CN205188130U - 保护玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型的一个实施例提供一种薄型化且更加美观的保护玻璃。根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃包括玻璃基板、通过对玻璃基板进行蚀刻而形成的图案部分及涂覆在图案部分的表面的多层薄膜。

Description

保护玻璃

技术领域

本实用新型涉及一种保护玻璃，更详细地，涉及一种薄型化且更加美观的携带终端的保护玻璃。

背景技术

近来，消费者对于手机、智能手机、个人数码助理(PDA)、便携式多媒体播放器(PMP)、笔记型电脑等携带终端在薄型化及设计方面的要求越来越高。

由此，伴随显示面板的薄型化，尤其，为了在布置于接触式屏幕的最外围的覆盖部(主窗口)上添加设计，人们作出了各种尝试。

作为一个例子，人们在通常为了掩盖显示面板的配线等用黑色墨水进行印刷的覆盖部的边框区域上尝试添加设计，而添加设计的主要方法是在边框区域上适用黑色或白色等印刷，或为了添加更高级的设计，接合具有细微裂纹或几何图案的薄膜等。

虽然这些方法可容易适用于作为覆盖部的材料使用丙烯酸树脂或聚碳酸酯片材的情况，但最近作为覆盖部的材料玻璃比较受欢迎，从而，上述方法难以适用。即玻璃与UV图案之间无法保证足够高的粘合性，因此，适用范围受到限制。

图1为示出以往保护玻璃的构成的示例图。

如图1所示，在以往的保护玻璃10中，在玻璃基板(20)的下面包括通过光学透明胶(OCA；下面简称“OCA”)30粘合的聚对苯二甲酸乙二酯(PET；下面简称“PET”)膜40。并且，紫外线(UV)图案50被适用于PET膜40上。在UV图案50上覆盖膜层60，使得通过调节光波长来实现色彩，而在膜层60的上部形成黑色矩阵层70。

如上所述，以往的保护玻璃还包括PET膜40及用于将PET膜40粘合于玻璃基板20上的OCA30，并且，UV图案50还形成在PET膜40上，从而，以往的保护玻璃10的构成存在了难以实现薄型化的问题。

并且，从显示面板放射的光还要经过PET膜40和OCA30，因此，存在了透射率下降的问题。

另外，UV图案50被设置在PET膜40上，即UV图案50以阳刻形成，因此从外部入射的光直到达到膜层60为止的平均垂直距离L1和光被膜层60反射而向玻璃基板20的外侧发出时的平均垂直距离L1会变长。由此，在光入射并被膜层60反射而发出的过程中会导致光损失，并且，向膜层60入射的光和被膜层60反射而发出的光应经过OCA30及PET膜40，因此，透射率也会下降。如此的现象会阻碍提供鲜明色彩，且可为降低审美感的原因。

实用新型内容

技术问题

为了解决如上所述的技术问题，本实用新型的目的在于，提供一种薄型化且更加美观的携带终端的保护玻璃。

技术方案

为了解决所述技术问题，本实用新型的一个实施例提供一种保护玻璃，包括：玻璃基板；图案部分，通过对所述玻璃基板进行蚀刻而形成；及多层薄膜，涂覆在所述图案部分的表面。

根据本实用新型的一个实施例，所述图案部分的表面可由所述玻璃基板的内表面构成。

根据本实用新型的一个实施例，所述图案部分可形成在所述玻璃基板的边框区域之内。

根据本实用新型的一个实施例，所述保护玻璃，还可包括：印刷部分，覆盖所述多层薄膜地形成。

技术效果

根据本实用新型的一个实施例，具有如下优点：通过对玻璃基板进行蚀刻而在玻璃基板上直接形成图案部分，因此，不需要如以往那样的OCA、PET膜及UV图案的构成，从而保护玻璃的整体厚度能够变薄，且能够提高其透射率。

并且，根据本实用新型的一个实施例，图案部分形成在玻璃基板的内部，从多层薄膜到玻璃基板的最外侧面的距离变短，从而，能够减少在玻璃基板的光损失，由此，能够提供更加鲜明美丽的色彩，带来提高审美感的效果。

并且，根据本实用新型的一个实施例，因通过耐酸光阻油墨进行掩蔽而能够提高光刻胶膜的图案的精密度，通过非氢氟酸类蚀刻液进行蚀刻工序而在蚀刻时延长光刻胶膜的图案形状的持续时间，防止蚀刻速度过快，因此，能够形成微细的图案。

并且，根据本实用新型的一个实施例，因图案部分直接形成在玻璃基板上而从根本上防止在以往保护玻璃会出现的浸湿或翘起现象，因此，能够提高耐久性。

本实用新型的效果并非限定于所述效果，应当理解，包括从本实用新型的详细的说明或权利要求书中记载的实用新型的结构中可以推论出的所有效果。

附图说明

图1为示出以往保护玻璃的构成的示例图；

图2为示出根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的平面示例图；

图3为示出根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的截面示例图；

图4为示出根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的制造方法的工序示例图；

图5为示出根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的制造方法中的掩蔽工序的工序示例图。

附图标记的说明

10、100：保护玻璃20、110：玻璃基板

120：图案部分130：多层薄膜

150：印刷部分170：薄膜涂层

具体实施方式

下面将参照附图更充分地描述本实用新型，其中，在附图中本实用新型的示例性实施例被示出。然而，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并且不应被解释为限于在此所阐述的实施例。在附图中，为了说明的简明，与描述无关的部分被省略，并且相同的标号始终指示相同的元件。

在整个说明书中，某一部分与另一部分相“连接”时，不仅包括直接连接的情况，还包括在中间具备其他元件间接连接的情况。并且，某一部分“包括”某一构成要素时，在没有特别相反的记载时，并不排除其他构成要素，而进一步包括其他的构成要素。

下面参照附图对本实用新型的实施方式进行详细说明。为方便描述，本实用新型的一个实施例以智能手机的保护玻璃为例进行说明。

图2为示出根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的平面示例图，图3为示出根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的截面示例图。

如图2及图3所示，根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃100包括玻璃基板110、图案部分120及多层薄膜130。

玻璃基板110保护携带终端内部的显示面板，并显示面板的画面透过玻璃基板110被显示。玻璃基板110的边缘的边框区域101可包括显示面板的配线(未图示)、扬声器(未图示)、摄影机(未图示)等。在将玻璃基板110根据使用用途切成一定大小之后，可以清洗干燥其表面。玻璃基板110可为钠钙玻璃基板、无碱玻璃基板或钢化玻璃基板。

图案部分120可通过对玻璃基板110进行蚀刻而形成，并图案部分120可形成在边框区域101之内。即图案部分120的表面由玻璃基板110的内表面构成。由此，与以往保护玻璃相反，入射到玻璃基板110的光不经过其他材质的组成要素(在以往保护玻璃10(参照图1)设置的OCA30(参照图1)、PET膜40(参照图1)及UV图案50(参照图1))并能够直接达到图案部分120的表面。即与以往保护玻璃(10)相比，光达到图案部分120的距离变短，且能够具有更高的透射率。

图案部分120可形成为具有不同形状及深度。图案部分120可呈线、图形等形状，并这些形状反复形成而可呈细微裂纹或编织图案等几何图案。进而，图案部分120可包括符号、数字、文字等形状，在这种情况下，图案部分120可形成为根据形状具有不同深度。

多层薄膜130可涂覆在图案部分120的表面。多层薄膜130可由金属氧化物层及非金属氧化物层中的至少一种叠压而成。多层薄膜130能够将进入到图案部分120的光调整为不同波长，由此，在玻璃基板110上能够实现各种色彩。作为一个例子，多层薄膜130可包括氧化钛层及氧化硅层，并可以由氧化钛层及氧化硅层中至少一种叠压而成。

在多层薄膜130的上部可以形成印刷部分150，印刷部分150可以覆盖多层薄膜130的方式形成。印刷部分150通过阻断从显示面板发出的光来使仅在玻璃基板110的中间部分显示显示面板，并反射外部入射光。

从而，在外部入射光被印刷部分150反射时，外部入射光借助图案部分120的表面形状及多层薄膜130散乱并反射，从而，能够实现华丽多样的立体效果。

尤其，根据本实用新型的保护玻璃100，图案部分120的表面由玻璃基板110的内表面构成，换言之，图案部分120形成在玻璃基板110的内部，因此，从外部入射的光直到达到多层薄膜130为止的平均垂直距离L2会变短。即与在以往保护玻璃10从外部入射的光直到达到膜层60(参照图1)为止的平均垂直距离L1(参照图1)相比，在根据本实用新型的保护玻璃100从外部入射的光直到达到多层薄膜130为止的平均垂直距离L2会变得更短。这就意味着被多层薄膜130反射的光向玻璃基板110的外侧发出时的距离也变短。如上所述，若根据本实用新型的图案部分120形成为细微裂纹或编织图案等几何图案，被多层薄膜130反射的光以不同角度发出，因从多层薄膜130到玻璃基板110的最外侧面的距离较短而在玻璃基板110能够减少光损失。由此，能够提供更加鲜明美丽的色彩，以带来提高审美感的效果。出于方便，图3中图示了多层薄膜130填充图案部分120的情况，但多层薄膜130可以很薄的厚度沉积，因此，可以在图案部分120的表面上沿着图案部分120的弯曲而形成。

在形成有图案部分120的玻璃基板110表面的背面上还可形成耐指纹及抗反射薄膜涂层170。薄膜涂层170可以的厚度形成。薄膜涂层170通过控制光的反射来使图案更加鲜明，因此，能够实现更高级的形象。可以通过微细液滴喷雾方法涂覆薄膜涂层170。

接着，参照图4及图5对根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的制造方法进行说明。图4为示出根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的制造方法的工序示例图。图5为示出根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的制造方法的掩蔽工序的工序示例图。

如图4及图5所示，根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的制造方法包括对玻璃基板进行掩蔽的工序S210。并且，对玻璃基板进行掩蔽的工序S210可包括将耐酸光阻油墨以10～20μm厚度涂布在玻璃基板上的工序S211。

耐酸光阻油墨可为与用于蚀刻玻璃的蚀刻液不起反应的耐酸光阻油墨。耐酸光阻油墨具有抗蚀刻性而能够长时间忍受强酸及氢氟酸(HF)，因此，有利于形成微细的图案。

耐酸光阻油墨还可包括环氧类树脂、硅类树脂、丙烯酸类树脂或聚氨酯类树脂中的至少一种树脂成分，而在此状态下，还可包括固化剂及涂料。耐酸光阻油墨可包括适宜配比的固化剂，免得因固化剂过量而固化速度过快，光阻油墨不到位而形成，或因固化剂用量过少而固化速度过慢，导致形成尺寸过大的图案。耐酸光阻油墨可为具有与玻璃基板110之间的粘合性足够高的耐酸光阻油墨。

耐酸光阻油墨通过丝网印刷、旋涂、涂装、喷涂、浸涂、送料及挤压式涂布等方法以一定厚度涂布成型在玻璃基板110上。

并且，对玻璃基板进行掩蔽的工序S210可包括在涂布有耐酸光阻油墨的光刻胶膜的上侧布置掩模图案并进行曝光的工序S212及对形成在光刻胶膜上的曝光图案进行显影的工序S213。曝光工序S212中向掩模图案照射的光可为紫外(UV)光。显影工序S213中作为显影液可以使用45～60℃的碳酸钠2～7％溶液，在显影液中60～180秒之间沉积并经过清洗工序之后进行干燥，由此，能够在光刻胶膜上形成微细的图案。

耐酸光阻油墨可为在曝光时变为可溶性的正型或变为不溶性的负型。

其次，可以执行对玻璃基板进行蚀刻而形成图案部分的工序S220。并且，用于蚀刻玻璃基板的蚀刻液可为非氢氟酸类蚀刻液。非氢氟酸类蚀刻液可包括50～300g/l的氟化铵(NH4F)、1～30g/l的胺类化合物、0.1～5g/l的阴离子表面活性剂及水，而且，水可为溶媒。这些非氢氟酸类蚀刻液不仅调节对氢氟酸的玻璃的急剧反应，而且抑制所产生的硅氟化物的表面吸附，以提高溶液的渗透力，而能够迅速实现微细的图案。在以往氢氟酸蚀刻剂或蚀刻液为纯粹氢氟酸(HF)的情况下，蚀刻进行得过快，难以形成微细的图案，因此，通过如上所述使用非氢氟酸类蚀刻液来能够更有效地形成微细的图案。即通过耐酸光阻油墨进行掩蔽，并通过非氢氟酸类蚀刻液进行蚀刻工序，从而，避免了光刻胶膜的图案损伤，提高图案的精密度并在蚀刻时延长光刻胶膜的图案形状的持续时间，防止蚀刻速度过快，因此，能够形成微细的图案。胺类化合物可包括选自一乙胺(MEA)、二乙胺(DEA)及三乙胺(TEA)中的任意一种，而且，上述胺类化合物可以调节蚀刻液与玻璃的反应速度。

阴离子表面活性剂可包括烷基苯磺酸盐或十二烷基硫酸钠。如此的阴离子表面活性剂为了蚀刻液的渗透力及清洗性而可以被使用。

本工序S220中，可以通过在非氢氟酸类蚀刻液中形成微泡而进行蚀刻。通过在蚀刻液中形成微泡来使在蚀刻液中均匀地施加物理力，以能够迅速并有效地执行蚀刻和清洗。本工序S220中，通过对玻璃基板进行蚀刻而形成的图案部分可以被蚀刻使得具有10～30μm的深度。为此，本工序S220中可以使用微泡装置。

[表1]

表1表示了根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的制造方法的非氢氟酸类蚀刻液和以往保护玻璃蚀刻液的蚀刻速度以及光刻胶膜的剥离性比较试验结果。在实施例1和比较例1中，作为所使用的光刻胶膜，使用了经过各种工序而图案化的相同光刻胶膜，而且，作为蚀刻液，使用了根据本实用新型的一个实施例的非氢氟酸类蚀刻液，以及由一般组成的氢氟酸、无机酸及添加剂组成的以往保护玻璃蚀刻剂。

更具体地，在实施例1中所使用的非氢氟酸类蚀刻液通过将50～300g/l的氟化铵、1～30g/l的胺类化合物及0.1～5g/l的阴离子表面活性剂溶解于1升的水来制成。在比较例1中所使用的以往氢氟酸类蚀刻液由50～350g/l的氢氟酸(HF)、100～200g/l的无机酸(硫酸、盐酸等)及水等构成。由表1可知，在实施例1中，蚀刻速度为5～10μm/min，其低于在比较例1中的蚀刻速度20～30μm/min。并且，在实施例1中，没有发生光刻胶膜的剥离现象，而在比较例1中，在光刻胶膜的一部分发生了剥离现象。即在使用根据本实用新型的一个实施例提供的非氢氟酸类蚀刻液时，其蚀刻速度低于以往的氢氟酸类蚀刻液的蚀刻速度，因此，能够容易形成微细的图案，并且，因在蚀刻时没有损伤光刻胶膜的图案而在玻璃基板上能够形成微细的图案。

[表2]

表2表示了在使用根据本实用新型的一个实施例的非氢氟酸类蚀刻液来对通过根据本实用新型的一个实施例的保护玻璃的制造方法的耐酸光阻油墨进行掩蔽的光刻胶膜及通过以往掩蔽油墨进行掩蔽的光刻胶膜进行蚀刻时的图案的蚀刻性。在实施例2及比较例2中在常温进行蚀刻，并且在蚀刻液中产生了微泡，其蚀刻时间为2～5分钟。其结果，在实施例2中，通过耐酸光阻油墨进行掩蔽的光刻胶膜的边界面和在玻璃基板上蚀刻的边界面变鲜明而较好地实现了微细图案。在玻璃基板上形成的微细图案的间隔为30～80μm。

但在比较例2中通过以往掩蔽油墨进行掩蔽的光刻胶膜发生了剥离，在玻璃基板上蚀刻的图案有了污迹，光刻胶膜与玻璃基板之间发生了反应生成物的泥浆，从而，观察到了白色粉末的固着。在玻璃基板上形成的微细图案的间隔为100μm以上。即在通过根据本实用新型的一个实施例的耐酸光阻油墨进行掩蔽并使用非氢氟酸类蚀刻液时，与通过以往掩蔽油墨进行掩蔽的情况相比，在玻璃基板上进行蚀刻而形成的图案的边界及表面清洁，可以减小图案之间的间隔而能够形成微细图案。

在蚀刻后，可以进行通过以1.0～2.0kg/㎝²的压力喷射纯水除去在玻璃基板上残留的蚀刻液的清洗工序。

在除去蚀刻液之后，除去在玻璃基板表面上留下的光刻胶膜。通过在一定温度下将玻璃基板沉积于3～10％氢氧化钠溶液中来可以分离光刻胶膜，以实现光刻胶膜的除去，在分离光刻胶膜之后，用纯水清洗玻璃基板。

该工序S220中可以在玻璃基板110的边框区域内进行蚀刻，因此，通过该工序S220所形成的图案部分可形成在边框区域内。

图案部分可呈线、图形等形状，并这些形状反复形成而可呈细微裂纹或编织图案等几何图案。与以往通过印刷或粘合薄膜来得到的图案相比，如此形成的图案部分能够增加立体感，使变化程度大，因此，能够实现更加优秀的装饰效果，并提高审美感。进而，图案部分可包括符号、数字、文字等标识形状，在这种情况下，图案部分可形成为按图案部分的类型，例如，按几何图案及标识具有不同深度。

如上所述，根据本实用新型的一个实施例，通过对玻璃基板进行蚀刻而在玻璃基板上直接形成图案部分，因此，不需如以往那样的OCA、PET膜及UV图案的构成，保护玻璃的整体厚度能够变薄，且能够提高其透射率。

因图案部分直接形成在玻璃基板上而从根本上防止在以往保护玻璃会出现的浸湿或翘起现象，因此，能够提高耐久性。

随后，可以执行将多层薄膜涂覆在所述图案部分上的工序S230。多层薄膜可形成在图案部分的表面上，因此，多层薄膜可位于玻璃基板的内侧。多层薄膜可由金属氧化物层及非金属氧化物层中的至少一种叠压而成。金属氧化物层可为氧化钛层，而非金属氧化物层可为氧化硅层。多层薄膜能够将进入到图案部分的光调整为不同波长，由此，在玻璃基板上能够实现各种色彩。

并且，将多层薄膜涂覆在所述图案部分上的工序S230之后，还可包括以覆盖所述多层薄膜的方式形成印刷部分的工序。可以在边框区域进行形成印刷部分的工序，而印刷部分可以覆盖形成于边框区域的多层薄膜的方式形成。印刷部分可为用黑色墨水印刷的黑色矩阵层，黑色墨水可包括如金属、金属氧化物等无机化合物或如高分子树脂等有机化合物。印刷部分通过阻断从显示面板发出的光来使仅在玻璃基板的中间部分显示显示面板，并反射外部入射光。

另外，在通过蚀刻液对玻璃基板进行蚀刻而形成图案部分的工序S220之后，耐指纹及抗反射薄膜涂层170以的厚度还可形成在形成有图案部分120的玻璃基板110表面的背面上。薄膜涂层170通过控制光的反射来使图案更加鲜明，因此，能够实现更高级的形象。可以通过微细液滴喷雾方法涂布薄膜涂层170。

上述的本实用新型的说明只是例示性的，只要是本实用新型所属技术领域的普通技术人员，就能理解在不变更本实用新型的技术思想或必要特征的情况下，也能轻易变形为其他具体形态。因此，以上所述的实施例在各方面仅是例示性的，但并不局限于此。例如，作为单一型进行说明的各结构部件也能分散进行实施，同样，使用分散的进行说明的结构部件也能以结合的形态进行实施。

本实用新型的范围是通过所附权利要求书来表示，而并非通过上述详细的说明，而由权利要求书的意义、范围及其均等概念导出的所有变更或变形的形态应解释为包括在本实用新型的范围内。

Claims (4)

1.一种保护玻璃，包括：

玻璃基板；

图案部分，通过对所述玻璃基板进行蚀刻而形成；及

多层薄膜，涂覆在所述图案部分的表面。

2.根据权利要求1所述的保护玻璃，其中，所述图案部分的表面由所述玻璃基板的内表面构成。

3.根据权利要求1所述的保护玻璃，其中，所述图案部分形成在所述玻璃基板的边框区域之内。

4.根据权利要求1所述的保护玻璃，还包括：

印刷部分，覆盖所述多层薄膜地形成。