印刷版は従来の加硫ゴム版に比べて版強度が弱く、
また印刷版製造における現像(溶剤による洗い出し)工
程で版が溶剤によシ膨潤し、像の再現性が低下するとい
う欠点があ)、改善が要望されている。
ー性ポリマーとして、25℃以上のガラス転移温度をも
つ少なくとも2個の熱可塑性非エラストマー状重合体ブ
ロック及びそれらの非エラストマー状重合体ブロック間
を、10℃以下のガラス転移温度をもつエラストマー状
ブロックで結合した構造の、溶媒可溶性熱可塑性エラス
トマー状ブロック共重合体を用いると効果があることが
示されている。しかしこのようなブロック共重合体を使
用する感光性組成物で成形し、光照射して得られたフレ
キソ印刷版は従来の加硫ゴム版に比べて版強度が弱く、
また印刷版製造における現像(溶剤による洗い出し)工
程で版が溶剤によシ膨潤し、像の再現性が低下するとい
う欠点があ)、改善が要望されている。
(発明が解決しようとする問題点)
従って、本発明の目的は上記の欠点のないフレキソ印刷
版の製造に特に適した感光性エラストマー組成物の提供
にある。
版の製造に特に適した感光性エラストマー組成物の提供
にある。
(問題点を解決するための手段)
本発明のかかる目的は、(1)分子鎖の少なくとも1端
に重合可能なエチレン性二重結合を有する末端基が結合
した線状のエラストマー状A−B型ブロック共重合体(
Aはモノビニル芳香族化合物の重合体ブロックを、Bは
共役ジエン系単量体の重合体ブロックを表わす) 、
(2)少なくとも1個のエチレン性二重結合を有する付
加重合性化合物及び光重合開始剤とから成る感光性エラ
ストマー組成物を使用することによシ達成される。
に重合可能なエチレン性二重結合を有する末端基が結合
した線状のエラストマー状A−B型ブロック共重合体(
Aはモノビニル芳香族化合物の重合体ブロックを、Bは
共役ジエン系単量体の重合体ブロックを表わす) 、
(2)少なくとも1個のエチレン性二重結合を有する付
加重合性化合物及び光重合開始剤とから成る感光性エラ
ストマー組成物を使用することによシ達成される。
本発明で使用される線状の、エラストマー状A−B型ブ
ロック共重合体は該共重合体鎖の少なくとも一端にラジ
カル重合可能なエチレン性二重結合を有する末端基が結
合したエラストマー状のブロック共重合体である。
ロック共重合体は該共重合体鎖の少なくとも一端にラジ
カル重合可能なエチレン性二重結合を有する末端基が結
合したエラストマー状のブロック共重合体である。
!ロックAはスチレン、α−メチルスチレンなどのモノ
ビニル芳香族化合物の重合体ブロックであシ、該化合物
の18i以上の重合体あるいは該化合物及びこれと共重
合可能な単量体との共重合体が含まれるガラス転移温度
が25℃以上の熱可塑性非エラストマー状重合体ブロッ
クである。特に好ましいのは?リスチレンのブロックで
ある。
ビニル芳香族化合物の重合体ブロックであシ、該化合物
の18i以上の重合体あるいは該化合物及びこれと共重
合可能な単量体との共重合体が含まれるガラス転移温度
が25℃以上の熱可塑性非エラストマー状重合体ブロッ
クである。特に好ましいのは?リスチレンのブロックで
ある。
ブロックBは1.3−ブタジェン、イソプ、レン、1.
3−ペンタジェン、クロログレンなどの共役ジエン系単
量体の重合体ブロックであシ、該単量体の1種以上の重
合体あるいは該単量体及びこれと共重合可能な単量体と
の共重合体が含まれるガラス転移温度が10℃以下のエ
ラストマー状重合体のブロックである。特に好ましいの
はポリブタジェンブロックあるいはポリイソプレンブロ
ックである。
3−ペンタジェン、クロログレンなどの共役ジエン系単
量体の重合体ブロックであシ、該単量体の1種以上の重
合体あるいは該単量体及びこれと共重合可能な単量体と
の共重合体が含まれるガラス転移温度が10℃以下のエ
ラストマー状重合体のブロックである。特に好ましいの
はポリブタジェンブロックあるいはポリイソプレンブロ
ックである。
本発明においてはA−B型ブロック共重合体は(A−B
)を単位としてこの単位が分子鎖中に1〜10個程度、
好ましくは1〜3個繰返す線状ものが使用される。ブロ
ック人とブロックBの割合はブロック共重合体がエラス
トマーとなる範囲でおれば特に制限はないが、全ブロッ
ク中のブロックBの好ましい割合は60〜90重i%で
ある。
)を単位としてこの単位が分子鎖中に1〜10個程度、
好ましくは1〜3個繰返す線状ものが使用される。ブロ
ック人とブロックBの割合はブロック共重合体がエラス
トマーとなる範囲でおれば特に制限はないが、全ブロッ
ク中のブロックBの好ましい割合は60〜90重i%で
ある。
ブロックAのGPCによる重量平均分子量は通常2.0
00〜100,000の範囲であシ、ブロックBの重量
平均分子量は通常10.000〜1000.000の範
囲である。
00〜100,000の範囲であシ、ブロックBの重量
平均分子量は通常10.000〜1000.000の範
囲である。
本発明のブロック共重合体は上記の構造と共にブロック
共重合体鎖の少なくとも一端にラジカル重合性のエチレ
ン性二重結合を有する末端基が結合していることが特徴
である。
共重合体鎖の少なくとも一端にラジカル重合性のエチレ
ン性二重結合を有する末端基が結合していることが特徴
である。
本発明のブロック共重合体の製造方法は通常のアニオン
重合方法によればよく特に制限されないが、米国特許第
3,786,116号明細書開示の方法が1例として挙
げられる。本方法に従えば遂次重合によシポリスチVン
ーポリイソプレンのリビングブロック共重合体を生成せ
しめた後、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシ
ドなどを添加して安定なアニオン末端基を有するブロッ
ク共重合体となし、しかる後メタクリル酸ノーライド等
と反応させてラジカル重合可能な二重結合を有する末端
基が重合体鎖の末端に結合したブロック共重合体が製造
される。
重合方法によればよく特に制限されないが、米国特許第
3,786,116号明細書開示の方法が1例として挙
げられる。本方法に従えば遂次重合によシポリスチVン
ーポリイソプレンのリビングブロック共重合体を生成せ
しめた後、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシ
ドなどを添加して安定なアニオン末端基を有するブロッ
ク共重合体となし、しかる後メタクリル酸ノーライド等
と反応させてラジカル重合可能な二重結合を有する末端
基が重合体鎖の末端に結合したブロック共重合体が製造
される。
安定なアニオン末端基を有するブロック共重合体と反応
してラジカル重合可能な二重結合を有する末端基を形成
する化合物としては塩素、臭素、フッ素などのハロゲン
を含む単量体が使用される。
してラジカル重合可能な二重結合を有する末端基を形成
する化合物としては塩素、臭素、フッ素などのハロゲン
を含む単量体が使用される。
このような単量体としては、1−クロロエチルビニルエ
ーテル、3−クロロプロピルビニルエーテルナトのハロ
アルキルビニルエーテル類、クロロ酢酸ビニル、3−ク
ロログロピオン酸ビニル、2−ブロモウンデカン酸ビニ
ルなどのハロゲン含有ビニルエーテル類、 2−りoo
)fAt−1,3−プクジエン、2−クロロメチル−3
−メチル−1゜3−ブタジェンなどのジエンハライド、
アクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリドなどの(メ
タ)アクリル酸ハライド、ビニルペンジルクロリドプロ
ムノルボルネン、プロムメチルノルゴルネンなどが挙げ
られる。これらの化合物は、ブロック共重合体製造時に
1官能性の重合開始剤を使用すれば該共重合体鎖の一端
に、また2官能性の重合開始剤を使用すれば両端に結合
する。
ーテル、3−クロロプロピルビニルエーテルナトのハロ
アルキルビニルエーテル類、クロロ酢酸ビニル、3−ク
ロログロピオン酸ビニル、2−ブロモウンデカン酸ビニ
ルなどのハロゲン含有ビニルエーテル類、 2−りoo
)fAt−1,3−プクジエン、2−クロロメチル−3
−メチル−1゜3−ブタジェンなどのジエンハライド、
アクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリドなどの(メ
タ)アクリル酸ハライド、ビニルペンジルクロリドプロ
ムノルボルネン、プロムメチルノルゴルネンなどが挙げ
られる。これらの化合物は、ブロック共重合体製造時に
1官能性の重合開始剤を使用すれば該共重合体鎖の一端
に、また2官能性の重合開始剤を使用すれば両端に結合
する。
本発明で使用するブロック共重合体は上記の如くラジカ
ル重合可能な末端基を有しているので、このブロック共
重合体とラジカル重合性単量体及び光重合開始剤を混合
してフレキソ版を製造し、露光することによジブロック
共重合体分子鎖間の架橋が生じ、その結果露光後のフレ
キソ版の強度が改善されると共にレリーフ像の再現性も
大幅に改善される。
ル重合可能な末端基を有しているので、このブロック共
重合体とラジカル重合性単量体及び光重合開始剤を混合
してフレキソ版を製造し、露光することによジブロック
共重合体分子鎖間の架橋が生じ、その結果露光後のフレ
キソ版の強度が改善されると共にレリーフ像の再現性も
大幅に改善される。
本発明の感光性エラストマー組成物中の本発明のブロッ
ク共重合体の含有量は通常30重量%以上であシゴム弾
性や成形のし易さを考慮すると60〜95重i−%の範
囲で使用されるのが好ましい。必要に応じ本発明の主旨
が損われない範囲で他のエラストマー状重合体を併用し
ても構わない。
ク共重合体の含有量は通常30重量%以上であシゴム弾
性や成形のし易さを考慮すると60〜95重i−%の範
囲で使用されるのが好ましい。必要に応じ本発明の主旨
が損われない範囲で他のエラストマー状重合体を併用し
ても構わない。
本発明の感光性エンストマー組成物においては本発明の
ブロック共重合体以外は従来から該組成物製造用に使用
されている少なくとも1個のCa、−C;基を有する付
加重合性化合物及び光重合開始剤が使用でき、これらは
特に限定されない。
ブロック共重合体以外は従来から該組成物製造用に使用
されている少なくとも1個のCa、−C;基を有する付
加重合性化合物及び光重合開始剤が使用でき、これらは
特に限定されない。
少なくとも1個のcH2−cc基を有する付加重合性化
合物としては、エチレングリコール、ジエチレンクリコ
ール、フロピレンゲリコール、ジエチレンクリコール、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
1,4ブタンジオール、1.6ヘキサンジオールなどの
ジアクリレート及びジメタアクリレート、あるいはトリ
メチロールプロノ臂ンのトリアクリレート及びトリメタ
クリレート、ペンタエリトリットテトラアクリレート及
びテトラメタクリレートなどや、猪′−\キサメチレン
ビスアクリルアミド及びメタクリルアミド、ジアセトン
アクリルアミド及びメタクリルアミド、スチレン、ビニ
ルトルエン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、
トリアリルシアヌレートなどが挙げられ、1種又は2種
以上で使用される。
合物としては、エチレングリコール、ジエチレンクリコ
ール、フロピレンゲリコール、ジエチレンクリコール、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
1,4ブタンジオール、1.6ヘキサンジオールなどの
ジアクリレート及びジメタアクリレート、あるいはトリ
メチロールプロノ臂ンのトリアクリレート及びトリメタ
クリレート、ペンタエリトリットテトラアクリレート及
びテトラメタクリレートなどや、猪′−\キサメチレン
ビスアクリルアミド及びメタクリルアミド、ジアセトン
アクリルアミド及びメタクリルアミド、スチレン、ビニ
ルトルエン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、
トリアリルシアヌレートなどが挙げられ、1種又は2種
以上で使用される。
該化合物の使用量は通常感光性組成物中(以下も同様)
5〜30重量%である。
5〜30重量%である。
光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイン、
ベンゾインのアルキルエーテル例えばペンツインのメチ
ル、エチル、イソゾロビルおよびイソブチルエーテル、
α−メチルベンゾイン、α−メチルベンゾインメチルエ
ーテル、α−メトキシベンゾインメチルエーテル、ペン
ツインフェニルエーテル、α−t−ブチルペンツイン、
アントラキノン、ベンズアントラキノン、2−エチルア
ントラキノン、2−クロルアントラキノン、2−2′−
ジメトキシフェニルアセトフェノン、2.2−ジェトキ
シフェニルアセトフェノン、2,2−ジェトキシアセト
フェノン、ベンジル、ピバロインなどが例として挙げら
れる。これらの光重合開始剤は1種又は2種以上で使用
され、使用量は通常0.01〜5重量%である◇ 本発明においては上記以外の成分も必要に応じ感光性組
成物中に含有させることができる。このような成分とし
ては可塑剤、熱重合抑制剤、老化防止剤などが挙げられ
る。
ベンゾインのアルキルエーテル例えばペンツインのメチ
ル、エチル、イソゾロビルおよびイソブチルエーテル、
α−メチルベンゾイン、α−メチルベンゾインメチルエ
ーテル、α−メトキシベンゾインメチルエーテル、ペン
ツインフェニルエーテル、α−t−ブチルペンツイン、
アントラキノン、ベンズアントラキノン、2−エチルア
ントラキノン、2−クロルアントラキノン、2−2′−
ジメトキシフェニルアセトフェノン、2.2−ジェトキ
シフェニルアセトフェノン、2,2−ジェトキシアセト
フェノン、ベンジル、ピバロインなどが例として挙げら
れる。これらの光重合開始剤は1種又は2種以上で使用
され、使用量は通常0.01〜5重量%である◇ 本発明においては上記以外の成分も必要に応じ感光性組
成物中に含有させることができる。このような成分とし
ては可塑剤、熱重合抑制剤、老化防止剤などが挙げられ
る。
可■剤は感光性エラストマー組成物の製造、放置を助成
し、また、感光性エラストマー組成物の未露光部分の除
去を促進し、さらに、露光硬化部分の硬さを調整する。
し、また、感光性エラストマー組成物の未露光部分の除
去を促進し、さらに、露光硬化部分の硬さを調整する。
これらの目標とする特性に応じて可塑剤は2〜40重量
%の範囲で添加される。有用物質としては、ナフテン油
やノぐラフイン油のような炭化水素油、低分子量ポリス
チレン(分子量3000以下)、α−メチルスチレン−
ビニルトルエン共重合体、石油樹脂、ポリアクリレート
、ポリエチレン、ポリエステル樹脂、Iリテルペン樹脂
、液状1.2−及び1.4−ポリブタジェン、およびこ
れらの水酸化物、カルボキモル化物、液状アクリロニト
リル−ブタジェン共重合体、およびこれらのカルブキモ
ル化物、液状スチレンブタジェン共重合体などが例示で
きる。
%の範囲で添加される。有用物質としては、ナフテン油
やノぐラフイン油のような炭化水素油、低分子量ポリス
チレン(分子量3000以下)、α−メチルスチレン−
ビニルトルエン共重合体、石油樹脂、ポリアクリレート
、ポリエチレン、ポリエステル樹脂、Iリテルペン樹脂
、液状1.2−及び1.4−ポリブタジェン、およびこ
れらの水酸化物、カルボキモル化物、液状アクリロニト
リル−ブタジェン共重合体、およびこれらのカルブキモ
ル化物、液状スチレンブタジェン共重合体などが例示で
きる。
熱重合抑制剤としては例えば、2.6−ジーt−ブチル
−4−メチルフェノール、メトキシフェノール、2,6
−ジーt−ブチル−p−クレゾール、t−ブチルカテコ
ール、ピロガロール、ナフチルアミン、β−ナフトール
、t−プチルハイドロキシアニンール、ハイドロキノン
などを挙げることができる。使用量は通常0.001〜
2重量%である。
−4−メチルフェノール、メトキシフェノール、2,6
−ジーt−ブチル−p−クレゾール、t−ブチルカテコ
ール、ピロガロール、ナフチルアミン、β−ナフトール
、t−プチルハイドロキシアニンール、ハイドロキノン
などを挙げることができる。使用量は通常0.001〜
2重量%である。
本発明の感光性エラストマー組成物は多くの方法で調整
することができる。例えば、通常のゴムの混練機械であ
るニーグーあるいはロールミル等を用いて混合混練し、
押出し機、プレス、カレンダーなどの成形機を用いて所
望の厚さのシートに調製することができる。また、所望
ならば本発明の感光性エラストマー組成物を溶媒、例え
ば、りe+oホルム、四塩化炭素、1.1.1−)リク
ロルエタン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラ
ン、などの適当な溶媒に溶解させた混合物を枠型の中に
注入して溶剤を蒸発させてシートを調整したり、さらに
、このシートを加熱プレス、押出しまたはカレンダー処
理すれば厚み精度のよいシートが得られる。
することができる。例えば、通常のゴムの混練機械であ
るニーグーあるいはロールミル等を用いて混合混練し、
押出し機、プレス、カレンダーなどの成形機を用いて所
望の厚さのシートに調製することができる。また、所望
ならば本発明の感光性エラストマー組成物を溶媒、例え
ば、りe+oホルム、四塩化炭素、1.1.1−)リク
ロルエタン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラ
ン、などの適当な溶媒に溶解させた混合物を枠型の中に
注入して溶剤を蒸発させてシートを調整したり、さらに
、このシートを加熱プレス、押出しまたはカレンダー処
理すれば厚み精度のよいシートが得られる。
本発明のシート状に成形された感光性エラストマー組成
物は貯蔵または操作中に光感受性層が汚染または損傷す
ることを防ぐために光感受性層の表面にポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレンなどの剥
離可能か薄い透明フィルム層を設けることができる。
物は貯蔵または操作中に光感受性層が汚染または損傷す
ることを防ぐために光感受性層の表面にポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレンなどの剥
離可能か薄い透明フィルム層を設けることができる。
また、本発明の感光性工2ストマー組成物は露光時に原
図を光感受性層の上に重ねて活性光線を照射するが、原
図との接触性をよくするため及びその原図の再利用を可
能にするために、溶剤可溶性の薄い可撓性の層を設けて
もよい。この場合光感受性層の露光が終了してから未露
光部分を溶剤で溶出する際にこの層も同時に除去される
ことが望ましい。
図を光感受性層の上に重ねて活性光線を照射するが、原
図との接触性をよくするため及びその原図の再利用を可
能にするために、溶剤可溶性の薄い可撓性の層を設けて
もよい。この場合光感受性層の露光が終了してから未露
光部分を溶剤で溶出する際にこの層も同時に除去される
ことが望ましい。
本発明の感光性エラストマー組成物を用いることによシ
、露光後の強度が改善されたフレキソ版の製造が可能と
なるばかシでなく解像度が高いレリーフ画像が得られる
。
、露光後の強度が改善されたフレキソ版の製造が可能と
なるばかシでなく解像度が高いレリーフ画像が得られる
。
本発明の感光性エラストマー組成物は感光性が高く、フ
レキソ印刷用印刷版として優れた特性を有しているが、
この他に7オトレジスト用やスクリーン印刷のスクリー
ン用さらに塗料、コーテイング材、接着剤、フィルム、
シート性物、含浸物、その他成形品等に利用することが
できる。
レキソ印刷用印刷版として優れた特性を有しているが、
この他に7オトレジスト用やスクリーン印刷のスクリー
ン用さらに塗料、コーテイング材、接着剤、フィルム、
シート性物、含浸物、その他成形品等に利用することが
できる。
(実施例)
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。なお、実施例、比較例中の部数及び%はとくに断シの
ない限シ重量基準である。
。なお、実施例、比較例中の部数及び%はとくに断シの
ない限シ重量基準である。
実施例1
(A)末端変性ブロック共重合体の合成51の耐圧反応
器を用い、n−ブタン/シクロヘキサンク30/70の
割合の混合溶剤L875に!?、ジブチルエーテル20
ミリモル、開始剤n−ブチルリチウム10ミリモルを存
在させ、30℃で1時間、先ずスチレン112.!Mを
重合し、続いてイソプレン687.5 Fを添加して反
応温度が50℃から60℃の間となるように還流冷却に
よシ温度制御しながら1時間半重合した。続いてイソグ
レンブロックの活性末端を安定なアニオンとするためエ
チレンオキシド11ミリモルを加え、さらにアクリル酸
クロリド12ミリモルを加え活性ポリマー末端に反応さ
せた。反応混合物に反応停止剤としてメタノール5−1
酸化安定剤として4−メチル−2,6−ジーt−ブチル
フェノールを4g加えた後この混合溶液を少量ずつ、8
5〜95℃に加熱された水中に滴下し溶媒を揮発させた
。得られたポリマーを細片となし、85℃で熱風乾燥し
た。
器を用い、n−ブタン/シクロヘキサンク30/70の
割合の混合溶剤L875に!?、ジブチルエーテル20
ミリモル、開始剤n−ブチルリチウム10ミリモルを存
在させ、30℃で1時間、先ずスチレン112.!Mを
重合し、続いてイソプレン687.5 Fを添加して反
応温度が50℃から60℃の間となるように還流冷却に
よシ温度制御しながら1時間半重合した。続いてイソグ
レンブロックの活性末端を安定なアニオンとするためエ
チレンオキシド11ミリモルを加え、さらにアクリル酸
クロリド12ミリモルを加え活性ポリマー末端に反応さ
せた。反応混合物に反応停止剤としてメタノール5−1
酸化安定剤として4−メチル−2,6−ジーt−ブチル
フェノールを4g加えた後この混合溶液を少量ずつ、8
5〜95℃に加熱された水中に滴下し溶媒を揮発させた
。得られたポリマーを細片となし、85℃で熱風乾燥し
た。
かくしてラジカル重合可能な末端基を有するブロック共
重合体が得られた。
重合体が得られた。
(B)感光性組成物の調製
上記によシ得られたブロック共重合体100gにペンゾ
インメチルエーテ、vO,6,11,4−ブタンジオー
ルジメタクリレート5g、2,6−ジーt−ブチル−4
−メチルフェノール0.01Nを加えて充分に混合し感
光性組成物を調製した。
インメチルエーテ、vO,6,11,4−ブタンジオー
ルジメタクリレート5g、2,6−ジーt−ブチル−4
−メチルフェノール0.01Nを加えて充分に混合し感
光性組成物を調製した。
(C)硬化物の物性
1)上記感光性組成物を300W高圧水銀灯を用いて5
分間露光処理して硬化物を得た。得られた硬化物は、硬
度40 (JIS K6301に従って測定)、反ばつ
弾性49%(ダンロップ ) IJプソメーターによシ
25℃で測定)であった。さらにS@(25℃)におけ
る強度、伸びおよび硬さ変化(加圧直後と10秒後の差
、ΔH8と表示する)をJISK6301に従って求め
、第1表に示す結果を得た・第 1 表 注)(1)デ、ボン社製サイレル(cyrsl)を使用
した。
分間露光処理して硬化物を得た。得られた硬化物は、硬
度40 (JIS K6301に従って測定)、反ばつ
弾性49%(ダンロップ ) IJプソメーターによシ
25℃で測定)であった。さらにS@(25℃)におけ
る強度、伸びおよび硬さ変化(加圧直後と10秒後の差
、ΔH8と表示する)をJISK6301に従って求め
、第1表に示す結果を得た・第 1 表 注)(1)デ、ボン社製サイレル(cyrsl)を使用
した。
2)上記の感光性組成物を0.1箇厚ポリエステルフイ
ルムにはさみ、真空プレス機により3簡厚のシートに成
形した。フィルムをはがし、ネガフィルムをあてて、該
フィルム面に前記紫外線ランプで3〜6分間照射した。
ルムにはさみ、真空プレス機により3簡厚のシートに成
形した。フィルムをはがし、ネガフィルムをあてて、該
フィルム面に前記紫外線ランプで3〜6分間照射した。
露光後感光性原版をトリクロルエタン溶液で洗浄現像し
、レリーフ像(レリーフ高さ1.4 m )を得た。得
られた版の解像度は、得られたレリーフ像を目視及び写
真撮影によシ、6厖及び凹室の罫線(細線)と網点濃度
3%及び95%の網点の再現限界を評価した。結果を第
2表に示す。
、レリーフ像(レリーフ高さ1.4 m )を得た。得
られた版の解像度は、得られたレリーフ像を目視及び写
真撮影によシ、6厖及び凹室の罫線(細線)と網点濃度
3%及び95%の網点の再現限界を評価した。結果を第
2表に示す。
第 2 表
本発明組成物を用いて得られたレリーフ像は網点の再現
限界は150線/インチ、罫線については100μの細
線までと比較例の市販品よシも格段に優れた再現性を示
すと共にレリーフ像はシャープで精度が高いものであっ
た。又、比較例の市販品はレリーフ高が本発明品よりも
高く、現像時の溶剤による膨潤が大きく、凸罫線はツイ
スト(波状のゆがみ)を生じた。
限界は150線/インチ、罫線については100μの細
線までと比較例の市販品よシも格段に優れた再現性を示
すと共にレリーフ像はシャープで精度が高いものであっ
た。又、比較例の市販品はレリーフ高が本発明品よりも
高く、現像時の溶剤による膨潤が大きく、凸罫線はツイ
スト(波状のゆがみ)を生じた。
本発明の組成物で得たフレキソ版を用いて段ゴール印刷
を45°Cの温度で連続して行ったが、耐刷性は50万
部以上であシ、「文字の太り」、「版のへたり」は認め
られなかった。
を45°Cの温度で連続して行ったが、耐刷性は50万
部以上であシ、「文字の太り」、「版のへたり」は認め
られなかった。
実施例2
実施例1と同様にして第3表記載の末端基が結合したブ
ロック共重合体を調製し、実施例1と同じ処方で感光性
組成物を調製し、それぞれの硬化物の強度特性及びフレ
キソ版の解像度(再現限界)を評価した。結果を第3表
に示す。
ロック共重合体を調製し、実施例1と同じ処方で感光性
組成物を調製し、それぞれの硬化物の強度特性及びフレ
キソ版の解像度(再現限界)を評価した。結果を第3表
に示す。
第3表
実施例3
実施例1と同様にして第4表記載の組成のラジカル重合
可能な二重結合を有する末端基(該末端基源としてアク
リル酸クロリドを使用)が結合したブロック共重合体を
調製した。これらのそれぞれを用い、実施例1と同じ処
方、方法で硬化物及び7レキソ版を得た。強度特性及び
解像度を計価し、第4表に示す結果を得た。
可能な二重結合を有する末端基(該末端基源としてアク
リル酸クロリドを使用)が結合したブロック共重合体を
調製した。これらのそれぞれを用い、実施例1と同じ処
方、方法で硬化物及び7レキソ版を得た。強度特性及び
解像度を計価し、第4表に示す結果を得た。
Claims (1)
- (1)分子鎖の少なくとも1端に重合可能なエチレン性
二重結合を有する末端基が結合した線状のエラストマー
状A−B型ブロック共重合体(Aはモノビニル芳香族化
合物の重合体ブロックを、Bは共役ジエン系単量体の重
合体ブロックを表わす)、(2)少なくとも1個のエチ
レン性二重結合を有する付加重合性化合物及び(3)光
重合開始剤とから成る感光性エラストマー組成物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21484286A JPS6370241A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 感光性エラストマ−組成物 |
GB8719421A GB2195349B (en) | 1986-08-18 | 1987-08-17 | Photosensitive elastomeric composition |
DE3727537A DE3727537C2 (de) | 1986-08-18 | 1987-08-18 | Photoempfindliche elastomere Masse |
US07/192,641 US4980269A (en) | 1986-08-18 | 1988-05-11 | Photosensitive elastomeric composition |
US08/064,482 US5281510A (en) | 1986-08-18 | 1992-12-30 | Photosensitive elastomeric composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21484286A JPS6370241A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 感光性エラストマ−組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6370241A true JPS6370241A (ja) | 1988-03-30 |
JPH0577067B2 JPH0577067B2 (ja) | 1993-10-25 |
Family
ID=16662445
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21484286A Granted JPS6370241A (ja) | 1986-08-18 | 1986-09-11 | 感光性エラストマ−組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6370241A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5239742A (en) * | 1975-09-25 | 1977-03-28 | Nippon Soda Co Ltd | Sensitized materials |
JPS5240594A (en) * | 1975-09-29 | 1977-03-29 | Nippon Soda Co Ltd | Preparation of photosensitive polymers |
JPS5659230A (en) * | 1980-07-07 | 1981-05-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive resin composition for flexographic plate |
-
1986
- 1986-09-11 JP JP21484286A patent/JPS6370241A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5239742A (en) * | 1975-09-25 | 1977-03-28 | Nippon Soda Co Ltd | Sensitized materials |
JPS5240594A (en) * | 1975-09-29 | 1977-03-29 | Nippon Soda Co Ltd | Preparation of photosensitive polymers |
JPS5659230A (en) * | 1980-07-07 | 1981-05-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive resin composition for flexographic plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0577067B2 (ja) | 1993-10-25 |
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