JP7010093B2 - 感放射線性組成物 - Google Patents
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Description
[2]前記アリルメチルエーテルを10wtppm~50,000wtppmの範囲で含有する前記[1]に記載の感放射線性組成物。
[3]前記アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が1,000~100,000であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が1.0~5.0である前記[1]または[2]に記載の感放射線性組成物。
[4]前記アルカリ可溶性樹脂が、1個以上の酸性官能基を有するエチレン性不飽和単量体と、前記単量体と共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体との共重合体である前記[1]~[3]のいずれか1項に記載の感放射線性組成物。
[5]少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物をさらに含有する前記[1]~[4]のいずれか1項に記載の感放射線性組成物。
[6]層間絶縁膜、保護膜またはスペーサーとしての硬化膜形成用である前記[1]~[5]のいずれか1項に記載の感放射線性組成物。
[7]前記[6]に記載の感放射線性組成物から形成された、層間絶縁膜、保護膜またはスペーサーとしての硬化膜。
[8]前記[7]に記載の硬化膜を有する表示素子。
[9]アルカリ可溶性樹脂と、感放射線性化合物と、1-メトキシ-1-(2-メトキシエトキシ)エタン、1,3-ジメトキシ-2,2-ジメチルプロパン、4,4,6-トリメチル-1,3-ジオキサン、および1-ペンテン-3-オールから選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する感放射線性組成物。
本発明の第1の感放射線性組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、感放射線性化合物と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、アリルメチルエーテルとを含有する。
本発明の第1組成物は、PGMEAを溶媒として含有する。
前記第1組成物中のアルカリ可溶性樹脂(A)および感放射線性化合物(B)はPGMEAに対する溶解性が高いため、前記第1組成物では溶媒として少なくともPGMEAが用いられる。
本発明の第1組成物は、アリルメチルエーテルを含有する。
エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル;プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル;プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート(ただし、PGMEAを除く);
メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等のアルコール;
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n-プロピル、乳酸イソプロピル等の乳酸エステル;酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、酢酸n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸n-ブチル、プロピオン酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル;3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル;
2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン溶媒;N-ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド溶媒;γ-ブチロラクトン等のラクトン溶媒;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;
が挙げられる。
本発明の第1組成物中に占めるPGMEAの含有割合の上限値は、好ましくは95質量%、より好ましくは90質量%、さらに好ましくは85質量%であり;下限値は、好ましくは50質量%、より好ましくは60質量%、さらに好ましくは65質量%である。
このようにして調製された液状組成物は、例えば、孔径0.2μm程度の細孔を有するフィルタなどを用いて濾過した後、使用に供することもできる。
本発明の第2組成物は、前記特定溶媒を含有する。
前記第2組成物中のアルカリ可溶性樹脂(A)および感放射線性化合物(B)は前記特定溶媒に対する溶解性が高いため、前記第2組成物では溶媒として少なくとも前記特定溶媒が用いられる。
本発明の第2組成物中に占める前記特定溶媒の含有割合の上限値は、好ましくは95質量%、より好ましくは90質量%、さらに好ましくは85質量%であり;下限値は、好ましくは50質量%、より好ましくは60質量%、さらに好ましくは65質量%である。
以下、前記溶媒以外の各成分について説明する。
アルカリ可溶性樹脂(A)としては、例えば、カルボキシ基、フェノール性水酸基およびフッ素化ヒドロキシアルキル基等の酸性官能基を有する重合体が好ましい。アルカリ可溶性樹脂とは、2.38質量%濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液等のアルカリ現像液に、当該樹脂が溶解または膨潤可能であることを意味する。
不飽和単量体(a2)としては、例えば、N-アリールマレイミド、N-アルキルマレイミド、N-シクロアルキルマレイミド等のN-位置換マレイミド;スチレンおよびその誘導体等の芳香族ビニル化合物;(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸脂環含有エステル、(メタ)アクリル酸芳香環含有エステル、オキシラン環、オキセタン環、オキソラン環等の環状エーテル環を有する(メタ)アクリル酸エステル等の(メタ)アクリル酸エステル;スチリル基含有シラン化合物等の芳香環含有シラン化合物;脂環含有ビニルエーテル等のビニルエーテル;芳香族ビニル化合物の重合体鎖、(メタ)アクリル酸エステルの重合体鎖、ポリシロキサン分子鎖等の重合体分子鎖の末端にモノ(メタ)アクリロイル基を有するマクロモノマーが挙げられる。これらの中でも、アルカリ可溶性樹脂に架橋性官能基を付与する観点から、オキシラン環を有する(メタ)アクリル酸エステル、およびオキセタン環を有する(メタ)アクリル酸エステルから選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましい。
不飽和単量体(a1)と不飽和単量体(a2)の共重合体の具体例としては、例えば、特開平7-140654号公報、特開平8-259876号公報、特開平10-31308号公報、特開平10-300922号公報、特開平11-174224号公報、特開平11-258415号公報、特開2000-56118号公報、特開2004-101728号公報、特開2006-201549号公報、特開2007-128062号公報、特開2008-233563号公報、特開2017-181928号公報、特開2017-173376号公報等に開示されている共重合体が挙げられる。
ポリシロキサンの具体例としては、例えば、国際公開第2017/188047号、国際公開第2017/169763号、国際公開第2017/159876号、特開2013-114238号公報、特開2012-53381号公報、特開2010-32977号公報等に開示されている共重合体が挙げられる。
本発明の組成物において、当該組成物の溶媒以外の全成分100質量%中、アルカリ可溶性樹脂(A)の含有割合の上限値は、好ましくは99質量%、より好ましくは95質量%、さらに好ましくは90質量%、特に好ましくは85質量%であり;下限値は、好ましくは40質量%、より好ましくは50質量%、さらに好ましくは60質量%である。
感放射線性化合物(B)としては、例えば、感放射線性ラジカル重合開始剤(B1)および感放射線性酸発生剤(B2)が挙げられる。
感放射線性ラジカル重合開始剤(B1)(以下「成分(B1)」ともいう)は、放射線の照射によりラジカルを発生する化合物である。本発明の組成物は、成分(B1)を含有すると、放射線硬化性樹脂組成物として機能することができ、発生するラジカルによりアルカリ可溶性樹脂(A)、後述する重合性化合物(E)等が重合することによって、ネガ型の感放射線性特性を発揮する。本発明の組成物は、成分(B1)を含有することで、放射線感度をより高めることができる。
O-アシルオキシム化合物としては、例えば、1-〔4-(フェニルチオ)-2-(O-ベンゾイルオキシム)〕、1,2-オクタンジオン1-[4-(フェニルチオ)-2-(O-ベンゾイルオキシム)]、エタノン-1-〔9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル〕-1-(O-アセチルオキシム)、1-〔9-エチル-6-ベンゾイル-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-オクタン-1-オンオキシム-O-アセテート、1-〔9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエート、1-〔9-n-ブチル-6-(2-エチルベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエートが挙げられる。
感放射線性酸発生剤(B2)(以下「酸発生剤(B2)」ともいう)は、放射線の照射により酸を発生する化合物である。本発明の組成物は、酸発生剤(B2)を含有することで、放射線感度をより高めることができる。
テトラヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,3’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,2’-テトラヒドロキシ-4’-メチルベンゾフェノン、2,3,4,4’-テトラヒドロキシ-3’-メトキシベンゾフェノンが挙げられる。
ヘキサヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば2,4,6,3’,4’,5’-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、3,4,5,3’,4’,5’-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
本発明の組成物は、アルカリ可溶性樹脂(A)および感放射線性化合物(B)を必須成分として含有するが、必要に応じて、その他の成分として、密着助剤(C)、界面活性剤(D)、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物(E)、アルカリ可溶性樹脂(A)以外のエポキシ樹脂(F)、および感熱性酸生成化合物(G)から選ばれる少なくとも1種を含有することができる。
本発明の組成物は、硬化膜の耐熱性および硬度を向上させるため、感熱性酸生成化合物(G)を含有することができる。感熱性酸生成化合物(G)としては、例えば、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。感熱性酸生成化合物(G)は単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
以上に説明した本発明の組成物は、層間絶縁膜、保護膜およびスペーサー等の硬化膜など、表示素子が有する硬化膜の形成材料などとして好適に用いることができる。
本発明の感放射線性組成物を用いて、本発明の硬化膜を製造する方法について記載する。本発明の硬化膜としては、例えば、層間絶縁膜、保護膜、スペーサーが挙げられる。硬化膜の膜厚は、通常は0.5~6μmである。本発明の硬化膜は、硬度が高く、耐熱性および耐溶媒性に優れる。
工程(1)では、本発明の組成物を基板上に塗布し、好ましくはプレベークを行うことにより溶媒を除去して、感放射線性組成物の塗膜を形成する。
基板としては、例えば、ガラス基板、シリコン基板、およびこれらの表面に各種金属部材が形成された基板が挙げられる。
プレベークの条件としては、本発明の組成物中の各成分の種類、含有割合等によっても異なる。例えば、60~110℃で30秒間~15分間程度とすることができる。
感放射線性組成物の塗膜のプレベーク後の膜厚は、通常は0.5~6μmである。
工程(2)では、工程(1)で形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する。例えば、所定のパターンを有するマスクを介して、前記塗膜に放射線を照射する。
放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、X線、荷電粒子線が挙げられる。可視光線および紫外線としては、例えば、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)、i線(波長365nm)、KrFエキシマレーザー光(波長248nm)、ArFエキシマレーザー光(波長193nm)が挙げられる。X線としては、例えば、シンクロトロン放射線が挙げられる。荷電粒子線としては、例えば、電子線が挙げられる。これらの中でも、可視光線および紫外線が好ましく、g線、h線、i線およびKrFエキシマレーザー光から選ばれる少なくとも1種を含む放射線が特に好ましい。
露光量は、通常は5~1000mJ/cm2である。
工程(3)では、放射線照射後の塗膜に対して現像液を用いて現像処理を行い、放射線の照射部分を除去する。これにより、パターニングされた塗膜を得ることができる。
現像処理には、通常はアルカリ現像液が用いられ、例えば、アルカリ性化合物(塩基性化合物)の水溶液が挙げられる。アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、n-プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ-n-プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノナンが挙げられる。アルカリ現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常は0.1~10質量%である。また、前記水溶液に、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加した水溶液、または本発明の組成物を溶解する各種有機溶媒を現像液として使用することができる。
工程(4)では、工程(3)で得られた塗膜、具体的にはパターニングされた塗膜を加熱(ポストベーク処理)して、硬化膜を得る。
前記塗膜の硬化処理における加熱には、例えば、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用いることができる。硬化処理における加熱温度は、通常は120~250℃である。硬化処理における加熱時間は、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレート上で加熱処理を行う場合には5~30分間、オーブン中で加熱処理を行う場合には30~100分間である。この際に、2回以上の加熱工程を行うステップベーク法を用いることもできる。
以上のようにして、硬化膜を得ることができる。一実施態様では、例えば、目的とする層間絶縁膜、保護膜およびスペーサーである硬化膜を基板上に形成することができる。
本発明の表示素子は、上述した本発明の硬化膜を有する。前記硬化膜は、例えば、表示素子における薄膜トランジスタ(TFT)用保護膜または層間絶縁膜である。本発明の表示素子は、例えば、液晶ディスプレイ、有機EL表示素子である。
アルカリ可溶性樹脂(A)について、下記条件によるゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりMwおよびMnを測定した。また、分子量分布(Mw/Mn)は、得られたMwおよびMnより算出した。
装置:「GPC-101」(昭和電工社製)
GPCカラム:GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803およびGPC-KF-804を結合(島津ジーエルシー社製)
移動相:テトラヒドロフラン
カラム温度:40℃
流速:1.0mL/分
試料濃度:1.0質量%
試料注入量:100μL
検出器:示差屈折計
標準物質:単分散ポリスチレン
[合成例1](重合体(A-1)の合成)
冷却管および撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)10部およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)200部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸20部、グリシジルメタクリレート20部、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート20部、スチレン40部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持して重合することにより、アルカリ可溶性樹脂である重合体(A-1)を含有する重合体溶液を得た。得られた重合体溶液をヘキサン中で再沈殿させ、濾過、真空乾燥により精製を行い、重合体(A-1)をPGMEAに溶解させ重合体濃度30質量%溶液とした。この重合体(A-1)の重量平均分子量(Mw)は10,000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)は2.3であった。
下記表1に示す種類および配合量(質量部)の各成分を用いたこと以外は合成例1と同様の手法にて、それぞれ重合体(A-2)~(A-12)を含む重合体溶液を得た。表1において、「-」は該当する成分を使用しなかったことを示す。
MA:メタクリル酸
AA:アクリル酸
HS:ヒドロキシスチレン
FHST:4-(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イル)スチレン
GMA:グリシジルメタクリレート
OXMA:(3-エチルオキセタン-3-イル)メチルメタクリレート
EPMA:3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート
ST:スチレン
BzMA:ベンジルメタクリレート
MMA:メチルメタクリレート
PM:フェニルマレイミド
STMS:スチリルトリメトキシシラン
ADVN:2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)
S-1~S-5:後述する
実施例および比較例の感放射線性組成物の調製に用いたアルカリ可溶性樹脂(A)、感放射線性化合物(B)、密着助剤(C)、界面活性剤(D)、重合性化合物(E)および溶媒(S)を以下に示す。
A-1~A-12:合成例1~12で合成した重合体(A-1)~(A-12)
《感放射線性化合物(B)》
B-1:4,4’-[1-[4-[1-[4-ヒドロキシフェニル]-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール(1.0モル)と1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド(2.0モル)との縮合物
B-2:トリフルオロメタンスルホン酸-1,8-ナフタルイミド
B-3:Irgacure OXE-01(BASF社製)
《密着助剤(C)》
C-1:3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
C-2:3-メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
《界面活性剤(D)》
D-1:SH8700(東レ・ダウコーニング社製)
《重合性化合物(E)》
E-1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)
《溶媒(S)》
S-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)
S-2:1-メトキシ-1-(2-メトキシエトキシ)エタン
S-3:1,3-ジメトキシ-2,2-ジメチルプロパン
S-4:4,4,6-トリメチル-1,3-ジオキサン
S-5:1-ペンテン-3-オール
実施例および比較例の感放射線性組成物について、下記項目を評価した。
<塗布性>
スピンナーを用い、シリコン基板上に感放射線性組成物を塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして平均膜厚3.0μmの塗膜を形成した。次いで、この塗膜の表面を光学顕微鏡を用いてハジキの発生を観察した。このとき、ハジキが発生していないものは塗布性が良く、ハジキが発生したものは塗布性が悪いと評価できる。
基板1枚あたりのハジキの個数が0個の場合AA、1個以上10個未満の場合をBB、10個以上100個未満の場合をCC、100個以上の場合をDDと評価した。
スピンナーを用い、60℃で60秒間ヘキサメチルジシラザン(HMDS)処理したシリコン基板上に感放射線性組成物を塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして平均膜厚3.0μmの塗膜を形成した。この塗膜に幅10μmのライン・アンド・スペースパターンを有するパターンマスクを介して、水銀ランプによって所定量の紫外線を照射した。次いで、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2.38質量%水溶液よりなる現像液を用い、25℃で60秒現像処理を行った後、超純水で1分間流水洗浄を行った。このとき、幅10μmのライン・アンド・スペースパターンを形成可能な最小露光量を測定した。この値が100mJ/cm2未満の場合をAA、100mJ/cm2以上150mJ/cm2未満の場合をBB、150mJ/cm2以上の場合をCCと判定した。露光量は照度計(波長365nm)において測定した。
調製した感放射線性組成物を遮光・密閉性の容器に封入した。25℃で7日間経過後容器を開封し、前記[放射線感度]の測定を行い、7日間保管前後での放射線感度(最小露光量)の増加率を計算した。この値が10%未満の場合をAA、10%以上20%未満の場合をBB、20%以上の場合をCCと判定した。AAまたはBBの場合に保存安定性が良好であり、CCの場合に保存安定性が不良であると評価できる。
スピンナーを用い、60℃で60秒間HMDS処理したシリコン基板上に感放射線性組成物を塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして平均膜厚3.0μmの塗膜を形成した。この塗膜に幅10μmのライン・アンド・スペースパターンを有するパターンマスクを介して、水銀ランプによって所定量の紫外線を照射した。次いで、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2.38質量%水溶液よりなる現像液を用い、25℃で60秒現像処理を行った後、超純水で1分間流水洗浄を行った。このとき、幅10μmのライン・アンド・スペースパターンを形成可能な露光量を測定した。前記露光量の最大値をD1、最小値をD2とすると、100(%)×(D1-D2)/D1の値が20%以上30%未満の場合をAA、10%以上20%未満の場合をBB、10%未満の場合をCCと判定した。「-」は未評価である。
以下、前述した本発明の第1組成物の実施例を記載する。
[実施例1]
重合体(A-1)を含有する重合体濃度30質量%の前記重合体溶液に、重合体(A-1)100部を基準として、感放射線性化合物(B-1)30部、密着助剤(C-1)1部および界面活性剤(D-1)0.05部を混合し、さらにアリルメチルエーテル(AME)のPGMEA溶液を添加した(最終的なAME量は表2に記載した)。さらに、得られた混合物を溶媒以外の全成分濃度が30質量%となるように溶媒(S-1)(PGMEA)に溶解させた後、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過して、感放射線性組成物を調製した。
下記表2に示す種類の各成分を用いたこと以外は実施例1と同様に操作し、実施例2~15および比較例1~4の感放射線性組成物を調製した。
上記評価結果を表2に示す。
以下、前述した本発明の第2組成物の実施例を記載する。
[実施例21]
重合体(A-5)を含有する重合体濃度30質量%の前記重合体溶液に、重合体(A-5)100部を基準として、感放射線性化合物(B-1)30部、密着助剤(C-1)1部および界面活性剤(D-1)0.05部を混合し、さらに、得られた混合物を溶媒以外の全成分濃度が30質量%となるように溶媒(S-2)に溶解させた後、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過して、感放射線性組成物を調製した。
下記表3に示す種類の各成分を用いたこと以外は実施例21と同様に操作し、実施例22~28および比較例21~22の感放射線性組成物を調製した。
上記評価結果を表3に示す。
Claims (8)
- アルカリ可溶性樹脂と、
感放射線性化合物と、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、
アリルメチルエーテルと、
を含有する感放射線性組成物。 - 前記アリルメチルエーテルを10wtppm~50,000wtppmの範囲で含有する請求項1に記載の感放射線性組成物。
- 前記アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が1,000~100,000であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が1.0~5.0である請求項1または2に記載の感放射線性組成物。
- 前記アルカリ可溶性樹脂が、1個以上の酸性官能基を有するエチレン性不飽和単量体と、前記単量体と共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体との共重合体である請求項1~3のいずれか1項に記載の感放射線性組成物。
- 少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物をさらに含有する請求項1~4のいずれか1項に記載の感放射線性組成物。
- 層間絶縁膜、保護膜またはスペーサーとしての硬化膜形成用である請求項1~5のいずれか1項に記載の感放射線性組成物。
- 請求項6に記載の感放射線性組成物から形成された、層間絶縁膜、保護膜またはスペーサーとしての硬化膜。
- 請求項7に記載の硬化膜を有する表示素子。
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