JPH0641110A - 3−(カルボキシメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン安定剤 - Google Patents
3−(カルボキシメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン安定剤Info
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- C07F9/65517—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having oxygen atoms, with or without sulfur, selenium, or tellurium atoms, as the only ring hetero atoms the oxygen atom being part of a five-membered ring condensed with carbocyclic rings or carbocyclic ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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-
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 次式(1)
【化1】
〔式中例えば;m=1、R1はOH基、C 1-18アルコキシ 基;
(置換) フェノキシ 基、 【化2】 (R15 とR16 は独立にH または C1-4 アルキル 基を、P=1,
2を、R19 とR20 はC1-4アルキル 基を表す)を表し、R2はH
またはC 1-18アルキル基を表し、R3, R5, R7, R10-12はH
を表し、R4はH またはC1-4 アルキル 基を表し;R6がH のと
き、R4は 【化3】 (R17 とR18 は一緒に シクロヘキシリデン環を形成し、R8
とR9は、独立にH またはC1-4 アルキル 基を表す)を表す〕
で表される新規な3−(カルボキシメトキシフェニル)
ベンゾフラン−2−オンおよび該化合物と酸化的、熱的
または光誘起性崩壊を受けやすい有機材料化合物とから
なる組成物。 【効果】 上記化合物は、酸化的、熱的もしくは光誘起
性崩壊を受けやすい有機材料特に合成ポリマーの安定剤
として特に有用である。
(置換) フェノキシ 基、 【化2】 (R15 とR16 は独立にH または C1-4 アルキル 基を、P=1,
2を、R19 とR20 はC1-4アルキル 基を表す)を表し、R2はH
またはC 1-18アルキル基を表し、R3, R5, R7, R10-12はH
を表し、R4はH またはC1-4 アルキル 基を表し;R6がH のと
き、R4は 【化3】 (R17 とR18 は一緒に シクロヘキシリデン環を形成し、R8
とR9は、独立にH またはC1-4 アルキル 基を表す)を表す〕
で表される新規な3−(カルボキシメトキシフェニル)
ベンゾフラン−2−オンおよび該化合物と酸化的、熱的
または光誘起性崩壊を受けやすい有機材料化合物とから
なる組成物。 【効果】 上記化合物は、酸化的、熱的もしくは光誘起
性崩壊を受けやすい有機材料特に合成ポリマーの安定剤
として特に有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は有機材料、好ましくはポ
リマーおよび安定剤として3−(カルボキシメトキシフ
ェニル)ベンゾフラン−2−オンからなる組成物;酸化
的、熱的または光誘起性崩壊に対して有機材料を安定化
するための上記組成物の使用方法および新規な3−(カ
ルボキシメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オンに
関する。
リマーおよび安定剤として3−(カルボキシメトキシフ
ェニル)ベンゾフラン−2−オンからなる組成物;酸化
的、熱的または光誘起性崩壊に対して有機材料を安定化
するための上記組成物の使用方法および新規な3−(カ
ルボキシメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オンに
関する。
【0002】
【従来の技術】個々の3−(カルボキシメトキシフェニ
ル)ベンゾフラン−2−オンは例えば、英国特許GB−
A−2205324号およびヨーロッパ特許EP−A−
294029号に記載されている。
ル)ベンゾフラン−2−オンは例えば、英国特許GB−
A−2205324号およびヨーロッパ特許EP−A−
294029号に記載されている。
【0003】有機ポリマーに対する安定剤としての個々
のベンゾフラン−2−オンの使用方法は米国特許US−
A−4325863号;米国特許US−A−43382
44号およびヨーロッパ特許EP−A−415887号
に記載されている。
のベンゾフラン−2−オンの使用方法は米国特許US−
A−4325863号;米国特許US−A−43382
44号およびヨーロッパ特許EP−A−415887号
に記載されている。
【0004】このようなベンゾフラン−2−オンの選択
された群が、特に酸化的、熱的または光誘起性崩壊を受
けやすい有機材料に対する安定剤として適当であること
が今や見出された。
された群が、特に酸化的、熱的または光誘起性崩壊を受
けやすい有機材料に対する安定剤として適当であること
が今や見出された。
【0005】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は、 a)酸化的、熱的もしくは光誘起性崩壊を受けやすい有
機材料および b)次式(1)
機材料および b)次式(1)
【化46】 {式中、R2 、R3 、R4 およびR5 は互いに独立し
て、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ
基、ヒドロキシル基、炭素原子数1ないし25のアルカ
ノイルオキシ基、炭素原子数3ないし25のアルケノイ
ルオキシ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基
て、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ
基、ヒドロキシル基、炭素原子数1ないし25のアルカ
ノイルオキシ基、炭素原子数3ないし25のアルケノイ
ルオキシ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基
【化47】 (基中、R13は水素原子もしくは炭素原子数1ないし8
のアルキル基を表す。)で中断されている炭素原子数3
ないし25のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ない
し9のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基もしくは炭素原子数1ないし12のアルキル基
で置換されたベンゾイルオキシ基を表し;あるいは、さ
らに、基R2 およびR3 または基R4 およびR5 はそれ
らが結合される炭素原子と一緒になってフェニル環を形
成するか;その上さらに、R4 は−(CH2 )n −CO
R14〔式中、nは0,1もしくは2を表し、R14はヒド
ロキシル基、基:
のアルキル基を表す。)で中断されている炭素原子数3
ないし25のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ない
し9のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基もしくは炭素原子数1ないし12のアルキル基
で置換されたベンゾイルオキシ基を表し;あるいは、さ
らに、基R2 およびR3 または基R4 およびR5 はそれ
らが結合される炭素原子と一緒になってフェニル環を形
成するか;その上さらに、R4 は−(CH2 )n −CO
R14〔式中、nは0,1もしくは2を表し、R14はヒド
ロキシル基、基:
【化48】 (基中、Mはr−価の金属カチオンを表し、およびrは
1、2もしくは3を表す。)、炭素原子数1ないし18
のアルコキシ基または基
1、2もしくは3を表す。)、炭素原子数1ないし18
のアルコキシ基または基
【化49】 (基中、R15およびR16は、互いに独立して水素原子も
しくは炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)
を表す。〕を表し;R7 、R8 、R9 およびR10は互い
に独立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表
し、但し、基R7 、R8 、R9 およびR10のうち少なく
とも1つは水素原子であり、R11およびR12は互いに独
立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基
またはフェニル基を表し;ならびにR3 、R5 、R6 、
R7 およびR10が水素原子を表す場合、R4 はさらに式
(2):
しくは炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)
を表す。〕を表し;R7 、R8 、R9 およびR10は互い
に独立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表
し、但し、基R7 、R8 、R9 およびR10のうち少なく
とも1つは水素原子であり、R11およびR12は互いに独
立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基
またはフェニル基を表し;ならびにR3 、R5 、R6 、
R7 およびR10が水素原子を表す場合、R4 はさらに式
(2):
【化50】 (式中、R2 、R8 、R9 、R11およびR12は上記で定
義されたものを表し、R1 は以下のm=1に対して定義
されたものを表し、ならびにR17およびR18は、互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基またはフェニル基を表すか、あるいはR17およびR18
は、それらが結合される炭素原子と一緒になって、未置
換のまたは1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアル
キル基で置換された炭素原子数5ないし7のシクロアル
キリデン環を形成する。)で表される基を表し;mは1
ないし6の整数を表し、そしてmが1を表す場合、R1
はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし30のアルコキ
シ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基:
義されたものを表し、R1 は以下のm=1に対して定義
されたものを表し、ならびにR17およびR18は、互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基またはフェニル基を表すか、あるいはR17およびR18
は、それらが結合される炭素原子と一緒になって、未置
換のまたは1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアル
キル基で置換された炭素原子数5ないし7のシクロアル
キリデン環を形成する。)で表される基を表し;mは1
ないし6の整数を表し、そしてmが1を表す場合、R1
はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし30のアルコキ
シ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基:
【化51】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)で中断さ
れた炭素原子数3ないし30のアルコキシ基;炭素原子
数7ないし9のフェニルアルコキシ基、炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数2ないし1
8のアルケニルオキシ基、未置換のまたは炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたフェノキシ基、
基:
れた炭素原子数3ないし30のアルコキシ基;炭素原子
数7ないし9のフェニルアルコキシ基、炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数2ないし1
8のアルケニルオキシ基、未置換のまたは炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたフェノキシ基、
基:
【化52】 (基中、R15、R16、rおよびMは上記で定義したもの
を表し、R19およびR20は、互いに独立して、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表し、pは1または2を表
す。)ならびに;R6 は水素原子または式(3):
を表し、R19およびR20は、互いに独立して、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表し、pは1または2を表
す。)ならびに;R6 は水素原子または式(3):
【化53】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表し、あるいは;mが2を表す場
合、R1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ
基;酸素原子、硫黄原子または基:
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表し、あるいは;mが2を表す場
合、R1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ
基;酸素原子、硫黄原子または基:
【化54】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)により中
断されている炭素原子数3ないし25のアルカンジオキ
シ基、
断されている炭素原子数3ないし25のアルカンジオキ
シ基、
【化55】 、−OCH2 −CH=CH−CH2 O−もしくは−OC
H2 −C≡C−CH2 O−を表し;あるいはmが3を表
す場合、R1 は炭素原子数3ないし10のアルカントリ
オキシ基、基:
H2 −C≡C−CH2 O−を表し;あるいはmが3を表
す場合、R1 は炭素原子数3ないし10のアルカントリ
オキシ基、基:
【化56】 を表し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は炭素原子
数4ないし10のアルカンテトラオキシ基、基:
数4ないし10のアルカンテトラオキシ基、基:
【化57】 を表し;あるいは、mが5を表す場合、R1 は炭素原子
数5ないし10のアルカンペンタオキシ基を表し;さら
にmが6を表す場合、R1 は炭素原子数6ないし10の
アルカンヘキサオキシ基、基:
数5ないし10のアルカンペンタオキシ基を表し;さら
にmが6を表す場合、R1 は炭素原子数6ないし10の
アルカンヘキサオキシ基、基:
【化58】 を表す。}で表される化合物の少なくとも1つからなる
組成物に関する。
組成物に関する。
【0006】25個までの炭素原子をもつアルキル基は
枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチ
ル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、イソペン
チル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチ
ル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘ
プチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3,−テトラ
メチルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘ
プチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、
1,1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−
テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,
1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシ
ル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基
またはドコシル基である。R2 およびR4 の好ましい意
味は例えば、炭素原子数1ないし18のアルキル基であ
る。特にR4 の好ましい意味は炭素原子数1ないし4の
アルキル基である。
枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチ
ル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、イソペン
チル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチ
ル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘ
プチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3,−テトラ
メチルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘ
プチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、
1,1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−
テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,
1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシ
ル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基
またはドコシル基である。R2 およびR4 の好ましい意
味は例えば、炭素原子数1ないし18のアルキル基であ
る。特にR4 の好ましい意味は炭素原子数1ないし4の
アルキル基である。
【0007】炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
基の例は、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α,α
−ジメチルベンジル基および2−フェニルエチル基であ
る。ベンジル基が好ましい。
基の例は、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α,α
−ジメチルベンジル基および2−フェニルエチル基であ
る。ベンジル基が好ましい。
【0008】好ましくは1ないし3個、特に1または2
個のアルキル基を含む、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェニル基の例は、o−、m−もしく
はp−メチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル
基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフ
ェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4−ジメ
チルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2−メ
チル−6−エチルフェニル基、4−第三ブチルフェニル
基、2−エチルフェニル基および2,6−ジエチルフェ
ニル基である。
個のアルキル基を含む、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェニル基の例は、o−、m−もしく
はp−メチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル
基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフ
ェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4−ジメ
チルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2−メ
チル−6−エチルフェニル基、4−第三ブチルフェニル
基、2−エチルフェニル基および2,6−ジエチルフェ
ニル基である。
【0009】未置換のもしくは炭素原子数1ないし4の
アルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロ
アルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシクロペ
ンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル
基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル
基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基およびシクロオクチル基で
ある。シクロヘキシル基および第三ブチルシクロヘキシ
ル基が好ましい。
アルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロ
アルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシクロペ
ンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル
基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル
基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基およびシクロオクチル基で
ある。シクロヘキシル基および第三ブチルシクロヘキシ
ル基が好ましい。
【0010】30個までの炭素原子をもつアルコキシ基
は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例
えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプ
ロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペント
キシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ
基、オクトキシ、デシルオキシ基、テトラデシルオキシ
基、ヘキサデシルオキシ基またはオクタデシルオキシ基
である。
は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例
えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプ
ロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペント
キシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ
基、オクトキシ、デシルオキシ基、テトラデシルオキシ
基、ヘキサデシルオキシ基またはオクタデシルオキシ基
である。
【0011】25個までの炭素原子を持つアルカノイル
オキシ基は、枝分かれしたまたは枝分かれしていない基
であり、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ
基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペン
タノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイ
ルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ
基、デカノイルオキシ基、ウンデカノイルオキシ基、ド
デカノイルオキシ基、トリデカノイルオキシ基、テトラ
デカノイルオキシ基、ペンタデカノイルオキシ基、ヘキ
サデカノイルオキシ基、ヘプタデカノイルオキシ基、オ
クタデカノイルオキシ基、エキコサノイルオキシ基また
はドコサノイルオキシ基である。
オキシ基は、枝分かれしたまたは枝分かれしていない基
であり、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ
基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペン
タノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイ
ルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ
基、デカノイルオキシ基、ウンデカノイルオキシ基、ド
デカノイルオキシ基、トリデカノイルオキシ基、テトラ
デカノイルオキシ基、ペンタデカノイルオキシ基、ヘキ
サデカノイルオキシ基、ヘプタデカノイルオキシ基、オ
クタデカノイルオキシ基、エキコサノイルオキシ基また
はドコサノイルオキシ基である。
【0012】3ないし25個の炭素原子をもつアルケノ
イルオキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない
基であり、例えば、プロペノイルオキシ基、2−ブテノ
イルオキシ基、3−ブテノイルオキシ基、イソブテノイ
ルオキシ基、n−2,4−ペンタジエノイルオキシ基、
3−メチル−2−ブテノイルオキシ基、n−2−オクテ
ノイルオキシ基、n−2−ドデセノイルオキシ基、イソ
−ドデセノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、n−2
−オクタデセノイルオキシ基またはn−4−オクタデセ
ノイルオキシ基である。
イルオキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない
基であり、例えば、プロペノイルオキシ基、2−ブテノ
イルオキシ基、3−ブテノイルオキシ基、イソブテノイ
ルオキシ基、n−2,4−ペンタジエノイルオキシ基、
3−メチル−2−ブテノイルオキシ基、n−2−オクテ
ノイルオキシ基、n−2−ドデセノイルオキシ基、イソ
−ドデセノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、n−2
−オクタデセノイルオキシ基またはn−4−オクタデセ
ノイルオキシ基である。
【0013】酸素原子、硫黄原子または基
【化59】 で中断されている炭素原子数3ないし25のアルカノイ
ルオキシ基の例は、CH3 −O−CH2 COO−、CH
3 −S−CH2 COO−、CH3 −NH−CH2COO
−、CH3 −N(CH3 )−CH2 COO−、CH3 −
O−CH2 CH2−O−CH2 COO−、CH3 −(O
−CH2 CH2 −)2 O−CH2 COO−、CH3 −
(O−CH2 CH2 )3 O−CH2 COO−またはCH
3 −(O−CH2 CH2 −)4 O−CH2 COO−であ
る。
ルオキシ基の例は、CH3 −O−CH2 COO−、CH
3 −S−CH2 COO−、CH3 −NH−CH2COO
−、CH3 −N(CH3 )−CH2 COO−、CH3 −
O−CH2 CH2−O−CH2 COO−、CH3 −(O
−CH2 CH2 −)2 O−CH2 COO−、CH3 −
(O−CH2 CH2 )3 O−CH2 COO−またはCH
3 −(O−CH2 CH2 −)4 O−CH2 COO−であ
る。
【0014】炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカ
ルボニルオキシ基の例は、シクロペンチルカルボニルオ
キシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘプ
チルカルボニルオキシ基およびシクロオクチルカルボニ
ルオキシ基である。シクロヘキシルカルボニルオキシ基
が好ましい。
ルボニルオキシ基の例は、シクロペンチルカルボニルオ
キシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘプ
チルカルボニルオキシ基およびシクロオクチルカルボニ
ルオキシ基である。シクロヘキシルカルボニルオキシ基
が好ましい。
【0015】炭素原子数1ないし12のアルキル基で置
換されたベンゾイルオキシ基はo−、m−もしくはp−
メチルベンゾイルオキシ基、2,3−ジメチルベンゾイ
ルオキ基、2,4−ジメチルベンゾイルオキシ基、2,
5−ジメチルベンゾイルオキシ基、2,6−ジメチルベ
ンゾイルオキシ基、3,4−ジメチルベンゾイルオキシ
基、3,5−ジメチルベンゾイルオキシ基、2−メチル
−6−エチルベンゾイルオキシ基、4−第三ブチルベン
ゾイルオキシ基、2−エチルベンンゾイルオキシ基、
2,4,6−トリメチルベンゾイルオキシ基、2,6−
ジメチル−4−第三ブチルベンゾイルオキシ基および
3,5−ジ−第三ブチルベンゾイルオキシ基である。
換されたベンゾイルオキシ基はo−、m−もしくはp−
メチルベンゾイルオキシ基、2,3−ジメチルベンゾイ
ルオキ基、2,4−ジメチルベンゾイルオキシ基、2,
5−ジメチルベンゾイルオキシ基、2,6−ジメチルベ
ンゾイルオキシ基、3,4−ジメチルベンゾイルオキシ
基、3,5−ジメチルベンゾイルオキシ基、2−メチル
−6−エチルベンゾイルオキシ基、4−第三ブチルベン
ゾイルオキシ基、2−エチルベンンゾイルオキシ基、
2,4,6−トリメチルベンゾイルオキシ基、2,6−
ジメチル−4−第三ブチルベンゾイルオキシ基および
3,5−ジ−第三ブチルベンゾイルオキシ基である。
【0016】未置換のまたは1個ないし3個の炭素原子
数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5な
いし7のシクロアルキリデン基の例は、シクロペンチリ
デン基、メチルシクロペンチリデン基、ジメチルシクロ
ペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、メチルシクロ
ヘキシリデン基、ジメチルシクロヘキシリデン基、トリ
メチルシクロヘキシリデン基、第三ブチルシクロヘキシ
リデン基またはシクロヘプチリデン基である。シクロヘ
キシリデン基および第三ブチルシクロヘキシリデン基が
好ましい。
数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5な
いし7のシクロアルキリデン基の例は、シクロペンチリ
デン基、メチルシクロペンチリデン基、ジメチルシクロ
ペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、メチルシクロ
ヘキシリデン基、ジメチルシクロヘキシリデン基、トリ
メチルシクロヘキシリデン基、第三ブチルシクロヘキシ
リデン基またはシクロヘプチリデン基である。シクロヘ
キシリデン基および第三ブチルシクロヘキシリデン基が
好ましい。
【0017】酸素原子、硫黄原子または基
【化60】 で中断されている炭素原子数3ないし30のアルコキシ
基の例は、CH3 −O−CH2 CH2 O−、CH3 −S
−CH2 CH2 O−、CH3 −NH−CH2 CH2 O
−、CH3 −N(CH3 )−CH2 CH2 O−、CH3
−O−CH2 CH2−O−CH2 CH2 O−、CH3 −
(O−CH2 CH2 −)2 O−CH2 CH2O−、CH
3 −(O−CH2 CH2 )3 O−CH2 CH2 O−およ
びCH3 −(O−CH2 CH2 −)4 O−CH2 CH2
O−である。
基の例は、CH3 −O−CH2 CH2 O−、CH3 −S
−CH2 CH2 O−、CH3 −NH−CH2 CH2 O
−、CH3 −N(CH3 )−CH2 CH2 O−、CH3
−O−CH2 CH2−O−CH2 CH2 O−、CH3 −
(O−CH2 CH2 −)2 O−CH2 CH2O−、CH
3 −(O−CH2 CH2 )3 O−CH2 CH2 O−およ
びCH3 −(O−CH2 CH2 −)4 O−CH2 CH2
O−である。
【0018】炭素原子数7ないし9のフェニルアルコキ
シ基の例は、ベンジルオキシ基、α−メチルベンジルオ
キシ基、α,α−ジメチルベンジルオキシ基および2−
フェニルエチルオキシ基である。ベンジルオキシ基が好
ましい。
シ基の例は、ベンジルオキシ基、α−メチルベンジルオ
キシ基、α,α−ジメチルベンジルオキシ基および2−
フェニルエチルオキシ基である。ベンジルオキシ基が好
ましい。
【0019】5ないし12個の炭素原子をもつシクロア
ルキルカルボニル基の例は、シクロペントキシ基、シク
ロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロオクトキ
シ基、シクロデシルオキシ基またはシクロドデシルオキ
シ基である。炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基が好ましい。
ルキルカルボニル基の例は、シクロペントキシ基、シク
ロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロオクトキ
シ基、シクロデシルオキシ基またはシクロドデシルオキ
シ基である。炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基が好ましい。
【0020】2個ないし18個の炭素原子を持つアルケ
ニルオキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない
基であり、例えば、ビニルオキシ基、プロペニルオキシ
基、2−ブテニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、イ
ソブテニルオキシ基、n−2,4−ペンタジエニルオキ
シ基、3−メチル−2−ブテニルオキシ基、n−2−オ
クテニルオキシ基、n−2−ドデセニルオキシ基、イソ
−ドデセニルオキシ基、オレイルオキシ基、n−2−オ
クダデカニルオキシ基またはn−4−オクタデカニルオ
キシ基である。
ニルオキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない
基であり、例えば、ビニルオキシ基、プロペニルオキシ
基、2−ブテニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、イ
ソブテニルオキシ基、n−2,4−ペンタジエニルオキ
シ基、3−メチル−2−ブテニルオキシ基、n−2−オ
クテニルオキシ基、n−2−ドデセニルオキシ基、イソ
−ドデセニルオキシ基、オレイルオキシ基、n−2−オ
クダデカニルオキシ基またはn−4−オクタデカニルオ
キシ基である。
【0021】好ましくは1ないし3個、特に1または2
個のアルキル基を含む、炭素原子数1ないし12のアル
キル基で置換されたフェノキシ基はo−、m−もしくは
p−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフェノキシ
基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−ジメチル
フェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、3,4
−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ
基、2−メチル−6−エチルフェノキシ基、4−第三ブ
チル−フェノキシ基、2−エチルフェノキシ基または
2,6−ジエチルフェノキシ基である。
個のアルキル基を含む、炭素原子数1ないし12のアル
キル基で置換されたフェノキシ基はo−、m−もしくは
p−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフェノキシ
基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−ジメチル
フェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、3,4
−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ
基、2−メチル−6−エチルフェノキシ基、4−第三ブ
チル−フェノキシ基、2−エチルフェノキシ基または
2,6−ジエチルフェノキシ基である。
【0022】2個ないし12個の炭素原子を持つアルカ
ンジオキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない
基であり、例えば、−OCH2 CH2 O−、−OCH2
CH2 CH2 O−、−OCH2 CH2 CH2 CH2 O
−、−OCH2 CH2 CH2 CH2 CH2 O−または−
OCH(CH3 )CH2 CH(CH3 )O−である。
ンジオキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない
基であり、例えば、−OCH2 CH2 O−、−OCH2
CH2 CH2 O−、−OCH2 CH2 CH2 CH2 O
−、−OCH2 CH2 CH2 CH2 CH2 O−または−
OCH(CH3 )CH2 CH(CH3 )O−である。
【0023】酸素原子、硫黄原子または基
【化61】 で中断された炭素原子数3ないし25のアルカンジオキ
シ基の例は−OCH2 CH2 −S−CH2 CH2 O−、
−OCH2 CH2 −NH−CH2 CH2 O−、−OCH
2 CH2 −N(CH3 )−CH2 CH2 O−、−OCH
2 CH2 OCH2CH2 O−、−(O−CH2 CH
2 −)2 O−CH2 CH2 O−、−(O−CH2 CH2
−)3 O−CH2 CH2 O−および−(O−CH2 CH
2 −)4 O−CH2 CH2 O−である。
シ基の例は−OCH2 CH2 −S−CH2 CH2 O−、
−OCH2 CH2 −NH−CH2 CH2 O−、−OCH
2 CH2 −N(CH3 )−CH2 CH2 O−、−OCH
2 CH2 OCH2CH2 O−、−(O−CH2 CH
2 −)2 O−CH2 CH2 O−、−(O−CH2 CH2
−)3 O−CH2 CH2 O−および−(O−CH2 CH
2 −)4 O−CH2 CH2 O−である。
【0024】3ないし10個の炭素原子を持つアルカン
トリオキシ基の例は
トリオキシ基の例は
【化62】 である。
【0025】4ないし10個の炭素原子を持つアルカン
テトラオキシ基の例は
テトラオキシ基の例は
【化63】 である。
【0026】5ないし10個の炭素原子を持つアルカン
ペンタオキシ基の例は
ペンタオキシ基の例は
【化64】 である。
【0027】6ないし10個の炭素原子を持つアルカン
ヘキサオキシ基の例は
ヘキサオキシ基の例は
【化65】 である。
【0028】1価、2価または3価の金属カチオンは好
ましくはアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチ
オンまたはアルミニウムカチオンであり、例えばN
a+ 、K+ 、Mg++、Ca++またはAl+++ である。
ましくはアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチ
オンまたはアルミニウムカチオンであり、例えばN
a+ 、K+ 、Mg++、Ca++またはAl+++ である。
【0029】重要な組成物は、R2 、R3 、R4 および
R5 が互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし
18のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、炭素原子
数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし
8のアルコキシ基、ヒドロキシル基、炭素原子数1ない
し18のアルカノイルオキシ基、炭素原子数3ないし1
8のアルケノイルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を
表し;さらに、R4 が−(CH2 )n −COR14(式
中、nおよびR14は上記で定義したものを表す。)を表
し、mは1ないし4を表し;そしてmが1を表す場合、
R1 はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18のアル
コキシ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基:
R5 が互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし
18のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、炭素原子
数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし
8のアルコキシ基、ヒドロキシル基、炭素原子数1ない
し18のアルカノイルオキシ基、炭素原子数3ないし1
8のアルケノイルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を
表し;さらに、R4 が−(CH2 )n −COR14(式
中、nおよびR14は上記で定義したものを表す。)を表
し、mは1ないし4を表し;そしてmが1を表す場合、
R1 はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18のアル
コキシ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基:
【化66】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)で中断さ
れた炭素原子数3ないし18のアルコキシ基;ベンジル
オキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基、未置換のまたは炭素原子数1ないし8のアルキル基
で置換されたフェノキシ基、基:
れた炭素原子数3ないし18のアルコキシ基;ベンジル
オキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基、未置換のまたは炭素原子数1ないし8のアルキル基
で置換されたフェノキシ基、基:
【化67】 (基中、R15、R16、p、R19およびR20は、上記で定
義したものを表す。)ならびに;mが2を表す場合、R
1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ基;酸
素原子により中断されている炭素原子数3ないし25の
アルカンジオキシ基を表し;mが3を表す場合、R1 は
炭素原子数3ないし10のアルカントリオキシ基を表
し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は基:
義したものを表す。)ならびに;mが2を表す場合、R
1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ基;酸
素原子により中断されている炭素原子数3ないし25の
アルカンジオキシ基を表し;mが3を表す場合、R1 は
炭素原子数3ないし10のアルカントリオキシ基を表
し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は基:
【化68】 を表す式(1)の化合物を含む組成物である。
【0030】好ましいのは式(1)中、基R2 、R3 、
R4 およびR5 の少なくとも2つが水素原子を表す組成
物に示されるものである。
R4 およびR5 の少なくとも2つが水素原子を表す組成
物に示されるものである。
【0031】好ましいのはまた、式(1)中、R3 およ
びR5 が水素原子を表す組成物に示されるものである。
びR5 が水素原子を表す組成物に示されるものである。
【0032】好ましいのはまた、式(1)中、mが1を
表す組成物に示されるものである。
表す組成物に示されるものである。
【0033】好ましいのはさらにまた式(1)中、
R3 、R5 、R7 およびR10が、互いに独立して、水素
原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、R2
が水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基
を表し、R4 は水素原子、炭素原子数1ないし12のア
ルキル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基または
−(CH2 )n −COR14(式中、nは0,1または2
を表し、R14はヒドロキシル基または炭素原子数1ない
し12のアルコキシ基を表す。)を表し、R11およびR
12は互いに独立して水素原子または炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表し、ならびに;mが1を表し、R1
はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18のアルコキ
シ基;酸素原子で中断された炭素原子数3ないし18の
アルコキシ基;未置換のまたは炭素原子数1ないし8の
アルキル基で置換されたフェノキシ基、基:
R3 、R5 、R7 およびR10が、互いに独立して、水素
原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、R2
が水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基
を表し、R4 は水素原子、炭素原子数1ないし12のア
ルキル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基または
−(CH2 )n −COR14(式中、nは0,1または2
を表し、R14はヒドロキシル基または炭素原子数1ない
し12のアルコキシ基を表す。)を表し、R11およびR
12は互いに独立して水素原子または炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表し、ならびに;mが1を表し、R1
はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18のアルコキ
シ基;酸素原子で中断された炭素原子数3ないし18の
アルコキシ基;未置換のまたは炭素原子数1ないし8の
アルキル基で置換されたフェノキシ基、基:
【化69】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し、p、
R19およびR20は、上記で定義したものを表す。)を表
す組成物に示されるものである。
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し、p、
R19およびR20は、上記で定義したものを表す。)を表
す組成物に示されるものである。
【0034】特に好ましいのは、式(1)中、mが1を
表し、R1 はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18
のアルコキシ基;酸素原子で中断された炭素原子数3な
いし18のアルコキシ基;未置換のまたは炭素原子数1
ないし8のアルキル基で置換されたフェノキシ基、基:
表し、R1 はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18
のアルコキシ基;酸素原子で中断された炭素原子数3な
いし18のアルコキシ基;未置換のまたは炭素原子数1
ないし8のアルキル基で置換されたフェノキシ基、基:
【化70】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し、p、
R19およびR20は、上記で定義したものを表す。)を表
し、R2 が水素原子または炭素原子数1ないし18のア
ルキル基またはシクロヘキシル基を表し、R3 、R5 、
R7 およびR10は水素原子を表すか;または基R2 およ
びR3 はそれらが結合される炭素原子と一緒になってフ
ェニル環を形成し、R4 は水素原子、炭素原子数1ない
し6のアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基または−(CH2 )2 −COR14
(式中、R14は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
す。)を表し、R8 、R9 、R11およびR12は互いに独
立して水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し、そして;R6 が水素原子を表す場合、R4 はさら
に式(2):
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し、p、
R19およびR20は、上記で定義したものを表す。)を表
し、R2 が水素原子または炭素原子数1ないし18のア
ルキル基またはシクロヘキシル基を表し、R3 、R5 、
R7 およびR10は水素原子を表すか;または基R2 およ
びR3 はそれらが結合される炭素原子と一緒になってフ
ェニル環を形成し、R4 は水素原子、炭素原子数1ない
し6のアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基または−(CH2 )2 −COR14
(式中、R14は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
す。)を表し、R8 、R9 、R11およびR12は互いに独
立して水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し、そして;R6 が水素原子を表す場合、R4 はさら
に式(2):
【化71】 (式中、R1 、R2 、R8 、R9 、R11およびR12は上
記で定義されたものを表し、R17およびR18は、互いに
独立して水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基を表すか、あるいはR17およびR18は、それらが結
合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数5ないし
7のシクロアルキリデン環を形成する。)で表される基
を表し;R6 は水素原子または式(3):
記で定義されたものを表し、R17およびR18は、互いに
独立して水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基を表すか、あるいはR17およびR18は、それらが結
合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数5ないし
7のシクロアルキリデン環を形成する。)で表される基
を表し;R6 は水素原子または式(3):
【化72】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す組成物に示されるものであ
る。
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す組成物に示されるものであ
る。
【0035】特別に好ましいものは、式(1)中、mが
1を表し、R1 はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし
18のアルコキシ基;未置換のまたは炭素原子数1ない
し4のアルキル基で置換されたフェノキシ基、基:
1を表し、R1 はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし
18のアルコキシ基;未置換のまたは炭素原子数1ない
し4のアルキル基で置換されたフェノキシ基、基:
【化73】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、pは1
または2を表し、ならびにR19およびR20は、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。)を表し、R2 が水
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
し、R3 、R5 、R7 、R10、R11およびR12は水素原
子を表し、R4 は水素原子または炭素原子数1ないし4
のアルキル基を表し、そして;R6 が水素原子を表す場
合、R4 はさらに式(2):
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、pは1
または2を表し、ならびにR19およびR20は、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。)を表し、R2 が水
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
し、R3 、R5 、R7 、R10、R11およびR12は水素原
子を表し、R4 は水素原子または炭素原子数1ないし4
のアルキル基を表し、そして;R6 が水素原子を表す場
合、R4 はさらに式(2):
【化74】 (式中、R17およびR18は、それらが結合される炭素原
子と一緒になって、シクロヘキシリデン環を形成し、R
8 およびR9 は、互いに独立して水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表す。)で表される基を
表し;R6 は水素原子または式(3):
子と一緒になって、シクロヘキシリデン環を形成し、R
8 およびR9 は、互いに独立して水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表す。)で表される基を
表し;R6 は水素原子または式(3):
【化75】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す組成物に示されるものであ
る。
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す組成物に示されるものであ
る。
【0036】式(1)の本発明による化合物は酸化的、
熱的もしくは光誘起性崩壊に対する有機材料の安定剤に
適当である。
熱的もしくは光誘起性崩壊に対する有機材料の安定剤に
適当である。
【0037】そのような有機材料の例は以下のようなも
のである: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−1
−エン、ポリ−4−メチルペント−1−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、(所望により架橋結合できる)ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレ
ン(LDPE)および線状低密度ポリエチレン(LLD
PE)、枝分れ低密度ポリエチレン(BLDPE)。
のである: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−1
−エン、ポリ−4−メチルペント−1−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、(所望により架橋結合できる)ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレ
ン(LDPE)および線状低密度ポリエチレン(LLD
PE)、枝分れ低密度ポリエチレン(BLDPE)。
【0038】ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以
下の方法により製造できる: a)(通常、高圧および高温においての)ラジカル重合 b)通常周期表のIVb、Vb、VIbまたはVIII属の金属
の1個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び/またはアリールのような配位子の1つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン(III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において活性化でき、または、例えば
金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、
金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン(該金
属は周期表のIa、IIa および/またはIIIa属の元素であ
る。)のような別の活性剤が使用できる。活性剤は例え
ば、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリルエ
ーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常フィ
リップス(Phillips)、スタンダードオイルインディアナ
(Standard Oil Indiana)、チグラー(−ナッタ)〔Zieg
ler-(Natta) 〕、TNZ〔デュポン社(Dupont)〕、メタ
ロセンまたはシングルサイト触媒(SSC)と称される
ものである。
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以
下の方法により製造できる: a)(通常、高圧および高温においての)ラジカル重合 b)通常周期表のIVb、Vb、VIbまたはVIII属の金属
の1個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び/またはアリールのような配位子の1つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン(III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において活性化でき、または、例えば
金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、
金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン(該金
属は周期表のIa、IIa および/またはIIIa属の元素であ
る。)のような別の活性剤が使用できる。活性剤は例え
ば、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリルエ
ーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常フィ
リップス(Phillips)、スタンダードオイルインディアナ
(Standard Oil Indiana)、チグラー(−ナッタ)〔Zieg
ler-(Natta) 〕、TNZ〔デュポン社(Dupont)〕、メタ
ロセンまたはシングルサイト触媒(SSC)と称される
ものである。
【0039】2. 1.に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE、PP/LDPE)およびポリエチレンの異
なるタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE、PP/LDPE)およびポリエチレンの異
なるタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
【0040】3.モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDP
E)との混合物、プロピレン/ブト−1−エンコポリマ
ー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/
ブト−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリ
マー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン
/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマ
ー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン
/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン/ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類(ア
イオノマー)およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー;なら
びに前記コポリマー相互の混合物および1.に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン
−プロピレン−コポリマー、LDPE/エチレン−ビニ
ルアセテート(EVA)コポリマー、LDPE/エチレ
ンアクリル酸(EAA)コポリマー、LLDPE/EV
A、LLDPE/EAAおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン/一酸化炭素−コポリマー;ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDP
E)との混合物、プロピレン/ブト−1−エンコポリマ
ー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/
ブト−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリ
マー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン
/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマ
ー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン
/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン/ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類(ア
イオノマー)およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー;なら
びに前記コポリマー相互の混合物および1.に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン
−プロピレン−コポリマー、LDPE/エチレン−ビニ
ルアセテート(EVA)コポリマー、LDPE/エチレ
ンアクリル酸(EAA)コポリマー、LLDPE/EV
A、LLDPE/EAAおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン/一酸化炭素−コポリマー;ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
【0041】4. それらの水素化変性物(例えば粘着付
与剤)およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)。
与剤)およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)。
【0042】5.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルス
チレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
チレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
【0043】6.スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリ
ル、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブ
タジエン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン
酸、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレー
ト;スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレ
ン/ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物;およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン/ブ
タジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレ
ン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン、又はス
チレン/エチレン/プロピレン/スチレン。
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリ
ル、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブ
タジエン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン
酸、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレー
ト;スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレ
ン/ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物;およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン/ブ
タジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレ
ン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン、又はス
チレン/エチレン/プロピレン/スチレン。
【0044】7.スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの;ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタア
クリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン/プロ
ピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと6.に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばABS、MBS、ASAおよびAESポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの;ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタア
クリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン/プロ
ピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと6.に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばABS、MBS、ASAおよびAESポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
【0045】8.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化
ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニル
コポリマー。
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化
ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニル
コポリマー。
【0046】9.α,β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート;ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート;ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
【0047】10.上記9に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
/ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
/ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
【0048】11.不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;
ならびにそれらと上記1.に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;
ならびにそれらと上記1.に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
【0049】12.環状エーテルのホモポリマーおよびコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【0050】13. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはMBSで変性させたポリアセタール。
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはMBSで変性させたポリアセタール。
【0051】14.ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
【0052】15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
【0053】16. ジアミンおよびジカルボン酸および/
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、
6/9、6/12、4/6および12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミン、およ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
/またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
2,4,4−(トリメチルヘキサメチレン)テレフタル
アミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;
さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのコポリマー;またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー;ならびにEPDMまたはABSで
変性させたポリアミドまたはコポリアミド;加工の間に
縮合させたポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、
6/9、6/12、4/6および12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミン、およ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
/またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
2,4,4−(トリメチルヘキサメチレン)テレフタル
アミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;
さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのコポリマー;またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー;ならびにEPDMまたはABSで
変性させたポリアミドまたはコポリアミド;加工の間に
縮合させたポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
【0054】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
【0055】18. ジカルボン酸およびジオールから、お
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
1, 4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル;およびまたポリカー
ボネートまたはMBSにより改良されたポリエステル。
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
1, 4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル;およびまたポリカー
ボネートまたはMBSにより改良されたポリエステル。
【0056】19. ポリカーボネートおよびポリエステル
−カーボネート。
−カーボネート。
【0057】20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
およびポリエーテルケトン。
【0058】21.一方でアルデヒドから、および他方で
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿
素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムアル
デヒド樹脂。
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿
素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムアル
デヒド樹脂。
【0059】22.乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【0060】23.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【0061】24.置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
【0062】25.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
アネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【0063】26.ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
ルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
【0064】27.天然ポリマー、例えば、セルロース、
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース;ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース;ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
【0065】28.前述のポリマーの混合物(ポリブレン
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/A
SA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリ
レート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PU
R、POM/アクリレート、POM/MBS、PPE/
HIPS、PPE/PA6.6およびコポリマー、PA
/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/A
SA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリ
レート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PU
R、POM/アクリレート、POM/MBS、PPE/
HIPS、PPE/PA6.6およびコポリマー、PA
/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
【0066】29.純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート)に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート)に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
【0067】30.天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン−ブタジエンコポリマーのラテックス。
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン−ブタジエンコポリマーのラテックス。
【0068】好ましい有機材料はポリマー、例えば合成
ポリマー、特に熱可塑性ポリマーである。ポリオレフィ
ンは、例えばポリプロピレンまたはポリエチレンであ
る。
ポリマー、特に熱可塑性ポリマーである。ポリオレフィ
ンは、例えばポリプロピレンまたはポリエチレンであ
る。
【0069】熱的および酸化的崩壊に対する本発明の化
合物の効果は、特に、熱可塑性樹脂の加工中に生ずるよ
うな熱ストレスにおいては、特別に言及できるものであ
る。従って、本発明による化合物は加工安定剤として使
用するのに非常に適当である。
合物の効果は、特に、熱可塑性樹脂の加工中に生ずるよ
うな熱ストレスにおいては、特別に言及できるものであ
る。従って、本発明による化合物は加工安定剤として使
用するのに非常に適当である。
【0070】好ましくは、式(1)の化合物は安定化さ
れる有機材料の重量に関して約0.0005ないし5重
量%、特に0.001ないし2重量%、例えば0.01
ないし2重量%の量で安定化される材料に添加される。
れる有機材料の重量に関して約0.0005ないし5重
量%、特に0.001ないし2重量%、例えば0.01
ないし2重量%の量で安定化される材料に添加される。
【0071】本発明の組成物は式(1)の化合物に加え
て、さらに例えば以下に示すような補助安定剤を含むこ
とができる。1.抗酸化剤 1.1 アルキル化モノフェノール 、例えば2,6−ジ
−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2,6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノニル−4
−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−ウンデカ−1′−イル)−フェノール、2,4
−ジメチル−6−(1′−メチル−ヘプタデカ−1′−
イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−トリデカ−1′−イル)−フェノールおよびそ
れらの混合物。
て、さらに例えば以下に示すような補助安定剤を含むこ
とができる。1.抗酸化剤 1.1 アルキル化モノフェノール 、例えば2,6−ジ
−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2,6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノニル−4
−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−ウンデカ−1′−イル)−フェノール、2,4
−ジメチル−6−(1′−メチル−ヘプタデカ−1′−
イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−トリデカ−1′−イル)−フェノールおよびそ
れらの混合物。
【0072】1.2.アルキルチオメチルフェノール、
例えば2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−第三ブチ
ルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−
メチルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−
6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチ
ル−4−ノニルフェノール。
例えば2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−第三ブチ
ルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−
メチルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−
6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチ
ル−4−ノニルフェノール。
【0073】1.3 ハイドロキノンとアルキル化ハイ
ドロキノン、例えば2,6−ジ−第三ブチル−4−メト
キシフェノール、2,5−ジ−第三ブチル−ハイドロキ
ノン、2,5−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、
2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル、2,6−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、2,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレー
ト、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)アジペート。
ドロキノン、例えば2,6−ジ−第三ブチル−4−メト
キシフェノール、2,5−ジ−第三ブチル−ハイドロキ
ノン、2,5−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、
2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル、2,6−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、2,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレー
ト、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)アジペート。
【0074】1.4 ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば2,2′−チオビス(6−第三ブチル−
4−メチルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オ
クチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブ
チル−3−メチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′
−チオ−ビス(3,6−ジ−第二−アミルフェノー
ル)、4,4′−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−ジスルフィド。
ーテル、例えば2,2′−チオビス(6−第三ブチル−
4−メチルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オ
クチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブ
チル−3−メチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′
−チオ−ビス(3,6−ジ−第二−アミルフェノー
ル)、4,4′−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−ジスルフィド。
【0075】1.5 アルキリデンビスフェノール、例
えば2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−
メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(6−
第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチ
レン−ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキ
シル)フェノール]、2,2′−メチレン−ビス(4−
メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−
メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2′−エチリデン−ビス(4,
6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデ
ン−ビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス [6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール] 、2,2′−メチレ
ン−ビス [6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール] 、4,4′−メチレン−ビス(2,6
−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−
ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−
5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフ
ェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス[3,3−ビス(3′−第三ブチル−
4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート] 、ビス(3−
第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジ
シクロペンタジエン、ビス[2−(3′−第三ブチル−
2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−第三
ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4
−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テ
トラ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチル
フェニル)ペンタン。
えば2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−
メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(6−
第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチ
レン−ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキ
シル)フェノール]、2,2′−メチレン−ビス(4−
メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−
メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2′−エチリデン−ビス(4,
6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデ
ン−ビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス [6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール] 、2,2′−メチレ
ン−ビス [6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール] 、4,4′−メチレン−ビス(2,6
−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−
ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−
5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフ
ェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス[3,3−ビス(3′−第三ブチル−
4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート] 、ビス(3−
第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジ
シクロペンタジエン、ビス[2−(3′−第三ブチル−
2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−第三
ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4
−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テ
トラ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチル
フェニル)ペンタン。
【0076】1.6. O−、N−およびS−ベンジル
化合物、例えば3,5,3′,5′−テトラ−第三ブチ
ル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−アミン、ビス(4
−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−スルフィド、イ
ソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
化合物、例えば3,5,3′,5′−テトラ−第三ブチ
ル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−アミン、ビス(4
−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−スルフィド、イ
ソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
【0077】1.7.ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ
−第三ブチル−2−ヒドロキシベンジル)−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルベンジル)−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロネート、
ジ−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)−マロネート。
ト、例えばジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ
−第三ブチル−2−ヒドロキシベンジル)−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルベンジル)−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロネート、
ジ−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)−マロネート。
【0078】1.8. ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメ
チルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラ
メチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−フェノール。
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメ
チルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラ
メチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−フェノール。
【0079】1.9. トリアジン化合物、例えば、
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6
−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,
3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシベンジル)−イソシアヌレート。
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6
−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,
3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシベンジル)−イソシアヌレート。
【0080】1.10. べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのCa塩。
ばジメチル−2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのCa塩。
【0081】1.11. アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
4−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸N−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)オクチルエ
ステル。
えばラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
4−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸N−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)オクチルエ
ステル。
【0082】1.12. β−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,
N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3
−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,
N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3
−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0083】1.13. β−(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0084】1.14. β−(3,5−ジ−シクロヘ
キシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
キシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0085】1.15. 3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
【0086】1.16. β−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、
例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジア
ミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、
例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジア
ミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
【0087】2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. 2−( 2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル) フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチ
ル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第二ブチル−
5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクト
キシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’
−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメ
チルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキ
シ−5’−(2’−オクチルオキシカルボニルエチル)
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールと2−
(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシ
ルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾールの混合物、2−
(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−
メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル
−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクトキシカルボニ
ルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’
−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキ
シ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3−ドデシル−2’−ヒド
ロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、
ならびに2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フ
ェニルベンゾトリアゾール、2,2’−メチレン−ビス
[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−
ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール];2−
[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニル
エチル)−2’−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール300とのエステル交換
生成物;[R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −]
2 −(式中,R=3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ
−5’−2H−べンゾトリアゾール−2−イル−フェニ
ルである。)。
リアゾール 、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル) フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチ
ル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第二ブチル−
5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクト
キシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’
−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメ
チルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキ
シ−5’−(2’−オクチルオキシカルボニルエチル)
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールと2−
(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシ
ルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾールの混合物、2−
(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−
メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル
−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクトキシカルボニ
ルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’
−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキ
シ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3−ドデシル−2’−ヒド
ロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、
ならびに2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フ
ェニルベンゾトリアゾール、2,2’−メチレン−ビス
[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−
ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール];2−
[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニル
エチル)−2’−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール300とのエステル交換
生成物;[R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −]
2 −(式中,R=3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ
−5’−2H−べンゾトリアゾール−2−イル−フェニ
ルである。)。
【0088】2.2. 2−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒド
ロキシ−または2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキ
シ誘導体。
ン、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒド
ロキシ−または2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキ
シ誘導体。
【0089】2.3. 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば4−第三ブチルフェニル=サリチ
レート、フェニル=サリチレート、オクチルフェニル=
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4
−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフェニル=
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル=3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル=3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−
4,6−ジ第三ブチルフェニル=3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンゾエート。
酸のエステル、例えば4−第三ブチルフェニル=サリチ
レート、フェニル=サリチレート、オクチルフェニル=
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4
−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフェニル=
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル=3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル=3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−
4,6−ジ第三ブチルフェニル=3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0090】2.4. アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシ
シンナメート、およびN−(β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −2−メチルインドリン。
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシ
シンナメート、およびN−(β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −2−メチルインドリン。
【0091】2.5. ニッケル化合物,例えば2,
2′−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル) −フェノール]のニッケル錯体,例えば1:
1または1:2錯体であって,所望によりn−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、2−ヒドロキシ−4
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって,所望により他の配位
子を伴うもの。
2′−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル) −フェノール]のニッケル錯体,例えば1:
1または1:2錯体であって,所望によりn−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、2−ヒドロキシ−4
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって,所望により他の配位
子を伴うもの。
【0092】2.6. 立体障害性アミン、例えばビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケー
ト、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)
サクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチ
ルピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−
(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三
オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−s−
トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン),4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチル−ベンジル)マロネー
ト、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル
−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,
4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル)サクシネート、N,N’−ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジ
アミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,
5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−
ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−
ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、
3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ド
デシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)−ピロリジン−2,5−ジオン。
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケー
ト、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)
サクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチ
ルピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−
(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三
オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−s−
トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン),4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチル−ベンジル)マロネー
ト、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル
−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,
4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル)サクシネート、N,N’−ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジ
アミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,
5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−
ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−
ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、
3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ド
デシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)−ピロリジン−2,5−ジオン。
【0093】2.7. シュウ酸ジアミド、例えば4,
4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジ
−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプ
ロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−
2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エトキ
シ−2′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物,o−およびp−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物およびo−およびp−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。
4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジ
−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプ
ロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−
2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エトキ
シ−2′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物,o−およびp−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物およびo−およびp−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。
【0094】2.8. 2−(2−ヒドロキシフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−ト
リス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン。2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−ブチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキ
シ−3−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]
−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,
3,5−トリアジン。
ル)−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−ト
リス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン。2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−ブチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキ
シ−3−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]
−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,
3,5−トリアジン。
【0095】3. 金属不活性化剤,例えばN,N′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−
サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、N,N’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−
サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、N,N’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【0096】4. ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブチル−4−
メチルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス(2,4,6−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル)−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,
4,8,10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベンズ
[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フ
ルオロ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12
−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサ
ホスホシン、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチ
ルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ−
第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィッ
ト。
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブチル−4−
メチルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス(2,4,6−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル)−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,
4,8,10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベンズ
[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フ
ルオロ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12
−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサ
ホスホシン、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチ
ルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ−
第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィッ
ト。
【0097】5. 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネ
ート。
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネ
ート。
【0098】6. ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【0099】7. 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ca塩、ステアリン酸Zn塩、ベヘン酸Mg塩、ステ
アリン酸Mg塩、リシノール酸Na塩およびパルミチン
酸K塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ca塩、ステアリン酸Zn塩、ベヘン酸Mg塩、ステ
アリン酸Mg塩、リシノール酸Na塩およびパルミチン
酸K塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
【0100】8. 核剤、例えば4−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【0101】9. 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
【0102】10. その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。
【0103】補助安定剤は、例えば安定化される材料の
総重量に関し、0.01ないし10%の濃度で添加され
る。
総重量に関し、0.01ないし10%の濃度で添加され
る。
【0104】重合性、有機材料中への式(1)の化合
物、および所望ならば、他の添加剤の混合は、公知の方
法によって、例えば成形前または成形中にそうでなけれ
ば、溶解または分散された化合物を重合性、有機材料に
適用し、適当ならば続いて溶媒をゆっくり蒸発させるこ
とにより、行われる。式(1)の化合物はまたそれらを
含むマスターバッチの形態で安定剤される材料に、例え
ば 2.5ないし25重量%の濃度で添加される。
物、および所望ならば、他の添加剤の混合は、公知の方
法によって、例えば成形前または成形中にそうでなけれ
ば、溶解または分散された化合物を重合性、有機材料に
適用し、適当ならば続いて溶媒をゆっくり蒸発させるこ
とにより、行われる。式(1)の化合物はまたそれらを
含むマスターバッチの形態で安定剤される材料に、例え
ば 2.5ないし25重量%の濃度で添加される。
【0105】式(1)の化合物はまた重合の前もしくは
最中に、または架橋の前に添加することも可能である。
最中に、または架橋の前に添加することも可能である。
【0106】式(1)の化合物は純粋な形態またはワッ
クス状、油状もしくはポリマー封入の形態で材料中に混
合できる。
クス状、油状もしくはポリマー封入の形態で材料中に混
合できる。
【0107】式(1)の化合物は安定化されるポリマー
上に噴霧することもできる。これらは他の添加剤、例え
ば、上述した慣用の添加剤(またはそれらの融解物)を
希釈できるので、これらはまたこれらの添加剤と一緒に
安定化されるポリマーに噴霧できる。例えば、失活に対
して使用される蒸気を噴霧に使用することが可能であ
る、重合触媒の失活の間の噴霧による添加は特に有利で
ある。
上に噴霧することもできる。これらは他の添加剤、例え
ば、上述した慣用の添加剤(またはそれらの融解物)を
希釈できるので、これらはまたこれらの添加剤と一緒に
安定化されるポリマーに噴霧できる。例えば、失活に対
して使用される蒸気を噴霧に使用することが可能であ
る、重合触媒の失活の間の噴霧による添加は特に有利で
ある。
【0108】粒状重合ポリオレフィンの場合には、例え
ば、適当ならば他の添加剤と一緒に、式(1)の化合物
を噴霧により適用することは、有利である。
ば、適当ならば他の添加剤と一緒に、式(1)の化合物
を噴霧により適用することは、有利である。
【0109】このように安定化された材料は例えば、フ
ォーム、繊維、リボン、成形品、形材として、または塗
料、接着剤またはセメントのための結合剤としての広い
範囲の形態で使用できる。
ォーム、繊維、リボン、成形品、形材として、または塗
料、接着剤またはセメントのための結合剤としての広い
範囲の形態で使用できる。
【0110】本発明はまた、酸化的、熱的または光誘起
性崩壊に対する有機材料の安定化の方法であって、式
(1)の化合物の少なくとも1つを材料に混合または材
料に適用することからなる方法にも関する。
性崩壊に対する有機材料の安定化の方法であって、式
(1)の化合物の少なくとも1つを材料に混合または材
料に適用することからなる方法にも関する。
【0111】既に強調したように本発明による化合物は
またポリオレフィンの安定剤として、好ましくは加熱安
定剤としても特に有利である。優れた安定化は例えば有
機ホスフィットまたはホスホナイトとの組合せにおいて
化合物を使用することにより得られる。本発明の化合物
の有利な点はこの組合せの場合、それらが既に極めて少
量で作用することである。それらはポリオレフィンに関
して、例えば0.0001ないし0.015重量%、特
に0.0001ないし0.008重量%の量で使用され
る。有機ホスフィットまたはホスホナイトはポリオレフ
ィンに基づき0.01ないし2重量%、特に0.01な
いし1重量%の量で使用されるのが都合が良い。独国特
許出願DE−A−4202276号に開示されている有
機ホスフィットおよびホスホナイトを使用するのが好ま
しい。特に、この文献の特許請求の範囲、実施例および
第5頁最終段落から第11頁までを参照。特に適当なホ
スフィット及びホスホナイトはまた、前述の補助安定剤
の一覧の第4項にも見出せる。
またポリオレフィンの安定剤として、好ましくは加熱安
定剤としても特に有利である。優れた安定化は例えば有
機ホスフィットまたはホスホナイトとの組合せにおいて
化合物を使用することにより得られる。本発明の化合物
の有利な点はこの組合せの場合、それらが既に極めて少
量で作用することである。それらはポリオレフィンに関
して、例えば0.0001ないし0.015重量%、特
に0.0001ないし0.008重量%の量で使用され
る。有機ホスフィットまたはホスホナイトはポリオレフ
ィンに基づき0.01ないし2重量%、特に0.01な
いし1重量%の量で使用されるのが都合が良い。独国特
許出願DE−A−4202276号に開示されている有
機ホスフィットおよびホスホナイトを使用するのが好ま
しい。特に、この文献の特許請求の範囲、実施例および
第5頁最終段落から第11頁までを参照。特に適当なホ
スフィット及びホスホナイトはまた、前述の補助安定剤
の一覧の第4項にも見出せる。
【0112】本発明また、次式(1)
【化76】 {式中、R2 、R3 、R4 およびR5 は互いに独立し
て、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ
基、炭素原子数1ないし25のアルカノイルオキシ基、
炭素原子数3ないし25のアルケノイルオキシ基;酸素
原子、硫黄原子もしくは基
て、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ
基、炭素原子数1ないし25のアルカノイルオキシ基、
炭素原子数3ないし25のアルケノイルオキシ基;酸素
原子、硫黄原子もしくは基
【化77】 (基中、R13は水素原子もしくは炭素原子数1ないし8
のアルキル基を表す。)で中断されている炭素原子数3
ないし25のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ない
し9のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基もしくは炭素原子数1ないし12のアルキル基
で置換されたベンゾイルオキシ基を表し;あるいは、さ
らに、基R2 およびR3 または基R4 およびR5 はそれ
らが結合される炭素原子と一緒になってフェニル環を形
成するか;その上さらに、R4 は−(CH2 )n −CO
R14〔式中、nは0,1もしくは2を表し、R14はヒド
ロキシル基、基:
のアルキル基を表す。)で中断されている炭素原子数3
ないし25のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ない
し9のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基もしくは炭素原子数1ないし12のアルキル基
で置換されたベンゾイルオキシ基を表し;あるいは、さ
らに、基R2 およびR3 または基R4 およびR5 はそれ
らが結合される炭素原子と一緒になってフェニル環を形
成するか;その上さらに、R4 は−(CH2 )n −CO
R14〔式中、nは0,1もしくは2を表し、R14はヒド
ロキシル基、基:
【化78】 (基中、Mはr−価の金属カチオンを表し、およびrは
1、2もしくは3を表す。)、炭素原子数1ないし18
のアルコキシ基または基
1、2もしくは3を表す。)、炭素原子数1ないし18
のアルコキシ基または基
【化79】 (基中、R15およびR16は、互いに独立して水素原子も
しくは炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)
を表す。〕を表し;R7 、R8 、R9 およびR10は互い
に独立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表
し、但し、基R7 、R8 、R9 およびR10のうち少なく
とも1つは水素原子であり、R11およびR12は互いに独
立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基
またはフェニル基を表し;ならびにR3 、R5 、R6 、
R7 およびR10が水素原子を表す場合、R4 はさらに式
(2):
しくは炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)
を表す。〕を表し;R7 、R8 、R9 およびR10は互い
に独立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表
し、但し、基R7 、R8 、R9 およびR10のうち少なく
とも1つは水素原子であり、R11およびR12は互いに独
立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基
またはフェニル基を表し;ならびにR3 、R5 、R6 、
R7 およびR10が水素原子を表す場合、R4 はさらに式
(2):
【化80】 (式中、R2 、R8 、R9 、R11およびR12は上記で定
義されたものを表し、R1 は以下のm=1に対して定義
されたものを表し、ならびにR17およびR18は、互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基またはフェニル基を表すか、あるいはR17およびR18
は、それらが結合される炭素原子と一緒になって、未置
換のまたは1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアル
キル基で置換された炭素原子数5ないし7のシクロアル
キリデン環を形成する。)で表される基を表し;mは1
ないし6の整数を表し、そしてmが1を表す場合、R1
はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし30のアルコキ
シ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基:
義されたものを表し、R1 は以下のm=1に対して定義
されたものを表し、ならびにR17およびR18は、互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基またはフェニル基を表すか、あるいはR17およびR18
は、それらが結合される炭素原子と一緒になって、未置
換のまたは1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアル
キル基で置換された炭素原子数5ないし7のシクロアル
キリデン環を形成する。)で表される基を表し;mは1
ないし6の整数を表し、そしてmが1を表す場合、R1
はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし30のアルコキ
シ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基:
【化81】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)で中断さ
れた炭素原子数3ないし30のアルコキシ基;炭素原子
数7ないし9のフェニルアルコキシ基、炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数2ないし1
8のアルケニルオキシ基、未置換のまたは炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたフェノキシ基、
基:
れた炭素原子数3ないし30のアルコキシ基;炭素原子
数7ないし9のフェニルアルコキシ基、炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数2ないし1
8のアルケニルオキシ基、未置換のまたは炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたフェノキシ基、
基:
【化82】 (基中、R15、R16、rおよびMは上記で定義したもの
を表し、R19およびR20は、互いに独立して、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表し、pは1または2を表
す。)ならびに;R6 は水素原子または式(3):
を表し、R19およびR20は、互いに独立して、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表し、pは1または2を表
す。)ならびに;R6 は水素原子または式(3):
【化83】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表し、あるいは;mが2を表す場
合、R1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ
基;酸素原子、硫黄原子または基:
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表し、あるいは;mが2を表す場
合、R1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ
基;酸素原子、硫黄原子または基:
【化84】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)により中
断されている炭素原子数3ないし25のアルカンジオキ
シ基、
断されている炭素原子数3ないし25のアルカンジオキ
シ基、
【化85】 、−OCH2 −CH=CH−CH2 O−もしくは−OC
H2 −C≡C−CH2 O−を表し;あるいはmが3を表
す場合、R1 は炭素原子数3ないし10のアルカントリ
オキシ基、基:
H2 −C≡C−CH2 O−を表し;あるいはmが3を表
す場合、R1 は炭素原子数3ないし10のアルカントリ
オキシ基、基:
【化86】 を表し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は炭素原子
数4ないし10のアルカンテトラオキシ基、基:
数4ないし10のアルカンテトラオキシ基、基:
【化87】 を表し;あるいは、mが5を表す場合、R1 は炭素原子
数5ないし10のアルカンペンタオキシ基を表し;さら
にmが6を表す場合、R1 は炭素原子数6ないし10の
アルカンヘキサオキシ基、基:
数5ないし10のアルカンペンタオキシ基を表し;さら
にmが6を表す場合、R1 は炭素原子数6ないし10の
アルカンヘキサオキシ基、基:
【化88】 を表す。}で表される化合物で表される新規な化合物に
も関する。
も関する。
【0113】式(1)の新規な化合物の好ましい基は、
本発明の組成物に対して上述した好ましいものと一致す
る。
本発明の組成物に対して上述した好ましいものと一致す
る。
【0114】好ましいものはまた、R2 、R3 、R4 お
よびR5 が互いに独立して、水素原子、炭素原子数1な
いし18のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、炭素
原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1な
いし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアル
カノイルオキシ基、炭素原子数3ないし18のアルケノ
イルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を表し;さら
に、R4 が−(CH2 )n −COR14(式中、nおよび
R14は上記で定義したものを表す。)を表し、mは1な
いし4を表し;そしてmが1を表す場合、R1 はヒドロ
キシル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基;酸
素原子、硫黄原子もしくは基:
よびR5 が互いに独立して、水素原子、炭素原子数1な
いし18のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、炭素
原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1な
いし8のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアル
カノイルオキシ基、炭素原子数3ないし18のアルケノ
イルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を表し;さら
に、R4 が−(CH2 )n −COR14(式中、nおよび
R14は上記で定義したものを表す。)を表し、mは1な
いし4を表し;そしてmが1を表す場合、R1 はヒドロ
キシル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基;酸
素原子、硫黄原子もしくは基:
【化89】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)で中断さ
れた炭素原子数3ないし18のアルコキシ基;ベンジル
オキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基、未置換のまたは炭素原子数1ないし8のアルキル基
で置換されたフェノキシ基、基:
れた炭素原子数3ないし18のアルコキシ基;ベンジル
オキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基、未置換のまたは炭素原子数1ないし8のアルキル基
で置換されたフェノキシ基、基:
【化90】 (基中、R15、R16、p、R19およびR20は、上記で定
義したものを表す。)ならびに;mが2を表す場合、R
1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ基;酸
素原子により中断されている炭素原子数3ないし25の
アルカンジオキシ基を表し;mが3を表す場合、R1 は
炭素原子数3ないし10のアルカントリオキシ基を表
し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は基:
義したものを表す。)ならびに;mが2を表す場合、R
1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ基;酸
素原子により中断されている炭素原子数3ないし25の
アルカンジオキシ基を表し;mが3を表す場合、R1 は
炭素原子数3ないし10のアルカントリオキシ基を表
し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は基:
【化91】 を表す式(1)の化合物に示されるものである。
【0115】好ましいものはまた、基R2 、R3 、R4
およびR5 の少なくとも2つが水素原子を表す式(1)
の化合物に示されるものである。
およびR5 の少なくとも2つが水素原子を表す式(1)
の化合物に示されるものである。
【0116】特に好ましいものはまた、R3 およびR5
が水素原子を表す式(1)の化合物に示されるものであ
る。
が水素原子を表す式(1)の化合物に示されるものであ
る。
【0117】好ましいものはまたmが1を表す式(1)
の化合物に示されるものである。
の化合物に示されるものである。
【0118】特に重要なものは、mが1を表し、R1 は
ヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ
基;酸素原子で中断された炭素原子数3ないし18のア
ルコキシ基;未置換のまたは炭素原子数1ないし8のア
ルキル基で置換されたフェノキシ基、基
ヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ
基;酸素原子で中断された炭素原子数3ないし18のア
ルコキシ基;未置換のまたは炭素原子数1ないし8のア
ルキル基で置換されたフェノキシ基、基
【化92】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し、p、
R19およびR20は、上記で定義したものを表す。)を表
し、R2 が水素原子または炭素原子数1ないし18のア
ルキル基またはシクロヘキシル基を表し、R3 、R5 、
R7 およびR10は水素原子を表すか;または基R2 およ
びR3 はそれらが結合される炭素原子と一緒になってフ
ェニル環を形成し、R4 は水素原子、炭素原子数1ない
し6のアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基または−(CH2 )2 −COR14
(式中、R14は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
す。)を表し、R8 、R9 、R11およびR12は互いに独
立して水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し、そして;R6 が水素原子を表す場合、R4 はさら
に式(2):
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し、p、
R19およびR20は、上記で定義したものを表す。)を表
し、R2 が水素原子または炭素原子数1ないし18のア
ルキル基またはシクロヘキシル基を表し、R3 、R5 、
R7 およびR10は水素原子を表すか;または基R2 およ
びR3 はそれらが結合される炭素原子と一緒になってフ
ェニル環を形成し、R4 は水素原子、炭素原子数1ない
し6のアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基または−(CH2 )2 −COR14
(式中、R14は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
す。)を表し、R8 、R9 、R11およびR12は互いに独
立して水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し、そして;R6 が水素原子を表す場合、R4 はさら
に式(2):
【化93】 (式中、R1 、R2 、R8 、R9 、R11およびR12は上
記で定義されたものを表し、R17およびR18は、互いに
独立して水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基を表すか、あるいはR17およびR18は、それらが結
合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数5ないし
7のシクロアルキリデン環を形成する。)で表される基
を表し;R6 は水素原子または式(3):
記で定義されたものを表し、R17およびR18は、互いに
独立して水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基を表すか、あるいはR17およびR18は、それらが結
合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数5ないし
7のシクロアルキリデン環を形成する。)で表される基
を表し;R6 は水素原子または式(3):
【化94】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す、式(1)の化合物に示され
るものである。
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す、式(1)の化合物に示され
るものである。
【0119】特別に好ましいものは、mが1を表し、R
1 はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18のアルコ
キシ基;未置換のまたは炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェノキシ基、基:
1 はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18のアルコ
キシ基;未置換のまたは炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェノキシ基、基:
【化95】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、pは1
または2を表し、ならびにR19およびR20は、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。)を表し、R2 が水
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
し、R3 、R5 、R7 、R10、R11およびR12は水素原
子を表し、R4 は水素原子または炭素原子数1ないし4
のアルキル基を表し、そして;R6 が水素原子を表す場
合、R4 はさらに式(2):
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、pは1
または2を表し、ならびにR19およびR20は、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。)を表し、R2 が水
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
し、R3 、R5 、R7 、R10、R11およびR12は水素原
子を表し、R4 は水素原子または炭素原子数1ないし4
のアルキル基を表し、そして;R6 が水素原子を表す場
合、R4 はさらに式(2):
【化96】 (式中、R17およびR18は、それらが結合される炭素原
子と一緒になって、シクロヘキシリデン環を形成し、R
8 およびR9 は、互いに独立して水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表す。)で表される基を
表し;R6 は水素原子または式(3):
子と一緒になって、シクロヘキシリデン環を形成し、R
8 およびR9 は、互いに独立して水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表す。)で表される基を
表し;R6 は水素原子または式(3):
【化97】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す式(1)の化合物に示される
ものである。
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す式(1)の化合物に示される
ものである。
【0120】式(1)で表される本発明による化合物は
それ自体公知の方法によって製造できる。
それ自体公知の方法によって製造できる。
【0121】例えば、これは好ましい手順であるが、
【化98】 式(4)(式中、R2 、R3 、R4 およびR5 は上記で
定義したものを表す。)で表されるフェノールを、フェ
ニル環上で置換されているマンデル酸で式(5)または
(6)(式中、R1 、R7 、R8 、R9 、R10、R11お
よびR12は上記で定義したものを表す。)で表される構
造をもつものと、高められた温度にて、とりわけ130
℃ないし200℃の温度にてメルト内でまたは溶媒中
で、所望により弱い真空下にて反応させる。反応は好ま
しくは例えば、酢酸または蟻酸のような溶媒中で、50
ないし130℃の温度範囲で行われる。反応は、塩酸、
硫酸またはメタンスルホン酸のような酸を加えることに
より触媒的作用を受けることができる。反応は、例えば
本明細書の導入部の記述にて示された文献に記載されて
いるような方法で行うことができる。
定義したものを表す。)で表されるフェノールを、フェ
ニル環上で置換されているマンデル酸で式(5)または
(6)(式中、R1 、R7 、R8 、R9 、R10、R11お
よびR12は上記で定義したものを表す。)で表される構
造をもつものと、高められた温度にて、とりわけ130
℃ないし200℃の温度にてメルト内でまたは溶媒中
で、所望により弱い真空下にて反応させる。反応は好ま
しくは例えば、酢酸または蟻酸のような溶媒中で、50
ないし130℃の温度範囲で行われる。反応は、塩酸、
硫酸またはメタンスルホン酸のような酸を加えることに
より触媒的作用を受けることができる。反応は、例えば
本明細書の導入部の記述にて示された文献に記載されて
いるような方法で行うことができる。
【0122】上記式(5)に示される、フェニル環上で
置換された4−ヒドロキシマンデル酸は文献において知
られており、または例えば、W.ブラドレイら(W.Brad
leyet al.) ,J.Chem.Soc.1956,16
22;ヨーロッパ特許EP−A−146269号または
独国特許DE2944295号に示される方法と同様に
製造することができる。
置換された4−ヒドロキシマンデル酸は文献において知
られており、または例えば、W.ブラドレイら(W.Brad
leyet al.) ,J.Chem.Soc.1956,16
22;ヨーロッパ特許EP−A−146269号または
独国特許DE2944295号に示される方法と同様に
製造することができる。
【0123】R1 がヒドロキシル基である上記式(6)
に示される、フェニル環上で置換された4−カルボキシ
メトキシマンデル酸は、式(5)で表されるフェノール
から出発して、一般に知られたエーテル化条件に従っ
て、例えば、Organikum 1986,194−
200ページに従って、例えば塩基性条件の下で式
に示される、フェニル環上で置換された4−カルボキシ
メトキシマンデル酸は、式(5)で表されるフェノール
から出発して、一般に知られたエーテル化条件に従っ
て、例えば、Organikum 1986,194−
200ページに従って、例えば塩基性条件の下で式
【化99】 で表されるα−クロロ酢酸誘導体とのアルキル化によ
り、エーテル化するこができる。
り、エーテル化するこができる。
【0124】式(4)のフェノールもまた公知であるか
またはそれ自体公知の方法により得ることができる。
またはそれ自体公知の方法により得ることができる。
【0125】式(7)
【化100】 で表されるビスフェノール化合物はフーベン−ヴェイル
(Houben-Weyl)著、Methoden der org
anishen Chemie(有機化学の方法),6
/c巻、1030に従って製造することができる。
(Houben-Weyl)著、Methoden der org
anishen Chemie(有機化学の方法),6
/c巻、1030に従って製造することができる。
【0126】この反応により得られた、R1 が水素原子
を表し、mは1を表す、式(1)に示される3−(カル
ボキシメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オンは、
公知の一般的エステル化法およびアミド化方法、例えば
Organikum 1986,402−410ページ
に従って、式:R1 1 (OH)m (式中、R1 1 (O)
m はヒドロキシ基を除くR1 に定義されたものを表し、
mは1ないし6の範囲の整数を表す。)で表されるm−
価アルコールまたは式:
を表し、mは1を表す、式(1)に示される3−(カル
ボキシメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オンは、
公知の一般的エステル化法およびアミド化方法、例えば
Organikum 1986,402−410ページ
に従って、式:R1 1 (OH)m (式中、R1 1 (O)
m はヒドロキシ基を除くR1 に定義されたものを表し、
mは1ないし6の範囲の整数を表す。)で表されるm−
価アルコールまたは式:
【化101】 で表される第一もしくは第二アミンを用いて誘導するこ
とができる。
とができる。
【0127】
【化102】 R6 が式(3)を表す式(1)の化合物〔上記、式
(9)で表される化合物〕を製造するための式(8)
(式中、R21は式:
(9)で表される化合物〕を製造するための式(8)
(式中、R21は式:
【化103】 で表される基を表す。)の化合物の二量化は、例えば室
温において有機溶媒中、塩基条件下でヨウ素による酸化
によって行われる。適当な塩基は特にナトリウムエトキ
シドであり、適当な溶媒はエタノールおよびジエチルエ
ーテルである。
温において有機溶媒中、塩基条件下でヨウ素による酸化
によって行われる。適当な塩基は特にナトリウムエトキ
シドであり、適当な溶媒はエタノールおよびジエチルエ
ーテルである。
【0128】
【実施例】本発明を以下の実施例により更に詳細に説明
する。実施例中の部およびパーセントは重量に基づく。
する。実施例中の部およびパーセントは重量に基づく。
【0129】実施例1:a)3−(4−カルボキシメト
キシフェニル)−5−メチルベンゾフラン−2−オン
〔表1における化合物(101)〕の製造 p−クレゾール41.6g(0.39mol)および4
−カルボキシメトキシマンデル酸29.0g(0.13
mol)の混合物を、形成した水を留去しながら、窒素
雰囲気下、185℃で90分間保つ。過剰のp−クレゾ
ールを減圧下で留去する。キシレン75mlからの残渣
の結晶化により、融点198−203℃の3−(4−カ
ルボキシメトキシフェニル)−5−メチルベンゾフラン
−2−オン〔表1における化合物(101)〕を得る。
化合物(102)および(103)は以下の段落に記述
された置換マンデル酸から実施例1と同様に製造され
る。
キシフェニル)−5−メチルベンゾフラン−2−オン
〔表1における化合物(101)〕の製造 p−クレゾール41.6g(0.39mol)および4
−カルボキシメトキシマンデル酸29.0g(0.13
mol)の混合物を、形成した水を留去しながら、窒素
雰囲気下、185℃で90分間保つ。過剰のp−クレゾ
ールを減圧下で留去する。キシレン75mlからの残渣
の結晶化により、融点198−203℃の3−(4−カ
ルボキシメトキシフェニル)−5−メチルベンゾフラン
−2−オン〔表1における化合物(101)〕を得る。
化合物(102)および(103)は以下の段落に記述
された置換マンデル酸から実施例1と同様に製造され
る。
【0130】b)4−カルボキシメトキシ−3−メチル
マンデル酸 クロロ酢酸4.7g(0.05mol)を4−ヒドロキ
シ−3−メチルマンデル酸9.11g(0.05mo
l)および水酸化ナトリウム6.0g(0.15モル)
の25ml水溶液に添加し、混合物を80℃で3時間攪
拌する。反応混合物を濃塩酸で酸性化し、氷/水で冷却
し、および沈澱生成物をろ過し、水で洗浄し、高真空で
乾燥して、融点95−100℃の4−カルボキシメトキ
シ−3−メチルマンデル酸5.65g(62%)を得
る。融点150℃−152℃の4−カルボキシメトキシ
−3,5−ジメチルマンデル酸は、実施例1b)と同様
にして3,5−ジメチル−4−ヒドロキシマンデル酸か
ら収量60%で得られる。
マンデル酸 クロロ酢酸4.7g(0.05mol)を4−ヒドロキ
シ−3−メチルマンデル酸9.11g(0.05mo
l)および水酸化ナトリウム6.0g(0.15モル)
の25ml水溶液に添加し、混合物を80℃で3時間攪
拌する。反応混合物を濃塩酸で酸性化し、氷/水で冷却
し、および沈澱生成物をろ過し、水で洗浄し、高真空で
乾燥して、融点95−100℃の4−カルボキシメトキ
シ−3−メチルマンデル酸5.65g(62%)を得
る。融点150℃−152℃の4−カルボキシメトキシ
−3,5−ジメチルマンデル酸は、実施例1b)と同様
にして3,5−ジメチル−4−ヒドロキシマンデル酸か
ら収量60%で得られる。
【0131】c)4−ヒドロキシ−3−メチルマンデル
酸の製造 窒素雰囲気下で、o−クレゾール32.4(0.30m
ol)を2N水酸化ナトリウム150mlに溶解する。
溶液を+5℃に冷却した後、水酸化ナトリウム4.8g
(0.12mol)および50%グリコール酸水溶液1
3.3ml(0.12mol)を加え、次に反応混合物
を室温で4時間攪拌する。4時間後、別の水酸化ナトリ
ウムおよびグリオキシル酸のそれぞれ0.12mol
を、もう2回添加する(総計0.36mol)。反応混
合物をさらに12時間混合し、濃塩酸で中和し、石油エ
ーテル75mlで2回洗浄する。続いて水相を濃塩酸で
酸性化しそしてエーテルで数回抽出する。有機相を合わ
せ、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして減圧ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。融点115−120℃の
4−ヒドロキシ−3−メチルマンデル酸、30.1g
(収量55%)を得る。
酸の製造 窒素雰囲気下で、o−クレゾール32.4(0.30m
ol)を2N水酸化ナトリウム150mlに溶解する。
溶液を+5℃に冷却した後、水酸化ナトリウム4.8g
(0.12mol)および50%グリコール酸水溶液1
3.3ml(0.12mol)を加え、次に反応混合物
を室温で4時間攪拌する。4時間後、別の水酸化ナトリ
ウムおよびグリオキシル酸のそれぞれ0.12mol
を、もう2回添加する(総計0.36mol)。反応混
合物をさらに12時間混合し、濃塩酸で中和し、石油エ
ーテル75mlで2回洗浄する。続いて水相を濃塩酸で
酸性化しそしてエーテルで数回抽出する。有機相を合わ
せ、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして減圧ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。融点115−120℃の
4−ヒドロキシ−3−メチルマンデル酸、30.1g
(収量55%)を得る。
【0132】実施例2:5−メチル−3−(4−n−オ
クタデシルオキシカルボニルメトキシフェニル)ベンゾ
フラン−2−オン〔表1における化合物(105)〕の
製造 1−オクタデカノール5.0g(18.5mmol)、
3−(4−カルボキシメトキシフェニル)−5−メチル
ベンゾフラン−2−オン〔実施例1の化合物(10
1)〕5.0g(16.8mmol)およびp−トルエ
ンスルホン酸1.0g(5.3mmol)の混合物を2
00℃、僅かに減圧にして(150mmHg)約1時間
攪拌する。反応混合物を次にリグロイン60mlで稀釈
し、氷/水で冷却する。沈澱生成物をろ過する。リグロ
インからの残渣の結晶化により、融点85−87℃の5
−メチル−3−(4−n−オクタデシルオキシカルボニ
ルメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン〔表1に
おける化合物(105)〕7.5g(81%)を得る。
化合物(104)、(107)および(108)は相当
するベンゾフラン−2−オンおよびアルコールから実施
例2と同様に製造される。
クタデシルオキシカルボニルメトキシフェニル)ベンゾ
フラン−2−オン〔表1における化合物(105)〕の
製造 1−オクタデカノール5.0g(18.5mmol)、
3−(4−カルボキシメトキシフェニル)−5−メチル
ベンゾフラン−2−オン〔実施例1の化合物(10
1)〕5.0g(16.8mmol)およびp−トルエ
ンスルホン酸1.0g(5.3mmol)の混合物を2
00℃、僅かに減圧にして(150mmHg)約1時間
攪拌する。反応混合物を次にリグロイン60mlで稀釈
し、氷/水で冷却する。沈澱生成物をろ過する。リグロ
インからの残渣の結晶化により、融点85−87℃の5
−メチル−3−(4−n−オクタデシルオキシカルボニ
ルメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン〔表1に
おける化合物(105)〕7.5g(81%)を得る。
化合物(104)、(107)および(108)は相当
するベンゾフラン−2−オンおよびアルコールから実施
例2と同様に製造される。
【0133】実施例3:5,7−ジメチル−3−(4−
n−オクタデシルオキシカルボニルメトキシフェニル)
ベンゾフラン−2−オン〔表1における化合物(10
9)〕2,4−ジメチルフェノール18.3g(0.1
5mol)および4−カルボキシメトキシマンデル酸1
1.3g(0.05mol)の混合物を約185℃で
3.5時間攪拌する。過剰の2,4−ジメチルフェノー
ルは高真空中で留去される。1−オクタデカノール1
2.5g(0.046mol)およびp−トルエンスル
ホン酸0.3g(1.58mmol)を残渣に加え、混
合物を約185℃の僅かに減圧(50mbar)にして
1.5時間の間保つ。反応混合物をトルエン50mlで
稀釈し、水で洗浄する。有機相を集めて、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、減圧ロータリーエバポレーターで濃縮
する。アセトニトリルからの残渣の結晶化により、融点
57−69℃をもつ、5,7−ジメチル−3−(4−n
−オクタデシルオキシカルボニルメトキシフェニル)ベ
ンゾフラン−2−オン〔表1における化合物(10
9)〕9.9g(38%)を得る。化合物(110)は
相当するベンゾフラン−2−オンから実施例3と同様の
方法により製造される。
n−オクタデシルオキシカルボニルメトキシフェニル)
ベンゾフラン−2−オン〔表1における化合物(10
9)〕2,4−ジメチルフェノール18.3g(0.1
5mol)および4−カルボキシメトキシマンデル酸1
1.3g(0.05mol)の混合物を約185℃で
3.5時間攪拌する。過剰の2,4−ジメチルフェノー
ルは高真空中で留去される。1−オクタデカノール1
2.5g(0.046mol)およびp−トルエンスル
ホン酸0.3g(1.58mmol)を残渣に加え、混
合物を約185℃の僅かに減圧(50mbar)にして
1.5時間の間保つ。反応混合物をトルエン50mlで
稀釈し、水で洗浄する。有機相を集めて、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、減圧ロータリーエバポレーターで濃縮
する。アセトニトリルからの残渣の結晶化により、融点
57−69℃をもつ、5,7−ジメチル−3−(4−n
−オクタデシルオキシカルボニルメトキシフェニル)ベ
ンゾフラン−2−オン〔表1における化合物(10
9)〕9.9g(38%)を得る。化合物(110)は
相当するベンゾフラン−2−オンから実施例3と同様の
方法により製造される。
【0134】実施例4: 無水ジクロロメタン50ml
中の3−(4−カルボキシメトキシフェニル)−5−メ
チル−ベンゾフラン−2−オン〔実施例1の化合物(1
01)〕6.0g(20mmol)、N,N’−ジクロ
ロヘキシルカルボジイミド4.12g(20.0mmo
l)、ジメチルアミノピリジン0.1g(0.82mm
ol)およびジメチルヒドロキシエチルホスホネート
3.36g(21.8mmol)溶液を室温で2.5時
間攪拌する。反応混合物をろ過し、ろ液を、ジクロロメ
タン/酢酸エチル(3:2)溶離系を用いたシリカゲル
上のクロマトグラフィーにかけ、油状化合物(111)
(表1)7.30g(84%)を得る。化合物(11
2)はジエチルヒドロキシメチルホスホネートから実施
例4と同様の方法により得られる。
中の3−(4−カルボキシメトキシフェニル)−5−メ
チル−ベンゾフラン−2−オン〔実施例1の化合物(1
01)〕6.0g(20mmol)、N,N’−ジクロ
ロヘキシルカルボジイミド4.12g(20.0mmo
l)、ジメチルアミノピリジン0.1g(0.82mm
ol)およびジメチルヒドロキシエチルホスホネート
3.36g(21.8mmol)溶液を室温で2.5時
間攪拌する。反応混合物をろ過し、ろ液を、ジクロロメ
タン/酢酸エチル(3:2)溶離系を用いたシリカゲル
上のクロマトグラフィーにかけ、油状化合物(111)
(表1)7.30g(84%)を得る。化合物(11
2)はジエチルヒドロキシメチルホスホネートから実施
例4と同様の方法により得られる。
【0135】実施例5: p−クレゾール6.95g
(64.3mmol)および4−カルボキシメトキシマ
ンデル酸4.83g(21.4mmol)の混合物を窒
素雰囲気下、約185℃で2.5時間保持する。過剰の
p−クレゾールを減圧下で留去する。残渣にp−クレゾ
ールアセテート6.3g(42mmol)およびジブチ
ル錫オキシド50mgを加える。反応混合物を180
℃、僅かに減圧にして(600mbar)4時間保持す
る。過剰のp−クレゾールアセテートを高真空下で留去
する。残渣のジクロロメタン/酢酸エチル(3:2)溶
離系を用いたシリカゲル上のクロマトグラフィーおよび
メタノールからの精製部分の結晶化により、化合物(1
06)(表1)2.3g(28%)を得る。
(64.3mmol)および4−カルボキシメトキシマ
ンデル酸4.83g(21.4mmol)の混合物を窒
素雰囲気下、約185℃で2.5時間保持する。過剰の
p−クレゾールを減圧下で留去する。残渣にp−クレゾ
ールアセテート6.3g(42mmol)およびジブチ
ル錫オキシド50mgを加える。反応混合物を180
℃、僅かに減圧にして(600mbar)4時間保持す
る。過剰のp−クレゾールアセテートを高真空下で留去
する。残渣のジクロロメタン/酢酸エチル(3:2)溶
離系を用いたシリカゲル上のクロマトグラフィーおよび
メタノールからの精製部分の結晶化により、化合物(1
06)(表1)2.3g(28%)を得る。
【0136】実施例6: 酢酸25ml中の2,4−ジ
−第三ブチルフェノール10.3g(50mmol)、
4−カルボキシメトキシマンデル酸11.3g(50m
mol)およびメタンスルホン酸0.5g(5.2mm
ol)を4時間還流する。酢酸を次に留去し、エタノー
ル50mlを残渣に加え、そして混合物を分子篩を備え
た管に適合した装置で2時間還流する。反応混合物を濃
縮し、そして残渣をトルエンで稀釈し、希炭酸水素ナト
リウム溶液で洗浄する。有機相を合わせ、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥しそして減圧ロータリーエバポレーターで
濃縮する。残渣のリグロインからの結晶化により、融点
95−96℃の化合物(113)(表1)16.1g
(76%)を得る。化合物(114)および(120)
は実施例6と同様に相当するフェノールから製造され
る。化合物(120)の製造には、使用されるビスフェ
ノールにつき4−カルボキシメトキシマンデル酸2当量
が使用される。
−第三ブチルフェノール10.3g(50mmol)、
4−カルボキシメトキシマンデル酸11.3g(50m
mol)およびメタンスルホン酸0.5g(5.2mm
ol)を4時間還流する。酢酸を次に留去し、エタノー
ル50mlを残渣に加え、そして混合物を分子篩を備え
た管に適合した装置で2時間還流する。反応混合物を濃
縮し、そして残渣をトルエンで稀釈し、希炭酸水素ナト
リウム溶液で洗浄する。有機相を合わせ、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥しそして減圧ロータリーエバポレーターで
濃縮する。残渣のリグロインからの結晶化により、融点
95−96℃の化合物(113)(表1)16.1g
(76%)を得る。化合物(114)および(120)
は実施例6と同様に相当するフェノールから製造され
る。化合物(120)の製造には、使用されるビスフェ
ノールにつき4−カルボキシメトキシマンデル酸2当量
が使用される。
【0137】実施例7:メタノール50ml中の5,7
−ジ−第三ブチル−3−(4−エトキシカルボニルメト
キシフェニル)ベンゾフラン−2−オン〔実施例6の化
合物(113)〕5.0g(11.8mmol)、強酸
性イオン交換樹脂(Dowex)2gを4時間還流す
る。反応混合物をろ過し、ろ液を減圧ロータリーエバポ
レーターで濃縮し、リグロインからの残渣の結晶化によ
り、融点115−117℃の5,7−ジ−第三ブチル−
3−(4−メトキシカルボニルメトキシフェニル)ベン
ゾフラン−2−オン〔表1における化合物(115)〕
3.0g(62%)を得る。
−ジ−第三ブチル−3−(4−エトキシカルボニルメト
キシフェニル)ベンゾフラン−2−オン〔実施例6の化
合物(113)〕5.0g(11.8mmol)、強酸
性イオン交換樹脂(Dowex)2gを4時間還流す
る。反応混合物をろ過し、ろ液を減圧ロータリーエバポ
レーターで濃縮し、リグロインからの残渣の結晶化によ
り、融点115−117℃の5,7−ジ−第三ブチル−
3−(4−メトキシカルボニルメトキシフェニル)ベン
ゾフラン−2−オン〔表1における化合物(115)〕
3.0g(62%)を得る。
【0138】実施例8:酢酸50ml中のジ−2,4−
ジ−第三ブチルフェノール20.6g(0.10mo
l)、4−カルボキシメトキシマンデル酸22.6g
(0.10mol)およびメタンスルホン酸1g(10
mmol)混合物を15時間還流する。酢酸を次に留去
する。残渣にジクロロメタン100mlに溶解し、そし
て溶液を3回水で洗浄する。有機相を合わせ、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥しそして減圧ロータリーエバポレータ
ーで濃縮する。残渣のリグロインからの結晶化により、
融点158−162℃の5,7−ジ−第三ブチル−3−
(4−カルボキシメトキシフェニル)ベンゾフラン−2
−オン〔表1における化合物(116)〕31.0g
(78%)を得る。
ジ−第三ブチルフェノール20.6g(0.10mo
l)、4−カルボキシメトキシマンデル酸22.6g
(0.10mol)およびメタンスルホン酸1g(10
mmol)混合物を15時間還流する。酢酸を次に留去
する。残渣にジクロロメタン100mlに溶解し、そし
て溶液を3回水で洗浄する。有機相を合わせ、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥しそして減圧ロータリーエバポレータ
ーで濃縮する。残渣のリグロインからの結晶化により、
融点158−162℃の5,7−ジ−第三ブチル−3−
(4−カルボキシメトキシフェニル)ベンゾフラン−2
−オン〔表1における化合物(116)〕31.0g
(78%)を得る。
【0139】実施例9: ジクロロメタン50ml中の
5,7−ジ−第三ブチル−3−(4−カルボキシメトキ
シフェニル)ベンゾフラン−2−オン〔実施例8の化合
物(116)〕7.93g(20mmol)、N,N’
−ジクロロヘキシルカルボジイミド4.13g(20.
0mmol)、4−ジメチルアミノピリジン120mg
(1.0mmol)およびジ−n−ブチルアミン2.6
g(35.5mmol)混合物を室温で2時間攪拌す
る。反応混合物をろ過し、ろ液を減圧ロータリーエバポ
レーターで濃縮する。残渣を酢酸エチル/ヘキサン
(5:1)溶離系を用いたシリカゲル上のクロマトグラ
フィーにかけ、樹脂状形態の化合物(117)(表1)
5.4g(53%)を得る。化合物(118)は実施例
9と同様に、n−ブチルアミンから出発して製造され
る。
5,7−ジ−第三ブチル−3−(4−カルボキシメトキ
シフェニル)ベンゾフラン−2−オン〔実施例8の化合
物(116)〕7.93g(20mmol)、N,N’
−ジクロロヘキシルカルボジイミド4.13g(20.
0mmol)、4−ジメチルアミノピリジン120mg
(1.0mmol)およびジ−n−ブチルアミン2.6
g(35.5mmol)混合物を室温で2時間攪拌す
る。反応混合物をろ過し、ろ液を減圧ロータリーエバポ
レーターで濃縮する。残渣を酢酸エチル/ヘキサン
(5:1)溶離系を用いたシリカゲル上のクロマトグラ
フィーにかけ、樹脂状形態の化合物(117)(表1)
5.4g(53%)を得る。化合物(118)は実施例
9と同様に、n−ブチルアミンから出発して製造され
る。
【0140】実施例10:3,3’−ビス[5,7−ジ
−第三ブチル−3−(4−エトキシカルボニルメトキシ
フェニル)ベンゾフラン−2−オン]〔表1における化
合物(119)〕の製造 5,7−ジ−第三ブチル−3−(4−エトキシカルボニ
ルメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン〔実施例
6の化合物(113)〕17.0g(40.0mmo
l)を窒素雰囲気下で、無水エタノール80mlにナト
リウム0.92g(40.0mmol)に添加すること
により調整したナトリウムエトキシド溶液に添加する。
ジエチルエーテル50ml中のヨウ素5.10g(4
0.0mmol)を次に室温にて約10分間にわたり滴
下で加える。反応混合物をさらに1.5時間攪拌し、次
に水250mlで稀釈しそしてジクロロメタンで抽出す
る。有機相を分離し、水で洗浄し、集めて硫酸マグネシ
ウム上で乾燥しそして減圧ロータリーエバポレーターで
濃縮する。エタノールから残渣を2回結晶化させ、融点
180−185℃の3,3’−ビス[5,7−ジ−第三
ブチル−3−(4−エトキシカルボニルメトキシフェニ
ル)ベンゾフラン−2−オン]〔表1における化合物
(119)〕2.88g(17%)を得る。
−第三ブチル−3−(4−エトキシカルボニルメトキシ
フェニル)ベンゾフラン−2−オン]〔表1における化
合物(119)〕の製造 5,7−ジ−第三ブチル−3−(4−エトキシカルボニ
ルメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン〔実施例
6の化合物(113)〕17.0g(40.0mmo
l)を窒素雰囲気下で、無水エタノール80mlにナト
リウム0.92g(40.0mmol)に添加すること
により調整したナトリウムエトキシド溶液に添加する。
ジエチルエーテル50ml中のヨウ素5.10g(4
0.0mmol)を次に室温にて約10分間にわたり滴
下で加える。反応混合物をさらに1.5時間攪拌し、次
に水250mlで稀釈しそしてジクロロメタンで抽出す
る。有機相を分離し、水で洗浄し、集めて硫酸マグネシ
ウム上で乾燥しそして減圧ロータリーエバポレーターで
濃縮する。エタノールから残渣を2回結晶化させ、融点
180−185℃の3,3’−ビス[5,7−ジ−第三
ブチル−3−(4−エトキシカルボニルメトキシフェニ
ル)ベンゾフラン−2−オン]〔表1における化合物
(119)〕2.88g(17%)を得る。
【0141】本発明の化合物例の構造および性質を以下
の表1に示す。 表1:(続く)
の表1に示す。 表1:(続く)
【表1】 表1:(続く)
【表2】 表1:(続く)
【表3】 表1:(続く)
【表4】 表1:(続き)
【表5】
【0142】実施例11:多重押出におけるポリプロピ
レンの安定化 登録商標イルガノックス1076(Irganox)〔n−オク
タデシル(3−[3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル]プロピオネート)、230℃および2.
16kgで測定されたメルトインデックス3.2をも
つ〕0.025%で予め安定化されたポリプロピレン粉
末〔プロファックス(Profax)6501〕1.3kg
を、登録商標イルガノックス1010(Irganox)〔ペン
タエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕
0.05%、ステアリン酸カルシウム0.05%、ジヒ
ドロタルサイト〔登録商標DHT 4A、Kyowa化
学工業(株)[Mg4.5 Al2 (OH)13CO3 ・3.
5H2 O]〕0.03%および表1の化合物0.015
%と混合する。混合物を直径20mm、長さ400mm
のシリンダーの押出機で、100回転/分、以下の温度
にセットされた3加熱帯:260℃、270℃および2
80℃で押し出す。押出物を水浴を通過させることによ
り冷却し、次に粉砕する。粉砕物を繰り返し押し出す。
3回の押出の後メルトインデックス(230℃,2.1
6kgにおいて)を測定する。メルトインデックスの大
きな増加は実質的な連鎖崩壊、即ち乏しい安定化を示
す。結果を表2にまとめる。
レンの安定化 登録商標イルガノックス1076(Irganox)〔n−オク
タデシル(3−[3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル]プロピオネート)、230℃および2.
16kgで測定されたメルトインデックス3.2をも
つ〕0.025%で予め安定化されたポリプロピレン粉
末〔プロファックス(Profax)6501〕1.3kg
を、登録商標イルガノックス1010(Irganox)〔ペン
タエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕
0.05%、ステアリン酸カルシウム0.05%、ジヒ
ドロタルサイト〔登録商標DHT 4A、Kyowa化
学工業(株)[Mg4.5 Al2 (OH)13CO3 ・3.
5H2 O]〕0.03%および表1の化合物0.015
%と混合する。混合物を直径20mm、長さ400mm
のシリンダーの押出機で、100回転/分、以下の温度
にセットされた3加熱帯:260℃、270℃および2
80℃で押し出す。押出物を水浴を通過させることによ
り冷却し、次に粉砕する。粉砕物を繰り返し押し出す。
3回の押出の後メルトインデックス(230℃,2.1
6kgにおいて)を測定する。メルトインデックスの大
きな増加は実質的な連鎖崩壊、即ち乏しい安定化を示
す。結果を表2にまとめる。
【0143】実施例12:加工中のポリエチレンの安定
化 ポリエチレン粉末〔登録商標ルポレン5260Z(Lupo
len)〕100部をペンタエリトリトールテトラキス[3
−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート]0.05部、トリス(2,4−ジ
−第三ブチルフェニル)ホスフィット0.05部および
表1からの化合物0.05部と混合し、混合物をブラベ
ンダープラストグラフを用いて220℃および50回転
/分で混練する。この期間中、混練に対する抵抗を連続
的にトルクとして記録する。混練中、ポリマーは長期間
不変のままでその後、架橋を開始し、それはトルクの迅
速な増加により測定できる。表3において、安定剤の効
果の測定として観察されたトルクの実質的増加までの時
間を示す。より長い時間が、より良好な安定剤の効果で
ある。
化 ポリエチレン粉末〔登録商標ルポレン5260Z(Lupo
len)〕100部をペンタエリトリトールテトラキス[3
−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート]0.05部、トリス(2,4−ジ
−第三ブチルフェニル)ホスフィット0.05部および
表1からの化合物0.05部と混合し、混合物をブラベ
ンダープラストグラフを用いて220℃および50回転
/分で混練する。この期間中、混練に対する抵抗を連続
的にトルクとして記録する。混練中、ポリマーは長期間
不変のままでその後、架橋を開始し、それはトルクの迅
速な増加により測定できる。表3において、安定剤の効
果の測定として観察されたトルクの実質的増加までの時
間を示す。より長い時間が、より良好な安定剤の効果で
ある。
Claims (18)
- 【請求項1】 a)酸化的、熱的もしくは光誘起性崩壊
を受けやすい有機材料および b)次式(1) 【化1】 {式中、R2 、R3 、R4 およびR5 は互いに独立し
て、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ
基、ヒドロキシル基、炭素原子数1ないし25のアルカ
ノイルオキシ基、炭素原子数3ないし25のアルケノイ
ルオキシ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基 【化2】 (基中、R13は水素原子もしくは炭素原子数1ないし8
のアルキル基を表す。)で中断されている炭素原子数3
ないし25のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ない
し9のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基もしくは炭素原子数1ないし12のアルキル基
で置換されたベンゾイルオキシ基を表し;あるいは、さ
らに、基R2 およびR3 または基R4 およびR5 はそれ
らが結合される炭素原子と一緒になってフェニル環を形
成するか;その上さらに、R4 は−(CH2 )n −CO
R14〔式中、nは0,1もしくは2を表し、R14はヒド
ロキシル基、基: 【化3】 (基中、Mはr−価の金属カチオンを表し、およびrは
1、2もしくは3を表す。)、炭素原子数1ないし18
のアルコキシ基または基 【化4】 (基中、R15およびR16は、互いに独立して水素原子も
しくは炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)
を表す。〕を表し;R7 、R8 、R9 およびR10は互い
に独立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表
し、但し、基R7 、R8 、R9 およびR10のうち少なく
とも1つは水素原子であり、R11およびR12は互いに独
立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基
またはフェニル基を表し;ならびにR3 、R5 、R6 、
R7 およびR10が水素原子を表す場合、R4 はさらに式
(2): 【化5】 (式中、R2 、R8 、R9 、R11およびR12は上記で定
義されたものを表し、R 1 は以下のm=1に対して定義
されたものを表し、ならびにR17およびR18は、互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基またはフェニル基を表すか、あるいはR17およびR18
は、それらが結合される炭素原子と一緒になって、未置
換のまたは1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアル
キル基で置換された炭素原子数5ないし7のシクロアル
キリデン環を形成する。)で表される基を表し;mは1
ないし6の整数を表し、そしてmが1を表す場合、R1
はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし30のアルコキ
シ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基: 【化6】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)で中断さ
れた炭素原子数3ないし30のアルコキシ基;炭素原子
数7ないし9のフェニルアルコキシ基、炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数2ないし1
8のアルケニルオキシ基、未置換のまたは炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたフェノキシ基、
基: 【化7】 (基中、R15、R16、rおよびMは上記で定義したもの
を表し、R19およびR20は、互いに独立して、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表し、pは1または2を表
す。)ならびに;R6 は水素原子または式(3): 【化8】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表し、あるいは;mが2を表す場
合、R1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ
基;酸素原子、硫黄原子または基: 【化9】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)により中
断されている炭素原子数3ないし25のアルカンジオキ
シ基、 【化10】 、−OCH2 −CH=CH−CH2 O−もしくは−OC
H2 −C≡C−CH2 O−を表し;あるいはmが3を表
す場合、R1 は炭素原子数3ないし10のアルカントリ
オキシ基、基: 【化11】 を表し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は炭素原子
数4ないし10のアルカンテトラオキシ基、基: 【化12】 を表し;あるいは、mが5を表す場合、R1 は炭素原子
数5ないし10のアルカンペンタオキシ基を表し;さら
にmが6を表す場合、R1 は炭素原子数6ないし10の
アルカンヘキサオキシ基、基: 【化13】 を表す。}で表される化合物の少なくとも1つからなる
組成物。 - 【請求項2】 R2 、R3 、R4 およびR5 が互いに独
立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル
基、ベンジル基、フェニル基、炭素原子数5ないし8の
シクロアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ
基、ヒドロキシル基、炭素原子数1ないし18のアルカ
ノイルオキシ基、炭素原子数3ないし18のアルケノイ
ルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を表し;さらに、
R4 が−(CH2 )n −COR14(式中、nおよびR14
は上記で定義したものを表す。)を表し、mは1ないし
4を表し;そしてmが1を表す場合、R1 はヒドロキシ
ル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基;酸素原
子、硫黄原子もしくは基: 【化14】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)で中断さ
れた炭素原子数3ないし18のアルコキシ基;ベンジル
オキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基、未置換のまたは炭素原子数1ないし8のアルキル基
で置換されたフェノキシ基、基: 【化15】 (基中、R15、R16、p、R19およびR20は、上記で定
義したものを表す。)ならびに;mが2を表す場合、R
1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ基;酸
素原子により中断されている炭素原子数3ないし25の
アルカンジオキシ基を表し;mが3を表す場合、R1 は
炭素原子数3ないし10のアルカントリオキシ基を表
し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は基: 【化16】 を表す請求項1に記載の組成物。 - 【請求項3】 基R2 、R3 、R4 およびR5 の少なく
とも2つが水素原子を表す請求項1に記載の組成物。 - 【請求項4】 R3 およびR5 が水素原子を表す請求項
3に記載の組成物。 - 【請求項5】 mが1を表す請求項1に記載の組成物。
- 【請求項6】 R3 、R5 、R7 およびR10が、互いに
独立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表し、R2 が水素原子または炭素原子数1ないし1
8のアルキル基を表し、R4 は水素原子、炭素原子数1
ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアル
コキシ基または−(CH2 )n −COR14(式中、nは
0,1または2を表し、R14はヒドロキシル基または炭
素原子数1ないし12のアルコキシ基を表す。)を表
し、R11およびR12は互いに独立して水素原子または炭
素原子数1ないし4のアルキル基を表し、ならびに;m
が1を表し、R1 はヒドロキシル基、炭素原子数1ない
し18のアルコキシ基;酸素原子で中断された炭素原子
数3ないし18のアルコキシ基;未置換のまたは炭素原
子数1ないし8のアルキル基で置換されたフェノキシ
基、基: 【化17】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し、p、
R19およびR20は、上記で定義したものを表す。)を表
す請求項1に記載の組成物。 - 【請求項7】 mが1を表し、R1 はヒドロキシル基、
炭素原子数1ないし18のアルコキシ基;酸素原子で中
断された炭素原子数3ないし18のアルコキシ基;未置
換のまたは炭素原子数1ないし8のアルキル基で置換さ
れたフェノキシ基、基: 【化18】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し、p、
R19およびR20は、上記で定義したものを表す。)を表
し、R2 が水素原子または炭素原子数1ないし18のア
ルキル基またはシクロヘキシル基を表し、R3 、R5 、
R7 およびR10は水素原子を表すか;または基R2 およ
びR3 はそれらが結合される炭素原子と一緒になってフ
ェニル環を形成し、R4 は水素原子、炭素原子数1ない
し6のアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基または−(CH2 )2 −COR14
(式中、R14は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
す。)を表し、R8 、R9 、R11およびR12は互いに独
立して水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し、そして;R6 が水素原子を表す場合、R4 はさら
に式(2): 【化19】 (式中、R1 、R2 、R8 、R9 、R11およびR12は上
記で定義されたものを表し、R17およびR18は、互いに
独立して水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基を表すか、あるいはR17およびR18は、それらが結
合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数5ないし
7のシクロアルキリデン環を形成する。)で表される基
を表し;R6 は水素原子または式(3): 【化20】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す請求項1に記載の組成物。 - 【請求項8】 mが1を表し、R1 はヒドロキシル基、
炭素原子数1ないし18のアルコキシ基;未置換のまた
は炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェ
ノキシ基、基: 【化21】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、pは1
または2を表し、ならびにR19およびR20は、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。)を表し、R2 が水
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
し、R3 、R5 、R7 、R10、R11およびR12は水素原
子を表し、R4 は水素原子または炭素原子数1ないし4
のアルキル基を表し、そして;R6 が水素原子を表す場
合、R4 はさらに式(2): 【化22】 (式中、R17およびR18は、それらが結合される炭素原
子と一緒になって、シクロヘキシリデン環を形成し、R
8 およびR9 は、互いに独立して水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表す。)で表される基を
表し;R6 は水素原子または式(3): 【化23】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す請求項1に記載の組成物。 - 【請求項9】 成分a)が合成ポリマーである請求項1
に記載の組成物。 - 【請求項10】 成分b)が成分a)の重量に関して
0.0005ないし5%の量で存在する請求項1に記載
の組成物。 - 【請求項11】 さらに有機ホスフィットまたは有機ホ
スホナイトを含む請求項1に記載の組成物。 - 【請求項12】 次式(1) 【化24】 {式中、R2 、R3 、R4 およびR5 は互いに独立し
て、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ
基、炭素原子数1ないし25のアルカノイルオキシ基、
炭素原子数3ないし25のアルケノイルオキシ基;酸素
原子、硫黄原子もしくは基 【化25】 (基中、R13は水素原子もしくは炭素原子数1ないし8
のアルキル基を表す。)で中断されている炭素原子数3
ないし25のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ない
し9のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基もしくは炭素原子数1ないし12のアルキル基
で置換されたベンゾイルオキシ基を表し;あるいは、さ
らに、基R2 およびR3 または基R4 およびR5 はそれ
らが結合される炭素原子と一緒になってフェニル環を形
成するか;その上さらに、R4 は−(CH2 )n −CO
R14〔式中、nは0,1もしくは2を表し、R14はヒド
ロキシル基、基: 【化26】 (基中、Mはr−価の金属カチオンを表し、およびrは
1、2もしくは3を表す。)、炭素原子数1ないし18
のアルコキシ基または基 【化27】 (基中、R15およびR16は、互いに独立して水素原子も
しくは炭素原子数1ないし18のアルキル基を表す。)
を表す。〕を表し;R7 、R8 、R9 およびR10は互い
に独立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表
し、但し、基R7 、R8 、R9 およびR10のうち少なく
とも1つは水素原子であり、R11およびR12は互いに独
立して、水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基
またはフェニル基を表し;ならびにR3 、R5 、R6 、
R7 およびR10が水素原子を表す場合、R4 はさらに式
(2): 【化28】 (式中、R2 、R8 、R9 、R11およびR12は上記で定
義されたものを表し、R1 は以下のm=1に対して定義
されたものを表し、ならびにR17およびR18は、互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基またはフェニル基を表すか、あるいはR17およびR18
は、それらが結合される炭素原子と一緒になって、未置
換のまたは1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアル
キル基で置換された炭素原子数5ないし7のシクロアル
キリデン環を形成する。)で表される基を表し;mは1
ないし6の整数を表し、そしてmが1を表す場合、R1
はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし30のアルコキ
シ基;酸素原子、硫黄原子もしくは基: 【化29】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)で中断さ
れた炭素原子数3ないし30のアルコキシ基;炭素原子
数7ないし9のフェニルアルコキシ基、炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数2ないし1
8のアルケニルオキシ基、未置換のまたは炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたフェノキシ基、
基: 【化30】 (基中、R15、R16、rおよびMは上記で定義したもの
を表し、R19およびR20は、互いに独立して、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表し、pは1または2を表
す。)ならびに;R6 は水素原子または式(3): 【化31】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表し、あるいは;mが2を表す場
合、R1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ
基;酸素原子、硫黄原子または基: 【化32】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)により中
断されている炭素原子数3ないし25のアルカンジオキ
シ基、 【化33】 、−OCH2 −CH=CH−CH2 O−もしくは−OC
H2 −C≡C−CH2 O−を表し;あるいはmが3を表
す場合、R1 は炭素原子数3ないし10のアルカントリ
オキシ基、基: 【化34】 を表し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は炭素原子
数4ないし10のアルカンテトラオキシ基、基: 【化35】 を表し;あるいは、mが5を表す場合、R1 は炭素原子
数5ないし10のアルカンペンタオキシ基を表し;さら
にmが6を表す場合、R1 は炭素原子数6ないし10の
アルカンヘキサオキシ基、基: 【化36】 を表す。}で表される化合物。 - 【請求項13】 R2 、R3 、R4 およびR5 が互いに
独立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、ベンジル基、フェニル基、炭素原子数5ないし8
のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルコキ
シ基、炭素原子数1ないし18のアルカノイルオキシ
基、炭素原子数3ないし18のアルケノイルオキシ基ま
たはベンゾイルオキシ基を表し;さらに、R4 が−(C
H2 )n −COR14(式中、nおよびR14は上記で定義
したものを表す。)を表し、mは1ないし4を表し;そ
してmが1を表す場合、R1 はヒドロキシル基、炭素原
子数1ないし18のアルコキシ基;酸素原子、硫黄原子
もしくは基: 【化37】 (基中、R13は上記で定義したものを表す。)で中断さ
れた炭素原子数3ないし18のアルコキシ基;ベンジル
オキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基、未置換のまたは炭素原子数1ないし8のアルキル基
で置換されたフェノキシ基、基: 【化38】 (基中、R15、R16、p、R19およびR20は、上記で定
義したものを表す。)ならびに;mが2を表す場合、R
1 は炭素原子数2ないし12のアルカンジオキシ基;酸
素原子により中断されている炭素原子数3ないし25の
アルカンジオキシ基を表し;mが3を表す場合、R1 は
炭素原子数3ないし10のアルカントリオキシ基を表
し;あるいは、mが4を表す場合、R1 は基: 【化39】 を表す請求項12に記載の化合物。 - 【請求項14】 基R2 、R3 、R4 およびR5 の少な
くとも2つが水素原子を表す請求項12に記載の化合
物。 - 【請求項15】 R3 およびR5 が水素原子を表す請求
項12に記載の化合物。 - 【請求項16】 mが1を表す請求項12に記載の化合
物。 - 【請求項17】 mが1を表し、R1 はヒドロキシル
基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基;酸素原子
で中断された炭素原子数3ないし18のアルコキシ基;
未置換のまたは炭素原子数1ないし8のアルキル基で置
換されたフェノキシ基、基 【化40】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表し、p、
R19およびR20は、上記で定義したものを表す。)を表
し、R2 が水素原子または炭素原子数1ないし18のア
ルキル基またはシクロヘキシル基を表し、R3 、R5 、
R7 およびR10は水素原子を表すか;または基R2 およ
びR3 はそれらが結合される炭素原子と一緒になってフ
ェニル環を形成し、R4 は水素原子、炭素原子数1ない
し6のアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基または−(CH2 )2 −COR14
(式中、R14は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
す。)を表し、R8 、R9 、R11およびR12は互いに独
立して水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し、そして;R6 が水素原子を表す場合、R4 はさら
に式(2): 【化41】 (式中、R1 、R2 、R8 、R9 、R11およびR12は上
記で定義されたものを表し、R17およびR18は、互いに
独立して水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基を表すか、あるいはR17およびR18は、それらが結
合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数5ないし
7のシクロアルキリデン環を形成する。)で表される基
を表し;R6 は水素原子または式(3): 【化42】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す請求項12に記載の化合物。 - 【請求項18】 mが1を表し、R1 はヒドロキシル
基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基;未置換の
または炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された
フェノキシ基、基: 【化43】 (基中、R15およびR16は互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、pは1
または2を表し、ならびにR19およびR20は、炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。)を表し、R2 が水
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
し、R3 、R5 、R7 、R10、R11およびR12は水素原
子を表し、R4 は水素原子または炭素原子数1ないし4
のアルキル基を表し、そして;R6 が水素原子を表す場
合、R4 はさらに式(2): 【化44】 (式中、R17およびR18は、それらが結合される炭素原
子と一緒になって、シクロヘキシリデン環を形成し、R
8 およびR9 は、互いに独立して水素原子または炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表す。)で表される基を
表し;R6 は水素原子または式(3): 【化45】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R7 、R8 、
R9 、R10、R11およびR12は上記で定義したものを表
す。)で表される基を表す請求項12に記載の化合物。
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