ES2277924T3 - Composicion de revestimiento fotoactivable. - Google Patents
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Abstract
Una composición de revestimiento fotoactivable que al menos comprende un agente fotoiniciador y un material orgánico curable o polimerizable por catálisis con bases que al menos comprende un poliisocianato y al menos un compuesto que comprende grupos reactivos con el grupo isocianato, caracterizada porque los grupos reactivos con el grupo isocianato comprenden al meno un grupo tiol y el agente fotoiniciador es una base fotolatente.
Description
Composición de revestimiento fotoactivable.
La invención se refiere a una composición de
revestimiento fotoactivable que comprende al menos un agente
fotoiniciador y un material orgánico curable o polimerizable por
catálisis con bases que comprende al menos un poliisocianato y al
menos un compuesto que comprende grupos reactivos con el grupo
isocianato, y a su uso para la preparación de revestimientos con
una superficie rápidamente procesable a temperatura ambiente.
Las composiciones de revestimiento
fotoactivables del tipo indicado anteriormente son conocidas por,
entre otros, el documento
US-A-4.369.206. En este documento,
como agentes fotoiniciadores se hace uso de sales de amonio de
ácidos \alpha-cetocarboxílicos, y las
composiciones de revestimiento fotoactivables comprenden
precursores de resinas epoxi y poliuretanos que endurecen en
presencia de aminas. Un inconveniente de las composiciones
conocidas es que sólo se curan en lugares que son fácilmente
accesibles a la luz UV. En el caso de superficies tridimensionales,
o cuando la presencia de pigmentos no permite que la radiación UV
penetre en las capas inferiores, la velocidad de curado es
demasiado lenta.
El documento
EP-A-0898202 describe la
fotogeneración de aminas a partir de
\alpha-aminoacetofenonas como catalizador básico
latente en una composición de revestimiento catalizada por bases.
Los sistemas curables sólo comprenden compuestos orgánicos que son
capaces de reaccionar en una reacción catalizada por bases o en una
reacción de condensación. Se hace mención específica a un
(poli)alcohol y a un (poli)isocianato. Con el fin de
aumentar la velocidad de curado en lugares que no son fácilmente
accesibles a la luz UV, se hace mención del posible uso de un
catalizador básico adicional no bloqueado, el cual, sin embargo,
requiere el uso de una etapa térmica
adicional.
adicional.
El documento
FR-A-2773162 se refiere a
composiciones fotopolimerizables que comprenden al menos un monómero
polimerizable con un protón lábil y al menos un monómero
polimerizable que comprende uno o más grupos funcionales
iso(tio)cianato, en particular para la fabricación de
artículos ópticos. En una realización, el monómero polimerizable
con un protón lábil puede ser un compuesto que comprenda grupos
tiol.
Ahora, la invención proporciona composiciones de
revestimiento que pueden curarse mediante radiación UV y que tienen
una velocidad de curado aceptable a temperatura ambiente en lugares
que no son fácilmente accesibles a la luz UV, composiciones que
comprenden al menos un agente fotoiniciador y un material orgánico
curable o polimerizable por catálisis con bases que comprende al
menos un poliisocianato y al menos un compuesto que comprende
grupos reactivos con el grupo isocianato.
La composición de revestimiento fotoactivable
según la invención se caracteriza porque los grupos reactivos con
el grupo isocianato comprenden al menos un grupo tiol y el agente
fotoiniciador es una base fotolatente.
Debe añadirse que las composiciones de
revestimiento fotoactivables que comprenden un agente fotoiniciador
y un material orgánico curable o polimerizable que consiste en un
(poli)isocianato y un compuesto que comprende grupos tiol
son conocidas por, entre otros, el documento
EP-A-0188880. Las capas de
revestimiento producidas con las composiciones de revestimiento
descritas en el mismo pueden curarse primero por radiación UV y
luego, completamente, de una manera convencional a temperatura
ambiente. Un inconveniente principal de las composiciones de
revestimiento conocidas es la presencia simultánea de al menos dos
mecanismos de curado enteramente diferentes. Un mecanismo está
basado en la reacción entre un alqueno multifuncional y un tiol
multifuncional, que requiere radiación UV, mientras que el curado
secundario comprende muchos mecanismos tales como la reacción de
grupos isocianato libres con agua y la reacción de grupos
isocianato libres con el componente tiol. Un efecto de este
denominado sistema de curado dual es que los lugares no expuestos
sólo se curarán en parte, dando lugar a una cantidad sin reaccionar
de alqueno en los lugares no expuestos. Por lo tanto, con el fin de
lograr aún así un grado mínimo de curado en estos lugares, se
tendrá que hacer uso de compuestos que tienen una mayor
funcionalidad. El uso de tales compuestos tiene el efecto de
aumentar la viscosidad, lo cual conduce a que se requiera una mayor
cantidad de disolvente para conseguir una viscosidad de
pulverización similar, la cual se alcanza con un aumento de los
COVs.
Otra ventaja de la composición de revestimiento
fotoactivable según la invención es que cuando se usa una base
fotolatente permanecerá activa incluso después de que la exposición
haya finalizado.
Las bases fotolatentes adecuadas incluyen
4-(o-nitrofenil)dihidropiridinas
N-sustituidas, opcionalmente sustituidas con grupos
alquil éter y/o alquil éster, y agentes fotoiniciadores tipo
órgano-boro cuaternario. Un ejemplo de una
4-(o-nitrofenil)dihidropiridina
N-sustituida es N-metil nifedipina
(Macromolecules 1998, 31, 4798), N-butil
nifedipina, éster dietílico del ácido N-butil
2,6-dimetil 4-(2-nitrofenil)
1,4-dihidropiridina
3,5-dicarboxílico y una nifedipina según la
siguiente fórmula:
\vskip1.000000\baselineskip
es decir, éster dietílico del ácido
N-metil 2,6-dimetil
4-(4,5-dimetoxi-2-nitrofenil)
1,4-dihidropiridina
3,5-dicarboxílico. Ejemplos de agentes
fotoiniciadores tipo órgano-boro cuaternario se
describen en el documento
GB-A-2307473, tales
como
Hasta ahora, los resultados óptimos se han
obtenido con una base fotolatente que pertenece al grupo de las
\alpha-aminoacetofenonas. Ejemplos de
\alpha-aminoacetofenonas que pueden usarse en las
composiciones de revestimiento fotoactivables según la presente
invención son:
4-(metiltiobenzoil)-1-metil-1-morfolinoetano
(Irgacure® 907 de Ciba Specialty Chemicals) y
4-(morfolinobenzoil)-1-bencil-1-dimetilaminopropano
(Irgacure® 369 de Ciba Specialty Chemicals) descritas en el
documento EP-A-0898202. La preferida
es una \alpha-aminoacetofenona según la
siguiente
fórmula
fórmula
La base fotolatente puede usarse en una cantidad
de entre 0,01 y 10% en peso respecto al material sólido curable,
preferiblemente 0,05 a 5% en peso, más preferiblemente 0,05 a 3% en
peso.
Para la mayoría de las composiciones de
revestimiento en las que se hace uso de una base fotolatente puede
obtenerse un equilibrio aceptable entre el tiempo útil de
manipulación del producto y la velocidad de curado mediante la
incorporación de una cierta cantidad de un ácido orgánico. En dicho
caso, se da preferencia a un ácido orgánico que sea compatible con
las otras partes de la composición. Hasta ahora se han obtenido
resultados óptimos con ácido dodecilbencenosulfónico. La cantidad
usada del mismo varía entre 0,01 y 20% en peso, basada en el peso
total de la composición de revestimiento, preferiblemente 0,05 a 10%
en peso, más preferiblemente 0,1 a 5% en peso.
Aunque la irradiación de la mayoría de las
\alpha-aminoacetofenonas conocidas en la
bibliografía da lugar a la generación de un catalizador activo,
para algunas de ellas los lugares no expuestos restan valor a la
eficacia debido a un tiempo de curado demasiado largo. Dicho
problema puede superarse incorporando a la composición una base muy
débil y/o un compuesto metálico.
En general, se obtienen buenos resultados con
complejos metálicos y/o sales metálicas que como tales son conocidas
como catalizadores de la reacción entre grupos isocianato y grupos
hidroxilo. En dicho caso, se da preferencia a complejos metálicos o
sales metálicas en las que el metal se selecciona del grupo de
aluminio, titanio, zirconio y hafnio. Estos metales están
complejados con grupos carboxilato y/o dicetonas o
alquilacetoacetatos. Ejemplos de catalizadores satisfactorios se
describen en el documento
US-A-5.846.897. Hasta ahora, se han
obtenido resultados óptimos con el complejo de aluminio
K-KAT® XC5218 (de King Industries) y con titanatos
orgánicos tales como diisopropóxido
bis-2,4(pentadionato) de titanio (Tyzor® AA
de DuPont). Estos catalizadores pueden usarse en una cantidad de
0,01 a 10% en peso respecto al material sólido curable,
preferiblemente 1 a 5% en peso.
Las composiciones de revestimientos según la
invención son curables por radiación después de su aplicación y,
opcionalmente, evaporación de los disolventes. En particular, son
adecuadas para curar mediante irradiación con luz UV. También son
adecuadas combinaciones de irradiación IR/UV. Las fuentes de
radiación que pueden usarse son las usuales para UV, tales como
lámparas de mercurio de alta y media presión. Con el fin de evitar
cualquier riesgo involucrado con el manejo de luz UV de longitud de
onda muy corta (luz UV B y/o UV C) se da preferencia, especialmente
para el uso en talleres de repintado de automóviles, a lámparas
fluorescentes que produzcan la luz UV A menos perjudicial. Sin
embargo, se encontró que la baja intensidad de la luz producida por
dichas lámparas tenía un efecto dañino sobre el curado de sistemas
duales de curado polimerizados por radicales libres como resultado
de inhibición debida al oxígeno.
Sorprendentemente, ahora se ha encontrado que
cuando se usa una base fotolatente como agente foto iniciador, más
particularmente cuando se emplea un agente sensibilizador, no hay
ningún problema durante la irradiación con luz UV procedente de
lámparas fluorescentes como resultado de la inhibición debida al
oxígeno.
Agentes sensibilizadores adecuados son las
tioxantonas tales como tioxantona de isopropilo según la siguiente
fórmula
(Quantacure® ITX de G. Lakes), oxazinas y
rodaminas. Pueden obtenerse superficies incoloras con benzofenona y
sus derivados. Ejemplos de derivados adecuados de benzofenona
son:
en la que R_{1}, R_{2} y
R_{3} pueden ser los mismos o diferentes y simbolizan a CH_{3} o
H (Speedcure® BEM de
Lambson).
(Quantacure® BMS de G. Lakes), y
en las que R_{1}, R_{2} y
R_{3} pueden ser los mismos o diferentes y simbolizan a CH_{3} o
H (Esacure® TZT de
Lamberti).
El agente sensibilizador puede estar presente en
una cantidad de 0,1 a 5%& en peso, respecto al material sólido
curable, preferiblemente 0,5 a 2,5% en peso.
Ejemplos del compuesto reactivo con el grupo
isocianato que comprende al menos un grupo tiol incluyen un
compuesto tiol-funcional que comprende al menos dos
grupos funcionales tiol y un compuesto que comprende al menos un
grupo funcional tiol y un grupo funcional hidroxilo. En las
composiciones de la presente invención también pueden usarse
mezclas de estos compuestos.
En general, los compuestos adecuados que
contengan grupos tiol se preparan haciendo reaccionar compuestos
que contengan grupos hidroxilo con ácidos que contengan grupos tiol,
tales como ácido 3-mercaptopropiónico, ácido
2-mercaptopropiónico, ácido tiosalicílico, ácido
mercaptosuccínico, ácido mercaptoacético o cisteína. Ejemplos de
compuestos adecuados que contengan grupos hidroxilo son dioles,
trioles y tetraoles, tales como 1,4-butanodiol,
1,6-hexanodiol,
2,2-dimetil-1,3-propanodiol,
2-etil-2-propil-1,3-propanodiol,
1,2, 1-3 y 1,4-ciclohexanodioles y
el correspondiente ciclohexano dimetanol,
1,1,1-trimetilol propano,
1,2,3-trimetilol propano y pentaeritritol. Ejemplos
de compuestos preparados según dicho método incluyen pentaeritritol
tetrakis(3-mercaptopropionato),
pentaeritritol tetrakis(2-mercaptoacetato),
trimetilol propano
tris(3-mercaptopropionato), trimetilol
propano tris(2-mercaptopropionato) y
trimetilol propano tris(2-mercaptoacetato).
Se han obtenido buenos resultados con trimetilol propano
tris(3-mercaptopropionato) y pentaeritritol
tetrakis(3-mercaptopropionato).
Otro ejemplo de un compuesto preparado según
dicho método consiste en un núcleo de un poliol hiperramificado
basado en un poliol iniciador, por ejemplo trimetilol propano, y
ácido dimetilolpropiónico. Subsiguientemente, este poliol se
esterifica con ácido 3-mercaptopropiónico y ácido
isononanoico. Estos métodos se describen en la solicitud de patente
europea EP-A-0448224 y en la
solicitud de patente internacional WO 93/17060.
Otras síntesis para preparar compuestos que
comprendan al menos dos grupos funcionales tiol suponen:
- -
- la reacción de un haluro de arilo o alquilo con NaHS para introducir un grupo tiol colgante en los compuestos de alquilo y arilo, respectivamente;
- -
- la reacción de un reactivo de Grignard con azufre para introducir un grupo colgante tiol en la estructura;
- -
- la reacción de un polimercaptano con una poliolefina según una reacción de adición de Michael, una reacción nucleófila, una reacción electrófila o una reacción por radicales;
- -
- la reacción de un alcohol tiol-funcional y un compuesto isocianato-funcional, y
- -
- la reducción de disulfuros.
El compuesto que comprende al menos un grupo
funcional tiol y un grupo funcional hidroxilo puede tener, por
ejemplo, una estructura según la siguiente fórmula:
T[(C_{3}H_{6}O)_{n}CH_{2}CHOHCH_{2}SH]_{3},
siendo T un triol tal como trimetilol propano o glicerol. Un
ejemplo de tal compuesto está comercialmente disponible en Henkel
con el nombre comercial Henkel Capcure® 3/800.
Alternativamente, el compuesto reactivo con los
grupos isocianato que comprende al menos un grupo tiol es una
resina que tiene, por ejemplo, como cadena principal una resina de
poliéster, una resina de poliuretano, una resina de poliacrilato o
una resina de poliéter. Estos compuestos reactivos con los grupos
isocianato también pueden comprender grupos hidroxilo.
El compuesto reactivo con los grupos isocianato
que comprende al menos un grupo tiol puede ser un poliéster
preparado a partir de: (a) al menos un ácido policarboxílico o sus
derivados reactivos, (b) al menos un poliol, y (c) al menos un
ácido carboxílico tio-funcional. Preferiblemente,
los poliésteres poseen una estructura ramificada. Los poliésteres
ramificados se obtienen convencionalmente por medio de la
condensación de ácidos policarboxílicos o sus derivados reactivos,
tales como los anhídridos o ésteres de alquilo inferiores
correspondientes, con polialcoholes, cuando al menos uno de los
reaccionantes tiene una funcionalidad de al menos 3.
Ejemplos de ácidos policarboxílicos adecuados o
de sus derivados reactivos son ácido tetrahidroftálico, anhídrido
tetrahidroftálico, ácido hexahidroftálico, anhídrido
hexahidroftálico, ácido metil hexahidroftálico, anhídrido metil
hexahidroftálico, dimetilciclohexano dicarboxilato, ácido
1,4-ciclohexano dicarboxílico, ácido
1,3-ciclohexano dicarboxílico, ácido ftálico,
anhídrido ftálico, ácido isoftálico, ácido tereftálico, ácido
5-terc-butil isoftálico, anhídrido
trimellítico, ácido maleico, anhídrido maleico, ácido fumárico,
ácido succínico, anhídrido succínico, anhídrido dodecenilsuccínico,
succinato de dimetilo, ácido glutárico, ácido adípico, adipato de
dimetilo, ácido azelaico y sus
mezclas.
mezclas.
Ejemplos de polioles adecuados incluyen
trimetilol propano, trimetilol etano, glicerol,
1,2,6-hexanotriol, etilenglicol,
1,2-propilenglicol,
1,3-propilenglicol,
2-metilpropano-1,3-diol,
neopentilglicol,
2-butil-2-etil-1,3-propanodiol,
ciclohexano-1,4-dimetilol, el
monoéster de neopentilglicol y ácido hidroxipiválico, Bisfenol A
hidrogenado, 1,5-pentanodiol,
3-metilpentanodiol, 1,6-hexanodiol,
2,2,4-trimetil-pentano-1,3-diol,
ácido dimetilolpropiónico, pentaeritritol,
di-trimetilol propano, dipentaeritritol y sus
mezclas.
Ejemplos de ácidos orgánicos
tio-funcionales adecuados incluyen ácido
3-mercaptopropiónico, ácido
2-mercaptopropiónico, ácido
tio-salicílico, ácido mercaptosuccínico, ácido
mercaptoacético, cisteína y sus mezclas.
Opcionalmente, en la preparación de los
poliésteres pueden usarse ácidos monocarboxílicos y monoalcoholes.
Preferiblemente, se usan ácidos monocarboxílicos de
C_{4}-C_{18} y monoalcoholes de
C_{6}-C_{18}. Ejemplos de los ácidos
monocarboxílicos de C_{4}-C_{18} incluyen ácido
piválico, ácido hexanoico, ácido heptanoico, ácido octanoico, ácido
nonanoico, ácido 2-etilhexanoico, ácido
isononanoico, ácido decanoico, ácido láurico, ácido mirístico,
ácido palmítico, ácido isoesteárico, ácido esteárico, ácido
hidroxiesteárico, ácido benzoico, ácido
terc-butil-benzoico y sus mezclas.
Ejemplos de los monoalcoholes de C_{6}-C_{18}
incluyen ciclohexanol, 2-etilhexanol, alcohol
estearílico y
4-terc-butil-ciclohexanol.
También pueden obtenerse buenos resultados con
una dispersión acuosa de un poliuretano
tiol-funcional que se puede obtener preparando en
primer lugar un poliuretano isocianato-funcional a
partir de dioles, diisocianatos y compuestos químicos base que
contengan grupos que faciliten la estabilización de la resina en una
dispersión acuosa, seguido por reacción del poliuretano
isocianato-funcional con un tiol polifuncional en un
reacción de adición catalizada por bases, seguido por dispersión en
agua.
El compuesto reactivo con los grupos isocianato
que comprende al menos un grupo tiol puede ser un poliacrilato
tiol-funcional. Tal poliacrilato puede derivarse de
monómeros (met)acrílicos tales como ácido
(met)acrílico, (met)acrilato de metilo,
(met)acrilato de butilo, un derivado vinílico tal como
estireno, y opcionalmente monómeros acrílicos
hidroxi-funcionales, tales como (met)acrilato
de hidroxietilo, (met)acrilato de hidroxipropilo,
(met)acrilato de hidroxibutilo y semejantes, o sus mezclas,
en los que los términos (met)acrilato y ácido
(met)acrílico se refieren tanto a metacrilato como a
acrilato, así como a ácido metacrílico y ácido acrílico,
respectivamente. El grupo tiol se introduce mediante el producto de
reacción de dimetil-m-isopropenil
bencil isocianato y mercaptoetanol. Alternativamente, para preparar
un poliacrilato epoxi funcional se introduce metacrilato de
glicidol en el polímero. A continuación, los grupos epoxi se hacen
reaccionar con ácidos orgánicos tiol-funcionales
adecuados tales como los mencionados anteriormente. El poliacrilato
se prepara por métodos convencionales, por ejemplo, mediante la
adición lenta de monómeros apropiados a una disolución de un
iniciador de polimerización apropiado, tal como un iniciador azo o
peroxi.
También pueden estar incluidos en las
composiciones de revestimiento de la invención agentes diluyentes
di, tri o de mayor funcionalidad tiol tales como etano ditiol o
sulfuro de
bis-beta-mercapto-etilo.
Se da preferencia al uso de compuestos
tiol-funcionales de mayor peso molecular, que pueden
obtenerse por reacción de un compuesto
politiol-funcional con un poliisocianato.
El compuesto tiol-funcional más
preferido es pentaeritritol
tetrakis(3-mercaptopropionato).
El poliisocianato orgánico incluye
poliisocianatos polifuncionales, preferiblemente libres, con una
funcionalidad NCO media de 2,5 a 5, y pueden ser de naturaleza
(ciclo)alifática, aralifática o aromática. El poliisocianato
orgánico puede estar bloqueado. El poliisocianato puede incluir
derivados de biuret, uretdiona e isocianurato. Ejemplos de estos
poliisocianatos orgánicos incluyen
1,6-diisocianatohexano, isoforona diisocianato,
2,4-tolueno diisocianato,
2,6-tolueno diisocianato, difenil
metano-diisocianato,
4,4'-bis(isocianato-ciclohexil)metano,
1,4-diisocianatobutano,
1,5-diisocianato-2,2-dimetilpentano,
2,2,4-trimetil-1,6-diisocianatohexano,
1,10-diisocianatodecano,
4,4-diisocianato-ciclohexano,
2,4-hexahidrotolueno diisocianato,
2,6-hexahidrotolueno diisocianato, norbornano
diisocianato, 1,3-xilileno diisocianato,
1,4-xilileno diisocianato,
1-isocianato-3-(isocianato
metil)-1-metil ciclohexano,
m-\alpha,\alpha-\alpha',\alpha'-tetrametil
xilileno diisocianato, sus derivados anteriormente mencionados y
sus mezclas. Normalmente, estos productos son líquidos a temperatura
ambiente y están comercialmente disponibles en una amplia gama. Los
agentes de curado tipo isocianato particularmente preferidos son
triisocianatos y aductos. Ejemplos de los mismos son
1,8-diisocianato-4-(isocianatometil)octano,
el aducto de 3 moles de tolueno diisocianato a 1 mol de trimetilol
propano, el trímero isocianurato de
1,6-diisocianatohexano, el trímero isocianurato de
isoforona diisocianato, el dímero uretdiona de
1,6-diisocianatohexano, el trímero biuret de
1,6-diisocianatohexano, el aducto de 3 moles de
m-\alpha,\alpha-\alpha',\alpha'-tetrametil
xileno diisocianato a 1 mol de trimetilol propano, y sus mezclas.
Los preferidos son los trímeros cíclicos (isocianuratos) y
uretdionas de 1,6-hexano diisocianato e isoforona
diisocianato. Usualmente, estos compuestos contienen pequeñas
cantidades de sus homólogos superiores.
Opcionalmente, una composición de revestimiento
basada en agua según la presente invención también puede comprender
un compuesto orgánico tipo poliisocianato hidrófilo sustituido con
grupos no iónicos, tales como grupos alcoxi de
C_{1}-C_{4} poli(óxido de alquileno).
Preferiblemente, respecto al compuesto poliisocianato sólido total
estarán presentes un 30% en peso de grupos no iónicos, más
preferiblemente 20% en peso, mucho más preferiblemente 15% en peso.
Los preferidos son los isocianuratos de 1,6-hexano
diisocianato e isoforona diisocianato sustituidos con metoxi
polietilenglicol.
Opcionalmente, en el material curable puede
estar presente un compuesto hidroxil-funcional que
comprende al menos dos grupos funcionales hidroxilo. El compuesto
hidroxil-funcional que comprende al menos dos grupos
funcionales hidroxilo puede seleccionarse de poliéster polioles,
poliéter polioles, poliacrilato polioles, poliuretano polioles,
acetobutirato de celulosa, resinas epoxi
hidroxil-funcionales, resinas alquídicas y polioles
dendrímeros tales como los descritos en el documento WO 93/17060.
Asimismo, pueden incluirse oligómeros y monómeros
hidroxil-funcionales, tales como aceite de ricino y
trimetilol propano. Un poliol preferido es un acrilato de poliol.
Más preferido es un acrilato de poliol disponible en Akzo Nobel
Resins que tiene el nombre comercial Setalux® 1157.
El poliisocianato y el compuesto que comprende
grupos reactivos con el grupo isocianato deben mezclarse tal que la
relación de grupos isocianato a grupos reactivos con el grupo
isocianato esté en el intervalo de 0,5-3:1,
preferiblemente 0,75-2,5:1, y más preferiblemente
1-2:1.
Si en la composición de revestimiento están
presentes compuestos hidroxil-funcionales, pueden
estar presentes catalizadores de reticulación de grupos isocianato
con grupos hidroxilo. Ejemplos de los mismos incluyen catalizadores
basados en estaño, tales como dilaurato de dibutilestaño y diacetato
de dibutilestaño.
El poliisocianato puede mezclarse con el
compuesto reactivo con los grupos isocianato mediante cualquier
técnica adecuada. Sin embargo, usualmente es suficiente simplemente
agitando. Algunas veces puede ser útil diluir algo el
poliisocianato con un disolvente orgánico, como acetato de etilo o
acetato de
1-metoxi-2-propilo,
para reducir su viscosidad. El tiempo útil de manipulación de la
composición de revestimiento a temperatura ambiente es usualmente
mayor que 1 día, dependiendo de los catalizadores usados y de su
cantidad.
La composición según la presente invención puede
ser una composición basada en agua, una composición basada en
disolventes o una composición exenta de disolventes. Puesto que la
composición puede estar compuesta de oligómeros líquidos, es
especialmente adecuada para usar como una composición de alto
contenido de sólidos o una composición exenta de disolventes.
Alternativamente, la composición de revestimiento de la presente
invención puede ser una dispersión de revestimiento acuosa de un
polvo en la que el compuesto reactivo con los grupos isocianato que
comprende al menos un grupo tiol tiene una T_{g} por encima de
20ºC. Asimismo, la composición de revestimiento puede usarse en
composiciones de revestimiento en polvo y en composiciones de
revestimiento que se aplican en masa fundida. Preferiblemente, el
contenido teórico de compuestos orgánicos volátiles (VOC) en la
composición es menor que aproximadamente 450 g/L, más
preferiblemente menor que aproximadamente 350 g/L, mucho más
preferiblemente menor que aproximadamente 250 g/L.
Además, las composiciones de revestimiento
pueden comprender otros ingredientes, aditivos o compuestos
auxiliares, tales como pigmentos, colorantes, agentes emulsionantes
(tensioactivos), compuestos auxiliares de la dispersión de
pigmentos, agentes de nivelado, agentes antiformación de cráteres,
agentes antiespumantes, agentes anticombamiento, agentes
estabilizantes térmicos, agentes absorbentes de la radiación UV,
agentes antioxidantes y cargas.
La composición de revestimiento de la presente
invención puede aplicarse a cualquier sustrato. El sustrato puede
ser, por ejemplo, un metal, plástico, madera, vidrio, una cerámica,
o alguna otra capa de revestimiento. La otra capa de revestimiento
puede estar compuesta de la composición de revestimiento de la
presente invención o puede ser una composición de revestimiento
diferente. Las composiciones de revestimiento de la presente
invención muestran particular utilidad como revestimientos
transparentes, revestimientos de acabado pigmentados, composiciones
de imprimación y cargas. Preferiblemente, la composición de
revestimiento según la presente invención puede usarse como un
revestimiento transparente o como un revestimiento de imprimación.
En una aplicación de revestimiento transparente, como base
fotolatente se prefiere el uso de
\alpha-aminoacetofenona. En una aplicación como
revestimiento de imprimación, como base fotolatente se prefiere el
uso de 4-(o-nitrofenil)dihidropiridinas
N-sustituidas.
Las composiciones de revestimiento pueden
aplicarse por medios convencionales tales como mediante una pistola
de pulverización, un cepillo o un rodillo, prefiriéndose la
pulverización. Preferiblemente, las temperaturas de curado están
entre 0 y 100ºC y más preferiblemente entre 20 y 60ºC. Las
composiciones son particularmente adecuadas en la preparación de
sustratos metálicos revestidos, tales como en la industria de
repintado, en particular los talleres de carrocerías, para reparar
automóviles y vehículos de transporte, y en el acabado de grandes
vehículos de transporte tales como trenes, camiones, autobuses y
aeroplanos.
En el caso en el que la composición de
revestimiento sea un revestimiento transparente, el revestimiento
base puede ser un revestimiento base convencional conocido en la
técnica de los revestimientos. Ejemplos son revestimientos base
basados en disolventes, por ejemplo Autobase® de Akzo Nobel Coatings
BV, basados en acetobutirato de celulosa, resinas acrílicas y
resinas de melamina, y revestimientos base basados en agua, por
ejemplo Autowave® de Akzo Nobel Coatings BV, basados en una
dispersión de una resina acrílica y en una resina de poliéster.
Además, el revestimiento base puede comprender pigmentos (pigmentos
de color, metálicos y/o perlas), cera, disolventes, aditivos de
flujo, un agente de neutralización y agentes desespumantes. También
pueden usarse revestimientos base de alto contenido de sólidos.
Éstos están basados, por ejemplo, en polioles, iminas e
isocianatos. La composición de revestimiento transparente se aplica
a la superficie de un revestimiento base y a continuación se cura.
Puede introducirse una etapa de curado intermedia del revestimiento
base.
La invención se ilustrará con referencia a los
siguientes ejemplos. Desde luego, estos ejemplos sólo se presentan
para un mejor entendimiento de la invención; no se pretende que de
ninguna manera limiten su alcance.
\newpage
En los siguientes ejemplos, se describe el
tiempo de curado de varias composiciones de revestimiento según la
invención.
Un revestimiento está curado cuando la marca de
apretar firmemente con el dedo no deja ninguna impresión.
El tiempo mencionado como "tiempo útil de
manipulación" corresponde al tiempo transcurrido hasta que se
haya doblado la viscosidad.
La dureza Persoz se determinó según el método
estándar industrial francés NF T30-016, expresándose
los resultados en segundos.
La resistencia a los disolventes se midió
exponiendo la película a metil etil cetona durante un minuto. En
los resultados del ensayo, 0 significa que la película se disolvió
totalmente y 5 significa que la película no fue dañada en
absoluto.
La resistencia al agua se midió exponiendo la
película al agua durante una hora. En los resultados del ensayo, 0
significa que la película se disolvió totalmente y 5 significa que
la película no fue dañada en absoluto.
Se prepararon cinco composiciones de
revestimiento fotoactivables que comprendían cada una, una base
fotolatente seleccionada del grupo de N-metil
nifedipina (base 1), éster dietílico del ácido
N-butil 2,6-dimetil
4-(2-nitrofenil)
1,4-dihidropiridina
3,5-dicarboxílico (base 2) y éster dietílico del
ácido N-metil 2,6-dimetil
4-(4,5-dimetoxi-2-nitrofenil)
1,4-dihidropiridina
3,5-dicarboxílico (base 3).
Las composiciones fotoactivables A, B, C, D y E
comprendían 56 partes en peso (pep) de Desmodur® N3390 (un trímero
alifático de hexametileno diisocianato de Bayer) y 27 pep de
trimetilol propano
tris(3-mercaptopropionato).
El porcentaje en peso de la base fotolatente
varió entre 0,1 y 0,4. Se extendió una película de 50 \mum de
espesor sobre una placa de vidrio y se expuso a luz UV A (lámparas
fluorescentes tipo Cleo® de Philips) a una distancia de 10 cm (7
mW/cm^{2}). Los resultados de los experimentos llevados a cabo a
temperatura ambiente tanto en la oscuridad como después de 10
minutos de exposición se dan en la tabla 1. Los porcentajes citados
en los ejemplos indican porcentajes en peso, y las partes son partes
en peso.
\vskip1.000000\baselineskip
Según los resultados mencionados en la tabla
anterior, el tiempo de curado aumenta con la disminución de la
concentración de nifedipina. El tiempo útil de manipulación es
siempre aceptable, pero el curado en la oscuridad va contra la
eficacia. Sin embargo, se encontró que si en lugar de curar en la
oscuridad la película completa se exponía al menos a las
condiciones de laboratorio, el tiempo de curado de las partes sólo
expuestas a la luz disponible en las condiciones de laboratorio fue
bastante aceptable y varió entre 25 y 100 minutos, dependiendo del
tipo de base fotolatente y de su concentración.
Se repitió el ejemplo 1, con la condición de que
la base fotolatente fue 2 partes en peso (pep) de un borato de
tetrabutilamonio según la siguiente fórmula:
Las composiciones fotocurables A y B comprendían
50 pep de Tolonate® HDT-LV (un trímero alifático de
hexametileno diisocianato de Rhône-Poulenc) y 27
pep de trimetilol propano
tris(3-mercaptopropionato).
La composición A contenía 1 pep de agente
sensibilizador Quantacure® ITX (de G. Lakes).
Los resultados se mencionan en la tabla 2.
Según los resultados mencionados en la tabla
anterior, en este caso la presencia de un agente sensibilizador es
un prerrequisito para obtener resultados satisfactorios.
Se repitió el ejemplo 1, con la condición de que
la base fotolatente usada fue 0,4 ó 1,8 partes en peso (pep) de una
\alpha-aminoacetofenona, es decir
(4-morfolinobenzoil)-1-bencil-1-dimetilamino
propano (Irgacure® 369 de Ciba Specialty Chemicals).
Las composiciones fotocurables A, B y C
comprendían cada una 50 pep de Tolonate® HDT-LV (un
trímero alifático de hexametileno diisocianato de
Rhône-Poulenc) y 27 pep de trimetilol propano
tris(3-mercaptopropionato).
La composición A contenía 1,8 pep de Irgacure®
369, la composición B contenía 0,4 pep y la composición C contenía
0,4 pep y 0,1 pep de ácido dodecilbencenosulfónico.
Los resultados se mencionan en la tabla 3.
Según los resultados mencionados en la tabla 3,
en este caso la presencia de un ácido sulfónico provoca una
considerable mejora del tiempo útil de manipulación, mientras que
apenas son afectados los tiempos de curado tras la exposición a la
luz UV-A o con la luz disponible en el
laboratorio.
Se prepararon dos composiciones de revestimiento
fotoactivables, comprendiendo cada una como base fotolatente 1,1
partes en peso (pep) de una
\alpha-aminoacetofenona según la fórmula:
\vskip1.000000\baselineskip
La composición como tal se menciona en la tabla
4.
El tiempo útil de manipulación de la composición
A fue 6 horas, mientras que la composición B, que contenía una
cantidad adicional de un complejo metálico como catalizador, fue 2
horas. Se extendió una película de 75 \mum de espesor sobre una
placa de vidrio y se expuso a luz UV A (lámparas fluorescentes tipo
Cleo® de Philips) a una distancia de 20 cm (3 mW/cm^{2}). Las
películas no expuestas se curaron después de haber sido expuestas a
luz UV-A durante 1 y 2 minutos, respectivamente, o
no.
Los datos de los tiempos de curado de las
películas expuestas y no expuestas se dan en la tabla 5.
Según los resultados mencionados en la tabla 5,
en este caso la presencia de un catalizador adicional no tiene o
apenas tiene ninguna influencia sobre el tiempo de curado de una
película expuesta a luz UV A. Sin embargo, el curado en la
oscuridad se aceleró en una considerable extensión de 330 a 75
minutos mediante la incorporación de un catalizador adicional.
Las películas obtenidas se examinaron respecto a
su resistencia a la metil etil cetona y al agua. Después de 7 días
se midió la dureza Persoz.
En la tabla 6 se da la resistencia a la metil
etil cetona de las capas de revestimiento obtenidas.
\vskip1.000000\baselineskip
En la tabla 7 se da la resistencia al agua de
las capas de revestimiento obtenidas.
En la tabla 8 se da la dureza Persoz de las
capas de revestimiento obtenidas.
Se repitió el ejemplo 1, con la condición de que
la base fotolatente usada fue 2,2 partes en peso (pep) de una
\alpha-aminoacetofenona según la fórmula:
En este ejemplo se muestra que para obtener un
buen equilibrio entre el tiempo útil de manipulación y el tiempo de
secado o curado en la oscuridad un importante parámetro puede ser no
sólo la selección de un agente fotoiniciador específico y,
dependiendo del tipo de agente fotoiniciador, el uso adicional de un
ácido y/o de una base, sino también el tipo de poliisocianato.
El tiempo útil de manipulación y las condiciones
de curdo de 6 composiciones se dan en la tabla 9.
A partir de los resultados mencionados en la
tabla 9 parece que el uso de Desmodur® N3400 se corresponde con un
tiempo útil de manipulación demasiado corto, que puede restablecerse
combinando dicho isocianato con Tolonate®
HDT-LV.
Se repitió el ejemplo 1, con la condición de que
se aplicó una composición de revestimiento que comprendía una
mezcla física de una resina hidroxil-funcional y una
resina tiol-funcional.
Se mezcló con pentaeritritol
tetrakis(3-mercaptopropionato) un acrilato
hidroxil-funcional, Setalux 1157
XS-54 de Akzo Nobel Resins (Ew(OH) = 693 g,
contenido de sólidos = 54%). Como catalizador de la reacción NCO/OH
se añadió dilaurato de dibutil estaño (DBTL). Los resultados se
mencionan en la 10.
Se repitió el ejemplo 1, con la condición de que
se aplicó como sigue una resina que tenía tanto funcionalidad
hidroxilo como tiol.
En una primera etapa se preparó un poliéster a
partir de 31,05 pep de pentaeritritol, 1,55 pep de dipentaeritritol,
27,4 pep de anhídrido hexahidroftálico y 10 pep de ácido
isononanoico a 230ºC en un manto de nitrógeno manteniendo el xileno
a reflujo hasta un índice de acidez entre 14 y 18 mg KOH/g de
sólidos. La mezcla de reacción se enfrió a continuación a
180ºC.
En una segunda etapa, se dosificaron a la mezcla
de reacción 30 pep de ácido 3-mercaptopropiónico a
180ºC en un manto de nitrógeno mantenido el xileno a reflujo. A una
conversión de más que 75% se dosificó una disolución de titanato de
tetra-isopropilo en xileno (1% en peso de titanato
de tetra-isopropilo respecto a sólidos totales). La
reacción de esterificación se continuó a presión reducida hasta que
el índice de acidez fue de 8 a 11 mg KOH/g de sólidos.
Subsiguientemente, el xileno se separó por destilación a presión
reducida. La dispersión de poliéster se diluyó con acetato de
n-butilo hasta un contenido de sólidos de 75%. La
disolución de resina se filtró por un filtro a presión a 70ºC.
Se obtuvo una resina de poliéster que tenía
grupos funcionales tanto hidroxilo como tiol con un contenido de
sólidos de 77,8% en acetato de butilo, un Ew(OH) = 344, un
Ew(SH) = 320 y un índice de acidez = 9,9.
Los resultados se mencionan en la tabla 11.
En este ejemplo se formuló una composición de
imprimación.
La formulación de imprimación se pulverizó sobre
una placa de acero con un espesor de película de \pm50 \mum.
Justo después de pulverizar la película se irradió con luz
UV-A (lámparas fluorescentes tipo Cleo® de Philips,
distancia 50 cm, 1 mW/cm^{2}). La película se secó y estuvo lista
para lijar después de 5 minutos. En la oscuridad el secado duró 2
horas. Dos horas después de mezclar lo resultados fueron aún los
mismos.
Se preparó como sigue una formulación basada en
agua según la invención.
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
La formulación basada en agua se aplicó con una
barra de estiramiento sobre una placa de estaño con un espesor de
película seca de 70 \mum. Después de 1 hora de tiempo de
evaporación rápida la película se irradió con luz
UV-A (lámparas fluorescentes tipo Cleo® de Philips,
distancia 10 cm, 7 mW/cm^{2}). La película se secó después de 2
minutos. En la oscuridad el secado tardó otras 6 horas. Dos horas
después de mezclar lo resultados fueron aún los mismos.
La composición B del ejemplo 3 se aplicó a dos
paneles metálicos revestidos con revestimientos base comercialmente
disponibles, es decir Autowave y Autobase de Akzo Nobel Coatings BV.
Los paneles se expusieron a luz UV-A (lámparas
fluorescentes tipo Cleo® de Philips) a una distancia de 10 cm (7
mW/cm^{2}). Los revestimientos transparentes se secaron después
de 1 minuto.
Claims (15)
1. Una composición de revestimiento
fotoactivable que al menos comprende un agente fotoiniciador y un
material orgánico curable o polimerizable por catálisis con bases
que al menos comprende un poliisocianato y al menos un compuesto
que comprende grupos reactivos con el grupo isocianato,
caracterizada porque los grupos reactivos con el grupo
isocianato comprenden al meno un grupo tiol y el agente
fotoiniciador es una base fotolatente.
2. La composición de revestimiento fotoactivable
según la reivindicación 1, caracterizada porque la base
fotolatente es una
4-(orto-nitrofenil)dihidropiridina,
opcionalmente sustituida con grupos alquil éster y/o alquil
éter.
3. La composición de revestimiento fotoactivable
según la reivindicación 1, caracterizada porque la base
fotolatente es un agente fotoiniciador tipo
órgano-boro cuaternario.
4. La composición de revestimiento fotoactivable
según la reivindicación 1, caracterizada porque la base
fotolatente es una \alpha-aminoacetofenona.
5. La composición de revestimiento fotoactivable
según la reivindicación 4, caracterizada porque la base
fotolatente es una \alpha-aminoacetofenona según
la siguiente fórmula
6. La composición de revestimiento fotoactivable
según una cualquiera de las reivindicaciones precedentes,
caracterizada porque la composición comprende adicionalmente
un ácido orgánico.
7. La composición de revestimiento fotoactivable
según una cualquiera de las reivindicaciones precedentes,
caracterizada porque la composición comprende adicionalmente
como cocatalizador un complejo metálico y/o una sal metálica.
8. La composición de revestimiento fotoactivable
según la reivindicación 7, en la que el metal del cocatalizador se
selecciona del grupo de compuestos de aluminio, titanio, zirconio y
hafnio.
9. La composición de revestimiento fotoactivable
según una cualquiera de las reivindicaciones precedentes,
caracterizada porque la composición comprende adicionalmente
un agente sensibilizador seleccionado del grupo de tioxantonas,
oxazinas, rodaminas, benzofenona y sus derivados.
10. Un procedimiento para producir una capa de
revestimiento, que comprende aplicar una composición de
revestimiento según una cualquiera de las reivindicaciones
precedentes a un sustrato a revestir, curar la superficie de la
película obtenida con luz UV, y permitir que las capas más profundas
o no expuestas curen completamente a temperatura ambiente o con
calentamiento.
11. El uso de una composición de revestimiento
según una cualquiera de las reivindicaciones 1-9,
que comprende producir un revestimiento con una superficie
rápidamente curable.
12. El uso de una composición de revestimiento
según una cualquiera de las reivindicaciones 1-9,
que comprende aplicar la composición como una capa carga en un
revestimiento tipo laca de múltiples capas.
13. El uso de una composición de revestimiento
según una cualquiera de las reivindicaciones 1-9,
que comprende aplicar la composición como un revestimiento
transparente.
14. El uso de una composición de revestimiento
según la reivindicación 12, que comprende aplicar la composición
como un revestimiento transparente en un revestimiento tipo laca de
múltiples capas.
15. El uso de una composición de revestimiento
según una cualquiera de las reivindicaciones 1-9, en
la industria del repintado y en el acabado de grandes vehículos de
transporte.
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KR20050055705A (ko) * | 2002-08-13 | 2005-06-13 | 아크조노벨코팅스인터내셔널비.브이. | 티올-관능성 화합물을 포함하는 다층 코팅 시스템 |
DE60320569T2 (de) | 2002-10-01 | 2009-06-04 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Eine spiro-ortho silikatgruppenverbindung enthaltende beschichtungszusammensetzung |
WO2004037799A1 (en) * | 2002-10-28 | 2004-05-06 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Improvement in the storage stability of photoinitiators |
DE602004001336T2 (de) * | 2003-02-06 | 2007-02-01 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Spritzpistole und verfahren zum aufbringen einer durchaktinische strahlung härtbaren beschichtung |
US20050149176A1 (en) * | 2003-12-29 | 2005-07-07 | Scimed Life Systems, Inc. | Selectively light curable support members for medical devices |
US8003748B2 (en) * | 2004-02-17 | 2011-08-23 | Chevron Phillips Chemical Company, Lp | Polythiourethane compositions and processes for making and using same |
US20050238815A1 (en) * | 2004-04-27 | 2005-10-27 | Dvorchak Michael J | UV curable coating composition |
EP1765951A1 (en) * | 2004-06-18 | 2007-03-28 | Akzo Nobel Coatings International BV | Multilayer coating system |
RU2381835C2 (ru) * | 2004-07-21 | 2010-02-20 | Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. | Способ фотоактивации и применение катализатора посредством обращенной двустадийной процедуры |
MX2007003197A (es) * | 2004-09-17 | 2007-05-24 | Akzo Nobel Coatings Int Bv | Composicion de recubrimiento basada en el curado con tiol-nco. |
US7828790B2 (en) * | 2004-12-03 | 2010-11-09 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Selectively flexible catheter and method of use |
RU2007126829A (ru) * | 2004-12-15 | 2009-01-27 | Акцо Нобель Коатингс Интернэшнл Б.В. (Nl) | Восстановление подложек с нанесенным покрытием |
ES2314741T3 (es) | 2004-12-15 | 2009-03-16 | Akzo Nobel Coatings International Bv | Composicion de revestimiento en disolucion acuosa que contiene compuestos funcionales de tipo tiol. |
JP4865809B2 (ja) * | 2005-12-15 | 2012-02-01 | アクゾ ノーベル コーティングス インターナショナル ビー ヴィ | 多層コーティングシステム |
DE602006008350D1 (de) * | 2005-12-15 | 2009-09-17 | Akzo Nobel Coatings Int Bv | Mehrlagiges beschichtungssystem |
EP1988109B1 (en) | 2006-02-21 | 2013-05-29 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition for polythiourethane optical material |
RU2440377C2 (ru) * | 2006-06-22 | 2012-01-20 | Циба Холдинг Инк. | Отверждаемая актиничным излучением композиция для нанесения покрытия |
CN101490155A (zh) | 2006-07-17 | 2009-07-22 | 西巴控股有限公司 | 粘结方法 |
FR2904321B1 (fr) * | 2006-07-25 | 2008-09-05 | Rhodia Recherches Et Technologies Sas | Composition polymerisable et/ou reticulable sous irradiation par voie cationique et/ou radicalaire |
KR101492423B1 (ko) * | 2006-09-29 | 2015-02-11 | 시바 홀딩 인크 | 차단된 이소시아네트를 기본으로 하는 시스템용 광 잠재성 염기 |
WO2008061839A1 (en) * | 2006-11-20 | 2008-05-29 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Coating composition |
BRPI0719116A2 (pt) * | 2006-11-20 | 2013-12-10 | Akzo Nobel Coatings Int Bv | Composição de revestimento |
DE102006058527A1 (de) * | 2006-12-12 | 2008-06-19 | Bayer Materialscience Ag | Klebstoffe |
MX2009010309A (es) | 2007-04-03 | 2009-10-16 | Basf Se | Bases nitrogenadas fotoactivables. |
US8541059B2 (en) * | 2007-09-10 | 2013-09-24 | Prc-Desoto International, Inc. | Polyurethane coatings with improved interlayer adhesion |
CN101874050B (zh) * | 2007-10-17 | 2013-10-23 | 巴斯夫欧洲公司 | 基于有机金属化合物的光潜催化剂 |
WO2009095282A2 (en) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Basf Se | Photolatent amidine bases for redox curing of radically curable formulations |
US9102785B2 (en) * | 2008-04-11 | 2015-08-11 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Curable compositions based on polyuretidiones, polythiols and photoactivable bases and generation of isocyanates from uretidiones |
US9745401B2 (en) * | 2008-10-22 | 2017-08-29 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Coating composition comprising a polyisocyanate and a polyol |
CA2644766C (en) | 2008-11-21 | 2016-01-12 | Honda Motor Co., Ltd. | Photoactivatable paint curing device and method |
EP2192447A1 (en) | 2008-11-27 | 2010-06-02 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Method of applying a pattern to a substrate |
JP2010185070A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-08-26 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 硬化型組成物 |
WO2010083350A1 (en) * | 2009-01-16 | 2010-07-22 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Nonpolymeric binders for semiconductor substrate coatings |
CN102361899B (zh) * | 2009-03-31 | 2013-10-09 | 阿克佐诺贝尔国际涂料股份有限公司 | 涂层的辐射固化 |
US8062706B2 (en) * | 2009-03-31 | 2011-11-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Recovery of monobutyltin trichloride |
CA2672413C (en) | 2009-06-30 | 2012-11-20 | Honda Motor Co., Ltd. | Uv photoactivatable curable paint formulations and cured coatings thereof |
CN102497931B (zh) * | 2009-09-15 | 2016-03-09 | 巴斯夫欧洲公司 | 光潜钛催化剂 |
EP2514778B1 (en) | 2009-09-28 | 2013-10-16 | Coatings Foreign IP Co. LLC | Liquid two-component coating compositions |
US9034941B2 (en) * | 2010-06-22 | 2015-05-19 | Coloplast A/S | Hydrophilic gels from polyurethane-based photoinitiators |
EP2399946A1 (de) * | 2010-06-24 | 2011-12-28 | Bayer MaterialScience AG | Beschichtete Teile und deren Verwendung |
US20130230648A1 (en) | 2010-09-30 | 2013-09-05 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Kit of parts for curable coating composition |
JP4902813B1 (ja) * | 2010-12-24 | 2012-03-21 | 昭和電工株式会社 | 高分子量化された脂肪族ポリエステルの製造方法 |
WO2012151357A2 (en) | 2011-05-03 | 2012-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Two-component coating compositions |
WO2012151409A2 (en) | 2011-05-03 | 2012-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Catalyst compound for two-component coating compositions |
KR101570920B1 (ko) | 2011-06-23 | 2015-11-20 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 중합성 조성물 |
IN2014CN04732A (es) * | 2011-12-26 | 2015-09-18 | Dow Global Technologies Llc | |
EP2822983B1 (en) | 2012-03-07 | 2018-11-21 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Non-aqueous liquid coating composition |
DE102012205951B4 (de) * | 2012-04-12 | 2016-09-01 | Chemetall Gmbh | Dichtmassen-System, ungehärtete Grundmasse und Mischung, Härter, Verfahren zum Beschichten eines Substrates und Verwendung eines Dichtmassen-Systems |
CA2894802C (en) * | 2012-12-11 | 2020-12-22 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Thiol-functional compound |
MX2016006481A (es) * | 2013-12-03 | 2016-08-17 | Rohm & Haas | Dispersiones acuosas de poliuretano. |
US20170327717A1 (en) * | 2014-10-29 | 2017-11-16 | Tesa Se | Adhesive compounds containing getter materials that can be activated |
EP3288517B1 (de) | 2015-04-29 | 2019-07-17 | BSN Medical GmbH | Medizinische badevorrichtung |
JP6942058B2 (ja) | 2015-04-29 | 2021-09-29 | ビーエスエヌ メディカル ゲーエムベーハー | No生成のための多段階プロセス |
TWI572662B (zh) * | 2015-12-30 | 2017-03-01 | 奇美實業股份有限公司 | 熱可塑性樹脂組成物及其所形成的成型品 |
CN106947057B (zh) * | 2016-01-07 | 2019-08-27 | 北京英力科技发展有限公司 | 一种光固化组合物及其用作清漆和色漆的用途 |
JP7106515B2 (ja) * | 2016-03-15 | 2022-07-26 | ボード オブ リージェンツ,ザ ユニバーシティ オブ テキサス システム | チオウレタンポリマー、その合成方法及び付加製造技術における使用 |
CN108779225B (zh) * | 2016-03-15 | 2021-11-19 | 德州系统大学董事会 | 硫代氨基甲酸酯聚合物、其合成方法和在增材制造技术中的用途 |
US10507478B2 (en) | 2016-03-30 | 2019-12-17 | The Patent Well LLC | Clear sprayable sealant for aircraft parts and assemblies |
US20180037691A1 (en) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Curable compositions and methods of catalyzing chemical reactions |
EP3363840A1 (en) | 2017-02-17 | 2018-08-22 | Henkel AG & Co. KGaA | Two-component polyurethane composition comprising a latent catalyst |
US11306174B2 (en) * | 2017-05-08 | 2022-04-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Curable film-forming compositions demonstrating decreased cure time with stable pot life |
US11427718B2 (en) * | 2017-10-27 | 2022-08-30 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Vat resin with additives for thiourethane polymer stereolithography printing |
CN108084386B (zh) * | 2017-12-21 | 2020-08-28 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种光学材料用聚硫氨酯树脂及其制造方法 |
CN113684469B (zh) * | 2021-08-06 | 2023-08-22 | 宁波摩华科技有限公司 | 一种用于电子器件的有机防护镀层及其制备方法 |
KR20240053641A (ko) * | 2021-10-15 | 2024-04-24 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 광경화성 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 및 렌즈의 제조 방법 |
WO2024190538A1 (ja) * | 2023-03-15 | 2024-09-19 | 三井化学株式会社 | 組成物、組成物キット、硬化物、積層体及び硬化物の製造方法 |
WO2024237273A1 (ja) * | 2023-05-17 | 2024-11-21 | 三井化学株式会社 | チオウレタンフィルム、ロール状巻物、レンズ、メガネ、(チオ)ウレタン系樹脂フィルムの製造方法および積層レンズの製造方法 |
DE102023120631A1 (de) | 2023-08-03 | 2025-02-06 | Delo Industrie Klebstoffe Gmbh & Co. Kgaa | Verfahren zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten und härtbare Masse dafür |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3231597A (en) * | 1957-07-03 | 1966-01-25 | Aerojet General Co | Polyurethane preparation |
DE2830953A1 (de) | 1978-07-14 | 1980-01-24 | Bayer Ag | Ammoniumsalze von alpha -ketocarbonsaeuren |
US4312971A (en) * | 1980-12-06 | 1982-01-26 | Basf Wyandotte Corporation | Zirconium and mercury compounds as co-catalysts for the preparation of noncellular polyurethanes |
IE56220B1 (en) | 1984-12-21 | 1991-05-22 | Loctite Ireland Ltd | Conformal coating systems |
GB2176197B (en) * | 1985-05-31 | 1989-10-25 | Ashland Oil Inc | Vapour permeation curable coatings comprising polymercapto compounds and polyisocyanate curing agents |
US5225021A (en) * | 1986-02-07 | 1993-07-06 | Futuretech Ag | Process and apparatus for the continuous production of fibre-reinforced plastic hollow sections |
US5126425A (en) * | 1987-04-01 | 1992-06-30 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Low-hygroscopic sulfur-containing urethane resin, coating material and adhesive |
US5650261A (en) * | 1989-10-27 | 1997-07-22 | Rohm And Haas Company | Positive acting photoresist comprising a photoacid, a photobase and a film forming acid-hardening resin system |
GB9006557D0 (en) | 1990-03-23 | 1990-05-23 | Ici Plc | Polymers |
DE4017940A1 (de) * | 1990-06-05 | 1991-12-12 | Univ Schiller Jena | Verfahren zur herstellung von (alpha), (omega)-difunktionellen praepolymeren mit zwei thiolendgruppen |
DE69128274T2 (de) * | 1990-11-05 | 1998-04-23 | Ciba Geigy Ag | Photopolymerisierbare Zusammensetzungen |
EP0555749B1 (en) * | 1992-02-14 | 1999-05-19 | Shipley Company Inc. | Radiation sensitive compositions and processes |
SE468771B (sv) | 1992-02-26 | 1993-03-15 | Perstorp Ab | Dendritisk makromolekyl av polyestertyp, foerfarande foer framstaellning daerav samt anvaendning daerav |
MY132867A (en) | 1995-11-24 | 2007-10-31 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc | Acid-stable borates for photopolymerization |
US5861235A (en) * | 1996-06-26 | 1999-01-19 | Dow Corning Asia, Ltd. | Ultraviolet-curable composition and method for patterning the cured product therefrom |
US6054521A (en) * | 1996-12-09 | 2000-04-25 | Cordant Technologies Inc. | Erosion resistant-low signature liner for solid propellant rocket motors |
US5846897A (en) | 1997-03-19 | 1998-12-08 | King Industries, Inc. | Zirconium urethane catalysts |
TW436491B (en) * | 1997-08-22 | 2001-05-28 | Ciba Sc Holding Ag | Compositions for use in base-catalysed reactions, a process for curing said compostions and a process for photochemically generating bases in base catalysed polymeriaztion reactions |
EP0898202B1 (en) * | 1997-08-22 | 2000-07-19 | Ciba SC Holding AG | Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones |
FR2773162B1 (fr) | 1997-12-29 | 2000-02-11 | Essilor Int | Composition photopolymerisable a base de monomeres polyiso (thio)cyanates et de monomeres a proton labile, comprenant un agent photoamorceur et un agent d'activation de la photopolymerisation et artciles d'optique obtenus |
-
2001
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BR0111027A (pt) | 2003-06-17 |
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