JPS58102179A - X線分光法 - Google Patents
X線分光法Info
- Publication number
- JPS58102179A JPS58102179A JP56201384A JP20138481A JPS58102179A JP S58102179 A JPS58102179 A JP S58102179A JP 56201384 A JP56201384 A JP 56201384A JP 20138481 A JP20138481 A JP 20138481A JP S58102179 A JPS58102179 A JP S58102179A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoelectrons
- kinetic energy
- ray
- foil
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/227—Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はxsi、特に波長約itt%以下の軟X線の波
長と強度を簡単に測定できるX線分光法に関する。
長と強度を簡単に測定できるX線分光法に関する。
従来のX線分光法は、■半導体検出器を用いるもの、(
す(ロ)折結晶(又は回折格子)を用いるものに大別さ
れ、ざらに■は■回折結晶(又は回折格子)をa−ラン
ド円周上を移動させつつ計るもの、@1同折結晶(又は
回折格子)の置かれたり一うンド円と同一のローランド
円周上にXiIフィルムを設置するものに分けられる。
す(ロ)折結晶(又は回折格子)を用いるものに大別さ
れ、ざらに■は■回折結晶(又は回折格子)をa−ラン
ド円周上を移動させつつ計るもの、@1同折結晶(又は
回折格子)の置かれたり一うンド円と同一のローランド
円周上にXiIフィルムを設置するものに分けられる。
ところで、これらのX線分光法のうち、■は半導体検出
器の応答速度の点で7p@eC以下の短いパルスX線の
分光に不適当であるほか、波長ioム以上の軟X線の検
出・分光ができない欠点がある。また■のΦはパルスX
@の分光にはきわめて長時間な要゛シ、実用的でない。
器の応答速度の点で7p@eC以下の短いパルスX線の
分光に不適当であるほか、波長ioム以上の軟X線の検
出・分光ができない欠点がある。また■のΦはパルスX
@の分光にはきわめて長時間な要゛シ、実用的でない。
また更に(慕)の@はX線の波長が長くなるに従って回
折結晶(又は回折格子)の焦点が伸るために装置が大形
化する欠点がある。
折結晶(又は回折格子)の焦点が伸るために装置が大形
化する欠点がある。
本発明は上記の事情に鑑み、パルス放射のX@。
連続放射のXsを問わずに測定が可能であり、かつ使用
する装置の小形化を計ることのできるX@分分光法提供
するもので、ベリリウム箔にXiIを照射し、箔の背面
より放出する光電子の運動エネルギーおよび量を測定す
ることにより波長域///ム以下の軟X線についてX線
の波長ならびに強度を測定することを特徴とTるもので
ある・以下、本発明を図面を参照して詳細に説明する。
する装置の小形化を計ることのできるX@分分光法提供
するもので、ベリリウム箔にXiIを照射し、箔の背面
より放出する光電子の運動エネルギーおよび量を測定す
ることにより波長域///ム以下の軟X線についてX線
の波長ならびに強度を測定することを特徴とTるもので
ある・以下、本発明を図面を参照して詳細に説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す図であって、この図に
おいてlは分光すべきXll、 mはペリリラム箔、8
・はベリリウム箔から放出される光電子、4は光電子の
運動エネルギー弁別器、5は上記の部品をおさめた真空
容器である。
おいてlは分光すべきXll、 mはペリリラム箔、8
・はベリリウム箔から放出される光電子、4は光電子の
運動エネルギー弁別器、5は上記の部品をおさめた真空
容器である。
この図において1XIIlil!lの照射をうけたベリ
リウム箔2の内部には光電子が発生し、この光電子は表
面に向って移動し、遂には表面から真空中に発生したも
のは箔の背面から放出する。これが図中8で示す光電子
である。
リウム箔2の内部には光電子が発生し、この光電子は表
面に向って移動し、遂には表面から真空中に発生したも
のは箔の背面から放出する。これが図中8で示す光電子
である。
通常ベリリウムのに軌道電子は/ / /、 t e
Vの結合エネルギーで原子核と結合して安定状態を保拳 っているが、振動f#vのX線の照射をうけとると励起
されて by−///、6 (=Mk)elf)運動エ
ネルギーを持った光電子となって真空中にとび出して来
る。XIIが種々の伽勤数を含んでいるとそれに応じて
光電子の運動エネルギーBkもさまざまな値をとる。そ
こで光電子8を運動エネルギー弁別器4に導いて運動エ
ネルギーを測定し、同時に光電子の量を測定すれば、X
線波長に対応した運動エネルギー、光度に対応した光電
子量として第一図に示すようなスペクトルが得られる。
Vの結合エネルギーで原子核と結合して安定状態を保拳 っているが、振動f#vのX線の照射をうけとると励起
されて by−///、6 (=Mk)elf)運動エ
ネルギーを持った光電子となって真空中にとび出して来
る。XIIが種々の伽勤数を含んでいるとそれに応じて
光電子の運動エネルギーBkもさまざまな値をとる。そ
こで光電子8を運動エネルギー弁別器4に導いて運動エ
ネルギーを測定し、同時に光電子の量を測定すれば、X
線波長に対応した運動エネルギー、光度に対応した光電
子量として第一図に示すようなスペクトルが得られる。
これによりXIIの分光光度が測定できざ;なお、これ
らの測定は空気によるX@の吸収、光電子の散乱を防止
するために真空客器すの中で行われる。
らの測定は空気によるX@の吸収、光電子の散乱を防止
するために真空客器すの中で行われる。
この測定に際し、運動エネルギー弁別器として写真フィ
ルムタイプのものを用いれば、Xll1が知いパルスの
場合にも分光が可能である@なおX線がhν>///、
4eVの条件を満す場合、つまりlllll上の波長域
では光電子は極端に減衰するので、この方法の可測定波
長域はlllll下である〇 以上説明したように、本発明は光電子の運動エネルギー
および量を測定することによりX@の分光を行う。この
本発明によれば、パルス放射のX線、連続放射のXl1
lを問わずに軟XIIの分光光度の測定を行うことが可
能である。また箔を用いてX@エネルギーを光電子運動
エネルギーに変換するため、エネルギーの変換部を単純
な構造とすることができ、これにより使用する装置の小
形化が計れる利点がある0
ルムタイプのものを用いれば、Xll1が知いパルスの
場合にも分光が可能である@なおX線がhν>///、
4eVの条件を満す場合、つまりlllll上の波長域
では光電子は極端に減衰するので、この方法の可測定波
長域はlllll下である〇 以上説明したように、本発明は光電子の運動エネルギー
および量を測定することによりX@の分光を行う。この
本発明によれば、パルス放射のX線、連続放射のXl1
lを問わずに軟XIIの分光光度の測定を行うことが可
能である。また箔を用いてX@エネルギーを光電子運動
エネルギーに変換するため、エネルギーの変換部を単純
な構造とすることができ、これにより使用する装置の小
形化が計れる利点がある0
第1WJは本発明の一実施例を示す説明図、第2図は同
実施例においてX@を分光した結果を示す図であって、
X線の波長と強度との関係を示す図であるO 1・・・・・・X@、 !−・・・・・ベリリウム箔、
訃・・・・・光電子、4・・・・・・運動エネルギー弁
別器、ト・・・・・真空容器。 第2図 1 長
実施例においてX@を分光した結果を示す図であって、
X線の波長と強度との関係を示す図であるO 1・・・・・・X@、 !−・・・・・ベリリウム箔、
訃・・・・・光電子、4・・・・・・運動エネルギー弁
別器、ト・・・・・真空容器。 第2図 1 長
Claims (1)
- ベリリウム(Be)箔にXIIを照射し、箔の背向より
放出する光電子の運動エネルギーおよび量を測定するこ
とにより波長域///ム以下の軟X線についてX@の波
長ならびに強度を測定することを特徴とするX11分光
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56201384A JPS58102179A (ja) | 1981-12-14 | 1981-12-14 | X線分光法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56201384A JPS58102179A (ja) | 1981-12-14 | 1981-12-14 | X線分光法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58102179A true JPS58102179A (ja) | 1983-06-17 |
Family
ID=16440184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56201384A Pending JPS58102179A (ja) | 1981-12-14 | 1981-12-14 | X線分光法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58102179A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5483893A (en) * | 1977-11-29 | 1979-07-04 | Anvar | Microanalysis method that use xxrays radiation |
-
1981
- 1981-12-14 JP JP56201384A patent/JPS58102179A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5483893A (en) * | 1977-11-29 | 1979-07-04 | Anvar | Microanalysis method that use xxrays radiation |
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