[go: up one dir, main page]

JPH08338546A - 圧力式流量制御装置 - Google Patents

圧力式流量制御装置

Info

Publication number
JPH08338546A
JPH08338546A JP7144722A JP14472295A JPH08338546A JP H08338546 A JPH08338546 A JP H08338546A JP 7144722 A JP7144722 A JP 7144722A JP 14472295 A JP14472295 A JP 14472295A JP H08338546 A JPH08338546 A JP H08338546A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
orifice
flow rate
pressure
control device
control
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7144722A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3291161B2 (ja
Inventor
Koji Nishino
功二 西野
Shinichi Ikeda
信一 池田
Akihiro Morimoto
明弘 森本
Yukio Minami
幸男 皆見
Koji Kawada
幸司 川田
Ryosuke Doi
亮介 土肥
Hiroyuki Fukuda
浩幸 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikin Inc
Original Assignee
Fujikin Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=15368800&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH08338546(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Fujikin Inc filed Critical Fujikin Inc
Priority to JP14472295A priority Critical patent/JP3291161B2/ja
Priority to TW085105996A priority patent/TW300947B/zh
Priority to DE69615933T priority patent/DE69615933T2/de
Priority to EP96303817A priority patent/EP0749058B1/en
Priority to KR1019960018765A priority patent/KR0173535B1/ko
Priority to CA002177790A priority patent/CA2177790C/en
Priority to IL11858696A priority patent/IL118586A/xx
Priority to US08/661,181 priority patent/US5669408A/en
Publication of JPH08338546A publication Critical patent/JPH08338546A/ja
Priority to US08/812,330 priority patent/US5791369A/en
Publication of JP3291161B2 publication Critical patent/JP3291161B2/ja
Application granted granted Critical
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • G05D7/06Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/5109Convertible
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/7722Line condition change responsive valves
    • Y10T137/7737Thermal responsive
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/7722Line condition change responsive valves
    • Y10T137/7758Pilot or servo controlled
    • Y10T137/7759Responsive to change in rate of fluid flow
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/7722Line condition change responsive valves
    • Y10T137/7758Pilot or servo controlled
    • Y10T137/7761Electrically actuated valve
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/7722Line condition change responsive valves
    • Y10T137/7758Pilot or servo controlled
    • Y10T137/7762Fluid pressure type
    • Y10T137/7769Single acting fluid servo
    • Y10T137/777Spring biased
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/8593Systems
    • Y10T137/87917Flow path with serial valves and/or closures

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Measuring Volume Flow (AREA)
  • Safety Valves (AREA)
  • Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Control Of Fluid Pressure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 流量制御装置の制御精度を高めると共に、装
置の小形化、低コスト化を達成する。 【構成】 オリフィス上流側圧力を下流側圧力の約2倍
以上に保持して流体の流量制御を行なう圧力式流量制御
装置に於いて、オリフィスと,その上流側に設けたコン
トロール弁と,コントロール弁とオリフィス間に設けた
圧力検出器と,圧力検出器の検出圧力P1 から流量をQ
c=KP1 (但しKは定数)として演算すると共に、流
量指令信号Qsと演算流量Qcとの差を制御信号Qyと
してコントロール弁の駆動部へ出力する演算制御装置と
から装置を構成し、コントロール弁を開閉して圧力P1
を調整し、オリフィス下流側流量を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は気体等の流量制御装置の
改良に関するものであり、主として半導体製造設備や化
学品製造設備等に於いて利用されるものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造設備等のガス流量制御装置と
しては、従前から所謂マスフローコントローラーが多く
利用されている。
【0003】しかし、このマスフローコントローラーに
は熱式流量センサの場合は、応答速度が比較的遅いこ
と、低流量域に於ける制御精度が悪いうえ製品毎に精
度のバラツキがあること、作動上トラブルが多くて安
定性に欠けること、製品価格が高いうえ、交換用部品
も高価であってランニングコストが高くつくこと等の様
々な不都合が存在する。
【0004】一方、上述の如きマスフローコントローラ
ーの問題点を避けるものとして、図12に示す如き構成
の差圧式流量制御装置が多く用いられている。
【0005】即ち、当該差圧式流量制御装置は、オリフ
ィス30の上・下流側の流体差圧△Pを圧力検出器3
1、32の検出値から求め、検出流量Qc=K√△P及
び検出流量Qcと設定流量Qsとの差Qy=Qc−Qs
をCPUで演算すると共に、前記流量差Qyを制御信号
として流量制御弁33へ出力し、前記流量偏差Qyを零
にする方向に流量制御弁33を開・閉制御するものであ
る。
【0006】しかし、当該差圧式流量制御装置には、
検出流量Qcのレンジ範囲が圧力検出器31、32のレ
ンジ範囲の1/2乗となるため、検出流量Qcの検出精
度が低下すること、流量測定精度を高めるためには、
オリフィス上・下流側に比較的長い直管路を設けて流体
の流れを層流にする必要があり、必然的に装置が大型化
すること、圧力検出器を2基必要とするため、製造コ
ストの引下げを計り難いこと等の問題が残されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本願発明は、前記マス
フローコントローラーや差圧式流量制御装置に於ける上
述の如き問題、即ち装置としての総合的な検出精度が
低いこと、及び装置の小型化や製造コストの低減が困
難なこと等の問題の解決を直接の目的とするものであ
り、一基の圧力検出器の検出圧力を基準にし、当該検出
圧力値に正比例する形で検出流量を演算することによ
り、高精度な流量制御が行え、しかも小型で且つ安価に
製造できるようにした圧力式流量制御装置を提供するも
のである。
【0008】
【課題を解決するための手段】而して、ノズルを通る気
体流の特徴の一つとして、ノズル前後の気体の圧力比P
2 /P1 が気体の臨界圧力比(空気や窒素等の場合は約
0.5)以下になると、ノズルを通る気体の流速が音速
となってノズル下流側の圧力変動が上流側に伝播しない
ため、ノズル上流側の状態に相応した安定した質量流量
を得ることができると云う事象がある。
【0009】但し、ノズルの場合には、気体のもつ粘性
のためにノズル断面積と音速の積が直接に実際の気体流
量を表すことにはならず、気体の流量演算を行うにはノ
ズルの形態によって定まる流出係数を求めなければなら
ないことは勿論である。
【0010】そのため、本願発明者等は、各種のノズル
形態と流体(ガス)について、その流出係数を求める試
験を繰り返し行って来たが、その試験過程に於いて、前
記気体の圧力比P2 /P1 が気体の臨界圧力比以下の場
合には下流側の圧力変動が上流側に伝播しないと云う特
性に着目し、気体流通路をノズルに代えて微小オリフィ
スとした場合のオリフィス形態と気体流量及びオリフィ
ス上流側の気体圧力P 1 と気体流量の関係について、各
種の測定試験を行った。その結果、気体圧力比P2 /P
1 が気体の臨界圧力比以下である場合には、板状の微小
オリフィスを流通する気体流量は、微小オリフィスの径
が一定の場合には気体の種類に拘わらず、オリフィス上
流側の気体圧力P1 に正比例して変化することを見出し
た。
【0011】即ち、微小オリフィスを流通する気体流量
Qcはオリフィス上流側の圧力P1に正比例することに
なり、オリフィス上流側圧力P1 を自動制御することに
より、オリフィスを流通する流量のフィードバック制御
を行なうことができる。
【0012】また、オリフィスを流通する気体流量は、
オリフィス上流側の流速分布やオリフィス下流側の圧力
変動の影響を受けないため、オリフィス上流側に直管路
を必要とせず、装置の大幅な小形化が計れると共に、圧
力検出器も1基でよく、流量制御装置の製造コストの引
下げが可能となる。
【0013】更に、流量と圧力の関係が一次関数となる
ため、圧力検出器のレンジと流量のレンジとが同一とな
り、従前の差圧式流量形の場合に比較して測定精度が著
しく向上することになる。
【0014】ところで、従来から、ディスクタッチ型の
流量制御弁等の製作に於いても、気体圧力比P2 /P1
が臨界圧力比以下の場合のバルブを通過する気体流量Q
cを、Qc=KSP1 (但し、Sは最小流路面積、P1
は一次側圧力、Kは常数)として演算することが経験的
に行なわれている。
【0015】しかし、当該流量制御弁に於ける実際の気
体流量Qは、Qc=KSP1 で演算した流量の±20%
位いの値となり、前記Qc=KSP1 の関係を気体流量
の精密な測定に応用することは困難な状態にある。
【0016】本願発明は、上述の如き本願発明者等の知
見に基づいて創作されたものであり、オリフィスの上流
側圧力P1 を下流側圧力P2 の約2倍以上に保持した状
態で流体の流量制御を行なう圧力式流量制御装置に於い
て、オリフィス5と,オリフィス5の上流側に設けたコ
ントロール弁2と,コントール弁2とオリフィス5間に
設けた圧力検出器3と,圧力検出器3の検出圧力P1
ら流量QcをQc=KP1 (但しKは定数)として演算
すると共に、流量指令信号Qsと前記演算した流量信号
Qcとの差を制御信号Qyとして前記コントロール弁2
の駆動部14へ出力する演算制御装置6とから構成さ
れ、コントロール弁2の開閉によりオリフィス上流側圧
力P1 を調整し、オリフィス下流側流量を制御すること
を発明の基本構成とするものである。
【0017】
【作用】圧力検出器3によりオリフィス5の上流側の流
体圧力P1 が検出され、演算制御装置6へ入力される。
【0018】演算制御装置6ではQc=KP1 の演算式
を用いて流量Qcが演算されると共に、流量指令値Qs
とQcの比較が行なわれ、両者の差Qc−Qsに相当す
る制御信号Qyがコントロール弁2の駆動部14へ入力
される。
【0019】即ち、コントロール弁2は、前記制御信号
Qyによって前記両者の差Qc−Qsが零になる方向に
開閉制御され、これによってオリフィス下流側の流量Q
cが設定流量(流量指令値)Qsに常時保持される。
【0020】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。図1は本発明に係る流量制御装置のブロック構成
図であり、当該流量制御装置1はコントロール弁2、圧
力検出器3、温度検出器4、オリフィス5、演算制御装
置6、増幅器7a・7b、A/D変換8a・8b、オリ
フィス対応弁9、ガス取出し用継手11等から形成され
ている。
【0021】前記コントロール弁2には、後述する如き
所謂ダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁が使用
されており、また、その駆動部には、圧電素子形駆動装
置が使用されている。尚、コントロール弁2の駆動部と
してはこの他に、磁歪素子形駆動装置やソレノイド型駆
動装置、モータ型駆動装置、空気圧形駆動装置、熱膨張
型駆動装置等の使用が可能である。
【0022】前記圧力検出器3には半導体歪形圧力セン
サーが使用されているが、圧力検出器3としてはこの他
に、金属箔歪形圧力センサーや静電容量形圧力センサ
ー、磁気抵抗形圧力センサー等の使用も可能である。
【0023】また、前記温度検出器4には、熱電対形温
度センサーが使用されているが、測温抵抗形温度センサ
ー等の使用も可能である。
【0024】前記オリフィス5には、板状の金属薄板製
ガスケットに放電加工によって孔部を設けたオリフィス
が使用されているが、オリフィス5としてはこの他に、
極細パイプやエッチングにより金属膜に孔を形成したオ
リフィスを使用することができる。
【0025】前記演算制御装置6は所謂制御回路基板か
ら形成されており、温度補正回路6a、流量演算回路6
b、比較回路6c、増幅回路6d等が具備されている。
【0026】次に、本発明に係る流量制御装置1の作動
について説明する。
【0027】図1を参照して、コントロール弁2の出口
側、即ちオリフィス5の上流側の気体圧力P1 が圧力検
出器3によって検出され、増幅器7a及びA/D変換器
8aを経て、ディジタル化された信号が流量演算回路6
bへ入力される。
【0028】同様に、オリフィス上流側の気体温度T1
が温度検出器4で検出され、増幅器7b及びA/D変換
器8bを経てディジタル化された信号が温度補正回路6
aへ入力される。
【0029】前記演算制御回路6では、圧力信号P1
用いて流量Q′=KP1 が演算されると共に、前記温度
補正回路6aからの補正信号を用いて前記流量Q′の温
度補正が行なわれ、演算流量信号Qcが比較回路6cへ
入力される。
【0030】一方、比較回路6cへは流量指令信号Qs
が入力されており、ここで前記演算流量信号Qcとの比
較が行なわれると共に、両者の差信号Qy=Qc−Qs
が、制御信号としてコントロール弁2の駆動部14へ出
力される。
【0031】即ち、演算流量信号Qcが流量指令信号Q
sより大きい場合には、コントロール弁2を閉鎖する方
向に、また、前記QcがQsより小さい場合にはコント
ロール弁2を開放する方向に弁駆動部14が作動され、
Qc=Qsとなるようにコントロール弁2の開度が自動
制御される。
【0032】尚、本発明に於いては、前記オリフィス5
の上流側の気体圧力P1 と下流側の圧力P2 との間に、
2 /P1 が約0.5より小さいこと、即ちオリフィス
5の上流側圧力P1 が下流側圧力P2 の約2倍より大き
いと云う条件が、常に成立していなければならないこと
は勿論である。
【0033】そのため、図1の点線で示す如く、オリフ
ィス5の上流側気体圧力P1 と下流側気体圧力P2 とを
反転増幅器10へ入力し、圧力P1 と圧力P2 の大きさ
が逆転したような場合(即ち、逆流を生じる状態になっ
た場合)や、或いはP2 /P 1 >0.5の状態になった
場合(即ち、逆流は生じないものの高精度な流量制御が
できなくなった場合)には、コントロール弁2を自動的
に閉鎖するようにしてもよい。
【0034】図2及び図3は、本発明に係る装置の演算
制御装置6を除いた部分の一例を示す縦断面図と横断面
図であり、また、図4及び図5は圧電素子型駆動部の縦
断面図と横断面図である。尚、図2乃至図4に於いて、
2はコントロール弁、3は圧力検出器、5はオリフィ
ス、9はオリフィス対応弁、11はガス取出し用継手、
12は弁本体、13はダイヤフラム、14は駆動部であ
る。
【0035】前記コントロール弁2は、流体入口12
a、弁座12b、弁室12c、圧力検出器取付孔12
c、流体出口12e等を備えたステンレス鋼製の弁本体
12と、ステンレス鋼やニッケル、コバルト合金製のダ
イヤフラム13と、ダイヤフラム13を下方へ押圧する
圧電素子型駆動部14等から形成されている。
【0036】また、前記ダイヤフラム13は皿バネ15
の弾性によって常時下方へ押圧されており、弁座2bへ
接当した状態となっている。
【0037】更に、圧電素子14aへの入力によりこれ
が伸長すると、圧電素子支持材19を介してダイヤフラ
ム押え16が上方へ引き上げられる。その結果、ダイヤ
フラム13が上方へ弾性復帰し、弁座2bから離間する
ことにより、弁が開状態となる。
【0038】尚、本実施例では図4に示すように変位量
16μm、5mm×5mm×18mmのピエゾ素子ユニ
ット14aを3個直列状に組み合せることにより、圧電
素子駆動部14を形成しており、図4及び図5に於い
て、16はダイヤフラム押え、17はベース体、18は
ボール、19は圧電素子支持材(スーパーインバー
材)、20はストローク調整ねじである。
【0039】また、前記圧電素子支持材19の熱膨張率
は圧電素子(ピエゾ素子)の熱膨張率にほぼ近いスーパ
ーインバー材により形成されている。
【0040】図6は圧力検出器3の取付部の詳細を示す
ものであり、本実施例では弁本体12の下面側に設けた
取付孔12d内へ半導体歪ゲージから成る圧力検出器3
が、押えナット21によりメタルOリング22を介して
気密状に取付けされている。
【0041】尚、図6に於いて、23はスリーブ、24
はベアリングであり、また前記メタルOリング22に代
えてメタルCリングやメタルガスケットを用いることが
できる。
【0042】更に、本実施例では、前記圧力検出器取付
孔12dを弁本体12の弁室12cより僅かに下流側寄
りの底面に形成するようにしているが、図7に示す如く
弁本体12の下面側に弁室12cと対向状に取付孔12
dを穿設するようにしてもよい。
【0043】前記オリフィス5は図2に示す如く、前記
圧力検出器3より下流側に設けられており、本実施例で
は、メタルダイヤフラム型のオリフィス対応弁9の弁本
体9aに形成した流体入口9b内に配設され、取付ねじ
25を締込むことによりベアリング24を介して固定さ
れている。尚、図2及び図3に於いて、9cはオリフィ
ス対応弁9の流体出口である。
【0044】図8は、オリフィス5の取付位置をコント
ロール弁2の弁本体12側に設けた例を示すものであ
り、取付構造そのものは、前記オリフィス対応弁9の弁
本体9a側に設けるようにした図2の場合と、全く同一
である。
【0045】図9はオリフィス5の更に他の取付例を示
すものであり、オリフィス5そのものを交換自在に取付
けしたものである。
【0046】即ち、弁本体12のオリフィス取付孔12
f内にリング状の当り面を形成すると共に、オリフィス
挿入孔12gを流体通路と垂直方向に形成し、プレート
状のオリフィス5を挿入孔12gを通して上方より取付
孔12f内へ挿入すると共に、締付押え体26を締込む
ことにより、ベアリング27を介してオリフィス5を固
定するように形成されている。
【0047】また、流量範囲に応じてオリフィス5を取
り替える場合には、前記押え体26をゆるめ、オリフィ
ス5を差し替えたあと、再度押え体26を締込みする。
【0048】本発明では、コントロール弁2の弁本体1
2をブロック化し、これにオリフィス取付孔12fや圧
力検出器取付孔12dを夫々一体的に形成する構成とし
ているため、所謂流量調整装置1の内部に於ける流体通
路空間の容積を大幅に少なくすることができ、ガスの置
換性等が向上する。
【0049】図10及び図11は本発明に係る圧力式流
量制御装置の気体を窒素ガスとした場合の流量制御特性
を示すものであり、図10はオリフィス5の下流側を約
10torrの真空とした場合、また、図11はオリフ
ィス5の下流側を大気圧とした場合を夫々示すものであ
る。
【0050】図10及び図11からも明らかなように、
上流側圧力P1 が下流側圧力P2 の約2倍を越える範囲
に於いては、流量QcとP1 とはリニアな関係に保持さ
れている。尚、図10及び図11に於いて曲線A、B、
Cは夫々オリフィス内径を0.37mmφ、0.20m
mφ、0.07mmφとした場合を示すものである。
【0051】表1は、本発明に係る圧力式流量制御装置
と従前の差圧式流量制御装置の精度等を、圧力検出器の
測定範囲と精度を同一と仮定して比較したものである。
【0052】
【表1】
【0053】この表からも明らかなように、本件発明は
差圧式流量制御装置に比較して、流量測定精度や測定可
能範囲の点で優れていると共に、装置をより小形化でき
ることが判る。
【0054】また、表2は、従前の標準的なマスフロー
コントローラと本願発明の特性等を比較したものであ
る。この表からも明らかなように、本願発明は低流量域
に於ける測定精度及び製造コスト等の点で、マスフロー
コントローラに優るものであることが判る。
【0055】
【表2】
【0056】
【発明の効果】本発明では上述の通り、オリフィスの上
流側圧力P1 をオリフィスの下流側圧力P2 の約2倍以
上に保持することにより、前記圧力P1 とオリフィス下
流側流量との間に一次函数関係を成立させ、これに基づ
いて前記上流側圧力P1 を調整することにより、下流側
流量Qcを設定値に自動制御する構成としている。
【0057】その結果、従前のマスフローコントローラ
に比較して、低流量域に於ける測定精度を高めることが
できると共に、故障も少なくすることができ、しかも、
製造コストの大幅な引下げを図り得る等の優れた効用が
得られる。
【0058】また、本願発明では、従前の差圧式流量制
御装置に比較してより高い流量検出精度が得られると共
に、装置の小形化並びに製造コストの引下げを図ること
ができる。
【0059】更に、本発明では、オリフィス上流側の圧
力P1 を制御することにより、オリフィス下流側流量を
圧力P1 の一次関数の型で得る構成としているため、所
謂流量のフィードバック制御が容易となり、制御装置の
安定性の向上や製造コストの引下げが可能となる。
【0060】本発明は上述の通り、優れた実用的効用を
奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る圧力式流量制御装置の構成を示す
ブロック図である。
【図2】圧力式流量制御装置の縦断面図である。
【図3】圧力式流量制御装置の横断面図である。
【図4】コントロール弁の圧電素子形駆動部の縦断面図
である。
【図5】図4のイ−イ視断面図である。
【図6】圧力式流量制御装置の圧力検出器の取付部を示
す部分縦断面図である。
【図7】圧力式流量制御装置の他の実施例を示す縦断面
図である。
【図8】オリフィスをコントロール弁の弁本体に設けた
場合の他の例を示す部分縦断面図である。
【図9】オリフィスをコントロール弁の弁本体に設けた
場合の更に他の例を示す部分縦断面図である。
【図10】本発明に係る圧力式流量制御装置の流量制御
特性を示すものである(オリフィスの下流側圧力が真空
の場合)。
【図11】本発明に係る圧力式流量制御装置の流量制御
特性を示すものである(オリフィスの下流側圧力が大気
圧の場合)。
【図12】従前の差圧式流量制御装置のブロック線図で
ある。
【符号の説明】
1は流量制御装置、2はコントロール弁、3は圧力検出
器、4は温度検出器、5はオリフィス、6は演算制御装
置、7a・7bは増幅器、8a・8bはA/D変換器、
9はオリフィス対応弁、9aは弁本体、9bは流体入
口、9cは流体出口、10は反転増幅器、11はガス取
出し用継手、12は弁本体、12aは流体入口、12b
は弁座、12cは弁室、12dは圧力検出器取付孔、1
2eは流体出口、12fはオリフィス取付孔、12gは
オリフィス挿入孔、13はダイヤフラム、14は駆動
部、14aは圧電素子、15は皿バネ、16はダイヤフ
ラム押え、17はベース本体、18はボール、19は圧
電素子支持材、20はストローク調整ねじ、21は押え
ナット、22はOリング、23はスリーブ、24・27
はベアリング、25は取付ねじ、26は締付押え体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 皆見 幸男 大阪府大阪市西区立売堀2丁目3番2号 株式会社フジキン内 (72)発明者 川田 幸司 大阪府大阪市西区立売堀2丁目3番2号 株式会社フジキン内 (72)発明者 土肥 亮介 大阪府大阪市西区立売堀2丁目3番2号 株式会社フジキン内 (72)発明者 福田 浩幸 大阪府大阪市西区立売堀2丁目3番2号 株式会社フジキン内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オリフィスの上流側圧力P1 を下流側圧
    力P2 の約2倍以上に保持した状態で流体の流量制御を
    行なう圧力式流量制御装置に於いて、オリフィス(5)
    と,オリフィス(5)の上流側に設けたコントロール弁
    (2)と,コントロール弁(2)とオリフィス(5)間
    に設けた圧力検出器(3)と,圧力検出器(3)の検出
    圧力P1 から流量QcをQc=KP1 (但しKは定数)
    として演算すると共に、流量指令信号Qsと前記演算し
    た流量信号Qcとの差を制御信号Qyとして前記コント
    ロール弁(2)の駆動部(14)へ出力する演算制御装
    置(6)とから構成され、コントロール弁(2)の開閉
    によりオリフィス上流側圧力P1 を調整し、オリフィス
    下流側流量を制御することを特徴とする圧力式流量制御
    装置。
  2. 【請求項2】 オリフィス(5)を交換自在に取付けす
    る構成とした請求項1に記載の圧力式流量制御装置。
  3. 【請求項3】 コントロール弁(2)の弁本体(12)
    に圧力検出器(3)の取付孔(12d)及びオリフィス
    (5)の取付孔(12f)を夫々設け、コントロール弁
    (2)の弁本体(12)をブロック化して成る請求項1
    に記載の圧力式流量制御装置。
  4. 【請求項4】 オリフィス(5)をコントロール弁
    (2)の弁本体(12)のオリフィス取付孔(12f)
    内へ交換自在に挿着して成る請求項3に記載の圧力式流
    量制御装置。
JP14472295A 1995-06-12 1995-06-12 圧力式流量制御装置 Expired - Fee Related JP3291161B2 (ja)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14472295A JP3291161B2 (ja) 1995-06-12 1995-06-12 圧力式流量制御装置
TW085105996A TW300947B (ja) 1995-06-12 1996-05-21
DE69615933T DE69615933T2 (de) 1995-06-12 1996-05-29 Durchflussdruckregelgerät
EP96303817A EP0749058B1 (en) 1995-06-12 1996-05-29 Pressure type flow rate control apparatus
KR1019960018765A KR0173535B1 (ko) 1995-06-12 1996-05-30 압력식 유량제어장치
CA002177790A CA2177790C (en) 1995-06-12 1996-05-30 Pressure type flow rate control apparatus
IL11858696A IL118586A (en) 1995-06-12 1996-06-05 Fluid pressure flow rate control apparatus
US08/661,181 US5669408A (en) 1995-06-12 1996-06-10 Pressure type flow rate control apparatus
US08/812,330 US5791369A (en) 1995-06-12 1997-03-05 Pressure type flow rate control apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14472295A JP3291161B2 (ja) 1995-06-12 1995-06-12 圧力式流量制御装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08338546A true JPH08338546A (ja) 1996-12-24
JP3291161B2 JP3291161B2 (ja) 2002-06-10

Family

ID=15368800

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14472295A Expired - Fee Related JP3291161B2 (ja) 1995-06-12 1995-06-12 圧力式流量制御装置

Country Status (8)

Country Link
US (2) US5669408A (ja)
EP (1) EP0749058B1 (ja)
JP (1) JP3291161B2 (ja)
KR (1) KR0173535B1 (ja)
CA (1) CA2177790C (ja)
DE (1) DE69615933T2 (ja)
IL (1) IL118586A (ja)
TW (1) TW300947B (ja)

Cited By (69)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1055218A (ja) * 1996-08-12 1998-02-24 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置
JPH10268942A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Nippon Aera Kk 音速ノズルを用いた流量制御弁
JPH10275018A (ja) * 1997-03-31 1998-10-13 Hitachi Metals Ltd マスフローコントローラ
WO1999009324A1 (fr) 1997-08-15 1999-02-25 Fujikin Incorporated Orifice pour regulateur debitmetrique a pression et procede de fabrication de l'orifice
JPH1163265A (ja) * 1997-08-15 1999-03-05 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置
JPH11212653A (ja) * 1998-01-21 1999-08-06 Fujikin Inc 流体供給装置
JPH11265216A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Omi Tadahiro 圧力式流量制御装置
JPH11265217A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Omi Tadahiro 圧力式流量制御装置
JPH11280932A (ja) * 1998-03-31 1999-10-15 Taiheiyo Cement Corp 駆動装置
JPH11345027A (ja) * 1998-05-29 1999-12-14 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備
JP2000035821A (ja) * 1998-07-17 2000-02-02 Horiba Ltd 気体流量制御装置
JP2000035822A (ja) * 1998-07-17 2000-02-02 Horiba Ltd 希釈用ガス流量制御装置
JP2000066732A (ja) * 1998-08-24 2000-03-03 Tadahiro Omi 流体可変型流量制御装置
JP2000075931A (ja) * 1998-08-31 2000-03-14 Stec Kk 流路絞りノズルを備えた制御バルブ
JP2000122725A (ja) * 1998-10-19 2000-04-28 Ckd Corp ガス供給制御装置
JP2000205428A (ja) * 1999-01-14 2000-07-25 Stec Inc ピエゾ方式の流量調整弁駆動部構造
JP2000259255A (ja) * 1999-03-11 2000-09-22 Ckd Corp ガス供給制御装置
WO2000063756A1 (fr) * 1999-04-16 2000-10-26 Fujikin Incorporated Dispositif d'alimentation en fluide du type derivation parallele, et procede et dispositif de commande du debit d'un systeme de pression du type a fluide variable utilise dans ledit dispositif
JP2000305630A (ja) * 1999-04-16 2000-11-02 Tadahiro Omi 並列分流型の流体供給装置
JP2000323464A (ja) * 1999-04-22 2000-11-24 Tokyo Electron Ltd 半導体製造装置用のガス供給装置及びガス供給方法
JP2000322130A (ja) * 1999-05-10 2000-11-24 Fujikin Inc フローファクターによる流体可変型流量制御方法およびその装置
JP2001051724A (ja) * 1999-08-10 2001-02-23 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置における流量異常検知方法
JP2001147722A (ja) * 1999-11-22 2001-05-29 Ace:Kk ガス流量制御装置
JP2001513922A (ja) * 1997-02-11 2001-09-04 エンジニアリング メジャメンツ カンパニー 微小質量流量制御装置および方法
JP2001521662A (ja) * 1997-04-18 2001-11-06 ツェットエフ、フリードリッヒスハーフェン、アクチエンゲゼルシャフト 圧力制御弁
JP2002513899A (ja) * 1998-05-05 2002-05-14 ランデイ レンツオ ソチエタ ペル アチオーニ ガス状流体用電磁弁
JP2003194648A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Tadahiro Omi 圧力センサ、圧力制御装置及び圧力式流量制御装置の温度ドリフト補正装置
JP2003270010A (ja) * 2002-03-19 2003-09-25 Ckd Corp 流量設定装置及び流量計測器
JP2004138425A (ja) * 2002-10-16 2004-05-13 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置の温度測定装置
JP2004185169A (ja) * 2002-12-02 2004-07-02 Fujikin Inc レイノズル数を用いた圧力式流量制御方法及びCd−Re関係測定方法
JP2005038239A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Horiba Stec Co Ltd 流量比率制御装置
WO2005013026A1 (ja) * 2003-07-31 2005-02-10 Fujikin Incorporated チャンバへのガス供給装置及びこれを用いたチャンバの内圧制御方法
US7059363B2 (en) 2002-06-03 2006-06-13 Fujikin Incorporated Method of supplying divided gas to a chamber from a gas supply apparatus equipped with a flow-rate control system
WO2008004334A1 (fr) 2006-07-03 2008-01-10 Fujikin Incorporated Procédé de détection de dysfonctionnement de valve côté aval à mécanisme de restriction de dispositif de régulation de débit de pression
JP2009145986A (ja) * 2007-12-11 2009-07-02 Fujikin Inc 圧力制御式流量基準器及びこれに用いる耐食性圧力式流量制御器
WO2009084422A1 (ja) * 2007-12-27 2009-07-09 Horiba Stec, Co., Ltd. 流量比率制御装置
US7669455B2 (en) 2003-06-20 2010-03-02 Fujikin Incorporated Automatic zero point correction device for a pressure sensor, a pressure control device and a pressure type flow rate control device
JP2010176707A (ja) * 2004-02-12 2010-08-12 Entegris Inc フローモニタリングおよび制御のためのシステムおよび方法
US7798167B2 (en) 2003-10-06 2010-09-21 Fujikin Incorporated Internal pressure controller of chamber and internal pressure subject-to-control type chamber
US7945414B2 (en) 2005-09-01 2011-05-17 Fujikin Incorporated Method for detecting abnormality in fluid supply line using fluid control apparatus with pressure sensor
US8418714B2 (en) 2005-06-27 2013-04-16 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
US8496022B2 (en) 2003-06-20 2013-07-30 Fujikin Incorporated Device and method for supplying gas while dividing to chamber from gas supplying facility equipped with flow controller
US8587180B2 (en) 2008-04-25 2013-11-19 Fujikin Incorporated Pressure control valve driving circuit for pressure type flow rate control device with flow rate self-diagnosis function
US8601976B2 (en) 2007-09-25 2013-12-10 Fujikin Incorporated Gas supply system for semiconductor manufacturing facilities
JP2014049034A (ja) * 2012-09-03 2014-03-17 Horiba Ltd 流量制御装置
US8931506B2 (en) 2008-04-01 2015-01-13 Fujikin Incorporated Gas supply apparatus equipped with vaporizer
WO2015064035A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
WO2015083343A1 (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
KR20150082624A (ko) 2013-03-26 2015-07-15 가부시키가이샤 후지킨 유량 제어 장치용 유량 제어 밸브
JP2015138338A (ja) * 2014-01-21 2015-07-30 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法。
US9133951B2 (en) 2005-08-26 2015-09-15 Fujikin Incorporated Gasket type orifice and pressure type flow rate control apparatus for which the orifice is employed
US9163743B2 (en) 2009-12-01 2015-10-20 Fujikin Incorporated Piezoelectrically driven valve and piezoelectrically driven flow rate control device
CN105204532A (zh) * 2014-06-18 2015-12-30 中国科学院大连化学物理研究所 一种用于离子迁移谱的气体流量控制装置
WO2016013172A1 (ja) * 2014-07-23 2016-01-28 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
KR20160045889A (ko) 2014-02-24 2016-04-27 가부시키가이샤 후지킨 압전식 리니어 액츄에이터, 압전 구동 밸브, 및 유량 제어 장치
KR20160050054A (ko) * 2013-09-04 2016-05-10 가부시키가이샤 호리바 에스텍 인터레이스 리프팅 기구
US9383758B2 (en) 2005-06-27 2016-07-05 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
US9574917B2 (en) 2009-12-01 2017-02-21 Fujikin Incorporated Pressure type flow rate control device
US9746856B2 (en) 2013-04-25 2017-08-29 Fujikin Incorporated Multi-hole orifice plate for flow control, and flow controller using the same
KR20170134678A (ko) 2015-08-21 2017-12-06 가부시키가이샤 후지킨 압전식 리니어 액츄에이터, 압전 구동 밸브 및 유량 제어 장치
US9921089B2 (en) 2005-06-27 2018-03-20 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
KR20180030089A (ko) * 2015-07-10 2018-03-21 피포탈 시스템즈 코포레이션 가스 흐름 제어 방법 및 장치
KR20190002610A (ko) 2016-08-24 2019-01-08 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치, 그 유량 산출 방법 및 유량 제어 방법
US10274972B2 (en) * 2015-09-16 2019-04-30 Tokyo Electron Limited Method of inspecting gas supply system
KR20200045418A (ko) 2018-10-22 2020-05-04 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 검사 방법 및 유량 제어기
KR20200045417A (ko) 2018-10-22 2020-05-04 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 검사 방법 및 검사 장치
TWI723046B (zh) * 2015-09-16 2021-04-01 日商東京威力科創股份有限公司 檢查氣體供給系統之方法
KR20220047806A (ko) 2019-12-27 2022-04-19 가부시키가이샤 후지킨 유량 제어 장치 및 유량 제어 방법
WO2023032393A1 (ja) * 2021-08-31 2023-03-09 株式会社フジキン ダイヤフラムバルブおよび流量制御装置

Families Citing this family (73)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2837112B2 (ja) * 1995-06-09 1998-12-14 株式会社平井 音速ノズルを用いた質量流量制御方法および装置
US6076637A (en) * 1998-03-23 2000-06-20 Tranergy Corporation Top-of-rail lubrication rate control by the hydraulic pulse width modulation method
DE69917837T2 (de) * 1998-07-17 2005-06-23 Horiba Ltd. Vorrichtung zur Regelung des Durchflusses eines Gases
ATE252741T1 (de) * 1998-08-24 2003-11-15 Fujikin Kk Verfahren zur erkennung einer verstopfung in einem druckmessenden durchflussre- gler und ein für diesen zweck verwendeter sensor
US6152162A (en) 1998-10-08 2000-11-28 Mott Metallurgical Corporation Fluid flow controlling
US6155289A (en) * 1999-05-07 2000-12-05 International Business Machines Method of and system for sub-atmospheric gas delivery with backflow control
US6192922B1 (en) 1999-06-01 2001-02-27 Synetics Solutions Inc. Airflow control valve for a clean room
US6581623B1 (en) 1999-07-16 2003-06-24 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels
US6302139B1 (en) 1999-07-16 2001-10-16 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels
JP2001201414A (ja) * 2000-01-20 2001-07-27 Smc Corp 複合センサ及び複合センサを備えたフローコントローラ
US6830060B2 (en) * 2000-06-27 2004-12-14 Siemens Vdo Automotive, Inc. Air mass flow controller valve
US20040025598A1 (en) * 2000-09-21 2004-02-12 Festo Ag & Co. Integrated fluid sensing device
US6832628B2 (en) * 2000-10-11 2004-12-21 Flowmatrix, Inc. Variable pressure regulated flow controllers
US6631334B2 (en) * 2000-12-26 2003-10-07 Mks Instruments, Inc. Pressure-based mass flow controller system
US6564824B2 (en) 2001-04-13 2003-05-20 Flowmatrix, Inc. Mass flow meter systems and methods
CN1514960A (zh) * 2001-04-24 2004-07-21 �����ػ��������豸���޹�˾ 调整和配置质量流量控制器的系统和方法
US6711956B2 (en) * 2001-10-31 2004-03-30 Macronix International Co., Ltd. Method and apparatus for regulating exhaust pressure in evacuation system of semiconductor process chamber
WO2004010234A2 (en) * 2002-07-19 2004-01-29 Celerity Group, Inc. Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller
US6769299B2 (en) * 2003-01-08 2004-08-03 Fetso Corporation Integral dual technology flow sensor
JP4195819B2 (ja) * 2003-01-17 2008-12-17 忠弘 大見 弗化水素ガスの流量制御方法及びこれに用いる弗化水素ガス用流量制御装置
JP3754678B2 (ja) 2003-04-16 2006-03-15 株式会社フジキン 耐食金属製熱式質量流量センサとこれを用いた流体供給機器
JP2005079141A (ja) * 2003-08-28 2005-03-24 Asm Japan Kk プラズマcvd装置
US6901794B2 (en) * 2003-10-16 2005-06-07 Festo Corporation Multiple technology flow sensor
JP2005241279A (ja) 2004-02-24 2005-09-08 Fujikin Inc 耐食金属製流体用センサ及びこれを用いた流体供給機器
JP2005307233A (ja) * 2004-04-19 2005-11-04 Tokyo Electron Ltd 成膜装置及び成膜方法及びプロセスガスの供給方法
JP4421393B2 (ja) * 2004-06-22 2010-02-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
US7117104B2 (en) * 2004-06-28 2006-10-03 Celerity, Inc. Ultrasonic liquid flow controller
US7216019B2 (en) * 2004-07-08 2007-05-08 Celerity, Inc. Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity
JP4560394B2 (ja) * 2004-12-13 2010-10-13 長州産業株式会社 薄膜形成用分子供給装置
US20060219301A1 (en) * 2005-04-05 2006-10-05 Reid Kenneth E Ii System and method for maintaining pressure and flow in a vent header
TW200739039A (en) * 2005-08-12 2007-10-16 Celerity Inc Ultrasonic flow sensor
JP4911933B2 (ja) * 2005-08-31 2012-04-04 サーパス工業株式会社 圧力計および圧力計組立体
JP2007102754A (ja) * 2005-09-09 2007-04-19 Advance Denki Kogyo Kk 流量制御装置
US7814936B2 (en) * 2005-11-16 2010-10-19 Fisher Controls International Llc Sound pressure level feedback control
US20080029170A1 (en) * 2006-08-02 2008-02-07 O'reilly Edward Three-in-one valve and control system
WO2009141947A1 (ja) * 2008-05-21 2009-11-26 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置を用いた流体の非連続式流量切替制御方法
US7826986B2 (en) * 2008-09-26 2010-11-02 Advanced Energy Industries, Inc. Method and system for operating a mass flow controller
WO2010045246A1 (en) * 2008-10-14 2010-04-22 Circor Instrumentation Technologies, Inc. Method and apparatus for low powered and/or high pressure flow control
DE102008055854B4 (de) * 2008-11-04 2011-05-12 Abb Technology Ag Elektropneumatischer Wandler mit einem pneumatischen Druckregelventil
US20110226354A1 (en) * 2010-03-17 2011-09-22 Petur Thordarson Flow Controller
US9157643B2 (en) * 2010-10-14 2015-10-13 Fimcim S.P.A. Conditioning plant
KR101550255B1 (ko) 2011-05-10 2015-09-04 가부시키가이샤 후지킨 유량 모니터 부착 압력식 유량 제어 장치와, 이것을 사용한 유체 공급계의 이상 검출 방법 및 모니터 유량 이상 시의 처치 방법
GB201109290D0 (en) * 2011-06-02 2011-07-20 Linde Ag A flow apparatus and monitoring system relating thereto
JP5755958B2 (ja) 2011-07-08 2015-07-29 株式会社フジキン 半導体製造装置の原料ガス供給装置
US9958302B2 (en) 2011-08-20 2018-05-01 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US9188989B1 (en) 2011-08-20 2015-11-17 Daniel T. Mudd Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device
JP5647083B2 (ja) 2011-09-06 2014-12-24 株式会社フジキン 原料濃度検出機構を備えた原料気化供給装置
JP5754853B2 (ja) * 2012-01-30 2015-07-29 株式会社フジキン 半導体製造装置のガス分流供給装置
JP5665793B2 (ja) * 2012-04-26 2015-02-04 株式会社フジキン 可変オリフィス型圧力制御式流量制御器
US9454158B2 (en) 2013-03-15 2016-09-27 Bhushan Somani Real time diagnostics for flow controller systems and methods
US20150101677A1 (en) * 2013-10-15 2015-04-16 Continental Automotive Systems, Inc. Integrated pressure transducer in a latching valve
JP6399085B2 (ja) * 2014-03-20 2018-10-03 日立金属株式会社 熱式質量流量計及びこれを用いた質量流量制御装置
US9605346B2 (en) * 2014-03-28 2017-03-28 Lam Research Corporation Systems and methods for pressure-based liquid flow control
US9904299B2 (en) * 2015-04-08 2018-02-27 Tokyo Electron Limited Gas supply control method
JP6871636B2 (ja) * 2016-03-29 2021-05-12 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置及び流量自己診断方法
US10838437B2 (en) 2018-02-22 2020-11-17 Ichor Systems, Inc. Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same
US11144075B2 (en) 2016-06-30 2021-10-12 Ichor Systems, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US10679880B2 (en) 2016-09-27 2020-06-09 Ichor Systems, Inc. Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same
US10303189B2 (en) 2016-06-30 2019-05-28 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
KR102384046B1 (ko) * 2016-09-12 2022-04-07 가부시키가이샤 호리바 에스텍 유량 비율 제어 장치, 유량 비율 제어 장치용 프로그램, 및 유량 비율 제어 방법
US10663337B2 (en) 2016-12-30 2020-05-26 Ichor Systems, Inc. Apparatus for controlling flow and method of calibrating same
US10671099B2 (en) 2017-01-09 2020-06-02 Saudi Arabian Oil Company Gas assisted chemical injection system
US10983537B2 (en) 2017-02-27 2021-04-20 Flow Devices And Systems Inc. Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller
WO2019026417A1 (ja) * 2017-07-31 2019-02-07 株式会社フジキン ガス供給システム
CN111971636B (zh) * 2018-04-19 2023-12-12 株式会社堀场Stec 流量控制装置、诊断方法和存储介质
KR102436497B1 (ko) * 2019-11-01 2022-08-26 주식회사 엘지화학 폴리이미드 공중합체 및 이를 포함하는 폴리이미드 필름
KR20220100897A (ko) * 2019-11-18 2022-07-18 스웨이지락 캄파니 제어된 밸브 유량을 위한 배열 및 방법
JP7208676B2 (ja) * 2019-12-25 2023-01-19 株式会社フジキン 圧力制御装置
RU198735U1 (ru) * 2020-06-02 2020-07-24 Общество с ограниченной ответственностью "Промавтоматика-Саров" Клапан отсекатель
JP7424322B2 (ja) * 2021-01-19 2024-01-30 Smc株式会社 流体圧力制御装置
JP7583186B2 (ja) 2021-03-03 2024-11-13 アイコール・システムズ・インク マニホールドアセンブリを備える流体流れ制御システム
US11585206B2 (en) 2021-03-09 2023-02-21 Saudi Arabian Oil Company Injection of additives into a produced hydrocarbon line
US11920784B2 (en) 2021-05-10 2024-03-05 Saudi Arabian Oil Company Total flare gas recovery system

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3067734D1 (en) * 1979-03-16 1984-06-14 Lucas Ind Plc Improvements in high pressure hydraulic systems
US4431020A (en) * 1981-10-08 1984-02-14 Marotta Scientific Controls, Inc. Flow-control system having a wide range of flow-rate control
DE3247325C2 (de) * 1982-12-21 1990-02-15 Grünbeck Wasseraufbereitung GmbH, 8884 Höchstädt Rohrtrenner
US4508127A (en) * 1983-03-30 1985-04-02 The Garrett Corporation Fuel mass flow measurement and control system
SE8801299L (sv) * 1988-04-08 1989-10-09 Bertil Hoeoek Mikromekanisk envaegsventil
US4836233A (en) * 1988-06-06 1989-06-06 Eclipse Ion Technology, Inc. Method and apparatus for venting vacuum processing equipment
US5146941A (en) * 1991-09-12 1992-09-15 Unitech Development Corp. High turndown mass flow control system for regulating gas flow to a variable pressure system
US5148829A (en) * 1991-10-25 1992-09-22 Deville Wayne E Multi-orifice plate and fitting with positioner and differential selector
GB9212122D0 (en) * 1992-06-09 1992-07-22 Technolog Ltd Water supply pressure control apparatus
US5190068A (en) * 1992-07-02 1993-03-02 Brian Philbin Control apparatus and method for controlling fluid flows and pressures

Cited By (106)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1055218A (ja) * 1996-08-12 1998-02-24 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置
JP2001513922A (ja) * 1997-02-11 2001-09-04 エンジニアリング メジャメンツ カンパニー 微小質量流量制御装置および方法
JPH10268942A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Nippon Aera Kk 音速ノズルを用いた流量制御弁
JPH10275018A (ja) * 1997-03-31 1998-10-13 Hitachi Metals Ltd マスフローコントローラ
JP2001521662A (ja) * 1997-04-18 2001-11-06 ツェットエフ、フリードリッヒスハーフェン、アクチエンゲゼルシャフト 圧力制御弁
WO1999009324A1 (fr) 1997-08-15 1999-02-25 Fujikin Incorporated Orifice pour regulateur debitmetrique a pression et procede de fabrication de l'orifice
JPH1163265A (ja) * 1997-08-15 1999-03-05 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置
US6158679A (en) * 1997-08-15 2000-12-12 Fujikin Incorporated Orifice for pressure type flow rate control unit and process for manufacturing orifice
EP0952505A4 (en) * 1997-08-15 2004-04-21 Fujikin Kk PRESSURE DRIVEN FLOW CONTROL DEVICE
JPH11212653A (ja) * 1998-01-21 1999-08-06 Fujikin Inc 流体供給装置
JPH11265216A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Omi Tadahiro 圧力式流量制御装置
JPH11265217A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Omi Tadahiro 圧力式流量制御装置
JPH11280932A (ja) * 1998-03-31 1999-10-15 Taiheiyo Cement Corp 駆動装置
JP2002513899A (ja) * 1998-05-05 2002-05-14 ランデイ レンツオ ソチエタ ペル アチオーニ ガス状流体用電磁弁
JPH11345027A (ja) * 1998-05-29 1999-12-14 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備
JP2000035822A (ja) * 1998-07-17 2000-02-02 Horiba Ltd 希釈用ガス流量制御装置
JP2000035821A (ja) * 1998-07-17 2000-02-02 Horiba Ltd 気体流量制御装置
JP2000066732A (ja) * 1998-08-24 2000-03-03 Tadahiro Omi 流体可変型流量制御装置
JP2000075931A (ja) * 1998-08-31 2000-03-14 Stec Kk 流路絞りノズルを備えた制御バルブ
JP2000122725A (ja) * 1998-10-19 2000-04-28 Ckd Corp ガス供給制御装置
JP2000205428A (ja) * 1999-01-14 2000-07-25 Stec Inc ピエゾ方式の流量調整弁駆動部構造
JP2000259255A (ja) * 1999-03-11 2000-09-22 Ckd Corp ガス供給制御装置
JP2000305630A (ja) * 1999-04-16 2000-11-02 Tadahiro Omi 並列分流型の流体供給装置
EP2028577A2 (en) 1999-04-16 2009-02-25 Fujikin Incorporated Parallel bypass type fluid feeding device, and method and device for controlling fluid variable type pressure system flow rate used for the device
KR100427563B1 (ko) * 1999-04-16 2004-04-27 가부시키가이샤 후지킨 병렬분류형 유체공급장치와, 이것에 사용하는 유체가변형압력식 유량제어방법 및 유체가변형 압력식 유량제어장치
WO2000063756A1 (fr) * 1999-04-16 2000-10-26 Fujikin Incorporated Dispositif d'alimentation en fluide du type derivation parallele, et procede et dispositif de commande du debit d'un systeme de pression du type a fluide variable utilise dans ledit dispositif
JP2000323464A (ja) * 1999-04-22 2000-11-24 Tokyo Electron Ltd 半導体製造装置用のガス供給装置及びガス供給方法
JP2000322130A (ja) * 1999-05-10 2000-11-24 Fujikin Inc フローファクターによる流体可変型流量制御方法およびその装置
US6450190B2 (en) 1999-08-10 2002-09-17 Tadahiro Ohmi Method of detecting abnormalities in flow rate in pressure-type flow controller
JP2001051724A (ja) * 1999-08-10 2001-02-23 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置における流量異常検知方法
JP2001147722A (ja) * 1999-11-22 2001-05-29 Ace:Kk ガス流量制御装置
WO2003058187A1 (fr) * 2001-12-28 2003-07-17 Fujikin Incorporated Capteur de pression, regulateur de pression et correcteur de derive de temperature d'un regulateur de debit du type commande par la pression
JP2003194648A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Tadahiro Omi 圧力センサ、圧力制御装置及び圧力式流量制御装置の温度ドリフト補正装置
US7085628B2 (en) 2001-12-28 2006-08-01 Fujikin Incorporated Apparatus for the correction of temperature drift for pressure sensor, pressure control apparatus and pressure-type flow rate control apparatus
JP2003270010A (ja) * 2002-03-19 2003-09-25 Ckd Corp 流量設定装置及び流量計測器
US7059363B2 (en) 2002-06-03 2006-06-13 Fujikin Incorporated Method of supplying divided gas to a chamber from a gas supply apparatus equipped with a flow-rate control system
JP2004138425A (ja) * 2002-10-16 2004-05-13 Tadahiro Omi 圧力式流量制御装置の温度測定装置
JP2004185169A (ja) * 2002-12-02 2004-07-02 Fujikin Inc レイノズル数を用いた圧力式流量制御方法及びCd−Re関係測定方法
US7669455B2 (en) 2003-06-20 2010-03-02 Fujikin Incorporated Automatic zero point correction device for a pressure sensor, a pressure control device and a pressure type flow rate control device
US9098082B2 (en) 2003-06-20 2015-08-04 Fujikin Incorporated Device and method for supplying gas while dividing to chamber from gas supplying facility equipped with flow controller
US8496022B2 (en) 2003-06-20 2013-07-30 Fujikin Incorporated Device and method for supplying gas while dividing to chamber from gas supplying facility equipped with flow controller
JP2005038239A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Horiba Stec Co Ltd 流量比率制御装置
US7594517B2 (en) 2003-07-31 2009-09-29 Fujikin Incorporated Gas supply facility of a chamber and a method for an internal pressure control of the chamber for which the facility is employed
WO2005013026A1 (ja) * 2003-07-31 2005-02-10 Fujikin Incorporated チャンバへのガス供給装置及びこれを用いたチャンバの内圧制御方法
US7798167B2 (en) 2003-10-06 2010-09-21 Fujikin Incorporated Internal pressure controller of chamber and internal pressure subject-to-control type chamber
JP2010176707A (ja) * 2004-02-12 2010-08-12 Entegris Inc フローモニタリングおよび制御のためのシステムおよび方法
JP2013058251A (ja) * 2004-02-12 2013-03-28 Entegris Inc フローモニタリングおよび制御のためのシステムおよび方法
US9010369B2 (en) 2005-06-27 2015-04-21 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
US9921089B2 (en) 2005-06-27 2018-03-20 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
US9383758B2 (en) 2005-06-27 2016-07-05 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
US8418714B2 (en) 2005-06-27 2013-04-16 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
US9133951B2 (en) 2005-08-26 2015-09-15 Fujikin Incorporated Gasket type orifice and pressure type flow rate control apparatus for which the orifice is employed
US7945414B2 (en) 2005-09-01 2011-05-17 Fujikin Incorporated Method for detecting abnormality in fluid supply line using fluid control apparatus with pressure sensor
US8606412B2 (en) 2006-07-03 2013-12-10 Fujikin Incorporated Method for detecting malfunction of valve on the downstream side of throttle mechanism of pressure type flow control apparatus
WO2008004334A1 (fr) 2006-07-03 2008-01-10 Fujikin Incorporated Procédé de détection de dysfonctionnement de valve côté aval à mécanisme de restriction de dispositif de régulation de débit de pression
US8601976B2 (en) 2007-09-25 2013-12-10 Fujikin Incorporated Gas supply system for semiconductor manufacturing facilities
JP2009145986A (ja) * 2007-12-11 2009-07-02 Fujikin Inc 圧力制御式流量基準器及びこれに用いる耐食性圧力式流量制御器
TWI463287B (zh) * 2007-12-27 2014-12-01 Horiba Stec Co 流量比率控制裝置
WO2009084422A1 (ja) * 2007-12-27 2009-07-09 Horiba Stec, Co., Ltd. 流量比率制御装置
US8931506B2 (en) 2008-04-01 2015-01-13 Fujikin Incorporated Gas supply apparatus equipped with vaporizer
US8587180B2 (en) 2008-04-25 2013-11-19 Fujikin Incorporated Pressure control valve driving circuit for pressure type flow rate control device with flow rate self-diagnosis function
US9163743B2 (en) 2009-12-01 2015-10-20 Fujikin Incorporated Piezoelectrically driven valve and piezoelectrically driven flow rate control device
US9574917B2 (en) 2009-12-01 2017-02-21 Fujikin Incorporated Pressure type flow rate control device
JP2014049034A (ja) * 2012-09-03 2014-03-17 Horiba Ltd 流量制御装置
KR20150082624A (ko) 2013-03-26 2015-07-15 가부시키가이샤 후지킨 유량 제어 장치용 유량 제어 밸브
US9625047B2 (en) 2013-03-26 2017-04-18 Fujikin Incorporated Flow control valve for flow controller
US9746856B2 (en) 2013-04-25 2017-08-29 Fujikin Incorporated Multi-hole orifice plate for flow control, and flow controller using the same
JP2016537956A (ja) * 2013-09-04 2016-12-01 株式会社堀場エステック インターレース昇降機構
US10865903B2 (en) 2013-09-04 2020-12-15 Horiba Stec, Co., Ltd. Interlace lifting mechanism
KR20160050054A (ko) * 2013-09-04 2016-05-10 가부시키가이샤 호리바 에스텍 인터레이스 리프팅 기구
US10386863B2 (en) 2013-10-31 2019-08-20 Fuiikin Incorporated Pressure-type flow controller
WO2015064035A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP2015109022A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
WO2015083343A1 (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
KR20160028474A (ko) 2013-12-05 2016-03-11 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
KR20180108851A (ko) 2013-12-05 2018-10-04 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
US10372145B2 (en) 2013-12-05 2019-08-06 Fujikin Incorporated Pressure-type flow rate control device
CN105940357B (zh) * 2014-01-21 2019-05-14 株式会社富士金 压力式流量控制装置及其流量控制开始时的超量防止方法
CN105940357A (zh) * 2014-01-21 2016-09-14 株式会社富士金 压力式流量控制装置及其流量控制开始时的超量防止方法
JP2015138338A (ja) * 2014-01-21 2015-07-30 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法。
KR20160040285A (ko) 2014-01-21 2016-04-12 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치 및 그 유량 제어 개시 시의 오버슈트 방지 방법
WO2015111391A1 (ja) * 2014-01-21 2015-07-30 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法
US10156295B2 (en) 2014-02-24 2018-12-18 Fujikin Incorporated Piezoelectric linear actuator, piezoelectrically driven valve, and flow rate control device
KR20160045889A (ko) 2014-02-24 2016-04-27 가부시키가이샤 후지킨 압전식 리니어 액츄에이터, 압전 구동 밸브, 및 유량 제어 장치
CN105204532A (zh) * 2014-06-18 2015-12-30 中国科学院大连化学物理研究所 一种用于离子迁移谱的气体流量控制装置
KR20180108906A (ko) 2014-07-23 2018-10-04 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
JP2016024708A (ja) * 2014-07-23 2016-02-08 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
WO2016013172A1 (ja) * 2014-07-23 2016-01-28 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
KR20160114705A (ko) 2014-07-23 2016-10-05 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
US10261522B2 (en) 2014-07-23 2019-04-16 Fujikin Incorporated Pressure-type flow rate control device
JP2018520441A (ja) * 2015-07-10 2018-07-26 ピヴォタル システムズ コーポレーション ガス流制御のための方法および装置
KR20180030089A (ko) * 2015-07-10 2018-03-21 피포탈 시스템즈 코포레이션 가스 흐름 제어 방법 및 장치
TWI632766B (zh) * 2015-08-21 2018-08-11 日商富士金股份有限公司 壓電式線性致動器、壓電驅動閥及流量控制裝置
US10573801B2 (en) 2015-08-21 2020-02-25 Fujikin Incorporated Piezoelectric linear actuator, piezoelectrically driven valve, and flow rate control device
KR20170134678A (ko) 2015-08-21 2017-12-06 가부시키가이샤 후지킨 압전식 리니어 액츄에이터, 압전 구동 밸브 및 유량 제어 장치
US10274972B2 (en) * 2015-09-16 2019-04-30 Tokyo Electron Limited Method of inspecting gas supply system
TWI723046B (zh) * 2015-09-16 2021-04-01 日商東京威力科創股份有限公司 檢查氣體供給系統之方法
US10884435B2 (en) 2016-08-24 2021-01-05 Fujikin Incorporated Pressure type flow rate control device, and flow rate calculating method and flow rate control method for same
KR20190002610A (ko) 2016-08-24 2019-01-08 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치, 그 유량 산출 방법 및 유량 제어 방법
KR20200045418A (ko) 2018-10-22 2020-05-04 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 검사 방법 및 유량 제어기
KR20200045417A (ko) 2018-10-22 2020-05-04 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 검사 방법 및 검사 장치
US11513541B2 (en) 2018-10-22 2022-11-29 Tokyo Electron Limited Method of inspecting and inspection apparatus
KR20220047806A (ko) 2019-12-27 2022-04-19 가부시키가이샤 후지킨 유량 제어 장치 및 유량 제어 방법
TWI765472B (zh) * 2019-12-27 2022-05-21 日商富士金股份有限公司 流量控制裝置以及流量控制方法
WO2023032393A1 (ja) * 2021-08-31 2023-03-09 株式会社フジキン ダイヤフラムバルブおよび流量制御装置
TWI833325B (zh) * 2021-08-31 2024-02-21 日商富士金股份有限公司 隔膜閥及流量控制裝置

Also Published As

Publication number Publication date
KR0173535B1 (ko) 1999-04-01
EP0749058A3 (en) 1998-11-11
US5791369A (en) 1998-08-11
DE69615933D1 (de) 2001-11-22
US5669408A (en) 1997-09-23
IL118586A0 (en) 1996-10-16
EP0749058A2 (en) 1996-12-18
CA2177790A1 (en) 1996-12-13
IL118586A (en) 2000-07-26
EP0749058B1 (en) 2001-10-17
KR970002526A (ko) 1997-01-28
CA2177790C (en) 2000-01-18
TW300947B (ja) 1997-03-21
JP3291161B2 (ja) 2002-06-10
DE69615933T2 (de) 2002-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH08338546A (ja) 圧力式流量制御装置
JP3580645B2 (ja) 圧力式流量制御装置
JP3522544B2 (ja) 流体可変型流量制御装置
WO1999009463A1 (fr) Regulateur debitmetrique a pression
JP4204400B2 (ja) 差圧式流量計及び差圧式流量制御装置
US6289923B1 (en) Gas supply system equipped with pressure-type flow rate control unit
KR101930304B1 (ko) 유량계
US8195336B2 (en) Pressure regulator
JP2837112B2 (ja) 音速ノズルを用いた質量流量制御方法および装置
US4953388A (en) Air gauge sensor
US6062256A (en) Micro mass flow control apparatus and method
US6564824B2 (en) Mass flow meter systems and methods
US20050145278A1 (en) Flow control valve and flow control device
CN102057340A (zh) 流量调整器用自动压力调整器
JP2009192220A (ja) 流量センサおよびこれを用いた質量流量制御装置
JP2008286812A (ja) 差圧式流量計
JP3623125B2 (ja) 流量測定方法および流量測定装置
TW384365B (en) Pressure type flow rate control apparatus
JPH0547380Y2 (ja)
Morsi The Pad and Quad Resistors-Two New Methods of Fluid Flow Measurements

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090322

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090322

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120322

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120322

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120322

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150322

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees