JPH0465116A - 周縁露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ウェハの周縁部分を選択的に露光する周縁露
光装置に関するものである。

〔従来の技術〕

半導体集積回路製造工程において、ウェハに微細パター
ンを形成するために塗布されるレジストは、ウェハ周縁
部分で剥がれ易く、剥がれたレジストがウェハの表面に
付着し、その後の工程において悪影響を及ぼすというこ
とが問題となっている。

従来、このような悪影響を及ぼすウェハ周縁部分におけ
るレジスト剥離を防止するためには、例えば特開平２−
５６９２４号公報に示すように、ウェハをウェハの表面
とほぼ平行な面内で回転させる機構を持つとともに、所
定形状に成形された露光光束とウェハとをウェハの回転
の半径方向（以下単に「ウェハの半径方向」とする。）
に相対移動可能な機構を持ち、ウェハエツジからウェハ
の半径方向に関する所定の範囲内でウェハを照射するた
めのサーボ動作機構を持った専用の露光装置でウェハの
周縁部分のみを選択的に露光するということが行われて
いる。ここで、露光光束の形状は必要最小限の露光量で
露光をおこなえるように、円形ではな（扇形、方形形状
等としている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記の如き従来の技術においては、ウェ
ハ円周部では周縁部を一定の幅でほぼ均一に露光できる
が、ＯＦ部（周辺部に設けられた直線状の平坦部）では
周縁部を一定の幅で均一に露光できなかった。

これは、露光光束はウェハの半径方向の動きしかできな
いためである。つまり、サーボ動作が完全に追従した場
合でも、ＯＦ部の露光の際には、露光光束の断面（この
場合光束断面は方形状に成形されているものとする）の
先端が描く実際の軌跡１１は、第７図に示すように曲線
状となり、要求される光束断面先端の軌跡１２を満たさ
ず、露光幅はウェハの半径方向に関する所定の範囲内と
ならない（軌跡１１がＯＦ部と平行な直線状の軌跡とな
らない）ためである。

つまり、従来の技術では、第７図中のウェハの半径方向
に関する所定幅Ｗを一定にしようとするサーボ動作を行
っても、実際の軌跡１’ｌと要求される軌跡１２との間
には偏差ｄが生じる。又、露光光束は、第７図に示すよ
うにＯＦ部の両端にいくほどウェハ○Ｆ部に対して傾い
て動作するので偏差ｄは大きくなる。

従って、光束先端の軌跡は、偏差ｄによって要求される
所定範囲内となるような軌跡を描かず周縁露光幅が一定
でな（なるという問題点かあった。

この偏差ｄは、ウェハの回転中心と交わるＯＦ直線部の
垂直２等分線１３とウェハの回転中心とＯＦ部端部を結
ぶ直線１４とのなす角度をθ。、とすると ｄ＝Ｗ−Ｗｃｏｓθ−（１） で表すことができる。これは例えば６インチウェハの場
合で、ＯＦ直線部長５７．５ｍｍ、周縁露光幅（Ｗ）５
ｍｍの場合ｄ＝０．３８ｍｍ程度となる。

一方、ＯＦ部を露光する場合、露光光束がＯＦ部に対し
て傾いていることにより、露光光束の角部の一点が描く
軌跡における積算露光量と露光光束の中心近傍部の一点
が描く軌跡における積算露光量は異なる。この積算露光
量の相違はＯＦ端部にいくほど大きくなる。これは、露
光光束は、第８図に示す如＜ＯＦ部の両端にいくほど、
ＯＦ部に対して傾いて作用するためＯＦ端部での偏差ｄ
による影響が大きくなることによる。

更に、露光光束はスループットを低下させないためにも
ある程度の面積を持っていなければならず（露光光束の
ウェハ円周の接線方向の太さがある程度の太さを持って
いなければならない）、光束の面積に起因して、ＯＦ端
部にいくほど偏差ｄによる影響が大きくなるためである
（図中−点鎖線はウェハの半径を示すものである。）。

よって、周縁露光後のＯＦ端部付近（第７図中の斜線部
）では積算露光量が一定でなくなる上、レジスト端部の
膜ベリや周縁露光幅のばらつきの原因となる不都合があ
った。

本発明は以上の点を考慮してなされたもので、ウェハＯ
Ｆ部の露光の際にも露光幅、積算露光量が一定となるよ
うに、露光光束を制御可能な周縁露光装置を得ることを
目的としている。

〔課題を解決する為の手段〕

かかる問題点を解決するため本発明においては周辺に直
線的な平坦部を有するとともに、表面にほぼ均一な感光
層を有する基板の中央近傍を中心として、該基板を前記
表面とほぼ平行な面内で回転させる第１の回転手段（１
，３，１１）と、少なくとも一部を直線状に成形した断
面形状の光束を該基板の周縁部に照射する照射手段（４
，５）と、前記光束と前記基板を前記回転の半径方向に
相対的に移動させる移動手段（１０）とを備え、前記第
１の回転手段によって前記基板を回転させながら、前記
移動手段を駆動させて、前記光束で前記周縁部を露光す
る周縁露光装置において、前記平坦部の直線方向と前記
光束の断面形状における直線状端辺の方向との相対的な
傾きに関する情報を検出する検出手段（Ｄｅ、８）と；
前記表面とほぼ平行な面内で、前記光束の中心近傍を回
転中心として前記光束を回転する第２の回転手段（９）
と； 前記検出手段からの信号に基づいて、前記基板の平坦部
と前記光束の断面形状における直線状端辺とが略平行に
なるように前記第２の回転手段を制御する制御手段（１
７）とを設ける。

〔作　用〕

本発明によれば、光束を回転させることによりウェハの
ＯＦ部においても正確に一定の露光幅で均一な露光がで
きるので、ウェハ全周に渡って周縁部分の積算露光量が
一様となり、レジスト端の膜べりも少なく精度良く周縁
露光することができる。

〔実　施　例〕

以下、図面を参照して本発明の実施例について詳述する
。第１図は本発明の第１実施例による周縁露光装置の全
体構成を示す図である。

不図示のウェハ搬送路に沿ってターンテーブル１上に搬
送されてきたウェハ２は、その中心とターンテーブルｌ
の回転中心が概略一致する位置でターンテーブル１上に
真空吸着される。ターンテーブル１は、ウェハ２を保持
したままモータ３によって所定の速度で回転される。

ここで、モータ３にはロータリエンコーダ１１が設けら
れており、ターンテーブル１の回転角を検出可能となっ
ている。

又、光源７はレジストに対して感応性が高い波長域の照
明光（露光光）を発生し、この照明光はファイバＦＢに
よって、ウェハ２の周縁部上方に配置された発光部４ま
で導かれる。さらに照明光は、発光部４の内部に設けら
れたレンズ系４ａによりほぼ平行な光束となって絞り５
を照射する。

光源７からの照明光は、絞り５により所定の断面形状に
規定（成形）され、露光光束６として発光部４から射出
されて選択的にウェハ２の周縁部に照射される。

ここで、絞り５は、露光光束６の断面形状を第２図（ａ
）で斜線に示すように少なくともウェハ側の端辺ｌが直
線状となる方形形状に成形する。例えば、絞り５は、直
線状端辺ｌを作成可能な直線部を有するＬ字型の２枚の
遮光板で構成され、本実施例では２枚の遮光板をレンズ
系４ａの光軸を基準として駆動し、光束６の幅、大きさ
を調整可能になっているものとする。この方形形状は長
方形に限るものではなく、台形等であってもかまわない
。

次に受光部８は、ウェハ２の周縁部分を挟んで、発光部
４と対向するように配置されている。

受光部８には、第２図（ｂ）に示すように間隔して平行
に併設されたリニアポジションセンサ（又はシリコン・
フォトダイオード等）８ａ、８ｂが光束６を検出できる
よう配置されている。又、本実施例では、発光部４．受
光部８とは別に、第２図［ａ）に示すようなウェハ外形
検出センサＤｅを設け、レジストを感光させない光（非
露光光）を射出する光源をウェハ２を介して対向する位
置に設けている。そして、周縁露光前にターンテーブル
を回転し、ウェハ２で遮光されない非露光光をセンサＤ
ｅで受光する。このセンサから出力される受光量に対応
する出力値から非接触にウェハ外形情報（ＯＦの位置、
長さ等）を検出し、ターンテーブル１に直結したロータ
リーエンコーダ１１によってウェハ外形情報を、角度情
報として検出する構成をとることとしている。

光束６の断面における直線部ｌと受光部８とは、予め傾
きに関して一定の対応関係に定められているものとする
。ここでは、光束６の直線部ｌと受光部８に設けられた
センサ８ａ、８ｂの長手方向とが垂直になるように調整
を行ってお（（第２図（ｂン）　。

センサ８ａ、８ｂは、ウェハ２で遮光されない光束６を
受光し、センサ８ａ、８ｂの各々から出力される光電信
号に基づいて一ウェハ２のエツジが検出されるとともに
、センサ８ａ、８ｂの長手方向に対するＯＦ部の傾きに
関する情報を検出するようになっている。この傾きに関
する情報の検出は、センサ８ａ、８ｂの出力差（電圧値
の差）から求めるものである。（センサの長手方向に対
してＯＦ部が傾くと８ａ、８ｂに出力差が生じる）又、
発光部４と受光部８は、一体に金物２１に固定され、露
光ユニットＵを形成している。さらに金物２１はスライ
ダ（移動ステージ）１０ａに固設されている。移動手段
１０は露光ユニットＵを載置する移動ステージ１０ａ、
ガイド１０ｂ。

モータ１０ｃより構成され、露光ユニットＵをウェハ２
の半径方向に移動可能とすることにより、光束６とウェ
ハ２を相対移動可能な構造になっている。

露光ユニットＵは、光束６の概略中心（レンズ４ａの光
軸）を回転中心としてモータ９によりウェハ２の表面と
略平行な面内にそって、回転可能な構造となっている。

前述の如くレンズ系４ａの光軸（光束６の概略中心）を
基準として遮光板を駆動することにより、光束６の形状
が変化しても、光束６の概略中心と露光ユニットＵの回
転中心（レンズ４ａの光軸）との相対位置関係は変化し
ない。

又、光束６の概略中心（レンズ４ａの光軸）以外の点を
回転中心とすることも可能であるが、このように光束６
の概略中心（レンズ４ａの光軸）を回転中心とすること
が望ましい。上記構成の場合回転モーメントが少なくな
り、回転制御が容易となる。更に後述のウェハ２の半径
方向のサーボ動作を行う際には、光束６のウェハ２に対
する移動量が少な（てすむといった利点がある。

次に、本実施例におけるウェハ周縁部の露光制御につい
て第３図のブロック図を用いて説明する。

受光部８は、光束６の光強度（光量）に応じた信号を出
力し、該信号はアンプ１２．Ａ／Ｄコンバータ１３を介
してＲＡＭ１４にＣＰＵ１５からのクロックパルスに応
じて記憶される。

ＲＡＭ１４には、周縁部の必要露光領域に関するデータ
ＤＩ、使用レジストについての適正露光量に関するデー
タＤ２が予め記憶されているものとする。ここで、デー
タＤ１について更に詳しく述べると、データＤＩはウェ
ハ２の露光動作前に行われるキャリブレーション（ウェ
ハ露光動作前にダミーのウェハ等を使って必要露光幅で
露光されるように設定した場合における、必要露光幅と
センサ８からの出力信号電圧値の対応付け）によって求
めた必要露光幅に対応したセンサ８ａ。

８ｂからの出力信号の電圧値である。後述のサーボ動作
は、センサ８ａ、８ｂからの出力電圧値とこのデータＤ
Ｉとを比較することによって行われる。

ウェハ２周縁の露光を行うに際し、ＣＰＵ１５は、ＲＡ
Ｍ１４に格納された周縁部の必要露光領域に関するデー
タＤＩ、使用レジストについての適正露光量に関係する
データＤ２に基づいて適正露光量を算出し、露光条件（
露光光強度、絞り幅等）およびターンテーブル１の回転
速度を決定する。

そして、ＣＰＵ１５は、露光光強度に関するデータＤ２
’　を光源７へ、絞り５を制御して光束を所定の形状に
整形する光束形状信号Ｅを絞り制御部１６へ、ターンテ
ーブル１が所定の回転速度となるようにモータ３を制御
する制御信号Ｆを第１の回転制御部１９へ夫々送る。絞
り５は、光束の中心とユニットＵの回転中心とは不変と
なるように制御される。

発光部４と受光部８は、ウェハの回転開始後、必要露光
領域に見合う位置に駆動手段１０によってウェハ２の周
縁部分を挟みこむように配置された後、露光開始信号Ｄ
３′（光源７をＯＮ）が、ＣＰＵ１５によって光源７に
伝達されることにより、発光部４から露光光束６が射出
される。

又、ターンテーブル１が所定の速度で回転し、露光が開
始されたとき、発光部４から射出される露光光束６を受
光部８で受光する。ＣＰＵｌ５はセンサ８ａ、８ｂから
の信号（電圧値）とＲＡＭ１４に格納されているデータ
Ｄ１とを比較するこトニヨリ、ウェハ円周部において常
にウェハエツジから所定の距離までの領域を露光するよ
うに移動子段１０を制御するサーボ制御信号Ｇをサーボ
制御部１８へと送る。

本実施例では、予め、露光の前にウェハ外形検出を行い
、ＯＦ部情報をエンコーダの角度情報に対応つけてＲＡ
Ｍ１４に格納させている。

ＯＦ部を露光する際には、ＲＡＭ１４に記憶されている
ＯＦ部と対応したエンコーダの角度情報よりＯＦ部と円
周部を判別する。

更に、ＣＰＵ１５は第４図に示すように、間隔りで配置
した２つのポジションセンサ８ａ、８ｂにより構成され
た受光部８の各々のセンサからの出力差（電圧差）信号
をセンサ８ａ、８ｂとＯＦ部の傾きに関する情報として
検出する。

この出力差に基づいてＣＰＵ１５は、露光光束６がＯＦ
部において、この出力差が零となるよう、すなわちＯＦ
部のエツジと光束６の直線部ｌとが略平行となるように
ＯＦ部のエツジに対して光束６を回転させるモータ９の
制御信号Ｈを第２の回転制御部１７に送る。その結果、
第２の回転制御部１７は、光束６の断面の直線状の端辺
ｌとＯＦ部とが略平行になるようモータ９の回転を制御
する。

適正露光量で露光が完了すると、ＣＰＵ１５は光源７に
露光終了信号Ｄ３”を送るとともに、第１の回転制御手
段１９を介してモータ３の回転を停止して周縁露光が終
了する。

次に、本実施例の動作について第５図を参照にして説明
する。

まず最初に、ステップ１００で、露光動作の前に、ウェ
ハ２を載置したターンテーブルを１回転させ、センサＤ
ｅによって非接触にＯＦ部を検出し、このＯＦ部の位置
情報Ｄ４をエンコーダ１１の角度情報としてエンコーダ
のパルスに応じてＲＡＭ１４に記憶させておく。

次にＣＰＵ１５は、ステップ１０１で受光部８より得ら
れた信号と予めＲＡＭ１４に格納されているデータＤｉ
、Ｄ２により露光条件（露光光の強度、絞り幅等）とタ
ーンテーブル１の回転速度とを決定する。

これらの条件に基づき、露光光強度に関するデータＤ２
’　を光源７に、光束形状信号Ｅを絞り制御部１６に、
モータ３の制御信号Ｆを第１の回転制御部１９に夫々送
る。

ここで、前述の如く絞り５は、光束６の幅を２枚の遮光
板によって、調整可能となっている。

ターンテーブル１の回転速度を決定する際、露光光の強
度を一定とした場合、ターンテーブル１の回転速度を上
げるには、絞り５のスリット幅を狭くし、逆に回転速度
を下げるにはスリット幅を広くすることとすればよい。

尚、露光中に設定した露光条件が適切かどうか確認する
に際しては、適宜、ウェハ２を退けた状態で受光部８で
露光光を受け、露光光束６の強度を実測するようにすれ
ば、光源の劣化等による露光量変化を防止することがで
きる。光源の劣化等により、露光光束の強度が弱くなっ
た場合は、ターンテーブルｌの回転速度を下げても構わ
ないが、劣化光量に相当する分だけ絞り幅を広げること
により、ターンテーブル１の回転速度を一定にしたまま
所定の露光量を確保することも可能である。

これは、スループットを一定に保つ点で有利である。

次にステップ１０２でＣＰＵ１５からモータ３制御信号
Ｆを受けた第１の回転制御部１９は、モータ３の回転を
開始し、モータ３を制御して、ターンテーブルｌを所定
の速度で回転させる。

次に、移動手段１０によって、露光ユニットＵは、予め
設定されている必要露光領域に見合う位置にウェハ２の
周縁部分を挟み込むように配置される。

次にステップ１０３で露光開始信号Ｄ３°がＣＰＵ１５
から光源７に送られることによって、光源７をＯＮとし
、発光部４から露光光束６が射出される。

ＣＰＵ１５は、ＲＡＭ１４に記憶されているＯＦ部に対
応するエンコーダの角度情報（データＤ４）よりウェハ
ＯＦ部を検知可能である。

ステップ１０４でＣＰＵ１５は、エンコーダ１１の角度
情報を基に、ＯＦ部か円周部かを判断し、円周部の場合
はステップ１０−５で、ＣＰＵ１５は、データＤ１と受
光部８からの信号に基づいて、ウェハ２のエツジから常
に一定の露光幅で露光されるようにサーボ制御信号Ｇを
サーボ制御部１８に送る。サーボ動作はセンサ８からの
信号とデータＤ１とが等しくなるように行う。サーボ制
御部１８はこの信号Ｇに基づき移動手段１０をサーボ制
御する。これにより、ウェハエツジから半径方向に任意
の距離までの領域が、一定の幅で均一に露光される。（
この時センサ８ａと８ｂからの出力差はないものとする
。） ステップ１０４でＯＦ部と判断された場合は、ステップ
２００で受光部８からの信号に基づいて、ＣＰＵ１５は
モータ９の制御信号Ｈを第２の回転制御手段１７に送り
、第２の回転制御手段１７はＯＦ部において露光光束６
のウェハ側の端辺ｌとＯＦ部が常に平行となるように、
光束６を回転すべくモータ９を制御する。モータ９を制
御することによる光束の回転動作の制御の方法としては
、例えば第４図において、２つのセンサ８ａ、８ｂから
のセンサ信号が等しくなるようにＣＰＵ１５により、発
光部４と受光部８を一体にして回転させるよう制御すれ
ば良い。同時にサーボ制御部１８により一定の幅で露光
が行われるようにウエノ１の半径方向にサーボ制御が行
われる。

この動作はステップ２０１で光束がＯＦ部から円周部に
差し掛かるまで続けられる。（ＯＦ部。

円周部の判別はエンコーダ１１の角度情報により判別さ
れる。） 光束６が円周部に差し掛かると、光束６の断面の端辺ｌ
がウェハの半径方向と略垂直になる位置（センサ８ａ、
８ｂとの出力差がなくなる位置）でモータ９による光束
６の回転が止まり、ステップ１０５により前述の如くウ
ェハの半径方向のサーボ制御のみが行われる。

そして、所定回転が実行された後、ＣＰＵ１５は、ステ
ップ１０６で露光終了信号Ｄ３″を光源７に送って光源
７をＯＦＦし、ターンテーブル１を停止して、−枚のウ
ェハの周縁露光が終了する。

尚、露光光束の回転動作とウェハの半径方向の移動動作
を同時に制御する時に、ターンテーブルｌを等速度で回
転させた場合には、ウェハ円周部に比べてＯＦ部におい
ては、露光光の照射時間が長くなり、特にＯＦ部両端で
露光量が多くなる。

通常ＯＦ部特にＯＦ部両端において、レジストは盛り上
がった状態となっているので、ＯＦ部で露光時間が長く
なっても特に問題はない。

又、全周均一な露光量で露光する必要がある場合には、
ＯＦ部においては円周部より高速で回転させてやれば良
い。

以上の通り、本実施例においては、ファイバＦＢとウェ
ハ２との間にレンズ系４ａ、絞り５を設けることとして
いるが、射出端を方形形状に成形したファイバを、ウェ
ハ２の周縁部分上方にウェハ２に極近接してもよい。こ
の場合はファイバより射出される光束６で直接ウェハ２
を露光することになり、露光量はターンテーブル１の回
転速度を調整することにより制御可能である。

次に、本発明の第２の実施例について第６図を参照にし
て説明する。

第１の実施例では、発光部４と受光部８を一体にした露
光ユニットＵをウェハの半径方向に移動することにより
、所定の露光領域を得るようにしているが、本実施例で
は第６図に示すように、発光部４と受光部８は回転動作
のみを行い、ウェハ２を保持するターンテーブル１をウ
ェハの半径方向に移動可能なステージ２０上に配置し、
ステージ２０のサーボ制御を行うことにより、所定の露
光領域を得ようとするものである。ステージ２０はモー
タ２．Ｏｂによって、ガイド２Ｏａ上をウェハの半径方
向に移動可能な構造となっている。他の構成は第１の実
施例と同様である。

次に、本発明の第３の実施例について説明する。

第１の実施例では、発光部４と受光部８とが一体構造の
露光ユニットＵとなっており、この露光ユニットＵを一
体回転させる構成をとっているが、本実施例では、モー
タ９によって発光部４のみを回転させる構成をとるもの
とする。他の構成は第１の実施例と同様である。

本実施例では発光部４の回転に伴って露光光束６と受光
部８とが相対的に変化（回転）するため、更にモータ９
にロータリーエンコーダ等の角度検出手段を設ける。そ
してＯＦ部の露光にあたっては、受光部８のセンサ８ａ
、８ｂの出力差から求まる角度θと前記角度検出手段に
より求まる角度θ１が等しくなるようにＣＰＵ１５によ
りモータ９を制御するような構成をとるものとする。こ
こで、受光部８とＯＦ部の傾きを求める方法としては、
第４図に示すように間隔して配置した２つのポジション
センサ８ａ、８ｂからの信号に基づいて、各々のセンサ
上でのＯＦ部の位置Ｓ、、Ｓ２を求める。そしてこの位
置Ｓ、、Ｓ２の差を求めるとこれらと既知の間隔りから
、受光部８とＯＦ部との角度θが として求まる。

尚、本実施例では、光束６は発光部４が回転しても光束
の側面Ｋがセンサ８ａ、８ｂからはずれることのない大
きさに成形されているものとする。

これは、傾きの検出精度の低下を防止するため、発光部
４のみが回転しても、ウェハ２の外側部分でのセンサ８
ａと８ｂ全域に渡って光束６を受光する必要があるから
である。

尚、ロータリーエンコーダ等の角度検出手段は、光束６
の直線部ｌとセンサ８ａ、８ｂとが直交した状態のとき
、予めカウンタはプリセットされているものとする。

本実施例では、発光部４のみが回転する構成をとるため
、受光部８はＯＦ部に対して傾いた状態のままである。

従って、露光幅に関するウェハ２の半径方向のサーボ制
御を行なう場合は、センサ８ａ、８ｂからの出力値に、
傾きに応じたオフセット量を加えた値でサーボ制御を行
なうものとする。

一方、露光動作前のＯＦ検出結果から既知のウェハ長、
ウェハ半径を使いＣＰＵ１５の演算によってＯＦ部の傾
きを求め、センサ８ａ、８ｂからの出力値を使うことな
く回転制御を行うことも可能である。

次に第４の実施例について説明する。

上記の第１〜第３実施例では、露光動作前にウェハ外形
情報（ＯＦ検出情報）をとることとし、ウェハ外形検出
用センサＤｅとセンサ８を別構成としていたが、本実施
例では光学系を同一としてセンサＤｅをセンサ８で共用
とする構成をとるものである。

この場合、露光光を射出する光源と非露光光を射出する
光源の２つの光源を設けて、ダイクロイックミラーを介
して夫々の光源から射出される光束を上述の光学系へ導
くような構成にすればよい。

露光光と非露光光の切替えの一例としては光源のＯＮ、
ＯＦＦによる切替えや光源とダイクロイックミラーの間
にシャッタを設けて適宜切り換える等の方法が考えられ
る。或いは、水銀ランプ等の広帯域を持つ露光光源を使
用する場合は、光路中に非露光波長のみを選択する波長
選択フィルターを設けて、このフィルターの出し入れに
より露光光と非露光光とを適宜選択するようにすればよ
い。

そして、露光動作の前に、非露光光をセンサ８で受光す
ることによってウェハ外形情報を検出する。以下露光動
作については上記第１〜第３実施例と同様である。

次に本発明の第５の実施例について説明する。

以上の実施例では、露光前に求めたウェハ外形情報から
光束６の回転（露光ユニットＵ全体又は発光部４のみの
回転）の開始、終了のタイミングをとることとしていた
が、本実施例では、ＯＦ部と円周部との境界部でセンサ
８ａと８ｂに出力差が生じることから、この出力差を検
知した時点で光束６の回転の開始、終了のタイミングを
とるものである。円周部若しくはＯＦ部から露光を開始
することとし円周部とＯＦ部との境界を検知した時点で
光束６の回転の開始、終了を制御することによって、そ
れぞれに応した制御動作が可能となる。

次に、第６の実施例について説明する。

上記実施例では、光源からウェハへ光束をファイバを介
して導くような構成をとっているが、本実施例では、ウ
ェハ照射部から離れたところに設けられた光源からウェ
ハへ光束をミラー系や光学系を介して導（ような構成を
とるものである。

このような構成をとることにより、ターンテーブル１を
固定したまま、ミラー系や光学系を駆動させることによ
って、光束のウェハの半径方向の移動や回転が可能とな
る。

光源より射出された光束は、照明系を介して均、略平行
光とされ、絞りにより所定形状に成形された後、ミラー
系や光学系を介してウェハに照射される。　第１の実施
例で発光部４を移動させた場合と同様に光束をウェハの
半径方向に移動させるには、例えば、ウェハの被照射面
上方にウェハ面に対して４５度傾いて設けられたミラー
を移動させたり、絞りとウェハとの間にプレーンパラレ
ル等の光学系を設け、これらを所定の角度で傾けてやれ
ばよい。これによって所定の幅でウェハを露光すること
ができる。更に、光束を回転させる場合は、平行光束と
なっている光路中で、絞りとウェハの間にイメージロー
テータを設けて、所望の光束回転角の１／２の角度分だ
け回転させればよい。

又、絞り面とウェハ面とを共役関係としたい場合は、ア
フォーカルリレー系を設けることとする。

ウェハの半径方向に光束を移動する場合は、リレー系の
ウェハ側のレンズとウェハの照射面上方にウェハ面に対
して４５度傾いて設けられたミラーを一体として移動す
るか或いはプレーンパラレル等を傾けることとし、光束
を回転させる場合は絞りを回転させるか或いはイメージ
ローテータを光路中絞りとウェハの間に設けてこれを回
転させてやればよい。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば、光束に対するウェハＯＦ
部の傾きに関する情報を検出して、ウェハの円周部と同
様に常にウェハＯＦ部が一定の露光幅となるように制御
しているので、ウェハ全周にわたって露光幅のばらつき
や膜べりの少ない周縁露光を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例による全体構成を示す図
であり、第２図（ａ）は本発明の第１の実施例による露
光光束の断面形状を示す図、第２図（ｂ）は本発明の第
１の実施例による受光部を示す図、第３図は本発明の第
１の実施例による露光制御を示すブロック図であり、第
４図は本発明の第１の実施例によるＯＦ部の角度を検出
する方法を示す図であり、第５図は本発明の第１の実施
例による露光の動作を示す流れ図であり、第６図は本発
明の第２の実施例による装置構成を示す図であり、第７
図は従来の技術における光束先端の軌跡を示す図であり
、第８図は従来の技術におけるＯＦ部両端での光束の傾
きを示す図である。 〔主要部分の符号の説明〕 １・・・ターンテーブル、２・・・ウェハ、３，９・・
・モータ、４・・・発光部、５・・・絞り部、６・・・
光束、８・・・受光部、１０・・・移動手段、１５・・
・ＣＰＵ、１７・・・第２の回転手段制御部、１９・・
・第１の回転手段制御部、Ｄｅ・・・センサ 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 周辺に直線的な平坦部を有するとともに、表面にほぼ均
   一な感光層を有する基板の中央近傍を中心として、該基
   板を前記表面とほぼ平行な面内で回転させる第１の回転
   手段と、少なくとも一部を直線状に成形した断面形状の
   光束を該基板の周縁部に照射する照射手段と、前記光束
   と前記基板を前記回転の半径方向に相対的に移動させる
   移動手段とを備え、前記第１の回転手段によって前記基
   板を回転させながら、前記移動手段を駆動させて、前記
   光束で前記周縁部を露光する周縁露光装置において、 前記平坦部の直線方向と前記光束の断面形状における直
   線状端辺の方向との相対的な傾きに関する情報を検出す
   る検出手段と； 前記表面とほぼ平行な面内で、前記光束の中心近傍を回
   転中心として前記光束を回転する第２の回転手段と； 前記検出手段からの信号に基づいて、前記基板の平坦部
   と前記光束の断面形状における直線状端辺とが略平行に
   なるように前記第２の回転手段を制御する制御手段と； を有することを特徴とする周縁露光装置。