[go: up one dir, main page]

KR100456748B1 - 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법 - Google Patents

배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100456748B1
KR100456748B1 KR10-2001-0011883A KR20010011883A KR100456748B1 KR 100456748 B1 KR100456748 B1 KR 100456748B1 KR 20010011883 A KR20010011883 A KR 20010011883A KR 100456748 B1 KR100456748 B1 KR 100456748B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
catalyst
titanium
exhaust gas
oxide
molybdenum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
KR10-2001-0011883A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20010089199A (ko
Inventor
마사키신유키
쿠마료지
스기시마노보루
Original Assignee
가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 filed Critical 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이
Publication of KR20010089199A publication Critical patent/KR20010089199A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100456748B1 publication Critical patent/KR100456748B1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8621—Removing nitrogen compounds
    • B01D53/8625—Nitrogen oxides
    • B01D53/8628—Processes characterised by a specific catalyst
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
    • B01D53/8662—Organic halogen compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/002—Mixed oxides other than spinels, e.g. perovskite
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/20—Vanadium, niobium or tantalum
    • B01J23/22—Vanadium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/24—Chromium, molybdenum or tungsten
    • B01J23/28—Molybdenum
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/03—Precipitation; Co-precipitation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2523/00—Constitutive chemical elements of heterogeneous catalysts

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

본 발명은, 질소산화물의 제거성능이 한층 우수하고, 게다가 이산화유황의 삼산화유황으로의 산화성능이 매우 억제된 탈질촉매 및 배기가스중의 다이옥신류 등의 유기할로겐화합물을 효율적으로 제거하는데 적합한 촉매로서 우수한 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법을 제공하는 것으로서, 촉매성분으로서 티탄의 산화물, 몰리브덴 산화물 및 바나듐 산화물을 함유하는 배기가스 처리용 촉매로서, 미리 조제된 티탄과 몰리브덴으로 이루어지는 이원계 균밀혼합 산화물 및/또는 미리 조제된 티탄, 규소 및 몰리브덴으로 이루어지는 삼원계 균밀혼합 산화물을 함유하는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리용 촉매이다.

Description

배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법{CATALYST FOR PURIFICATION OF EXHAUST GASES, PRODUCTION PROCESS THEREFOR, AND PROCESS FOR PURIFICATION OF EXHAUST GASES}
본 발명은 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법에 관한 것이다. 특히, 배기가스중의 질소산화물(NOx)을 제거하기 위한 탈질(denitration)촉매 및 배기가스중의 다이옥신류 등의 독성 유기할로겐화합물을 제거하기 위한 유기할로겐화합물의 제거용 촉매로서 우수한 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법에 관한 것이다.
현재 실용화되어 있는 배기가스중의 질소산화물 제거방법으로서는, 암모니아 또는 요소 등의 환원제를 사용하여 배기가스중의 질소산화물을 탈질촉매상에서 접촉환원하고, 무해한 질소와 물로 분해하는 선택적 촉매환원의 이른바 SCR법이 일반적이다. 근래, 산성비로 대표되는 바와 같이 질소산화물에 의한 환경오염이 세계적으로 심각화됨에 따라, 탈질기술의 고효율화가 요구되고 있다.
이와 같은 상황하에, 티탄과 바나듐의 산화물 및 몰리브덴, 텅스텐 등의 산화물로 이루어지는 탈질촉매(일본국 특허공고 소53-28148호 공보)나, 티탄 및 규소로 이루어지는 이원계 산화물과, 바나듐, 텅스텐, 몰리브덴 등의 금속산화물로 이루어지는 탈질촉매(일본국 특허공고 소57-30532호 공보)가 실용화되어 현재 널리 사용되고 있다.
이들 촉매는 모두 우수한 질소산화물의 제거성능을 보유함과 아울러, 배기가스중에 공존하는 유황산화물의 산화성능도 낮고 또한 내구성이 우수하지만, 더욱 고성능인 촉매가 출현하는 것이 바람직한 것이다.
또, 산업폐기물이나 도시폐기물을 처리하는 소각시설에서 발생하는 배기가스중에는 다이옥신류, PCB, 클로로페놀 등의 극미량의 독성 유기할로겐화합물이 함유되어 있고, 특히 다이옥신류는 미량이어도 매우 유독하여 인체에 중대한 영향을 미치기 때문에, 그 제거기술이 조속히 요구되고 있다. 촉매 분해법은 가장 효과적인 기술의 하나로, 일반적으로 티탄, 바나듐, 텅스텐, 몰리브덴 등의 산화물을 함유하는 촉매가 사용되고 있지만, 배기가스 조건에 따라서는 충분한 성능이라고는 말할 수 없어 더욱 촉매성능의 향상이 요망되고 있다.
따라서, 본 발명의 과제는, 질소산화물의 제거성능이 한층 우수하고, 게다가 이산화유황의 삼산화유황으로의 산화성능이 매우 억제된 탈질촉매 및, 배기가스중의 다이옥신류 등의 유기할로겐화합물을 효율적으로 제거하는데 바람직한 촉매로서 우수한 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법을 제공하는 것에 있다.
도 1은 실시예 1로 조제한 촉매 (1)의 X선 회절차트,
도 2는 실시예 2로 조제한 촉매 (2)의 X선 회절차트,
도 3은 비교예 1로 조제한 촉매 (6)의 X선 회절차트이다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 배기가스 처리용 촉매는, 촉매성분으로서 티탄의 산화물, 몰리브덴 산화물 및 바나듐 산화물을 함유하는 배기가스 처리용 촉매로서, 상기 티탄의 산화물 및 상기 몰리브덴 산화물은 미리 조제된 티탄과 몰리브덴으로 이루어지는 이원계 균밀혼합 산화물 및/또는, 미리 조제된 티탄, 규소 및 몰리브덴으로 이루어지는 삼원계 균밀혼합 산화물의 형태로 상기 촉매에 함유되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 배기가스 처리용 촉매의 제조방법은, 촉매성분으로서 티탄의 산화물, 몰리브덴 산화물 및 바나듐 산화물을 함유하는 배기가스 처리용 촉매의 제조방법으로서, 티탄화합물을 함유하는 수용액 또는 슬러리와, 몰리브덴화합물과 필요에 따라서 규소화합물을 혼합한 후, 물을 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 배기가스 처리용 촉매는, 티탄의 산화물, 몰리브덴 산화물 및 바나듐 산화물을 함유하는 촉매이지만, 상기 티탄의 산화물 및 상기 몰리브덴 산화물이 미리 조제된 티탄과 몰리브덴으로 이루어지는 이원계 균밀혼합 산화물의 형태로 촉매에 함유되어 있는 경우의 촉매 조성은, 각 원소의 산화물 환산 중량비로, 티탄의 산화물은 바람직하게는 55∼99.4중량%, 보다 바람직하게는 60∼90중량%, 몰리브덴 산화물은 바람직하게는 0.5∼30중량%, 보다 바람직하게는 1∼25중량%, 바나듐 산화물은 바람직하게는 0.1∼15중량%이다. 또, 상기 티탄의 산화물 및 상기 몰리브덴 산화물이 미리 조제된 티탄, 규소 및 몰리브덴으로 이루어지는 삼원계 균밀혼합 산화물의 형태로 촉매에 함유되어 있는 경우의 촉매 조성은, 각 원소의 산화물환산 중량비로, 티탄의 산화물은 바람직하게는 5∼98.9중량%, 보다 바람직하게는 10∼90중량%, 규소의 산화물은 바람직하게는 0.5∼50중량%, 보다 바람직하게는 5∼50중량%, 몰리브덴 산화물은 바람직하게는 0.5∼30중량%, 보다 바람직하게는 1∼25중량%, 바나듐 산화물은 바람직하게는 0.1∼15중량%이다.
본 발명의 배기가스 처리용 촉매는, 미리 티탄과 몰리브덴으로 이루어지는 이원계 균밀혼합 산화물(티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물)을 조제하여 사용하거나, 및/또는 미리 티탄, 규소 및 몰리브덴으로 이루어지는 삼원계 균밀혼합 산화물(티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물)을 조제하여 사용하는 것이 특징이다. 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 및/또는 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물을 미리 조제함으로써 티탄과 몰리브덴을 보다 균밀하게 분산혼합할 수 있고, 몰리브덴의 분산성이 향상되기 때문에, 티탄과 몰리브덴의 상호작용이 강해짐으로써 높은 분해활성이 얻어지게 된다. 그 때문에, 탈질촉매로서 사용한 경우에는, 유황산화물의 산화성능을 제어하면서 탈질성능이 향상되는 것이라 생각된다. 또, 유기할로겐화합물의 제거용 촉매로서 사용한 경우에는, 배기가스중의 다이옥신류 등의 유기할로겐화합물을 효율적으로 제거할 수 있는 것이라고 생각된다.
본 발명에 있어서 「균밀혼합 산화물」이라는 것은, X선 회절차트에 있어서,SiO2및 MoO3의 명백한 고유의 피크를 나타내지 않고, TiO2에 대해서는 고유의 피크를 나타내지 않거나 혹은 나타내어도 산화티탄의 회절피크보다도 광대한 회절피크를 나타내는 것을 말한다.
본 발명의 배기가스 처리용 촉매를 조제하는데는, 티탄화합물을 함유하는 수용액 또는 슬러리와, 몰리브덴화합물과 필요에 따라서 규소화합물을 혼합한 후, 물을 제거하는 공정을 포함하는 제법에 의해 제조하는 것이 바람직하다. 티탄화합물을 함유하는 수용액 또는 슬러리에서 물을 제거하기 전(즉, 산화티탄의 결정이 생성되기 전)에, 몰리브덴화합물과 필요에 따라서 규소화합물을 첨가함으로써 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물, 또는 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물을 쉽게 얻을 수 있다.
구체적으로는 이하의 조제방법을 들 수 있다.
(1) 파라몰리브덴산 암모늄, 몰리브덴산 등의 몰리브덴의 화합물을 물속에 분산시키고 암모니아수를 첨가한다. 얻어진 몰리브덴 수용액을 교반하면서 4염화티탄, 황산티탄, 테트라알콕시티탄 등의 수용성 티탄화합물의 액 또는 수용액을 서서히 적하하여 슬러리를 얻는다. 이것을 여과, 세정하고, 또한 건조한 후에 고온에서, 바람직하게는 300∼600℃에서 소성시킴으로써 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물을 얻을 수 있다. 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 경우는, 몰리브덴과 암모니아의 수용액에 미리 실리카졸을 첨가한다.
(2) 수용성 티탄화합물의 수용액에 암모니아수, 물 등을 첨가하여 가수분해하여 티탄의 수산화물을 얻는다. 이것에 몰리브덴 수용액을 첨가하고, 혼련하면서 수분을 증발시켜서 건조하고, 또한 고온에서, 바람직하게는 300∼600℃에서 소성시킨다. 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 경우는 상기 티탄수산화물로의 몰리브덴수용액의 첨가와 동시에 또는 차례로, 실리카졸을 상기 티탄수산화물에 첨가한다.
(3) 메타티탄산 슬러리에 몰리브덴화합물(및 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 경우는 실리카졸)을 첨가하고, 혼련하면서 수분을 증발시켜서 건조하고, 또한 고온에서, 바람직하게는 300∼600℃에서 소성시킨다.
상기 조제방법 중에서 (1)의 방법이 보다 바람직하다.
티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물, 또는 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 공급원 중, 티탄원으로서는 소성하여 산화티탄을 생성하는 것이라면 무기 및 유기의 어느 화합물도 사용가능하며, 예컨대 4염화티탄, 황산티탄 등의 무기티탄 화합물 또는 옥살산티탄, 테트라이소프로필티타네이트 등의 유기티탄화합물을 사용할 수 있다. 규소원으로서는, 콜로이드상 실리카, 물유리, 미립자 규소, 4염화규소, 실리카겔 등의 무기규소화합물 및 테트라에틸실리케이트 등의 유기규소화합물에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 몰리브덴원에 대해서는, 소성에 의해 몰리브덴 산화물을 생성하는 것이면 무기 및 유기의 어느 화합물이어도 좋고, 예를 들면, 몰리브덴을 함유하는 산화물, 수산화물, 암모늄염, 할로겐화물 등에서 적절히 사용할 수 있고, 구체적으로는 파라몰리브덴산 암모늄, 몰리브덴산 등이 있다.
이와 같이 하여 얻어진 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물, 및 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물은, 각각을 단독으로 사용하여도 좋고, 양자를 혼합하여 사용하여도 좋으며, 더욱이는 다른 티탄 산화물, 예컨대 산화티탄이나 티탄-규소 균밀혼합 산화물과 혼합하여 사용하여도 좋다.
바나듐산화물의 공급원료로서는, 바나듐산화물 자체 외, 소성에 의해서 바나듐산화물을 생성하는 것이라면, 무기 및 유기의 어느 화합물도 사용할 수 있다. 예를 들면, 바나듐을 포함하는 수산화물, 암모늄염, 옥살산염, 할로겐화물, 황산염 등을 사용할 수 있다.
바나듐산화물의 첨가방법은 특별히 한정되지 않고, 상기와 같은 조제방법으로 얻어진 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 및/또는 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 분말에 바나듐원을 함유하는 수용액을, 일반적으로 이 종류의 성형을 행할 때에 사용되는 유기 또는 무기의 성형조제와 아울러 첨가, 혼합, 혼련하면서 가열하여 수분을 증발시켜 압출가능한 페이스트상으로 하고, 이것을 압출성형기로 허니콤(honeycomb)형상 등으로 성형한다. 그 후, 건조하여 공기중에서 고온으로 소성하는 방법을 들 수 있다. 또, 다른 방법으로서, 상기와 같은 조제방법으로 얻어진 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 및/또는 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물을 미리 구상, 원기둥상의 펠릿, 격자상의 허니콤 등의 형태로 성형, 소성한 후, 바나듐원을 함유하는 수용액을 함침담지시키는 방법도 채용할 수 있다. 또, 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 및/또는 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 분체를 산화바나듐분체와 직접 혼련하는 방법으로 조제하는 것도 가능하다.
촉매의 형상은, 특히 한정되는 것은 아니고, 허니콤형상, 판형상, 그물형상, 원기둥형상, 원통형상 등 원하는 형상으로 성형하여 사용할 수 있다. 또, 알루미나, 실리카, 코제라이트, 물라이트, SiC, 티타니아, 스테인레스강 등으로 이루어지는 허니콤형상, 판형상, 그물형상, 원기둥형상, 원통형상 등의 원하는 형상의 담체(擔體)로 담지하여 사용하여도 된다.
본 발명의 배기가스 처리용 촉매는, 각종 배기가스의 처리에 사용된다. 배기가스의 조성에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 본 발명의 촉매는 보일러, 소각로, 가스터빈, 디젤엔진 및 각종 공업프로세스로부터 배출되는 질소산화물의 분해활성이 우수하기 때문에, 이들 질소산화물을 함유하는 배기가스 처리에 바람직하게 사용된다. 또한, 이들 배기가스 중에는 일반적으로 이산화유황이 함유되어 있고, 이산화유황이 삼산화유황으로 산화된 경우, 장치의 부식 등의 지장을 발생하지만, 본 발명의 촉매는 이산화유황의 삼산화유황으로의 산화능이 낮기 때문에 보다 바람직하게 사용된다.
본 발명의 촉매를 사용하여 탈질을 행하는데는, 본 발명의 촉매를 암모니아나 요소 등의 환원제의 존재하에 배기가스와 접촉시켜 배기가스중의 질소산화물을 환원제거한다. 이때의 조건에 대해서는 특별히 제한이 없고, 이 종의 반응에 일반적으로 사용되고 있는 조건으로 실시할 수 있다. 구체적으로는, 배기가스의 종류, 성상, 요구되는 질소산화물의 분해율 등을 고려하여 적절히 결정하면 된다.
또한, 본 발명의 촉매를 사용하여 탈질을 행하는 경우의 배기가스의 공간속도는, 통상 100∼100000Hr-1(STP)이고, 바람직하게는 200∼50000Hr-1(STP)이다.100Hr-1미만에서는 처리장치가 지나치게 커지기 때문에 비효율적으로 되고, 한편, 100000Hr-1를 초과하면 분해효율이 저하된다. 또, 그때의 온도는 100∼500℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 150∼400℃이다.
또, 본 발명의 촉매는, 산업폐기물이나 도시폐기물을 처리하는 소각시설에서 발생하는 유기할로겐화합물을 함유하는 배기가스의 처리에도 바람직하게 사용된다.
본 발명의 촉매를 사용하여 유기할로겐화합물의 처리를 행하는데는, 본 발명의 촉매를 배기가스와 접촉시켜서 배기가스중의 유기할로겐화합물을 분해제거한다. 이때의 조건에 대해서는, 특별히 제한은 없고, 이 종류의 반응에 일반적으로 사용되고 있는 조건으로 실시할 수 있다. 구체적으로는, 배기가스의 종류, 성상, 요구되는 유기할로겐화합물의 분해율 등을 고려하여 적절히 결정하면 된다. 암모니아나 요소 등의 환원제를 첨가함으로써 동시에 탈질하는 것도 가능하다.
또한, 본 발명의 촉매를 사용하여 유기할로겐화합물의 처리를 행하는 경우의 배기가스의 공간속도는, 통상 100∼100000Hr-1(STP)이고, 바람직하게는 200∼50000Hr-1(STP)이다. 100Hr-1미만에서는 처리장치가 지나치게 커지기 때문에 비효율적으로 되고, 한편, 100000Hr-1를 초과하면 분해효율이 저하된다. 또, 그때의 온도는 130∼500℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 150∼400℃이다.
이하에 실시예와 비교예에 의해 더욱 상세하게 본 발명을 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
[티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 조제]
우선, 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물을 다음과 같이 조제하였다. 공업용 암모니아수(25wt% NH3함유) 121㎏과 물 86ℓ의 혼합용액에, 몰리브덴산 분말 2.25㎏을 첨가하여 잘 교반하고, 몰리브덴산을 완전히 용해시켜 균일용액을 조제하였다. 이 용액에 황산티타닐 황산용액(테이카사 제품, TiO2로서 70g/ℓ, H2SO4로서 287g/ℓ 함유) 257ℓ를, 교반하면서 서서히 적하하여 침전을 생성시켰다. 이 공침(共沈) 슬러리를 약 20시간 정치(靜置)한 후, 물로 충분히 세정하고 나서 여과하고, 100℃에서 1시간 건조시켰다. 또한, 공기분위기하, 550℃에서 4시간 소성하고, 또한 헤머밀(hammer mill)을 사용하여 분쇄하고, 분급기로 분급하여 평균입자직경 10㎛의 분체를 얻었다. 이와 같이 하여 조제한 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 조성은, TiO2: MoO3= 90 : 10(산화물환산 중량비)이었다.
[바나듐산화물의 첨가]
다음에, 8ℓ의 물에 메타바나딘산 암모늄 1.29㎏과 옥살산 1.67㎏, 그리고 모노에탄올아민 0.4㎏을 혼합하고, 용해시켜 균일용액을 조제하였다. 먼저 조제한 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 분체 19㎏을 니더(kneader)에 투입한 후, 성형조제와 아울러 바나듐함유 용액을 첨가하여 잘 교반하였다. 또한 적당량의 물을 첨가하면서 블렌더(blender)로 잘 혼합한 후, 연속니더로 충분히 혼련하여, 외형 80㎜각, 구경 4㎜, 두께 1㎜, 길이 500㎜의 허니콤 형상으로 압출성형하였다. 얻어진 성형물을 60℃에서 1시간 건조한 후, 공기분위기하, 450℃에서 5시간 소성하여 목적의 촉매 (1)을 얻었다. 이 때의 조성은 중량비로, 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 : V2O5= 95 : 5(산화물 환산 중량비로 TiO2: MoO3: V2O5= 85.5 : 9.5 : 5)이었다.
촉매 (1)의 X선 회절차트를 도 1에 나타낸다. X선 회절차트에서는 MoO3의 명백한 고유의 피크는 확인되지 않고, TiO2의 광대한 회절피크가 확인되는 것으로부터, 티탄과 몰리브덴으로 이루어지는 이원계 균밀혼합 산화물인 것이 확인되었다.
<실시예 2>
[티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 조제]
우선, 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물을 다음과 같이 조제하였다. 실리카졸(스노텍스-30, 닛산카가쿠(주) 제품, SiO2환산 30wt% 함유) 10㎏과 공업용 암모니아수(25wt% NH3함유) 101.2㎏과 물 71ℓ의 혼합용액에, 몰리브덴산 분말 2.25㎏을 첨가하고 잘 교반하여 몰리브덴산을 완전히 용해시켜 균일용액을 조제하였다. 이 용액에 황산티타닐 황산용액(테이카사 제품, TiO2로서 70g/ℓ, H2SO4로서 287g/ℓ 함유) 214ℓ를 교반하면서 서서히 적하하여 침전을 생성시켰다. 이 공침 슬러리를 약 20시간 정치한 후, 물로 충분히 세정하고 나서 여과하여 100℃에서 1시간 건조시켰다. 또한 공기분위기하, 550℃에서 4시간 소성하고, 그리고 헤머밀을 사용하여 분쇄하고, 분급기로 분급하여 평균입자직경 10㎛의 분체를 얻었다. 이와 같이 하여 조제한 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물의 조성은 TiO2: SiO2: MoO3= 75 : 15 : 10(산화물환산 중량비)이었다.
[바나듐산화물의 첨가]
실시예 1의 바나듐산화물의 첨가공정에 있어서, 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 대신에, 상기와 같이 조제한 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 조제방법으로 바나듐산화물을 첨가하여 촉매 (2)를 조제하였다. 이 때의 조성은 중량비로 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물 : V2O5= 95 : 5(산화물환산 중량비로 TiO2: SiO2: MoO3: V2O5= 71.25 : 14.25 : 9.5 : 5)이었다.
촉매 (2)의 X선 회절차트를 도 2에 나타낸다. X선 회절차트에서는 SiO2및 MoO3의 명백한 고유의 피크는 확인되지 않고, TiO2의 광대한 회절피크가 확인되는 것으로부터, 티탄과 규소와 몰리브덴으로 이루어지는 삼원계 균밀혼합 산화물인 것이 확인되었다.
<실시예 3>
[티탄-규소 균밀혼합 산화물의 조제]
티탄-규소 균밀혼합 산화물을 다음과 같이 조제하였다. 실리카졸(스노텍스-30, 닛산카가쿠(주) 제품, SiO2환산 30wt% 함유) 10㎏과 공업용 암모니아수(25wt% NH3함유) 104㎏과 물 73ℓ를 혼합하여 균일용액을 조제하였다. 이 용액에 황산티타닐 황산용액(테이카사 제품, TiO2로서 70g/ℓ, H2SO4로서 287g/ℓ 함유) 242.8ℓ를 교반하면서 서서히 적하하여 침전을 생성시켰다. 이 공침 슬러리를 약 20시간 정치한 후, 물로 충분히 세정하고 나서 여과하여 100℃에서 1시간 건조시켰다. 또한 공기분위기하, 550℃에서 4시간 소성하고, 더욱 헤머밀을 사용하여 분쇄하고, 분급기로 분급하여 평균입자직경 10㎛의 분체를 얻었다. 이와 같이 하여 조제한 티탄-규소 균밀혼합 산화물의 조성은 TiO2: SiO2= 85 : 15(산화물환산 중량비)이었다. 티탄-규소 균밀혼합 산화물의 X선 회절에서는 TiO2의 광대한 회절피크가 보였을 뿐, SiO2의 명백한 고유의 피크는 확인되지 않았다.
[바나듐산화물의 첨가]
실시예 1의 바나듐산화물의 첨가공정에 있어서, 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 19㎏ 대신에, 실시예 1에서 사용한 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 9.5㎏과 상기 조제한 티탄-규소 균밀혼합 산화물 9.5㎏을 혼합하여 사용한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 조제방법으로 바나듐산화물을 첨가하여 촉매 (3)을 조제하였다. 이 때의 조성은 중량비로, 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 : 티탄-규소 균밀혼합 산화물 : V2O5= 47.5 : 47.5 : 5(산화물환산 중량비로 TiO2: SiO2: MoO3: V2O5= 83.1 : 7.1 : 4.8 : 5)이었다.
<실시예 4>
실시예 3의 바나듐산화물의 첨가공정에 있어서, 실시예 1에서 사용한 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물 대신에, 실시예 2에서 사용한 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물을 사용한 것 이외는, 실시예 3과 동일한 조제방법으로 바나듐산화물을 첨가하여 촉매 (4)를 조제하였다. 이 때의 조성은 중량비로 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물 : 티탄-규소 균밀혼합 산화물 : V2O5= 47.5 : 47.5 : 5(산화물환산 중량비로 TiO2: SiO2: MoO3: V2O5= 76 : 14.25 : 4.75 : 5)이었다.
<실시예 5>
실시예 4의 바나듐산화물의 첨가공정에 있어서, 실시예 3에서 사용한 티탄-규소 균밀혼합 산화물 대신에 시판의 산화티탄 분말(DT-51(상품명), 밀레니엄사 제품)을 사용한 것 이외는, 실시예 4와 동일한 방법으로 촉매 (5)를 조제하였다. 이 때의 조성은 중량비로 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물 : 산화티탄 : V2O5= 70 : 25 : 5(산화물환산 중량비로, TiO2: SiO2: MoO3: V2O5= 77.5 : 10.5 : 7 : 5)이었다.
<비교예 1>
시판의 산화티탄 분말(DT-51(상품명), 밀레니엄사 제품) 17㎏에, 티탄바나딘산 암모늄 1.29㎏, 옥살산 1.68㎏을 물 5ℓ에 용해시킨 용액과, 파라몰리브덴산 암모늄 2.46㎏ 및 모노에탄올아민 1.1㎏을 물 3ℓ에 용해시킨 용액을 첨가하여 잘 혼합하고, 니더로 혼련한 후, 압출성형기로 외형 80㎜각, 구경 4.0㎜, 두께 1.0㎜, 길이 500㎜의 허니콤형상으로 성형하였다. 계속하여 80℃에서 1시간 건조한 후, 450℃에서 5시간 공기분위기하에서 소성하여 촉매 (6)을 얻었다.
이 촉매의 조성은 TiO2: MoO3: V2O5= 90 : 10 : 5(산화물환산 중량%)이었다.
촉매 (6)의 X선 회절차트를 도 3에 나타낸다. X선 회절차트에서는 MoO3의 명백한 고유의 피크가 확인되는 것으로부터, 티탄과 몰리브덴으로 이루어지는 이원계 균밀혼합 산화물이 아닌 것이 확인되었다.
<비교예 2>
시판의 산화티탄 분체 대신에 실시예 3에서 조제한 티탄-규소 균밀혼합 산화물을 사용한 것 이외는, 비교예 1과 동일한 방법으로 촉매 (7)을 조제하였다.
이 촉매의 조성은 TiO2: SiO2: MoO3: V2O5= 72.25 : 12.75 : 10 : 5(산화물환산 중량%)이었다.
<실시예 6>
실시예 1∼5 및 비교예 1, 2에서 얻어진 촉매 (1)∼(7)을 사용하여 하기의 조건으로 탈질성능시험 및 SO2산화율의 측정을 행하였다.
처리가스 조성
NOx:200ppm, SO2:1000ppm, NH3:200ppm, O2:10%, H2O:15%, N2:밸런스
가스온도: 250℃
공간속도: 10000Hr-1
또한, 탈질율 및 SO2산화율은 하기의 식에 따라서 구하였다.
탈질율(%) = {(반응기 입구 NOx농도) - (반응기 출구 NOx농도)}
÷(반응기 입구 NOx농도)×100
SO2산화율(%) = (반응기 출구 SO3농도) ÷(반응기 입구 SO2농도)×100
얻어진 탈질율 및 SO2산화율을 표 1에 나타내었다.
탈질율(%) SO2산화율(%)
실시예 1 촉매 (1) TM/V2O5 97.3 0.4
실시예 2 촉매 (2) TSM/V2O5 97.6 0.2
실시예 3 촉매 (3) TM/TS/V2O5 96.8 0.3
실시예 4 촉매 (4) TSM/TS/V2O5 97.1 0.2
실시예 5 촉매 (5) TSM/TiO2/V2O5 97.1 0.3
비교예 1 촉매 (6) TiO2/MoO3/V2O5 90.9 1.2
비교예 2 촉매 (7) TS/MoO3/V2O5 88.8 0.3
TM : 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물
TSM : 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물
TS : 티탄-규소 균밀혼합 산화물
<실시예 7>
실시예 1, 2에서 얻어진 촉매 (1), (2)를 사용하여 가스온도를 150∼400℃로 한 것 이외는 실시예 6과 동일한 방법으로 탈질성능시험 및 SO2산화율의 측정을 행하였다.
얻어진 탈질율 및 SO2산화율을 표 2에 나타낸다.
가스온도(℃) 촉매 (1) 촉매 (2)
탈질율(%) SO2산화율(%) 탈질율(%) SO2산화율(%)
150 64.4 0.2 65.5 0.1
200 91.7 0.3 92.3 0.2
300 98.4 0.5 98.6 0.3
400 97.7 1.5 97.9 1.0
<실시예 8>
실시예 1∼5 및 비교예 1∼2에서 조제한 촉매 (1)∼(7)을 사용하여 유기염소화합물 분해시험을 행하였다. 처리대상이 되는 유기염소화합물로서 클로로톨루엔(이하, CT라 약칭한다)을 사용하여 이하의 조건으로 반응을 행하였다.
처리가스 조성
CT:30ppm, O2:10%, H2O:15%, N2:밸런스
가스온도 : 160℃
공간속도(SV) : 1600Hr-1
또한, CT분해율, 즉 CT제거율은 하기의 식에 따라서 구하였다.
CT분해율(%) = [(반응기 입구 CT농도) - (반응기 출구 CT농도)]
/(반응기 입구 CT농도)×100
얻어진 CT분해율을 표 3에 나타내었다.
CT분해율(%)
실시예 1 촉매 (1) TM/V2O5 92.0
실시예 2 촉매 (2) TSM/V2O5 92.3
실시예 3 촉매 (3) TM/TS/V2O5 90.9
실시예 4 촉매 (4) TSM/TS/V2O5 90.9
실시예 5 촉매 (5) TSM/TiO2/V2O5 92.0
비교예 1 촉매 (6) TiO2/MoO3/V2O5 86.5
비교예 2 촉매 (7) TS/MoO3/V2O5 72.2
TM : 티탄-몰리브덴 균밀혼합 산화물
TSM : 티탄-규소-몰리브덴 균밀혼합 산화물
TS : 티탄-규소 균밀혼합 산화물
본 발명에 의하면, 티탄과 몰리브덴을 보다 균밀하게 분산혼합할 수 있어 몰리브덴의 분산성이 향상되기 때문에, 티탄과 몰리브덴의 상호작용이 강해짐으로써 높은 분해활성이 얻어지게 된다.
그 때문에, 탈질촉매로서 사용한 경우에는, 유황산화물의 산화성능을 억제하면서 탈질성능이 향상된다.
또, 유기할로겐화합물의 제거용 촉매로서 사용한 경우에는, 배기가스중의 다이옥신류 등의 유기할로겐화합물을 효율적으로 제거할 수 있다.

Claims (7)

  1. 촉매성분으로서 티탄 산화물, 몰리브덴 산화물 및 바나듐 산화물을 함유하는 배기가스 처리용 촉매로서, 상기 티탄 산화물 및 상기 몰리브덴 산화물은 미리 조제된 티탄과 몰리브덴으로 이루어지는 이원계 균밀혼합 산화물 및, 미리 조제된 티탄, 규소 및 몰리브덴으로 이루어지는 삼원계 균밀혼합 산화물 중, 하나 이상의 형태로 상기 촉매에 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리용 촉매.
  2. 제1항에 있어서, 탈질촉매인 것을 특징으로 하는 배기가스 처리용 촉매.
  3. 제1항에 있어서, 유기할로겐화합물의 제거용 촉매인 것을 특징으로 하는 배기가스 처리용 촉매.
  4. 촉매성분으로서 티탄 산화물, 몰리브덴 산화물 및 바나듐 산화물을 함유하는 배기가스 처리용 촉매의 제조방법으로서, 티탄화합물을 함유하는 수용액 또는 슬러리와, 몰리브덴화합물과 필요에 따라서 규소화합물을 혼합한 후 물을 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리용 촉매의 제조방법.
  5. 배기가스를 제1항에 기재된 배기가스 처리용 촉매와 접촉시키는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리방법.
  6. 배기가스를 제2항에 기재된 배기가스 처리용 촉매와 접촉시키는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리방법.
  7. 배기가스를 제3항에 기재된 배기가스 처리용 촉매와 접촉시키는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리방법.
KR10-2001-0011883A 2000-03-08 2001-03-08 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법 Expired - Fee Related KR100456748B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000063864 2000-03-08
JP2000-63864 2000-03-08

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010089199A KR20010089199A (ko) 2001-09-29
KR100456748B1 true KR100456748B1 (ko) 2004-11-10

Family

ID=18583657

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2001-0011883A Expired - Fee Related KR100456748B1 (ko) 2000-03-08 2001-03-08 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법

Country Status (5)

Country Link
US (2) US6638486B2 (ko)
EP (2) EP1138379B1 (ko)
KR (1) KR100456748B1 (ko)
DE (2) DE60140445D1 (ko)
TW (1) TW592804B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240034316A (ko) 2022-09-06 2024-03-14 한국전력공사 탈질촉매와 그 제조방법

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7557062B2 (en) * 2003-02-24 2009-07-07 Shell Oil Company Catalyst composition, its preparation and use
EP1794264B1 (en) * 2004-09-08 2020-05-27 Shell International Research Maatschappij B.V. Hydrocracking catalyst composition
TWI358318B (en) * 2004-11-08 2012-02-21 Nippon Catalytic Chem Ind Catalyst for treating exhausted gases and method f
US20090041646A1 (en) * 2005-03-18 2009-02-12 Nippon Shokubai Co., Ltd. Catalyst for Removing Oxygen and Method for Removing Oxygen Using the Same Catalyst
WO2006132097A1 (ja) * 2005-06-09 2006-12-14 Nippon Shokubai Co., Ltd. チタン酸化物、排ガス処理用触媒および排ガスの浄化方法
US8481452B2 (en) * 2009-12-15 2013-07-09 Millennium Inorganic Chemicals, Inc. Capture of volatilized vanadium and tungsten compounds in a selective catalytic reduction system
TWI599590B (zh) 2010-12-08 2017-09-21 帕維蘇 莫漢帝 用於解聚反應之製程、裝置及催化劑
KR101426601B1 (ko) * 2012-09-18 2014-08-05 박광희 이산화황 내구성이 높은 탈질촉매와 그 제조방법 및 이를 이용하여 질소산화물을 제거하는 방법
EP2878368B1 (en) * 2013-11-29 2019-05-22 Umicore Ag & Co. Kg Oxygen storage materials
EP2878359B1 (en) * 2013-11-29 2016-04-13 Umicore Ag & Co. Kg Use of mixed oxides as oxygen storage components
CN106640291A (zh) * 2016-12-08 2017-05-10 青岛双瑞海洋环境工程股份有限公司 船舶废气脱硝系统
CN114308010B (zh) * 2021-12-23 2023-11-03 江苏金聚合金材料有限公司 一种二氧化钛负载三氧化钼和五氧化二钒催化剂的制备及其应用
KR102765429B1 (ko) 2023-02-03 2025-02-07 연세대학교 산학협력단 황산화물 분위기에서 탈질촉매 특성이 강화된 4원계 강상관계 산화물 VxNi1-xWO4 및 이의 제조방법

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4966873A (en) * 1987-12-02 1990-10-30 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Catalysts for the removal of nitrogen oxides
JPH05261283A (ja) * 1991-12-16 1993-10-12 Rhone Poulenc Chim ガス流中に含まれる窒素酸化物の選択的還元のための触媒及び該触媒の応用
JPH0768172A (ja) * 1993-07-20 1995-03-14 Sakai Chem Ind Co Ltd 窒素酸化物接触還元用触媒及び方法
JPH0947637A (ja) * 1995-08-03 1997-02-18 Babcock Hitachi Kk 排ガス脱硝用触媒、該触媒の製造方法および該触媒による排ガス脱硝方法
JP2000000471A (ja) * 1998-04-16 2000-01-07 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 排ガス処理用触媒、排ガス処理方法及び処理装置

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4085193A (en) 1973-12-12 1978-04-18 Mitsubishi Petrochemical Co. Ltd. Catalytic process for reducing nitrogen oxides to nitrogen
JPS5328148B2 (ko) 1974-03-29 1978-08-12
JPS52122293A (en) 1976-04-08 1977-10-14 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd Catalyst for purifying nox
GB1583146A (en) 1976-07-13 1981-01-21 Glaxo Operations Ltd Homoprostaglandins
JPS6034892B2 (ja) 1980-07-31 1985-08-12 三菱電機株式会社 乾式脱臭装置
JPS56168835A (en) * 1980-05-31 1981-12-25 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Denitrating catalyst and denitrating method
JPS6090043A (ja) 1983-10-21 1985-05-21 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd 窒素酸化物浄化用触媒
DE3623492A1 (de) 1986-07-11 1988-01-21 Hagenmaier Hans Paul Verfahren zum abbau von halogenierten aromaten
US5276250A (en) 1986-07-11 1994-01-04 Hagenmaier Hans Paul Process for decomposing polyhalogenated compounds
US5306475A (en) * 1987-05-18 1994-04-26 Ftu Gmbh Technische Entwicklung Und Forschung Im Umweltschutz Reactive calcium hydroxides
DK0447537T4 (da) 1989-10-06 2000-12-27 Basf Ag Fremgangsmåde til reduktion af emissionen af organiske forbindelser frembragt ved ufuldstændig forbrænding
EP0528982B1 (en) * 1990-05-14 1996-08-28 The University of Akron Process for the destruction of halogenated organics
JPH0663357A (ja) * 1990-10-26 1994-03-08 Tosoh Corp 有機ハロゲン化合物を含む排ガスの処理装置
US5430230A (en) 1991-04-30 1995-07-04 Nippon Shokubai Co., Ltd. Method for disposing of organohalogen compounds by oxidative decomposition
JP2916259B2 (ja) 1991-04-30 1999-07-05 株式会社日本触媒 有機ハロゲン化合物の酸化分解処理方法
DE4116364A1 (de) 1991-05-18 1992-11-19 Basf Ag Metalloxide enthaltender katalysator fuer verfahren zum oxidativen abbau von organischen verbindungen aus abgasen von verbrennungsanlagen
DE4212020A1 (de) * 1992-04-09 1993-10-14 Consortium Elektrochem Ind Katalysator für die katalytische Nachverbrennung von Kohlenmonoxid und/oder oxidierbare organische Verbindungen enthaltenden Abgasen
JP3243848B2 (ja) 1992-07-23 2002-01-07 ダイニック株式会社 床材用緩衝材
DE4341160A1 (de) 1993-05-06 1995-06-08 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung eines Katalysators und nach diesem Verfahren hergestellter Katalysator
US5658546A (en) * 1993-07-30 1997-08-19 Nippon Shokubai Co., Ltd. Denitration catalyst
EP0793995B1 (en) * 1996-03-05 2001-10-04 Hitachi, Ltd. Method of treating gases containing organohalogen compounds
JPH11188260A (ja) 1997-12-26 1999-07-13 Unitika Ltd 有機塩素化合物分解処理用触媒及びその製造方法
JP3457917B2 (ja) 1998-04-16 2003-10-20 三菱重工業株式会社 排ガス処理用触媒、排ガス処理方法及び処理装置
JP2000042409A (ja) 1998-05-28 2000-02-15 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 塩素化有機化合物分解用触媒および燃焼排ガスの処理方法
JP2000061305A (ja) 1998-08-21 2000-02-29 Babcock Hitachi Kk 排ガス処理用触媒及び排ガス処理用方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4966873A (en) * 1987-12-02 1990-10-30 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Catalysts for the removal of nitrogen oxides
JPH05261283A (ja) * 1991-12-16 1993-10-12 Rhone Poulenc Chim ガス流中に含まれる窒素酸化物の選択的還元のための触媒及び該触媒の応用
JPH0768172A (ja) * 1993-07-20 1995-03-14 Sakai Chem Ind Co Ltd 窒素酸化物接触還元用触媒及び方法
JPH0947637A (ja) * 1995-08-03 1997-02-18 Babcock Hitachi Kk 排ガス脱硝用触媒、該触媒の製造方法および該触媒による排ガス脱硝方法
JP2000000471A (ja) * 1998-04-16 2000-01-07 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 排ガス処理用触媒、排ガス処理方法及び処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240034316A (ko) 2022-09-06 2024-03-14 한국전력공사 탈질촉매와 그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20030185734A1 (en) 2003-10-02
EP1293250B1 (en) 2009-11-11
EP1138379A2 (en) 2001-10-04
EP1138379B1 (en) 2004-06-30
US6638486B2 (en) 2003-10-28
EP1293250A1 (en) 2003-03-19
US20010031700A1 (en) 2001-10-18
EP1138379A3 (en) 2001-11-07
US6884402B2 (en) 2005-04-26
KR20010089199A (ko) 2001-09-29
DE60104039T2 (de) 2005-06-30
DE60140445D1 (de) 2009-12-24
DE60104039D1 (de) 2004-08-05
TW592804B (en) 2004-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101151096B (zh) 钛氧化物、废气处理用催化剂及废气净化方法
KR100456748B1 (ko) 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법
JP4113090B2 (ja) 排ガス処理方法
JP4098703B2 (ja) 窒素酸化物除去用触媒および窒素酸化物除去方法
JP2001286734A (ja) 塩素化有機化合物の分解方法および燃焼排ガスの処理方法
JP3739659B2 (ja) 排ガス処理用触媒、排ガスの処理方法、および排ガス処理用触媒の製造方法
JP3860734B2 (ja) 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法
JP3893014B2 (ja) 排ガス処理用触媒、その製造方法および排ガス処理方法
JP4822740B2 (ja) 排ガス処理触媒および排ガス処理方法
JPH0824651A (ja) アンモニア分解用触媒およびその触媒を用いるアンモニアの分解方法
JP2003093881A (ja) 窒素酸化物除去用触媒およびその製造方法
JP2001113170A (ja) 脱硝触媒の製造方法
JP3749078B2 (ja) 脱硝触媒および脱硝方法
JP3984122B2 (ja) 脱硝触媒、脱硝方法および脱硝触媒の製造方法
JP3785310B2 (ja) 有機ハロゲン化合物分解触媒、その製造方法、および用途
JPH09155190A (ja) 排ガス中の窒素酸化物除去用触媒、その製造方法およびこれを用いた排ガス中の窒素酸化物除去方法
JP3739032B2 (ja) 有機ハロゲン化合物の除去用触媒、その製造方法および有機ハロゲン化合物の除去方法
JP4002437B2 (ja) 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法
JP3868246B2 (ja) 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法
JP4173707B2 (ja) 有機ハロゲン化合物除去用触媒および有機ハロゲン化合物除去方法
JP3893020B2 (ja) 有機ハロゲン化合物の除去用触媒およびこれを用いた排ガスの処理方法
JP4283092B2 (ja) 排ガス処理用触媒および排ガス処理方法
JP2002102696A (ja) 脱硝触媒およびこれを用いた排ガスの処理方法
JP5038006B2 (ja) 排ガス処理用触媒、当該触媒の製造方法及び当該触媒を用いた排ガス中の有機ハロゲン化合物の処理方法
JP2001286730A (ja) 塩素化有機化合物の分解方法および燃焼排ガスの処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20010308

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20020320

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20010308

Comment text: Patent Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20040408

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20040830

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20041102

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20041103

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20071026

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20081024

Start annual number: 5

End annual number: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20091022

Start annual number: 6

End annual number: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20101027

Start annual number: 7

End annual number: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20111019

Start annual number: 8

End annual number: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121023

Year of fee payment: 9

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20121023

Start annual number: 9

End annual number: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131022

Year of fee payment: 10

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20131022

Start annual number: 10

End annual number: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141021

Year of fee payment: 11

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20141021

Start annual number: 11

End annual number: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151016

Year of fee payment: 12

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20151016

Start annual number: 12

End annual number: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161019

Year of fee payment: 13

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20161019

Start annual number: 13

End annual number: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171018

Year of fee payment: 14

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20171018

Start annual number: 14

End annual number: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191016

Year of fee payment: 16

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20191016

Start annual number: 16

End annual number: 16

PC1903 Unpaid annual fee

Termination category: Default of registration fee

Termination date: 20210813