JPH08502833A - ダブルリフレクションを最小にした液晶光弁 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 反射液晶光弁装置は、透過電極３０ａを通じて投射される高強度の読取り光を受光する液晶材料２２ａの分子の方向を電気的に調整するため電極として使用される、酸化すずインジウム３０ａからなる透過伝導層を含む。高屈折率、低屈折率の薄い２層の１対もしくは複数対で形成される広帯域反射防止コーティング７０，７２，７４，７６を施すことにより、酸化すずインジウム３０ａと隣接層２２ａ，３２ａの間のインターフェースから生ずる望ましくない重複反射が最小限にされる。

Description

【発明の詳細な説明】 ダブルリフレクションを最小にした液晶光弁 発明の背景 １．発明の分野 本発明は、反射液晶光弁システム（reflective liquid crystal light valves ystem）に係わり、特に光が多層（複層）液晶装置の所定の層を光が透過できる ようにすることに関する。２．従来技術の説明 反射液晶光弁（ＬＣＬＶ）は、液晶層と、調整層（alignment layer）と、誘 電ミラー層（dielectric mirror layer）と、光遮断（light blocking）層と、 感光層とから成る薄いフィルム（状）の多層構造を有している（上記層の全ては 、２つの透過伝導（電導）性電極層の間に挟持される）。典型的な反射液晶光弁 を用いた映写・投影システム（projection system）では、強い（高強度の）偏 光照射光もしくは読取りビーム（reading beam）がクオーツ（石英）入力ウイン ド及び液晶層を通って誘電ミラーに入射される。光学的にアドレスされた反射液 晶光弁では、弱い（低強度の）書込み光（writing light）の入力イメージ（例 えば陰極線管によって生成されたイメージ）が感光層に供給され、電極間（感光 層から液晶層まで）の電界を切換え、感光層の異なる場所において受光される入 力書込み光の光度・強度に応じて、選択的に液晶を駆動するようになっている。 高出力の光源（例えば、キセノンランプ（xenon lamp））からの直線偏光照射光 はクオーツ入力ウインドを通過し、１つの透過電極を通過し、液晶層を通過し、 近傍の調整層を通過して、誘電ミラーによって反射される。このミラーにより反 射された光は、光応答層に入る書込み光情報の分布パターン（spatial pattern ）に応じて、液晶により偏光変調される（polarization modulated）。従って、 もし複雑な分布の光（例えば、陰極線管からの高解像度低強度入力イメージ）が 感光層の表面にフォーカスされると、液晶光弁は低強度の入力イメージを複製イ メージに変換する。この複製イメージは、映写スクリーン上に明るい（high bri ghtness）イメージが 写し出されるような倍増度・倍率で反射・投影される。このタイプの映写システ ムは幾つかの米国特許に示されている。例えば、米国特許第４，６５０，２８６ 号（発明者Ｋｏｄａその他：発明の名称「液晶光弁カラー映写機」）、同４，３ ４３，５３５号（発明者：Ｂｌｅｈａ，Ｊｒ．：発明の名称「液晶光弁」）、同 ４，１２７，３２２号（発明者Ｊａｃｏｂｓｅｎその他：発明の名称「明るい全 カラーイメージ光弁映写システム」）、及び同４，１９１，４５６号（発明者Ｈ ｏｎｇその他：発明の名称「明るい全カラービデオ映写システム用の光学ブロッ ク」）に示されている。 幾つかの反射液晶光弁では、ミラーに組み込まれた薄いフィルム状トランジス タのアレイがイメージ入力部として機能する。これらトランジスタは、選択的に 駆動され、所定の分布パターンで（の）高強度読取り光をブロックする。その結 果、液晶材料が同様の分布パターンで（に）反射高強度読取り光の偏光を変える 。 多くの反射液晶光弁システムでは（特に、線スペクトル成分を有する高強度読 取り光や、準単色光またはほぼ完全な単色光（例えば、レーザからの光）を用い るシステムでは）、映写システムの出力において非常に望ましくない干渉縞が生 じてしまう。干渉縞は、読取り照射光源が広帯域光源（例えば、キセノンアーク 灯）であれば大きな問題にはならず、あまり目だって現れない。従って、キセノ ンアーク灯は液晶光弁映写機の照射光源として広く用いられている。しかし、キ セノンアーク灯は、金属ハロゲン灯と比較した場合、多くの欠点を有している。 キセノンアーク灯は非効率的で、安全性について問題があり、寿命が短く、大き な入力電力を必要とする。さらに、キセノンアーク灯の出力にはかなりの赤外線 スペクトルが含まれているので、使用可能な光はあまり出力されず、望まれない （必要のない）発熱ばかりが生ずることになる。従って、上述のようにキセノン アーク灯は非効率的であると言える。幾つかの従来の映写システムでは、照射光 源の強度（光度）は液晶光弁装置の許容温度により制限される。 金属ハロゲン灯（例えば、水銀灯）はより多くの光をより少ない発熱で提供す ることができる（キセノンアーク灯と比べて）。また、金属ハロゲン灯はその他 の多くの点においてもキセノンアーク灯より好ましい。しかし、金属ハロゲン灯 により生成される光の帯域は、キセノンアーク灯の光の帯域より狭く、また、そ の光は線スペクトルからなっている。換言すれば、このような灯の光出力は、比 較的狭帯域の異なる波長に集中してしまう。金属ハロゲン灯のこのような線スペ クトル出力は、干渉縞の生成に関して大きな悪影響を及ぼす（はっきりとした干 渉縞が現れてしまう）。 幾つかの液晶光弁は、読取り照射光源がレーザの場合の光学データ処理装置に 用いられる。レーザ光の帯域幅は非常に狭いので、干渉縞はよりはっきりと現れ てくる。光源がレーザである場合にかかる干渉縞を最小に抑えるために、映写シ ステムは液晶層の厚さ（ギャップ）に関して極めて厳格・厳密な許容量しか有さ ない液晶光弁を使用しなければならない。しかし、現在の製造技術では、製造さ れる装置のわずかのパーセントのものしか上記の条件を満たさない。従って、非 常に低い歩止まりとなり、光弁のコストを著しく高くしてしまう。 従って、本発明は、上記問題点を回避もしくは最小にすることができる反射液 晶光弁システムを提供することを目的とする。 発明の開示 本発明の好適実施例に基づいて本発明（の技術思想）を実施するために、反射 液晶光弁装置は、透過伝導性材料の層（電極）と反射層との間に設けられた液晶 材料の層を有し、上記透過伝導層及び液晶層を透過して反射層に至り反射されて 液晶層及び透過伝導層を通って戻る読取り照射光を受光するように構成されてい る。透過伝導層とこれの近傍・隣接層との間のインターフェースからの反射光を 減ずるための手段が設けられる。本発明の１つの特徴によれば、伝導性透過層が 酸化すずもしくは酸化すずインジウムである場合の反射液晶光弁については、広 帯域書込み光光源を用いる。この場合、透過伝導層に適切な反射防止コーティン グを付設することによって、干渉縞を最小にし、且つ、効率を向上している。広 帯域の反射防止は、比較的薄い高屈折率コーティングと低屈折率コーティングの 対を１つもしくは２つ以上設けることにより達成される。 異なる屈折率を有する反射防止コーティング（層）の対を用いることにより、 また、このことによる干渉縞の減少により、広帯域照射光源を使用する反射液晶 光弁は、厚さについて通常の許容範囲で十分な液晶材料層により製造することが できる。よって、製造コストが格段に小さくなる。 本発明の他の利点・効果は、液晶光弁全体の効率が改善されることである。こ の改善は、装置のクオーツウインドと透過性伝導電極との間のインターフェース 並びに透過性伝導電極と液晶層との間のインターフェースにおける望まれない反 射を抑制・減少することによって達成される。従って、本発明によれば、より簡 素で低コストで望ましい光源を用いることができると共に、より安価な製造技術 を採用することができ、且つ全体の効率を向上することもできる。 図面の簡単な説明 図１は、望ましくないダブルリフレクション（２重・２度反射）が生ずる従来 技術に係わる反射液晶光弁の多層構造を概略的に示した図であり、本発明の技術 思想が適用・応用されるものを示している。 図２は、図１の反射液晶光弁の複数層構造を簡略化したものの一部を概略的に 示したものであり、従来技術の望ましくないダブルリフレクションを図示してい る。 図３は、図２に示された液晶光弁の一部を示す図であるが、本発明の技術思想 に基づく反射防止層の対からなる構成を設けて改良した例を示している。 図４ないし図６は、本発明の幾つかの異なる実施例の反射特性をグラフ化した 図である。 好適実施例の説明 図１に示されているのは、本発明の説明のための（前提となる）従来技術に係 わる典型的な非結晶（質の）シリコン液晶光弁（liguid crystal light valve： ＬＣＬＶ）の概略断面である。ＬＣＬＶは、種々の電気抵抗、厚さ及び屈折率を 有する誘電材料のスタックから成る多層構造の光弁である。図１に示した断面図 の下から上までにおいて、この多層構造は、入力構造１０（例えば、陰極線管（ 図示せず）からの入力（書込み）光が入力される光ファイバ面板）と、例えば酸 化すずインジウムもしくは酸化すずからなる透過伝導性主電極１２と、例えば非 結晶質シリコンからなる感光層１４と、テルル化カドミウムからなる光遮断も しくは光吸収層１６と、二酸化ケイ素及び二酸化チタンを交互に積層した誘電鏡 部（ミラー部）１８と、二酸化ケイ素からなる第１液晶調整フィルム２０と、周 部スペーサパッド２４，２６の間に閉じ込められたネマチック（nematic）液晶 材料２２と、二酸化ケイ素からなる第２液晶調整フィルム２８と、酸化インジウ ムもしくは酸化すずからなる透過性の伝導性対応電極３０と、出力クオーツもし くは融解石英ウインド（fused silica window）３２とからなっている。層１４ と１６の間並びに層１６と１８の間には、テルル化カドミウムと二酸化ケイ素か らなる接着層（図示せず）が設けられて、これら層を適切に接着している。例示 ＬＣＬＶの各材料・部分の典型的な厚さは次の通りである。即ち、非結晶質シリ コンのフォトセンサ層は３０ミクロン、テルル化カドミウムの遮断層は２．２ミ クロン、誘電ミラー部は１．６ミクロン、液晶層は４ミクロン、また、各二酸化 ケイ素調整フィルムは０．１５ミクロンである。液晶層の両サイド（図中、上下 方向）の幾つかの層は融解石英ウインドもしくは光ファイバ面板（face plate） に直接コーティングされてもよい。この場合、上記ウインドもしくは面板は、酸 化すずインジウム電極を含む他の層用の基板（substrate）を効率良く・効果的 に提供することになる。 光弁は、主電極及び対応電極１２及び３０に接続された電源３６からの可聴周 波数圧（振動数）電圧信号を受信する。この信号により、多層構造に交流電流が 流れる。この電圧は典型的には、液晶層の限界・閾値電圧に調節される。光学的 にアドレスされた光弁は比較的弱い可変光（学）入力を受ける。この入力は、陰 極線管（図示せず）を介して光ファイバ面板もしくは入力ウインド１０から供給 される書込み光である。書込み光は透過伝導主電極１２を介して感光層１４に供 給され、これにより、感光層の異なる部位で受光された光の強度に応じたＤＣ電 圧が発生されると共に、層のＡＣインピーダンスが小さくなる。その結果、液晶 層に加えられるＡＣ電圧が上昇する。感光層から電圧を印加されると、可聴周波 数誘導電圧が増加し、閾値を越える電圧が液晶に印加され、その分子の方向が変 化する。この様に方向が変化すると、液晶層を通過するあるいは液晶層で反射さ れる読取り光の偏光状態（polarization state）は、感光層が発生する電圧の分 布パターンに基づき、異なる場所では異なる状態になる。１つの偏光状態（例え ばＳ状態）の強い（高光度の）読取り光が、ウインド３２及び種々の層（ネマチ ック液晶層を含む）を介して入力され、誘電ミラー１８により反射されて液晶を 通って戻って出力光学イメージを生成する。 入力光あるいは書込み光を受ける液晶の部分（例えば、液晶の明るい部分（li ght areas））については、反射光の偏光状態はＳからＰへ変化するので、装置 は、入力書込みソースからの入力書込み光の分布パターンにより決定される分布 パターンで偏光状態Ｐの光を反射する。一方、入力書込み光によって刺激されな い・励起されない液晶部分については、反射光は入力光もしくは照射光と同じ偏 光状態（即ち、偏光状態Ｓ）を有する。この偏光状態の光は、適切な装置（例え ば、偏光分析器（図示せず））を用いることにより、偏光状態Ｐの光から容易に 区別することができる。従って、書込み光パターンの強い光学イメージが表示用 に生成される。 図１に示すように、１つの偏光状態（例えば、偏光状態Ｓ）の入力書込み光が 符号４０で示されたビームで装置に入射され、入力ウインド３２と透過電極３０ と調整層２８と液晶材料２２と第２調整層２０とを介してミラー１８に伝達され る。入力光はここで経路４２に沿って反射される。このとき、液晶材料のアクテ ィブな部分もしくは明るい部分についてはＰ偏光状態となる。経路４２に沿って 反射された光は、装置によって映写されるイメージ（画像）を決定・形成する光 を代表している・示している。この光はＰ偏光状態を有する（この装置での映写 用に選択されたものである）。 使用された幾つかの材料の屈折率の相違により、いくらかの２次的な反射が生 ずる。典型的には、酸化すずインジウムからなる対応電極層３０は、１．８５か ら２．１の間で変化する屈折率を有する（デポジション（蒸着）プロセスによっ て異なる）。液晶材料は典型的には１．４９の屈折率を有する。調整層は、屈折 率１．４６の特別な二酸化ケイ素層である。二酸化ケイ素の調整層２０の屈折率 は液晶層２２の屈折率に非常に近いので、本明細書では説明上、二酸化ケイ素の 調整層を単に液晶層の延長として扱うことができる。この様な取扱いは、図２の 簡略化した図・構成に用いられている（この図では、調整層は省略されている） 。入力ウインド３２は融解石英であり、その屈折率は約１．５２である。透過性 の伝導性酸化すずインジウム層３０とこれの両サイドの層とでは屈折率が一致し ないので、幾らかの２次的な反射が生じてしまう。従って、酸化すずインジウム 電極３０と融解石英ウインド３２との間に第１インターフェース５０が設けられ 、ここで、屈折率の不一致が生じる。また、酸化すずインジウム電極３０の他の 面と、合体された液晶材料及び調整層２２及び２８（図２では単に層２２とされ ている）との間には第２インターフェース５２がある。インターフェース５０， ５２の所で屈折率が不一致であるので、経路・光路４０に沿って入って来る入力 光の一部はインターフェース５０，５２によりそれぞれ経路・光路５４，５６に 沿って反射される。しかしながら、経路５４，５６に沿って反射された光は入力 時の偏光状態Ｓを有し続けるので（これはシステム出力から効果的に除去・排除 される）、この光は経路４２の主情報伝達用ビームに実質上ほとんどあるいは何 の影響も及ぼさない（この光は偏光状態Ｐを有している）。上述した様に、映写 システムはＰ偏光状態の光しか投影・映写しない。とは言うものの、経路５４， ５６の光の反射は、いくらかの効率損失を招く。 偏光状態Ｓの入力光（この光はミラーにより反射されて、偏光状態Ｐで液晶材 料を通過して戻ってくる）の一部もまたインターフェース５０及び５２により、 それぞれ符号６０及び６２によって示された経路に沿って反射される。経路６０ 及び６２の光は液晶材料を通って逆戻りし、ミラー１８によって第２回目の反射 が行われ、経路６４，６６に沿って外へ出る。 経路６０，６２の２次反射された光が液晶材料の暗い部分に衝突する場合、こ の光（Ｐ偏光状態の光）は経路６４及び６６に沿って装置から外へ出る（このと きも、Ｐ偏光状態である。液晶の非変調部分（unmodulated areas）は入射光の 偏光状態を変えない）。従って、この光は経路４２に沿って外へ出る主要ビーム に干渉することがある。経路６０，６２のＰ状態の光が液晶の変調部分に衝突す る場合、この光はＳ状態で反射される。Ｐ状態の２次的反射光によって干渉縞が 作られる。結果として映写されるイメージは著しく質が悪く、経路６４，６６の ２度（２重）反射されたＰ偏光は経路４２の主要ビームに構築的（建築的）にあ るいは破壊的に干渉する。この２度反射により生じた干渉縞は、少なくとも部分 的には、液晶材料の厚さを十分な精度で全域において一様にすることができない という事実により生ずるものである。換言すれば、液晶層の厚さはその全域を見 ると一定ではなく、従って、経路６０，６２及び６４，６６に沿った２度反射光 の通路距離は液晶材料の全域において一定ではなく（位置によって変化し）、建 設的な干渉部分と破壊的な干渉部分とが作られる。よって、光弁の出力において 可視的な望ましくない干渉縞ができてしまう。 上述のように、図２は、図１で説明した反射及び光学経路を簡略化したものを 図示しており、干渉縞の生成を理解するために考慮する必要がある４つの有効層 を示している。 干渉縞の生成の問題を解決するために、広帯域（broadband）反射防止コーテ ィングが従来の装置の酸化すずインジウム電極層３０の両側に施される。コーテ ィングされた酸化すずインジウム層を有する構成の一例が図３に図示されている 。但し、図３には、図２に示された部品に対応する液晶光弁の一部しか示されて いない。また、反射防止層が加えられている。図３には、入力融解シリコンウイ ンド３２ａ（図１及び図２のウインド３２に対応・相当する）と、ミラー１８ａ （図１及び図２のミラー１８に相当する）と、液晶材料２２ａ （図１及び図２ の液晶層２２に相当する）と、対応電極たる酸化すずインジウム層３０ａ（図１ 及び図２の電極層３０に相当する）とが示されている。図２と同様に、調整層は 別個に図示されていない。液晶材料と調整層の屈折率が近いので、調整層は液晶 層の一部として取扱う。 図３からわかるように、酸化すずインジウム電極３０ａの一側は、一対の連続 する反射防止コーティング７０，７２によりコーティングされている。上記コー ティング７０及び７２はそれぞれ融解石英ウインド３２ａの近傍及び酸化すずイ ンジウム層３０ａの近傍に位置している。同様に、一対の反射防止コーティング もしくは層７４，７６が酸化すずインジウム電極層３０ａの反対側（図３では長 方形の電極層３０ａの下辺）と液晶層２２ａの上辺との間に設けられている。層 ７６は酸化すずインジウム層３０ａに隣接しており、層７４は液晶層２０ａに隣 接している。これら２つの反射防止層７４，７６は、上述の反射防止層７０，７ ２と同様に隣接している。 好ましくは、酸化すずインジウムの両側に設けられた各層の対は、高屈折率と 低屈折率の層が交互に設けられて構成されている。図３に示した典型的実施例（ 融解石英ウインド３２ａが１．５２の屈折率を有している実施例）を考えると、 酸化すずインジウム電極３０ａは屈折率１．７７６を有し、液晶材料は屈折率１ ．４９を有する。反射防止コーティング層は次の様に選択される。即ち、層７０ は二酸化チタンからなり、２．３〜２．５という比較的高い屈折率を有し、層７ ２は比較的低い屈折率を有する（二酸化ケイ素からなり、１．３８〜１．４６の 屈折率を有する）。二酸化ケイ素は屈折率１．４６〜１．４７を有する。同様に 、酸化すずインジウム電極３０ａの反対側の反射防止層の対７４，７６について は、層７４は二酸化チタンからなり比較的高い屈折率を有し、層７６は二酸化ケ イ素もしくは同様の材料からなり比較的低い屈折率を有する。 種々の層の厚さは次の様に選択・決定される。即ち、高屈折率二酸化チタン層 ７０は０．１５８ＱＷＴの厚さを有し（ここで、ＱＷＴとは基準波長の４分の１ を意味し、本明細書では基準波長は６３２．８ｎｍである）。低屈折率二酸化ケ イ素層７２は０．３４２ＱＷＴの厚さを有する。酸化すずインジウム電極層３０ ａは高屈折率を有し、厚さ１．７７６ＱＷＴを有する。第２の低屈折率二酸化ケ イ素層７６の厚さは０．３２０ＱＷＴであり、第２の高屈折率二酸化チタン層７ ４の厚さは０．１５２ＱＷＴである。 著しく異なる屈折率を有する２つの層の間（例えば、酸化すずインジウム層３ ０ａ（屈折率１．７７６）と融解石英層３２（屈折率１．４６）との間）に形成 された高屈折率材料と低屈折率材料の対は、広帯域反射防止コーティングを形成 し、約４００ｎｍから約７００ｎｍまでの可視スペクトルに効果的に適用できる ことが見出された。 図３に示された構成は、照射源として金属ハロゲン灯を用いた反射液晶光弁に おいて採用されたものである。この装置は可視縞の問題点を解決することができ た。また、６３２８オングストロームＨｅＮｅレーザ等の単色照射源を用いた場 合、この装置の映写イメージにおける縞の見え具合は許容レベルに減じられた。 単色光源の場合（ＬＣＬＶがレーザディスプレイ光学データ処理システムに用い られる場合）でも本発明を適用することができるということは注目すべき特徴で ある。上述のように、干渉縞はほぼ単色光のレーザを用いた場合非常に可視的に なる（はっきり見えてしまう）。干渉縞が現れないようにするために従前にあっ ては、この様な場合（レーザを光源とした場合）の光弁は、液晶ギャップについ て非常に厳しい条件・精度を有さなければならなかった（例えば、液晶層の厚さ は一定でなければならなかった）。上記の様な場合に液晶ギャップがかなりの精 度で一様でなければならないという条件により、従来の光弁のコストは非常に高 いものであった。しかし、本明細書に記載された反射防止コーティングを有する レーザ照射光を用いたシステムでは、干渉の問題は解決されるので、液晶光弁を 通常のより経済的に許容できるコストで製造することができる。 上述のシステムのその他の利点は、全体の効率の向上である。インターフェー ス５０及び５２からの光の反射（図２参照）はＳ状態の偏光であり、干渉縞は生 じないものの、この反射光はシステムに対しては失われてしまう（損失する）。 なぜなら、その偏光状態が変わらないからである。本明細書に記載された反射防 止層はこの損失を著しく減ずる。 上記の反射防止コーティングの大きな利点・効果は、既に述べたように、干渉 縞を効果的に解消することにより、広帯域の金属ハロゲンランプ（灯）を反射モ ードの液晶映写機（プロジェクタ）に用いるができることである。このタイプの 高コントラスト反射プロジェクタでは、干渉の問題は重大であり、この問題は上 記の反射防止コーティングにより実質的に解消される。従来の液晶プロジェクタ で金属ハロゲンランプを用いることができるのは透過型ディスプレイ（transmis sive display）に限られていた（このディスプレイでは、干渉縞はかなり見えに くい・気付きにくい）。 本発明の技術思想を採用した多くの異なる設計・構成や材料により、電極イン ターフェースからの反射を減少させることができる。尚、電極は酸化錫インジウ ムである必要はなく、酸化すずやその他の均等・等価材料でもよい。頂部層とし て酸化すずインジウム層を用いた他の構成でも所望の結果が得られる。 一つの例示的代替構成の第１の例として、以下に示す表Ｉの連続層（融解石英 基板（ウインド３２ａ）から液晶層２２ａまで）が採用され得る。表Ｉは上記ウ インドと液晶との間における層の実際の順序を示し、各層の厚さを基準波長の４ 分の１のどれだけかという視点で表示している（基準波長は６３２ｎｍ）。表Ｉ 内の符号Ｉは酸化すずインジウムを示し、符号Ｌは二酸化ケイ素を示している。 表Ｉ 融解石英基板 ０．１９７５ Ｉ ０．３１８７５ Ｌ １．７４３ Ｉ ０．３１２ Ｌ ０．１９９ Ｉ 液晶 従って、例えば、表Ｉは、中央層たる比較的厚い酸化すずインジウム（１．７ ４３ Ｉ）（６３２ｎｍ波長の１／４の１．７４３倍の厚さを有している）がそ の一つの側において、低屈折率の層（０．３１８７５ Ｌ）と高屈折率の層（０ ．１９７５ Ｉ）の対を有し、且つ、他の側において同様な低屈折率層（０．３ １２ Ｌ）と高屈折率層（０．１９９ Ｉ）の対を有し、これら対の間に効果的 に挟まれた構成を示している。 図４は、表Ｉに示された構成の反射防止コーティングを採用した液晶光弁の基 板についての反射率（パーセント）と波長との関係を示すグラフである。このグ ラフ並びに後述する図５及び図６のグラフはサブストラクチャ（substructure: 基礎構造）のみからの反射に基づいて作成されたものである（この場合、光は液 晶材料２２ａから伝搬（反射）されて経路・光路６４，６６を通って進み、両側 に一対の反射防止コーティングを有する電極に向かう（電極は図６のグラフにつ いては、複数のコーティング対を有する）。このグラフは、わずかな反射光が複 数のコーティング電極に入射し、液晶層から出てくることを示している。曲線は 、全スペクトルにわたって反射が非常に小さい・少ないことを示している（４０ ０ｎｍを少し越えたところから６５０ｎｍのかなりまで。ピークは約４４０ｎｍ でわずか０．１の反射率であり、また、５５０ｎｍより少し大きい波長でわずか 約０．０８の反射率である）。 二酸化ケイ素以外の材料を低屈折率層に用いてもよい。従って、例えば、次に 説明する表IIに示した第２の代替例に係る構成では、表Ｉの構成と同様に５つの 層が用いられ、比較的厚い中央酸化すずインジウム層の両側に高屈折率の層と低 屈折率の層がの対が設けられている。表IIでは符号Ｃはフッ化マグネシウムを示 し、厚さに関してはここでも、基準波長６３２ｎｍの１／４に対してどれだけか ということを示す値で表示されている。従って、例えば、０．２５５６Ｃとして 示された層はフッ化マグネシウムの層であり（この層の屈折率は約１．３８）、 厚さは６３２ｎｍ波長の１／４の０．２５５６倍である。表IIの場合も符号Ｉは 酸化すずインジウムを示す。 表II 融解石英基板 ０．２２３８ Ｉ ０．２５５６ Ｃ １．７８８３９ Ｉ ０．２４８３６ Ｃ ０．２２５６ Ｉ 液晶 図５は表IIに示したサブストラクチャ（基礎構造）の反射率を示すグラフであ る。この場合も、全可視スペクトルにわたって良好な透過（transmission）が得 られている。但し、約４４０ｎｍと５６０ｎｍの所でピークが２度現われる。こ れら２つのピークでは０．１反射率よりわずかに大きい反射が生ずる。 図６は表IIIの構成を有する光弁の基礎構造の反射率を示すグラフである。図 ６はこの構成により達成される透過における著しい増加と、反射における著しい 減少とを示す。ここでもまた、全可視スペクトルのほとんどの範囲ではほぼ反射 がないと言える（但し、約４６０ｎｍと５９０ｎｍの所で反射ピークが生ずる） 。しかしながら、これらピークは多くの場合、従来構造のものと比べて小さいも のである。図６の最初のピークは反射率０．０２％より低いし、第２のピークも ０．０２５％未満である。 その他の構成においては、高屈折率材料（層）と低屈折率材料（層）の対を２ つ用いなくてもよい。例えば、次に説明する表IIIでは、２１の層が融解石英ウ インド３２ａと液晶２２ａとの間に配置される。この構成では、酸化すずインジ ウムからなる中央層１．３４１７６ Ｉは６３２ｎｍ基準波長の１／４の１．３ ４１７６倍の厚さを有し、５つの高屈折率層と低屈折率層の対（Ｌ（二酸化ケイ 素）とＨ（二酸化チタン））によって挟まれている。表IIIはこの構成において 融解石英と液晶との間に設けられる２１の層の厚さと順序を示している。 表III 融解石英基板 ０．３３８ Ｈ ０．３２４２ Ｌ ．０５３８２ Ｈ ．１３６ Ｌ ．０６３２５ Ｈ ．１００１４ Ｌ ．０７３９３ Ｈ ．０８８４９ Ｌ ．０７５０５ Ｈ ．０６７１ Ｌ １．３４１７６ Ｉ ．０６６２６ Ｈ ．０７８９６ Ｌ ．０７３０５ Ｈ ．０９７６２ Ｌ ．０７４０５ Ｈ ．１４３８３ Ｌ ．０５０２６ Ｈ ．２７６５９ Ｌ ．０４３８７ Ｈ 液晶 屈折率１．４９の液晶材料が上記の例で取上げられたが、これ以外の屈折率を 有するその他の液晶を、高屈折率層と低屈折率層の対を交互に複数有するその他 の構成に用いることができることは容易に理解できよう。 個々の構成、即ち、幾つかの材料層の厚さの選択はコンピュータを用いた最適 化プログラムによりトライアル（カット）アンドエラー方式で決定される。

【手続補正書】特許法第１８４条の７第１項 【提出日】１９９４年２月２８日 【補正内容】 補正書の写し（翻訳文） 請求の範囲 本出願の請求項１−８を以下の如く補正する。 「１．入射光ビームをを受容するウインド層と、 前記ウインド層に隣接する透過伝導材料層と、 反射材料層と、 反射及び透過伝導層との間に隣接して挿入される液晶材料層と、 光を前記ウインド層及び前記透過伝導層及び液晶層を通して反射層へ透過し 、且つこの光が前記液晶層及び透過伝導層及びウインド層へ逆反射されるための 線スペクトル光源あるいは単色照明光源のうちの一つと、 前記インターフェースの少なくとも１つからの反射光を減少する手段とから なり、 前記透過伝導層が隣接する層とのインターフェースを有するものである反射 液晶光弁装置。 ２．前記反射光減少手段が、前記インターフェースの２面からの反射を減少す る手段を含む請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ３．前記反射光減少手段が、前記透過伝導層の少なくとも片面に施された反射 防止コーティングからなる請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ４．前記反射光減少手段が、前記透過伝導層の両面に施された反射防止コーテ ィングからなる請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ５．前記反射光減少手段が、高屈折率の第１反射防止コーティング及び低屈折 率の第２反射防止コーティングからなる請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ６．前記反射光減少手段が、前記透過伝導材料層と前記ウインド層・液晶層の うちの一層間に挿入された少なくとも一対の反射防止層からなり、且つ前記反射 防止層の１つがもう片方より高い屈折率と有するものである請求項１記載の反射 液晶光弁装置。 ７．前記反射光減少手段が、前記透過伝導材料層と前記ウインド層・液晶層の うちの一層間に挿入された複数の反射光防止層対からなり、且つ各対の第１層 が同じ対の第２層より高い屈折率を有するものである請求項１記載の反射液晶光 弁装置。 ８．反射液晶光弁並びに光源であって、 前記反射液晶光弁が誘導伝導極層と、誘電ミラ一層と、第１調整フィルム層 と、 液晶混合体層と、第２調整フィルム層と、光屈折を最小限にするため構成及 び配置された対応透過伝導電極層と、ウインド層とからなり、 前記光源が線スペクトル光源あるいは単色照明光源のうちの一つであること を特徴とする、反射液晶光弁並びに光源。」 【手続補正書】特許法第１８４条の８ 【提出日】１９９４年５月１８日 【補正内容】 補正書の写し（翻訳文） 請求の範囲 本出願の請求項１−８を以下の如く補正する。 「１．入射光ビームをを受容するウインド層と、 前記ウインド層に隣接する透過伝導材料層と、 反射材料層と、 反射及び透過伝導層との間に隣接して挿入される液晶材料層と、 光を前記ウインド層及び前記透過伝導層及び液晶層を通して反射層へ透過し 、且つこの光が前記液晶層及び透過伝導層及びウインド層へ逆反射されるための 線スペクトル光源あるいは単色照明光源のうちの一つと、 前記インターフェースの少なくとも１つからの反射光を減少する手段とから なり、 前記透過伝導層が隣接する層とのインターフェースを有するものである反射 液晶光弁装置。 ２．前記反射光減少手段が、前記インターフェースの２面からの反射を減少す る手段を含む請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ３．前記反射光減少手段が、前記透過伝導層の少なくとも片面に施された反射 防止コーティングからなる請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ４．前記反射光減少手段が、前記透過伝導層の両面に施された反射防止コーテ ィングからなる請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ５．前記反射光減少手段が、高屈折率の第１反射防止コーティング及び低屈折 率の第２反射防止コーティングからなる請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ６．前記反射光減少手段が、前記透過伝導材料層と前記ウインド層・液晶層の うちの一層間に挿入された少なくとも一対の反射防止層からなり、且つ前記反射 防止層の１つがもう片方より高い屈折率と有するものである請求項１記載の反射 液晶光弁装置。 ７．前記反射光減少手段が、前記透過伝導材料層と前記ウインド層・液晶層の うちの一層間に挿入された複数の反射光防止層対からなり、且つ各対の第１層 が同じ対の第２層より高い屈折率を有するものである請求項１記載の反射液晶光 弁装置。 ８．反射液晶光弁並びに光源であって、 前記反射液晶光弁が誘導伝導極層と、誘電ミラー層と、第１調整フィルム層 と、 液晶混合体層と、第２調整フィルム層と、光屈折を最小限にするため構成及 び配置された対応透過伝導電極層と、ウインド層とからなり、 前記光源が線スペクトル光源あるいは単色照明光源のうちの一つであること を特徴とする、反射液晶光弁並びに光源。」

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．入射光ビームを受光するウインド層と、 前記ウインド層に隣接する透過伝導材料層と、 反射材料層と、 反射及び透過伝導層との間に隣接して挿入される液晶材料層と、 光を前記ウインド層及び前記透過伝導及び液晶層を通して反射層へ透過し、且 つ、この光が前記液晶層及び透過伝導層及びウインド層へ逆反射されるための手 段と、 前記インターフェースの少なくとも１つからの反射光を減少する手段とからな り、 前記透過伝導層が隣接する層とのインターフェースを有するものである反射液 晶光弁装置。 ２．前記反射光減少手段が、前記複数のインターフェースのうちの２個からの反 射を減少する手段を含む請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ３．前記反射光減少手段が、前記透過伝導層の少なくとも片面に施された反射防 止コーティングからなる請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ４．前記反射光減少手段が、前記透過伝導層の両面に施された反射防止コーティ ングからなる請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ５．前記反射光減少手段が、高屈折率の第１反射防止コーティング及び低屈折率 の第２反射防止コーティングからなる請求項１記載の反射液晶光弁装置。 ６．前記反射光減少手段が、前記透過伝導材料層と前記ウインド層または液晶層 のうちの一層との間に挿入された少なくとも一対の反射防止層からなり、且つ前 記反射防止層の一方が他方より高い屈折率を有するものである請求項１記載の反 射液晶光弁装置。 ７．前記反射光減少手段が、前記透過伝導材料層と前記ウインド層または液晶層 のうちの一層との間に挿入された複数の反射光防止層対からなり、且つ各対の第 １層が同じ対の第２層より高い屈折率を有するものである請求項１記載の反射液 晶光弁装置。 ８．透過伝導電極層と、誘電ミラー層と、第１調整フィルム層と、液晶混合体層 と、第２調整フィルム層と、光屈折を最小限にするため構成及び配置された対応 透過伝導電極層と、ウインド層とからなる反射液晶光弁装置。 ９．対応透過伝導電極層が、少なくとも片面に反射防止コーティングが施されて いるものである請求項８記載の反射液晶光弁。 １０．前記対応透過伝導電極層が、少なくとも片面を二酸化ケイ素でコーティン グされている酸化すずインジウム層からなる請求項８記載の反射液晶光弁。 １１．前記対応透過伝導電極層が、二酸化チタンでコーティングされている酸化 すずインジウム層からなる請求項８記載の反射液晶光弁。 １２．前記対応透過伝導電極層が、両面に反射防止コーティングが施された材料 層からなる請求項８記載の反射液晶光弁。 １３．前記対応透過伝導電極層が、表面に酸化すずインジウム層を有する融解石 英層からなり、前記酸化すずインジウム層がその少なくとも片面に反射防止コー ティングを有するものである請求項８記載の反射液晶光弁。 １４．前記対応透過伝導電極層が、対応電極を形成する透過基板及び伝導層から なり、前記反射防止層対が前記基板と前記伝導層に挟まれ、且つ、前記反射防止 層対の一層が比較的高い屈折率を有する一方他層が比較的低い屈折率を有するも のである請求項８記載の反射液晶光弁。 １５．前記対応透過伝導電極層が、基板と、主要伝導層と、前記主要伝導層のど ちらかの面上に設置された第１及び第２（それぞれ２層からなる）反射防止層対 とからなり、前記各反射防止層対の１層は比較的高い屈折率を有する一方他層が 比較的低い屈折率を有するものである請求項８記載の反射液晶光弁。 １６．前記主要伝導層が酸化すずインジウムからなる請求項１５記載の反射液晶 光弁。 １７．前記主要伝導層が酸化すずからなる請求項１５記載の反射液晶光弁。 １８．前記主要伝導層が酸化すずインジウムからなり、前記第１反射防止層対の １層が酸化すずで作られ、且つ他層が二酸化ケイ素で作られている請求項１５記 載の反射液晶光弁。 １９．前記主要伝導層が酸化すずインジウムからなり、前記第１反射防止層対の １層が酸化すずインシウムで作られ、且つ他層が二酸化ケイ素で作られている請 求項１５記載の反射液晶光弁。 ２０．前記主要伝導層が酸化すずインジウムからなり、且つ前記反射防止層対の うち１層が酸化すずインジウムで他層がフッ化マグネシウムである請求項１５記 載の反射液晶光弁。 ２１．前記主要伝導層が酸化すずインジウムからなり、且つ前記反射防止層対の うち１層が二酸化チタンで他層が二酸化ケイ素である請求項１５記載の反射液晶 光弁。 ２２．前記対応透過伝導電極がその両面上に複数対からなる反射防止コーティグ を施され、且つ各対の１層が他層より高い屈折率を有するものである請求項８記 載の反射液晶光弁装置。 ２３．前記対応透過伝導電極が上記液晶混合体及び上記ウインドの各々より高い 屈折率を有し、且つ高い屈折率を有する層と低い屈折率を有する層とからなる反 射防止層の複数対でコーティングされているものである請求項８記載の反射液晶 光弁。