JPS6010492A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPS6010492A JPS6010492A JP58115881A JP11588183A JPS6010492A JP S6010492 A JPS6010492 A JP S6010492A JP 58115881 A JP58115881 A JP 58115881A JP 11588183 A JP11588183 A JP 11588183A JP S6010492 A JPS6010492 A JP S6010492A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- driver
- word line
- word
- bit
- memory cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title description 7
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 41
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 101150049891 MCA1 gene Proteins 0.000 description 3
- 101150009920 MCA2 gene Proteins 0.000 description 3
- 101100290371 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) pca1 gene Proteins 0.000 description 3
- 241000270666 Testudines Species 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B61—RAILWAYS
- B61B—RAILWAY SYSTEMS; EQUIPMENT THEREFOR NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B61B1/00—General arrangement of stations, platforms, or sidings; Railway networks; Rail vehicle marshalling systems
- B61B1/02—General arrangement of stations and platforms including protection devices for the passengers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/14—Word line organisation; Word line lay-out
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/06—Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
- G11C5/063—Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/08—Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Transportation (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は半導体記憶装置(以下単にメモリとも称す)に
関する。
関する。
技術の背景
メモリとして現在多種の形式のものが提案され実用にも
供されている。この多種のメモリにおいて現在共通の課
題は微細化である。つまシ高集積度ICメモリの実現で
ある。然し微細化と言っても、単に各素子、各配線を縮
小するだけでは実現されない。このような縮小化に伴う
弊害を併せて除去することが必要だからである。
供されている。この多種のメモリにおいて現在共通の課
題は微細化である。つまシ高集積度ICメモリの実現で
ある。然し微細化と言っても、単に各素子、各配線を縮
小するだけでは実現されない。このような縮小化に伴う
弊害を併せて除去することが必要だからである。
従来技術と問題点
第1図は一般的な半導体記憶装置の一例を示す回路図で
あシ、例えばS−RAM(5tatic random
access memory)について示す。本図にお
いて、MCはメモリセルであシ、1のワード線対WL(
W+、W−)に多数個接続される。又、同様のワ−ド線
対WLおよびメモリセルMCが、ピット線BLおよびi
[の方向に多数配列される。これらメモリセルMCの群
がメモリセルアレイMCAを形成する。S −RAMの
場合、各ワード線WL(W+)と対をなしてワード線W
L(W−)が布線され、各々1保持亀流源HIに接続さ
れる。これによル各メモリセルMCの“l”、@0#の
内容を保持する。各ワード線はアドレスADに応じて選
択され、駆動サレル。この駆動のためにワードドライバ
Qwdが設けられる。なお、各ピット線対BL、丁τに
はビットドライバ(後述)が設けられる。
あシ、例えばS−RAM(5tatic random
access memory)について示す。本図にお
いて、MCはメモリセルであシ、1のワード線対WL(
W+、W−)に多数個接続される。又、同様のワ−ド線
対WLおよびメモリセルMCが、ピット線BLおよびi
[の方向に多数配列される。これらメモリセルMCの群
がメモリセルアレイMCAを形成する。S −RAMの
場合、各ワード線WL(W+)と対をなしてワード線W
L(W−)が布線され、各々1保持亀流源HIに接続さ
れる。これによル各メモリセルMCの“l”、@0#の
内容を保持する。各ワード線はアドレスADに応じて選
択され、駆動サレル。この駆動のためにワードドライバ
Qwdが設けられる。なお、各ピット線対BL、丁τに
はビットドライバ(後述)が設けられる。
ところで、第1図に示したメモリを微細化する場合、各
種の弊害が生ずるが、その1つにエレクトロマイグレー
ションが挙げられる。エレクトロマイグレーションとは
、アルミ配線にある一定値以上の電流密度の一流を流す
と、そのアルミが熱によって溶融状態になることをいう
。このエレクトロマイグレーションは、第1図で言えば
アルミからなるワード線WL(W+)に顕著である。な
ぜなら、ここには当該ワード線WLにつながる全メモリ
セルへ通電すべき保持電流が流れ、加えて、ワード線の
選択から非選択時の立下シを速くするために通電される
放!電流(放電電流源DI)も重畳されるからである。
種の弊害が生ずるが、その1つにエレクトロマイグレー
ションが挙げられる。エレクトロマイグレーションとは
、アルミ配線にある一定値以上の電流密度の一流を流す
と、そのアルミが熱によって溶融状態になることをいう
。このエレクトロマイグレーションは、第1図で言えば
アルミからなるワード線WL(W+)に顕著である。な
ぜなら、ここには当該ワード線WLにつながる全メモリ
セルへ通電すべき保持電流が流れ、加えて、ワード線の
選択から非選択時の立下シを速くするために通電される
放!電流(放電電流源DI)も重畳されるからである。
なお1上述ノ諸電流はパイ、39−ラのS −RAMに
おいて最大である。
おいて最大である。
このような大′屯流が通電されるようなメモリに対し微
細化を図9、各種配線の線幅を狭くすれば・電流密度の
増大は避けられず、アルミ配線にあっては前記エレクト
ロマイグレーションを生じてしまうという問題がある。
細化を図9、各種配線の線幅を狭くすれば・電流密度の
増大は避けられず、アルミ配線にあっては前記エレクト
ロマイグレーションを生じてしまうという問題がある。
アルミ配線でなくても、そのような過大な電流密度は避
けなければならない。
けなければならない。
発明の目的
上記問題点に鑑み本発明は、特に前記電流密度の増大を
引起し易いワード線に着目し、このワード線での電流密
度を大幅に低減できる半導体記憶装置を提供することを
目的とするものである。
引起し易いワード線に着目し、このワード線での電流密
度を大幅に低減できる半導体記憶装置を提供することを
目的とするものである。
発明の構成
上記目的に従い本発明は、メモリセルアレイ、駆動用電
流源および各ワード線対、ピッド線対を[iK分割して
プロ、り化し、各プロ、りでのワード線電流をその分割
数に反比例して低減せしめるようにしたことを%徴とす
るものである〇発明の実施例 第2図(、)は第1図のメモリを簡略に示す図・第2図
(b)は第2図(、)におけるワード線WL(W+)上
の電流密度分布を示す図である。第2図(a)少よび(
b)から明らかなように、ワード線の電流併給側におけ
る電流密度のピーク値は図示のIyyBucの如く過大
である。
流源および各ワード線対、ピッド線対を[iK分割して
プロ、り化し、各プロ、りでのワード線電流をその分割
数に反比例して低減せしめるようにしたことを%徴とす
るものである〇発明の実施例 第2図(、)は第1図のメモリを簡略に示す図・第2図
(b)は第2図(、)におけるワード線WL(W+)上
の電流密度分布を示す図である。第2図(a)少よび(
b)から明らかなように、ワード線の電流併給側におけ
る電流密度のピーク値は図示のIyyBucの如く過大
である。
第3図(、)は本発明に基づくメモリを簡略に示す図、
第3図(b)は第3図(、)におけるワード線WLI・
WL2上の′電流密度分布を示す図でbる。第3図(、
)に示す如く、本発明では、メモリセルアレイル駆動用
電流源および各ワード線対、ビット線対を複数に分割し
プロ、り化する。このブロック化のための分割数は2以
上であシ、第3図(a) 、 (b)では2分割の場合
を示している。すなわち、既述のワード線対WLは、W
LIとWL2に分割され、既述のメモリセルアレイMC
AはMCAlとMCA2に分割され翫第2図(、)の駆
動用電流源Is(第1図の保持電流源HI、放i!電流
源DI等を総称したもの)はISIとIS2に分割され
る。そして第1のブロックにはワードドライバQwd
1が、第2のブロックにはワードドライバQwd 2が
接続する。これによシ、分割された各ワード線WLI
、WL2は第3図(b)の−流密度分布が現われ、その
ピーク値は約Imax/2と、従来の場合に比し略半減
する〇この場合、ワードドライバQwdZをオン(選択
時)、オフ(非選択時)制御するために、そのペースに
加える信号(制御入力)は、ワード線WLIの他端よシ
与えられるのが好ましい。WL2の選択時には必ずWL
Iも選択時であってそのレベルが“H”になるからであ
る。これによシ、ワードドライバWD2へ特別の制御線
を布線する必要がなくなる。
第3図(b)は第3図(、)におけるワード線WLI・
WL2上の′電流密度分布を示す図でbる。第3図(、
)に示す如く、本発明では、メモリセルアレイル駆動用
電流源および各ワード線対、ビット線対を複数に分割し
プロ、り化する。このブロック化のための分割数は2以
上であシ、第3図(a) 、 (b)では2分割の場合
を示している。すなわち、既述のワード線対WLは、W
LIとWL2に分割され、既述のメモリセルアレイMC
AはMCAlとMCA2に分割され翫第2図(、)の駆
動用電流源Is(第1図の保持電流源HI、放i!電流
源DI等を総称したもの)はISIとIS2に分割され
る。そして第1のブロックにはワードドライバQwd
1が、第2のブロックにはワードドライバQwd 2が
接続する。これによシ、分割された各ワード線WLI
、WL2は第3図(b)の−流密度分布が現われ、その
ピーク値は約Imax/2と、従来の場合に比し略半減
する〇この場合、ワードドライバQwdZをオン(選択
時)、オフ(非選択時)制御するために、そのペースに
加える信号(制御入力)は、ワード線WLIの他端よシ
与えられるのが好ましい。WL2の選択時には必ずWL
Iも選択時であってそのレベルが“H”になるからであ
る。これによシ、ワードドライバWD2へ特別の制御線
を布線する必要がなくなる。
ところで第3図(、)の如く、ワードドライバQwd
2を介在させてワード線対を2分割した場合、ワード線
対WL2の電位はワード線対WLIの電位に対し、該ワ
ードドライバQwd 2のペースエミ、り電圧V□分だ
けレベルダウンする。このため、単に2分割しただけで
はメモリセルアレイMCA2の動作に不都合を生ずる。
2を介在させてワード線対を2分割した場合、ワード線
対WL2の電位はワード線対WLIの電位に対し、該ワ
ードドライバQwd 2のペースエミ、り電圧V□分だ
けレベルダウンする。このため、単に2分割しただけで
はメモリセルアレイMCA2の動作に不都合を生ずる。
このことを説明するために第4図を参照する。第4図は
第1図のメモリセルMCの具体例を示す回路図であシ、
本図において、WL(W+)。
第1図のメモリセルMCの具体例を示す回路図であシ、
本図において、WL(W+)。
WL(W−)、BL、n−Lは既に説明したとおシであ
る。
る。
図示するように各メモリセルMCは、iルテエミッタト
ランジスタQ1およびQ2と、各負荷LlおよびB2を
なす並列接続の抵抗およびシ目ットキーパリャダイオー
ドを含んでなる。今仮にトランジスタQ1がオンしてい
るものとすると(トランジスタQ鵞がオンの場合も同じ
)、このオンを描該ワード線対の選択時において維持す
るためには、ワード線(W+)と七、ト線BLの間の電
圧vwlは所定値以上でなければならない。ここに所定
値VWIは負荷L2の電位降下とトランジスタQlのペ
ースエミ、り電圧の和に等しい。このような所定値以上
の電圧vwBがメモリセルアレイMCA l内の選択メ
モリセルにおいて確保されても、メモリセルアレイMC
A 2内の選択メモリセルでは確保されずvWBに低減
してしまう。ここにVWBはV↓B=vWB−■□であ
h、v□は前述したようにワードドライバQwd 2の
ペースエミッタ電圧である。
ランジスタQ1およびQ2と、各負荷LlおよびB2を
なす並列接続の抵抗およびシ目ットキーパリャダイオー
ドを含んでなる。今仮にトランジスタQ1がオンしてい
るものとすると(トランジスタQ鵞がオンの場合も同じ
)、このオンを描該ワード線対の選択時において維持す
るためには、ワード線(W+)と七、ト線BLの間の電
圧vwlは所定値以上でなければならない。ここに所定
値VWIは負荷L2の電位降下とトランジスタQlのペ
ースエミ、り電圧の和に等しい。このような所定値以上
の電圧vwBがメモリセルアレイMCA l内の選択メ
モリセルにおいて確保されても、メモリセルアレイMC
A 2内の選択メモリセルでは確保されずvWBに低減
してしまう。ここにVWBはV↓B=vWB−■□であ
h、v□は前述したようにワードドライバQwd 2の
ペースエミッタ電圧である。
そうすると・、ピット線BL(BLについても同じ)の
電圧を規定するピットドライバ(後述)の出力電圧が相
対的に上昇し、該ピットドライバに接続するビットドラ
イバトランジスタ(後述)が飽和してしまう。このよう
な飽和状態下では、特に読出し動作が極端に遅くなシ、
実用的なメモリとしての使用に耐えない。そこで、メモ
リセルアレイMCA 21C連係する前記ビットドライ
バ内にレベルシフ)手段4−設ケ、前記電圧VQi+(
=vwi+ Vgg)tV□だけ持ち上げ、メモリセル
アレイMCAl内において確保される前記電圧vwBを
、メモリセルアレイMCAl内においても確保しなけれ
ばならない。
電圧を規定するピットドライバ(後述)の出力電圧が相
対的に上昇し、該ピットドライバに接続するビットドラ
イバトランジスタ(後述)が飽和してしまう。このよう
な飽和状態下では、特に読出し動作が極端に遅くなシ、
実用的なメモリとしての使用に耐えない。そこで、メモ
リセルアレイMCA 21C連係する前記ビットドライ
バ内にレベルシフ)手段4−設ケ、前記電圧VQi+(
=vwi+ Vgg)tV□だけ持ち上げ、メモリセル
アレイMCAl内において確保される前記電圧vwBを
、メモリセルアレイMCAl内においても確保しなけれ
ばならない。
第5図は本発明に基づく半導体記憶装置のさ゛らに詳細
な一例を示す図であル、前述したピットドライバはBD
11〜BD1n 、BD21〜B2nとして示され、前
述したビットドライバトランジスタはQoとして示され
、又前述したレベルシフト手段は、メモリセルアレイM
CA 2に連係するブロック中においてLSとして示さ
れる。なお、本図では2ブロツクの場合を例示し、一点
鎖線で囲まれたB1は第1ブロツク、B2は第2プロ、
りである。前記ビットドライバは二点鎖線で囲まれてお
シ、BDI 1〜BDI n Fi第1ピ、トドライパ
、BD21〜BD2nは薗2ビットドライバである。い
ずれのビ、トドライバも抵抗R,)ランジスタQ1ダイ
オードDおよび定電流回路lからなる。
な一例を示す図であル、前述したピットドライバはBD
11〜BD1n 、BD21〜B2nとして示され、前
述したビットドライバトランジスタはQoとして示され
、又前述したレベルシフト手段は、メモリセルアレイM
CA 2に連係するブロック中においてLSとして示さ
れる。なお、本図では2ブロツクの場合を例示し、一点
鎖線で囲まれたB1は第1ブロツク、B2は第2プロ、
りである。前記ビットドライバは二点鎖線で囲まれてお
シ、BDI 1〜BDI n Fi第1ピ、トドライパ
、BD21〜BD2nは薗2ビットドライバである。い
ずれのビ、トドライバも抵抗R,)ランジスタQ1ダイ
オードDおよび定電流回路lからなる。
既述のように、第2ブロツクB2内のピット線電圧は選
択ワード線電圧に対し前記電圧■WB(vWl ””
VWl −VIE )の電圧差を有しているので、これ
を正規の電圧vw11まで回復するため、レベルシフト
手段LS(図ではダイオードで構成し、v0相当の電圧
分だけピット線篭位を下げる)を設ける。もし第3プロ
、り(図示せず)が第2てロックB2に引続く場合には
、該第320.り内の各ピットドライバには、2つのダ
イオードを直列接続したレベルシフト手段を設ける必要
があるO発明の詳細 な説明したように本発明によれば、ワード線の電流密度
を低減でき、その分その線幅を狭くしてメモリの高集積
化を図ることができる0なお・新たなワードドライバ(
Qwd2 )の挿入はその高集積化にそれ程支障とはな
らない。なぜなら1各ワード線は長尺に亘シ布線される
ものでアシ、長尺に亘シその線幅を半減若しくはこれ以
下にしたことによシ節約されたスペースによって、その
ワードドライバの(Qwd2 )の増分を十分吸収でき
るからである。
択ワード線電圧に対し前記電圧■WB(vWl ””
VWl −VIE )の電圧差を有しているので、これ
を正規の電圧vw11まで回復するため、レベルシフト
手段LS(図ではダイオードで構成し、v0相当の電圧
分だけピット線篭位を下げる)を設ける。もし第3プロ
、り(図示せず)が第2てロックB2に引続く場合には
、該第320.り内の各ピットドライバには、2つのダ
イオードを直列接続したレベルシフト手段を設ける必要
があるO発明の詳細 な説明したように本発明によれば、ワード線の電流密度
を低減でき、その分その線幅を狭くしてメモリの高集積
化を図ることができる0なお・新たなワードドライバ(
Qwd2 )の挿入はその高集積化にそれ程支障とはな
らない。なぜなら1各ワード線は長尺に亘シ布線される
ものでアシ、長尺に亘シその線幅を半減若しくはこれ以
下にしたことによシ節約されたスペースによって、その
ワードドライバの(Qwd2 )の増分を十分吸収でき
るからである。
第1図は一般的な半導体記憶装置の一例を示す回路図、
第2図(、)は第1図のメモリを簡略に示す図、第2図
(b)は第2図(&)におけるワード線WL(W十)上
の′−流密度分布を示す図、第3図(a)は本発明に基
づくメモリを簡略に示す図、第3図(b)は第3図(、
)におけるワード線WLI、WLZ上の電流密度分布を
示す図、第4図は第1図のメモリセルMeの具体例を示
す回J第5図は本発明に基づく半導体記憶装置のさらに
詳細な一例を示す図である。 WL(W+、W )−’7−P線対、WLI、WL2パ
・ワード線、BL、BL、・・ビット線対、Mc・・・
メモリセk、MCA 、 MCAl 、 MCA2−・
・メモリセルアレイ、Qwd r Qwdl 、Qwd
2”’ワードドライバ、I S ・・・駆動用電流源、
BDII 、BDln 、BD21゜BD2n・・・ビ
ットドライバ、LS・・・レベル’y7 )手段O 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 1)幸 男 第3図 (G) (b) 第4図
第2図(、)は第1図のメモリを簡略に示す図、第2図
(b)は第2図(&)におけるワード線WL(W十)上
の′−流密度分布を示す図、第3図(a)は本発明に基
づくメモリを簡略に示す図、第3図(b)は第3図(、
)におけるワード線WLI、WLZ上の電流密度分布を
示す図、第4図は第1図のメモリセルMeの具体例を示
す回J第5図は本発明に基づく半導体記憶装置のさらに
詳細な一例を示す図である。 WL(W+、W )−’7−P線対、WLI、WL2パ
・ワード線、BL、BL、・・ビット線対、Mc・・・
メモリセk、MCA 、 MCAl 、 MCA2−・
・メモリセルアレイ、Qwd r Qwdl 、Qwd
2”’ワードドライバ、I S ・・・駆動用電流源、
BDII 、BDln 、BD21゜BD2n・・・ビ
ットドライバ、LS・・・レベル’y7 )手段O 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 1)幸 男 第3図 (G) (b) 第4図
Claims (1)
- 1、複数のワード線対と、複数のビット線対と、これら
ワード線対およびビット線対の各交点毎に接続されるメ
モリセh手からなるメモリセルアレイと、各該ワード線
対に接続されるワードドライバおよび駆動用電流源と、
各該ビット綜対を駆動するビットドライ・々とを有し、
各前記ワード線対は、各該ワード線対の伸びる方向に沿
って複数に分割され且つ分割された各該ワード線対毎に
前記ワードドライバを設け、ここに分割された各該ワー
ド線対にそれぞれ対応して前記ビット線対、前記ビット
ドライバ、前記メモリセルおよび前記駆動用′電流源を
複数に分割してプロ、り化し、さらに各前記ワードドラ
イバの制御入力を各前段の前記ワード線対から直接受け
るように接続し、該ワードドライバの介在によシ生ずる
前段および後段の各ワード線対間の電圧降下を補償する
ためのレベルシフト手段を前記ビットドライバ内に設け
ることを特徴とする半導体記憶装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58115881A JPS6010492A (ja) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | 半導体記憶装置 |
US06/625,674 US4747083A (en) | 1983-06-29 | 1984-06-28 | Semiconductor memory with segmented word lines |
KR1019840003688A KR910003595B1 (ko) | 1983-06-29 | 1984-06-28 | 세그먼트된 워드라인을 갖춘 반도체 메모리 장치 |
DE8484304379T DE3486082T2 (de) | 1983-06-29 | 1984-06-28 | Halbleiterspeicheranordnung. |
EP84304379A EP0130793B1 (en) | 1983-06-29 | 1984-06-28 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58115881A JPS6010492A (ja) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6010492A true JPS6010492A (ja) | 1985-01-19 |
Family
ID=14673481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58115881A Pending JPS6010492A (ja) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | 半導体記憶装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4747083A (ja) |
EP (1) | EP0130793B1 (ja) |
JP (1) | JPS6010492A (ja) |
KR (1) | KR910003595B1 (ja) |
DE (1) | DE3486082T2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0810556B2 (ja) * | 1986-04-17 | 1996-01-31 | 株式会社日立製作所 | 半導体メモリ回路 |
US4942555A (en) * | 1986-04-17 | 1990-07-17 | Hitachi, Ltd. | Bi-MOS semiconductor memory having high soft error immunity |
JP2629697B2 (ja) * | 1987-03-27 | 1997-07-09 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
US5222047A (en) * | 1987-05-15 | 1993-06-22 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for driving word line in block access memory |
KR930007185B1 (ko) * | 1989-01-13 | 1993-07-31 | 가부시키가이샤 도시바 | 레지스터뱅크회로 |
EP0624844A2 (en) * | 1993-05-11 | 1994-11-17 | International Business Machines Corporation | Fully integrated cache architecture |
US5506816A (en) * | 1994-09-06 | 1996-04-09 | Nvx Corporation | Memory cell array having compact word line arrangement |
US5774413A (en) * | 1996-12-12 | 1998-06-30 | Cypress Semiconductor Corporation | Sensed wordline driver |
KR100268889B1 (ko) * | 1997-10-28 | 2000-10-16 | 김영환 | 반도체 메모리 장치의 워드라인 구동회로 |
US6144610A (en) * | 1999-04-20 | 2000-11-07 | Winbond Electronics Corporation | Distributed circuits to turn off word lines in a memory array |
JP4962828B2 (ja) * | 2004-08-25 | 2012-06-27 | マイクロン テクノロジー, インク. | ワード線ドライバ回路およびこれを利用する方法 |
US8072834B2 (en) * | 2005-08-25 | 2011-12-06 | Cypress Semiconductor Corporation | Line driver circuit and method with standby mode of operation |
US8059458B2 (en) * | 2007-12-31 | 2011-11-15 | Cypress Semiconductor Corporation | 3T high density nvDRAM cell |
US8064255B2 (en) * | 2007-12-31 | 2011-11-22 | Cypress Semiconductor Corporation | Architecture of a nvDRAM array and its sense regime |
US8929120B2 (en) | 2012-08-29 | 2015-01-06 | Micron Technology, Inc. | Diode segmentation in memory |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3695855A (en) * | 1970-01-08 | 1972-10-03 | Ibm | Doped electrical current-carrying conductive material |
JPS5567993A (en) * | 1978-11-14 | 1980-05-22 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory unit |
JPS55150189A (en) * | 1979-05-10 | 1980-11-21 | Nec Corp | Memory circuit |
JPS5637884A (en) * | 1979-08-30 | 1981-04-11 | Fujitsu Ltd | Terminating circuit for word selective signal line of semiconductor memory unit |
JPS56105386A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-21 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory device |
JPS5841596B2 (ja) * | 1980-11-28 | 1983-09-13 | 富士通株式会社 | スタティック型半導体記憶装置 |
JPS57133586A (en) * | 1981-02-06 | 1982-08-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Semiconductor storage circuit |
JPS57176590A (en) * | 1981-04-21 | 1982-10-29 | Ricoh Co Ltd | Memory device |
JPS5894187A (ja) * | 1981-11-28 | 1983-06-04 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
-
1983
- 1983-06-29 JP JP58115881A patent/JPS6010492A/ja active Pending
-
1984
- 1984-06-28 KR KR1019840003688A patent/KR910003595B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1984-06-28 EP EP84304379A patent/EP0130793B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-06-28 US US06/625,674 patent/US4747083A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-06-28 DE DE8484304379T patent/DE3486082T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3486082T2 (de) | 1993-06-09 |
EP0130793B1 (en) | 1993-03-03 |
KR910003595B1 (ko) | 1991-06-07 |
US4747083A (en) | 1988-05-24 |
KR850000126A (ko) | 1985-02-25 |
EP0130793A2 (en) | 1985-01-09 |
EP0130793A3 (en) | 1987-09-30 |
DE3486082D1 (de) | 1993-04-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6010492A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US6798711B2 (en) | Memory with address management | |
US7489001B2 (en) | Magnetic thin-film memory device for quick and stable reading data | |
JP3674874B2 (ja) | 半導体集積回路のワード線昇圧回路及びその制御回路 | |
US4543647A (en) | Electrically programmable non-volatile semiconductor memory device | |
US4587639A (en) | Static semiconductor memory device incorporating redundancy memory cells | |
US6584006B2 (en) | MRAM bit line word line architecture | |
US5982701A (en) | Semiconductor memory device with reduced inter-band tunnel current | |
US6229755B1 (en) | Wordline driving apparatus in semiconductor memory devices | |
EP0054853A2 (en) | Semiconductor memory device | |
US4618944A (en) | Semiconductor memory having word line discharge current controller | |
JPS62262295A (ja) | ランダム・アクセス・メモリ | |
JPS61217994A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US5822238A (en) | Semiconductor memory | |
US5337287A (en) | Dual port semiconductor memory device | |
JPH02503370A (ja) | ゲートアレーデバイス上のcmos‐ramメモリ | |
JPS6116094A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2988525B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2696087B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
EP0388119A2 (en) | Bipolar random acces memory | |
JPH04252491A (ja) | 半導体メモリ | |
JPH0863968A (ja) | Sram装置 | |
JP2736249B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH06314493A (ja) | スタティクランダムアクセスメモリ | |
JPS59221888A (ja) | 半導体記憶装置 |