JPH11512416A - ５−ｏ−デオサミニル−６−ｏ−メチルエリスロノライドａの新規な誘導体、それらの製造法及びそれらの生物学的活性物質の製造への使用 - Google Patents
５−ｏ−デオサミニル−６−ｏ−メチルエリスロノライドａの新規な誘導体、それらの製造法及びそれらの生物学的活性物質の製造への使用Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
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Abstract
(57)【要約】
本発明の主題は、次式（Ｉ）
（ここで、ＯＲ1、ＯＲ2及びＯＲ3は容易に解裂できる基の形でブロックされたヒドロキシル基を表す）の化合物にある。式（Ｉ）の化合物は抗生物質を製造するのに使用することができる。
Description
【発明の詳細な説明】
５−Ｏ−デオサミニル−６−Ｏ−メチルエリスロノライドＡの新規な
誘導体、それらの製造法及びそれらの生物学的活性物質の製造への使用
本発明は、５−Ｏ−デオサミニル−６−Ｏ−メチルエリスロノライドＡの新規
な誘導体、それらの製造方法及びそれらの生物学的活性物質の製造への使用に関
する。
本発明の主題は、次式（Ｉ）
｛ここで、
Ｒ1は８個までの炭素原子を含有するアルキル基の１個以上又は１４個までの
炭素原子を含有するアリール基の１個以上により置換された８個までの炭素原子
を含有するアルキル基を表わすか、或いは
Ｒ1は１４個までの炭素原子を含有するアリール基（８個までの炭素原子を含
有するアルキル、アルケニル若しくはアルキニル基、８個までの炭素原子を含有
するアルコキシ若しくはアルキルチオ基、ニトロ基又はＣＦ3基の１個以上又は
ハロゲン原子の１個以上により置換されていてもよい）を表わすか、或いは
Ｒ1は次式
（ここで、Ｒａは８個までの炭素原子を含有するアルキル又はアルコキシ基を表
わし、Ｒｂは８個までの炭素原子を含有するアルキル基（複素原子により置換さ
れていてもよい）を表わし、Ｒｃは水素原子又は８個までの炭素原子を含有する
アルキルを表わす）
の基を表わし、
Ｒ2及びＲ3は同一であっても異なっていてもよく、トリアルキルシリル基（こ
こで、アルキル基は８個までの炭素原子を含有する）、次式
（ここで、Ｒ'a、Ｒ'b、Ｒ'c及びＲｄは８個までの炭素原子を含有するアルキル
基又は８個までの炭素原子を含有するアラルキル基（これらは、Ｒ1について前
記した置換基の１個以上により置換されていてもよい）を表わす）
の基を表わす｝
の化合物にある。
本発明の化合物の定義において、
−アルキル、アルケニル又はアルキニル基は、好ましくは下記の基の一つである
：メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブ
チル、デシル若しくはドデシル、ビニル、アリル、エチニル若しくはプロピニル
、シクロブチル、シクロペンチル若しくはシクロヘキシル。
−ハロゲンは、好ましくは弗素、塩素又は臭素である。
−アリール基は、好ましくはフェニル基又はナフチル基である。
−アラルキル基は、好ましくは（Ｃ6Ｈ5）−（ＣＨ2）a基（ここで、ａは１〜６
の整数、例えば１、２、３又は４である）である。アラルキル基は、例えば
、置換されていてもよいベンジル基又はトリチル基である。
−アルキルオキシ基は、好ましくは下記の基の一つである：メトキシ、エトキシ
、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ
、ｔ−ブチルオキシ、ｎ−ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ｓｅｃ−ペン
チルオキシ、ｔ−ペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、
ｓｅｃ−ヘキシルオキシ、ｔ−ヘキシルオキシ。
−相当するアルキルチオ基は、上記と同じ意味をとり、その酸素原子を硫黄原子
により置き換えることによって使用することができる。例えば、メチルチオ、エ
チルチオ基である。さらに、酸素原子は酸化されていてよい。例えば、メチルス
ルフィニル、メチルスルホニル基である。
本発明の化合物は、次式（VI）
（ここで、Ｚは水素原子又は８個までの炭素原子を含有するカルボン酸の残基、
トリアルキルシリル若しくはｔ−ブチル基のような保護基を表わす）
の化合物の製造に使用することができる。式（VI）の化合物は、特に抗生物質の
製造に有用な中間体として、ヨーロッパ特許第０，４８７，４１１号に記載され
ている。
本発明のさらに特定の主題は、Ｒ1が次式
（ここで、Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは上記と同じ意味を保持する）
を表わす式（Ｉ）の化合物、特にＲａ、Ｒｂ及びＲｃがメチル基を表わすもの並
びにＲ2及びＲ3が共にトリアルキルシリル基を表わすもの、特にＲ2及びＲ3が共
にトリメチルシリル基を表わすものにある。
本発明のさらに特定の主題は、その製造を後記の実験の部に示す式（Ｉ）の化
合物にある。
また、本発明の主題は、前記の式（Ｉ）の化合物の製造法にあり、これは次式
（II）
の化合物に９位のオキシムのブロッキング剤を作用させて次式（III）
（ここで、Ｒ1は前記の意味を有する）
の化合物を得、この化合物に３位及び（又は）２’位のヒドロキシル基のブロッ
キング剤を作用させて次式（IV）
（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記の意味を保持する）
の化合物を得、この化合物に６位のヒドロキシル基のメチル化剤を作用させて相
当する式（Ｉ）の化合物を得ることを特徴とする。
出発物質として使用される式（II）の化合物は、ルメイユ他によりＪ．Ｍｅｄ
．Ｃｈｅｍ．１７（９），９５３−９５６（１９７４）に記載された既知の物質
である。
本発明の製造法の好ましい実施態様によれば、
−９位のオキシムはケタール又はチオケタールとして保護され、
−３−ＯＨ及び２’−ＯＨ基は、トリメチルシリル基によりブロックされ、
−メチル化は、塩基、例えば、苛性カリ、苛性ソーダ、水素化ナトリウムのよう
な水素化物、例えばカリウムｔ−ブチラートのようなアルカリ金属ｔ−ブチラー
トの存在下に或いは１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン又は１
，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンの存在下に沃化メチルを
使用して行われる。
また、本発明の主題は、本発明の製造法の実施中に得られる式(III)及び式（I
V）の新規な化学物質にある。特に、本発明のさらに特定の主題は、その製造を
後記の実験の部に示す式(III)及び式（IV）の化合物である。
また、本発明の主題は、式（Ｉ）の化合物を下記の工程：
−９位のオキシムの遊離化
−３及び２’位のヒドロキシル基の遊離化
−２’位のヒドロキシル基の保護
に付することを特徴とする、式（Ｉ）の化合物の用途にある。
特に、本発明の主題は、式（Ｉ）の化合物に重亜硫酸ナトリウム又はメタ重亜
硫酸ナトリウムの存在下にぎ酸を作用させて次式（Ｖ）
の化合物を直接に得、この化合物に２’位のヒドロキシル基の保護剤を作用させ
て次式（VI）
（ここで、Ｚは８個までの炭素原子を含有するカルボン酸の残基、又はトリアル
キルシリル、ｔ−ブチル若しくはトリフェニルメチル基のような保護基を表わす
）
の化合物を得ることを特徴とする、式（Ｉ）の化合物の用途にある。
さらに、本発明の主題は、式（Ｉ）の化合物に３位及び２’位のヒドロキシル
基の遊離化剤を作用させて次式（VII）
（ここで、Ｒ1は前記の意味を有する）
の化合物を得、この化合物に２’位のＯＨ基の保護剤を作用させて次式（VIII）
（ここで、Ｒ1は前記の意味を有し、Ｚは上で定義した保護基を表わす）
の化合物を得、この化合物に９−オキソ基の遊離化剤を作用させて次式（VI）
（ここで、Ｚは前記の意味を有する）
の相当する化合物を得ることを特徴とする、式（Ｉ）の化合物の用途にある。
下記の実施例は本発明を例示するものであって、本発明を何ら制限するもので
はない。例１
：３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メチル−α
−Ｌ−リボヘキソピラノシル）−２’，３−Ｏ−ビス（トリメチルシリル）−６
−Ｏ−メチルエリスロマイシンの９−Ｏ−（１−メトキシ−１−メチルエチル）
オキシム工程Ａ
：３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メチル−
α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）エリスロマイシンの９−Ｏ−（１−メトキシ−
１−メチルエチル）オキシム
８．１４ｇの３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メ
チル−α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）エリスロマイシンの９−オキシム、８１
．５ｍｌの塩化メチレン、９．６５ｍｌの２−メトキシプロペン及び２．４４ｇ
の９８％塩酸ピリジニウムを周囲温度で半時間攪拌する。８０ｍｌのＮａＨＣＯ3
飽和溶液を添加し、次いで３分間攪拌する。有機相をデカンテーションし、５
０ｍｌの塩水により洗浄する。水性相を５０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2により再抽出する
。有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させる。９ｇの所望生成物
を回収した。
収率：９８．５％。
分析結果：
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，３００ＭＨｚ）
０．８４（ｔ）：ＣＨ 3−ＣＨ2；１．０７（ｄ）−１．０９（ｄ）−１．２３
（ｄ）×２：ＣＨ 3−ＣＨ；２．２５（ｓ）：Ｎ（Ｍｅ）2；２．４８（ｍ）：Ｈ
'3；２．６４（ｄｑ）：Ｈ2；２．７２（ｂｑ）：Ｈ10；３．２２（ｓ）：ＯＭ
ｅ；〜３．２５：Ｈ'2；３．５１（ｄ）：Ｈ5；３．５８（ｂｄ）：Ｈ3；３．６
８（ｂｓ）：Ｈ11；〜３．５０（ｍ）：Ｈ'5；〜３．６２（ｍ）：Ｈ8→Ｅ；４
．４１（ｄ）：Ｈ'1；５．２３（ｄｄ）：Ｈ13；２．３６−４．４８−３．５８
：易動性Ｈ工程Ｂ
：３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メチル−
α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）−２’，３−Ｏ−ビス（トリメチルシリル）エ
リスロマイシンの９−Ｏ−（１−メトキシ−１−メチルエチル）オキシム
上記の工程で製造した６．６２ｇの生成物、６６ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2、２．９５
ｍｌのＮ−トリメチルシリルイミダゾール及び１．７ｍｌの塩化トリメチルシリ
ルの混合物を周囲温度で４５分間攪拌する。５０ｍｌのＮａＨＣＯ3飽和溶液を
添加する。有機相をデカンテーションし、３０ｍｌの塩水で洗浄する。水性相を
４０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2により再抽出する。有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥し、溶媒を
減圧下に蒸発させる。７．５ｇの所望の生成物を回収した。
収率：９２．９％。
分析結果：
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，３００ＭＨｚ）
０．１２−０．１６：ＯＴＭＳ；０．８４（ｔ）：ＣＨ 3−ＣＨ2；１．１６（
×２）−１．３８−１．４５−１．００−１．２５：ＣＨ 3−ＣＨ；２．２３（
ｓ）：Ｎ（Ｍｅ）2；２．４７（ｍ）：Ｈ'3；２．７１（ｍ）：Ｈ2及びＨ10；３
．１６（ｄｄ）：Ｈ'2；３．２２（ｓ）：ＯＭｅ；３．４５（ｍ）：Ｈ'5；３．
５８（ｄ）：Ｈ5；３．６６：Ｈ8→Ｅ；３．６６（ｓ）：Ｈ11；３．９８（ｂｄ
）：Ｈ3；４．２（ｄｄ）：Ｈ'1；５．１４（ｄｄ）：Ｈ13；１．９０（ｓ）−
３．１０−４．４４：ＯＨ工程Ｃ
：３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メチル−
α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）−２’，３−Ｏ−ビス（トリメチルシリル）−
６−Ｏ−メチルエリスロマイシンの９−Ｏ−（１−メトキシ−１−メチルエチル
）オキシム
上記の工程で製造した１．２４ｇの生成物、８．７ｍｌのジメチルスルホキシ
ド／テトラヒドロフラン混合物１／１、１９０μｌの沃化メチル及び１６１ｍｇ
の９０％粉末状苛性カリを周囲温度で２時間攪拌する。１０ｍｌのＡｃＯＥｔ及
び１０ｍｌの０．５Ｍ燐酸モノナトリウム溶液を添加する。デカンテーションし
、ＡｃＯＥｔにより再抽出した後、有機相を５ｍｌの水で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4で
乾燥し、濾液を減圧下に濃縮する。１．２ｇの所望の生成物を得た。
収率：９５％。
分析結果：
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，３００ＭＨｚ）
可能な構造：ＳｉＭｅ3は０．１１及び０．２０に位置している。０．８４（
ｔ）：ＣＨ 3−ＣＨ2；０．９５（ｄ）−０．９７（ｄ）−１．１４（ｄ）−１．
１７（ｄ）×２：ＣＨ 3−ＣＨ；１．１８−１．３５−１．４０−１．４８：Ｃ
Ｈ3−ＣＨ；２．２２（ｓ）：Ｎ（Ｍｅ）2；２．４６（ｍ）：Ｈ'3；２．６１（
ｂｑ）：Ｈ10；２．７２（ｂｑ）：Ｈ2；３．０１（ｓ）：ＯＭｅ；３．１３（
ｄｄ）：Ｈ'5；３．２２（ｓ）：ＯＭｅ鎖；３．４５（ｍ）：Ｈ'5；〜３．７０
：Ｈ8→Ｅ；〜３．６８（ｍ）：２Ｈ（Ｈ3，Ｈ5）；３．７９（ｂｓ）：１Ｈ→
Ｈ11；４．２４（ｄ）：Ｈ'1；５．１５（ｄｄ）：Ｈ13；３．２９（ｓ）及び４
．５２：ＯＨ用途１
：２’−Ｏ−アセチル−３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチ
ル−３−Ｏ−メチル−α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）−６−Ｏ−メチルエリス
ロマイシン工程Ａ
：３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メチル−
α−リボヘキソピラノシル）−６−Ｏ−メチルエリスロマイシン
５１３ｍｇの例１の化合物、５ｍｌのＥｔＯＨ／水１／１、４２５ｍｇの重亜
硫酸ナトリウム及び１１５μｌのぎ酸の混合物を半時間攪拌還流する。混合物を
周囲温度に冷却した後、５ｍｌのＮａ2ＨＣＯ3飽和溶液を添加する。この混合物
を５分間攪拌し、次いでＡｃＯＥｔにより２回抽出する。抽出相を５ｍｌのＮａ
Ｃｌ飽和溶液により洗浄する。有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥し、溶媒を減圧下に蒸
発させる。溶離剤としてＡｃＯＥｔ９５／ＭｅＯＨ３／ＴＨＦ２を使用してシリ
カでクロマトグラフィーした後、１８０ｍｇの所望の生成物を得た。
収率：４８％。
分析結果：
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２５０ＭＨｚ）
文献に記載のデータと同等のスペクトルである。
５．１７（ｄ）：Ｈ13；４．３８（ｄ）：Ｈ'1；３．９３（ｂｓ）：易動性Ｈ
；３．８５（Ｓ）：Ｈ11；３．６８（ｓ）：Ｈ5；３．５４〜３．６２（ｍ）：
Ｈ3及びＨ'5；３．２４（ｍ）：Ｈ'2；２．９８（ｓ）：ＯＭｅ；２．２５：Ｎ
（Ｍｅ）2；１．３７−１．３１−１．２７−１．２５−１．２１−１．１８−
１．１４−１．１１：ＣＨ 3−ＣＨ；０．８３（ｔ）：ＣＨ 3−ＣＨ2 工程Ｂ
：２’−Ｏ−アセチル−３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチ
ル−３−０−メチル−α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）−６−Ｏ−メチルエリス
ロマイシン
上記の工程の生成物に無水酢酸を作用させ、所望の化合物を得た。用途２
：２’−Ｏ−アセチル−３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチ
ル−３−Ｏ−メチル−α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）−６−Ｏ−メチルエリス
ロマイシン工程Ａ
：３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メチル−
α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）−６−Ｏ−メチルエリスロマイシンの９−Ｏ−
（２−メトキシ−２−メチルエチル）オキシム
２．７５ｇの例１の生成物と５．５ｍｌのテトラヒドロフランの混合物に、８
．２５ｍｌの１Ｍ弗化テトラブチルアンモニウムテトラヒドロフラン溶液を周囲
温度で素早く添加し、次いで４５分間攪拌する。次いで、１５ｍｌの酢酸エチル
と１５ｍｌの氷冷水との混合物を添加する。デカンテーションした後、有機相を
３ｍｌの水により再抽出する。水性相に０．８２ｍｌの濃水酸化アンモニウム
を添加する。水性相を酢酸エチルにより抽出する。有機相を３ｍｌの塩化ナトリ
ウム飽和水溶液により洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に
蒸発させる。２．１７ｇの所望の生成物を回収した。
収率：９５．７％。
分析結果：
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，３００ＭＨｚ）
０．８４（ｔ）：ＣＨ 3−ＣＨ2；０．９７（ｄ）−１．１０（ｄ）−１．１８
（ｄ）−１．２４（ｄ）−１．２６（ｄ）：ＣＨ 3−ＣＨ；１．２０−１．４０
（×２）−１．４８：ＣＨ 3−Ｃ；２．２６（ｓ）：Ｎ（Ｍｅ）2；２．１３（ｂ
ｑ）：Ｈ4；２．４８（ｍ）；Ｈ'3；〜２．６６：Ｈ10及びＨ2；２．９８（ｓ）
：６位のＯＭｅ；３．２２（ｓ）：ＯＭｅ鎖；〜３．２６：Ｈ'2：〜３．５４：
Ｈ3及びＨ'5；３．６８（ｓ）−３．８３（ｄ）：Ｈ5及びＨ11；〜３．７３（ｍ
）：Ｈ8→Ｅ；４．３８（ｄ）：Ｈ'1；５．２３（ｄｄ）：Ｈ13 工程Ｂ
：２’−Ｏ−アセチル−３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチ
ル−３−Ｏ−メチル−α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）−６−Ｏ−メチルエリス
ロマイシンの９−Ｏ−（２−メトキシ−２−メチルエチル）オキシム
上記の工程で製造した２．１７ｇの生成物、２２ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2及び３９０
μｌの無水酢酸の混合物を周囲温度で１時間３０分攪拌する。２２ｍｌの重炭酸
ナトリウム飽和溶液を添加する。有機相を１０ｍｌの塩水で洗浄する。水性相を
ＣＨ2Ｃｌ2で再抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧
かに蒸発させる。得られた残留物を４．２５ｍｌのイソプロピルエーテルで、次
いで１４．９ｍｌのヘプタンで溶解させる。５分間攪拌した後、沈殿を分離し、
次いでヘプタンで洗浄する。乾燥した後、１．７２ｇの所望の生成物（無色結晶
）を回収した。Ｍｐ＝２００℃、収率：７４．７％。
分析結果：
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，３００ＭＨｚ）
０．８３（ｔ）：ＣＨ 3−ＣＨ2；０．９２（ｄ）−０．９７（ｄ）−１．１７
（ｄ）−１．２８（ｄ）−１．３０（ｄ）：ＣＨ 3−ＣＨ；１．１８−１．２９
−１．４０−１．４７：ＣＨ 3−Ｃ；２．０６（ｓ）：ＯＡｃ；２．２６（ｓ
）：Ｎ（Ｍｅ）2；２．５９（ｂｑ）：Ｈ10；２．６９（ｍ）；Ｈ'3及びＨ2；２
．９５（ｓ）：６位のＯＭｅ；３．２２（ｓ）：ＯＭｅ鎖；〜３．４７：Ｈ3，
Ｈ8及びＨ'5：３．７３（ｄ）：Ｈ5；３．７９（ｂｓ）：Ｈ11；４．６０（ｄ）
：Ｈ'1；４．７７（ｄｄ）：Ｈ'2；５．２３（ｄｄ）：Ｈ13；１．７２（ｄ）−
３．３２−４．６３：易動性Ｈ工程Ｃ
：２’−Ｏ−アセチル−３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチ
ル−３−Ｏ−メチル−α−Ｌ−リボヘキソピラノシル）−６−Ｏ−メチルエリス
ロマイシン
上記の工程で製造した１８０ｍｇの生成物、１．８ｍｌのエタノール／水１／
１混合物、２３μｌの９８％ぎ酸及び１８０ｍｇの重亜硫酸ナトリウムの混合物
を３時間３０分攪拌還流させる。混合物を周囲温度に冷却し、１．８ｍｌの重炭
酸ナトリウム飽和溶液を添加する。３分間攪拌した後、ＣＨ2Ｃｌ2により２回抽
出する。有機相を２ｍｌのＮａＣｌ飽和水溶液により洗浄する。有機相を硫酸ナ
トリウムにより乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させる。残留物をシリカでクロマト
グラフィーし、２％のテトラヒドロフランを含有する酢酸エチルで溶離すること
により精製した後、４３ｍｇの所望の生成物を回収した。収率：２７％。
分析結果
ＩＲ
−ＯＨ 〜３６２６ｃｍ-1（Ｍａｘ）
３５００ｃｍ-1
＞Ｃ＝Ｏ １７３５ｃｍ-1
１６８９ｃｍ-1
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，
ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ
Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ
，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，
ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ
Ｚ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ
，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ
，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，
ＩＳ，ＪＰ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，Ｌ
Ｖ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ
，ＲＯ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，
ＵＺ，ＶＮ
(72)発明者 マジュリ，アラン
フランス国 エフ93410 ボージュール,
リュ ロベール シューマン，19
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １． 次式（Ｉ） ｛ここで、 Ｒ1は、８個までの炭素原子を含有するアルキル基の１個以上又は１４個まで の炭素原子を含有するアリール基の１個以上により置換された８個までの炭素原 子を含有するアルキル基を表わすか、或いは Ｒ1は１４個までの炭素原子を含有するアリール基（８個までの炭素原子を含 有するアルキル、アルケニル若しくはアルキニル基、８個までの炭素原子を含有 するアルコキシ若しくはアルキルチオ基、ニトロ基又はＣＦ3基の１個以上によ り或いはハロゲン原子の１個以上により置換されていてもよい）を表わすか、或 いは Ｒ1は次式 （ここで、Ｒａは８個までの炭素原子を含有するアルキル又はアルコキシ基を表 わし、Ｒｂは８個までの炭素原子を含有するアルキル基（複素原子により置換さ れていてもよい）を表わし、Ｒｃは水素原子又は８個までの炭素原子を含有する アルキルを表わす） の基を表わし、 Ｒ2及びＲ3は同一であっても異なっていてもよく、トリアルキルシリル基（こ こで、アルキル基は８個までの炭素原子を含有する）、次式 （ここで、Ｒ'a、Ｒ'b、Ｒ'c及びＲｄは８個までの炭素原子を含有するアルキル 基又は８個までの炭素原子を含有するアラルキル基（これらは、Ｒ1について前 記した置換基の１個以上により置換されていてもよい）を表わす） の基を表わす｝ の化合物。 ２． Ｒ1が次式 （ここで、Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは請求項１に記載した意味と同じ意味を保持する ） を表わす請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物。 ３． Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃがメチル基を表わす請求項２に記載の式（Ｉ）の化合 物。 ４． Ｒ2及びＲ3が共にトリアルキルシリル基を表わす請求項１〜３のいずれか に記載の式（Ｉ）の化合物。 ５． Ｒ2及びＲ3が共にトリメチルシリル基を表わす請求項４に記載の式（Ｉ） の化合物。 ６． 化合物名が ３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メチル−α−Ｌ −リボヘキソピラノシル）−２’−Ｏ，３−Ｏ−ビス（トリメチルシリル）−６ −Ｏ−メチルエリスロマイシンの９−Ｏ−（２−メトキシ−２−メチルエチル） オキシム である請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物。 ７． 請求項１〜６のいずれかに記載の式（Ｉ）の化合物を製造するにあたり、 次式（II） の化合物に９位のオキシムのブロッキング剤を作用させて次式（III） （ここで、Ｒ1は前記の意味を有する） の化合物を得、この化合物に３位及び２’位のヒドロキシル基のブロッキング剤 を作用させて次式（IV） （ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記の意味を保持する） の化合物を得、この化合物に６位のヒドロキシル基のメチル化剤を作用させて相 当する式（Ｉ）の化合物を得ることを特徴とする、式（Ｉ）の化合物の製造法。 ８． 式（IV）の化合物のメチル化を塩基の存在下に沃化メチルを使用して行う ことを特徴とする請求項７に記載の製造法。 ９． 請求項７に記載の式(III)及び式（IV）の化合物よりなる新規な化学物質 。 １０． 下記の化合物： ３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メチル−α−Ｌ −リボヘキソピラノシル）エリスロマイシンの９−Ｏ−（２−メトキシ−２−メ チルエチル）オキシム ３−Ｏ−デ（２，６−ジデオキシ−３−Ｃ−メチル−３−Ｏ−メチル−α−Ｌ −リボヘキソピラノシル）−２’−Ｏ，３−Ｏ−ビス（トリメチルシリル）エリ スロマイシンの９−Ｏ−（２−メトキシ−２−メチルエチル）オキシム よりなる請求項９に記載の化学物質。 １１． 式（Ｉ）の化合物を下記の工程： −９位のオキシムの遊離化 −３及び２’位のヒドロキシル基の遊離化 −２’位のヒドロキシル基の保護 に付することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の式（Ｉ）の化合物 の用途。 １２． 式（Ｉ）の化合物に重亜硫酸ナトリウム又はメタ重亜硫酸ナトリウムの 存在下にぎ酸を作用させて次式（Ｖ） の化合物を直接に得、この化合物に２’位のヒドロキシル基の保護剤を作用させ て次式（VI） （ここで、Ｚは８個までの炭素原子を含有するカルボン酸の残基、又はトリアル キルシリル、ｔ−ブチル若しくはトリフェニルメチル基のような保護基を表わす ） の化合物を得ることを特徴とする、請求項１１に記載の式（Ｉ）の化合物の用途 。 １３． 式（Ｉ）の化合物に３位及び２’位のヒドロキシル基の遊離化剤を作用 させて次式（VII） （ここで、Ｒ1は前記の意味を有する） の化合物を得、この化合物に２’位のＯＨ基の保護剤を作用させて次式（VIII） （ここで、Ｒ1は前記の意味を有し、Ｚは上で定義した保護基を表わす） の化合物を得、この化合物に９−オキソ基の遊離化剤を作用させて次式（VI） （ここで、Ｚは前記の意味を有する） の相当する化合物を得ることを特徴とする、請求項１１に記載の式（Ｉ）の化合 物の用途。
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