TW511097B - Memory module structure having adaptable redundancy circuit - Google Patents
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五、發明說明(1) 發明背景 本發明係有關於_插θ γ _ Μ r Η Λ · 種具可調整冗餘電路(adaptabl e 7^71 ;"lui t} ^t£ ^ ^ ^ ^ ^ ^ it 2::”路所需求的熔絲組並在早期發展階段 源浪費。,、°己隐體取代範圍以避免不必要的記憶體資 w二二ί ί ί ί體裝置中’例在動態隨機存取記憶 (RAM)或靜‘i酼機存取記憶體(SRAM)中, crm考第1圖,係一包含冗餘電路的典型記憶 埴二所示’在測試時,若資料經記憶體的 二2,二:14儲存至記憶體陣列16的儲存位置係一缺陷記 ,,細胞時,這類記憶體通常利用額外的冗餘細胞18來取 代製造過程中所致的缺陷記憶體細胞’藉此增加生產的良 率(production yield)。隨著記憶體密度的增加,為了增 加操作速度及減少解碼操作時的切換電力(swi tching power),一階層式解碼(未顯示)方案(hierarchicai decoding scheme)被應用於其中。執行該冗餘取代 (redundancy replacement)係藉參考一預置的缺陷位址對 映表(failure-address map)(未顯示)來連接或熔斷 (connected or blown)相對應的熔絲(未顯示),藉此使用 一冗餘行或列18來取代具有缺陷的單行或單列。然而,在 此階層式解碼方式(scheme)下所架構的冗餘電路會須要龐 大的空間來容納所需的溶絲’尤其是在高密度的記憶體 中’相當浪費空間導致正常的記憶體細胞(ceU)架
0503-5955TW;TSMC2000-0701 ;Sue.ptd
受限,也使整體結構線路複雜化 據此’本發明之一目的 圍記憶體缺陷模式能力之冗 減少程式化冗餘電路所需求 展階段決定較佳的缺陷記憶 的冗餘記憶體資源浪費。 係提供一種具修復不同大小範 餘電路結構,其利用致能線來 的炫絲組之數量,並在早期發 體取代範圍以避免過多不必要
本發明係一種具可調整冗餘電路(adaptable Rdiindancy circuit)之記憶體模組結構,其具有修復不 同大小範圍圯憶體缺陷模式之能力並以位址線配合致能線 來達到降低熔絲組及避免記憶體資源浪費的目的。該具可 調整几餘電路(adaptable redundancy circuit)之記憶體 模組結構包括·複數個主記憶體(main memory),用以儲 存、料’複數個冗餘記憶體(redundancy memory),用以 取代主§己憶體中具缺陷的記憶體·,複數個溶絲組(f u s e sets) ’藉著程式化該複數個熔絲組來產生取代信號而使 相對應的冗餘記憶體經由電性連接以取代對應至該冗餘記 憶體的主記憶體位置中的缺陷記憶體。該取代信號包括一 記憶體陣列區塊取代信號、一記憶體區段取代信號及一記 憶體行或列取代信號,藉此決定最佳的缺陷記憶體取代範 圍大小。 圖示之簡單說明 為讓本發明之上述及其它目的、特徵、與優點能更顯 而易見,下文特舉一較佳實施例,並配合所附圖式,作詳
0503-5955TW;TSMC2000-0701 ;Sue.ptd 第5頁 511097
細說明如下: 型記憶體方塊圖; 冗餘電路的記憶體模組 第1圖係一包含冗餘電路的典 第2圖係一本發明包含可調整 示意圖;及 第3圖係一 本發明可調整冗餘 電路示意圖 〇 [符號說明] 2 記憶體模組 12 RAM 埠 14 RAM介面 16 RAM陣列 冗餘行 20、 22、24、26、28、29 冗餘記憶體 21、 23、25、27 主記憶體 31 取代信號產生電路 較佳實施例之詳細說明 參考第2圖’係本發明包括可調整冗餘電路 (adaptable redundancy circuit)的記憶體模組2 的示意
圖。在第2圖中,包含儲存資料的主記憶體21、23、25及 2 7、用以取代上述主記憶體中缺陷記憶體位置的冗餘記憶 體20、22、24、26、28及29、以及用以選擇取代區域大小 的炼絲組Fuse — set 0、Fuse_set 1、Fuse —set 2 及 Fuse_set 3,其中,該取代區域大小包括位元
511097 五、發明說明(4) (redundancy cell)、行或列(column or row)、區段 (sector)及陣列區塊(MAT)。如第2圖所示,以一主記憶體 對應一冗餘記憶體並多加二冗餘記憶體的方式來配置 (implement)本記憶體模組2的本體(body)。例如,先交錯
配置(interlace)四組完整之區段㈠“忧。加上列/行之冗 餘記憶體及主記憶體20-21-22-23-24-25-26-27,之後接 該多加之四組半MAT冗餘記憶體28及29。最後,將記憶體 模組本體以電性連接至熔絲〇、Fuse_sei; 1、 Fuse —set 2及Fuse 一 set 3以架構該可調整冗餘電路而完成 本發明包含可調整冗餘電路的記憶體結構2的配置。其 中’溶絲組Fuse-set 0係電性連接至冗餘記憶體28中前四 個記憶體陣列區塊及宂餘記憶體2〇,熔絲組Fuse_set 1係 連接至冗餘記憶體2 9中前四個記憶體陣列區塊及冗餘記憶 體22 ’溶絲組Fuse —set 2係電性連接至冗餘記憶體28中後 四個㊉憶體陣列區塊及冗餘記憶體2 4,以及炼絲組 Fuse —set 3係連接至冗餘記憶體29中後四個記憶體陣列區 塊及几餘§己憶體26。該可調整冗餘電路進一步說明於下。
參考第3圖,係一本發明可調整冗餘電路示意圖。在 第3圖中,包括複數個熔絲附加件fa〇 —FA8、複數個致能熔 絲件FENT、FENM、FENB、取代信號產生電路31。如第3圖 所示,缺陷位址AO-A8分別先輸入至熔絲附加件FA〇 —FA8以 產生程式化功能。其中,一列或一行(r〇w 〇r c〇lumn)係 由低階缺陷位址(bottom hierarchy addresses) a〇-A2 經 溶絲附加件FA0-FA2來解碼,且熔絲附加件以〇_FA2之輸出
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分別被輸入至取代信號產生電路31的反及閘“仉1,一區 段(sector)係由中階缺陷位址(middle hierarchy
addresses) A3-A5經熔絲附加件FA3_FA5來解碼,且熔 附加件FA3-FA5之輸出分別被輸入至取代信號產生電路 的反及閘NAND2,以及一記憶體陣列區塊(MAT)係由高階缺 陷位址(top hierarchy addresses) A6-A8 經熔絲附加件、 FA6-FA8來解碼,且熔絲附加件FA6-FA8之輸出分別被輸入 至取代信號產生電路31的反及閘NAND3,其中,在架構各 熔絲附加件FA0-FA8時,彼此間相距約為5微米(。一 溶絲組致能信號FUSET—EN同時被輸入至致能熔絲件FENT、 FENM、FENB中以分別程式化致能溶絲件fent、FENM、
FENB,並各自產生一輸入至取代信號產生電路31的致能信 號TOP—EN、MID —EN及Β0Τ-ΕΝ。該取代信號產生電路31進一 步包括反及閘NANDI-NAND6、反或閘N0R1及N0R2與一反相 器NOT。反及閘NAND1接收來自熔絲附加件FA0-FA2之輸出 信號並產生一輸出信號至反或閘N0R1。反及閘NAND2接收 來自溶絲附加件FA3-FA5之輸出信號並產生一輸出信號至 反或閘N0R1及反或閘N0R2。反及閘NAND3接收來自熔絲附 加件FA6 - FA8之輸出信號並輸出一信號N3至反或閘⑽以、 反或閘N0R2及反相器NOT。反或閘N0R1接收來自反及閘 NANDI、NAND2及NAND3之輸出信號並產生一輸出信號至反 及閘NAND4。反或閘N0R2接收來自反及閘NAND2及NAND3之 輸出信號並產生一輸出信號至反及閘NAND5。反相器NOT接 收來自反及閘NAND3之輸出信號並產生一反相之輸出信號
0503-5955TWF;TSMC2000-0701;Sue.ptd 第8頁 511097 五、發明說明(6) 至反及閘NAND6。反及閘NAND4接收信號Β0Τ一EN及反或閘 NOR 1之輸出信號並產生用以決定一行或一列缺陷取代範圍 之取代信號B0TRED_HIT。反及閘NAND5接收信號MID_EN及 反或閘N0R2之輸出信號並產生用以決定一區段缺陷取代範 圍之取代信號MIDRED_HIT。反及閘NAND6接收信號T0PJN 及反相器NOT之輸出信號並產生用以決定一區塊(mat)缺陷 取代範圍之取代信號T0PRED-HIT。如此,利用取代信號 80丁1^0一!111'、^110{^1)一1111'及110?1^0一111>1來指示一缺陷記憶 體的取代範圍大小,即可透過第2圖結構來產生最佳的缺u 陷取代範圍,藉此降低所需的熔絲數並避免空間上的、 費。 ' 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上,然其並 以限定本發明,任何熟知此技術之人士,在不脫^ 之精神及範圍内,當可做更動與潤飾,因此本發明 = 範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 5
Claims (1)
- 511097 六、申請專利範圍 1· 一種具可調整冗餘電路(adaptable redundancy circuit)之記憶體模組結構,包括: 複數個主記憶體(main memory ),用以儲存資料; 複數個冗餘記憶體(redundancy memory),用以取代 主記憶體中具缺陷的記憶體;以及 複數個熔絲組(fuse sets),藉著程式化該複數個熔 絲組來產生取代信號而使相對應的冗餘記憶體經由電性連 接以取代在該冗餘記憶體所對應的主記憶體位置上的缺陷 記憶體。 2 ·如申請專利範圍第1項之記憶體模組結構,其中, 該取代信號包括一陣列區塊取代信號、一區段取代信號及 一線(line)取代信號。 3·如申請專利範圍第2項之記憶體模組結構,其中, 該線取代信號是一行取代信號。 4·如申請專利範圍第2項之記憶體模組結構,其中, 該線取代信號是一列取代信號。 5·如申請專利範圍第丨項之記憶體模組結構,其中, 該熔絲組進一步包括: ‘ 複數個熔絲附加件,其以1對1方式接收來自外部之位 址線並分別產生一輸出信號; 複數個致能熔絲件,其根據外部輸入之一熔絲組致能 信號來產生程式化,藉此分別產生一用以致能不同缺陷^ 憶體取代範圍之致能信號;以及 取代信號產生電路,其接收並解碼來自複數個炼絲附0503-5955TWF;TSMa000-0701 ;Sue.ptd中 中 511097 六、申請專利範圍 加件之輸出信號及來自複數個致能熔絲件之致能信號,藉 此產生用以決定取代具缺陷記憶體的冗餘記憶體範圍之取 代信號。 6·如申請專利範圍第5項之記憶體模組結構,其中, 該不同缺陷記憶體取代範圍包括一位元(cel 1 〇r bit)取 代範圍、一線取代範圍、一區段(s e c t 〇 r)取代範圍及一陣 列區塊(MAT)取代範圍。 7·如申請專利範圍第5項之記憶體模組結構,其中, 該致能信號包括一陣列區塊致能信號、一區段致能信號及 一線致能信號。 8 ·如申請專利範圍第7項之記憶體模組結構,其中, 該線致能信號是一行致能信號。 9 ·如申請專利範圍第7項之記憶體模組結構,其中, 該線致能信號是一列致能信號。 I 0 ·如申明專利範圍第5項之記憶體模組結構,其中, 該取代信號包括—陣列區塊取代信號、一區段取代信號及 一線取代信號。 II ·如申請專利範圍第i 〇項之記憶體模組結構,其 該線取代信號是一行取代信號。 U線如取申代V專圍第10項之記憶體模組結構’其 这踝取代乜旒疋一列取代信號。 1 3 · —種具炫絲组夕7 ^ ρ ^ & 、之了調整几餘電路,其择担嫌协μ 述記憶體模組結構中,包括· 長保架構於上 九熔絲附加件,复r彳/、以1對1方式接收來自外部之位址線M1097六、申請專利範圍 並分別產生 三致能 來產生程式 記憶體取代 憶體取代範 一輸出信號; 熔絲件,其根據 化,藉此分別產 範圍之線致能信 圍之區段致能信 陷記憶體取代範圍之陣列區 一第一反及閘(NAND), 接收來自該複數 輸入端分別 號並由其輸 出端產生一輸出 一第二反及閘(NAND), 輸入端分別接收來自該複數 说並由其輸出端產生一輸出 一第三 輸入端分別 並由其輸出 反及閘(NAND), 接收來自該複數 端產生一輸出信 外部輸 生一用 號、一 號及一 塊致能 具有三 個熔絲 信號; 具有三 個熔絲 信號; 具有三 個熔絲 號; 以致能 用以致 用以致 信號; 輪入蠕 附加件 輪入端 附加件 熔絲組致能信號 一列或一行缺陷 能一區段缺陷記 能一陣列區塊缺 及一輸出端,其 之最小三輸出信 及一輸出端,其 之居中三輸出信 輪入端 附加件最大三輸出信 及一輸出端,一第一反或閘(NOR),具有三輸入端及一輸出端, 輸入端分別接收來自該第一反及閘、該第二反及閘及該第 一反及閘之輸出#號並由其輸出端產生^一輸出信號;‘ 一第二反或閘(NOR),具有二輸入端及一輸出端,其 輸入端分別接收來自該第二反及閘及該第三反及閘之輸出 信號並由其輸出端產生一輸出信號; ^ 一反相器(invert er),其接收一來自該第三反及閘之 輸出信號並產生一反相之輪出信號; 一第四反及閘(NAND) ’具有二輸入端及一輸出端,其511097 六、申請專利範圍 輪入端分別接收來自該線致能信號及該第一反或閘之輸出 信號,並由其輸出端產生該線取代信號; 一第五反及閘,具有二輸入端及一輸出端’其輸入端 分別接收來自該區段致能信號及該第二反或閘之輸出信 號,並由其輸出端產生該區段取代信號;以及 一第六反及閘,具有二輸入端及一輸出端,其輸入端 分別接收來自該陣列區塊致能信號及該反相器之輸出信 號,並由其輸出端產生該陣列區塊取代信號。第13頁 0503-5955TWF;TSMC2000-0701;Sue.ptd
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