JPH11162833A - 基板周縁露光方法 - Google Patents
基板周縁露光方法Info
- Publication number
- JPH11162833A JPH11162833A JP9340551A JP34055197A JPH11162833A JP H11162833 A JPH11162833 A JP H11162833A JP 9340551 A JP9340551 A JP 9340551A JP 34055197 A JP34055197 A JP 34055197A JP H11162833 A JPH11162833 A JP H11162833A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- substrate
- exposure
- peripheral
- section
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ウエハの端面形状に関わらず、所望する露光形
状が得られる基板周縁露光方法を提供する。 【解決手段】感光剤が塗布された平面形状円形の基板の
周縁部を、光照射系によって露光する基板周縁露光方法
において、外形検出器によって周縁部の座標値を測定
し、周縁部の座標値に基づいて基板の中心座標値を算出
し、基板の中心座標値から半径方向に所定距離離れた露
光領域を露光することを特徴とする基板周縁露光方法で
ある。
状が得られる基板周縁露光方法を提供する。 【解決手段】感光剤が塗布された平面形状円形の基板の
周縁部を、光照射系によって露光する基板周縁露光方法
において、外形検出器によって周縁部の座標値を測定
し、周縁部の座標値に基づいて基板の中心座標値を算出
し、基板の中心座標値から半径方向に所定距離離れた露
光領域を露光することを特徴とする基板周縁露光方法で
ある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子、液晶
表示素子等の回路パターンが露光される基板の周縁部の
不要なレジストを除去するための基板周縁露光方法に関
する。
表示素子等の回路パターンが露光される基板の周縁部の
不要なレジストを除去するための基板周縁露光方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体素子等の製造に使用さ
れる露光装置では、レチクルやマスク等の投影原版上に
形成された回路パターンを照明光学系で照明し、このパ
ターンを投影光学系でレジスト等の感光剤を塗布したガ
ラスプレートやウエハ等の感光性基板（本明細書におい
てウエハと総称する。）上に結像転写することが行われ
ている。かかる露光装置へのウエハの載置は、搬送アー
ムを用いてウエハの周縁部を保持しながらウエハステー
ジまで運ぶことにより行われるが、搬送アームの先端部
がウエハの周縁部を保持する際にウエハ上に塗布された
感光剤の一部を剥ぎ取ってしまう場合がある。この剥ぎ
取られた感光剤がウエハ周辺に飛散し、発塵等の原因と
なることがあった。そのためにウエハ上に塗布された感
光剤のうちウエハ周縁部に塗布されている不要なレジス
トを予め除去しておく必要がある。
れる露光装置では、レチクルやマスク等の投影原版上に
形成された回路パターンを照明光学系で照明し、このパ
ターンを投影光学系でレジスト等の感光剤を塗布したガ
ラスプレートやウエハ等の感光性基板（本明細書におい
てウエハと総称する。）上に結像転写することが行われ
ている。かかる露光装置へのウエハの載置は、搬送アー
ムを用いてウエハの周縁部を保持しながらウエハステー
ジまで運ぶことにより行われるが、搬送アームの先端部
がウエハの周縁部を保持する際にウエハ上に塗布された
感光剤の一部を剥ぎ取ってしまう場合がある。この剥ぎ
取られた感光剤がウエハ周辺に飛散し、発塵等の原因と
なることがあった。そのためにウエハ上に塗布された感
光剤のうちウエハ周縁部に塗布されている不要なレジス
トを予め除去しておく必要がある。
【０００３】かかる不要なレジストを除去する方法とし
ては、次の方法が知られている。ここで従来の基板周縁
露光装置を図５に示す。ウエハ１は、テーブル駆動系３
によって回転する回転テーブル２上に、ウエハ１の中心
が回転テーブル２の回転中心とほぼ一致するように載置
される。回転テーブル２の横方向近傍には、回転テーブ
ル２に載置されたウエハ１の周縁部を露光する露光光照
射部４が配置されている。また露光光照射部４には、ウ
エハ１を挟むようにしてウエハ端面検出センサ１１が一
体的に配置されている。露光光照射部４は、回転テーブ
ル２の半径方向に沿って回転テーブル２上に載置された
ウエハ１とオーバーラップしない退避位置からウエハ１
の周縁部位置まで、露光光照射部駆動系５によって移動
可能に構成されている。なお、テーブル駆動系３及び露
光光照射部駆動系５の制御はコントローラ７で行われ
る。ウエハ１を回転テーブル２上に載置して回転させ、
ウエハ端面検出センサ１１によって露光光照射部４から
照射された露光光のうちウエハ１の周縁部で遮光されな
かった露光光の光量を測定する。これによってウエハ１
の端面位置を検出する。そしてその検出信号に基づき、
露光光照射部４をコントローラ７で制御しながらウエハ
の半径方向に移動しつつ、ウエハ１の端面位置を基準と
した一定幅の露光を行っていた。
ては、次の方法が知られている。ここで従来の基板周縁
露光装置を図５に示す。ウエハ１は、テーブル駆動系３
によって回転する回転テーブル２上に、ウエハ１の中心
が回転テーブル２の回転中心とほぼ一致するように載置
される。回転テーブル２の横方向近傍には、回転テーブ
ル２に載置されたウエハ１の周縁部を露光する露光光照
射部４が配置されている。また露光光照射部４には、ウ
エハ１を挟むようにしてウエハ端面検出センサ１１が一
体的に配置されている。露光光照射部４は、回転テーブ
ル２の半径方向に沿って回転テーブル２上に載置された
ウエハ１とオーバーラップしない退避位置からウエハ１
の周縁部位置まで、露光光照射部駆動系５によって移動
可能に構成されている。なお、テーブル駆動系３及び露
光光照射部駆動系５の制御はコントローラ７で行われ
る。ウエハ１を回転テーブル２上に載置して回転させ、
ウエハ端面検出センサ１１によって露光光照射部４から
照射された露光光のうちウエハ１の周縁部で遮光されな
かった露光光の光量を測定する。これによってウエハ１
の端面位置を検出する。そしてその検出信号に基づき、
露光光照射部４をコントローラ７で制御しながらウエハ
の半径方向に移動しつつ、ウエハ１の端面位置を基準と
した一定幅の露光を行っていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の基板周縁露光方法では、ウエハの端面位置を基準と
して露光するために、次のような問題が生じていた。す
なわち、ウエハの周縁部には、ウエハの端面形状である
円形とは異なるオリエンテーション・フラットやノッチ
等の異形部が形成されている。そのため、図６（ａ）に
示したようにウエハの周縁部にオリエンテーション・フ
ラット１ａが形成されている場合、ウエハの端面からウ
エハの中心Ｃｗへ向けて露光幅ｗで露光しても、オリエ
ンテーション・フラット１ａ部での露光領域境界１１と
オリエンテーション・フラット１ａ端面との距離はｗ・
ｃｏｓθとなるので、露光領域が所望する形状にならな
いという問題があった。また、ノッチ１ｅ等の存在に関
わらず一定の露光幅ｗで露光する必要がある場合でも、
図６（ｂ）に示したように、ノッチ１ｅ部では所望の円
形１０ｋとはならずノッチ１ｅの形状に沿った形状１２
が形成されるという不都合もあった。そこで、本発明は
ウエハの端面形状に関わらず、所望する露光形状が得ら
れる基板周縁露光方法を提供することを課題とする。
来の基板周縁露光方法では、ウエハの端面位置を基準と
して露光するために、次のような問題が生じていた。す
なわち、ウエハの周縁部には、ウエハの端面形状である
円形とは異なるオリエンテーション・フラットやノッチ
等の異形部が形成されている。そのため、図６（ａ）に
示したようにウエハの周縁部にオリエンテーション・フ
ラット１ａが形成されている場合、ウエハの端面からウ
エハの中心Ｃｗへ向けて露光幅ｗで露光しても、オリエ
ンテーション・フラット１ａ部での露光領域境界１１と
オリエンテーション・フラット１ａ端面との距離はｗ・
ｃｏｓθとなるので、露光領域が所望する形状にならな
いという問題があった。また、ノッチ１ｅ等の存在に関
わらず一定の露光幅ｗで露光する必要がある場合でも、
図６（ｂ）に示したように、ノッチ１ｅ部では所望の円
形１０ｋとはならずノッチ１ｅの形状に沿った形状１２
が形成されるという不都合もあった。そこで、本発明は
ウエハの端面形状に関わらず、所望する露光形状が得ら
れる基板周縁露光方法を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、感光剤が塗布された平面形状円形の基板
の周縁部を、光照射系によって露光する基板周縁露光方
法において、外形検出器によって周縁部の座標値を測定
し、周縁部の座標値に基づいて基板の中心座標値を算出
し、基板の中心座標値から半径方向に所定距離離れた露
光領域を露光することを特徴とする基板周縁露光方法で
ある。
に、本発明は、感光剤が塗布された平面形状円形の基板
の周縁部を、光照射系によって露光する基板周縁露光方
法において、外形検出器によって周縁部の座標値を測定
し、周縁部の座標値に基づいて基板の中心座標値を算出
し、基板の中心座標値から半径方向に所定距離離れた露
光領域を露光することを特徴とする基板周縁露光方法で
ある。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例に係る基板周縁
露光方法を説明する。本実施例の基板周縁露光方法を実
施する基板周縁露光装置の概略断面図を図１に示す。図
１において、ウエハ１は、テーブル駆動系３によって回
転する回転テーブル２上に、ウエハ１の中心Ｃｗが回転
テーブル２の回転中心Ｃｔとほぼ一致するように載置さ
れる。回転テーブル２の横方向近傍には、回転テーブル
２に載置されたウエハ１の周縁部を露光する露光光照射
部４が配置されている。また露光光照射部４は、回転テ
ーブル２の半径方向に沿って回転テーブル２上に載置さ
れたウエハ１とオーバーラップしない退避位置からウエ
ハ１の周縁部位置まで、露光光照射部駆動系５によって
移動可能に構成されている。なお、テーブル駆動系３及
び露光光照射部駆動系５の制御はコントローラ７で行わ
れる。また、回転テーブル２の回転中心Ｃｔとの距離が
正確に測定された位置であって、ウエハ１とオーバーラ
ップしない位置には、キャリブレーションセンサ６が配
置されている。キャリブレーションセンサ６は、露光光
照射部４を移動させながら露光光照射部４から照射され
た露光光の光量を測定する。そしてキャリブレーション
センサ６からの信号はコントローラ７に伝送され、信号
処理されて回転テーブル２の回転中心Ｃｔと露光光照射
部４から照射される露光光との距離を算出する。なお、
キャリブレーションセンサ６は露光光の照度測定を同時
に行うことも可能である。
露光方法を説明する。本実施例の基板周縁露光方法を実
施する基板周縁露光装置の概略断面図を図１に示す。図
１において、ウエハ１は、テーブル駆動系３によって回
転する回転テーブル２上に、ウエハ１の中心Ｃｗが回転
テーブル２の回転中心Ｃｔとほぼ一致するように載置さ
れる。回転テーブル２の横方向近傍には、回転テーブル
２に載置されたウエハ１の周縁部を露光する露光光照射
部４が配置されている。また露光光照射部４は、回転テ
ーブル２の半径方向に沿って回転テーブル２上に載置さ
れたウエハ１とオーバーラップしない退避位置からウエ
ハ１の周縁部位置まで、露光光照射部駆動系５によって
移動可能に構成されている。なお、テーブル駆動系３及
び露光光照射部駆動系５の制御はコントローラ７で行わ
れる。また、回転テーブル２の回転中心Ｃｔとの距離が
正確に測定された位置であって、ウエハ１とオーバーラ
ップしない位置には、キャリブレーションセンサ６が配
置されている。キャリブレーションセンサ６は、露光光
照射部４を移動させながら露光光照射部４から照射され
た露光光の光量を測定する。そしてキャリブレーション
センサ６からの信号はコントローラ７に伝送され、信号
処理されて回転テーブル２の回転中心Ｃｔと露光光照射
部４から照射される露光光との距離を算出する。なお、
キャリブレーションセンサ６は露光光の照度測定を同時
に行うことも可能である。
【０００７】図１の基板周縁露光装置を用いて周縁露光
を始める前に、まずウエハ１が回転テーブル２に載置さ
れた際の回転テーブル２の回転中心Ｃｔに対するウエハ
１の偏心量と、ウエハ１の周縁部に形成されたオリエン
テーション・フラット又はノッチの位置座標値を測定す
る。ウエハ１の偏心量とオリエンテーション・フラット
又はノッチの位置座標値は、露光装置に用いられるウエ
ハ搬送系のプリアライメント部を利用して測定すること
ができる。ウエハ搬送系のプリアライメント部の平面図
を図２に示す。図２に示した回転テーブル２上のウエハ
１周縁部とオーバーラップするように、プリアライメン
ト部のウエハ外形検出センサ９を配置する。ウエハ外形
検出センサ９の上側には回転テーブル２上のウエハ１を
挟むように外形検出投光系（不図示）が配置されてい
る。回転テーブル２上のウエハ１が図中矢印方向に回転
される間に、外形検出投光系から照射された光束のうち
ウエハ１の周縁部で遮光されなかった光束の光量がウエ
ハ外形検出センサ９によって測定され、図３に示した信
号出力が得られる。図３において、横軸は図２に示した
回転テーブル２の回転角、縦軸は図２に示したウエハ外
形検出センサ９からの信号出力を表している。かかる信
号出力の最大値と最小値の差の１／２から回転テーブル
２の回転中心Ｃｔに対するウエハ１の偏心量を得ること
ができる。また、信号出力の突起部の角度位置θ ａから
ノッチ１ｅの位置座標を得ることができる。なお図１に
示すようにウエハ１の偏心量は回転テーブル２の回転中
心Ｃｔを基準としたウエハ１の中心座標値を表してい
る。このようにして得られたウエハ１の偏心量とノッチ
の位置座標のデータをコントローラ７に記憶しておく。
を始める前に、まずウエハ１が回転テーブル２に載置さ
れた際の回転テーブル２の回転中心Ｃｔに対するウエハ
１の偏心量と、ウエハ１の周縁部に形成されたオリエン
テーション・フラット又はノッチの位置座標値を測定す
る。ウエハ１の偏心量とオリエンテーション・フラット
又はノッチの位置座標値は、露光装置に用いられるウエ
ハ搬送系のプリアライメント部を利用して測定すること
ができる。ウエハ搬送系のプリアライメント部の平面図
を図２に示す。図２に示した回転テーブル２上のウエハ
１周縁部とオーバーラップするように、プリアライメン
ト部のウエハ外形検出センサ９を配置する。ウエハ外形
検出センサ９の上側には回転テーブル２上のウエハ１を
挟むように外形検出投光系（不図示）が配置されてい
る。回転テーブル２上のウエハ１が図中矢印方向に回転
される間に、外形検出投光系から照射された光束のうち
ウエハ１の周縁部で遮光されなかった光束の光量がウエ
ハ外形検出センサ９によって測定され、図３に示した信
号出力が得られる。図３において、横軸は図２に示した
回転テーブル２の回転角、縦軸は図２に示したウエハ外
形検出センサ９からの信号出力を表している。かかる信
号出力の最大値と最小値の差の１／２から回転テーブル
２の回転中心Ｃｔに対するウエハ１の偏心量を得ること
ができる。また、信号出力の突起部の角度位置θ ａから
ノッチ１ｅの位置座標を得ることができる。なお図１に
示すようにウエハ１の偏心量は回転テーブル２の回転中
心Ｃｔを基準としたウエハ１の中心座標値を表してい
る。このようにして得られたウエハ１の偏心量とノッチ
の位置座標のデータをコントローラ７に記憶しておく。
【０００８】なお、本実施例ではウエハ１の偏心量とオ
リエンテーション・フラット又はノッチの位置座標値を
ウエハ搬送系のプリアライメント部を利用して測定した
が、ウエハ１をセンサアレイ上を通過させることによっ
て測定する方法や、ウエハ１をＣＣＤ等の撮像素子で画
像化し信号処理することによって測定する方法等を用い
ることも可能である。
リエンテーション・フラット又はノッチの位置座標値を
ウエハ搬送系のプリアライメント部を利用して測定した
が、ウエハ１をセンサアレイ上を通過させることによっ
て測定する方法や、ウエハ１をＣＣＤ等の撮像素子で画
像化し信号処理することによって測定する方法等を用い
ることも可能である。
【０００９】図１に示した露光光照射部４は、周縁露光
を始める前には、ウエハ１とオーバーラップしない最も
外寄りの位置に退避している。まず、コントローラ７か
らの指令により露光光照射部４又は露光用光源部８内に
設けられたシャッターを開き、キャリブレーションセン
サ６内に設けられたフォトセンサが露光光を検出するま
で露光光照射部４を回転テーブル２の回転中心Ｃｔへ向
けて移動させる。またこの動作中に、露光光の位置座標
と照度の測定を行い、コントローラ７に記憶しておく。
ここで一旦シャッターを閉じ、予めコントローラ７に入
力しておいた所望する周縁露光領域の形状データと、ウ
エハ１の偏心量とノッチの位置座標データと、露光光の
位置座標データとに基づいて計算した位置に露光光照射
部４を移動させる。
を始める前には、ウエハ１とオーバーラップしない最も
外寄りの位置に退避している。まず、コントローラ７か
らの指令により露光光照射部４又は露光用光源部８内に
設けられたシャッターを開き、キャリブレーションセン
サ６内に設けられたフォトセンサが露光光を検出するま
で露光光照射部４を回転テーブル２の回転中心Ｃｔへ向
けて移動させる。またこの動作中に、露光光の位置座標
と照度の測定を行い、コントローラ７に記憶しておく。
ここで一旦シャッターを閉じ、予めコントローラ７に入
力しておいた所望する周縁露光領域の形状データと、ウ
エハ１の偏心量とノッチの位置座標データと、露光光の
位置座標データとに基づいて計算した位置に露光光照射
部４を移動させる。
【００１０】つぎに再びシャッターを開く。そして回転
テーブル２を回転させながら、その回転角に応じて露光
光照射部４をトラッキングする。その際、図４（ａ）に
示すように周縁露光領域の境界座標のうち半径成分ｓは
ウエハ１の中心Ｃｗを基準として設定され、角度成分θ
は所望する周縁露光領域の形状データとノッチの位置座
標データとに基づいて設定される。このようにしてウエ
ハ１の周縁部を所望の形状に露光することができる。ま
た、図１に示した回転テーブル２の回転速度は、予めコ
ントローラ７に入力されている周縁露光に必要な光照射
量のデータ、及び露光光照射部４がウエハ１の中心方向
への移動動作中に測定した露光光の照度データに基づい
て計算する。
テーブル２を回転させながら、その回転角に応じて露光
光照射部４をトラッキングする。その際、図４（ａ）に
示すように周縁露光領域の境界座標のうち半径成分ｓは
ウエハ１の中心Ｃｗを基準として設定され、角度成分θ
は所望する周縁露光領域の形状データとノッチの位置座
標データとに基づいて設定される。このようにしてウエ
ハ１の周縁部を所望の形状に露光することができる。ま
た、図１に示した回転テーブル２の回転速度は、予めコ
ントローラ７に入力されている周縁露光に必要な光照射
量のデータ、及び露光光照射部４がウエハ１の中心方向
への移動動作中に測定した露光光の照度データに基づい
て計算する。
【００１１】なお、テーブル駆動系３は、例えばモータ
とロータリーエンコーダとを組合せることによって構成
され、回転テーブル２の回転方向について、角度原点の
検出及びウエハ周縁部を所望の形状に露光するための回
転移動量の検出に必要な分解能を有している。また、露
光光照射部駆動系５は、例えばモータとリニアエンコー
ダとを組合せることによって構成され、回転テーブル２
の半径方向について、座標原点の検出及びウエハ周縁部
を所望の形状に露光するための露光光照射部４の移動量
の検出に必要な分解能を有している。
とロータリーエンコーダとを組合せることによって構成
され、回転テーブル２の回転方向について、角度原点の
検出及びウエハ周縁部を所望の形状に露光するための回
転移動量の検出に必要な分解能を有している。また、露
光光照射部駆動系５は、例えばモータとリニアエンコー
ダとを組合せることによって構成され、回転テーブル２
の半径方向について、座標原点の検出及びウエハ周縁部
を所望の形状に露光するための露光光照射部４の移動量
の検出に必要な分解能を有している。
【００１２】このように、回転テーブル２の回転中心Ｃ
ｔを基準としたウエハ１の偏心量と異形部の位置座標の
データを求め、周縁露光領域の半径成分をウエハ１の中
心Ｃｗを基準として設定すると共に、角度成分を予めコ
ントローラ７に入力しておいた所望する周縁露光領域の
形状データと異形部の位置座標のデータとに基づいて設
定して周縁露光領域の形状を定めることにより、ウエハ
１の端面形状に関わりなく所望の露光形状を得ることが
できる。また、ウエハの外形寸法にバラツキがあっても
非露光部分を一定の形状に形成することができる。
ｔを基準としたウエハ１の偏心量と異形部の位置座標の
データを求め、周縁露光領域の半径成分をウエハ１の中
心Ｃｗを基準として設定すると共に、角度成分を予めコ
ントローラ７に入力しておいた所望する周縁露光領域の
形状データと異形部の位置座標のデータとに基づいて設
定して周縁露光領域の形状を定めることにより、ウエハ
１の端面形状に関わりなく所望の露光形状を得ることが
できる。また、ウエハの外形寸法にバラツキがあっても
非露光部分を一定の形状に形成することができる。
【００１３】つぎに、本発明に係る周縁露光方法を用い
て周縁露光を行った実施例を図４（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）に示す。図４（ａ）は周縁部にオリエンテーショ
ン・フラットが形成されたウエハに周縁露光を行った第
１の実施例を示している。予め測定しておいたウエハ１
の偏心量及びオリエンテーション・フラット１ａの位置
座標データに基づき、露光領域境界１０をウエハ１の中
心Ｃｗからの距離ｓと角度原点からの回転角θで規定し
て露光光照射部４をトラッキングする。オリエンテーシ
ョン・フラット１ａ部以外の露光領域境界１０ａは、ウ
エハ１の中心Ｃｗを中心とした半径ｒの円形で形成され
る。他方、オリエンテーション・フラット１ａ部の露光
領域境界１０ｂは、オリエンテーション・フラット１ａ
の形状に対応して直線で形成される。いま、オリエンテ
ーション・フラット１ａの中点１ｃを通る半径を角度原
点Ｏａとし反時計方向を＋とする。またオリエンテーシ
ョン・フラット１ａの中心角を２θ1とすると、両端部
１ｂ、１ｄの角度座標値はそれぞれθ1、２π−θ1で表
される。したがって、ウエハ中心Ｃｗからの距離ｓと回
転角θとの関係は、０≦θ＜θ1及び３６０°−θ1＜θ
＜３６０°において、 θ1≦θ≦３６０°−θ1において、 を満たすように設定すればよい。
て周縁露光を行った実施例を図４（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）に示す。図４（ａ）は周縁部にオリエンテーショ
ン・フラットが形成されたウエハに周縁露光を行った第
１の実施例を示している。予め測定しておいたウエハ１
の偏心量及びオリエンテーション・フラット１ａの位置
座標データに基づき、露光領域境界１０をウエハ１の中
心Ｃｗからの距離ｓと角度原点からの回転角θで規定し
て露光光照射部４をトラッキングする。オリエンテーシ
ョン・フラット１ａ部以外の露光領域境界１０ａは、ウ
エハ１の中心Ｃｗを中心とした半径ｒの円形で形成され
る。他方、オリエンテーション・フラット１ａ部の露光
領域境界１０ｂは、オリエンテーション・フラット１ａ
の形状に対応して直線で形成される。いま、オリエンテ
ーション・フラット１ａの中点１ｃを通る半径を角度原
点Ｏａとし反時計方向を＋とする。またオリエンテーシ
ョン・フラット１ａの中心角を２θ1とすると、両端部
１ｂ、１ｄの角度座標値はそれぞれθ1、２π−θ1で表
される。したがって、ウエハ中心Ｃｗからの距離ｓと回
転角θとの関係は、０≦θ＜θ1及び３６０°−θ1＜θ
＜３６０°において、 θ1≦θ≦３６０°−θ1において、 を満たすように設定すればよい。
【００１４】図４（ｂ）は周縁部にノッチが形成された
ウエハに周縁露光を行った第２の実施例を示している。
本実施例において、露光領域境界１０はノッチ１ｅ部を
含めてウエハ１の中心Ｃｗを中心とした半径ｒの円形で
形成される。例えばノッチ１ｅ部を通る半径を角度原点
Ｏａとすると、ウエハ中心Ｃｗからの距離ｓと回転角θ
との関係は、０≦θ＜３６０°において、 を満たすように設定すればよい。
ウエハに周縁露光を行った第２の実施例を示している。
本実施例において、露光領域境界１０はノッチ１ｅ部を
含めてウエハ１の中心Ｃｗを中心とした半径ｒの円形で
形成される。例えばノッチ１ｅ部を通る半径を角度原点
Ｏａとすると、ウエハ中心Ｃｗからの距離ｓと回転角θ
との関係は、０≦θ＜３６０°において、 を満たすように設定すればよい。
【００１５】図４（ｃ）は周縁部にノッチが形成された
ウエハに周縁露光を行った第３の実施例を示している。
本実施例においては、露光領域境界１０はウエハ１の中
心Ｃｗを中心とした半径ｒ2の円に接する矩形の凹部が
ノッチ１ｅ部を含めた９０°ステップ毎に形成され、そ
れ以外の露光領域境界はウエハ１の中心Ｃｗを中心とし
た半径ｒ1の円形で形成される。これは、搬送アームの
先端部が接触する部分の感光剤だけを広範に除去する場
合に行われる。本実施例において、例えばノッチ１ｅ部
を通る半径を角度原点Ｏａとし、凹部の中心角を２θ2
とし、反時計方向を＋とすると、各凹部の両端部の角度
座標値は、角度原点Ｏａから順にそれぞれ１０ｃ：
θ2、１０ｄ：９０°−θ2、１０ｅ：９０°＋θ2、１
０ｆ：１８０°−θ2、１０ｇ：１８０°＋θ2、１０
ｈ：２７０°−θ2、１０ｉ：２７０°＋θ2、１０ｊ：
３６０°−θ2で表される。したがって、ウエハ中心Ｃ
ｗからの距離ｓと回転角θとの関係は、 ０≦θ＜θ2、９０°−θ2＜θ＜９０°＋θ2、 １８０°−θ2＜θ＜１８０°＋θ2、 ２７０°−θ2＜θ＜２７０°＋θ2、３６０°−θ2＜
θ＜３６０° において、 θ2≦θ≦９０°−θ2、９０°＋θ2≦θ≦１８０°−
θ2、 １８０°＋θ2≦θ≦２７０°−θ2、 ２７０°＋θ2≦θ≦３６０°−θ2において、 を満たすように設定すればよい。
ウエハに周縁露光を行った第３の実施例を示している。
本実施例においては、露光領域境界１０はウエハ１の中
心Ｃｗを中心とした半径ｒ2の円に接する矩形の凹部が
ノッチ１ｅ部を含めた９０°ステップ毎に形成され、そ
れ以外の露光領域境界はウエハ１の中心Ｃｗを中心とし
た半径ｒ1の円形で形成される。これは、搬送アームの
先端部が接触する部分の感光剤だけを広範に除去する場
合に行われる。本実施例において、例えばノッチ１ｅ部
を通る半径を角度原点Ｏａとし、凹部の中心角を２θ2
とし、反時計方向を＋とすると、各凹部の両端部の角度
座標値は、角度原点Ｏａから順にそれぞれ１０ｃ：
θ2、１０ｄ：９０°−θ2、１０ｅ：９０°＋θ2、１
０ｆ：１８０°−θ2、１０ｇ：１８０°＋θ2、１０
ｈ：２７０°−θ2、１０ｉ：２７０°＋θ2、１０ｊ：
３６０°−θ2で表される。したがって、ウエハ中心Ｃ
ｗからの距離ｓと回転角θとの関係は、 ０≦θ＜θ2、９０°−θ2＜θ＜９０°＋θ2、 １８０°−θ2＜θ＜１８０°＋θ2、 ２７０°−θ2＜θ＜２７０°＋θ2、３６０°−θ2＜
θ＜３６０° において、 θ2≦θ≦９０°−θ2、９０°＋θ2≦θ≦１８０°−
θ2、 １８０°＋θ2≦θ≦２７０°−θ2、 ２７０°＋θ2≦θ≦３６０°−θ2において、 を満たすように設定すればよい。
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ウエハの
中心を基準にして周縁露光領域を形成するため、ウエハ
の端面形状に関わらず所望する露光形状で周縁露光が可
能となった。また、ウエハの外形寸法にバラツキがあっ
ても非露光部分を一定の形状に形成することができる。
中心を基準にして周縁露光領域を形成するため、ウエハ
の端面形状に関わらず所望する露光形状で周縁露光が可
能となった。また、ウエハの外形寸法にバラツキがあっ
ても非露光部分を一定の形状に形成することができる。
【図１】本発明の一実施例に係る基板周縁露光方法を実
施する周縁露光装置の概略断面図
施する周縁露光装置の概略断面図
【図２】ウエハ搬送系のプリアライメント部の構成を示
す平面図
す平面図
【図３】ウエハ外形センサから得られる信号を示す図
【図４】（ａ）第１の実施例、（ｂ）第２の実施例、及
び（ｃ）第３の実施例に係る基板周縁露光を説明する図
び（ｃ）第３の実施例に係る基板周縁露光を説明する図
【図５】従来の基板周縁露光方法を実施する基板周縁露
光装置の概略断面図
光装置の概略断面図
【図６】従来の基板周縁露光方法による基板周縁露光を
説明する図
説明する図
１…ウエハ ２…回転テーブル ３…回転テーブル駆動系 ４…露光光照射部 ５…露光光照射部駆動系 ６…キャリブレーシ
ョンセンサ ７…コントローラ ８…露光用光源部 ９…ウエハ外形検出センサ １１…ウエハ端面検
出センサ Ｃｔ…回転テーブル中心 Ｃｗ…ウエハ中心
ョンセンサ ７…コントローラ ８…露光用光源部 ９…ウエハ外形検出センサ １１…ウエハ端面検
出センサ Ｃｔ…回転テーブル中心 Ｃｗ…ウエハ中心
Claims (5)
- 【請求項１】感光剤が塗布された平面形状円形の基板の
周縁部を、光照射系によって露光する基板周縁露光方法
において、 外形検出器によって前記周縁部の座標値を測定し、 周縁部の該座標値に基づいて前記基板の中心座標値を算
出し、 基板の該中心座標値から半径方向に所定距離離れた露光
領域を露光することを特徴とする基板周縁露光方法。 - 【請求項２】前記基板は、前記周縁部の一部に前記円形
とは異なる異形部を有し、 基板の該異形部の位置座標値を測定し、 基板の前記中心座標値に対する異形部の前記位置座標値
を角度位置として算出し、 前記異形部に対応する前記角度位置に応じて前記所定距
離を変更して前記露光領域を露光することを特徴とする
請求項１記載の基板周縁露光方法。 - 【請求項３】前記異形部の前記位置座標値から前記異形
部の形状を算出し、 前記角度位置情報と前記形状とを用いて前記露光領域を
露光することを特徴とする請求項１又は２記載の基板周
縁露光方法。 - 【請求項４】前記基板を該基板平面と直交する軸を中心
に回転させることにより前記周縁部の座標値を測定する
ことを特徴とする請求項１、２又は３記載の基板周縁露
光方法。 - 【請求項５】前記基板を該基板平面と直交する軸を中心
に回転させることにより前記周縁部の露光領域を露光す
ることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の基板
周縁露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9340551A JPH11162833A (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | 基板周縁露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9340551A JPH11162833A (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | 基板周縁露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11162833A true JPH11162833A (ja) | 1999-06-18 |
Family
ID=18338084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9340551A Pending JPH11162833A (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | 基板周縁露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11162833A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002217084A (ja) * | 2001-01-15 | 2002-08-02 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | ウェハ周辺露光装置およびウェハ周辺露光方法 |
| JP2003092243A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ushio Inc | 周辺露光装置 |
| KR20030040866A (ko) * | 2001-11-16 | 2003-05-23 | (주)에이피엘 | 에지 검출유닛과 자동변위 제어유닛을 갖는 웨이퍼 에지노광장치 |
| JP2005093951A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | エッジ露光装置、エッジ露光方法およびそれを備える基板処理装置 |
| CN104979257A (zh) * | 2014-04-14 | 2015-10-14 | 睿励科学仪器（上海）有限公司 | 用于无图案硅片测量的定位方法 |
| JP2016111300A (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | レジスト膜除去方法、レジスト膜除去装置及び記憶媒体 |
| US9508573B2 (en) | 2011-09-29 | 2016-11-29 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| CN106610265A (zh) * | 2015-10-22 | 2017-05-03 | 沈阳新松机器人自动化股份有限公司 | 圆心位置获取方法 |
| JP2017162926A (ja) * | 2016-03-08 | 2017-09-14 | 東芝メモリ株式会社 | パターン形成方法 |
| WO2018055817A1 (ja) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 周縁部処理装置、基板処理装置および周縁部処理方法 |
-
1997
- 1997-11-25 JP JP9340551A patent/JPH11162833A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR100687015B1 (ko) * | 2001-01-15 | 2007-02-27 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 주변 노광 장치 및 웨이퍼 주변 노광 방법 |
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