JP2000305630A - 並列分流型の流体供給装置 - Google Patents
並列分流型の流体供給装置Info
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Landscapes
- Flow Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 圧力調整用の１個のレギュレータから複数本
の流路を並列的に配設した流体供給装置において、各流
路の流体供給の開閉操作が他の流路の定常供給に過渡的
変動を与えないようにする。 【解決手段】 第１の発明は、各流路に流量制御用のマ
スフローコントローラＭＦＣを配置し、ある流路の流体
供給が閉から開になったとき、その流路のマスフローコ
ントローラＭＦＣが動作開始から一定の遅延時間Δｔを
有して指令流量Ｑｓに到達するように構成する。この遅
延時間は可変に設定できる。第２の発明は、本発明者等
が既に公開している特開平８−３３８５６号公報の圧力
式流量制御器ＦＣＳを各流路に配置し、その高速流量制
御性能によって流路間の過渡的変動を直ちに吸収解消す
るようにする。
の流路を並列的に配設した流体供給装置において、各流
路の流体供給の開閉操作が他の流路の定常供給に過渡的
変動を与えないようにする。 【解決手段】 第１の発明は、各流路に流量制御用のマ
スフローコントローラＭＦＣを配置し、ある流路の流体
供給が閉から開になったとき、その流路のマスフローコ
ントローラＭＦＣが動作開始から一定の遅延時間Δｔを
有して指令流量Ｑｓに到達するように構成する。この遅
延時間は可変に設定できる。第２の発明は、本発明者等
が既に公開している特開平８−３３８５６号公報の圧力
式流量制御器ＦＣＳを各流路に配置し、その高速流量制
御性能によって流路間の過渡的変動を直ちに吸収解消す
るようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体や化学品、薬
品、精密機械部材等の製造に用いるガス等の各種流体の
供給装置に関し、更に詳細には、並列配置された複数の
流路のうちの任意の流路が、閉から開に切換えられて流
体が供給されたとき、この影響による他の流路に於ける
流量変動を極減化できるようにした並列分流型の流体供
給装置に関するものである。
品、精密機械部材等の製造に用いるガス等の各種流体の
供給装置に関し、更に詳細には、並列配置された複数の
流路のうちの任意の流路が、閉から開に切換えられて流
体が供給されたとき、この影響による他の流路に於ける
流量変動を極減化できるようにした並列分流型の流体供
給装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体製造施設や化学薬品製造
施設の流体供給装置であって高精度な流量制御を必要と
するものは、そのほとんどが所謂マスフローコントロー
ラを用いている。
施設の流体供給装置であって高精度な流量制御を必要と
するものは、そのほとんどが所謂マスフローコントロー
ラを用いている。
【０００３】図１０は単流路型の流体供給装置の従来例
を示すもので、材料ガスはレギュレータＲＧにより１次
圧から２次圧へと圧力調整され、流路に供給される。１
次圧は通常高圧であって圧力計Ｐ1 により、また、２次
圧は供給可能な低圧であって圧力計Ｐ2 により、夫々検
出される。
を示すもので、材料ガスはレギュレータＲＧにより１次
圧から２次圧へと圧力調整され、流路に供給される。１
次圧は通常高圧であって圧力計Ｐ1 により、また、２次
圧は供給可能な低圧であって圧力計Ｐ2 により、夫々検
出される。
【０００４】バルブＶ1 、Ｖ2 の間には流量制御用のマ
スフローコントローラＭＦＣが配置され、その流量を計
測するために流量計であるマスフローメータＭＦＭが設
けられている。材料ガスは反応室Ｃで処理された後、バ
ルブＶＶを介して真空ポンプＶＰにより排気される。
スフローコントローラＭＦＣが配置され、その流量を計
測するために流量計であるマスフローメータＭＦＭが設
けられている。材料ガスは反応室Ｃで処理された後、バ
ルブＶＶを介して真空ポンプＶＰにより排気される。
【０００５】この単流路型の流体供給装置では、材料ガ
スが定常供給されているときには外乱による流量変動が
ないため、反応室Ｃでは安定した処理反応が持続でき
る。
スが定常供給されているときには外乱による流量変動が
ないため、反応室Ｃでは安定した処理反応が持続でき
る。
【０００６】問題は、１つのレギュレータＲＧにより２
本以上の流路に材料ガスを供給する場合に発生する。図
１１は、２本の流路Ｓ1 、Ｓ2 へ１個のレギュレータＲ
Ｇによりガス供給する場合を示す。流路Ｓ2 には反応室
Ｃを配置していないが、実際には反応室Ｃを配置して、
両反応室でのガス反応を並行して制御しようとするもの
である。尚、各部材は図１０と同様であるから、流路毎
に添字を変えて示し、説明は省略する。
本以上の流路に材料ガスを供給する場合に発生する。図
１１は、２本の流路Ｓ1 、Ｓ2 へ１個のレギュレータＲ
Ｇによりガス供給する場合を示す。流路Ｓ2 には反応室
Ｃを配置していないが、実際には反応室Ｃを配置して、
両反応室でのガス反応を並行して制御しようとするもの
である。尚、各部材は図１０と同様であるから、流路毎
に添字を変えて示し、説明は省略する。
【０００７】今、流路Ｓ1 ではバルブＶ1 、Ｖ2 が開で
材料ガスが定常供給され、反応室Ｃで所定の反応が進行
中であるとする。一方、流路Ｓ2 ではバルブＶ3 、Ｖ4
は閉であり、閉鎖状態にある。この様な中でバルブ
Ｖ3 、Ｖ4 を開にし、所定流量に設定されたマスフロー
コントローラＭＦＣ2 を直ちに作動させて流路Ｓ2 にガ
スを供給し始めたとき、安定状態にある流路Ｓ1 にどの
様な影響が現れるかを検討した。
材料ガスが定常供給され、反応室Ｃで所定の反応が進行
中であるとする。一方、流路Ｓ2 ではバルブＶ3 、Ｖ4
は閉であり、閉鎖状態にある。この様な中でバルブ
Ｖ3 、Ｖ4 を開にし、所定流量に設定されたマスフロー
コントローラＭＦＣ2 を直ちに作動させて流路Ｓ2 にガ
スを供給し始めたとき、安定状態にある流路Ｓ1 にどの
様な影響が現れるかを検討した。
【０００８】図１２はこのときの各種信号のタイムチャ
ートである。バルブＶ3 、Ｖ4 が閉から開になった瞬
間、流路Ｓ2 側のＭＦＣ2 信号とＭＦＭ2 信号が高いピ
ーク状のオーバーシュートを起し、その後一定値に収束
してゆく。この過渡状態のオーバーシュートが圧力Ｐ2
Ａ、Ｐ2 Ｂの変動を介して流路Ｓ 1 のＭＦＣ1 信号とＭ
ＦＭ1 信号に大きな変動を生起していることが分る。
ートである。バルブＶ3 、Ｖ4 が閉から開になった瞬
間、流路Ｓ2 側のＭＦＣ2 信号とＭＦＭ2 信号が高いピ
ーク状のオーバーシュートを起し、その後一定値に収束
してゆく。この過渡状態のオーバーシュートが圧力Ｐ2
Ａ、Ｐ2 Ｂの変動を介して流路Ｓ 1 のＭＦＣ1 信号とＭ
ＦＭ1 信号に大きな変動を生起していることが分る。
【０００９】この変動は反応室Ｃでの反応速度に影響を
与え、流路Ｓ1 の定常反応が流路Ｓ 2 からの外乱により
阻害されることになる。例えば、半導体の製造中であれ
ば、半導体中に格子欠陥を生起したり、エッチングプラ
ズマの場合にはプロセスに影響を与える。また、化学反
応であれば、原料ガスの過不足によって生成物質の濃度
に乱れを生じ、この乱れがカオス現象を通してどの様に
展開してゆくか予測を許さないものがある。但し、レギ
ュレータＲＧの上流側圧力Ｐ1 にはほとんど過渡的影響
を与えないのは、レギュレータＲＧが存在しているから
である。
与え、流路Ｓ1 の定常反応が流路Ｓ 2 からの外乱により
阻害されることになる。例えば、半導体の製造中であれ
ば、半導体中に格子欠陥を生起したり、エッチングプラ
ズマの場合にはプロセスに影響を与える。また、化学反
応であれば、原料ガスの過不足によって生成物質の濃度
に乱れを生じ、この乱れがカオス現象を通してどの様に
展開してゆくか予測を許さないものがある。但し、レギ
ュレータＲＧの上流側圧力Ｐ1 にはほとんど過渡的影響
を与えないのは、レギュレータＲＧが存在しているから
である。
【００１０】この図１２に示したような外乱を失くすた
めには、図１３に示すように、流路Ｓ1 、Ｓ2 の両方に
レギュレータＲＧ1 、ＲＧ2 を配置することが望まし
い。こうすれば、流路Ｓ2 側を突然に流通させても、レ
ギュレータＲＧ2 の存在により圧力変動が上流側に伝達
されず、流路Ｓ1 における流体の定常供給に影響を与え
ない。逆に、流路Ｓ1 の開閉が流路Ｓ2 側に影響を与え
ないことも同様である。
めには、図１３に示すように、流路Ｓ1 、Ｓ2 の両方に
レギュレータＲＧ1 、ＲＧ2 を配置することが望まし
い。こうすれば、流路Ｓ2 側を突然に流通させても、レ
ギュレータＲＧ2 の存在により圧力変動が上流側に伝達
されず、流路Ｓ1 における流体の定常供給に影響を与え
ない。逆に、流路Ｓ1 の開閉が流路Ｓ2 側に影響を与え
ないことも同様である。
【００１１】ところが、レギュレータＲＧは高圧流体を
供給可能な低圧流体に圧力変換する装置であり、装置自
体が相当に高価なものである。従って、流路の本数が増
えれば、それと同数だけのレギュレータＲＧが必要にな
り、流体供給装置全体の複雑・大形化とコストアップを
招来する。
供給可能な低圧流体に圧力変換する装置であり、装置自
体が相当に高価なものである。従って、流路の本数が増
えれば、それと同数だけのレギュレータＲＧが必要にな
り、流体供給装置全体の複雑・大形化とコストアップを
招来する。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、圧力
調整用の１個のレギュレータから複数本の流路を並列的
に分岐し、各流路に流量調整用のマスフローコントロー
ラを設けた場合には、１つの流路の閉から開への操作
が、定常流通状態にある他の流路の流量に過度的変動を
与えることになる。そして、この過渡的変動は、その流
路での反応室のプロセスに影響を与えるため、各種の障
害の原因となる。
調整用の１個のレギュレータから複数本の流路を並列的
に分岐し、各流路に流量調整用のマスフローコントロー
ラを設けた場合には、１つの流路の閉から開への操作
が、定常流通状態にある他の流路の流量に過度的変動を
与えることになる。そして、この過渡的変動は、その流
路での反応室のプロセスに影響を与えるため、各種の障
害の原因となる。
【００１３】又、この過渡的変動を防止するために、各
流路にレギュレータを１個づつ配置してゆくと、装置全
体の複雑・大形化とコストアップを招来することにな
る。
流路にレギュレータを１個づつ配置してゆくと、装置全
体の複雑・大形化とコストアップを招来することにな
る。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記欠点を解消
するために創作されたものであり、第１発明に係る並列
分流型の流体供給装置は、流体を圧力調整するレギュレ
ータと、このレギュレータから送出される流体を並列的
に分流させる複数本の流路と、各流路に設けられた流量
制御用のマスフローコントローラとから構成され、ある
流路のマスフローコントローラを動作させてその流路を
流体の閉鎖状態から指令流量での流通状態に流通制御す
るとき、このマスフローコントローラが動作開始点から
指令流量値に到るまでに遅延時間を有するように設定し
たことを特徴とする。
するために創作されたものであり、第１発明に係る並列
分流型の流体供給装置は、流体を圧力調整するレギュレ
ータと、このレギュレータから送出される流体を並列的
に分流させる複数本の流路と、各流路に設けられた流量
制御用のマスフローコントローラとから構成され、ある
流路のマスフローコントローラを動作させてその流路を
流体の閉鎖状態から指令流量での流通状態に流通制御す
るとき、このマスフローコントローラが動作開始点から
指令流量値に到るまでに遅延時間を有するように設定し
たことを特徴とする。
【００１５】又、第２発明に係る並列分流型の流体供給
装置は、流体を圧力調整するレギュレータと、このレギ
ュレータから送出される流体を並列的に分流させる複数
本の流路と、各流路に設けられた圧力式流量制御器とか
ら構成され、この圧力式流量制御器はオリフィスと、そ
の上流側に設けたコントロール弁と、オリフィスとコン
トロール弁の間に設けた圧力検出器と、オリフィス上流
側圧力Ｐｕを下流側圧力Ｐｄの２倍以上に設定しながら
圧力検出器の検出圧力Ｐｕから流量をＱｃ＝ＫＰｕ（但
しＫは定数）として演算し、この演算流量Ｑｃと指令流
量Ｑｓとの差を制御信号Ｑｙとしてコントロール弁の駆
動部に出力する演算制御回路とからなり、コントロール
弁を開閉してオリフィス下流側流量を制御することを特
徴とする。
装置は、流体を圧力調整するレギュレータと、このレギ
ュレータから送出される流体を並列的に分流させる複数
本の流路と、各流路に設けられた圧力式流量制御器とか
ら構成され、この圧力式流量制御器はオリフィスと、そ
の上流側に設けたコントロール弁と、オリフィスとコン
トロール弁の間に設けた圧力検出器と、オリフィス上流
側圧力Ｐｕを下流側圧力Ｐｄの２倍以上に設定しながら
圧力検出器の検出圧力Ｐｕから流量をＱｃ＝ＫＰｕ（但
しＫは定数）として演算し、この演算流量Ｑｃと指令流
量Ｑｓとの差を制御信号Ｑｙとしてコントロール弁の駆
動部に出力する演算制御回路とからなり、コントロール
弁を開閉してオリフィス下流側流量を制御することを特
徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明者等は図１２からマスフロ
ーコントローラの作動特性を鋭意研究した結果、マスフ
ローコントローラを直ちに指令流量値にまで開放制御す
ると、流路Ｓ 2 に大量の材料ガスが一気に流入する結
果、流路Ｓ1 の圧力Ｐ2 Ａが過渡的に小さくなり、信号
ＭＦＣ1 と信号ＭＦＭ1 に過渡的変動を生起すると考え
るに到った。
ーコントローラの作動特性を鋭意研究した結果、マスフ
ローコントローラを直ちに指令流量値にまで開放制御す
ると、流路Ｓ 2 に大量の材料ガスが一気に流入する結
果、流路Ｓ1 の圧力Ｐ2 Ａが過渡的に小さくなり、信号
ＭＦＣ1 と信号ＭＦＭ1 に過渡的変動を生起すると考え
るに到った。
【００１７】流路Ｓ2 の流路Ｓ1 に対する反射的な過渡
的影響を極小化するためには、ガスを流路Ｓ2 内へ漸次
増加する状態下で流通させることが重要になる。即ち、
バルブＶ3 、Ｖ4 を開放後、マスフローコントローラＭ
ＦＣ2 を時間をかけて“０”から指令流量値にまで増大
するよう制御すればよいと云うことである。この時間を
遅延時間といい、遅延時間を長くするに従って過渡的影
響は小さくなってゆく。即ち、この遅延時間を可変自在
にすれば、各種の条件下で生起する過渡的変動に対応す
ることができる。
的影響を極小化するためには、ガスを流路Ｓ2 内へ漸次
増加する状態下で流通させることが重要になる。即ち、
バルブＶ3 、Ｖ4 を開放後、マスフローコントローラＭ
ＦＣ2 を時間をかけて“０”から指令流量値にまで増大
するよう制御すればよいと云うことである。この時間を
遅延時間といい、遅延時間を長くするに従って過渡的影
響は小さくなってゆく。即ち、この遅延時間を可変自在
にすれば、各種の条件下で生起する過渡的変動に対応す
ることができる。
【００１８】前記遅延時間は指令流量値の大きさ、管
径、ガス等流体の種類等に依存し、これらの与えられた
諸条件の中で遅延時間を経験的に決めてゆくのがよい。
尚、上記に於いては流路２の流路１に対する影響を述べ
たが、逆に流路１の流路２に対する影響も同様に考えら
れる。流路が２本だけでなく、更に本数が増えていった
場合でも同様に考えることが出来る。即ち、流路が複数
本存在する場合には、流路毎に配置されている全てのマ
スフローコントローラを遅延制御しておけば、どの流路
を閉から開に設定した場合でも、他の流路への過渡的影
響を極減化できることになる。
径、ガス等流体の種類等に依存し、これらの与えられた
諸条件の中で遅延時間を経験的に決めてゆくのがよい。
尚、上記に於いては流路２の流路１に対する影響を述べ
たが、逆に流路１の流路２に対する影響も同様に考えら
れる。流路が２本だけでなく、更に本数が増えていった
場合でも同様に考えることが出来る。即ち、流路が複数
本存在する場合には、流路毎に配置されている全てのマ
スフローコントローラを遅延制御しておけば、どの流路
を閉から開に設定した場合でも、他の流路への過渡的影
響を極減化できることになる。
【００１９】本発明者等は、マスフローコントローラに
は前記過渡的影響を吸収出来にくい固有の性質があると
考え、マスフローコントローラを用いない他の方法をも
鋭意研究した。マスフローコントローラは流体によって
運ばれる熱移動量から流量を計測するため、流量変動が
流速よりも高速の場合には、流量制御が流量変動に追随
できにくく、そのためマスフローコントローラは過渡的
影響を吸収できにくいと考えるに至った。
は前記過渡的影響を吸収出来にくい固有の性質があると
考え、マスフローコントローラを用いない他の方法をも
鋭意研究した。マスフローコントローラは流体によって
運ばれる熱移動量から流量を計測するため、流量変動が
流速よりも高速の場合には、流量制御が流量変動に追随
できにくく、そのためマスフローコントローラは過渡的
影響を吸収できにくいと考えるに至った。
【００２０】従って、流量変動に高速追随できる流量制
御装置を用いれば、この問題を解決することができる。
本発明者等は特開平８−３３８５４６号公報において圧
力式流量制御装置を公表しており、この装置を上記問題
を解決するために適用することにした。
御装置を用いれば、この問題を解決することができる。
本発明者等は特開平８−３３８５４６号公報において圧
力式流量制御装置を公表しており、この装置を上記問題
を解決するために適用することにした。
【００２１】この圧力式流量制御装置の特徴は次の点に
ある。つまり、オリフィス上流側圧力Ｐｕがオリフィス
下流側圧力Ｐｄの約２倍においては、オリフィスを通過
する流速は音速となり、オリフィスを通過する流量Ｑｃ
はオリフィス上流側圧力Ｐｕに比例するというものであ
る。基本式はＱｃ＝ＫＰｕ（但しＫ：定数）であり、上
流側圧力Ｐｕさえ計測しておけば、流量を直ちに算出す
ることができる。マスフローコントローラでは熱移動と
いう現象を介して流量計測したが、この圧力式流量制御
装置では、流体の理論的性質を活用しており、しかも圧
力計測は高速で行うことができる。
ある。つまり、オリフィス上流側圧力Ｐｕがオリフィス
下流側圧力Ｐｄの約２倍においては、オリフィスを通過
する流速は音速となり、オリフィスを通過する流量Ｑｃ
はオリフィス上流側圧力Ｐｕに比例するというものであ
る。基本式はＱｃ＝ＫＰｕ（但しＫ：定数）であり、上
流側圧力Ｐｕさえ計測しておけば、流量を直ちに算出す
ることができる。マスフローコントローラでは熱移動と
いう現象を介して流量計測したが、この圧力式流量制御
装置では、流体の理論的性質を活用しており、しかも圧
力計測は高速で行うことができる。
【００２２】オリフィス上流側にコントロール弁を置
き、演算流量ＱｃをＱｃ＝ＫＰｕで算出し、指令流量Ｑ
ｓとの差がゼロになるようにコントロール弁を開閉制御
すれば、演算流量Ｑｃを指令流量Ｑｓに直ちに一致させ
ることができる。これは、オリフィス上流側圧力Ｐｕの
圧力計測の高速性の結果可能となったものであり、図１
２に示される程度の変動であれば、これを十分に吸収す
ることができる。
き、演算流量ＱｃをＱｃ＝ＫＰｕで算出し、指令流量Ｑ
ｓとの差がゼロになるようにコントロール弁を開閉制御
すれば、演算流量Ｑｃを指令流量Ｑｓに直ちに一致させ
ることができる。これは、オリフィス上流側圧力Ｐｕの
圧力計測の高速性の結果可能となったものであり、図１
２に示される程度の変動であれば、これを十分に吸収す
ることができる。
【００２３】
【実施例】＜実施例１：時間遅延型マスフローコントロ
ーラの場合＞図１は本発明の第１実施例を示した構成図
で、時間遅延型マスフローコントローラを用いたもので
ある。
ーラの場合＞図１は本発明の第１実施例を示した構成図
で、時間遅延型マスフローコントローラを用いたもので
ある。
【００２４】図１において、Ｐ1 は１次圧計測用の圧力
計、Ｐ2 Ａ・Ｐ2 Ｂは２次圧計測用の圧力計、Ｖ1 〜Ｖ
4 はバルブ、ＤＭＦＣ1 ・ＤＭＦＣ2 は流量制御用の時
間遅延型マスフローコントローラ、ＭＦＭ1 ・ＭＦＭ2
は流量計測用のマスフローメータ、Ｃは反応室、ＶＶ1
・ＶＶ2 はバルブ、ＶＰ1 ・ＶＰ2 は真空ポンプ、Ｓ 1
・Ｓ2 は流路を示す。矢印はガスの流れを示し、流路に
応じて各部材の添字が変えてある。全体構成は図１１の
場合と同様である。
計、Ｐ2 Ａ・Ｐ2 Ｂは２次圧計測用の圧力計、Ｖ1 〜Ｖ
4 はバルブ、ＤＭＦＣ1 ・ＤＭＦＣ2 は流量制御用の時
間遅延型マスフローコントローラ、ＭＦＭ1 ・ＭＦＭ2
は流量計測用のマスフローメータ、Ｃは反応室、ＶＶ1
・ＶＶ2 はバルブ、ＶＰ1 ・ＶＰ2 は真空ポンプ、Ｓ 1
・Ｓ2 は流路を示す。矢印はガスの流れを示し、流路に
応じて各部材の添字が変えてある。全体構成は図１１の
場合と同様である。
【００２５】図２は流路Ｓ2 における時間遅延型マスフ
ローコントローラの構成図であり、流路Ｓ1 におけるも
のも同様である。ＶＣはバルブＶ3 ・Ｖ4 の閉から開を
検知するバルブ検出部、ＳＴは流量設定部、ＤＴは時間
遅延部、ＰＳは電源、ＤＰは表示部、ＡＭＰは増幅器、
ＢＧはブリッジ回路、ＣＣは比較回路、ＶＰはバルブ部
である。又、ＢＰはバイパス部、ＳＰはセンサ部、ＵＳ
は上流側センサ、ＤＳは下流側センサを示している。
ローコントローラの構成図であり、流路Ｓ1 におけるも
のも同様である。ＶＣはバルブＶ3 ・Ｖ4 の閉から開を
検知するバルブ検出部、ＳＴは流量設定部、ＤＴは時間
遅延部、ＰＳは電源、ＤＰは表示部、ＡＭＰは増幅器、
ＢＧはブリッジ回路、ＣＣは比較回路、ＶＰはバルブ部
である。又、ＢＰはバイパス部、ＳＰはセンサ部、ＵＳ
は上流側センサ、ＤＳは下流側センサを示している。
【００２６】次に第１実施例の作動について説明する。
今、流路Ｓ1 はバルブＶ1 ・Ｖ2 が開放されてガスが定
常供給されており、反応室Ｃにて安定なガス反応が行な
われているとする。この段階で閉鎖されていたバルブＶ
3 ・Ｖ4 が開放され、ガスが時間遅延型マスフローコン
トローラＤＭＦＣ2 に流入してきたとする。
今、流路Ｓ1 はバルブＶ1 ・Ｖ2 が開放されてガスが定
常供給されており、反応室Ｃにて安定なガス反応が行な
われているとする。この段階で閉鎖されていたバルブＶ
3 ・Ｖ4 が開放され、ガスが時間遅延型マスフローコン
トローラＤＭＦＣ2 に流入してきたとする。
【００２７】当初、バルブ部ＶＰは完全に閉鎖されてい
る。バルブ検出部ＶＣがバルブＶ3・Ｖ4 の閉から開へ
の変化を検出すると、小停止時間ｔO を置いた後時間遅
延部ＤＴが作動し始める。この小停止時間ｔO はゼロで
もよいが、バルブＶ3 ・Ｖ4の開により生じるガス流の
乱れが収まる時間として設けられている。
る。バルブ検出部ＶＣがバルブＶ3・Ｖ4 の閉から開へ
の変化を検出すると、小停止時間ｔO を置いた後時間遅
延部ＤＴが作動し始める。この小停止時間ｔO はゼロで
もよいが、バルブＶ3 ・Ｖ4の開により生じるガス流の
乱れが収まる時間として設けられている。
【００２８】前記時間遅延部ＤＴは遅延時間Δｔを与
え、この時間は流量設定部ＳＴにより設定された指令流
量Ｑｓになるまでバルブ部ＶＰを次第に開放してゆく時
間である。この遅延時間Δｔはバルブ部ＶＰをゆっくり
と開放してゆくから、他の流路への影響を小さくする。
従って、上記の小停止時間ｔO と遅延時間Δｔにより外
乱を押えることができ、各々の時間ｔO 、Δｔを可変に
することでより適切な時間を調整することが可能とな
る。
え、この時間は流量設定部ＳＴにより設定された指令流
量Ｑｓになるまでバルブ部ＶＰを次第に開放してゆく時
間である。この遅延時間Δｔはバルブ部ＶＰをゆっくり
と開放してゆくから、他の流路への影響を小さくする。
従って、上記の小停止時間ｔO と遅延時間Δｔにより外
乱を押えることができ、各々の時間ｔO 、Δｔを可変に
することでより適切な時間を調整することが可能とな
る。
【００２９】尚、本実施例に於いては、両バルブＶ3 ・
Ｖ4 を同時に開放すると共に小停止時間ｔ0 を比較的長
い２〜３秒に設定しているが、当該小停止時間ｔ0 を零
若しくは０．５秒以下の極く短い時間に設定した場合に
は、両バルブＶ3 ・Ｖ4 の開（又は閉）の際の時間差に
よって、他方の流路Ｓ1 に与える流量変動の影響が大き
く変化する。そのため、通常、小停止時間ｔ0 が極く短
い場合には、流路Ｓ2 側の開放時には先ずバルブＶ4 を
開にし、その約１秒後にバルブＶ3 を開にする。また、
流路Ｓ2 側の閉鎖時には先ずバルブＶ3 を閉にし、その
約１秒後にバルブＶ4 を閉にする。即ち、流路Ｓ2 側の
マスフローコントローラＤＭＦＣ2 に直に大きな流体圧
をかけないようにするのが望ましい。
Ｖ4 を同時に開放すると共に小停止時間ｔ0 を比較的長
い２〜３秒に設定しているが、当該小停止時間ｔ0 を零
若しくは０．５秒以下の極く短い時間に設定した場合に
は、両バルブＶ3 ・Ｖ4 の開（又は閉）の際の時間差に
よって、他方の流路Ｓ1 に与える流量変動の影響が大き
く変化する。そのため、通常、小停止時間ｔ0 が極く短
い場合には、流路Ｓ2 側の開放時には先ずバルブＶ4 を
開にし、その約１秒後にバルブＶ3 を開にする。また、
流路Ｓ2 側の閉鎖時には先ずバルブＶ3 を閉にし、その
約１秒後にバルブＶ4 を閉にする。即ち、流路Ｓ2 側の
マスフローコントローラＤＭＦＣ2 に直に大きな流体圧
をかけないようにするのが望ましい。
【００３０】ガスの本体流はバイパス部ＢＰとセンサ部
ＳＰに分流され、センサ部ＳＰでは上流側センサＵＳに
よって生じた熱が下流側センサＤＳにより検知されて瞬
間流量Ｑがブリッジ回路ＢＧにより算出される。増幅器
ＡＭＰを通した後、瞬間流量Ｑは比較回路ＣＣにより指
令流量Ｑｓと比較され、前記遅延時間Δｔだけかかって
バルブ部ＶＰを開放してゆく。そして指令流量Ｑｓに到
達するとその状態で維持される。
ＳＰに分流され、センサ部ＳＰでは上流側センサＵＳに
よって生じた熱が下流側センサＤＳにより検知されて瞬
間流量Ｑがブリッジ回路ＢＧにより算出される。増幅器
ＡＭＰを通した後、瞬間流量Ｑは比較回路ＣＣにより指
令流量Ｑｓと比較され、前記遅延時間Δｔだけかかって
バルブ部ＶＰを開放してゆく。そして指令流量Ｑｓに到
達するとその状態で維持される。
【００３１】図３〜図６は遅延時間Δｔを変化させた場
合の各種信号のタイムチャートを示す。これらの測定例
では、遅延時間Δｔを８０％到達時間として定義してい
る。即ち、瞬間流量Ｑが指令流量Ｑｓの８０％に到達し
た時間を遅延時間Δｔとする。この他にも各種の定義が
採用できるが、これらの定義の全ては本発明の遅延的時
間に包含されるものである。
合の各種信号のタイムチャートを示す。これらの測定例
では、遅延時間Δｔを８０％到達時間として定義してい
る。即ち、瞬間流量Ｑが指令流量Ｑｓの８０％に到達し
た時間を遅延時間Δｔとする。この他にも各種の定義が
採用できるが、これらの定義の全ては本発明の遅延的時
間に包含されるものである。
【００３２】図３はΔｔ＝０．５秒、図４はΔｔ＝１．
８秒、図５はΔｔ＝４秒、図６はΔｔ＝７．５秒の場合
を示している。小停止時間ｔO は自由に設定でき、図３
〜図６では３〜５秒に設定している。小停止時間ｔO は
更に小さくしてもよい。
８秒、図５はΔｔ＝４秒、図６はΔｔ＝７．５秒の場合
を示している。小停止時間ｔO は自由に設定でき、図３
〜図６では３〜５秒に設定している。小停止時間ｔO は
更に小さくしてもよい。
【００３３】図３から図６において測定されている信号
は図１２における信号と同様であり、その中でマスフロ
ーコントローラＭＦＣ1 ・ＭＦＣ2 が時間遅延型マスフ
ローコントローラＤＭＦＣ1 ・ＤＭＦＣ2 に変更されて
いるだけである。これらの図を比較すると、遅延時間Δ
ｔを長くする程各種信号の過渡的変動が急減しているこ
とが分る。特に流路Ｓ1 における信号Ｐ2 Ａ、ＤＭＦＣ
1 、ＭＦＭ1 の過渡的変動の極減化は、流路Ｓ2 の開に
よる流路Ｓ1 への影響を抑制するという本発明の目的が
十分に達成されていることを示している。
は図１２における信号と同様であり、その中でマスフロ
ーコントローラＭＦＣ1 ・ＭＦＣ2 が時間遅延型マスフ
ローコントローラＤＭＦＣ1 ・ＤＭＦＣ2 に変更されて
いるだけである。これらの図を比較すると、遅延時間Δ
ｔを長くする程各種信号の過渡的変動が急減しているこ
とが分る。特に流路Ｓ1 における信号Ｐ2 Ａ、ＤＭＦＣ
1 、ＭＦＭ1 の過渡的変動の極減化は、流路Ｓ2 の開に
よる流路Ｓ1 への影響を抑制するという本発明の目的が
十分に達成されていることを示している。
【００３４】＜実施例２：圧力式流量制御器の場合＞図
７は本発明の第２実施例を示した構成図で、圧力式流量
制御器を用いたものである。図１の時間遅延型マスフロ
ーコントローラＤＭＦＣ1 ・ＤＭＦＣ2 を圧力式流量制
御器ＦＣＳ1 ・ＦＣＳ2 に変更しただけであり、他の部
材は図１と同様であるから、その説明を省略する。
７は本発明の第２実施例を示した構成図で、圧力式流量
制御器を用いたものである。図１の時間遅延型マスフロ
ーコントローラＤＭＦＣ1 ・ＤＭＦＣ2 を圧力式流量制
御器ＦＣＳ1 ・ＦＣＳ2 に変更しただけであり、他の部
材は図１と同様であるから、その説明を省略する。
【００３５】図８は流路Ｓ1 における圧力式流量制御器
ＦＣＳ1 の構成図であり、流路Ｓ2におけるものも同様
である。図中、ＯＲはオリフィス、Ｐｕは上流側圧力
計、ＡＰ1 は増幅器、Ａ／ＤはＡＤ変換器、Ｍは温度補
正部、ＳＳは流量設定部、ＣＣは比較回路、ＡＰ2 は増
幅器、ＤＶは駆動部、ＣＶはコントロール弁である。ま
たＳＳ、ＣＣ、Ｍ、ＡＰ2 を全体として演算制御回路Ｃ
ＣＣという。
ＦＣＳ1 の構成図であり、流路Ｓ2におけるものも同様
である。図中、ＯＲはオリフィス、Ｐｕは上流側圧力
計、ＡＰ1 は増幅器、Ａ／ＤはＡＤ変換器、Ｍは温度補
正部、ＳＳは流量設定部、ＣＣは比較回路、ＡＰ2 は増
幅器、ＤＶは駆動部、ＣＶはコントロール弁である。ま
たＳＳ、ＣＣ、Ｍ、ＡＰ2 を全体として演算制御回路Ｃ
ＣＣという。
【００３６】次に上記第２実施例の作動について説明す
る。今、流路Ｓ2 が突然に閉から開になり、その圧力変
動が流路Ｓ1 に逆流したとする。圧力式流量制御器ＦＣ
Ｓ1では、オリフィス上流側圧力Ｐｕがオリフィス下流
側圧力Ｐｄの約２倍以上に設定されておれば、オリフィ
スを通過する瞬間流量ＱはＱ＝Ｋ・Ｐｕ（但し、Ｋは定
数）で与えられることが理論的に保証されている。
る。今、流路Ｓ2 が突然に閉から開になり、その圧力変
動が流路Ｓ1 に逆流したとする。圧力式流量制御器ＦＣ
Ｓ1では、オリフィス上流側圧力Ｐｕがオリフィス下流
側圧力Ｐｄの約２倍以上に設定されておれば、オリフィ
スを通過する瞬間流量ＱはＱ＝Ｋ・Ｐｕ（但し、Ｋは定
数）で与えられることが理論的に保証されている。
【００３７】上流側圧力計Ｐｕにより測定された上流側
圧力は、増幅器ＡＰ1 を介した後Ａ／Ｄ変換される。こ
の後、温度補正部Ｍにより温度補正されて演算流量Ｑｃ
となる。この演算流量Ｑｃは前述の瞬間流量Ｑであるか
ら、Ｑｃ＝ＫＰｕが成立している。
圧力は、増幅器ＡＰ1 を介した後Ａ／Ｄ変換される。こ
の後、温度補正部Ｍにより温度補正されて演算流量Ｑｃ
となる。この演算流量Ｑｃは前述の瞬間流量Ｑであるか
ら、Ｑｃ＝ＫＰｕが成立している。
【００３８】流量設定部ＳＳからは指令流量Ｑｓが入力
されており、前述の演算流量Ｑｃとの差が比較回路ＣＣ
により制御信号Ｑｙ（Ｑｙ＝Ｑｓ−Ｑｃ）として算出さ
れる。この制御信号Ｑｙをゼロにするように駆動部ＤＶ
がコントロール弁ＣＶを開閉制御する。
されており、前述の演算流量Ｑｃとの差が比較回路ＣＣ
により制御信号Ｑｙ（Ｑｙ＝Ｑｓ−Ｑｃ）として算出さ
れる。この制御信号Ｑｙをゼロにするように駆動部ＤＶ
がコントロール弁ＣＶを開閉制御する。
【００３９】オリフィス上流側圧力Ｐｕは瞬間的に測定
できるものであるから、コントロール弁ＣＶの開閉制御
は電子的速度で制御可能である。換言すれば機械的な意
味でのコントロール弁の限界的開閉速度にまで高速制御
可能である。
できるものであるから、コントロール弁ＣＶの開閉制御
は電子的速度で制御可能である。換言すれば機械的な意
味でのコントロール弁の限界的開閉速度にまで高速制御
可能である。
【００４０】従って、流路Ｓ2 のガス流通によって流路
Ｓ1 の圧力Ｐ1 Ａが過渡的変動をしても、コントロール
弁ＣＶが高速に応答して、オリフィス通過流量は指令流
量Ｑｓに高速に復帰制御される。つまり、圧力式流量制
御器を用いる場合には、流路間の過渡的な相互変動は直
ちに高速補正され、定常流を保持できるのである。
Ｓ1 の圧力Ｐ1 Ａが過渡的変動をしても、コントロール
弁ＣＶが高速に応答して、オリフィス通過流量は指令流
量Ｑｓに高速に復帰制御される。つまり、圧力式流量制
御器を用いる場合には、流路間の過渡的な相互変動は直
ちに高速補正され、定常流を保持できるのである。
【００４１】図９は第２実施例における各種信号のタイ
ムチャートである。バルブＶ3 ・Ｖ 4 を開にして圧力式
流量制御器ＦＣＳ2 を作動させると、ＦＣＳ2 信号もＭ
ＦＭ 2 信号も瞬間的にゼロから定常値に到達する。しか
も流路Ｓ1 のＦＣＳ1 信号およびＭＦＭ1 信号はほとん
ど変動することなく定常値を保持し続ける。尚、圧力式
流量制御器ＦＣＳ2 ・ＦＣＳ1 を用いる場合には、前記
バルブＶ3・Ｖ4 を開放した後の小停止時間ｔO は不要
であり、ｔO ＝０としている。
ムチャートである。バルブＶ3 ・Ｖ 4 を開にして圧力式
流量制御器ＦＣＳ2 を作動させると、ＦＣＳ2 信号もＭ
ＦＭ 2 信号も瞬間的にゼロから定常値に到達する。しか
も流路Ｓ1 のＦＣＳ1 信号およびＭＦＭ1 信号はほとん
ど変動することなく定常値を保持し続ける。尚、圧力式
流量制御器ＦＣＳ2 ・ＦＣＳ1 を用いる場合には、前記
バルブＶ3・Ｖ4 を開放した後の小停止時間ｔO は不要
であり、ｔO ＝０としている。
【００４２】以上の結果から、圧力式流量制御器を用い
ると、流路間の開閉による干渉的相互作用は高速に補正
でき、流体の定常供給状態を保持することができる。
ると、流路間の開閉による干渉的相互作用は高速に補正
でき、流体の定常供給状態を保持することができる。
【００４３】本発明は上記実施例に限定されるものでは
なく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲における種
々の変形例、設計変更等をその技術的範囲内に包含する
ものである。
なく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲における種
々の変形例、設計変更等をその技術的範囲内に包含する
ものである。
【００４４】
【発明の効果】請求項１によれば、ある流路を閉から開
にして流体を供給する場合に、その流路のマスフローコ
ントローラの動作に時間遅延作用を施こしたから、他の
流路に対する過渡的変動を極減化することができる。従
って、他の流路の定常流を安定に保持でき、１個のレギ
ュレータによって複数の流路の定常制御を実現できる。
にして流体を供給する場合に、その流路のマスフローコ
ントローラの動作に時間遅延作用を施こしたから、他の
流路に対する過渡的変動を極減化することができる。従
って、他の流路の定常流を安定に保持でき、１個のレギ
ュレータによって複数の流路の定常制御を実現できる。
【００４５】請求項２によれば、マスフローコントロー
ラの遅延時間を任意に可変設定できるから、最も有効な
定常制御を実現できる。
ラの遅延時間を任意に可変設定できるから、最も有効な
定常制御を実現できる。
【００４６】請求項３によれば、流量制御器として圧力
式流量制御器を導入したので、各流路の流量制御の高速
化を実現でき、流路間の干渉的な過渡的変動をその高速
性により吸収でき、各流路の定常制御を高速且つ確実に
実現できる。
式流量制御器を導入したので、各流路の流量制御の高速
化を実現でき、流路間の干渉的な過渡的変動をその高速
性により吸収でき、各流路の定常制御を高速且つ確実に
実現できる。
【図１】本発明の第１実施例である時間遅延型マスフロ
ーコントローラを用いた並列分流型の流体供給装置の構
成図である。
ーコントローラを用いた並列分流型の流体供給装置の構
成図である。
【図２】図１の時間遅延型マスフローコントローラの具
体的な構成図である。
体的な構成図である。
【図３】遅延時間が０．５秒の時の図１の装置における
各種信号のタイムチャート図である。
各種信号のタイムチャート図である。
【図４】遅延時間が１秒の時の図１の装置における各種
信号のタイムチャート図である。
信号のタイムチャート図である。
【図５】遅延時間が４秒の時の図１の装置における各種
信号のタイムチャート図である。
信号のタイムチャート図である。
【図６】遅延時間が７．５秒の時の図１の装置における
各種信号のタイムチャート図である。
各種信号のタイムチャート図である。
【図７】本発明の第２実施例である圧力式流量制御器を
用いた並列分流型の流体供給装置の構成図である。
用いた並列分流型の流体供給装置の構成図である。
【図８】図７の圧力式流量制御器の具体的構成図であ
る。
る。
【図９】図７の装置の各種信号のタイムチャート図であ
る。
る。
【図１０】単流路型の従来型流体供給装置の構成図であ
る。
る。
【図１１】双流路型の第１従来型流体供給装置の構成図
である。
である。
【図１２】図１１の装置における各種信号のタイムチャ
ート図である。
ート図である。
【図１３】双流路型の第２従来型流体供給装置の構成図
である。
である。
ＡＭＰ・ＡＰ1 ・ＡＰ2 は増幅器、Ａ／ＤはＡＤ変換
器、ＢＧはブリッジ回路、ＢＰはバイパス回路、Ｃは反
応室、ＣＣは比較回路、ＣＶはコントロール弁、ＣＣＣ
は演算制御回路、ＤＭＦＣ1 ・ＤＭＦＣ2 は時間遅延型
マスフローコントローラ、ＤＰは表示部、ＤＴは時間遅
延部、ＤＳは下流側センサ、ＤＶは駆動部、ＦＣＳ1 ・
ＦＣＳ2 は圧力式流量制御器、Ｍは温度補正部、ＭＦＣ
・ＭＦＣ1・ＭＦＣ2 はマスフローコントローラ、ＭＦ
Ｍ・ＭＦＭ1 ・ＭＦＭ2 はマスフローメータ、ＯＲはオ
リフィス、Ｐ1 ・Ｐ2 Ａ・Ｐ2 Ｂは圧力計、Ｐｕはオリ
フィス上流側圧力、Ｐｄはオリフィス下流側圧力、Ｐｓ
は電源、Ｑｃは演算流量、Ｑｓは指令流量、ＲＧ・ＲＧ
1 ・ＲＧ2 はレギュレータ、Ｓ1 ・Ｓ2 は流路、ＳＰは
センサ部、ＳＳ・ＳＴは流量設定部、ｔO は小停止時
間、Δｔは遅延時間、ＵＳは上流側センサ、ＶＰはバル
ブ部、Ｖ1 〜Ｖ4 ・ＶＶ・ＶＶ1 ・ＶＶ2 はバルブ、Ｖ
Ｐ1 ・ＶＰ2 は真空ポンプ。
器、ＢＧはブリッジ回路、ＢＰはバイパス回路、Ｃは反
応室、ＣＣは比較回路、ＣＶはコントロール弁、ＣＣＣ
は演算制御回路、ＤＭＦＣ1 ・ＤＭＦＣ2 は時間遅延型
マスフローコントローラ、ＤＰは表示部、ＤＴは時間遅
延部、ＤＳは下流側センサ、ＤＶは駆動部、ＦＣＳ1 ・
ＦＣＳ2 は圧力式流量制御器、Ｍは温度補正部、ＭＦＣ
・ＭＦＣ1・ＭＦＣ2 はマスフローコントローラ、ＭＦ
Ｍ・ＭＦＭ1 ・ＭＦＭ2 はマスフローメータ、ＯＲはオ
リフィス、Ｐ1 ・Ｐ2 Ａ・Ｐ2 Ｂは圧力計、Ｐｕはオリ
フィス上流側圧力、Ｐｄはオリフィス下流側圧力、Ｐｓ
は電源、Ｑｃは演算流量、Ｑｓは指令流量、ＲＧ・ＲＧ
1 ・ＲＧ2 はレギュレータ、Ｓ1 ・Ｓ2 は流路、ＳＰは
センサ部、ＳＳ・ＳＴは流量設定部、ｔO は小停止時
間、Δｔは遅延時間、ＵＳは上流側センサ、ＶＰはバル
ブ部、Ｖ1 〜Ｖ4 ・ＶＶ・ＶＶ1 ・ＶＶ2 はバルブ、Ｖ
Ｐ1 ・ＶＰ2 は真空ポンプ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大見 忠弘 宮城県仙台市青葉区米ケ袋２丁目１番17− 301号 (72)発明者 加賀爪 哲 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の１ 東京エレクトロン山梨株式会社内 (72)発明者 杉山 一彦 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の１ 東京エレクトロン山梨株式会社内 (72)発明者 皆見 幸男 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 西野 功二 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 土肥 亮介 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 米華 克典 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 池田 信一 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 山路 道雄 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 Ｆターム(参考） 5H307 AA02 AA20 BB01 CC03 DD06 EE02 EE12 EE36 ES02 FF03 FF06 FF12 GG04 GG15 HH04 JJ01
Claims (3)
- 【請求項１】 流体を圧力調整するレギュレータ（Ｒ
Ｇ）と、このレギュレータ（ＲＧ）から送出される流体
を並列的に分流させる複数本の流路（Ｓ1 ）、（Ｓ2 ）
と、各流路に設けられた流量制御用のマスフローコント
ローラ（ＤＭＦＣ1 ）、（ＤＭＦＣ2 ）とから構成さ
れ、ある流路のマスフローコントローラを動作させてそ
の流路を流体の閉鎖状態から指令流量での流通状態に流
通制御するとき、このマスフローコントローラが動作開
始点から指令流量値（Ｑｓ）に到るまでに遅延時間（Δ
ｔ）を有するように設定したことを特徴とする並列分流
型の流体供給装置。 - 【請求項２】 前記遅延時間（Δｔ）を可変調節できる
請求項１記載の並列分流型の流体供給装置。 - 【請求項３】 流体を圧力調整するレギュレータ（Ｒ
Ｇ）と、このレギュレータ（ＲＧ）から送出される流体
を並列的に分流させる複数本の流路（Ｓ1 ）、（Ｓ2 ）
と、各流路に設けられた圧力式流量制御器（ＦＣ
Ｓ1 ）、（ＦＣＳ2 ）とから構成され、この圧力式流量
制御器はオリフィスＯＲと、その上流側に設けたコント
ロール弁（ＣＶ）と、オリフィスとコントロール弁の間
に設けた圧力検出器と、オリフィス上流側圧力Ｐｕを下
流側圧力Ｐｄの２倍以上に設定しながら圧力検出器の検
出圧力Ｐｕから流量をＱｃ＝ＫＰｕ（但しＫは定数）と
して演算し、この演算流量Ｑｃと指令流量Ｑｓとの差を
制御信号Ｑｙとしてコントロール弁（ＣＶ）の駆動部
（ＤＶ）に出力する演算制御回路（ＣＣＣ）とからな
り、コントロール弁を開閉してオリフィス下流側流量を
制御することを特徴とする並列分流型の流体供給装置。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10868999A JP3626874B2 (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | 並列分流型の流体供給装置 |
| KR10-2000-7014228A KR100427563B1 (ko) | 1999-04-16 | 2000-04-03 | 병렬분류형 유체공급장치와, 이것에 사용하는 유체가변형압력식 유량제어방법 및 유체가변형 압력식 유량제어장치 |
| EP00913087A EP1096351A4 (en) | 1999-04-16 | 2000-04-03 | FLUID SUPPLY DEVICE OF THE PARALLEL BYPASS TYPE, AND METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING THE FLOW OF A VARIABLE FLUID TYPE PRESSURE SYSTEM USED IN SAID DEVICE |
| EP20080006286 EP2028577A2 (en) | 1999-04-16 | 2000-04-03 | Parallel bypass type fluid feeding device, and method and device for controlling fluid variable type pressure system flow rate used for the device |
| PCT/JP2000/002160 WO2000063756A1 (fr) | 1999-04-16 | 2000-04-03 | Dispositif d'alimentation en fluide du type derivation parallele, et procede et dispositif de commande du debit d'un systeme de pression du type a fluide variable utilise dans ledit dispositif |
| TW89107095A TW445401B (en) | 1999-04-16 | 2000-04-15 | Parallel bypass type fluid feeding device, and method and device for controlling fluid variable type pressure system flow rate used for the device |
| US09/734,640 US6422264B2 (en) | 1999-04-16 | 2000-12-13 | Parallel divided flow-type fluid supply apparatus, and fluid-switchable pressure-type flow control method and fluid-switchable pressure-type flow control system for the same fluid supply apparatus |
| US10/162,552 US6820632B2 (en) | 1999-04-16 | 2002-06-06 | Parallel divided flow-type fluid supply apparatus, and fluid-switchable pressure-type flow control method and fluid-switchable pressure-type flow control system for the same fluid supply apparatus |
| US10/775,104 US6848470B2 (en) | 1999-04-16 | 2004-02-11 | Parallel divided flow-type fluid supply apparatus, and fluid-switchable pressure-type flow control method and fluid-switchable pressure-type flow control system for the same fluid supply apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10868999A JP3626874B2 (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | 並列分流型の流体供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000305630A true JP2000305630A (ja) | 2000-11-02 |
| JP3626874B2 JP3626874B2 (ja) | 2005-03-09 |
Family
ID=14491168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10868999A Expired - Fee Related JP3626874B2 (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | 並列分流型の流体供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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