JP5064012B2 - フッ素含有オルガノポリシロキサン及びこれを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 - Google Patents
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- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 53
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 title claims description 19
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 24
- -1 isopropenoxy group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N oxygen difluoride Chemical group FOF UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 125000005824 oxyalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 14
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 12
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 6
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 6
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 6
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 6
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 5
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 3
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 3
- 0 C*C(C*)C1(*)*C(C)C(C)CC1 Chemical compound C*C(C*)C1(*)*C(C)C(C)CC1 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene oxide Chemical compound FC(F)(F)C1(F)OC1(F)F PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- FYJQJMIEZVMYSD-UHFFFAOYSA-N perfluoro-2-butyltetrahydrofuran Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)OC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F FYJQJMIEZVMYSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-methoxybutane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIVLBCLZNBHPGE-UHFFFAOYSA-N CN(C)CCCOC Chemical compound CN(C)CCCOC VIVLBCLZNBHPGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N dibutyltin(2+);methanolate Chemical compound CCCC[Sn](OC)(OC)CCCC ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940104873 methyl perfluorobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000002939 oilproofing Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- LGUZHRODIJCVOC-UHFFFAOYSA-N perfluoroheptane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LGUZHRODIJCVOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N perfluorooctane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQZYBQIAUSKCCS-UHFFFAOYSA-N perfluorotripentylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AQZYBQIAUSKCCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 210000003296 saliva Anatomy 0.000 description 1
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
- C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
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- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
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Description
しかしながら、この化合物は、パーフロロポリエーテル基の部分が、ヘキサフルオロプロピレンオキサイド(HFPO)の2〜5量体と短く、上記パーフロロポリエーテル基の持つ特徴を十分に出すことができなかった。
該化合物も含フッ素基の部分の炭素数が1〜20個と少なく、十分な効果が得られていない。
(R1は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基またはフェニル基であり、R2は炭素数2〜6のアルキレン基であり、nは2〜40の整数であり、kは1〜3の整数であり、式(A)は鎖状オルガノポリシロキサンを表し、式(B)は環状オルガノポリシロキサンを表し、式(C)はSi−R 2 −Si構造を含む鎖状オルガノポリシロキサンを表し、式(A)及び(C)で表されるオルガノポリシロキサンは分岐を有していてよい)、
R1の少なくとも2つが下記式(i)
(Xは、互いに独立に、アルコキシ基、オキシアルコキシ基、アシロキシ基、アルケニルオキシ基、及びハロゲン基からなる群より選ばれる基であり、R3は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基であり、yは1〜5の整数であり、aは2又は3である)
で表される基に置換されており、及び、
SiOSi結合の1つが下記式(iii)
(R f 2はパーフロロエーテル残基とパーフロロアルキレン基からなる2価の基であり、Qはアミド結合、エーテル結合、エステル結合、及びビニル結合からなる群より選ばれる少なくとも1つの結合を含んでよい、炭素数2〜12の炭化水素基である)
で表される結合に置換されている構造を有することを特徴とするオルガノポリシロキサンである。
式(A)は、鎖状オルガノポリシロキサンを表し、式(B)は環状オルガノポリシロキサンを表し、式(C)は、2つのケイ素原子がアルキレン基で結合されたシルアルキレン構造、即ちSi−R2−Si、を含む鎖状オルガノポリシロキサンである。
上に示すように、式(A)又は(C)で表されるオルガノポリシロキサンは、分岐を有していてよく、ケイ素原子が3つの酸素原子に結合された構造(R1SiO3/2)及び/又は4つの酸素原子に結合された構造(SiO2)を含んでいてよい。
式(i)において、Xは互いに異なっていてよい、加水分解性の基である。その例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などの炭素数1〜10のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基などの炭素数2〜10のオキシアルコキシ基、アセトキシ基などの炭素数1〜10のアシロキシ基、イソプロペノキシ基などの炭素数2〜10のアルケニルオキシ基、クロル基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基などが挙げられる。中でもメトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基、クロル基が好適である。
Rf 1はパーフロロエーテル残基を有する1価の基であり、Rf 2はパーフロロエーテル残基を有する2価の基であり、Qは2価の有機基である。
−CF2O−
−CF2CF2O−
−CF2CF2CF2O−
−CF(CF3)CF2O−
−CF2CF2CF2CF2O−
−CF2CF2CF2CF2CF2CF2O−
−C(CF3)2O−
(R1、X、a、yについては上述のとおりであり、zは2y−1又は2yである)を、式(A)〜(C)において、反応させたい部位のR1がHであるオルガノポリシロキサンと、付加反応触媒、例えば白金化合物、の存在下で、付加反応させることによって得ることができる。
Rf 1Q’ (v)
(式(v)において、Rf 1は上で説明したとおりであり、Q’は、例えば下記で示す不飽和基を含む基である)
式(A)〜(C)において反応させたい部位のR1がHであるオルガノポリシロキサンと、付加反応させることによって得ることができる。
Q’Rf 2Q’ (vi)
(式(vi)において、Rf 2及びQ’は上述のとおりである)
式(A)〜(C)において、反応させたい部位のR1がHであるオルガノポリシロキサン2分子と付加反応させることによって、得ることができる。該オルガノポリシロキサンは、2種の混合物であってもよい。なお、付加反応は、公知の反応条件で行なってよい。
反応容器に、下記式
1H−NMR(TMS基準、ppm)
合成例1で用いた化合物のうち、H4Qの代わりに、テトラメチルシクロテトラシロキサン(環状シロキサンH4)を14.5g用いた他は、合成例1と同様の方法で下記に示す化合物2を得た。このものの比重は1.55、屈折率は1.343であった。
化合物2のIR、NMRチャートを図3、4に示す。また、化合物2の1H−NMRのデータを次に示す。
1H−NMR(TMS基準、ppm)
合成例1で用いた化合物のうち、H4Qの代わりに、下記式で示す、シルエチレン基を有するオルガノポリシロキサンを37.3g用いた他は、合成例1と同様の方法で下記に示す化合物3を得た。このものの比重は1.71、屈折率は1.330であった。
化合物3のIR、NMRチャートを図5、6に示す。また、化合物3の1H−NMRのデータを次に示す。
1H−NMR(TMS基準、ppm)
反応容器に、下記式(II)
で示される両末端にα−不飽和結合を有するパーフロロポリエーテル50gと、m−キシレンヘキサフロライド70g、塩化白金酸/ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液0.0442g(Pt単体として1.1×10−7モルを含有)を入れて90℃に加熱撹拌した。得られた混合物に、下記に示すH4Qの49.3gを滴下して90℃で3時間熟成し、1H−NMRで原料のアリル基が消失したのを確認した後、溶剤及び未反応のH4Qを減圧溜去した。蒸留残渣を活性炭処理し、無色透明の液体パーフロロポリエーテル変性オルガノポリシロキサン46.4gを得た。
1H−NMR(TMS基準、ppm)
合成例2で用いた化合物のうち、式(I)に示す片末端パーフロロポリエーテルの代わりに、合成例4で用いた両末端パーフロロポリエーテル(II)を30.4g用いた他は、合成例2と同様の方法で下記に示す化合物5を得た。このものの比重は1.72、屈折率は1.330であった。
1H−NMR(TMS基準、ppm)
反応容器に、上記パーフルオロポリエーテル(II)50gと、m−キシレンヘキサフロライド75g、塩化白金酸/ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液0.0442g(Pt単体として1.1×10-7モルを含有)を入れて90℃に加熱撹拌した。得られた混合物に、下記式(III)に示すテトラメチルジシロキサン(HM)とビニルトリメトキシシラン(VMS)との1:1付加反応物(HM−VMS)8.4gを滴下して、90℃で2時間熟成した。1H−NMRで原料のアリル基が消失したのを確認した後、溶剤及び未反応のHM−VMSを減圧溜去したところ、液状パーフルオロポリエーテル(化合物6)56.3g(比重:1.63 屈折率:1.319)を得た。
化合物1〜6の各々を、0.1wt%濃度になるように、エチルパーフロロブチルエーテル(HFE7200、住友3M社製)に溶解して、表面処理剤1〜6を調製した。反射防止フイルム(8×15×0.2cm、Southwall Technologies社製)を処理剤に10秒間浸漬後150mm/分の速度で引き上げ、25℃、湿度40%の雰囲気下で24時間放置し、硬化皮膜を形成させた。
下記化合物7、8の各々を、0.1wt%濃度になるように、エチルパーフロロブチルエーテルに溶解して、表面処理剤7、8を調製し、上記同様の方法で反射防止フイルムを処理した。
化合物7
化合物8
[撥水撥油性]
接触角計(協和界面科学社製A3型)を用いて、硬化皮膜の水接触角及びオレイン酸に対する後退接触角を滑落法により測定した。
ラビングテスター(新東科学社製)を用いて、以下の条件で擦りテストを行なった。
評価環境条件:25℃、湿度40%
擦り材:試料と接触するテスターの先端部(1.5cm×1.5cm)に不織布を8枚重ねて包み、輪ゴムで固定したもの。
移動距離(片道)4cm
移動速度500cm/分
荷重:1kg
擦り回数:1000回
擦り試験後に処理表面に油性マジック(ゼブラ株式会社製「ハイマッキー」)を塗り、マジックハジキ性を目視により観察し、下記基準で、耐擦傷性を評価した。
A:インキを良くはじく。
B:インキをはじく部分とはじかない部分がある。
C:インキを全くはじかない。
Claims (11)
- 下記一般式(A)、(B)又は(C)で表されるオルガノポリシロキサンにおいて、
(R1は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基またはフェニル基であり、R2は炭素数2〜6のアルキレン基であり、nは2〜40の整数であり、kは1〜3の整数であり、式(A)は鎖状オルガノポリシロキサンを表し、式(B)は環状オルガノポリシロキサンを表し、式(C)はSi−R 2 −Si構造を含む鎖状オルガノポリシロキサンを表し、式(A)及び(C)で表されるオルガノポリシロキサンは分岐を有していてよい)、
R1の少なくとも2つが下記式(i)
(Xは、互いに独立に、アルコキシ基、オキシアルコキシ基、アシロキシ基、アルケニルオキシ基、及びハロゲン基からなる群より選ばれる基であり、R3は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基であり、yは1〜5の整数であり、aは2又は3である)
で表される基に置換されており、及び、
SiOSi結合の1つが下記式(iii)
(R f 2はパーフロロエーテル残基とパーフロロアルキレン基からなる2価の基であり、Qはアミド結合、エーテル結合、エステル結合、及びビニル結合からなる群より選ばれる少なくとも1つの結合を含んでよい、炭素数2〜12の炭化水素基である)
で表される結合に置換されている構造を有することを特徴とするオルガノポリシロキサン。 - nが2〜10であることを特徴とする請求項1記載のオルガノポリシロキサン。
- 一般式(A)又は(C)で表され、(SiO2)単位を有することを特徴とする請求項1または2記載のオルガノポリシロキサン。
- R1が、炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のオルガノポリシロキサン。
- 前記パーフロロエーテル残基が、下記一般式で表される繰り返し単位
−CgF2gO−
(gは、単位毎に独立に、1〜6の整数である)
1〜500個を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のオルガノポリシロキサン。 - 加水分解性基Xがメトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基、及びクロル基から選ばれることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン。
- 請求項1〜9のいずれか1項記載のオルガノポリシロキサン及び/又はその部分加水分解縮合物を主成分とする表面処理剤。
- 請求項10記載の表面処理剤で処理された物品。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006343447A JP5064012B2 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-20 | フッ素含有オルガノポリシロキサン及びこれを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
US11/643,988 US7794843B2 (en) | 2005-12-26 | 2006-12-22 | Fluorine-containing organopolysiloxane, a surface treatment composition comprising the same and an article treated with the composition |
EP20060077307 EP1801144B1 (en) | 2005-12-26 | 2006-12-22 | Fluorine-containing organopolysiloxane, a surface treatment composition comprising the same and an article treated with the composition |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005371284 | 2005-12-26 | ||
JP2005371284 | 2005-12-26 | ||
JP2006343447A JP5064012B2 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-20 | フッ素含有オルガノポリシロキサン及びこれを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007197425A JP2007197425A (ja) | 2007-08-09 |
JP5064012B2 true JP5064012B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=37897359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006343447A Active JP5064012B2 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-20 | フッ素含有オルガノポリシロキサン及びこれを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7794843B2 (ja) |
EP (1) | EP1801144B1 (ja) |
JP (1) | JP5064012B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
US11931775B2 (en) | 2020-12-11 | 2024-03-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Laminate, display including the same, and article including the display |
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---|---|---|---|---|
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JP4666667B2 (ja) * | 2008-08-21 | 2011-04-06 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素表面処理剤及び該表面処理剤で処理された物品 |
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- 2006-12-20 JP JP2006343447A patent/JP5064012B2/ja active Active
- 2006-12-22 US US11/643,988 patent/US7794843B2/en active Active
- 2006-12-22 EP EP20060077307 patent/EP1801144B1/en active Active
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---|---|
EP1801144A3 (en) | 2008-05-21 |
US7794843B2 (en) | 2010-09-14 |
EP1801144A2 (en) | 2007-06-27 |
US20070149746A1 (en) | 2007-06-28 |
EP1801144B1 (en) | 2012-11-21 |
JP2007197425A (ja) | 2007-08-09 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120321 |
|
A521 | Written amendment |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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