KR102614406B1 - Led 광원을 이용한 웨이퍼 엣지 노광 장치 - Google Patents
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Abstract
이를 위해, 본 발명의 일실시예에 따른 LED 광원을 이용한 웨이퍼 엣지 노광 장치는, 웨이퍼가 흡착 고정되어 일정한 속도로 회전시킬 수 있는 턴테이블, 턴테이블의 일측에 구비되어 웨이퍼의 외측 둘레를 감지하여 웨이퍼의 형태에 따라 노광 위치를 설정하는 얼라인부 및 얼라인부에서 감지된 정보를 통해 웨이퍼의 외측 둘레를 노광할 수 있는 노광부를 포함함에 있어서, 얼라인부는, 웨이퍼의 외측 둘레를 감지하는 웨이퍼 감지 센서 및 웨이퍼 감지 센서의 하부에 구비되어 웨이퍼의 종류에 따라 웨이퍼 감지 센서의 위치를 조절할 수 있는 센서 위치 설정부를 포함하고, 노광부는, 웨이퍼 측으로 빛을 조사하는 LED 광원 및 LED 광원의 하부에 구비되어 얼라인부에서 감지된 웨이퍼의 형상에 따라 LED 광원의 위치를 이동시키며 웨이퍼의 에지 부분을 노광하도록 하는 광원 이동부를 포함한다.
Description
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 LED 광원을 이용한 웨이퍼 엣지 노광 장치에서 턴테이블의 구성을 상세히 도시한 사시도
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 LED 광원을 이용한 웨이퍼 엣지 노광 장치에서 얼라인부의 구성을 상세히 도시한 사시도
도 4 및 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 LED 광원을 이용한 웨이퍼 엣지 노광 장치에서 노광부의 구성을 상세히 도시한 사시도
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 LED 광원을 이용한 웨이퍼 엣지 노광 장치에서 노광부에 냉각부가 구비되는 상태를 도시한 실시예도
110 : 진공 척 111 : 진공홀
112 : 진공 지지 돌부 120 : 웨이퍼 회전부
121 : 웨이퍼 회전 모터 200 : 얼라인부
210 : 웨이퍼 감지 센서 220 : 센서 위치 설정부
221 : 센서 조절 래크 222 : 센서 조절 피니언
223 : 센서 고정부재 300 : 노광부
310 : LED 광원 311 : 광원 설치 브라켓
312 : 광원 조절부 312a : 마이크로미터 조절부
312b : 상하 슬라이딩부 312c : 광원 고정 볼트
313 : 냉각부 313a : 송풍부
313b : 서멀 그리스 충진부 313c : 방열핀
313d : 송풍 전달홈 313e : 송풍 유도편
320 : 광원 이동부 321 : X축 이송부
321a : 볼스크류 321b : X축 구동 모터
321c : X축 가이드 레일 321d : X축 LM 가이드
322 : 리밋트 센서 322a : 제1 한계점 센서
322b : 제2 한계점 센서 322c : 감지 브라켓
323 : Y축 이송부 323a : Y축 이송 밸트
323b : Y축 이송 풀리 323c : Y축 이송 모터
330 : 조도 측정 센서
Claims (3)
- 웨이퍼(W)가 흡착 고정되어 일정한 속도로 회전시킬 수 있는 턴테이블(100);
상기 턴테이블(100)의 일측에 구비되어 웨이퍼(W)의 외측 둘레를 감지하여 웨이퍼(W)의 형태에 따라 노광 위치를 설정하는 얼라인부(200); 및
상기 얼라인부(200)에서 감지된 정보를 통해 웨이퍼(W)의 외측 둘레를 노광할 수 있는 노광부(300);를 포함함에 있어서,
상기 얼라인부(200)는, 웨이퍼(W)의 외측 둘레를 감지하는 웨이퍼 감지 센서(210); 및 상기 웨이퍼 감지 센서(210)의 하부에 구비되어 웨이퍼(W)의 종류에 따라 웨이퍼 감지 센서(210)의 위치를 조절할 수 있는 센서 위치 설정부(220);를 포함하고,
상기 노광부(300)는, 웨이퍼(W) 측으로 빛을 조사하는 LED 광원(310); 및 상기 LED 광원(310)의 하부에 구비되어 얼라인부(200)에서 감지된 웨이퍼(W)의 형상에 따라 LED 광원(310)의 위치를 이동시키며 웨이퍼(W)의 엣지 부분을 노광하도록 하는 광원 이동부(320);를 포함하되,
상기 센서 위치 설정부(220)는, 웨이퍼 감지 센서(210)의 하부에 형성되는 센서 조절 래크(221) 및 상기 센서 조절 레크(221)의 상부에 상기 센서 조절 래크(221)와 맞물리도록 구비되어 회전에 의해 상기 센서 조절 래크(221)를 따라 이동되며 웨이퍼 감지 센서(210)의 위치를 조절할 수 있는 센서 조절 피니언(222)을 포함하는 것을 특징으로 하는 LED 광원을 이용한 웨이퍼 엣지 노광 장치.
- 삭제
- 청구항 1에 있어서,
상기 광원 이동부(320)는 상기 센서 위치 설정부(220)와 연동되며 동작되는 것으로, 센서 위치 설정부(220)에서 감지된 웨이퍼(W)의 외형 정보에 따라 LED 광원(310)을 X축 방향으로 이송시키는 X축 이송부(321) 및 LED 광원(310)을 Y축 방향으로 이송시키는 Y축 이송부(323)를 포함하는 것을 특징으로 하는 LED 광원을 이용한 웨이퍼 엣지 노광 장치.
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000037937A (ko) * | 1998-12-03 | 2000-07-05 | 윤종용 | 웨이퍼 엣지의 노광 장치 |
JP2003092243A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ushio Inc | 周辺露光装置 |
JP2004134513A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Ushio Inc | ノッチ付ウエハの周辺露光装置 |
KR20050028711A (ko) * | 2003-09-19 | 2005-03-23 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 엣지 노광 검사 장치 및 이를 구비한 스피너 설비 |
KR20210137178A (ko) | 2019-03-20 | 2021-11-17 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000037937A (ko) * | 1998-12-03 | 2000-07-05 | 윤종용 | 웨이퍼 엣지의 노광 장치 |
JP2003092243A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ushio Inc | 周辺露光装置 |
JP2004134513A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Ushio Inc | ノッチ付ウエハの周辺露光装置 |
KR20050028711A (ko) * | 2003-09-19 | 2005-03-23 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 엣지 노광 검사 장치 및 이를 구비한 스피너 설비 |
KR20210137178A (ko) | 2019-03-20 | 2021-11-17 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
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