KR100257279B1 - 주변노광장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (30)
- 기판상에 도포된 감광막 중, 상기 기판의 소자영역의 외측에 있는 주변노광영역을 상기 소자영역의 외형에 따라서 계단모양으로 노광하는 주변노광장치에 있어서, 상기 장치는, 기판을 유지하는 기판유지수단과, 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 바깥둘레의 기준위치를 검출하는 검출수단과, 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 광을 조사하는 광조사수단과, 상기 광조사수단으조부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 서로 직교하는 2축방향으로 상대적으로 변위시키는 2축방향 변위 수단과, 상기 기판의 상기 소자영역의 외형에 따른 주변노광영역의 위치 데이터를 입력하는 위치 데이터 입력수단과, 상기 검출수단의 검출결과에 의거하여, 상기 위치 데이터 입력수단으로부터의 위치 데이터의 축선방향과 상기 2축방향 변위수단의 축선방향을 일치시키는 축맞춤수단과, 상기 입력된 위치 데이터에 의거하여, 상기 감광막의 상기 주변노광영역을 따라서 상기 광조사수단으로부터의 광을 변위시켜 소자영역의 계단모양의 외형에 따른 노광을 행하도록 상기 2축방향 변위수단을 제어하는 제어수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 주변노광영역을 복수의 영역으로 분할하고, 상기 주변노광영역에 따른 노광을 분할된 주변노광영역마다 행하도록 구성한 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 기판의 원호모양의 주변부를 따라서 상대적으로 회전시키는 회전수단을 더 구비하고, 상기 제어수단은 상기 감광막의 상기 주변노광영역에 따른 노광의 전 또는 후에 기판의 원호모양의 주변부를 따라서 상기 광조사수단으로부터의 광을 변위시키도록 상기 회전수단을 제어하도록 구성한 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 기판상에 도포된 감광막 중, 상기 기판의 소자영역의 외측에 있는 주변노광영역을 상기 소자영역의 외형에 따라서 계단모양으로 노광하는 주변노광장치에 있어서, 상기 장치는, 기판을 유지하는 기판유지수단과, 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 상기 소자영역의 형상을 화상정보로서 입력하는 화상입력수단과, 상기 화상입력수단에서 입력된 상기 소자영역의 외형에 따른 상기 주변노광영역의 위치 데이터를 산출하는 화상처리수단과, 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 광을 조사하는 광조사수단과, 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 상대적으로 변위시키는 변위수단과, 상기 화상처리수단에 의해 산출된 상기 주변노광영역의 위치 데이터에 의거하여 상기 감광막의 상기 주변노광영역이 노광되도록 상기 변위수단을 제어하는 제어수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제4항에 있어서, 상기 변위수단은 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 서로 직교하는 2축방향으로 상대적으로 변위시키는 2축방향 변위수단을 포함하고 있고, 상기 화상입력수단에서 입력된 상기 화상정보에 의거하여 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 상기 소자영역의 외형의 축선방향을 산출하고, 이 축선방향과 상기 2축방향 변위수단의 축선방향을 일치시키는 축맞춤수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제4항에 있어서, 상기 화상입력수단은 상기 기판의 상기 소자영역보다 작은 화상입력범위를 가지고, 상기 화상입력수단의 상기 화상입력범위에 따라서 소정의 각도씩 상기 기판유지수단에 유지된 기판을 회전시키는 기판회전수단을 구비한 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제6항에 있어서, 상기 광조사수단 및 상기 화상입력수단은 상기 광조사수단의 노광범위와 상기 화상입력수단의 화상입력범위가 중복하도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제6항에 있어서, 상기 광조사수단 및 상기 화상입력수단은 상기 광조사수단의 노광범위와 상기 화상입력수단의 화상입력범위가 중복하지 않도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제4항에 있어서, 상기 화상입력수단은 상기 기판의 상기 소자영역보다 큰 화상입력범위를 가지고, 상기 변위수단은 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막 전면에 걸쳐 변위시키도록 구성한 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제4항에 있어서, 상기 변위수단은 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 서로 직교하는 2축방향으로 상대적으로 변위시키는 2축방향 변위수단을 포함하고 있고, 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 바깥둘레의 기준위치를 검출하는 검출수단과, 상기 소자영역의 외형에 따른 주변노광영역의 위치 데이터를 입력하는 위치 데이터 입력수단과, 상기 검출수단의 검출결과에 의거하여 상기 위치데이터 입력수단으로부터의 위치데이터의 축선방향과 상기 2축방향 변위수단의 축선방향을 일치시키는 축맞춤수단을 더 구비하고, 상기 제어수단은 상기 입력된 위치 데이터에 의거하여 상기 감광막의 상기 주변노광영역에 따라서 상기 광조사수단에서의 광을 변위시키도록 상기 2축방향 변위수단을 제어하는 기능을 더 가지는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 기판상에 도포된 감광막 중, 상기 기판의 소자영역의 외측에 있는 주변노광영역을 상기 소자영역의 외형에 따라서 계단모양으로 노광하는 주변노광장치에 있어서, 상기 장치는, 기판을 유지하는 기판유지수단과, 상기 기판 및 상기 소자영역의 형상정보를 입력하는 형상입력수단과, 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 소자영역내의 스크라이브 라인의 교점근방의 형상을 화상정보로서 입력하는 화상입력수단과, 상기 화상입력수단에서 입력된 화상정보에서 상기 스크라이브 라인의 교점위치를 검출하고, 상기 교점위치 및 상기 형상입력수단에서 입력된 상기 기판 및 상기 소자영역의 형상정보에 의거하여 상기 소자영역의 외형위치를 산출하고, 상기 소자영역의 외형위치에 의거하여 상기 소자영역의 외형에 따른 주변노광영역의 위치를 산출하는 노광영역 산출수단과, 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 광을 조사하는 광조사수단과, 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 상대적으로 변위시키는 변위수단과, 상기 노광영역 산출수단에 의해 산출된 상기 주변노광영역의 위치에 의거하여, 상기 감광막의 상기 주변노광영역이 노광되도록 상기 변위수단을 제어하는 제어수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제11항에 있어서, 상기 변위수단은 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 서로 직교하는 2축방향으로 상대적으로 변위시키는 2축방향 변위수단을 포함하고 있고, 상기 화상입력수단에서 입력된 상기 화상정보에 의거하여 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 상기 소자영역내의 스크라이브 라인의 축선방향을 산출하고, 이 축선방향과 상기 2축방향 변위수단의 축선방향을 일치시키는 축맞춤수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제11항에 있어서, 상기 기판유지수단에 유지된 기판을 회전시키는 기판회전수단을 구비하고, 상기 제어수단은 상기 기판이 소정의 각도씩 회전된 위치마다 주변노광영역이 분할되어 노광되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제11항에 있어서, 상기 변위수단은, 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막 전면에 걸쳐 변위시키도록 구성한 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 제11항에 있어서, 상기 변위수단은 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 서로 직교하는 2축방향으로 상대적으로 변위시키는 2축방향 변위수단을 포함하고 있고, 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 바깥둘레의 기준위치를 검출하는 검출수단과, 상기 소자영역의 외형에 따른 주변노광영역의 위치 데이터를 입력하는 위치 데이터 입력수단과, 상기 검출수단의 검출결과에 의거하여, 상기 위치 데이터 입력수단으로부터의 위치데이터의 축선방향과 상기 2축방향 변위수단의 축선방향을 일치시키는 축맞춤수단을 더 구비하고, 상기 제어수단은 상기 입력된 위치데이터에 의거하여, 상기 감광막의 상기 주변노광영역에 따라서 상기 광조사수단으로부터의 광을 변위시키도록 상기 2축방향 변위수단을 제어하는 기능을 더 가지는 것을 특징으로 하는 주변노광장치.
- 기판상에 도포된 감광막 중, 상기 기판의 소자영역의 외측에 있는 주변노광영역을 상기 소자영역의 외형에 따라서 계단모양으로 노광하는 주변노광방법에 있어서, 상기 방법은, (A-1) 상기 기판의 상기 소자영역의 외형에 따른 주변노광영역의 위치 데이터를 입력하는 공정과, (A-2) 기판유지수단에 유지된 기판의 바깥둘레의 기준위치를 검출하는 공정과, (A-3) 상기 (A-2)의 공정의 검출결과에 의거하여 상기 (A-1)의 공정에서 입력된 위치데이터의 축선방향과, 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 상대적으로 변위시키는 서로 직교하는 2축방향의 축선방향을 일치시키는 공정과, (A-4) 상기 (A-1)의 공정에서 입력된 위치 데이터에 의거하여 상기 감광막의 상기 주변노광영역을 따라서 상기 광조사수단으로부터의 광을 변위시켜서 소자영역의 계단모양의 외형에 따른 노광을 행하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제16항에 있어서, 상기 주변노광영역을 복수의 영역으로 분할하고, 상기 주변노광영역에 따른 노광을 분할된 주변노광영역마다 행하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제16항에 있어서, 상기 감광막의 상기 주변노광영역에 따른 노광의 전 또는 후에 기판의 원호모양의 주변부를 따라서 상기 광조사수단으로부터의 광을 변위시켜서 상기 감광막의 상기 주변노광영역에 따른 노광에서 미노광으로 되는 영역의 노광을 행하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 기판상에 도포된 감광막 중, 상기 기판의 소자영역의 외측에 있는 주변노광영역을 상기 소자영역의 외형에 따라서 계단모양으로 노광하는 주변노광방법에 있어서, 상기 방법은, (B-1) 기판유지수단에 유지된 기판의 상기 소자영역의 형상을 화상정보로서 입력하는 공정과, (B-2) 상기 (B-1)의 공정에서 입력된 상기 화상정보에 의거하여 상기 소자영역의 외형에 따른 상기 주변노광영역의 위치 데이터를 산출하는 공정과, (B-3) 상기 (B-2)의 공정에서 산출된 상기 주변노광영역의 위치 데이터에 의거하여, 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 상대적으로 변위시켜서 상기 감광막의 상기 주변노광영역을 노광하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제19항에 있어서, 상기 (B-3)의 공정에서는 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 서로 직교하는 2축방향으로 상대적으로 변위시키는 동작을 포함하고 있고, 상기 (B-1)의 공정에서 입력된 상기 화상정보에 의거하여 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 상기 소자영역의 외형의 축선방향을 산출하고, 이 축선방향과, 상기 광조사수단으로부터의 광의 2축방향으로의 변위방향을 일치시키는 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제19항에 있어서, 상기 (B-1)의 공정에서 입력하는 화상정보의 화상입력범위를 상기 기판의 상기 소자영역보다 작게 하고, 상기 주변노광영역을 복수의 영역으로 분할하고, 상기 화상입력범위에 따라서 소정의 각도씩 상기 기판유지수단에 지지된 기판을 회전시켜서 상기 분할된 주변노광영역마다 노광을 행하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제21항에 있어서, 상기 광조사수단의 노광범위와 상기 화상입력범위를 중복시켜 두고, 상기 분할된 주변노광영역마다, 기판의 회전을 정지시켜서 상기 (B-1) ∼ 상기 (B-3)의 공정을 행하고, 각각의 분할된 주변노광영역의 노광을 순차적으로 행하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제21항에 있어서, 상기 광조사수단의 노광범위와 상기 화상입력범위를 중복하지 않도록 해두고, 상기 (B-1) 및 상기 (B-2)의 공정과 상기 (B-3)의 공정을 제각기 분할된 주변노광영역에 대하여 동시에 행하면서, 각각의 분할된 주변노광영역의 노광을 순차적으로 행하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제19항에 있어서, 상기 (B-1)의 공정에서 입력하는 화상정보의 화상입력범위를 상기 기판의 상기 소자영역보다 크게 하고, 상기 (B-1)의 공정에서는 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 상기 소자영역 전체의 형상을 1개의 화상정보로서 입력하고, 상기 (B-2)의 공정에서는 상기 (B-1)의 공정에서 입력된 상기 화상정보에 의거하여 상기 소자영역 전체의 외형에 따른 상기 주변노광영역의 위치데이터를 산출하고, 상기 (B-3)의 공정에서는 상기 (B-2)공정에서 산출된 상기 주변노광영역의 위치데이터에 의거하여, 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막 전면(全面)에 대하여 상대적으로 변위시켜서 상기감광막의 상기 주변노광영역을 노광하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제19항에 있어서, (A-1) 상기 기판의 상기 소자영역의 외형에 따른 주변노광영역의 위치데이터를 입력하는 공정과, (A-2) 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 바깥둘레의 기준위치를 검출하는 공정과, (A-3) 상기 (A-2)의 공정의 검출결과에 의거하여, 상기 (A-1)의 공정에서 입력된 위치데이터의 축선방향과, 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 상대적으로 변위시키는 서로 직교하는 2축방향의 축선방향을 일치시키는 공정과, (A-4) 상기 (A-1)의 공정에서 입력된 위치 데이터에 의거하여, 상기 감광막의 상기 주변노광영역에 따라서 상기 광조사수단으로부터의 광을 변위시키고, 소자영역의 계단모양의 외형에 따른 노광을 행하는 공정에 의한 상기 주변노광영역의 노광과, 상기 (B-1) ∼ 상기 (B-3)의 공정에 의한 상기 주변노광영역의 노광을 선택적으로 행하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 기판상에 도포된 감광막 중, 상기 기판의 소자영역의 외측에 있는 주변노광영역을 상기 소자영역의 외형에 따라서 계단모양으로 노광하는 주변노광방법에 있어서, (C-1) 상기 기판 및 상기 소자영역의 형상정보를 입력하는 공정과, (C-2) 기판유지수단에 유지된 기판의 소자영역내의 스크라이브 라인의 교점근방의 형상을 화상정보로서 입력하는 공정과, (C-3) 상기 (C-2)의 공정에서 입력된 화상정보에서 상기 스크라이브 라인의 교점위치를 검출하고, 상기 교점위치 및 상기 (C-1)의 공정에서 입력된 상기 기판 및 상기 소자영역의 형상정보에 의거하여 상기 소자영역의 외형위치를 산출하고, 상기 소자영역의 외형 위치에 의거하여 상기 소자영역의 외형에 따른 주변노광영역의 위치를 산출하는 공정과, (C-4) 상기 (C-3)의 공정에서 산출된 상기 주변노광영역의 위치에 의거하여, 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 상대적으로 변위시켜서 상기 감광막의 상기 주변노광영역을 노광하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제26항에 있어서, 상기 (C-4)의 공정에서는 상기 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 서로 직교하는 2축방향으로 상대적으로 변위시키는 동작을 포함하고 있고, 상기 (C-2)의 공정에서 입력된 상기 화상정보에 의거하여 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 상기 소자영역내의 스크라이브 라인의 축선방향을 산출하고, 이 축선방향과, 상기 광조사수단으로부터의 광의 2축방향으로의 변위방향을 일치시키는 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제26항에 있어서, 상기 주변노광영역을 복수의 영역으로 분할하고, 상기 기판유지수단에 유지된 기판을 소정의 각도씩 회전시켜서 상기 분할된 주변노광영역마다 노광을 행하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제26항에 있어서, 상기 (C-3)의 공정에서는 상기 (C-2)의 공정에서 입력된 화상정보에서 상기 스크라이브 라인의 교점위치를 검출하고, 상기 교점위치 및 상기 (C-1)의 공정에서 입력된 상기 기판 및 상기 소자영역의 형상정보에 의거하여 상기 소자영역 전체의 외형위치를 산출하고, 상기 소자영역 전체의 외형위치에 의거하여 상기 소자영역 전체의 외형에 따른 주변노광영역 전체의 위치를 산출하고, 상기 (C-4)의 공정에서는 상기 (C-3)의 공정에서 산출된 상기 주변노광영역 전체의 위치에 의거하여 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막 전면(全面)에 대하여 상대적으로 변위시켜서 상기 감광막의 상기 주변노광영역을 노광하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
- 제26항에 있어서, (A-1) 상기 기판의 상기 소자영역의 외형에 따른 주변노광영역의 위치데이터를 입력하는 공정과, (A-2) 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 바깥둘레의 기준위치를 검출하는 공정과, (A-3) 상기 (A-2)의 공정의 검출결과에 의거하여, 상기 (A-1)의 공정에서 입력된 위치데이터의 축선방향과, 광조사수단으로부터의 광을 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 감광막에 대하여 상대적으로 변위시키는 서로 직교하는 2축방향의 축선방향을 일치시키는 공정과, (A-4) 상기 (A-1)의 공정에서 입력된 위치 데이터에 의거하여, 상기 감광막의 상기 주변노광영역에 따라서 상기 광조사수단으로부터의 광을 변위시켜서 소자영역의 계단모양의 외형에 따른 노광을 행하는 공정에 의한 상기 주변노광영역의 노광과, 상기 (C-1) ∼ 상기 (C-4)의 공정에 의한 상기 주변노광영역의 노광을 선택적으로 행하는 것을 특징으로 하는 주변노광방법.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100360972B1 (ko) * | 2000-06-16 | 2002-11-18 | 한국디엔에스 주식회사 | 웨이퍼 편심 보정 장치를 갖는 엣지 엑스포져 유닛 |
KR20200003043A (ko) * | 2017-04-28 | 2020-01-08 | 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 | 실리콘 웨이퍼 처리 장치 및 방법 |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3356047B2 (ja) * | 1997-11-26 | 2002-12-09 | ウシオ電機株式会社 | ウエハ周辺露光装置 |
DE19825829C2 (de) * | 1998-06-10 | 2000-07-27 | Leica Microsystems | Verfahren zur Bestimmung des Abstandes P einer Kante eines Strukturelementes auf einem Substrat |
US6718227B1 (en) * | 1999-12-16 | 2004-04-06 | Texas Instruments Incorporated | System and method for determining a position error in a wafer handling device |
US6509577B1 (en) * | 2000-11-10 | 2003-01-21 | Asml Us, Inc. | Systems and methods for exposing substrate periphery |
JP3678144B2 (ja) * | 2000-12-22 | 2005-08-03 | ウシオ電機株式会社 | フィルム回路基板の周辺露光装置 |
EP1256848A3 (en) * | 2001-05-08 | 2003-01-02 | ASML Netherlands B.V. | Optical exposure method and lithographic projection apparatus |
TWI263120B (en) * | 2001-05-08 | 2006-10-01 | Asml Netherlands Bv | Optical exposure method, device manufacturing method and lithographic projection apparatus |
JP4019651B2 (ja) * | 2001-05-21 | 2007-12-12 | ウシオ電機株式会社 | 周辺露光装置 |
JP3820946B2 (ja) * | 2001-09-17 | 2006-09-13 | ウシオ電機株式会社 | 周辺露光装置 |
WO2003032081A1 (en) * | 2001-10-09 | 2003-04-17 | Ultratech Stepper, Inc. | Method and apparatus for optically defining an exposure exclusion region on a photosensitive workpiece |
JP3823805B2 (ja) * | 2001-10-30 | 2006-09-20 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置 |
KR20030040866A (ko) * | 2001-11-16 | 2003-05-23 | (주)에이피엘 | 에지 검출유닛과 자동변위 제어유닛을 갖는 웨이퍼 에지노광장치 |
JP4258828B2 (ja) * | 2002-06-06 | 2009-04-30 | 株式会社安川電機 | ウエハプリアライメント装置および方法 |
US6836690B1 (en) * | 2002-07-19 | 2004-12-28 | Nanometrics Incorporated | High precision substrate prealigner |
US7019817B2 (en) * | 2003-07-14 | 2006-03-28 | Kawasaki Jukogyo Kabuishiki Kaisha | Edge-holding aligner |
US20050248754A1 (en) * | 2004-05-05 | 2005-11-10 | Chun-Sheng Wang | Wafer aligner with WEE (water edge exposure) function |
US7803231B2 (en) * | 2004-09-03 | 2010-09-28 | Panasonic Corporation | Substrate edge part cleaning apparatus and substrate edge part cleaning method |
US7799166B2 (en) * | 2004-09-20 | 2010-09-21 | Lsi Corporation | Wafer edge expose alignment method |
US7074710B2 (en) * | 2004-11-03 | 2006-07-11 | Lsi Logic Corporation | Method of wafer patterning for reducing edge exclusion zone |
JP2007005690A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Fujifilm Holdings Corp | 半導体装置用検査装置およびこれを用いた半導体装置の検査方法 |
KR100650259B1 (ko) * | 2005-12-20 | 2006-11-27 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 포토레지스트막 도포장치 및 이를 이용한 포토리소그라피방법 |
JP4994074B2 (ja) | 2006-04-20 | 2012-08-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄装置,基板洗浄方法,基板処理装置 |
US8162584B2 (en) | 2006-08-23 | 2012-04-24 | Cognex Corporation | Method and apparatus for semiconductor wafer alignment |
JP5132904B2 (ja) * | 2006-09-05 | 2013-01-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板位置決め方法,基板位置検出方法,基板回収方法及び基板位置ずれ補正装置 |
JP4928979B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2012-05-09 | 株式会社東芝 | 露光装置およびリソグラフィシステム |
CN103034062B (zh) * | 2011-09-29 | 2014-11-26 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 用于晶片边缘曝光的方法、光学模块和自动聚焦系统 |
CN104641461B (zh) * | 2012-08-31 | 2017-06-06 | 联达科技设备私人有限公司 | 多功能晶圆及膜片架操持系统 |
US10515833B2 (en) * | 2014-01-24 | 2019-12-24 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Wafer cleaning system and method |
US9891529B2 (en) * | 2014-03-28 | 2018-02-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Light transmission device and method for semiconductor manufacturing process |
CN105611173A (zh) * | 2016-02-26 | 2016-05-25 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 终端、成像装置、交互系统、其控制方法及控制装置 |
CN113484325A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-10-08 | 广东奥普特科技股份有限公司 | 一种晶圆点胶缺陷检测装置及晶圆点胶缺陷检测方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960016175B1 (en) * | 1987-08-28 | 1996-12-04 | Tokyo Electron Ltd | Exposing method and apparatus thereof |
US4899195A (en) * | 1988-01-29 | 1990-02-06 | Ushio Denki | Method of exposing a peripheral part of wafer |
US5168304A (en) * | 1988-08-22 | 1992-12-01 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
JPH02288221A (ja) * | 1989-04-27 | 1990-11-28 | Nec Kyushu Ltd | 半導体基板の周辺露光装置 |
US5289263A (en) * | 1989-04-28 | 1994-02-22 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Apparatus for exposing periphery of an object |
JPH0612756B2 (ja) * | 1989-04-28 | 1994-02-16 | 大日本スクリーン製造株式会社 | ウエハの周辺部露光装置 |
US5168021A (en) * | 1989-09-21 | 1992-12-01 | Ushio Denki | Method for exposing predetermined area of peripheral part of wafer |
JP2534567B2 (ja) * | 1990-02-21 | 1996-09-18 | ウシオ電機株式会社 | ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置 |
JP2874280B2 (ja) * | 1990-05-16 | 1999-03-24 | 株式会社ニコン | 周縁露光装置及び周縁露光方法 |
US5229811A (en) * | 1990-06-15 | 1993-07-20 | Nikon Corporation | Apparatus for exposing peripheral portion of substrate |
US5420663A (en) * | 1993-03-19 | 1995-05-30 | Nikon Corporation | Apparatus for exposing peripheral portion of substrate |
-
1997
- 1997-05-30 KR KR1019970022142A patent/KR100257279B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-03 US US08/868,382 patent/US5982474A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100360972B1 (ko) * | 2000-06-16 | 2002-11-18 | 한국디엔에스 주식회사 | 웨이퍼 편심 보정 장치를 갖는 엣지 엑스포져 유닛 |
KR20200003043A (ko) * | 2017-04-28 | 2020-01-08 | 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 | 실리콘 웨이퍼 처리 장치 및 방법 |
KR102319344B1 (ko) | 2017-04-28 | 2021-10-28 | 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 | 실리콘 웨이퍼 처리 장치 및 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US5982474A (en) | 1999-11-09 |
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