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JPS59219751A - 記録材料のマツト化方法 - Google Patents

記録材料のマツト化方法

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Publication number
JPS59219751A
JPS59219751A JP9464183A JP9464183A JPS59219751A JP S59219751 A JPS59219751 A JP S59219751A JP 9464183 A JP9464183 A JP 9464183A JP 9464183 A JP9464183 A JP 9464183A JP S59219751 A JPS59219751 A JP S59219751A
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JP
Japan
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solvent
matting
recording material
coating
resin
Prior art date
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Granted
Application number
JP9464183A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0418297B2 (ja
Inventor
Akira Nishioka
明 西岡
Yuzo Inukai
祐蔵 犬飼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP9464183A priority Critical patent/JPS59219751A/ja
Publication of JPS59219751A publication Critical patent/JPS59219751A/ja
Publication of JPH0418297B2 publication Critical patent/JPH0418297B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/115Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、記録材料の表面及び/または裏面をマット化
する方法に関するものである。
従来、記録材料の製造に関する技術は多岐多様にわたり
、その一つに写真感光材料の表面や裏面をマット化して
静電気の帯電防止、写真感光材料同志の接着防止、真空
密着性の向上などをはかることが行なわれている。その
例として、従来写真感光材料に画像を形成させるに際し
て露光工程において感光材料にフィルム原板を重ね、そ
のフィルム原板を通して露光する場合に、より鮮明な画
像をつくるために感光材料の感光層の表面と欧ねたフィ
ルム原板を完全に密着させて両者間の空隙による露光画
像のボケが生じないようにして露光することが必要であ
る。そのため、一般には真空焼枠を用いて焼枠のガラス
板とゴムシートとの間に写真感光材料及びフィルム原板
を重ねて配置し、ガラス板とゴムシートとの間を真空に
して両者を密着させる方法(以下、この方法を真空密着
法という。)が行なわれているが、特開昭si−/i/
、102号参報に記載されているごとく、感光層上に塗
布部分と非塗布部分からなる微小・gターンを設けるこ
とにより感光層をマット化して真空密着時間を著しく短
縮することが考えられ、実施された。この写真感光層へ
の微小パターンの形成(マット化)には、たとえば特開
昭!/−9’A40弘号公報や特開照号公報タgjOj
号、特開昭!Fj−/2り7φ号等の公報に記載されて
いる方法がある。近年、写真感光材料の中でもその支持
体の両面に各々感光層が設けられたいわゆる両面タイプ
のものが著しく普及しておシ、このような写真感光材料
の場合、たとえば特開昭31−タt6ov号公報に記載
されているごとく、グラビア塗布方法により両方の感光
層表面に微小、(ターンを設けようとすると、まず一方
の面に微小)ξターンを塗布し乾燥してから、他方の面
に微小パターンを塗布して乾燥させなければならず、こ
の一連の装置としては、かなり大がかすなものとなって
しまい、しかも上記の方法で設けられた裏面の微小パタ
ーンの塗布部分は所望のサイズに裁断されるまでの工程
でしばしば搬送用ローラーで擦られて剥れたシ潰れたり
することがあり、裏面の感光層へ画像露光を行なう場合
の真空密着時間は表面の場合と比べて長くなってしまう
欠点があった。
また、露光する工程においても後から露光される裏面側
の微小パターンの塗布部分が表側の真空引き露光の際に
プリンターに圧着されてつぶされ裏面側露光時に真空引
き時間が長くかかるという問題があった。また、特開昭
jl−タrso夕号公報には、真空密着性を改善するだ
めの塗布層がフィルム原画を汚すことを解決するため、
離型性を有するワックス状又は微粉末樹脂を低沸点M機
溶媒に分散してエアースプレー、で塗布する方法が示さ
れているが、この塗布層は感光性印刷版の表面への接着
力が弱い為に脱落し易く、やはり前記のような問題点が
あった。しかも有機溶剤を使用することは製造時の安全
上好ましくない。更に、特開昭夕t−/2り7≠公報に
は固体粉末を薄布して熱によって感光性印刷版の上に固
着する方法が開示されているが、両面タイプの感光性印
刷版の場合は熱融着後、冷却されるまでにローラ搬送さ
れるとき、片面側のマット層がつぶれてしまうという問
題があり、一方ローラを使用しないで搬送することは、
ハンドリング上困難である。また粉末を作るために、樹
脂を粉砕して分散しなければならずコスト高となる欠点
もあった。更に特開昭!1t−10/りri号公報には
固体粉末を連続走行する感光性印刷版べ面に均一分散付
着させる方法が開示されているが、加圧空気供給装置、
粉体供給装置、エジェクター、ディストリビュータ−、
サイクロン等が必要であり、その装置はかなシ複雑で大
がかりとなってしまう。しかも両面タイプの感光性印刷
版の場合、固体粉末を同時に付着させた後、感光性印刷
版を搬送する時、固体粉末が脱落しやすいという欠点が
めった。
これらの問題点を解決するために特開昭!7−3171
1g号公報には支持体上に感光層ヲ有する感光性印刷版
の表面に、樹脂を溶解または分散させた水性液をスプレ
ーし、乾燥してなる方法が開示されている。この方法に
おいてはマットの性能は非常に良好であるが、製造適性
の面で難点紮含んでいる。つまシェアースプレーを使用
した場合、微細な液滴の付着率が非常に低い(約10%
)ため、付着しなかった液滴はオーバースプレーとして
塗布室内を汚し、極端な場合は塗布を行なっているプレ
ートに不必要な樹脂のかたまりとして付いてしまう結果
となる。このオーバースプレーを減少するため静電塗装
方式が考えられる(付着率約り0%以上)。
しかしながら水性液を静電塗装方式で塗布した場合次の
ような問題がある。まず、静電塗装方式の場合、静電的
に微細な液滴が付着するため、被塗布物表面と強く接触
できないもの、たとえば特に微霧化されてから付着する
までに乾燥してしまうような非常に小さな微粒子は接触
面積が小さく付着力が弱く、極端には表面に静電的に付
着しているにすぎないものとなってしまう。その結果ロ
ール等に接触させながら感光材料を搬送するとやはり前
述の方法にあった問題と同じく、付着した粒子が脱落し
て所望の真空密着時間の短縮化が達成されず、まヘフイ
ルム原画や搬送ローラを汚してしまう結果となる。さら
にまたベル型、ディスク型においては、ベルまたはディ
スク上での薄膜の液流の悪いところでは水性液が乾燥し
、樹脂が析出する結果となり、微霧化を阻害したシ、析
出した樹脂が被塗物に付着したりする。
これらは写真感光材料の真空密着性の向上の例であるが
、写真感光材料のマット化は、その他静電気帯藏防止、
写真感光材料どうしの粘着、接着防止のために施されて
おり、マット化する部分も感光層の表面に限られず、そ
の裏面に対してもマット化が施されることがある。これ
らの目的のために行なわれるマット化においても、上述
の真空密着性の向上のための場合と同様な問題があった
磁気記録材料に対しても、マット化させることが必要な
場合がある。近年磁気記録テープは、紀しく平滑化する
傾向にある。そのため磁気テープを磁気記録/再生装置
において挟圧ローラーによシ走行操作させる場合に、そ
の走行性が低下しているという問題が生じている。そこ
でテープの走行性の低下を抑えるため、この磁気テープ
の裏面にマットを設けるのである。さらに磁気シートな
どの場合には、将来は多数枚を重ねて取扱う装置の出現
が考えられ、その場合には重ねられた磁気シート相互間
の接着性あるいは静電気の発生などによるくっつきを防
止するため、その裏面にマットを層を設けることは有効
である。
本発明者らは、マット化の手段として静准塗装の技術を
改良し、これを応用して上述したような従来の方法にあ
った問題点を解決し、また新たな手段を開発すべく検討
し、本発明を見出した。
本発明の目的は、樹脂を溶解または分散させた塗布液の
微細な液滴を静磁的に飛翔させて記録材料の表面又は裏
面に付着させてマット化する方法において、形成したマ
ット粒子が記録材料の取扱い中に脱落することがないよ
うに強固に付着させる方法を提供することにある。
本発明の目的は、樹脂を溶解または分散させた塗布液の
微細な液滴を静V区的に飛翔させて記録材料の表面また
は裏面に付着させてマット化する方法において、噴霧頭
内での樹脂の析出ケ防止し、長時間安定に製造する方法
を提供することにある。
本発明の他の目的は、静磁的に微細な液滴を飛翔させて
付着させることと、塗布液に沸点1300C以上の溶剤
を含有させることにより、付着した液滴から形成するマ
ット粒子の高さと形状を制御することができ、しかも連
続的に行なうことができる記録材料マット化方法f:提
供することにある。
本発明は、上述したごとき諸口的を達成するものであっ
て、その構成は記録材料の表面及び/または裏面に樹脂
を溶解または分散させた塗Xa液の微細な数滴を静電気
的に付着乾燥させて該面をマット化する方法において、
上記塗布液が沸点1300C以上の溶剤を含有すること
を特徴とする方法である。
以下本発明の詳細な説明する。
まず、本発明における記録材料は、基本的には支持体上
に記録層が設けられたものであり、記録層としては写真
感光層や磁気記録層あるいはその他種々の記録層があり
、記録材料の目的や用途により各種のものがある。たと
えば写真感光層を備えた記録材料としては、一般写真感
光材料や、マイクロ写真感光材料、放射線感光材料、印
刷用写真感光材料、科学用写真感光材料、印画紙、熱現
像性感光材料など多くの例があり、レーザービームに感
応するレーザー記録材料、さらに磁気記録層を備えた磁
気記録テープ、磁気記録フィルム、などきわめて多くの
例を掲げることができる。後述するように本発明の技術
思想の根本は対象物の表面に微細なマットを設けること
にあるから、有用な対象物として具体的には記録材料が
特定されているが、少なくとも記録材料に種類全問わな
いのは当然である。換言すれば、微細なマットを設ける
ということは、あらゆる材料の表面を対象としうるが、
本発明を適用して、最も有効な対象物の例は、記録材料
であるといえるので本発明の対象f:記録材料に限足し
、発明を明確にしたものである。
本発明の記録材料における支持体は、仕置的に安定な面
ケ有するものであり、その形態としては感光材料の場合
にはその取扱い上の便利さから好適にはシート状や板状
であり、磁気記録材料の場合などはテープ状又はシート
状であって、記録材料の実用上、あるいは用いられる機
器によって適宜好ましい形態のものが選ばれる。そして
支持体の素材としては紙;たとえばポリエチレンやポリ
プロピレン、ポリスチレンなどの熱熔融性プラスチック
を被覆積層した紙、アルミニュウム、各種のアルミニウ
ム合金、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、たとえば
、二酢酸セルロース、酪ばセルローズ、師酸酪酸セルロ
ーズ、プロピオン咳セルロース、三酢酸セルローズ、硝
酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネット、ポリビニルアセタールなど
のようなプラスチックのフィルム;前述のごとき金属が
積層あるいは蒸着により被覆された紙もしくはプラスチ
ックフィルムなどが含まれる。支持体の素材も記録材料
の目的、用途から適宜選択される。
また記録材料の記録層としては、たとえば写真感光材料
の感光層としては、ノ・ロゲン化銀−ゼラチン乳剤感光
層、ジアゾ樹脂感光層、感光性樹脂感光層、その他公知
のものが多数知られており、本発明の写真感光材料の感
光層として利用される。
レーザー記録材料や磁気記録材料の場合も同様であり、
それらの記録材料の他の構成、素材、製造加工、さらに
各々の記録プロセスや用途などについては公知技術を利
用すればよく、ここに詳細な説明を必要としないと思わ
れる。
本発明は上述した記録材料の表面及び/または裏面をマ
ット化する方法であシ、そのため所望の面に樹脂を溶解
、または分散させた沸点7300C以上の溶剤を含有さ
せた塗布液の微細な腋部を静電的に付着させその後乾燥
させるのである。かかる塗布液としては、記録材料の表
面又は裏面に好ましくは静電気的に均一に分散された状
態で付着するものであるとよい。そのため、写真感光材
料、レーザー記録材料などの場合、塗布液の樹脂として
は、たとえば特開昭17−311kjt号公報に記載さ
れているような、アクリル酸エステルとアクリル酸また
はメタクリル酸の共重合体;スチレン、アクリル酸エス
テル、アクリル酸又はメタクリル酸の共重合体;アクリ
ル酸エステル、スチレン、アクリロニトリルなどとアク
リル酸又はメタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸など
の共重合体;ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルぎロリドンなどのビニル系ポリマーなどがあ
バこれらの樹脂を適宜選択し、従来周知の方法により、
沸点13000以上の溶剤を含有する塗布液に溶解せし
めあるいは分散させる。沸点13θ0C未満の溶剤では
本発明の効果が不十分である。
この場合沸点13000以上の溶剤だけでは後の乾燥が
高温度で長時間必要とし、時には記録材料に悪影響をお
よぼすことになるため/3θ0C以下の低・中沸点溶剤
を併用することが好ましく、中でも安全性、記録材料へ
の影響、溶解または分散性等から水を添加するのがより
好ましい。
塗布液が水を含む水性液の場合、沸点130′C以上の
溶剤は水に可溶な溶剤が好ましく、その添加量は塗布液
中の!〜vO重量%が好ましい。高沸点溶剤が5重量%
より少なくなると、水を併用することによる効果が十分
に発揮されなくlヨリ、他方ψ0重量%より多くなると
乾燥の負荷が大きくなり、かつ後乾燥が不十分となりや
すい。
沸点/30°C以上の水に可溶な浴剤としてはたとえば エチレングリコール (沸点:lり7.Ij 0C) エチレンクリコールモノメチルニー 7− /l/アセ
テート  (同 :lψj、7 0C)エチレンクリコ
ールモノエチルエーテル(同:/J!、f’c) エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート  
(同 :Ijt、I  0C)エチレングリコールモノ
ジチルエーテル(沸点:/7/、2°C) エチレングリコールイソアミルエーテル(同:1I10
C’) メトキシメトキシエタノール (同:/l、q、50c) エチレングリコールモノアセテート (同’、it2°C) エチレングリコールジアセテート (同 ニア90.2 °C) ジエチレングリコール (同:21φ、33°C) ジエチレングリコールモノメチルエーテル(1司 :/
’i’!、コ’C) ジエチレングリコールモノエチルエーテル(同 =20
1.り’C) ジエチレンクリコール七ノエチルエーテルアセテート 
 (同 :、2/7.≠0c)ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル(同=230.ψ0q) ジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:/A2
 °C) ジエチレングリコールメチルエチルエーテル     
(同 :/4cJ−’C)ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル(同’、igg、≠’C) ジエチレングリコールアセテート (同’、2j00C) トリエチレングリコール d同 :27g、J/’C) トリエチレングリコールモノメチルエーテル     
(同 :2≠り0c) トリエチレングリコールモノエチルエーテル     
(同 : 233 、り’c)テトラエチレンクリコー
ル (同:J27.joC) プロピレングリコール (同:lj1.2°C) プロピレングリコールモノエチルエーテル(同:132
.2°C) l−ブトキシエトキシゾロノミノール (沸点:2.2P、l’c) ジプロピレングリコール (同:x3t、l0C) シフロヒンングリコール七ツメチルエーテル     
(同 二/デ00C) シフ口ぎレンゲリコールモノエチルエーテル     
(同 :/り7.ざ0c))、 り f oピレングリ
コールモノメチルエーテル    (同 :2≠3 °
C)トリメチレングリコール (同=27O〜2//℃) ブタンジオール (同 :207.lI’c)/、!−
べ/クンジオール (同:、2≠λ、roc) ヘキシレングリコール (同 二lり7.7c′C) グリセリン   (同 :2りo、o’c’)グリセリ
ンアセテート (同:ljざ’c ) グリセリンジアセテート (沸点:2jり〜コ4/’C) な′どが上げられる。
水性液の調製法の例として、たとえば前記の共重合体は
通常のラテックスの合成法と同様にして、原料のモノマ
ーを界面活性剤で水中に乳化しておき、過硫酸カリウム
などの重合開始剤を用いて乳化重合された水性分散物と
してもよく、またアクリル酸、メタクリル酸、→レイン
酸、イタコン酸などの一部をナトリウム塩、カリウム塩
、又はアンモニウム塩として共重合体の水溶液とするこ
とでもよく−これらの水性液に沸点130°C以上の水
に可溶な溶剤を添加して塗布液とすることができる。
これらの塗布液には感光層や付着した液滴に影響を及ぼ
さない、他の水溶性物質や微細な粒子の無機物質の粉末
、重合体の粉末などの充填剤を含んでいてもよい。
また、磁気記録テープの裏面に設けられるマットの場合
は、水性液の樹脂としては、塩化ビニリデンとアクリル
酸エステルあるいは、アクリル酸などとの共重合物のラ
テックス、塩化ビニルと酢酸ヒニル、スチレン等の共重
合物のラテックス、スチレン−シタジエン共重合物のラ
テックス、無水マレイン酸とアクリル酸エステルの水溶
性ポリマー、などがあり、そのほかカーボンブラックや
コロイダルシリカなどの無機粉末の充填剤、さらに脂肪
酸や脂肪酸エステル、油脂類などの乳化物又は塩類を潤
滑剤として添加した水性液に沸点1300(:以上の水
に可溶な溶剤を添加して塗布液とすることができる。
水性液における樹脂の濃度はいずれも好ましくはj−3
0重量%程度である。
上述した水性液は、通常はその液滴を靜′亀的に付着さ
せる工程あるいは装置において微細な液滴にされる。か
かる工程又は装置としては、従来実施されあるいは知ら
れている静電エアスプレー法、静電エアレススプレー法
、回転霧化式静電塗装法、特公昭!j−217φθ号公
報記載のような静電塗装法などの方法及び各方法による
装置があり、いずれも基本的には塗布液を微細な粒子に
すると共に静電的に荷電して、電極と被着表面との間の
電界を利用して水性液の微細な液滴を静電的に被着表面
に付着させるのである。
本発明の実施に好適な方式の一つは回転霧化式静電塗装
法である。この方式については、多くの文献に詳細に説
明されているが、さらにその後幾多の点で改良されたも
のが知られている。この方式の装置によれば、毎分io
、ooo−to、000回転するカップ状噴霧頭の後部
内周面に水性液をたとえば!〜/、000cc1分で連
続的に供給し、該噴霧頭内の水性液を回転による遠心力
によシその内周面にて薄膜状となし、前記供給と共にこ
の薄膜をカップ状面に流して該噴霧頭の先端からその遠
心力と共に−jθ〜−ハz o K Vの電圧が印加さ
れた核先端部の静電作用により放出霧化し、回転カツゾ
噴霧頭と記録材料の表面との間に形成された高電界の作
用により、霧化されかつ帯電された微細な液滴を記録材
料の表面に飛翔せしめ付着させるのである。
本発明の最も特徴とするところは、上述のごとく塗布液
に沸点1300C以上の溶剤を含有させ、その液滴を静
電気的に付着させることである。沸点1300C以上の
溶剤を含まない場合、帯電−霧化された微細な液滴は記
録材料の表面に飛翔する間に、乾燥し、初期の濃度より
濃厚な液滴となり非常に微細な液滴の場合には乾燥した
樹脂の微粉末となってしまう。したがって記録材料表面
に付着した場合、液滴が濡れ拡がりに<<、接する面積
が小さくなるため脱落しやすく、乾燥した微粉末となっ
た場合は球状の微粉末、が静電気的に付着しているにす
ぎなくなってしまう。このような現象を防止するため沸
点/300C以上の溶剤を添加する。高沸点溶剤の添加
により記録材料への飛翔によっても完全に乾燥すること
なく、記録材料表面への濡れ拡がりを容易にし、強固に
固着したマットを形成することが出来る。この高沸点溶
剤はマット形成後の乾燥工程により製品性能に問題のな
いレベルまで減少することが出来る。
本発明の他の効果としては、前述の回転霧化式静電塗装
法において、回転するカップ状噴霧頭内での薄膜状塗布
液の流れが部分的に悪くなりやすく、長時間連続運転に
より樹脂が乾燥析出し#霧化を阻害する結果となってし
まうが、高沸点溶剤を添加することによシ乾燥−析出を
おさえ長時間安定した製造が可能となることである。
本発明の工程において、塗布液中の樹脂と高沸点溶剤の
濃度、微霧化した液滴の大きさ、記録材料の表面温度、
記録材料の走行速度、該表面に液滴を付着してから乾燥
までの時間などが形成されるマットの形態に影響を与え
る。これらの種々の条件を変更することにより任意に乾
燥された後のマットの高さをコントロールすることが出
来る。
以上のごとくして沸点/300C以上の溶剤を含有する
塗布液の微細液滴を付着させた記録材料は乾燥させられ
、該液滴の固型分はその表面に強固に接着されてマット
となる。
添加した高沸点溶剤はこのとき製品の性能に悪影響をお
よほさない程度まで減少される。乾燥及びその条件は、
従来当業界で周知の技術を利用すればよく、たとえば記
録材料に温風を吹きつけたり、高温低湿度の室に通した
υ、赤外線ヒーターなどにより乾燥することができる。
乾固したマットは、記録材料の表面に点在し、写真感光
材料の場合はその塗布量は0,3(77m  以下、好
ましくはθ、ljf/m2以F1分布量は1〜/θθθ
個/ nt Hl 2、好ましくは、t−t o o4
(57mm 2程度の範囲にあり、個々のマット粒子に
ついては高さQ、夕〜20μ、大きさ〔径〕7〜コθO
μ程度の範囲にあることが好ましい。
塗布量が0,3f/nt2以上である場合、後乾燥によ
って高沸点溶剤を除去するのが困難となる。
また写真感光材料以外の場合は、分布量はlθ〜jθθ
個/mm2、マット粒子の高さはO0θ3〜1.jμ、
マット粒子の径は10〜10θθμ程度である。
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。
実施例 1 ノ琲さo−,2≠nl 1)tのアルミニウム板の両面
を、水懸濁液を用いて砂目立てし、よく水で洗滌した。
この板を70°Cの第三9ん酸ソーダー水溶液(3%)
に3分間浸漬した後、水洗し、乾燥した。
この支持体に特公昭φJ−21403号公報に記載され
ているアセトンとピロガロールの縮重合によシ得られる
ポリヒドロキシフェニルのナフトキノン−7,コーシア
ジドー!−スルホン酸エステル/重量部とノボラック型
フェノールホルムアルデヒド樹脂2重量部を20重量部
の2−メトギシエチルアセテートと20重量部のメチル
エチルケトンに溶解して感光液を調製し、上記支持体の
片側ずつに順次塗布乾燥し、後述のようにスプレーでマ
ットをつけて両面タイプの感光性平版印刷版を作製した
。このようにして作成した印刷版をloo3mmxrθ
θmmの大きさに裁断して参政とり各々試料A、B、C
,Dとした。
これら各試料の塗布液組成は第1表に示す。
これらの塗布液にカップ状回転霧化頭を有する静電塗装
装置により次の条件にて塗布した。
水性塗料の送g量 毎分!θミリリットル 静電塗装ヘッドへの印加電圧 一タθキロボルト 霧化頭回転数 毎分30,000回転 塗布された上記塗布液の微細液滴を乾燥せしめた。塗布
後乾燥室までの時間はいずれも約3秒であり、試料A、
Bはtθ 0(15湿度IO%の雰囲気中5秒間、試料
CXDは/、2(170cの乾燥熱風の試料の場合も0
.oA9/m2で、jθ〜10O1固/mm 20分布
をなし、高さは約2〜6μ、径は約10−10μであっ
た。
以上の・りとくして作成した試料について搬送ロールと
接触させた時の搬送用ロールの汚れとフィルム原板(!
!θtnmxtsomm)と重ね合せて真空密着プリン
ターで真空密着させた時の真空密着時間、真空密着後の
フィルム原板の汚れ及びベルでの樹脂の析出状態を調べ
た。
その結果を第2表に示した。
従来の塗布液を使用したAでは搬送ローラーの汚れ、フ
ィルム原板の汚れが悪く、またマットがとれやすいため
裏面の真空密着性が劣ってしまう。
また塗布ベル内での析出が撤しく、1時間で不良マット
が発生し>製造を停止してベルを洗浄する必要があった
。これに対して溶剤を添加したものでは、イソゾロビル
アルコールでは全く効果はなく、エチレンクリコールモ
ノメチルエーテル(沸点12≠、≠0C)では効果は認
められるものの不十分であることがわかる。
本発明による試料りはベルでの樹脂の析出、搬送ローラ
ー・フィルム原板の汚れも発生せず長時間連続運転も可
能であった。さらにまた真空密着時間も安定しているこ
とが認められた。
実施例 2 実施例1の試料りにおける両面タイプの感光性平版印刷
版を片面タイプにし、同様のテストを実施した。実施例
1の試料りの表面と同様な真空密着性を示し、搬送ロー
ルの汚れ、フィルム原板の汚れも観察されなかった。
実施例 3 実施例/の試料りにおける両面タイプの感光性平版印刷
版の片面に対し、実施例1の試料りにおいてカップ状回
転霧化頭の代シにディスクを用いて毎分≠、000回転
で塗布を行なった結果、実施例1の試料りと同様の良好
な結果を得た。
実施例 4 スチレン−ブタジェン共重合物ラテックス“NIPOL
−LX−2゜≠”(日本ゼオン■製)、コロイダルシリ
カ“スノーテックス OL”(日量化学■製)、ステア
リン酸ソーダ(1級試薬)をそれぞれ固形分としてj、
/およびλ重醍部、メトキシメトキシエタノール(沸点
/z7゜z (l c >をtt量部、残#)Ir7重
量部が水として調合した合成樹脂の水分散液をつくり、
上記の実施例と同様にして長時間録画用VH8型磁気テ
ープの裏面に塗布し、マットを形成させた。マットの形
態は径が10,1.0μ、高さ□、03〜0゜3μ、マ
ットの分布量は1o−to個/ m m 2でめった。
この試料と、マットをつけ女い同種の磁気テープとをビ
デオテープレコーダーにかけてテープのくり出し状態や
走行状態を調べたところ、本実施例の試料は良好な結果
を示したが比較試料のテープはやや劣るとの結果が出た
。またマットの付着状態も良好で数回の走行テストでも
脱落することは全くなかった。
以上詳細に説明した本発明は種々の記録材料の表面や裏
面に対し微細な液滴とした水性gを静電的に付着させこ
れを乾燥させることによってマットを形成させる場合に
適用させる。すなわち各種の記録材料の真空密着性向上
、相互の粘着性や接層性の防止、あるいは帯電防止、さ
らには簗記性の付与、テープ状記録材料のカセット内の
走行性の向上、磁気フィルムのくつつき防止など種々の
目的を達成することができる。そして本発明によれば、
記録材料に対し、微細なマットを均一に分布させて設け
ることが可能であり、しかも記録材料に付着したマット
はきわめて強固に付着して容易に脱落することはない。
従って写真感光材料の場合などでも本来の写真特性を損
うことなく網点の再現性もよい。
また上述したごとき種々の目的用途に応じ、マットの焉
さを適宜調節することができる方法であシ、さらにそれ
に伴なってマット化の実施に2いて、従来方法よシ簡易
な設備で安定に製造が可能である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l)記録材料の表面及び/または裏面に、樹脂を溶解ま
    たは分、散させた塗布液の微細な液滴を静電的に付着・
    乾燥させて該表面及び/または裏面をマット化する方法
    において、上記塗布液が沸点/300C以上の溶剤を含
    有することを特徴とする上記方法。 2)該溶剤を!重量−以上含有することを特徴とする特
    許請求範囲第1項記載のマット化する方法。 3)該塗布液が沸点/300C以上の水に可溶な溶剤を
    3−4AO重量係含有する水性液であることを特徴とす
    る特許請求範囲第1項記載のマット化する方法。 4L)記録材料が感光性平版印刷版であることを特徴と
    する特許請求範囲第1項記載のマット化する方法。 j)マットの塗布量がo、3y/m2以下、高さが0.
    1−.20μ、大きさく径)が/−200μ、分布量が
    /−1000個/mm2であるようなマット化をするこ
    とを特徴とする特許請求範囲第1項記載のマット化する
    方法。
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