JP2891692B1 - 半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 373
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 33
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 6
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000001490 Dengue Diseases 0.000 description 1
- 206010012310 Dengue fever Diseases 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 208000025729 dengue disease Diseases 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the groups H01L21/18 - H01L21/326 or H10D48/04 - H10D48/07 e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/60—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49503—Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
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- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
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- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
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- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05617—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
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- H01L2224/0612—Layout
- H01L2224/0613—Square or rectangular array
- H01L2224/06134—Square or rectangular array covering only portions of the surface to be connected
- H01L2224/06136—Covering only the central area of the surface to be connected, i.e. central arrangements
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- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
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- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
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- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
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Abstract
チップ主面とリードとの間の適正な容量を確保する。半
導体パッケージの厚さを薄くしても半導体パッケージの
半導体チップ主面上の封止体の適正な厚さを確保する。 【解決手段】 半導体基板主面に回路及び複数の外部端
子が形成された半導体チップと、インナーリード部と前
記インナーリード部と一体に形成されたアウターリード
部とを夫々有する複数のリードと、前記外部端子とイン
ナーリード部を夫々電気的に接続するボンディングワイ
ヤと、前記半導体チップ、インナーリード部、ボンディ
ングワイヤを封止する封止体とを備えた半導体装置であ
って、前記インナーリード部の前記半導体チップの主面
上に配設される部分の厚さは、他の部分の厚さよりも薄
くされてなる。
Description
n Chip)構造の樹脂封止型半導体装置に関し、特に、
TSOP(Thin Small Outline Package)構造等の
薄形の小型半導体パッケージに適用して有効な技術に関
する。
置は、例えば、図22(特開平2−246125号公報
参照)に記載されるように、半導体基板主面に回路及び
複数の外部端子が形成された半導体チップ1と、信号用
インナーリード(第1の領域)を有するインナーリード
3A1及び電源電圧、接地電圧を供給する共用インナー
リード(第2の領域:以下バスバーリードまたは、固定
電位用リードと称する)3A2を有するインナーリード
部3Aと前記のインナーリード部3Aと一体に形成され
たアウターリード部3Bとを夫々有する複数のリード
と、前記外部端子(パッド)とインナーリード部3Aの
信号用インナーリード3A1及びバスバーリード3A2と
を夫々電気的に接続するボンディングワイヤ5と、前記
半導体チップ1、インナーリード部3A、ボンディング
ワイヤ5を封止する封止体2Aとを備え、前記信号用イ
ンナーリード3A1及びバスバーリード3A2は、前記半
導体チップ1の主面上に絶縁フィルム4を介在して配設
され、前記バスバーリード3A2は、半導体チップ主面
と実質的に平行に配設されている。以下、上記公知文献
(特開平2−246125号公報)に記載されていない
が、本発明者が検討した事項を述べる。
導体装置をそのまま図23、図24(a)に示す薄形の
小型半導体パッケージ(TSOP)に適用した場合、全
体のパッケージ厚が薄く(例えば1.0mm)なるの
で、それにともない、インナーリード3A1上のレジン
厚が例えば0.195mm程度に薄くなるので、ワイヤ
5のループ高さを低く設定する必要がある。しかしなが
ら、信号線のボンディングワイヤ5とバスバーリード3
A2が接触してショートする恐れがあるため、レジン厚
を薄くすることが困難である。また、ワイヤループ高さ
を低くおさえようとすると、前記バスバーリード3A2
の上に絶縁コート材20を塗布する等の工夫が必要であ
る。
装置の平面図)及び図24(図23の要部の断面図)の
概略構成は、以下の通りである。このTSOP構造の樹
脂封止型半導体装置は、半導体チップ1の半導体基板主
面に回路及び複数の外部端子が形成された面(以下、半
導体チップ1の主面と称する)上に、複数の信号線用イ
ンナーリード3A1及び上面に絶縁コート材20を塗布
したバスバーリード3A2からなるインナーリード部3
Aが、前記半導体チップ1と絶縁性フィルム4を介在し
て固着されている。前記インナーリード部3Aと一体に
形成されたアウターリード部3Bとでリード3を構成し
ている。
ナーリード部3Aの信号線用インナーリード3A1及び
上面に絶縁コート材20を塗布したバスバーリード3A
2は、前記半導体チップ1の主面上に絶縁フィルム4を
介在して配設され、前記バスバーリード3A2は、半導
体チップ1の主面と実質的に平行に配設されている。
びバスバーリード3A2と半導体チップ1とがボンディ
ングワイヤ5で電気的に接続され、モールドレジン(封
止体)2Aで封止されている。この封止された薄型パッ
ケージ2は、吊りリード3C及びアウターリード部3B
をリードフレームから切り離して成形される。
た薄形の小型半導体パッケージ(TSOP構造)では、
図24(a)に示すように、半導体チップ1上面のモー
ルドレジン2Aの厚さが薄いため、図24(b)に示す
ように、そのままさらに薄く(0.5mm程度)する
と、Au線等のボンディングワイヤ5がパッケージ上面
から、すけて見える外観不良や、ワイヤ自体が露出する
という問題があった。
ン(封止体)2Aの厚さが薄くなるため、クラック等を
生じ、信頼性が劣化するという問題があった。
テープ4の使用を廃止し、図24(c)に示すように、
信号用インナーリード3A1及びバスバーリード3A2を
半導体チップ1の主面上に直接接着剤で固着することが
考えられるが、半導体チップ1の主面と信号用インナー
リード3A1との間の距離(隙間)が小さくなると、半
導体チップ1の主面と信号用インナーリード3A1間の
寄生容量が増大するため、電気特性が劣下するという問
題があった。
となく半導体パッケージの厚さを薄くすることが可能な
技術を提供することにある。
厚さを薄くしても半導体チップ主面とリードとの間の寄
生容量をおさえることが可能な技術を提供することにあ
る。
全体の厚さを薄くしても半導体パッケージの半導体チッ
プ主面上の封止体の適正な厚さを確保することが可能な
技術を提供することにある。
全体の厚さを薄くしても半導体チップの上下の封止体量
のバランスをとることが可能な技術を提供することにあ
る。本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴
は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであ
ろう。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば下
記の通りである。 (1)半導体基板主面に回路及び複数の外部端子が形成
された半導体チップと、インナーリード部と前記インナ
ーリード部と一体に形成されたアウターリード部とを夫
々有する複数のリードと、前記外部端子とインナーリー
ド部を夫々電気的に接続するボンディングワイヤと、前
記半導体チップ、インナーリード部、ボンディングワイ
ヤを封止する封止体とを備えた半導体装置であって、前
記インナーリード部は、前記半導体チップの主面上に、
当該主面と前記インナーリードとの間に所定の隙間を設
けて配設され、該インナーリード部の先端部にて、前記
半導体チップの主面上に接着剤を介在して固着されてお
り、前記主面上に配設される部分のインナーリードの厚
さは、当該インナーリードの他の部分の厚さよりも薄い
構造になっている。
下の薄型とする。
くされたことによって生じる段差状の面が前記半導体チ
ップ主面と対面している。
部端子が形成された半導体チップと、第1の領域を有す
るインナーリード部及び第2の領域を有するインナーリ
ード部と前記インナーリード部と一体に形成されたアウ
ターリード部とを夫々有する複数のリードと、前記外部
端子とインナーリード部の第1の領域及び第2の領域と
を夫々電気的に接続するボンディングワイヤと、前記半
導体チップ、インナーリード部、ボンディングワイヤを
封止する封止体とを備えた樹脂封止型半導体装置であっ
て、前記インナーリード部の第1の領域及び第2の領域
は、前記半導体チップの主面上に配設され、前記インナ
ーリード部の第1の領域は、当該主面と前記インナーリ
ードとの間に所定の隙間を設けて配設され、該主面上に
配設される部分のインナーリードの厚さは、当該インナ
ーリードの他の部分の厚さよりも薄くされ、前記主面上
に配置されるインナーリードの先端部は前記半導体チッ
プの主面上に絶縁フィルムを介在して固着された構造に
なっている。
において、前記半導体チップは、長方形であり、前記イ
ンナーリード部の第2の領域は半導体チップの長辺と実
質的に平行に配設された部分を有し、前記平行に配置さ
れた部分は、前記外部端子と前記インナーリードの先端
部の間に配置されている。
部端子が形成された半導体チップと、第1の領域を有す
るインナーリード部及び第2の領域を有するインナーリ
ード部と前記インナーリード部と一体に形成されたアウ
ターリード部とを夫々有する複数のリードと、前記外部
端子とインナーリード部の第1の領域及び第2の領域と
を夫々電気的に接続するボンディングワイヤと、前記半
導体チップ、インナーリード部、ボンディングワイヤを
封止する封止体とを備えた樹脂封止型半導体装置であっ
て、前記インナーリード部の第1の領域及び第2の領域
は、前記半導体チップの主面上に配設され、前記インナ
ーリード部の第1の領域は、当該主面と前記インナーリ
ードとの間に所定の隙間を設けて配設され、該主面上に
配設される部分のインナーリードの厚さは、当該インナ
ーリードの他の部分の厚さよりも薄くされ、その先端部
は前記半導体チップの主面上に固定されていない構造に
なっている。
型半導体装置において、前記インナーリード部の第1の
領域は信号リードであり、前記第2の領域は固定電位リ
ードである。
子が形成された半導体チップと、各々がインナーリード
部と前記インナーリード部と一体に形成されたアウター
リード部を有する複数のリードであって、前記インナー
リード部の一部が前記半導体チップの主面上に配置さ
れ、かつ、前記インナーリード部が対応する前記外部端
子に電気的に接続された複数のリードと、前記複数のリ
ードのインナーリード部と前記半導体チップを封止する
樹脂体とを有する樹脂封止型半導体装置であって、前記
インナーリード部は、前記半導体チップの主面側の第1
表面と、前記第1表面と反対側の第2表面を有し、か
つ、前記半導体チップの主面上に位置する第1部分と、
前記第1部分と一体に形成された第2部分であって、前
記半導体チップの主面外部に位置する第2部分とを有
し、前記インナーリード部の第1部分は、前記半導体チ
ップの厚さ方向において、前記第2部分より薄く形成さ
れ、前記インナーリード部の第1部分の第1表面は、前
記半導体チップの厚さ方向において、前記インナーリー
ド部の第2部分の第1表面より、前記半導体チップから
離間されている。
において、前記インナーリード部の第1部分は、絶縁性
フィルムを介して前記半導体チップの主面に接着されて
いる。
置において、前記インナーリード部の第1部分は、接着
剤を介して前記半導体チップの主面に接着されている。
置において、前記インナーリード部と対応する前記外部
端子は、ワイヤで接続されている。
装置において、前記複数のリードは、信号用リードと固
定電位用リードとを含み、前記固定電位用リードのイン
ナーリード部の一部は、前記半導体チップの主面上にお
いて、前記信号用リードのインナーリード部の先端の前
記複数の外部端子の間に配置され、前記信号用リードの
インナーリード部と対応する外部端子を接続するワイヤ
は、前記固定電位用リードのインナーリード部の一部上
を交差するように配置されている。
端子が形成された半導体チップと、各々がインナーリー
ド部と前記インナーリード部と一体に形成されたアウタ
ーリード部を有する複数の信号用リードであって、前記
インナーリード部の一部が前記半導体チップの主面上に
配置され、かつ、前記インナーリード部が対応する前記
外部端子にワイヤにより電気的に接続された複数の信号
リードと、インナーリード部と前記インナーリード部と
一体に形成されたアウターリード部を有する固定電位用
リードであって、前記インナーリード部の一部が前記半
導体チップの主面上に配置され、かつ、前記インナーリ
ード部が対応する前記外部端子に電気的に接続された固
定電位用リードと、前記複数の信号用リードのインナー
リード部、前記固定電位用リードのインナーリード部、
前記半導体チップを封止する樹脂体とを有する樹脂封止
型半導体装置であって、前記信号用リードのインナーリ
ード部は、前記半導体チップの主面側の第1表面と、前
記第1表面と反対側の第2表面を有し、かつ、前記半導
体チップの主面上に位置する第1部分と、前記第1部分
と一体に形成された第2部分であって、前記半導体チッ
プの主面外部に位置する第2部分とを有し、前記信号用
リードのインナーリード部の第1部分は、前記半導体チ
ップの厚さ方向において、前記第2部分より薄く形成さ
れ、前記信号用リードのインナーリード部の第1部分の
第1表面は、前記半導体チップの厚さ方向において、前
記インナーリード部の第2部分の第1表面より、前記半
導体チップから離間され、前記固定電位用リードのイン
ナーリード部の一部は、前記半導体チップの主面上にお
いて、前記信号用リードのインナーリード部の先端と前
記複数の外部端子の間に配置され、前記固定電位用リー
ドのインナーリード部の一部は、前記半導体チップの厚
さ方向において、前記信号用リードのインナーリード部
の先端より低い位置に配置されている。
装置において、前記固定電位用リードのインナーリード
部の一部は、接着剤を介して前記半導体チップの主面に
接着され、前記信号用リードのインナーリード部の先端
は、前記半導体チップの主面から離間されている。
装置において、前記信号用リードのインナーリード部の
先端は、絶縁性フィルムを介して前記半導体チップの主
面に接着されている。
装置において、前記信号用リードのインナーリード部と
対応する外部端子を接続するワイヤは、前記固定電位用
リードのインナーリード部の一部上を交差するように配
置されている。
端子が形成された半導体チップと、各々がインナーリー
ド部と前記インナーリード部と一体に形成されたアウタ
ーリード部を有する複数の信号用リードであって、前記
インナーリード部の一部が前記半導体チップの主面上に
配置され、かつ、前記インナーリード部が対応する前記
外部端子にワイヤにより電気的に接続された複数の信号
リードと、インナーリード部と前記インナーリード部と
一体に形成されたアウターリード部を有する固定電位用
リードであって、前記インナーリード部の一部が前記半
導体チップの主面上に配置され、かつ、前記インナーリ
ード部が対応する前記外部端子に電気的に接続された固
定電位用リードと、前記複数の信号用リードのインナー
リード部、前記固定電位用リードのインナーリード部、
前記半導体チップを封止する樹脂体とを有する樹脂封止
型半導体装置であって、前記信号用リードのインナーリ
ード部は、前記半導体チップの主面側の第1表面と、前
記第1表面と反対側の第2表面を有し、かつ、前記半導
体チップの主面上に位置する第1部分と、前記第1部分
と一体に形成された第2部分であって、前記半導体チッ
プの主面外部に位置する第2部分とを有し、前記信号用
リードのインナーリード部の第1部分は、前記半導体チ
ップの厚さ方向において、前記第2部分より薄く形成さ
れ、前記信号用リードのインナーリード部の第1部分
は、前記ワイヤが接続される先端部を有し、前記先端部
以外の前記信号用リードのインナーリード部の第1部分
の第1表面は、前記半導体チップの厚さ方向において、
前記インナーリード部の第2部分の第1表面より、前記
半導体チップから離間され、前記信号用リードのインナ
ーリード部の第1部分の先端部は、前記半導体チップの
厚さ方向において、前記先端部以外の前記信号用リード
のインナーリード部の第1部分より低い位置に配置さ
れ、前記固定電位用リードのインナーリード部の一部
は、前記半導体チップの主面上において、前記信号用リ
ードのインナーリード部の第1部分の先端部と前記複数
の外部端子の間に配置され、前記固定電位用リードのイ
ンナーリード部の一部は、前記半導体チップの厚さ方向
において、前記先端部以外の前記信号用リードのインナ
ーリード部の第1部分より低い位置に配置されている。
装置において、前記固定電位用リードのインナーリード
部の一部及び前記信号用リードのインナーリード部の先
端部は、接着剤を介して前記半導体チップの主面に各々
接着されている。
装置において、前記信号リードのインナーリード部と対
応する外部端子を接続するワイヤは、前記固定電位用リ
ードのインナーリード部の一部上を交差するように配置
されている。
施形態とともに詳細に説明する。なお、本発明の実施形
態を説明するための全図において、同一機能を有するも
のは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
止型半導体装置の概略構成を示す平面図であり、図2
(a)は図1のA−A’線で切った要部の断面図、図2
(b)は図1のB−B’線で切った要部の断面図、図2
(c)は図1のC−C’線で切った要部の断面図であ
る。
半導体チップはTSOP構造の樹脂封止型パッケージで
封止されている。この種の樹脂封止型パッケージは、図
1に示すように、長方形状の半導体チップ1の上にイン
ナーリード部3Aを配設したLOC(Lead On Chi
p)構造を採用している。
をアウターリード部3Bと一体に構成している。アウタ
ーリード部3Bは標準規格に基づき夫々に印加される信
号が規定され、番号が付けられている。図1中、左端上
が1番端子、左端下が16番端子である。右端下が17
番端子、右端上が32番端子である。すなわち、本TS
OP構造のパッケージは、32端子で構成されている。
電源電圧Vcc端子であり、例えば、回路の動作電圧5
ボルト(V)又は3ボルト(V)である。17番端子、
27番端子及び32番端子は、基準電圧Vss端子であ
り、例えば、0ボルト(V)である。
2に示すように、複数の信号線用インナーリード(第1
の領域)3A1及び2個のバスバーリード(第2の領
域)3A2からなっている。
は、半導体チップ1の長方形状の夫々の長辺を横切り、
半導体チップ1の中央側に延在している。
域)3A1は、図2に示すように、前記半導体チップ1
の主面(半導体基板主面に回路及び複数の外部端子が形
成された面をいう)上に、この主面とインナーリード3
A12との間に所定の隙間Sを設けて(所定の距離を隔て
て)配設され、その部分のインナーリード3A12の厚さ
は、インナーリード3A1の他の部分の厚さよりも薄く
されている。
ド(第1の領域)3A12の先端部3A11は、図1、図2
の(b)及び(c)に示すように、半導体チップ1の主
面上に絶縁フィルム4を介在して固着されている。
A1の夫々の先端部3A11は、夫々半導体チップ1の中
央部分に配列されたボンディングパッド(外部端子)1
Aにボンディングワイヤ5で接続される。
に示すように、半導体チップ1の主面上において、チッ
プ1の長辺と実質的に平行に配設されている部分3A21
とチップ1の短辺と実質的に平行に配設され、かつ、ボ
ンディングワイヤ5がボンディングされる領域を有する
突起部3A22とからなり、同質材料で一体に構成されて
いる。前記バスバーリード3A2の部分3A21には、複
数の所定位置に前記突起部3A22が部分3A21と一体構
成で設けられている。この突起部3A22は絶縁性フィル
ム4を介在して固着されている。前記部分3A21は、段
差部Dの加工により前記突起部3A22より、チップ1の
主面に近づくように低く配置されている。この段差加工
によって、バスバーと信号用リードのためのワイヤ5が
接触するのを防止できる。前記突起部3A22にボンディ
ングする理由は、ワイヤ5の長さを均一にし、ボンディ
ング性、電気的特性を均一にするためである。
3A11と半導体チップ1のボンディングパッド(外部電
極)1A、及び前記バスバーリード3A2の平行部分3
A21に設けられている突起部3A22と半導体チップ1の
ボンディングパッド1Aが夫々ボンディングワイヤ5で
ボンディングされ、電気的に接続される。前記半導体チ
ップ1、インナーリード部3A、ボンディングワイヤ5
は、モールドレジン(封止体)2Aで封止されている。
この封止されたTSOP構造(薄型)のパッケージ2
は、吊りリード3C及びアウターリード部3Bをリード
フレームから切り離して成形される。本実施例の場合、
部分3A21は、チップ主面に近接しているが、接着剤等
では、接着されていない。尚、上記絶縁テープ4はポリ
イミド系樹脂からなる基材の両面にエポキシ系又は、ポ
リイミド系接着剤が塗布された構造である。
を用いる。金線の代りにアルミニウム線、銅線、金属線
の表面に絶縁性樹脂を被覆した被覆線等を用いてもよ
い。
の要部の各寸法は、図2(単位はミリメートル:mmで
ある)に示すように、樹脂封止型半導体装置の厚さは
0.5〜0.6mmである。半導体チップ1の主面上のイ
ンナーリード部3Aから上のモールドレジン(封止体)
2Aの厚さは、0.09〜0.11mmであり、半導体チ
ップ1の主面と反対側の面から下のモールドレジン(封
止体)2Aの厚さは、0.06〜0.11mmである。ボ
ンディングワイヤ5の頂点から上の封止体(モールドレ
ジン)2Aの厚さは、0.07mm以上(最小値0.07
mm)である。
m、バスバーリード3A2の半導体チップ1の主面上に
配設されている部分3A21の厚さは0.06〜0.07
mm、信号用インナーリード3A12部分の厚さは0.0
6〜0.07mm、絶縁性フィルム4の厚さは0.05
mmである。チップ1上に配置されていないインナーリ
ード3A部及びアウターリード3Bの厚さは、それぞれ
0.125mm程度である。
インナーリード部3Aを配設する組立工程を簡単に説明
する。
本のバスバーリード3A2からなるインナーリード部3
Aとそれと一体のアウターリード3Bを有する平坦なフ
レームを用意する。 :前記インナーリード部3Aの複数の信号線用インナ
ーリード3A1に絶縁テープ4を付けると共に2本のバ
スバーリード3A2に段差部Dを形成するための成形加
工を行う。 :前記リードフレームを半導体チップ1の上に、前記
複数の信号線用インナーリード3A1が半導体チップ1
の長方形状の夫々の長辺を横切り、半導体チップ1の中
央側に延在するように、位置合わせ行う(図1、図2参
照)。 :前記位置合わせ後に熱処理(400℃、1秒)を行
ない、半導体チップ1の主面上とリードフレームを絶縁
テープにより接着をする。
ンナーリード3A1の他の部分の厚さよりも薄くする加
工方法については後述する。また、リード段差加工は、
テープを接着する以前に行なってもよい。絶縁テープ4
は、例えば、厚さ0.03mmの熱かそ性のポリイミド
系テープの両面に、厚さ0.015mmの熱かそ性のポ
リイミド系接着剤を塗布した構造であり、接着剤の厚さ
は、全体として、0.05mm程度になっている。
止型半導体装置では、樹脂封止型半導体装置の厚さは
1.0mm、インナーリード部3Aから上のモールドレ
ジン(封止体)2Aの厚さは0.195mm、半導体チ
ップ1の主面の反対側の面から下のモールドレジン(封
止体)2Aの厚さは0.32mmである。ボンディング
ワイヤ5の頂点から上のモールドレジン(封止体)2A
の厚さは、0.07mm以上(最小値0.07mm)であ
る。半導体チップ1の厚さは0.28mm、バスバーリ
ードA2の厚さは0.125mm、信号用インナーリード
3A1及びアウターリード3Bの厚さはそれぞれ0.12
5mm、絶縁性フィルム4の厚さは0.08mmであ
る。
(a)からわかるように、前記半導体チップ1の主面上
に、この主面とインナーリード3A12との間に所定の隙
間Sを設けて(所定の距離を隔てて)配設され、その部
分のインナーリード3A12の厚さは、インナーリード3
A1の他の部分の厚さよりも薄くなっているので、バス
バーリードA21上に絶縁コート材20を塗布しなくて
も、信号線のボンディングワイヤ5とバスバーリード3
A2をショートさせずに半導体パッケージ2の厚さを薄
くすることができる。また、ワイヤが接続されるインナ
ーリード3A11の上面を、低く設定することができるの
で、ワイヤループの高さを低くすることができ、パッケ
ージ厚を薄くできる。
ても、半導体チップ1主面とインナーリード部3Aとの
間に絶縁性フィルム4(厚さは0.05mm)を介在さ
せて所定の隙間Sを設けることによって寄生容量を低減
できるので、樹脂封止型半導体装置の高速化が図れる。
の厚さを薄くしても、半導体パッケージ2の半導体チッ
プ1の主面上の封止体の適切な厚さ(0.09〜0.1
1mm程度の厚さ)を確保することができる。
インナーリード3A1の他の部分の厚さよりも薄くする
ことにより、半導体パッケージ2の厚さを薄くしてもア
ウタリード3Bの突出部を半導体パッケージ2の厚さ方
向の中央部に近ずけることにより、半導体チップ1の上
下の封止体量のバランスがとれるので、半導体パッケー
ジ2の熱膨張による反りを防止することができる。この
とき、チップ1上に配置されない前記インナーリード3
A1の下面が半導体チップ1の主面より下にくることが
好ましい。
ム4のかわりに、接着剤のみを使用し、インナーリード
の先端部3A11をチップの主面に接着してもよい。この
場合、チップとリード間の寄生容量は大きくなるもの
の、絶縁フィルム4の基材の厚さ分、先端部3A11を低
い位置に設定できるのでワイヤループ高さを低くでき
る。したがって、パッケージ全体の厚さを薄くすること
が可能である。このようなパッケージは、比較的動作速
度を要求されないフラッシュメモリ等に特に適する。
による樹脂封止型半導体装置の概略構成を示す平面図、
図4は図3の図のA−A’線で切った要部の断面図、図
5は図4に示す丸印Mで囲まれた部分の拡大図、6は図
3の図のB−B’線で切った要部の断面図である。
は、図3乃至図6に示すように、前記バスバーリード3
A2の半導体チップ1の長辺に実質的に平行に配設され
ている部分3A21が直接接着剤6で固着される。複数の
信号線用インナーリード3A1はその先端3A11をチッ
プ主面から浮かせると共に、半導体チップ1の主面と複
数の信号線用インナーリード3A1の薄く加工された部
分3A12との間に絶縁性フィルムを介在させないで隙間
(隙間距離は0.05mm)Sが設けられて保持された
ものである。上記接着剤6は、例えば、熱かそ性のポリ
イミド系接着剤を使用する。接着剤6の接着後の厚さ
は、0.01mm程度である。
インナーリード3A1は半導体チップ1の主面上のボン
ディングパッド1Aに直接ボンディングワイヤ(金線)
5をボンディングして、半導体チップ1と信号線用イン
ナーリード3A1とを電気的に接続する。すなわち、前
記信号線用インナーリード3A1の浮かせた状態の薄い
部分A12を半導体チップ1の主面に例えばリードフレー
ム押え機で押し付けてボンディングワイヤ5をその先端
部3A11にボンディングし、ボンディングワイヤ5の他
方の端子を半導体チップ1の主面上のボンディングパッ
ド1Aにボンデングして、半導体チップ1と信号線用イ
ンナーリード3A1とを電気的に接続する。
ド3A2の突出部3A22及び連結部3A21'と半導体チッ
プ1の主面上のボンディングパッド1Aとをそれぞれボ
ンディングワイヤ5でボンディングして、半導体チップ
1とバスバーリード3A2とを電気的に接続する。その
後、封止材(樹脂)2Aで封止する。
グパッド1A構成は、図5に示すように、Si基板1B
上の内電極1B1の上に絶縁酸化膜1B2が形成され、そ
の上に第1タングステン(W)合金1B3、第2タング
ステン(W)合金1B4、アルミニウム(Al)合金1
B5、第1チタン(Ti)合金1B6、第2チタン(T
i)合金1B7、第1絶縁酸化膜1B8、第2絶縁酸化膜
1B9、PiQ1B10が順次積層された構造が形成され
る。そして、前記アルミニウム(Al)合金1B5の面
が露出されるように穴が設けられた構造になっている。
ード部3Aを直接接着剤6で固着しても、図5に示すよ
うに、半導体チップ1の主面の最上層には絶縁性のポリ
イミド系樹脂(PiQ)が設けられているので、インナ
ーリード部3Aと半導体チップ1のボンディングパッド
1A以外の部分の絶縁性は確保できる。
止型半導体装置の半導体チップ1の主面上にインナーリ
ード部3Aを配設する組立工程を簡単に説明する。
る。 :前記2本のバスバーリード3A2に接着剤6を付け
ると共にリードフレームに段差部Dを形成するための成
形加工を行う。尚、段差加工後に、接着剤6を塗布して
もよい。 :前記リードフレームを半導体チップ1の上に、前記
複数の信号線用インナーリード3A1が半導体チップ1
の長方形状の夫々の長辺を横切り、半導体チップ1の中
央側に延在するように、位置合わせ行う(図3参照)。 :前記位置合わせ後に、チップとリードフレームを接
着剤6によって接着する。
ングワイヤ5をボンディングする一つの方法を説明する
ための図で、(a)はワイヤボンディング前、(b)は
ワイヤーボンディング中、(c)はワイヤボンディング
後の図であり、21はステージ、22はリードフレーム
押え機である。
せた状態の先端部3A11を半導体チップ1の主面に押し
付けてボンディングワイヤ5をボンディングする1つの
方法は、図7(a)に示すように、ステージ21の上に
半導体チップ1を配置し、その半導体チップ1の上に配
設する信号線用インナーリード3A1の浮かせた状態の
先端部3A11の位置合せを行う。次に、図7(b)に示
すように、そのインナーリードの位置合せ後リードフレ
ーム押え機22を下にさげ、ステージ21を上にあげて
ステージ21の上の半導体チップ1の主面に前記信号線
用インナーリード3A1を押し付けた状態を保持したま
まで、ボンディングワイヤ5をその先端部A11にボンデ
ィングする。その後、図7(c)に示すように、リード
フレーム押え機22を上にあげると共にステージ21を
下にさげて押え力を解放し、信号線用インナーリード3
A1の先端部3A11を浮かせた状態に戻す。
ングワイヤ5をボンディングする別の方法を説明するた
めの図で、(a)はワイヤーボンディング前、(b)は
ワイヤーボンディング中、(c)はワイヤーボンディン
グ後の図である。前記信号線用インナーリードにボンデ
ィングワイヤ5をボンディングする別の方法は、図8
(a)に示すように、固定されたステージ21の上に半
導体チップ1を配置し、その半導体チップ1の上に配設
する信号線用インナーリード3A1の浮かせた状態の先
端部3A11の位置合せを行う。次に、図8(b)に示す
ように、インナーリードの位置合せ後リードフレーム押
え機22を下にさげ、ステージ21の上の半導体チップ
1の主面に前記信号線用インナーリード3A1を押し付
けた状態を保持したままで、ボンディングワイヤ5をそ
の先端部A11にボンディングする。その後、図8(c)
に示すように、リードフレーム押え機22を上にあげて
押え力を解放し、信号線用インナーリード3A1の先端
部3A11を浮かせた状態に戻す。
ド3A2の半導体チップ1の長辺に実質的に平行に配設
されている部分3A21が直接接着剤6で固着され、複数
の信号線用インナーリード3A1はその先端を浮かせる
と共に、半導体チップ1の主面と複数の信号線用インナ
ーリード3A1との間に絶縁性フィルムを介在させない
で隙間(隙間距離は0.05mm)Sを設することによ
り、寄生容量を低減できるので、前記実施形態1と同様
の作用効果を得ることができる。また、半導体チップ1
の主面とインナーリード部3Aとの間に絶縁性フィルム
4(厚さは0.05mm)を介在させないので、その分
だけ製造工程及び製造コストを低減することができる。
による樹脂封止型半導体装置の概略構成を示す平面図で
あり、図10は図9のA−A’線で切った要部の断面図
である。
は、図9及び図10に示すように、前記実施形態1にお
いて、前記インナーリード部3Aのバスバーリード3A
2の半導体チップ1の長辺に実質的に平行に配設されて
いる部分3A21が使用されてない場合の本発明を適用し
た実施例である。他の部分の構造は、前記実施形態1と
同じである。
インナーリード部3Aを配設する組立工程を簡単に説明
する。
る。 :前記リードフレームを半導体チップ1の上に、前記
複数の信号線用インナーリード3A1が半導体チップ1
の中央側に延在するように、位置合わせを行う(図9、
図10参照)。 :前記の位置合わせ後に半導体チップ1の主面に前記
絶縁性フィルム4を介して、リードフレームを接着す
る。
形態1と同様の作用効果を得ることができる。また、バ
スバーリード3A2を使用しない分だけ、製造工程及び
製造コストを低減することができる。
4による樹脂封止型半導体装置の概略構成を示す模式図
であり、図12は図11の図のA−A’線で切った要部
の断面図である。
は、図11及び図12に示すように、前記実施形態3の
複数の信号線用インナーリード3A1の先端3A11が半
導体チップ1の主面上に直接接着剤6で固着され、半導
体チップ1主面と複数の信号線用インナーリード3A12
との間に絶縁性フィルム4を介在させないで寄生容量を
低減するための隙間(隙間距離は0.05mm)が設け
られたものである。
止型半導体装置の半導体チップ1の主面上にインナーリ
ード部3Aを配設する組立工程を簡単に説明する。
けた段差加工されたフレームを用意する。 :前記リードフレームを半導体チップ1の上に、前記
複数の信号線用インナーリード3A1が半導体チップ1
の中央側に延在するように、位置合わせを行う(図1
1、図12参照)。 :前記の位置合わせ後に半導体チップ1の主面とリー
ドフレームを接着剤6を介して、接着する。
形態3と同様の作用効果を得ることができる。また、バ
スバーリード3A2及び絶縁性フィルム4を使用しない
分だけ、製造工程及び製造コストを低減することができ
る。
5よる樹脂封止型半導体装置の概略構成を示す模式図、
図14は図13の図のA−A’線で切った要部の断面
図、図15は図14のB−B’線で切った要部の断面図
である。
は、図13乃至図14に示すように、前記バスバーリー
ド3A2の半導体チップ1の主面に実質的に平行に配設
されている部分3A21が直接接着剤6で固着される。複
数の信号線用インナーリード3A1の各先端が半導体チ
ップ1の主面に直接接着剤6で固着されると共に、半導
体チップ1の主面と複数の信号線用インナーリード3A
1との間に絶縁性フィルムを介在させないで適正な容量
を確保するための隙間(隙間距離は0.05mm)が設
けられて保持されたものである。
止型半導体装置の半導体チップ1の主面上にインナーリ
ード部3Aを配設する組立工程を簡単に説明する。
形して段差部Dを形成する。 :バスバーリード3A2の半導体チップ1の長辺に実
質的に平行に配設されている部分3A21,及び突出部3
A22及び複数の信号線用インナーリード3A1の先端部
3A12に接着剤を付ける。 :前記リードフレームを半導体チップ1の上に、前記
バスバーリード3A2の半導体チップ1の長辺に実質的
に平行に配設されている部分3A21を複数の信号線用イ
ンナーリード3A1の先端部3A11が半導体チップ1の
中央側に延在するように、位置合わせを行う(図15参
照)。 :前記の位置合わせ後に、前記半導体チップ1の主面
にリードフレームを前記接着剤6により接着する(図1
4及び図15参照)。
をインナーリード3A12の先端部3A11にボンディング
し、ボンディングワイヤ5の他方の端子を半導体チップ
1の主面上のボンデングパッド1Aにボンディングし
て、半導体チップ1と信号線用インナーリード3A1と
を電気的に接続する。同様に半導体チップ1の長辺に実
質的に平行に配設されている部分3A21と一体に設けら
れている部分3A22と半導体チップ1の主面上のボンデ
ィングパッド1Aとをボンディングワイヤ5で接続し
て、半導体チップ1とバスバーリード3A2とを電気的
に接続する。その後、トランスファーモールド法により
封止材(樹脂)2Aで封止する。
形態1と同様の作用効果を得ることができる。また、絶
縁性フィルム4を使用しない分だけ、製造工程及び製造
コストを低減することができる。また、信号用インナー
リード3A1の先端部3A11が、よりチップ主面に近づ
く位置に配置されているので、ワイヤループの高さを低
くすることが可能である。
線用インナーリード3A1の薄くした部分3A11,3A
12及びバスバーリード3A2の薄くした部分3A21,3
A21',3A22の形成は、図16に示す破線で囲んだ部
分H(チップより、少し大きい長方形状)に位置するイ
ンナーリード部の裏面をハーフエッチングまたはコイニ
ングすることにより作製する。
は、図17(a)に示すように、ジェベンド(J文字)
型に加工される。また、必要に応じて、(b)に示すフ
ラット型、(c)に示す逆エル(逆L文字)型、(d)
に示すゼット(Z文字)型に加工される。
ップ1が一個一層のものについて説明したが、本発明の
薄形の樹脂封止型半導体装置は、例えば、2個以上の半
導体チップもしくは半導体パッケージを積層してメモリ
容量を増大する場合等にも適用できる。
6による半導体記憶モジュールの概略構成を示す平面
図、図19は図18の側面図であり、30は実装基板、
31はDRAM等の半導体記憶装置が2つ重ねられた積
層体、32はチップコンデンサ、33は半導体記憶モジ
ュールの端子である。積層体31を構成する各々のパッ
ケージには、実施形態1〜5に示したパッケージが適用
される。
図18及び図19に示すように、基板30の両面に、そ
れぞれDRAM等の半導体記憶装置が2つ重ねられた積
層体31が8個づつ搭載されている。チップコンデンサ
32は実装基板30の平面一周辺部に設けられ、半導体
記憶モジュールの端子33は実装基板30の一側端面に
設けられたものである。このように構成することによ
り、小型で大容量の薄型半導体記憶モジュールを得るこ
とができる。積層体31の厚さは、最大で1.2〜1.
3mm程度である。
による電子装置の概略構成を示す平面図で、(a)は一
片面の平面図、(b)は他片面の平面図であり、図21
は図20の図の側面図である。図20及び図21におい
て、34はマイクロコンピュータが搭載されたQFP、
35はドライバ用ICが搭載されたQFP、36はフラ
ッシュメモリ等の半導体記憶装置が2つ重ねられた積層
体である。積層体36を構成する各々のパッケージに
は、実施形態1〜5に示したパッケージが適用される。
図20及び図21に示すように、基板30の一片面(例
えば表面)には、それぞれフラッシュメモリ等の半導体
記憶装置が2つ重ねられた積層体36が3個、マイクロ
コンピュータ(QFP)34、ドライバ(QFP)3
5、チップコンデンサ32が搭載され、他の片面(例え
ば裏面)にはフラッシュメモリ等の半導体記憶装置が2
段重ねの積層体36が8個及びチップコンデンサ32が
搭載されている。このように構成することにより、小型
で大容量の記憶容量を持つ電子装置を得ることができ
る。これにより高精度で大容量の情報処理が可能な電子
カードを得ることができる。積層体36の厚さは、最大
で1.2〜1.3mmであり、QFP34,35の厚さ
とほぼ同じになっている。
前記実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、
前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論で
ある。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
半導体装置において、信号用インナーリード(インナー
リード部の第1の領域)は、前記半導体チップの主面上
に、当該主面とインナーリードとの間に所定の隙間を形
成するように配設され、その部分のインナーリードの厚
さは、インナーリードの他の部分の厚さよりも薄くされ
ているので、バスバーリード上に絶縁コート材を塗布し
なくでも、信号線のボンディングワイヤとバスバーリー
ドをショートさせずに半導体パッケージの厚さを薄くす
ることができる。
半導体装置において、半導体パッケージの厚さを薄くし
ても、半導体チップ主面とインナーリード部との間に絶
縁性フィルムを介在させて所定の隙間を形成することに
よって適正な容量を確保することができるので、樹脂封
止型半導体装置の適正な容量による電気特性が得られ
る。
半導体装置において、半導体パッケージの厚さを薄くし
ても、半導体パッケージの半導体チップの主面上の封止
体の適正な厚さを確保することができる。
半導体装置において、半導体パッケージの厚さを薄くし
ても、アウターリードの突出部を半導体パッケージの厚
さ中央部に近づけることにより、半導体チップの上下封
止体のバランスがとれるので、半導体パッケージの熱膨
張係数の相違による反りを防止することができる。
半導体装置において、信号用インナーリード(インナー
リード部の第1の領域)は、前記半導体チップの主面上
に、当該主面とインナーリードとの間に所定の隙間を形
成するように配設され、バスバーリードのみを直接半導
体チップ主面上に接着剤で固着するので、絶縁性フィル
ム4を用いない分だけ製造工程及び製造コストを低減す
ることができる。
型半導体装置において、信号用インナーリードは、前記
半導体チップの主面上に、当該主面とインナーリードと
の間に所定の隙間を形成するように配設され、その部分
のインナーリードの厚さは、インナーリードの他の部分
の厚さよりも薄くされ、その先端部は前記半導体チップ
の主面上に絶縁フィルムを介在して固着されるので、半
導体チップとリードの絶縁性を確実にすることができ
る。
型半導体装置において、半導体パッケージの厚さを薄く
しても半導体チップ主面とインナーリード部との間に絶
縁性フィルムを介在させて適正な容量を確保するので、
樹脂封止型半導体装置の適正な容量による電気特性が得
られる。また、バスバーリードを用いない分だけ製造工
程及び製造コストを低減することができる。
型半導体装置において、半導体パッケージの厚さを薄く
しても、半導体パッケージの半導体チップの主面上の封
止体の適正な厚さを確保することができる。
型半導体装置において、半導体チップ主面とインナーリ
ード部との間に絶縁性フィルムを介在させないで所定の
間隔を設け、半導体チップ主面上にインナーリード部の
先端部のみを直接接着剤で固着しても半導体チップ主面
の最上層が絶縁膜であり、半導体チップとリードの絶縁
性を確保できるので、バスバーリード及び絶縁性フィル
ムを用いない分だけ製造工程及び製造コストを低減する
ことができる。
置の概略構成を示す平面図である。
置の概略構成を示す平面図である。
る。
る。
る。
をボンディングする1つの方法を説明するための図であ
る。
をボンディングする別の方法を説明するための図であ
る。
置の概略構成を示す平面図である。
装置の概略構成を示す平面図である。
装置の概略構成を示す模式図である。
ある。
ある。
する領域Hを示す図である。
図である。
モジュールの概略構成を示す平面図である。
成を示す平面図である。
全体概略構成を示す一部欠き視斜図である。
型半導体装置の概略構成を示す平面図である。
導体パッケージ、2A…モールドレジン(封止体)、3
…リードフレーム、3A…インナーリード部、3A1…
信号線用インナーリード、3A11…信号線用インナーリ
ードの先端部、3A12…信号線用インナーリードの薄く
加工された部分、3A2…バスバーリード、3A21…バ
スバーリードの半導体チップの主面に平行に配設されて
いる部分、3A21'…バスバーリードの薄く加工された
部分、3A22…バスバーリードの突起部、3B…アウタ
ーリード部、3C…吊りリード、4…絶縁性フィルム、
5…ボンディングワイヤ、6…接着剤、20…絶縁コー
ト材、21…ステージ、22…リードフレーム押え機、
30…基板、31…DRAM等の半導体記憶装置、32
…チップコンデンサ、33…半導体記憶モジュールの端
子、34…マイクロコンピュータ、35…ドライバ、3
6…フラッシュメモリ等の半導体記憶装置。
Claims (19)
- 【請求項1】 半導体基板主面に回路及び複数の外部端
子が形成された半導体チップと、インナーリード部と前
記インナーリード部と一体に形成されたアウターリード
部とを夫々有する複数のリードと、前記外部端子とイン
ナーリード部を夫々電気的に接続するボンディングワイ
ヤと、前記半導体チップ、インナーリード部、ボンディ
ングワイヤを封止する封止体とを備えた半導体装置であ
って、前記インナーリード部は、前記半導体チップの主
面上に、当該主面と前記インナーリードとの間に所定の
隙間を設けて配設され、該インナーリード部の先端部に
て、前記半導体チップの主面上に接着剤を介在して固着
されており、前記主面上に配設される部分のインナーリ
ードの厚さは、当該インナーリードの他の部分の厚さよ
りも薄くされてなることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記封止体が封止体厚1.0mm以下の
薄型であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装
置。 - 【請求項3】 前記インナーリード部が部分的に薄くさ
れたことによって生じる段差状の面が前記半導体チップ
主面と対面していることを特徴とする請求項1又は請求
項2に記載の半導体装置。 - 【請求項4】 半導体基板主面に回路及び複数の外部端
子が形成された半導体チップと、第1の領域を有するイ
ンナーリード部及び第2の領域を有するインナーリード
部と前記インナーリード部と一体に形成されたアウター
リード部とを夫々有する複数のリードと、前記外部端子
とインナーリード部の第1の領域及び第2の領域とを夫
々電気的に接続するボンディングワイヤと、前記半導体
チップ、インナーリード部、ボンディングワイヤを封止
する封止体とを備えた半導体装置であって、前記インナ
ーリード部の第1の領域及び第2の領域は、前記半導体
チップの主面上に配設され、前記インナーリード部の第
1の領域は、当該主面と前記インナーリードとの間に所
定の隙間を設けて配設され、該主面上に配設される部分
のインナーリードの厚さは、当該インナーリードの他の
部分の厚さよりも薄くされ、前記主面上に配置されるイ
ンナーリードの先端部は前記半導体チップの主面上に絶
縁フィルムを介在して固着されてなることを特徴とする
半導体装置。 - 【請求項5】 前記半導体チップは、長方形であり、前
記インナーリード部の第2の領域は、半導体チップの長
辺と実質的に平行に配設された部分を有し、前記平行に
配設された部分は、前記外部端子と前記インナーリード
の先端部の間に配置されることを特徴とする請求項4に
記載の半導体装置。 - 【請求項6】 半導体基板主面に回路及び複数の外部端
子が形成された半導体チップと、第1の領域を有するイ
ンナーリード部及び第2の領域を有するインナーリード
部と前記インナーリード部と一体に形成されたアウター
リード部とを夫々有する複数のリードと、前記外部端子
とインナーリード部の第1の領域及び第2の領域とを夫
々電気的に接続するボンディングワイヤと、前記半導体
チップ、インナーリード部、ボンディングワイヤを封止
する封止体とを備えた半導体装置であって、前記インナ
ーリード部の第1の領域及び第2の領域は、前記半導体
チップの主面上に配設され、前記インナーリード部の第
1の領域は、当該主面と前記インナーリードとの間に所
定の隙間を設けて配設され、該主面上に配設される部分
のインナーリードの厚さは、当該インナーリードの他の
部分の厚さよりも薄くされ、その先端部は前記半導体チ
ップの主面上に固定されていないことを特徴とする半導
体装置。 - 【請求項7】 前記インナーリード部の第1の領域は信
号リードであり、前記第2の領域は固定電位リードであ
ることを特徴とする請求項4または6に記載の半導体装
置。 - 【請求項8】 その主面に集積回路と複数の外部端子が
形成された半導体チップと、各々がインナーリード部と
前記インナーリード部と一体に形成されたアウターリー
ド部を有する複数のリードであって、前記インナーリー
ド部の一部が前記半導体チップの主面上に配置され、か
つ、前記インナーリード部が対応する前記外部端子に電
気的に接続された複数のリードと、前記複数のリードの
インナーリード部と前記半導体チップを封止する樹脂体
とを有する半導体装置であって、前記インナーリード部
は、前記半導体チップの主面側の第1表面と、前記第1
表面と反対側の第2表面を有し、かつ、前記半導体チッ
プの主面上に位置する第1部分と、前記第1部分と一体
に形成された第2部分であって、前記半導体チップの主
面外部に位置する第2部分とを有し、前記インナーリー
ド部の第1部分は、前記半導体チップの厚さ方向におい
て、前記第2部分より薄く形成され、前記インナーリー
ド部の第1部分の第1表面は、前記半導体チップの厚さ
方向において、前記インナーリード部の第2部分の第1
表面より、前記半導体チップから離間されていることを
特徴とする半導体装置。 - 【請求項9】 前記インナーリード部の第1部分は、絶
縁性フィルムを介して前記半導体チップの主面に接着さ
れていることを特徴とする請求項8に記載の半導体装
置。 - 【請求項10】 前記インナーリード部の第1部分は、
接着剤を介して前記半導体チップの主面に接着されてい
ることを特徴とする請求項8に記載の半導体装置。 - 【請求項11】 前記インナーリード部と対応する前記
外部端子は、ワイヤで接続されていることを特徴とする
請求項8に記載の半導体装置。 - 【請求項12】 前記複数のリードは、信号用リードと
固定電位用リードとを含み、前記固定電位用リードのイ
ンナーリード部の一部は、前記半導体チップの主面上に
おいて、前記信号用リードのインナーリード部の先端の
前記複数の外部端子の間に配置され、前記信号用リード
のインナーリード部と対応する外部端子を接続するワイ
ヤは、前記固定電位用リードのインナーリード部の一部
上を交差するように配置されていることを特徴とする請
求項11に記載の半導体装置。 - 【請求項13】 その主面に集積回路と複数の外部端子
が形成された半導体チップと、各々がインナーリード部
と前記インナーリード部と一体に形成されたアウターリ
ード部を有する複数の信号用リードであって、前記イン
ナーリード部の一部が前記半導体チップの主面上に配置
され、かつ、前記インナーリード部が対応する前記外部
端子にワイヤにより電気的に接続された複数の信号リー
ドと、インナーリード部と前記インナーリード部と一体
に形成されたアウターリード部を有する固定電位用リー
ドであって、前記インナーリード部の一部が前記半導体
チップの主面上に配置され、かつ、前記インナーリード
部が対応する前記外部端子に電気的に接続された固定電
位用リードと、前記複数の信号用リードのインナーリー
ド部、前記固定電位用リードのインナーリード部、前記
半導体チップを封止する樹脂体とを有する半導体装置で
あって、 前記信号用リードのインナーリード部は、前記半導体チ
ップの主面側の第1表面と、前記第1表面と反対側の第
2表面を有し、かつ、前記半導体チップの主面上に位置
する第1部分と、前記第1部分と一体に形成された第2
部分であって、前記半導体チップの主面外部に位置する
第2部分とを有し、前記信号用リードのインナーリード
部の第1部分は、前記半導体チップの厚さ方向におい
て、前記第2部分より薄く形成され、前記信号用リード
のインナーリード部の第1部分の第1表面は、前記半導
体チップの厚さ方向において、前記インナーリード部の
第2部分の第1表面より、前記半導体チップから離間さ
れ、 前記固定電位用リードのインナーリード部の一部は、前
記半導体チップの主面上において、前記信号用リードの
インナーリード部の先端と前記複数の外部端子の間に配
置され、 前記固定電位用リードのインナーリード部の一部は、前
記半導体チップの厚さ方向において、前記信号用リード
のインナーリード部の先端より低い位置に配置されてい
ることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項14】 前記固定電位用リードのインナーリー
ド部の一部は、接着剤を介して前記半導体チップの主面
に接着され、前記信号用リードのインナーリード部の先
端は、前記半導体チップの主面から離間されていること
を特徴とする請求項13に記載の半導体装置。 - 【請求項15】 前記信号用リードのインナーリード部
の先端は、絶縁性フィルムを介して前記半導体チップの
主面に接着されていることを特徴とする請求項13に記
載の半導体装置。 - 【請求項16】 前記信号用リードのインナーリード部
と対応する外部端子を接続するワイヤは、前記固定電位
用リードのインナーリード部の一部上を交差するように
配置されていることを特徴とする請求項13に記載の半
導体装置。 - 【請求項17】 その主面に集積回路と複数の外部端子
が形成された半導体チップと、各々がインナーリード部
と前記インナーリード部と一体に形成されたアウターリ
ード部を有する複数の信号用リードであって、前記イン
ナーリード部の一部が前記半導体チップの主面上に配置
され、かつ、前記インナーリード部が対応する前記外部
端子にワイヤにより電気的に接続された複数の信号リー
ドと、インナーリード部と前記インナーリード部と一体
に形成されたアウターリード部を有する固定電位用リー
ドであって、前記インナーリード部の一部が前記半導体
チップの主面上に配置され、かつ、前記インナーリード
部が対応する前記外部端子に電気的に接続された固定電
位用リードと、前記複数の信号用リードのインナーリー
ド部、前記固定電位用リードのインナーリード部、前記
半導体チップを封止する樹脂体とを有する半導体装置で
あって、 前記信号用リードのインナーリード部は、前記半導体チ
ップの主面側の第1表面と、前記第1表面と反対側の第
2表面を有し、かつ、前記半導体チップの主面上に位置
する第1部分と、前記第1部分と一体に形成された第2
部分であって、前記半導体チップの主面外部に位置する
第2部分とを有し、 前記信号用リードのインナーリード部の第1部分は、前
記半導体チップの厚さ方向において、前記第2部分より
薄く形成され、 前記信号用リードのインナーリード部の第1部分は、前
記ワイヤが接続される先端部を有し、 前記先端部以外の前記信号用リードのインナーリード部
の第1部分の第1表面は、前記半導体チップの厚さ方向
において、前記インナーリード部の第2部分の第1表面
より、前記半導体チップから離間され、 前記信号用リードのインナーリード部の第1部分の先端
部は、前記半導体チップの厚さ方向において、前記先端
部以外の前記信号用リードのインナーリード部の第1部
分より低い位置に配置され、 前記固定電位用リードのインナーリード部の一部は、前
記半導体チップの主面上において、前記信号用リードの
インナーリード部の第1部分の先端部と前記複数の外部
端子の間に配置され、 前記固定電位用リードのインナーリード部の一部は、前
記半導体チップの厚さ方向において、前記先端部以外の
前記信号用リードのインナーリード部の第1部分より低
い位置に配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項18】 前記固定電位用リードのインナーリー
ド部の一部及び前記信号用リードのインナーリード部の
先端部は、接着剤を介して前記半導体チップの主面に各
々接着されていることを特徴とする請求項17に記載の
半導体装置。 - 【請求項19】 前記信号リードのインナーリード部と
対応する外部端子を接続するワイヤは、前記固定電位用
リードのインナーリード部の一部上を交差するように配
置されていることを特徴とする請求項17に記載の半導
体装置。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10046487A JP2891692B1 (ja) | 1997-08-25 | 1998-02-27 | 半導体装置 |
TW087112067A TW469546B (en) | 1997-08-25 | 1998-07-23 | A TLOC (thin lead on chip) semiconductor device |
KR10-1998-0032669A KR100514023B1 (ko) | 1997-08-25 | 1998-08-12 | 반도체장치 |
MYPI98003852A MY118513A (en) | 1997-08-25 | 1998-08-24 | Semiconductor device |
CNB981186572A CN1167127C (zh) | 1997-08-25 | 1998-08-24 | 半导体器件 |
US09/139,563 US6153922A (en) | 1997-08-25 | 1998-08-25 | Semiconductor device |
SG1998003293A SG68073A1 (en) | 1997-08-25 | 1998-08-25 | Semiconductor device |
SG200201113A SG106065A1 (en) | 1997-08-25 | 1998-08-25 | Semiconductor device |
US09/563,756 US6297545B1 (en) | 1997-08-25 | 2000-05-01 | Semiconductor device |
US09/761,572 US6285074B2 (en) | 1997-08-25 | 2001-01-18 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22799597 | 1997-08-25 | ||
JP9-227995 | 1997-08-25 | ||
JP10046487A JP2891692B1 (ja) | 1997-08-25 | 1998-02-27 | 半導体装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10047181A Division JPH11135707A (ja) | 1997-08-25 | 1998-02-27 | 半導体記憶装置のモジュール及び電子装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2891692B1 true JP2891692B1 (ja) | 1999-05-17 |
JPH11135706A JPH11135706A (ja) | 1999-05-21 |
Family
ID=26386583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10046487A Expired - Fee Related JP2891692B1 (ja) | 1997-08-25 | 1998-02-27 | 半導体装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6153922A (ja) |
JP (1) | JP2891692B1 (ja) |
KR (1) | KR100514023B1 (ja) |
CN (1) | CN1167127C (ja) |
MY (1) | MY118513A (ja) |
SG (2) | SG68073A1 (ja) |
TW (1) | TW469546B (ja) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3768744B2 (ja) * | 1999-09-22 | 2006-04-19 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置およびその製造方法 |
KR100566781B1 (ko) * | 1999-11-10 | 2006-04-03 | 삼성전자주식회사 | 리드 온 칩 타입 반도체 패키지 |
JP3403699B2 (ja) * | 2000-05-31 | 2003-05-06 | 宮崎沖電気株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
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JP3839267B2 (ja) | 2001-03-08 | 2006-11-01 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置及びそれを用いた通信端末装置 |
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---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-02-27 JP JP10046487A patent/JP2891692B1/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-07-23 TW TW087112067A patent/TW469546B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-08-12 KR KR10-1998-0032669A patent/KR100514023B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-08-24 MY MYPI98003852A patent/MY118513A/en unknown
- 1998-08-24 CN CNB981186572A patent/CN1167127C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-08-25 US US09/139,563 patent/US6153922A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-25 SG SG1998003293A patent/SG68073A1/en unknown
- 1998-08-25 SG SG200201113A patent/SG106065A1/en unknown
-
2000
- 2000-05-01 US US09/563,756 patent/US6297545B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-01-18 US US09/761,572 patent/US6285074B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MY118513A (en) | 2004-11-30 |
KR100514023B1 (ko) | 2005-11-25 |
JPH11135706A (ja) | 1999-05-21 |
CN1213855A (zh) | 1999-04-14 |
TW469546B (en) | 2001-12-21 |
CN1167127C (zh) | 2004-09-15 |
US20010001504A1 (en) | 2001-05-24 |
KR19990023533A (ko) | 1999-03-25 |
SG106065A1 (en) | 2004-09-30 |
SG68073A1 (en) | 1999-10-19 |
US6297545B1 (en) | 2001-10-02 |
US6285074B2 (en) | 2001-09-04 |
US6153922A (en) | 2000-11-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990209 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080226 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090226 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090226 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100226 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110226 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110226 Year of fee payment: 12 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110226 Year of fee payment: 12 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110226 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120226 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140226 Year of fee payment: 15 |
|
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