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JP2003092243A - 周辺露光装置 - Google Patents

周辺露光装置

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Publication number
JP2003092243A
JP2003092243A JP2001281292A JP2001281292A JP2003092243A JP 2003092243 A JP2003092243 A JP 2003092243A JP 2001281292 A JP2001281292 A JP 2001281292A JP 2001281292 A JP2001281292 A JP 2001281292A JP 2003092243 A JP2003092243 A JP 2003092243A
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JP
Japan
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notch
wafer
exposure
detecting means
edge
Prior art date
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Application number
JP2001281292A
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English (en)
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JP3820946B2 (ja
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Yoshinori Nagai
嘉則 永井
Kazumoto Tochihara
一元 栃原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
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Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2001281292A priority Critical patent/JP3820946B2/ja
Priority to TW091116597A priority patent/TW556267B/zh
Priority to KR1020020053183A priority patent/KR100591677B1/ko
Priority to EP02020697A priority patent/EP1293829A3/en
Priority to US10/243,911 priority patent/US6721037B2/en
Publication of JP2003092243A publication Critical patent/JP2003092243A/ja
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • G03F7/2026Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure for the removal of unwanted material, e.g. image or background correction
    • G03F7/2028Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure for the removal of unwanted material, e.g. image or background correction of an edge bead on wafers

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回転ステージにノッチ付ウエハをどの向きに
載置してもウエハ内部の露光不要な領域まで露光してし
まうことがない周辺露光装置を提供すること。 【解決手段】 露光光照射部2はウエハエッジ検知手段
4、ノッチ検知手段9と一体に設けられ、ウエハエッジ
検知手段4はウエハWのエッジに追従して移動し、露光
光照射部2から照射される露光光によりウエハWのエッ
ジの周辺部を露光する。露光開始時、ウエハエッジ検知
手段4がウエハエッジを検知しても、すぐに露光光を照
射せず所定量ウエハWを回転した後、露光を開始する。
また、上記回転中にノッチ検知手段9の出力信号が変化
した場合には、その変化状態に応じて予め設定した露光
開始位置から露光を開始し、露光光の照射領域がノッチ
開始位置に達したらノッチの終了位置に達するまでウエ
ハエッジ検知手段4の追従動作を停止させ、ウエハ内部
の露光不要な領域まで露光しないように制御する。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、外周部にV字形の
ノッチが形成された半導体ウエハの、周辺部に塗布され
たフォトレジストを除去するためにウエハの周辺部を露
光するノッチ付ウエハの周辺露光装置に関する。 【0002】 【従来の技術】従来から、図13(a)に示すように、
ウエハWのエッジEに追従させて露光光の照射領域Sを
移動させ、フォトレジストRが塗布されたウエハWの周
辺部を所定の露光幅Aで露光する周辺露光装置が知られ
ている。上記従来の周辺露光装置は、ウエハWのエッジ
Eを常に捕らえながら、ウエハWの周辺を露光していく
ので、外周部にV字形のノッチNが形成され、フォトレ
ジストRが塗布されたウエハWを露光処理すると、露光
光の照射領域Sも、ノッチN部分でV字状に移動する。
このため、図13(b)に示すように、ウエハW内部の
露光不要な領域UEまで露光してしまうという現象が生
じた。したがって、上記の領域UE付近には、半導体素
子形成領域(回路等のパターン)を設けることができ
ず、半導体素子の生産性向上を妨げる原因となってい
た。 【0003】そこで、本出願人は先にウエハのノッチ部
分で照射領域がV字状に移動することのない、即ち、ウ
エハ内部の露光不要部分まで露光してしまうことのない
周辺露光装置を提案した(特願2001−151037
号)。以下、上記特願2001−151037号で開示
した周辺露光装置におけるウエハ周辺部の露光処理の概
要を図14により説明する。上記周辺露光装置におい
て、ウエハ周辺部を露光する露光光照射部は、ウエハの
エッジEを検出するためのウエハエッジ検知手段と一体
に設けられ、ウエハエッジ検知手段は、ウエハWのエッ
ジEに追従して、ウエハWのエッジの接線に対して略直
角方向移動する。したがって、上記露光光照射部から照
射される照射領域Sを有する露光光は、ウエハエッジ検
知手段と同じ方向に同じ量だけ移動し、ウエハエッジE
の周辺部を露光する。また、ウエハエッジ検知手段の上
流側にウエハのノッチを検出するためのノッチ検知手段
が設けられる。なお、以下では、ウエハが回転する際、
ウエハエッジ検知手段に近づいていく方のウエハ周辺部
を上流、ウエハエッジ検知手段から遠ざかる方のウエハ
周辺部を下流とする。上記ノッチ検知手段は、ウエハエ
ッジ検知手段および露光光照射部と一体に設けられ、上
記ウエハエッジ検知手段と同期して、ウエハWのエッジ
の接線に対して略直角方向に移動する。以下では、上記
周辺露光装置により、外周部にノッチが形成され、フォ
トレジストが塗布されたウエハのエッジを検知しなが
ら、ウエハの周辺部を露光していく様子を説明する。な
お、図14は、ウエハのノッチ部分を拡大して示してい
る。 【0004】処理ステージ上に載置されたウエハWは、
図14に示すように時計周りに回転し、ウエハエッジ検
知手段は、○の位置でウエハWのエッジEを検知してい
る。露光光照射部から出射される露光光の照射領域S
は、ウエハW表面上で、上記○の位置とほぼ同じ位置に
ある。また、ノッチ検知手段は、ウエハWの上流側、す
なわち◎の位置でウエハWのエッジEを検知している。 (1) 図14(a)に示すように、ウエハのノッチ以外の
エッジ部分をノッチ検知手段が検知している場合。ウエ
ハエッジ検知手段は、ウエハエッジEに追従してウエハ
Wのエッジの接線に対して略直角方向に移動し、これと
一体に設けられた露光光照射部はウエハエッジ検知手段
とともに移動する。したがって、露光光照射部から照射
される露光光の照射領域SはウエハエッジEに追従して
移動し、同図に示すようにウエハ周辺部が露光される。 【0005】(2) 図14(b)に示すように、ノッチ検
知手段がウエハのノッチの始まりに達した場合。ウエハ
Wが時計周りに回転し、ウエハWのノッチNの始まりN
s がノッチ検知手段9の検知位置◎に達すると、ノッチ
検知手段がON信号を出力する。これにより、図示しな
い制御部が、ウエハWの回転速度と、ノッチ検知手段の
検知位置◎とウエハエッジ検知手段の検知位置○の間隔
(この例の場合、5mm)から、露光光の照射領域S
が、ノッチNの始まりNs に達するまでの時間T1を算
出する。 (3) 図14(c)に示すように、ノッチ検知手段がノッ
チの始まりに達した後、時間T1を経過した場合。ノッ
チ検知手段がノッチNの始まりNsに達した後、時間T
1を経過すると、露光光の照射領域Sが、ノッチNの始
まりNsに達する。これにより、図示しない制御部は、
ウエハエッジ検知手段のウエハWのエッジEへの追従動
作を停止させる。このため、ウエハエッジ検知手段およ
び露光光の照射領域Sは、ノッチNに追従せず、ウエハ
WのノッチNの直前部分のエッジEの接線に沿って移動
することとなる。また、上記制御部は、ウエハエッジ検
知手段の追従動作を停止してから再開する時間T2を演
算する。例えば、ノッチNの切欠寸法と、ウエハWの回
転速度とに基き、露光光の照射領域Sが、ノッチNの始
まりNs から終わりNe に至るまでの時間T2を求め
る。 【0006】(4) 図14(d)に示すように、露光光の
照射領域が、ノッチの始まりに達した後、時間T2を経
過した場合。露光光の照射領域Sが、Nの始まりに達し
た後、時間T2を経過すると、露光光の照射領域Sは、
ノッチNの終わりNeに達する。図示しない制御部は、
ウエハエッジ検知手段の追従動作を再開させる。これに
より、ウエハエッジ検知手段は、ウエハエッジEに追従
して移動し、前記図14(a)に示したように、露光光
照射部から照射される露光光の照射領域Sはウエハエッ
ジEに追従して移動し、同図に示すようにウエハ周辺部
が露光される。 【0007】上記のように、ノッチの始まりを示す信号
を受けて所定時間経過した後、すなわち露光光の照射領
域Sが、ノッチNの始まりNsに達した時、ウエハエッ
ジ検知手段の追従動作を停止させ、更に所定時間経過
後、すなわち露光光の照射領域Sが、ノッチNの終わり
Neに達した時、ウエハエッジ検知手段の追従動作を再
開させることにより、ウエハのノッチ部分で照射領域が
ノッチに追従してV字状に移動することがなく、ウエハ
内部の露光不要な領域まで露光してしまうことはない。 【0008】 【発明が解決しようとする課題】上記周辺露光装置にお
いては、周辺露光処理を開始する時、ウエハエッジ検知
手段が、ウエハの径方向に移動する。ウエハエッジ検知
手段がウエハエッジを検出すると、ウエハエッジ検知手
段は、ウエハの径方向への移動を停止する。そして、エ
ッジの検出ができた位置から露光光の照射を開始し、周
辺露光処理を開始する。しかし、通常、周辺露光装置の
回転処理ステージにノッチ付ウエハWが載置される時、
ノッチNの位置(ノッチをどの方向に向けて載置する
か)は決まっていない。したがって、露光処理の開始
時、ウエハエッジを検出した位置において、以下の(a)
〜(c) ように、ウエハエッジ検知手段あるいはノッチ検
知手段がノッチNの近傍にいる状態の場合には、ノッチ
検知手段が、ウエハエッジ検知手段に先だってノッチの
始まり位置を検出できないので、ウエハエッジ検知手段
の追従動作の停止制御をすることができない。すなわ
ち、前記したノツチをならわないような(以下「ノツチ
を無視した」と呼ぶことがある) 周辺露光ができない。 (a) ウエハエッジ検知手段の位置とノッチの位置が一致
している場合。 (b) ノッチ検知手段とウエハエッジ検知手段との間にノ
ッチがある場合。 (c) ノッチ検知手段の位置とノッチの位置が一致してい
る場合。 なお、上記では前記したようにウエハエッジ検知手段が
ウエハエッジを検出している位置と、ウエハの周辺部を
露光する露光光が照射されている位置とは一致している
とする。 【0009】以上のように、前記した従来の周辺露光処
理では、上記(a) 〜(c) の場合に、ノッチを無視した周
辺露光ができず、ウエハ内部の露光不要な領域まで露光
してしまうという現象が生じる。本発明は、上記従来技
術の問題点を解決するためになされたものであって、本
発明の目的は、上記(a) 〜(c) のように、ウエハエッジ
検知手段あるいはノッチ検知手段がノッチ近傍にいる場
合においても、ノッチを無視した周辺露光を行うことが
でき、ウエハ内部の露光不要な領域まで露光してしまう
ことがない周辺露光装置を提供することである。 【0010】 【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明においては、ウエハエッジ検知手段が、ウエ
ハエッジを検知後、すぐには露光光を照射せず、所定量
ウエハを回転し、その後、露光を開始する。また、上記
回転中に前記ノッチ検知手段の出力信号が変化した場合
には、ノッチ検知手段の出力変化のタイミングからノッ
チの開始位置を知ることができるので、該出力信号の変
化状態に応じて予め設定した露光開始位置でウエハ露光
光の照射を開始させ、照射領域がノッチ開始位置に達し
たら、前記したノッチ無視制御を行う。なお、上記所定
量は、少なくともウエハエッジ検知手段とノッチ検知手
段との間隔に相当する距離(D1)よりも大きくなけれ
ばならない。 【0011】上記のようにすれば、前記(a) 〜(c) の状
態であっても、次のようにして、ノッチを無視した周辺
露光を行なうことが可能となり、ウエハ内部の露光不要
な領域まで露光してしまうことがない。 (1) 前記(a) のように、ウエハエッジ検知手段の位置と
ノッチの位置が一致している場合。ウエハエッジ検知手
段が、ウエハエッジを検出した位置から、所定量(D1
+α)(ここでαは組み立てや制御の誤差を吸収するた
めに, 実験などにより求める余裕度である)だけウエハ
を回転することにより、ウエハエッジ検知手段がノッチ
からはずれる。そこから露光を開始する。露光開始後、
ウエハがほぼ1回転する頃に、ノッチ検知手段がノッチ
を検出するので、前記したように、露光光照射部の移動
を停止して、ノッチ部をならわずに露光を行なう。 (2) 前記(b) のように、ノッチ検知手段とウエハエッジ
検知手段との間にノッチがある場合。所定量(D1+
α)だけウエハを回転することにより、(1) の場合と同
様、ノッチがウエハエッジ検知手段の位置を通過して、
ウエハエッジ検知手段はノッチ以外の位置に来る。そこ
から露光を開始する。露光開始後、ウエハがほぼ1回転
する頃に、ノッチ検知手段がノッチを検出するので、前
記したように、露光光照射部の移動を停止して、ノッチ
部をならわずに露光を行なう。 【0012】(3) 前記(c) のように、ノッチ検知手段の
位置とノッチの位置が一致している場合。この場合は、
ウエハエッジ検知手段が、ウエハエッジを検出した時点
で、ノッチ検知手段はノッチ検出信号を出力する。しか
し、ノッチの開始点はわからないので、露光光照射部の
移動を停止するタイミングが不明である。そこで、上記
のように、所定量(D1+α)だけウエハを回転させた
のち、さらに、少なくともノッチの幅に相当する量(D
2+α)だけウエハを回転させる。これにより、ノッチ
がウエハエッジ検知手段の位置を通過して、ウエハエッ
ジ検知手段はノッチ以外の位置に来るので、この位置か
ら露光を開始する。そして、露光開始後、ウエハがほぼ
1回転する頃に、ノッチ検知手段がノッチを検出するの
で、前記したように、露光光照射部の移動を停止してノ
ッチ無視制御を行う。なお、この場合には、上記所定量
(D1+α)だけウエハを回転させている間に、ノッチ
検知手段の出力がOFFとなり、このタイミングと、ノ
ッチ幅等からノッチの開始位置を知ることができる。し
たがって、上記のようにウエハを少なくともノッチの幅
に相当する量(D2+α)だけ回転させる代わりに、上
記のようにして求めたノッチ開始位置に露光光の照射領
域がきたときに、上記ノッチ無視制御を開始するように
してもよい。 【0013】上記(a) 〜(c) の状態は、ウエハエッジを
検出したときの状態であるが、ウエハを所定量回転させ
た時点で上記(a) 〜(c) の状態となる場合もある。しか
し、この場合には、ウエハが所定量回転している間にノ
ッチ検知手段の出力状態が変化するので、この出力の変
化から、露光光の照射領域とノッチの相対位置を求める
ことができる。したがって、上記求めた露光光の照射領
域とノッチの相対位置に基づき、露光開始時点を定め、
前記したノッチ無視制御を行うことにより、ウエハ内部
の露光不要な領域まで露光してしまうといった問題を回
避することができる。 【0014】具体的には、露光開始時、以下のように制
御すればよい。 (A)ウエハエッジ検出後、ウエハを所定量(D1+
α)回転させている間にノッチ検知手段の出力が変化し
ない場合。この場合は、(1) ノッチ部が全く関与しない
場合、(2) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段とウエ
ハエッジ検知手段との間にノツチがある場合、(3) ウエ
ハエッジ検出時、ウエハエッジ検知手段の位置とノッチ
の位置が一致している場合のいずれかであり、上記(1)
の場合は、ノッチ部が全く関与していないので、ウエハ
を所定量(D1+α)回転させた後、直ちに露光を開始
しても問題は生じない。また、上記(2),(3) はそれぞれ
前記(a),(b) の状態の場合であるから、同様にウエハを
所定量(D1+α)回転させた後、露光を開始しても問
題は生じない。 (B)ウエハエッジ検出後、ウエハを所定量(D1+
α)回転させている間にノッチ検知手段の出力が変化す
る場合。この場合は、ノッチ検知手段の出力から、照射
領域とノッチ開始位置との相対距離を求めることができ
るので、ノッチ検知手段が出力を発生したときに直ちに
露光を開始しても、前記したノッチ無視制御を行うこと
が可能であり、ウエハ内部の露光不要な領域まで露光し
てしまうといった問題を回避することができる。しか
し、制御シーケンスの簡単化を考慮して、実用的には、
以下のように露光を開始する時点を設定することができ
る。 (1) 上記Aと同様に、ウエハを所定量(D1+α)回転
させた後、露光を開始する。そして、上記回転中にノッ
チ検知手段が出力を発生したら、その出力から照射領域
とノッチ開始位置との相対距離を求める。そして、照射
領域がノッチ開始位置に達したら、前記したノッチ無視
制御を行う。この場合は、前記(3) の場合(ノッチ検知
手段の位置とノッチの位置が一致している場合)を除
き、ウエハを所定量(D1+α)回転させた後、露光を
開始するようにしているので、比較的制御シーケンスが
簡単になる。 (2) 上記Aと同様に、ウエハを所定量(D1+α)回転
させた後、さらに、ウエハを、前記したノッチの幅に相
当する量(D2+α)だけ回転させたのち、露光を開始
する。そして、照射領域がノッチ開始位置に達したら、
前記したノッチ無視制御を行う。この場合は、全てのケ
ースで、ウエハを所定量(D1+α)回転させ、さら
に、前記したノッチの幅に相当する量(D2+α)回転
させた後、露光を開始しているので、制御シーケンスが
最も簡単になる。但し、露光開始する時点が遅れるの
で、スループットは低下する。 (3) ノッチ検知手段の出力信号が変化したとき直ちに露
光を開始する。これは、前記したノッチ検知手段が出力
を発生したときに直ちに露光を開始する場合であり、上
記(1),(2) に比べて、露光開始の時点を早くすることが
できるので、スループットが向上する。しかし、制御シ
ーケンスは上記(1),(2) と比べて複雑となる。 【0015】 【発明の実施の形態】図1に、本発明の前提となる周辺
露光装置の概略構成を示し、図2に本発明の周辺露光装
置の制御部の概略構成を示す。図1、図2において、光
源部1には、紫外線を含む光を放射するランプ11、例
えば定格電力250Wの超高圧水銀ランプが配置され、
該ランプ11からの放射光は、集光鏡12によって、ラ
イトガイドファイバ13の入射端面13aに集光され
る。ランプ11とライトガイドファイバ13の入射端面
13aとの間には、シャッタ駆動機構15の駆動により
開閉されるシャッタ14が配置されている。そして、制
御部50内の演算処理部CPUからシャッタ駆動機構駆
動部MD3に、シャッタOPEN信号が送信されると、
シャッタ駆動機構駆動部MD3が、シャッタ駆動機構1
5を駆動して、シャッタ14を開く。これにより、集光
鏡12によって集光された光が、ライトガイドファイバ
13の入射端面13aに入射し、該ライトガイドファイ
バ13の出射端面13bに取り付けられた露光光照射部
2から、所定の照射領域Sを有する露光光となって照射
される。 【0016】露光光照射部2は、ウエハエッジ検知手段
4と一体に設けられ、ウエハエッジ検知手段移動機構3
によって、ウエハWのエッジEの接線に対して略直角方
向、即ちウエハの略中心方向Oに向かって(図1内の両
矢印D方向に)移動可能に支持されている。したがっ
て、露光光照射部2から照射される、所定の照射領域S
を有する露光光は、ウエハエッジ検知手段4と同じ方向
に同じ量だけ移動する。また、上記ウエハエッジ検知手
段4と一体にノッチNの検知のみを行なうノッチ検知手
段9が設けられている。 【0017】一方、処理ステージ6上には、外周部にノ
ッチが形成され、フォトレジストRが塗布されたウエハ
Wが載置され、不図示の固定手段、例えば真空吸着によ
り固定される。また、処理ステージ6は、処理ステージ
回転機構61により、回転可能に支持されている。そし
て、制御部50内の演算処理部CPUから処理ステージ
回転機構駆動部MD4に、ステージ回転開始信号が送信
されると、処理ステージ回転機構駆動部MD4は、処理
ステージ回転機構61を駆動して、入力部7に入力され
た回転速度、回転角度または回転回数等のデータに基づ
き、処理ステージ6の回転を開始する。 【0018】図3に上記ウエハエッジ検知手段とノッチ
検知手段の構成例を示す。ウエハエッジ検知手段4は、
センサ光を投光する投光部41と、該センサ光を受光す
る受光部42とから構成され、投光部41から受光部4
2に投光されるセンサ光の光量によって増減するアナロ
グ信号を制御部50に出力する。そして、図2に示す制
御部50は、受光部42からの上記アナログ信号を、増
幅器AC1により、例えば、処理ステージ6上に載置さ
れたウエハWにより完全に遮光された場合に得られる信
号を−5V、全く遮光されない場合に得られる信号を+
5Vに増幅する。上記増幅器AC1において増幅された
上記電圧信号は、PID回路PCにて演算処理され、上
記電圧信号を一定電圧にするための制御信号がウエハエ
ッジ検知手段移動機構駆動部MD1に出力される。制御
部50内のウエハエッジ検知手段移動機構駆動部MD1
は、受光部42からの信号が、例えば0Vになる位置、
即ち投光部41からのセンサ光が半分遮光され、残りの
半分が受光部42に受光される位置に、ウエハエッジ検
知手段4が位置するよう、ウエハエッジ検知手段移動機
構3を駆動する。したがって、ウエハエッジ検知手段4
は、常に上述した位置、すなわちウエハWのエッジE位
置に移動する。 【0019】また、ノッチ検知手段9は、ウエハエッジ
検知手段4と同様に、センサ光を投光する投光部91
と、該センサ光を受光する受光部92とからなる。そし
て、ウエハW回転時、ウエハエッジ検知手段4より先に
ウエハWのノッチNを検知することができ、ウエハエッ
ジ検知手段4とノッチ検知手段9の間隔が、ノッチNの
幅(φ300mmウエハの場合、約3.5mm、φ20
0mmウエハの場合、約3mm)よりも広くなる位置、
例えば、図3に示すように、ウエハエッジ検知手段4の
5mmほど上流側にノッチ検知手段9は設けられる。こ
こで、ノッチ検知手段9は、ウエハエッジ検知手段4と
一体に設けられているので、ウエハエッジ近傍にセンサ
光を投光することができる。 【0020】図2に示す周辺露光装置の制御部50に
は、上記ノッチ検知手段9の受光部92からの信号を処
理するための、増幅器AC2,比較回路CC1が設けら
れている。比較回路CC1は、入力された信号値を、予
め設定された設定値と比較し、設定値よりも大きけれ
ば、ノッチNが検知されたとしてON信号を、小さけれ
ばOFF信号を演算処理部CPUに出力するものであ
る。ウエハエッジ検知手段4の受光部42からのアナロ
グ信号と同様に、ノッチ検知手段9の受光部92からの
アナログ信号は、制御部50内の増幅器AC2により増
幅され、比較回路CC1に入力される。比較回路CC1
は、入力された上記信号の値を、あらかじめ設定された
設定値I1と比較し、設定値I1よりも大きければ、O
N信号を演算処理部CPUに出力する。 【0021】演算処理部CPUは、ON信号が入力され
ると後述する計算を行ない、所定時間後にウエハエッジ
検知手段移動機構駆動部MD1に対して、動作停止信号
を出力して、ウエハエッジ検知手段移動機構3の動作を
停止させ、更に、所定時間経過後、動作再開信号を出力
してウエハエッジ検知手段移動機構3の動作を再開す
る。また、演算処理部CPUには前記増幅器AC1の出
力が入力され、演算処理部CPUは露光処理の開始時、
ウエハエッジ検知手段4によりウエハエッジが検出され
ると、後述するように回転ステージを所定量(前記D1
+α)回転させる。そして、上記所定量回転中にノッチ
検知手段9の出力信号が変化しない場合、回転終了後、
露光処理を開始させる。また、上記所定量回転中にノッ
チ検知手段9の出力が変化すると、後述するようにノッ
チ検知手段の出力の変化状態に応じたタイミングで露光
処理を開始させる。 【0022】次に、上記周辺露光装置による、ウエハ周
辺部の露光手順について説明する。 (1) 最初に、ウエハ搬送及び載置手段(図示しない)に
より、外周部にノッチNが形成され、フォトレジストR
が塗布されたウエハWが搬送され、ウエハWの中心Oと
処理ステージ6の回転中心が略一致した状態で、処理ス
テージ6上に載置される。 (2) 次に、制御部50内の演算処理部CPUから露光幅
設定機構駆動部MD2に、露光幅設定開始信号が送信さ
れると、露光幅設定機構駆動部MD2は、入力部7に予
め入力されていた露光幅A(露光を行なう、ウエハWの
エッジEからの幅)データに基づいて、露光幅設定機構
8を駆動して、露光光の照射領域Sを所望の位置(後述
するウエハエッジ検知手段4がウエハWのエッジEを捕
らえたときに、ウエハWのエッジEから幅Aの領域を露
光することができる位置)に移動する。 (3) 続いて、制御部50内の演算処理部CPUからウエ
ハエッジ検知手段移動機構駆動部MD1に、ウエハエッ
ジ検知開始信号が送信されると、ウエハエッジ検知手段
移動機構駆動部MD1は、ウエハエッジ検知手段移動機
構3を駆動して、ウエハエッジ検知手段4をウエハWに
向かって移動させ、ウエハエッジ検知手段4によりウエ
ハWのエッジE位置の検知を開始する。 【0023】(4) 制御部50は、ウエハエッジ検知手段
4の受光部42より、ウエハWのエッジEを捕らえてい
ることを示す信号を受け取ると、前記したように、回転
ステージを所定量回転させる。この回転量は、少なくと
もウエハエッジ検知手段4とノッチ検知手段9との間隔
D1(前記図14では5mm)より大きい量である。上
記のようにウエハエッジEを検出してから、上記所定量
回転ステージ6を回転させ、その間にノッチ検知手段9
の出力が変化しない場合には、回転を終了させた後、露
光処理を開始させる。また、回転ステージ6を上記所定
量回転させている間に、ノッチ検知手段9の出力が変化
した場合には、その変化状態からウエハエッジ検知手段
4に対するノッチNの相対位置を演算し露光開始位置を
決定し、露光処理を開始させる。これにより、露光処理
の開始時、前記(a) 〜(c) の状態にある場合であって
も、ノッチ検知手段9によりノッチが検出されないま
ま、ウエハエッジ検知手段4によりノッチを追従した露
光処理を行われることがなく、前記したウエハ内部の露
光不要な領域まで露光してしまうといった問題を回避す
ることができる。なお、上記露光処理開始時の制御につ
いては後述する。 【0024】露光を開始するには、シャッタ駆動機構1
5を駆動してシャッタ14を開き、露光光照射部2を介
して、所定の照射領域Sを有する露光光をウエハWの周
辺部に照射する。また、制御部50は、シャッタ14を
開くとほぼ同時に、処理ステージ回転機構61を駆動
し、入力部7に予め入力されていた回転速度、角度範囲
でウエハWを回転させながら、その周辺部を露光してい
く。この時、制御部50は、ウエハエッジ検知手段移動
機構3を制御して、ウエハエッジ検知手段4が、常にウ
エハWのエッジEを捕らえていることを示す信号を制御
部50に出力する位置に、ウエハエッジ検知手段4を移
動させている。また、前述したように、露光処理前に、
露光光の照射領域Sは、ウエハエッジ検知手段4がウエ
ハWのエッジEを捕らえたときに、ウエハWのエッジE
から幅Aの領域を露光することができる位置に移動さ
れ、且つ露光処理時には、該照射領域Sは、ウエハエッ
ジ検知手段4と同期して、同じ方向に同じ量だけ移動す
るので、ウエハWのエッジEから一定の露光幅Aで、ウ
エハWの周辺部を露光することができる。 (5) ウエハWの周辺部の露光処理が完了すると、制御部
50は、シャッタ14を閉じ、処理ステージ6の回転を
終了し、更に露光光照射部2を初期の位置に戻す。 【0025】次に、図1〜図3に示した周辺露光装置に
より、外周部にノッチが形成され、フォトレジストが塗
布されたウエハのエッジを検知しながら、ウエハの周辺
部を露光する場合の制御について説明する。まず、本発
明の前提である露光処理が開始され、露光処理の途中で
ノッチ検知手段9によりノッチが検出された場合の制御
について説明する。この場合の露光処理は、前記した特
願2001−151037号に記載される前記図14で
概要を説明した露光処理と同じであり、前記図14を参
照しながら説明する。前記したように、処理ステージ6
上に載置されたウエハWは、処理ステージ駆動機構61
の駆動により、時計周りに回転し、ウエハエッジ検知手
段4は、図14の○の位置でウエハWのエッジEを検知
している。露光光照射部2から出射される露光光の照射
領域Sは、ウエハW表面上で、投光部41からのセンサ
光がウエハWの周辺部に照射されている位置、即ち○の
位置とほぼ同じ位置にある。また、ノッチ検知手段9
は、ウエハWの上流側、すなわち前記図14の◎の位置
でウエハWのエッジEを検知している。 【0026】(1) ウエハのノッチ以外のエッジ部分をノ
ッチ検知手段が検知している場合〔図14(a)〕。 制御部52は、ウエハエッジ検知手段移動機構3を制御
して、ウエハエッジ検知手段4が、常にウエハWのエッ
ジEを捕らえていることを示す信号、すなわちある一定
のアナログ信号を制御部52に出力する位置に、ウエハ
エッジ検知手段4を移動させているので、受光部42に
投光される、投光部41からのセンサ光の光量は、ほと
んど変化しない。また、ウエハWの中心Oと処理ステー
ジ6の回転中心とが一致せず、ウエハWが偏心して回転
しているとしても、エッジEは、なめらかな円弧である
ので、受光部42からの信号に、大きな変化が現れるこ
とはない。また、ノッチ検知手段9は、ウエハWのエッ
ジEを検知する、ウエハエッジ検知手段4の近傍に、ウ
エハエッジ検知手段4と一体に設けられているので、ノ
ッチ検知手段9の受光部92に入力されるセンサ光の光
量は、ウエハWが偏心して回転しているとしても、ウエ
ハエッジ検知手段4の受光部42に受光される光量とほ
ぼ同値である。したがって、制御部52の比較回路CC
1には、受光部42と同様のアナログ信号が出力され
る。すなわち、比較回路CC1に入力される上記信号値
は、設定値I1よりも小さく、ウエハエッジ検知手段移
動機構3は、露光光照射部2から照射される露光光の照
射領域Sの移動を行ないつつ、周辺部の露光を行なう。
ここで、設定値I1は、アナログ信号のノイズをカット
する為に設けられたものであり、例えば、制御部52
が、ウエハWのエッジEのキズなどをノッチNと誤認識
することが無いように設けられた閾値である。 【0027】(2) ノッチ検知手段がウエハのノッチの始
まりに達した場合〔図14(b)〕。 ウエハWが時計周りに回転し、ウエハWのノッチNの始
まりNs がノッチ検知手段9の検知位置◎に達すると、
ノッチN部分では、光を遮っていたウエハWが切り欠か
れて無くなっているため、受光部92に投光される、投
光部91からのセンサ光の光量が、急激に増加する。そ
の結果、制御部52の比較回路CC1に出力されるアナ
ログ信号は、設定値I1よりも大きくなり、比較回路C
C1から演算処理部CPUにON信号が出力される。演
算処理部CPUは、上記ON信号に基き、処理ステージ
6の回転速度と、ノッチ検知手段9の検知位置◎とウエ
ハエッジ検知手段4の検知位置○の間隔(本実施例の場
合、5mm)から、露光光の照射領域Sが、ノッチNの
始まりNs に達するまでの時間T1を算出する。 【0028】(3) ノッチ検知手段がノッチの始まりに達
した後、時間T1を経過した場合〔図14(c)〕。 ノッチ検知手段9がノッチNの始まりNsに達した後、
時間T1を経過すると、露光光の照射領域Sが、ノッチ
Nの始まりNsに達する。演算処理部CPUはウエハエ
ッジ検知手段移動機構駆動部MD1に動作停止信号を出
力し、ウエハエッジ検知手段移動機構駆動部MD1は、
該信号に基づきウエハエッジ検知手段移動機構3の動作
を停止する。また、演算処理部CPUは、ウエハエッジ
検知手段移動機構3の動作を停止してから再開する時間
T2を演算する。演算方法としては種々の方法がある
が、例えば、SEMI規格により定められているノッチ
Nの切欠寸法と、入力部7に入力された、処理ステージ
6の回転速度データとに基き、露光光の照射領域Sが、
ノッチNの始まりNs から終わりNe に至るまでの時間
T2を求める。また、ノッチ検知手段9からON信号が
出力されてから再び上記OFF信号が出力されるまでの
時間に基づき、露光光の照射領域SがノッチNの始まり
Nsから終わりNe に達するまでの時間T2を算出する
ようにしてもよい。 【0029】(4) 露光光の照射領域が、ノッチの始まり
に達した後、時間T2を経過した場合〔図14
(d)〕。 露光光の照射領域Sが、Nの始まりに達した後、時間T
2を経過すると、露光光の照射領域Sは、ノッチNの終
わりNeに達する。制御部50内の演算処理部CPUか
らは、ウエハエッジ検知手段移動機構駆動部MD1に対
して、ウエハエッジ検知手段移動機構3の動作を再開す
る信号が出力される。ウエハエッジ検知手段移動機構3
の動作は再開され、ウエハエッジ検知手段移動機構3
は、露光光照射部2から照射される露光光の照射領域S
の移動を行ないつつ、周辺部の露光を行なう。上記のよ
うに露光処理を制御することにより、前記したように、
露光開始後、ウエハのノッチ部分で照射領域がV字状に
移動して、ウエハ内部の露光不要な領域まで露光してし
まうことはない。なお、上記では、露光光の照射領域S
が、ノッチNの始まりNs に達するまでの時間T1を算
出しているが、ノッチ検知手段9と露光光の照射領域S
の距離は分かっているので、ノッチ検知信号から、その
時点の露光光の照射領域Sとノッチの始まりNsとの相
対位置を求めることができる。したがって、上記のよう
にT1を算出する代わりに、ノッチ検知手段9が検知信
号を出力してから、ウエハが上記相対距離だけ回転した
ときに、ウエハエッジ検知手段移動機構3の動作を停止
するようにしてもよい。また、上記時間T2を求める代
わりに、露光光の照射領域Sが、ノッチNの始まりNs
に達した後、ノッチ幅に相当した距離だけウエハを回転
させ、ウエハエッジ検知手段移動機構3の動作を再開す
るようにしてもよい。 【0030】次に、露光処理の開始時の処理について本
発明の実施例を説明する。本発明においては、前記した
ように、露光処理の開始時、ウエハWのエッジEを検知
したら、回転ステージ6を所定量回転させる(ウエハエ
ッジ検知手段4とノッチ検知手段9との間隔をD1とし
たとき、この所定量を、以下ではD1+αとする)。そ
して、露光を開始した位置を記憶しておき、ウエハの周
辺部を露光しながらウエハを少なくとも1回転させ、上
記露光を開始した位置まで露光を行ったら露光を終了す
る。また、露光の途中でノッチが検出されたら、前記図
14で説明したようなノッチ無視の制御を行う。したが
って、露光処理の開始時にウエハWのエッジEを検知し
たとき、前記(a) 〜(c) の状態で無い場合には、ウエハ
エッジを検出したとき、格別の処理を行うことなく前記
図14で説明したように、ノッチを無視した制御を行う
ことができ、ウエハ内部の露光不要な領域まで露光して
しまうことはない。 【0031】また、ウエハエッジを検出したとき、前記
(a) 〜(c) の状態にある場合であっても、前記したよう
にウエハエッジを検出してから、所定量回転ステージ6
を回転させ、その間にノッチ検知手段9の出力が変化し
ない場合には、回転終了後、露光処理を開始させ、ま
た、所定量回転させている間に、ノッチ検知手段9の出
力が変化した場合には、その変化状態に基づいて露光開
始位置を決定し、露光処理を開始させることにより、ウ
エハ内部の露光不要な領域まで露光してしまうといった
問題を回避することができる。 【0032】以下、本発明の実施例について詳述する。 (1)実施例1 図4は、本発明の第1の実施例のウエハエッジ検出時の
動作を説明する図、図5は第1の実施例の変形例を説明
する図、図6、図7は、本実施例において前記演算処理
部CPUにおいて行われる処理を示すフローチャートで
ある。図4は、ノッチの近傍を拡大して示した図であ
り、同図のA〜Dはウエハエッジ検出時および回転ステ
ージを所定量(D1+α)回転させたときのノッチ検知
手段9、ウエハエッジ検知手段4と、ノッチNの相対位
置関係を示しており、同図の符号4を付した丸印はウエ
ハエッジ検知手段4を示し、黒丸は露光開始時点を示し
ている。また、符号9を付した丸印はノッチ検知手段9
を示している。ノッチ検出手段9がウエハエッジ検出手
段4よりも、ウエハに対してやや内側に位置しているの
は、ウエハの中心が,回転の中心に対し、偏心していて
も、確実にノッチNのみを検出するためであり、他の実
施例の場合も同様である。ノッチ検知手段9はウエハエ
ッジ検知手段4の上流側に設けられ、この例では、ウエ
ハエッジ検知手段4の距離D1は5mmである。また、
ノッチ幅(ノッチ開口長)は約3mmである。また、同
図において、ウエハエッジ検知手段4とノッチ検知手段
9の間を結ぶ線を点線で示したものは、ウエハエッジ検
出時のノッチ検知手段9およびウエハエッジ検知手段4
の位置を示し、太実線で示したものは、ウエハエッジを
検出してから、前記した所定量(D1+α)だけ回転ス
テージを回転させた後のノッチ検知手段9およびウエハ
エッジ検知手段4の位置を示し、二重線で示したもの
は、所定量(D1+α)回転させたのち、さらにD2+
α回転させたときのノッチ検知手段9およびウエハエッ
ジ検知手段4の位置を示している。また、図4中の
(ア)〜(ウ)は、エッジ検出時に、ウエハエッジ検知
手段とノッチ検知手段が異なった位置にある場合のそれ
ぞれの状態を示している。なお、前記図14と同様、ウ
エハエッジ検出センサの位置と露光光照射位置とは一致
している。 【0033】次に図4によりA〜Dの場合におけるウエ
ハエッジ検出時の動作について本発明の第1の実施例を
説明する。 (1) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段9とウエハエ
ッジ検知手段4が図4のAの点線の状態にあり、所定量
(D1+α)回転中にノッチ検知手段9がOFFのまま
変化しない場合。この場合には、図4のAに示すように
以下の3つの場合が考えられる。 (ア)ノッチ部が全く関与しない場合。 (イ) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段とウエハエ
ッジ検知手段との間にノツチがある場合(前記(b) の状
態の場合)。 (ウ) ウエハエッジ検出時、ウエハエッジ検知手段の位
置とノッチの位置が一致している場合(前記(a) の状態
の場合)。 【0034】上記(ア)の場合には、所定量回転し露光
を開始する。そして、露光開始後にノッチ検知手段9に
よりノッチが検出されれば、前記図14で説明したノッ
チ無視制御を行なう。上記(イ) の場合にも、所定量回
転した後、露光を開始する。この回転する所定量(5m
m+α)はノッチ幅D2(3mm)よりも大きいので、
図4のA(イ)に示すようにノッチを過ぎた位置から露
光が開始されることになる。したがって、露光開始後ウ
エハをほぼ1回転させた時に、ノッチNがノッチ検知手
段9により検知され、前記図14で説明したノッチ無視
制御を行うことにより、ウエハ内部の露光不要な領域ま
で露光してしまうといった問題を回避することができ
る。上記(ウ)の場合は、上記(イ)と同様であり、所
定量回転した後、露光を開始する。この場合も、図4の
A(ウ)に示すようにノッチを過ぎた位置から露光が開
始されることになる。以上のように、図4のAの状態の
場合には、(ア)(イ)(ウ) のいずれの場合であっても、
所定量回転後、露光を開始し、ノッチが検出されるのを
待って、前記図14で説明したように、ノッチ無視制御
を行なうことにより、ウエハ内部の露光不要な領域まで
露光してしまうといった問題を回避することができる。 【0035】上記Aはウエハを所定量回転させたとき、
回転中にノッチ検知手段9の出力が変化しない場合であ
るが、上記回転中にノッチ検知手段9の出力が変化する
場合には、以下の(2) 〜(4) のようにして、露光開始時
点を定める。すなわち、B,Cの場合には、上記Aと同
様、所定量(D1+α)回転後、露光を開始する。ま
た、Dのノッチ検知手段がONからOFFに変化する場
合には、さらにD2+α回転を追加し、その後露光を開
始する。 【0036】(2) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段
9とウエハエッジ検知手段4が図4のBの点線の状態に
あり、所定量(D1+α)回転中にノッチ検知手段9が
OFFからONに変化する場合。この場合は、上記所定
量回転中にノッチ検知手段9からノッチ開始点を示すO
N信号が前記した制御部50に出力される。制御部50
は、上記ON信号に基づき、ノッチの開始位置を求め
る。そして、ウエハを所定量回転させ、ウエハエッジ検
知手段4とノッチ検知手段9が図4のBの太実線位置に
達したら露光を開始する。そして、照射領域が上記ノッ
チ開始位置に達すると、前記したノッチ無視制御(露光
光照射部のならい移動の停止)を行う。すなわち、この
場合には、ノッチの手前近傍から露光が開始されるが、
上記のように、ON信号が検出されたら、前記したノッ
チ無視制御を行うので、ウエハ内部の露光不要な領域ま
で露光してしまうことはない。 【0037】(3) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段
9とウエハエッジ検知手段4が図4のCの点線の状態に
あり、所定量(D1+α)回転中にノッチ検知手段9が
OFF→ON→OFFに変化する場合。この場合も、上
記(2) と同様に、上記所定量回転中にノッチ検知手段9
からノッチ開始点を示すON信号が制御部50に出力さ
れるので、制御部50は、このON信号に基づき、ノッ
チ開始位置を求める。そして、ウエハを所定量回転さ
せ、ウエハエッジ検知手段4とノッチ検知手段9が図4
のCの太実線位置に達したら露光を開始するとともに、
上記照射領域がノッチ開始位置に達したら、前記したノ
ッチ無視制御(露光光照射部のならい移動の停止)を行
う。なお、この場合、露光開始位置が、図4のBに示す
ようにノッチ部分になることがあるが、露光光照射部の
ならい移動は、ノッチ無視制御により停止しているので
問題ない。 【0038】(4) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段
9とウエハエッジ検知手段4が図4のDの点線の状態に
あり、所定量(D1+α)回転中にノッチ検知手段9が
ONからOFFに変化する場合(前記(c) の状態の場
合)。この場合は、ウエハエッジ検出時点でノッチ検知
手段9がONになっているので、そこにノッチがあるこ
とはわかるが、ノッチ開始点がどこかはわからない。こ
のため、前記したように、ノッチ検知手段9のON信号
からノッチ開始位置を求めることはできない。したがっ
て、ウエハを所定量回転した後、露光開始する際、図4
のDのようにノッチ部分と一致したとしてもノッチ無視
制御をすることができない。そこで、この場合は、前記
制御部50は、さらにノッチの幅D2(3mm)+αだ
けウエハをさらに回転させ、図4のDの二重線に示す位
置まで移動させた後に、露光を開始する。これにより、
ノッチを過ぎた位置から露光が開始されることになり、
露光開始後、ウエハをほぼ1回転させた後、ノッチが検
出されたら前記図14で説明したノッチ無視制御を行
う。 【0039】なお、上記(4) においては、D1+α回転
させた後、さらにD2+α回転させているが、ノッチ検
知手段9による検出信号がONからOFFに変化するタ
イミングからノッチ位置を求めて、ノッチ無視制御を行
うようにしてもよい。すなわち、図5に示すように、ノ
ッチ検知手段9の出力がONからOFFしたら、制御部
50においてウエハの回転速度とノッチ幅D2からノッ
チの開始位置を演算する。そして、照射領域がノッチ開
始位置に達したら、前記したようにノッチ無視制御を行
い、露光光照射部のならい移動を停止する。制御部50
は、ノッチが検出されてからウエハを所定量(D1+
α)回転させたのち露光を開始するが、この時点では露
光光照射部のならい移動は停止しているので、ウエハ内
部の露光不要な領域まで露光してしまうことはない。 【0040】次に、図6、図7により本実施例の制御部
50の演算処理部CPUにおける処理を説明する。ま
ず、図6に示すように変数の初期化を行う。すなわち、
予備回転フラグFlgをOFFとし、検出ノッチ位置を
示す変数Lnを未定義に設定する(ステップS1)。次
に、ウエハエッジ検知手段によるウエハエッジの検出動
作を開始させる(ステップS2)。そして、そのときの
ノッチ検知手段の検出結果を、ウエハ回転前のノッチ検
知手段の出力を示す変数Siniに入れる(ステップS
3)。ついで、ウエハを微小量回転させる(実際は、連
続してウエハを回転させ、定期的にノッチ検知手段の出
力を演算処理装置CPUに取り込んでいるが、ここで
は、説明のためウエハを微小量回転させる動作を繰り返
し、ノッチ検知手段の出力を取り込むとして説明する)
(ステップS4)。そして、回転後のノッチ検知手段の
出力を演算処理装置CPUに取り込み、ノッチ検知手段
による検出結果を、最新のノッチ検知手段の出力を示す
変数Sに入れる(ステップS5)。 【0041】ついで、前記変数SiniがOFFで、か
つ、変数SがONであるかを調べる(ステップS6)。
そして、変数SiniがOFFで、かつ、変数SがON
の場合は、ステップS11に行く。なお、変数Sini
がOFFで、かつ、変数SがONの場合は、前記図4の
BあるいはCの場合である。また、前記変数Siniが
OFFで、かつ、変数SがONでない場合には、ステッ
プS7に行き、前記変数SiniがONで、かつ、変数
SがOFFであるかを調べる。そして、変数Siniが
ONで、かつ、変数SがOFF場合は、ステップS13
に行く。なお、変数SiniがONで、かつ、変数Sが
OFFの場合は、前記図4のDの場合である。また、ス
テップS7で変数SiniがONで、かつ、変数SがO
FFでない場合には、ウエハがD1+α回転したかを判
定し(ステップS8)、ウエハがD1+α回転していな
い場合には、ステップS4に戻り上記処理を繰り返す。 【0042】そして、ウエハがD1+α回転すると、ス
テップS9に行く。また、前記変数SiniがOFF
で、かつ、変数SがONの場合(前記図4のB,Cの場
合)には、ステップS11で、Lnが未定義かを調べ、
Lnが既に定義されている場合には、ステップ8に行
く。また、Lnが未定義の場合には、ステップS12に
おいて、現在(変数SがONになった時点)のウエハ回
転位置から、ノッチ位置を求める。すなわち、その時点
においてノッチ検知手段がノッチの開始位置にあるとし
て、現在の照射領域とノッチとの相対位置を求めて、こ
れを検出ノッチ位置を示す変数Lnに入れ、ステップS
8に行く。また、前記変数SiniがONで、かつ、変
数SがOFFの場合(前記図4のDの場合)には、ステ
ップS13で予備回転延長フラグFlgをONとしてス
テップS8に行く。 【0043】ウエハがD1+α回転すると、ステップS
9で、予備回転延長フラグFlgがONであるかを調
べ、予備回転延長フラグFlgがONであれば、前記D
の場合であるので、さらにウエハをD2+α回転させ
て、ステップS10に行く。以上の処理が終わると、ス
テップS10で、露光を開始し、ウエハを回転させなが
ら、ウエハの周辺部の露光を行う。そして、露光光の照
射領域Sが前記ステップS12で求めたノッチ開始位置
に達すると、露光光照射部のウエハエッジへの追従制御
を停止させノッチ無視制御を行う。また、その後の露光
処理中に、前記したようにノッチが検出されたら、前記
図14で説明したように、ノッチ開始位置で露光光照射
部のウエハエッジへの追従制御を停止させノッチ無視制
御を行う。なお、前記図5で説明した制御を行う場合に
は、ステップS13で、ウエハの回転位置とノッチ幅D
2からノッチの開始位置を演算して、ノッチ開始位置を
変数Lnに入れておき、このLnにより、ステップS1
0でノッチ無視制御を行えばよい。この場合には、ステ
ップS9、ステップS14の処理は不要となる。 【0044】(2)実施例2 図8は、本発明の第2の実施例のウエハエッジ検出時の
動作を説明する図、図9は本実施例において前記演算処
理部CPUにおいて行われる処理を示すフローチャート
である。本実施例は、前記図4のB,C,Dの場合(D
1+α回転中にノッチ検知信号が変化する場合)に、さ
らにD2+α回転を追加し、その後露光を開始するよう
にしたものである。なお、前記図4のAの場合は、前記
図4で説明したのと同じであり、ウエハをD1+α回転
させた後、直ちに露光を開始する。本実施例は、上記の
ようにB,C,Dの場合、D2+α回転を追加するだけ
で、ノッチ検出信号の変化状態に応じて異なった制御を
する必要がないので、前記第1の実施例と比べ、制御シ
ーケンスが簡略になる。ただし、D2+α回転回転させ
た後、露光を開始するので、第1の実施例に比べ、露光
せずにウエハを回転する時間が長くなり、スループット
が若干低下する。 【0045】図8は、前記図4と同様、ノッチの近傍を
拡大して示した図であり、図4と同様、符号4を付した
丸印はウエハエッジ検知手段4を示し、符号9を付した
丸印はノッチ検知手段9を示し、黒丸は露光開始位置を
示している。また、ノッチ検知手段9はウエハエッジ検
知手段4の5mm上流側に設けられ、ノッチ幅(ノッチ
開口長)は約3mmである。また、前記と同様、同図の
点線は、ウエハエッジ検出時のノッチ検知手段9および
ウエハエッジ検知手段4の位置を示し、太実線は、ウエ
ハエッジを検出してから、前記した所定量(D1+α)
だけ回転ステージを回転させた後のノッチ検知手段9お
よびウエハエッジ検知手段4の位置を示し、二重線は、
所定量(D1+α)回転させたのち、さらにD2+α回
転させた後のノッチ検知手段9およびウエハエッジ検知
手段4の位置を示している。また、図8中の(ア)〜
(ウ)は、エッジ検出時に、ウエハエッジ検知手段とノ
ッチ検知手段が異なった位置にある場合のそれぞれの状
態を示している。なお、前記図14と同様、ウエハエッ
ジ検出センサの位置と露光光照射位置とは一致してい
る。 【0046】次に図8によりA〜Dの場合におけるウエ
ハエッジ検出時の動作について説明する。 (1) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段9とウエハエ
ッジ検知手段4が図8のAの点線の状態にあり、所定量
(D1+α)回転中にノッチ検知手段9がOFFのまま
変化しない場合。この場合には、前記図4で説明したの
と同じであり、前記(ア)の場合には、所定量回転し露
光を開始する。そして、露光開始後にノッチ検知手段9
によりノッチが検出されれば、前記図14で説明したノ
ッチ無視制御を行なう。前記(イ) の場合にも、所定量
回転した後、露光を開始する。この回転する所定量(5
mm+α)はノッチ幅D2(3mm)よりも大きいの
で、図8のA(イ)に示すようにノッチを過ぎた位置か
ら露光が開始されることになる。前記(ウ)の場合は、
上記(イ)と同様であり、所定量回転した後、露光を開
始する。この場合も、図8のA(ウ)に示すようにノッ
チを過ぎた位置から露光が開始されることになる。 【0047】また、ウエハを所定量回転させたとき、回
転中にノッチ検知手段9の出力が変化する場合には、以
下に説明するように、さらにD2+α回転を追加し、そ
の後露光を開始する。 (2) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段9とウエハエ
ッジ検知手段4が図8のBの点線の状態にあり、所定量
(D1+α)回転中にノッチ検知手段9がOFFからO
Nに変化する場合。この場合は、上記所定量回転中にノ
ッチ検知手段9からノッチ開始点を示すON信号が前記
した制御部50に出力される。前記制御部50は、さら
にノッチの幅D2(3mm)+αだけウエハをさらに回
転させ、図8のBの太破線に示す位置まで移動させた後
に、露光を開始する。また、制御部50は、ノッチ検知
手段のON信号に基づき、ノッチの開始位置を求める。
そして、上記照射領域がノッチ開始位置に達したら、前
記したノッチ無視制御(露光光照射部のならい移動の停
止)を行う。すなわち、この場合には、ノッチの手前近
傍から露光が開始されるが、上記のようにノッチ無視制
御を行うので、ウエハ内部の露光不要な領域まで露光し
てしまうことはない。 【0048】(3) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段
9とウエハエッジ検知手段4が図8のCの点線の状態に
あり、所定量(D1+α)回転中にノッチ検知手段9が
OFF→ON→OFFに変化する場合。この場合も、上
記(2) と同様に、上記所定量回転中にノッチ検知手段9
からノッチ開始点を示すON信号が制御部50に出力さ
れので、前記制御部50は、さらにノッチの幅D2(3
mm)+αだけウエハをさらに回転させ、図8のCの太
破線に示す位置まで移動させた後に、露光を開始する。
そして、上記(2) と同様、制御部50は、ノッチ検知手
段のON信号に基づき、ノッチ開始位置を求める。そし
て、照射領域がノッチ開始位置に達したら前記したノッ
チ無視制御(露光光照射部のならい移動の停止)を行
う。なお、図8のCの(イ)の場合には、所定量(D1
+α)回転させたのち、さらにD2+α回転させること
により、露光光の照射領域S(ウエハエッジ検知手段)
がノッチ位置を越えているので、ここでのノッチ無視制
御は行われず、ウエハがほぼ1回転したのち、前記図1
4で説明したノッチ無視制御が行われる。 【0049】(4) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段
9とウエハエッジ検知手段4が図8のDの点線の状態に
あり、所定量(D1+α)回転中にノッチ検知手段9が
ONからOFFに変化する場合(前記(c) の状態の場
合)。この場合は、上記所定量回転中にノッチ検知手段
9からノッチの終了点を示すOFF信号が制御部50に
出力されので、前記制御部50は、さらにノッチの幅D
2+αだけウエハを回転させ、図8のDの太破線に示す
位置まで移動させた後に、露光を開始する。上記のよう
にウエハをD1+α回転させた後、さらにD2+αだけ
ウエハを回転させたのち露光を開始することにより、前
記図4と同様、図8に示すように、露光開始位置がノッ
チを越えるので、ノッチを過ぎた位置から露光が開始さ
れる。なお、露光開始後、ウエハをほぼ1回転させた
後、ノッチが検出されたら前記図14で説明したノッチ
無視制御を行う。 【0050】次に図9により本実施例の制御部50の演
算処理部CPUにおける処理を説明する。まず、図9に
示すように予備回転フラグFlgをOFFとする(ステ
ップS1)。次に、ウエハエッジ検知手段によるウエハ
エッジの検出動作を開始させる(ステップS2)。そし
て、そのときのノッチ検知手段の検出結果を、ウエハ回
転前のノッチ検知手段の出力を示す変数Siniに入れ
る(ステップS3)。ついで、前記したようにウエハを
微小量回転させる(ステップS4)。そして、回転後の
ノッチ検知手段の出力を演算処理装置CPUに取り込
み、ノッチ検知手段による検出結果を、最新のノッチ検
知手段の出力を示す変数Sに入れる(ステップS5)。 【0051】ついで、前記変数Sini≠変数Sである
かを調べる(ステップS6)。そして、Sini≠Sで
ない場合には、ウエハがD1+α回転したかを判定し
(ステップS7)、ウエハがD1+α回転していない場
合には、ステップS4に戻り上記処理を繰り返す。ま
た、Sini≠Sの場合には、ステップS8において前
記予備回転フラグFlgをONとする。この場合は、前
記図8のB,C,Dの場合である。ウエハがD1+α回
転すると、ステップS9で、予備回転延長フラグFlg
がONであるかを調べ、予備回転延長フラグFlgがO
Nでなければ、ステップS10に行く。この場合は前記
図8のAの場合である。また、予備回転延長フラグFl
gがONであれば、ステップS11において、さらにウ
エハをD2+α回転させて、ステップS10に行く。以
上の処理が終わると、ステップS10で、露光を開始
し、ウエハを回転させながら、ウエハの周辺部の露光を
行う。そして、その後、前記したようにノッチが検出さ
れたら、ノッチ位置で露光光照射部のウエハエッジへの
追従制御を停止させノッチ無視制御を行う。以上のよう
に、本実施例では、図8のB,C,Dの場合、D2+α
回転を追加することで、ノッチ検出信号の変化状態に応
じて異なった制御をする必要がないので、図9に示した
ように制御部50における処理を著しく簡単にすること
ができる。 【0052】(2)実施例3 図10は、本発明の第3の実施例のウエハエッジ検出時
の動作を説明する図、図11、図12は本実施例におい
て前記演算処理部CPUにおいて行われる処理を示すフ
ローチャートである。本実施例は、前記図4のB,C,
Dの場合において、ノッチ検知信号が出力されたとき、
ウエハがD1+α回転するのを待たずに直ちに露光を開
始することにより、露光せずにウエハを回転する時間を
短くしスループット向上させたものである。図10は、
前記図4、図8と同様、ノッチの近傍を拡大して示した
図であり、図4、図8と同様、符号4を付した丸印はウ
エハエッジ検知手段4を示し、符号9を付した丸印はノ
ッチ検知手段9を示しており、黒丸は露光開始位置を示
している。また、ノッチ検知手段9はウエハエッジ検知
手段4の5mm上流側に設けられ、ノッチ幅(ノッチ開
口長)は約3mmである。また、前記したように同図の
点線は、ウエハエッジ検出時のノッチ検知手段9および
ウエハエッジ検知手段4の位置を示し、太実線は、ウエ
ハエッジを検出してから、前記した所定量(D1+α)
だけ回転ステージを回転させた後のノッチ検知手段9お
よびウエハエッジ検知手段4の位置を示し、実線は露光
開始時のノッチ検知手段9およびウエハエッジ検知手段
4の位置を示している。また、図10中の(ア)〜
(ウ)は、エッジ検出時に、ウエハエッジ検知手段とノ
ッチ検知手段が異なった位置にある場合のそれぞれの状
態を示している。なお、前記図14と同様、ウエハエッ
ジ検出センサの位置と露光光照射位置とは一致してい
る。 【0053】次に図10によりA〜Dの場合におけるウ
エハエッジ検出時の動作について説明する。 (1) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段9とウエハエ
ッジ検知手段4が図10のAの点線の状態にあり、所定
量(D1+α)回転中にノッチ検知手段9がOFFのま
ま変化しない場合。この場合には、前記図4、図8で説
明したのと同じであり、前記(ア)の場合には、所定量
回転し露光を開始する。そして、露光開始後にノッチ検
知手段9によりノッチが検出されれば、前記図14で説
明したノッチ無視制御を行なう。前記(イ) の場合に
も、所定量回転した後、露光を開始する。この回転する
所定量(5mm+α)はノッチ幅D2(3mm)よりも
大きいので、図10のA(イ)に示すようにノッチを過
ぎた位置から露光が開始されることになる。前記(ウ)
の場合は、上記(イ)と同様であり、所定量回転した
後、露光を開始する。この場合も、図10のA(ウ)に
示すようにノッチを過ぎた位置から露光が開始されるこ
とになる。 【0054】また、ウエハを所定量回転させたとき、回
転中にノッチ検知手段9の出力が変化する場合には、ノ
ッチ検知信号が変化したタイミングにより、ノッチ開始
位置を知ることができるので、以下に説明するように、
直ちに露光を開始し、露光光照射部(ウエハエッジ検知
手段)がノッチ開始位置に来たら、前記したノッチ無視
制御を行う。 (2) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段9とウエハエ
ッジ検知手段4が図10のBの点線の状態にあり、所定
量(D1+α)回転中にノッチ検知手段9がOFFから
ONに変化する場合。この場合は、上記所定量回転中に
ノッチ検知手段9からノッチ開始点を示すON信号が前
記した制御部50に出力される。前記制御部50は、ノ
ッチ検知手段のON信号に基づき、ノッチの開始位置を
求めるとともに、直ちに露光を開始する。そして、照射
領域がノッチ開始位置に達したら、前記したノッチ無視
制御(露光光照射部のならい移動の停止)を行う。すな
わち、この場合には、ノッチ検知手段のON信号が出力
されたとき、直ちに露光を開始するが、上記のようにノ
ッチ無視制御を行うので、ウエハ内部の露光不要な領域
まで露光してしまうことはない。 【0055】(3) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段
9とウエハエッジ検知手段4が図10のCの点線の状態
にあり、所定量(D1+α)回転中にノッチ検知手段9
がOFF→ON→OFFに変化する場合。この場合も、
上記(2) と同様に、上記所定量回転中にノッチ検知手段
9からノッチ開始点を示すON信号が制御部50に出力
されるので、前記制御部50は、ノッチ検知手段のON
信号に基づき、ノッチ開始位置を求めるとともに、直ち
に露光を開始する。そして、照射領域がノッチ開始位置
に達したら、前記したノッチ無視制御(露光光照射部の
ならい移動の停止)を行う。 (4) ウエハエッジ検出時、ノッチ検知手段9とウエハエ
ッジ検知手段4が図10のDの点線の状態にあり、所定
量(D1+α)回転中にノッチ検知手段9がONからO
FFに変化する場合(前記(c) の状態の場合)。この場
合は、上記所定量回転中にノッチ検知手段9からノッチ
終了点を示すOFF信号が制御部50に出力されので、
前記制御部50は、上記OFF信号が入力された時点で
直ちに露光を開始する。またこれと同時に、前記図5で
説明したのと同様、ノッチ検知手段9の出力がONから
OFFしたタイミングと、ウエハの回転速度とノッチ幅
D2からノッチの開始位置を演算する。そして、露光光
の照射領域Sがノッチ開始位置に達したら、前記したよ
うに、ノッチ無視制御(露光光照射部のならい移動の停
止)を行う。 【0056】次に、図11、図12により本実施例の制
御部50の演算処理部CPUにおける処理を説明する。
まず、図11に示すように、検出ノッチ位置を示す変数
Lnを未定義に設定する(ステップS1)。次に、ウエ
ハエッジ検知手段によるウエハエッジの検出動作を開始
させる(ステップS2)。そして、そのときのノッチ検
知手段の検出結果を、ウエハ回転前のノッチ検知手段の
出力を示す変数Siniに入れる(ステップS3)。つ
いで、前記したようにウエハを微小量回転させる(ステ
ップS4)。そして、回転後のノッチ検知手段の出力を
演算処理装置CPUに取り込み、ノッチ検知手段による
検出結果を、最新のノッチ検知手段の出力を示す変数S
に入れる(ステップS5)。 【0057】ついで、前記変数SiniがOFFで、か
つ、変数SがONであるかを調べる(ステップS6)。
そして、変数SiniがOFFで、かつ、変数SがON
の場合は、ステップS10で露光を直ちに開始して、ス
テップS11に行く。なお、変数SiniがOFFで、
かつ、変数SがONの場合は、前記図10のBあるいは
Cの場合である。また、前記変数SiniがOFFで、
かつ、変数SがONでない場合には、ステップS7に行
き、前記変数SiniがONで、かつ、変数SがOFF
であるかを調べる。そして、変数SiniがONで、か
つ、変数SがOFF場合は、ステップS13で露光を直
ちに開始して、ステップS14に行く。なお、変数Si
niがONで、かつ、変数SがOFFの場合は、前記図
4のDの場合である。 【0058】ステップS11では、Lnが未定義かを調
べ、Lnが既に定義されている場合には、ステップ8に
行く。また、Lnが未定義の場合には、ステップS12
において、現在(変数SがONになった時点)のウエハ
回転位置から、ノッチ位置を求める。すなわち、その時
点においてノッチ検知手段がノッチの開始位置にあると
して、現在の照射領域Sとノッチとの相対位置を求め
て、これを検出ノッチ位置を示す変数Lnに入れ、ステ
ップS8に行く。また、ステップS14では、Lnが未
定義かを調べ、Lnが既に定義されている場合には、ス
テップ8に行く。また、Lnが未定義の場合には、ステ
ップS14において、現在(変数SがOFFになった時
点)のウエハ回転位置から、ノッチ位置を求める。すな
わち、その時点においてノッチ検知手段がノッチの終了
位置にあるとして、現在の照射領域Sとノッチとの相対
位置を求めて、これを検出ノッチ位置を示す変数Lnに
入れ、ステップS8に行く。また、ステップS7で変数
SiniがONで、かつ、変数SがOFFでない場合に
は、ステップS8に行き、前記Lnの値から照射領域が
ノッチ位置にあるかを判定し、ノッチ位置にある場合に
は、ならい制御を停止する(ステップS9)。そして、
ウエハがD1+α回転したかを判定し(ステップS1
6)、ウエハがD1+α回転していない場合には、ステ
ップS4に戻り上記処理を繰り返す。そして、ウエハが
D1+α回転した場合には、ステップS17に行く。 【0059】ウエハがD1+α回転すると、まだ露光が
開始されていない場合には、ステップS17で露光を開
始し、ウエハを回転させながら、ウエハの周辺部の露光
を行う。そして、露光光の照射領域Sがノッチ開始位置
に達すると、露光光照射部のウエハエッジへの追従制御
を停止させノッチ無視制御を行う。また、その後の露光
処理中に、前記したようにノッチが検出されたら、前記
図14で説明したように、ノッチ位置で露光光照射部の
ウエハエッジへの追従制御を停止させノッチ無視制御を
行う。 【0060】なお、上記説明においては、ノッチ検知手
段9の受光部92からのアナログ信号を、制御部52内
の増幅器AC2により増幅し、比較回路CC1にあらか
じめ設定された設定値I1と比較し、設定値I1よりも
大きい場合、ON信号を演算処理部CPUに出力した
が、これに限るものではなく、増幅回路AC2と比較回
路CC1の間に、微分回路を設け、微分データと比較回
路CC1に予め設定された設定値を比較し、設定値より
も大きい場合、ON信号を演算処理部CPUに出力する
ようにしても良い。また、上述した、周辺露光装置にお
いては、露光光照射部とウエハエッジ検知手段とが一体
に設けられており、露光光照射部から照射される露光光
の照射領域の移動は、ウエハエッジ検知手段移動機構に
よって露光光照射部を移動させることにより行ったが、
これに限るものではなく、露光光照射部から照射される
露光光の照射領域を移動させる、照射領域移動機構と、
ウエハエッジ検知手段を移動させる、ウエハエッジ検知
手段移動機構とを別々に設け、該ウエハエッジ検知手段
の移動方向及び移動量と同じ方向に同じ量だけ、該照射
領域が移動するように構成しても良い。 【0061】 【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、ウエハの周辺露光を開始するに際し、ウエハのエッ
ジを検出時、ウエハを、少なくともウエハエッジ検知手
段とノッチ検知手段との間隔だけ回転させてからウエハ
露光光の照射を開始し、上記回転中に前記ノッチ検知手
段の出力信号が変化したとき、該出力信号の変化状態に
応じて予め設定された露光開始位置からウエハ露光光の
照射を開始させ、上記ノッチ検知手段の出力信号の変化
状態からノッチが始まる位置を求め、上記照射領域がノ
ッチの始まりに達したとき、上記露光光照射領域移動機
構の動作を停止させ、上記照射領域がノッチの終わりに
達したとき、上記照射領域移動機構の動作を再開させ,
上記回転中に前記ノッチ検知手段の出力信号が変化しな
いときには、上記回転終了後露光光の照射を開始させ、
上記ノッチ検知手段によりノッチの始まりを示す信号を
受けたとき、上記ノッチの始まりを示す信号に基づき、
ノッチが始まる位置を求め、上記照射領域がノッチの始
まりに達したとき、上記照射領域移動機構の動作を停止
させ, 上記照射領域がノッチの終わりに達したとき、上
記照射領域移動機構の動作を再開させるようにしたの
で、周辺露光を開始する際、ノッチの位置がどこであっ
ても、ノッチを無視した制御を行うことができ、ウエハ
内部の露光不要な領域まで露光してしまうという問題を
回避することができる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の前提となる周辺露光装置の概略構成を
示す図である。 【図2】本発明の周辺露光装置の制御部の概略構成を示
す図である。 【図3】ウエハエッジ検知手段とノッチ検知手段の構成
例を示す図である。 【図4】本発明の第1の実施例のウエハエッジ検出時の
動作を説明する図である。 【図5】第1の実施例の変形例を説明する図である。 【図6】第1の実施例の演算処理部における処理を示す
フローチャート(1)である。 【図7】第1の実施例の演算処理部における処理を示す
フローチャート(2)である。 【図8】本発明の第2の実施例のウエハエッジ検出時の
動作を説明する図である。 【図9】第2の実施例の演算処理部における処理を示す
フローチャートである。 【図10】本発明の第3の実施例のウエハエッジ検出時
の動作を説明する図である。 【図11】第3の実施例の演算処理部における処理を示
すフローチャート(1)である。 【図12】第3の実施例の演算処理部における処理を示
すフローチャート(2)である。 【図13】従来の周辺露光装置によりウエハの周辺が露
光される様子を示す図である。 【図14】ノッチ部分でウエハ内部の露光不要部分まで
露光してしまうことがない従来の周辺露光装置によりウ
エハの周辺が露光される様子を示す図である。 【符号の説明】 1 光源部 11 ランプ 12 集光鏡 13 ライトガイドファイバ 13a ライトガイドファイバの入射端面 13b ライトガイドファイバの出射端面 14 シャッタ 15 シャッタ駆動機構 2 露光光照射部 3 ウエハエッジ検知手段移動機構 4 ウエハエッジ検知手段 41,91 投光部 42,92 受光部 50 制御部 6 処理ステージ 61 処理ステージ回転機構 7 入力部 8 露光幅設定機構 9 ノッチ検知手段 A 露光幅 AC1,AC2 増幅器 CC1 比較回路 CPU 演算処理部 D 露光光照射部の移動方向 E エッジ I1 設定値 L ノッチの切欠寸法 MD1 ウエハエッジ検知手段移動機構駆動部 MD2 露光幅設定機構駆動部 MD3 シャッタ駆動機構駆動部 MD4 処理ステージ回転機構駆動部 N ノッチ Ne ノッチの終わり Ns ノッチの始まり O ウエハの中心 PC PID回路 R フォトレジスト S 照射領域 UE ウエハ内部の露光不要な領域 W ウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 CA02 HA13 HA59 JA05 JA13 JA15 JA17 JA35 JA36 MA27 5F046 BA07 CC06 DA02 DA07 DB05 DC10 EA30

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 外周部にノッチが形成され、フォトレジ
    ストが塗布されたウエハを回転させつつ、該ウエハの周
    辺部のフォトレジストに、露光光を照射することによ
    り、該フォトレジストを露光する周辺露光装置であっ
    て、 センサ光を投光する投光部と、該センサ光を受光する受
    光部とから構成される、ウエハエッジ検知手段と、 上記ウエハエッジ検知手段を、上記ウエハの略中心方向
    に移動させる、ウエハエッジ検知手段移動機構と、 上記ウエハエッジ検知手段の上流側に設けられ、上記ウ
    エハエッジ検知手段と一体に構成された上記ノッチを検
    知するノッチ検知手段と、 上記露光光の照射領域を移動させる、照射領域移動機構
    と、 上記投光部から、センサ光を上記ウエハの周辺部に投光
    し、上記ウエハのエッジ部分に照射したセンサ光を上記
    受光部で受光し、該受光部の受光量が一定になるよう
    に、上記ウエハエッジ検知手段移動機構を制御するとと
    もに、該ウエハエッジ検知手段の移動方向及び移動量と
    同じ方向に同じ量だけ、上記照射領域を移動するよう
    に、上記照射領域移動機構を制御する制御部とを有する
    周辺露光装置において、 上記制御部は、ウエハの周辺露光を開始するに際し、上
    記ウエハエッジ検知手段によりウエハのエッジを検出
    時、ウエハを、ウエハの外周部が少なくともウエハエッ
    ジ検知手段とノッチ検知手段との間隔だけ移動するよう
    に回転させ、上記回転中に上記ノッチ検知手段の出力信
    号が変化したときには、該出力信号の変化状態に応じて
    予め設定された露光開始位置から露光光の照射を開始さ
    せ、上記ノッチ検知手段の出力信号の変化状態からノッ
    チが始まる位置を求め、上記照射領域がノッチの始まり
    に達したとき、上記露光光照射領域移動機構の動作を停
    止させ、上記照射領域がノッチの終わりに達したとき、
    上記照射領域移動機構の動作を再開させ, 上記回転中に
    前記ノッチ検知手段の出力信号が変化しないときには、
    上記回転終了後露光光の照射を開始させ、上記ノッチ検
    知手段によりノッチの始まりを示す信号を受けたとき、
    上記ノッチの始まりを示す信号に基づき、ノッチが始ま
    る位置を求め、上記照射領域がノッチの始まりに達した
    とき、上記照射領域移動機構の動作を停止させ, 上記照
    射領域がノッチの終わりに達したとき、上記照射領域移
    動機構の動作を再開させることを特徴とする周辺露光装
    置。
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