JPH11188260A - 有機塩素化合物分解処理用触媒及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 排ガスに含まれる硫黄酸化物の酸化性および
被毒性が低く、有機塩素化合物を低温で効率よく、安価
に無害化する触媒を提供する。 【解決手段】 以下に示すＡ成分とＢ成分からなり、Ａ
成分に対してＢ成分が１〜４０ｗｔ％であることを特徴
とする有機塩素化合物の分解処理用触媒。 （Ａ）：(a) チタニウム酸化物と(b) ジルコニウム酸化
物および／またはケイ素酸化物からなる２元系以上の複
合酸化物、ただし、(b) が(a) に対し２〜４０ｗｔ％で
ある。 （Ｂ）：（イ）バナジウムの金属または金属酸化物から
なる組成物、あるいは（イ）と（ロ）タングステンの金
属もしくは金属酸化物および／または（ハ）モリブデン
の金属もしくは金属酸化物からなる組成物、ただし、
（ロ）または（ハ）が（イ）に対し各々重量比１０以下
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、脂肪族および芳香
族の有機塩素化合物を分解処理するための触媒およびそ
の製造法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、有機塩素化合物としてダイオキシ
ン類を分解処理する触媒として、酸化チタン担体に五酸
化バナジウムと三酸化タングステンを担持させた触媒が
知られているが、これは、ごみ焼却炉排ガス中に含まれ
る窒素酸化物を、アンモニアを還元剤として除去する触
媒として一般的に使用されていたものである（特開平２
−３５９１４号公報参照）。また、ハロゲン含有有機化
合物、例えばフロン、トリクレン、パークレン等の脂肪
族有機塩素化合物の分解触媒としては、酸性ゼオライト
または周期律表の第２周期から第６周期に属する金属置
換ゼオライトが知られている（特開平４−２５０８２５
号公報参照）。さらに、塩化メチレン、臭化メチルなど
有機ハロゲン化合物の分解触媒として、ＴｉＯ₂ −Ｚｒ
Ｏ₂ 複合酸化物担体に貴金属（Ｐｔ，Ｐｄ）を担持した
触媒が知られている（特開平８−１７３７６０号公
報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のごみ焼却炉排ガ
ス中に含まれる窒素酸化物をアンモニアを還元剤として
除去する触媒を利用するものでは、ポリ塩化ジベンゾダ
イオキシン（ＰＣＤＤｓ）とポリ塩化ジベンゾフラン
（ＰＣＤＦｓ）といった有機塩素化合物を除去する効率
は、温度が２８０℃、空間速度（ＳＶ）が９６００ｈ^-1
といった条件で３０〜４８％と低いものであった。さら
に、このような触媒では、実用的な濃度である低い濃度
域では処理能力が劣っていた。また、脂肪族有機塩素化
合物分解処理触媒として使用されているＨ型モルデナイ
ト型ゼオライトをＣｏ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｆｅで置換したも
のでは、ジクロルメタン（ＣＨ₂ Ｃｌ₂ ）の除去効率は
３５０℃で４９〜５８％と低いものであった。また、こ
のような触媒は比較的低分子量のハロゲン含有有機化合
物の処理には適しているが、ベンゼン環を有する高分子
系のものについては例がない。また、反応で生成するＣ
ｌ₂ ，ＨＣｌや排ガス中に存在する硫黄酸化物等の酸性
物質に対する耐久性が悪く問題となっていた。さらに、
有機ハロゲン化合物の分解触媒として使用されているＰ
ｔ・Ｐｄ／ＴｉＯ₂ −ＺｒＯ₂ では塩化メチレン（ＣＨ
₂ Ｃｌ₂ ）の分解率が３５０℃で７１〜８８％と良好で
あるものの、貴金属を使用しているため触媒の製造コス
トが高くなり、また酸性物質に対する耐久性が悪く問題
となっていた。

【０００４】本発明は、かかる問題点を解決し、触媒を
劣化させる主たる原因である酸性物質を含んだ排ガス
や、処理によって発生し触媒そのものに影響を及ぼす排
ガスであっても、触媒の劣化が少なく安定して使用で
き、使用する温度が１５０〜３００℃といった低温であ
り、その時の有機塩素化合物の除去効率を高く、なおか
つ触媒の製造コストおよびランニングコストも廉価な触
媒およびその製造方法を提供することを目的とするもの
である。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の組成
の複合酸化物を担体とし、それに特定の組成の金属また
は金属酸化物を担持させることが有効であることを見出
し、本発明に到達した。

【０００６】すなわち、本発明の第一は、以下に示すＡ
成分とＢ成分からなり、Ａ成分に対してＢ成分が１〜４
０ｗｔ％であることを特徴とする有機塩素化合物の分解
処理用触媒を要旨とするものである。 （Ａ）：(a) チタニウム酸化物と(b) ジルコニウム酸化
物および／またはケイ素酸化物からなる２元系以上の複
合酸化物、ただし、(b) が(a) に対し２〜４０ｗｔ％で
ある。 （Ｂ）：（イ）バナジウムの金属または金属酸化物から
なる組成物、あるいは（イ）と（ロ）タングステンの金
属もしくは金属酸化物および／または（ハ）モリブデン
の金属もしくは金属酸化物からなる組成物、ただし、
（ロ）または（ハ）が（イ）に対し各々重量比１０以下
である。 本発明の第二は、上記の触媒において、（Ｂ）成分中の
（イ）、（ロ）または（ハ）の結晶度が、各々６０％以
下であることを特徴とする有機塩素化合物の分解処理用
触媒を要旨とするものである。。また本発明の第三は、
上記の触媒の製造方法であり、Ａ成分の原料を調整、乾
燥した後、３００〜８００℃で空気気流中で焼成して複
合酸化物を調製し、これをＢ成分を含む溶液に含浸し
て、乾燥した後、３００〜８００℃で空気気流中で焼成
することを特徴とする触媒の製造方法を要旨とするもの
である。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に説明す
る。まず、本発明の第一の有機塩素化合物の分解処理用
触媒について説明する。本発明における有機塩素化合物
は、ポリ塩化ジべンゾダイオキシン（ＰＣＤＤｓ）、ポ
リ塩化ジべンゾフラン（ＰＣＤＦｓ）などのダイオキシ
ン類のほか、これらダイオキシン類の前駆体であるモノ
クロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ｏ−クロロフェノ
ール等の塩素化有機化合物も含み、さらに脂肪族有機塩
素化合物であるフロン、トリクレン、パークレン等も含
まれる。

【０００８】本発明の触媒は、Ａ成分とＢ成分からな
り、Ｂ成分がＡ成分に対し１〜４０ｗｔ％であることが
必要であり、好ましくは５〜３０ｗｔ％である。Ａ成分
に対してＢ成分が少なすぎても触媒としての活性が低く
なってしまい、逆に多すぎるとＡ成分からなる担体上に
均一に分散せず、凝集体をつくり、担体の細孔を閉塞し
てしまい、活性の低下を引き起こしてしまうので好まし
くない。

【０００９】本発明の触媒のＡ成分は、(a) チタニウム
酸化物と(b) ジルコニウム酸化物および／またはケイ素
酸化物からなる２元系以上の複合酸化物であり、(b) が
(a)に対し２〜４０ｗｔ％であることが必要であり、好
ましくは５〜２０ｗｔ％である。この範囲外では成型が
しにくく、強度が低下してしまい、触媒の担体として耐
久性が問題となる。

【００１０】本発明で用いられるチタニウム酸化物の具
体例としては、TiO₂、TiO_2n-1(n ＝4 〜9)、Ti₂O₅ 、Ti
₂O₃ 、TiO が挙げられる。これらの中でルチル、ブルッ
カイト、アナターゼの３種の変態を持つTiO₂が好まし
く、特にアナターゼ形態が好ましい。また、本発明で用
いられるジルコニウム酸化物の具体例としては、ZrO₂が
挙げられる。また、本発明で用いられるケイ素酸化物の
具体例としては、SiO 、SiO₂が挙げられる。これらの中
でSiO₂が好ましい。本発明においてＡ成分は、TiO₂とSi
O₂、TiO₂とZrO₂、TiO₂とSiO₂とZrO₂などの複合酸化物で
あるので、Ａ成分中の各酸化物は必ずしも上記の結晶形
態に限定されず、Ti-O-Si 、Ti-O-Zr 、Zr-O-Si 結合を
含み無定形構造をとることが好ましい。

【００１１】本発明の触媒のＢ成分は、（イ）バナジウ
ムの金属または金属酸化物からなる組成物、あるいは
（イ）と（ロ）タングステンの金属もしくは金属酸化物
および／または（ハ）モリブデンの金属もしくは金属酸
化物からなる組成物であり、（ロ）または（ハ）が
（イ）に対し各々重量比１０以下であることが必要であ
る。好ましくは、５以下である。

【００１２】本発明におけるバナジウムの金属または金
属酸化物の具体例としては、VO、V₂O₃、VO₂ 、V₂O₅、 V
_n O_2n-1(n ＝4 〜8)、 V_n O_2n+1(n ＝3,6)が挙げられ
る。これらの中でV₂O₅が好ましい。本発明におけるタン
グステンの金属または金属酸化物の具体例としては、WO
₂、WO₃ 、W₁₈O₄₉、W₂₀O₅₈、W₅₀O₁₄₈ 、W₄₀O₁₁₉ が挙げ
られる。これらの中でWO₃が好ましい。本発明における
モリブデンの金属または金属酸化物の具体例としては、
MoO₂、MoO₃、Mo₃O₈ 、Mo₈O₂₃、Mo₉O₂₆、Mo₄O₁₁、Mo₁₇O
₄₇ 、Mo₅O₁₄が挙げられる。これらの中でMoO₃が好まし
い。

【００１３】本発明の第二の有機塩素化合物分解処理用
触媒は、上記の本発明の第一の触媒のうちさらに（Ｂ）
成分中の（イ）、（ロ）または（ハ）の結晶度が、各々
６０％以下であることが必要である。ここでいう結晶度
とは、以下のようにして求めたものである。Ｂ成分中の
金属がそれぞれ全てＶ₂ Ｏ₅ ，ＷＯ₃ ，ＭｏＯ₃ で表さ
れる結晶性酸化物（ｉ）であると仮定したときのＸ線理
論回折強度Ｉ_i は次式で示される。

【００１４】

【数１】

【００１５】Ｉ_ipはｉ成分純品のＸ線回折強度、（μ／
ρ）_i はｉ成分の質量吸収係数、（μ' ／ρ）は試料の
平均質量吸収係数、Ｗ_i は試料中のｉ成分の重量分率で
ある。これはＩＣＰなどにより金属量を測定し、検出さ
れた金属は全て結晶酸化物であると仮定したときの値で
ある。そして試料のｉ成分のＸ線回折強度（Ｉ）を測定
し、試料中のｉ成分の結晶度はＩ／Ｉ_i と定義される。
回折強度は５〜９０°、好ましくは１０〜４０°の回折
角度（２θ）の範囲に現れる強度とする。

【００１６】本発明の第二の触媒は、上記の式で求めら
れる結晶度が６０％以下であることが必要であり、好ま
しくは５０％以下である。担持金属はその全てが結晶性
酸化物の形態で担持されているわけではない。すなわち
担体上にエネルギー的に不安定な状態で存在するので活
性が高くなると考えられる。

【００１７】次に、本発明の製造法について説明する。
本発明の触媒の複合酸化物担体となるＡ成分の原料とし
ては特に限定されないが、チタニア酸化物はチタニアゾ
ル、硫酸チタン、酸化塩化チタン、四塩化チタン、硫酸
チタニルなど、ケイ素酸化物は水ガラス、シリカゾル、
ケイ酸ナトリウム、エチルシリケートなど、ジルコニウ
ム酸化物はジルコニアゾル、酸化ジルコニウム、塩化ジ
ルコニウム、硫酸ジルコニウム、シュウ酸ジルコニウ
ム、オキシ塩化ジルコニウムなどが用いられる。それぞ
れ好ましくは、四塩化チタン、シリカゾル、塩化ジルコ
ニウムである。

【００１８】上記のチタニア酸化物、ジルコニウム酸化
物、ケイ素酸化物のうち好ましい原料をそれぞれ所定の
重量比となるよう混合し、８０〜１６０℃、好ましくは
１００〜１４０℃で８〜１６時間、好ましくは１０〜１
４時間乾燥する。それ以上の温度では乾燥速度が速くな
りすぎ、均一な複合酸化物前駆体が得られなくなる。焼
成は３００〜８００℃、好ましくは３５０〜７００℃で
１〜１０時間、好ましくは２〜６時間、酸化雰囲気で行
う。処理時間が長すぎ、焼成温度が高すぎるとシンタリ
ングが起こって表面積が減少してしまう。

【００１９】触媒の担持物となるＢ成分であるＶ，Ｗま
たはＭｏの原料としては特に限定されないが、Ｖは硫酸
バナジル、バナジン酸アンモニウム、シュウ酸バナジ
ル、塩化バナジルなど、Ｗはタングステン酸アンモニウ
ム、タングステン酸、ケイタングステン酸など、Ｍｏは
モリブデン酸、ケイモリブデン酸、リンモリブデン酸、
モリブデン酸アンモニウムなどがあり、それぞれの群か
ら選ばれた化合物をホウ酸水溶液、シュウ酸水溶液、メ
チルアミン溶液などに溶解させそれぞれの担体の担持溶
液とする。これら原料のうち好ましくはそれぞれバナジ
ン酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウム、モリ
ブデン酸アンモニウムがよい。これらの担持溶液は混合
して使用してもよい。

【００２０】上記のＶ，Ｗ，Ｍｏの原料から選ばれた
Ｖ，Ｗ，Ｍｏを含む溶液に担体を含浸させ、８０〜１６
０℃、好ましくは１００〜１４０℃で８〜１６時間、好
ましくは１０〜１４時間乾燥する。担体に活性成分が弱
く吸着している場合には、乾燥時に成分の再分配が起こ
り、不均一分布してしまう。活性成分の分布を均一化す
るには上記の温度域でゆっくり昇温するとよい。

【００２１】焼成は３００〜８００℃、好ましくは３５
０〜７００℃で１〜１０時間、好ましくは２〜６時間、
酸化雰囲気で行う。担体の焼成と同時に処理時間が長す
ぎ、反応温度が高すぎるとシンタリングにより表面積が
低下し、活性が低下する。このようにして本発明の第一
の有機塩素化合物分解処理用触媒が調製される。

【００２２】本発明の第二の触媒においては、Ｂ成分の
結晶度を特定の範囲にする必要があり、そのために焼成
は３００〜８００℃で行う必要がある。低温で焼成を行
うと結晶の成長が十分に行われず結晶度が低くなりす
ぎ、高温すぎても結晶度が高くなりすぎてしまい高活性
な触媒が得られない。Ｂ成分の原料として、バナジン酸
アンモニウム、タングステン酸アンモニウム、モリブデ
ン酸アンモニウムを用いることが好ましく、また触媒中
の他成分が核（たね）となり結晶の成長を促進すること
ができる。

【００２３】本発明の触媒は用途に応じてハニカム状、
ペレット状に成型することができ、また、ガラス繊維な
どの布状基材に塗布することでも触媒としての性能が発
揮できる。使用条件としてはＳＶ値20000 ／ｈ以下、好
ましくは10000 ／ｈ以下で行えばよく、また温度は５０
０℃以下、好ましくは３００℃以下で行えばよい。

【００２４】

【実施例】次に、本発明を実施例によって具体的に説明
する。なお、得られた触媒におけるＸ線回折法による結
晶性酸化物量の測定は以下のようにして行った。試料を
深さ０．２ｍｍのガラスセルに詰めて、広角Ｘ線測定を
行った。Ｘ線回折測定装置は理学電気ＲＡＤ−ｒＢであ
る。スリット構成は、ＤＳ（発散スリット）＝１．０
゜、ＲＳ（受光スリット）＝０．３ｍｍ、ＲＳ_M ＝（な
し）とし、５０ｋＶ／２００ｍＡの出力のＣｕ−Ｋα線
を湾曲型グラファイトモノクロメータで単色化して使用
した。測定方法は対称反射法で、スキャンは３゜／ｍｉ
ｎ、ステップ０．０１゜、２θ範囲３〜９０゜を測定し
た。Ｖ₂ Ｏ₅ 、ＷＯ₃ およびＭｏＯ₃ の結晶性物質の回
折角度をそれぞれ２０．２、２３．５、２７．３とし、
そのときのピーク強度、結晶性物質純品のＸ線回折強度
および質量吸収係数、試料の平均質量吸収係数を測定し
た。またＩＣＰにより触媒中の金属量を測定し、結晶度
を計算した。

【００２５】実施例１ チタニア酸化物とケイ素酸化物からなる二元複合酸化物
担体（ＴｉＯ₂ −ＳｉＯ₂ ）を以下の手法により調製し
た。ＴｉＣｌ₄ （Ｔｉとして約１６ｗｔ％含有）溶液
３．７５ｇに蒸留水６０ｇを加え、氷で冷却しながら撹
拌、混合し、アンモニア水（２８ｗｔ％）をｐＨ＝７〜
８になるまで添加し中和した。得られた溶液を遠心管に
分注し、回転数３０００ｒｐｍで１分間遠心分離したの
ち、上澄みを捨て残差に蒸留水を加え撹拌、混合し、再
び回転数３０００ｒｐｍで１分間遠心分離した。この操
作を５回繰り返したのち、スノーテックスＯ（日産化学
製シリカゾル；ＳｉＯ₂ として約２０ｗｔ％含有）を
０．２５ｇ加え、混合させ、１２０℃で１２時間乾燥さ
せた。次いで、５００℃で２時間空気雰囲気下で焼成
し、粉砕し平均粒径３００〜５００μｍとなるように整
粒し、ＴｉＯ₂ −ＳｉＯ₂ からなる二元複合酸化物担体
（ＴｉＯ₂ ：９５ｗｔ％、ＳｉＯ₂ ：５ｗｔ％）を得
た。

【００２６】次に上記の二元複合酸化物担体をバナジン
酸アンモニウムを溶解させたシュウ酸水溶液（担体に対
して５ｗｔ％Ｖ₂ Ｏ₅ が添加されるように調製したも
の）に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥させ、５００
℃で２時間空気雰囲気下で焼成し、Ｖ₂ Ｏ₅ ／ＴｉＯ₂
−ＳｉＯ₂ なる触媒を得た。得られた触媒中のＶ₂ Ｏ₅
の結晶度は４４％であった。

【００２７】実施例２ 実施例１で調製したＴｉＯ₂ −ＳｉＯ₂ からなる二元複
合物酸化物担体に対してＶ₂ Ｏ₅ 、ＷＯ₃ がそれぞれ５
ｗｔ％担持されるように調製した溶液に含浸させ、以下
実施例１と同様な方法で、Ｖ₂ Ｏ₅ ・ＷＯ₃ ／ＴｉＯ₂
−ＳｉＯ₂ なる触媒を作製した。得られた触媒中のＶ₂
Ｏ₅ の結晶度は３８％であり、ＷＯ₃ の結晶度は４２％
であった。

【００２８】比較例１ Ｈ型モルデナイト型ゼオライト（東ソー株式会社製、商
品名「ＨＳＺ−６４０ＨＯＡ」Ｓｉ／Ａｌ＝１０）を担
体として用いた以外は、実施例１と同様な方法で触媒を
作製した。

【００２９】比較例２ シリカゾルの添加を省略した以外は、実施例１と同様な
方法により、Ｖ₂ Ｏ₅／ＴｉＯ₂ なる触媒を作製した。
この触媒中のＶ₂ Ｏ₅ の結晶度は６１％であった。

【００３０】比較例３ シリカゾルの添加を省略し、焼成温度を５００℃から９
００℃に変更した以外は、実施例１と同様な方法によ
り、Ｖ₂ Ｏ₅ ／ＴｉＯ₂ なる触媒を作製した。この触媒
中のＶ₂ Ｏ₅ の結晶度は８３％であった。

【００３１】比較例４ ＴｉＯ₂ が５０ｗｔ％、ＺｒＯ₂ が５０ｗｔ％からなる
複合酸化物担体を以下のような方法により調製した。Ｔ
ｉＣｌ₄ （Ｔｉとして約１６ｗｔ％含有）溶液３．７５
ｇに蒸留水６０ｇを加え、氷で冷却しながら攪拌、混合
し、アンモニア水（２８ｗｔ％）をｐＨ＝７〜８になる
まで添加し中和した。得られた溶液を遠心管に分注し、
回転数３０００ｒｐｍで１分間遠心分離したのち、上澄
みを捨て残差に蒸留水を加え攪拌、混合し、再び回転数
３０００ｒｐｍで１分間遠心分離した。この操作を５回
繰り返したのち、ジルコニアゾル（日産化学製ジルコニ
アゾル；ＺｒＯ₂ として約３０．４ｗｔ％含有）を３．
２９ｇ加え、混合させ、１２０℃で１２時間乾燥した。
次いで、５００℃で２時間空気雰囲気下で焼成し、粉砕
し平均粒径３００〜５００μｍとなるように整粒し、Ｔ
ｉＯ₂ −ＺｒＯ₂ からなる二元複合酸化物担体を得た。
次いでこの複合酸化物担体にＰｄ，Ｐｔをそれぞれ２ｗ
ｔ％担持させて触媒を作製した。

【００３２】参考例１〔モノクロルベンゼンの分解率〕 有機塩素化合物のモデル化合物としてモノクロルベンゼ
ン（ＭＣＢ：Ｃ₆ Ｈ₅Ｃｌ）１２０ｐｐｍ、および酸性
物質である塩化水素（ＨＣｌ）を含む空気を被処理ガス
とし、触媒に２００〜３００℃、空間速度ＳＶ値５００
０ｈｒ^-1にて通じた。用いた触媒は、実施例１、比較例
１〜３で得られたものである。なお処理ガスの分析はガ
スクロマトグラフ〔島津製作所製ＧＣ−８Ａ（ＦＩ
Ｄ）〕により分析し、次式により計算した値を分解率と
した。 分解率（％）＝（１−（反応後ＭＣＢ濃度）／（反応前
ＭＣＢ濃度））×１００ 結果を図１に示す。図１から明らかなように、本発明の
触媒は、ゼオライト（比較例１）やＶ₂ Ｏ₅ ／ＴｉＯ₂
（比較例２および３）からなる触媒に比較し活性が高ま
ることが示された。また触媒中のＶ₂ Ｏ₅ の結晶度が高
すぎると触媒としての活性は低くなることが示された。

【００３３】参考例２〔触媒の寿命評価〕 モノクロルベンゼン、ＳＯｘを含む空気を被処理ガスと
し、２００℃、空間速度ＳＶ値５０００ｈｒ^-1にて１０
００時間連続して通じ、任意時間毎に処理ガスを分析
し、モノクロルベンゼンの分解率を算出し、ＳＯｘの触
媒被毒による活性の劣化度について評価した。用いた触
媒は、実施例２、比較例１、２および４で得られたもの
である。結果を図２に示す。図２から明らかなように、
本発明の触媒は、ＳＯ₂ の影響をあまり受けず、安定し
た活性を保つことが示された。

【００３４】参考例３〔塩化メチレンの分解率〕 脂肪族有機塩素化合物のモデル化合物として塩化メチレ
ン（ＣＨ₂ Ｃｌ₂ ）１２０ｐｐｍ、および酸性物質であ
る塩化水素（ＨＣｌ）を含む空気を被処理ガスとし、上
記触媒に２００〜３００℃、空間速度ＳＶ値５０００ｈ
ｒ^-1にて通じた。用いた触媒は、実施例２および比較例
４で得られたものである。なお処理ガスの分析はガスク
ロマトグラフ〔島津製作所製ＧＣ−８Ａ（ＦＩＤ）〕に
より行い、塩化メチレンの分解率を算出した。結果を図
３に示す。図３から明らかなように、本発明の触媒は、
ＳＯｘ，ＨＣｌなどの酸性物質による触媒被毒も抑えら
れ、塩化メチレンのような脂肪族有機塩素化合物も効率
よく分解して無害化処理できることが示唆された。

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、焼却炉排ガス中に触媒
を劣化させる主たる原因である酸性物質とともに低濃度
で含まれる有機塩素化合物を、触媒の劣化が少なく安定
して使用でき、高い除去率で、低コストすなわち使用触
媒量が少なくてすみ、また、低い排ガス温度で実現する
ことが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の触媒のモノクロロベンゼン分解に対す
る反応温度の影響を示す図である。

【図２】本発明の触媒の寿命評価試験結果を示す図であ
る。

【図３】本発明の触媒の塩化メチレン分解に対する反応
温度の影響を示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 矢部 里子 京都府宇治市宇治小桜23番地 ユニチカ株 式会社中央研究所内 (72)発明者 下村 岳彦 京都府宇治市宇治小桜23番地 株式会社ユ ニチカリサーチラボ内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 以下に示すＡ成分とＢ成分からなり、Ａ
   成分に対してＢ成分が１〜４０ｗｔ％であることを特徴
   とする有機塩素化合物分解処理用触媒。 （Ａ）：(a) チタニウム酸化物と(b) ジルコニウム酸化
   物および／またはケイ素酸化物からなる２元系以上の複
   合酸化物、 ただし、(b) が(a) に対し２〜４０ｗｔ％である。 （Ｂ）：（イ）バナジウムの金属または金属酸化物から
   なる組成物、あるいは（イ）と（ロ）タングステンの金
   属もしくは金属酸化物および／または（ハ）モリブデン
   の金属もしくは金属酸化物からなる組成物、 ただし、（ロ）または（ハ）が（イ）に対し各々重量比
   １０以下である。
2. 【請求項２】 （Ｂ）成分中の（イ）、（ロ）または
   （ハ）の結晶度が、各々６０％以下であることを特徴と
   する請求項１記載の有機塩素化合物分解処理用触媒。
3. 【請求項３】 Ａ成分の原料を調製、乾燥した後、３０
   ０〜８００℃で空気気流中で焼成して複合酸化物を調製
   し、これをＢ成分を含む溶液に含浸して、乾燥した後、
   ３００〜８００℃で空気気流中で焼成することを特徴と
   する請求項１または請求項２記載の触媒の製造方法。